JPH0448538A - Plane display - Google Patents
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- JPH0448538A JPH0448538A JP15616890A JP15616890A JPH0448538A JP H0448538 A JPH0448538 A JP H0448538A JP 15616890 A JP15616890 A JP 15616890A JP 15616890 A JP15616890 A JP 15616890A JP H0448538 A JPH0448538 A JP H0448538A
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/10—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes
- H01J31/12—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes with luminescent screen
- H01J31/123—Flat display tubes
- H01J31/124—Flat display tubes using electron beam scanning
Landscapes
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は各種画像表示を行う事が出来るようにした平面
型表示装置に係わる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a flat display device capable of displaying various images.
本発明は平面型表示装置に係わり、平面型管体の前面パ
ネルの内面に蛍光面が配置され、この蛍光面との対向部
よりずれた位置に電子銃が配置され、平面型管体の前面
パネルと対向する背面パネルの内面の、蛍光面との対向
部に水平走査方向に沿って延長する複数の平行電極より
なる垂直偏向電極が配置され、これと蛍光面との間の空
間に、垂直偏向電極に対向して垂直偏向電極との共働に
よって垂直偏向系を構成する電子ビーム透過孔を有する
対向電極と、変調電極と、水平偏向電極とを少なくとも
有する電極構体が配置され、電子銃のカソードは、複数
の電界放出型カソードが線状に配列されて成り、電子銃
からの電子ビームは、電極構体と垂直偏向電極との間に
導入されるようにしたものであり、カソードの振動を回
避して安定な画面の映出と大画面化を可能にし、また無
効電流の低減化をはかって小電力化及び高輝度化をはか
ることができるようにする。The present invention relates to a flat display device, in which a fluorescent screen is arranged on the inner surface of the front panel of a flat tube, an electron gun is arranged at a position offset from the part facing the fluorescent screen, and A vertical deflection electrode consisting of a plurality of parallel electrodes extending along the horizontal scanning direction is arranged on the inner surface of the back panel facing the panel, on the part facing the phosphor screen. An electrode structure is disposed opposite to the deflection electrode and has at least a counter electrode having an electron beam transmission hole, a modulation electrode, and a horizontal deflection electrode, which constitute a vertical deflection system by cooperating with the vertical deflection electrode. The cathode is made up of a plurality of field emission type cathodes arranged in a line, and the electron beam from the electron gun is introduced between the electrode structure and the vertical deflection electrode, thereby suppressing the vibration of the cathode. To avoid this problem and enable stable screen projection and enlargement of the screen, and also to reduce reactive current to achieve lower power consumption and higher brightness.
平面型表示装置すなわちパネル型表示装置としては種々
の提案がなされている。例えば特開平1−173555
号公開公報には2次電子増倍型のパネル型陰極線管の提
案がなされている。この種平面型表示装置において例え
ば40インチ型等の広面積の表示装置への適用が望まれ
ている。Various proposals have been made as flat display devices, that is, panel display devices. For example, JP-A-1-173555
In the publication No. 1, a proposal is made for a secondary electron multiplier type panel cathode ray tube. It is desired that this type of flat display device be applied to a wide area display device such as a 40-inch type display device.
この平面型表示装置においては、前記特開平1−173
555号公開公報に開示された陰極線管型の表示装置に
おけるように複数のカソードないしはフィラメントが設
けられて、これより発生させた熱電子を蛍光面に向かわ
しめてこれを表示信号に応じて変調して各部の蛍光面を
発光させて目的とする表示を行うものであるが、このよ
うに複数のカソード(フィラメントを配置して画面の各
部の発生を分担させる場合、各カソードの特性のばらつ
きのために各部−様な明るさの画像表示を行わしめるこ
とに問題が生ずる場合がある。In this flat display device, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-173
As in the cathode ray tube type display device disclosed in Publication No. 555, a plurality of cathodes or filaments are provided, and thermionic electrons generated from the cathodes or filaments are directed toward a phosphor screen and modulated in accordance with a display signal. The desired display is performed by emitting light from each part of the phosphor screen, but when multiple cathodes (filaments) are arranged to share the generation of light in each part of the screen, due to variations in the characteristics of each cathode, Problems may arise in displaying images with varying brightness in each part.
このような複数のカソード(フィラメント)を設けるこ
とを回避して表示画像に対して例えば1本のカソードを
設けることの構造は、例えば特開昭60−115134
号公報にもその開示あるところである。A structure for avoiding the provision of such a plurality of cathodes (filaments) and providing, for example, one cathode for a displayed image is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 60-115134.
This disclosure is also included in the publication.
さらに、本出願人に係わる特願平1−331593及び
特願平1−331594号出願「平面型表示装置」にお
いては、この種の1ライン型カソード構造において、走
査位置による集束条件の変動の回避及び大画面表示にお
ける増大構造の提案をなしている。Furthermore, in the Japanese Patent Application Nos. 1-331593 and 1-331594 filed by the present applicant entitled "Flat type display device", in this type of one-line cathode structure, the variation of the focusing condition due to the scanning position is avoided. and proposes an enlarged structure for large-screen display.
ところが、このような1ライン型カソード構造による場
合、大画面化に伴って例えば画面の垂直走査方向のカソ
ード長が大となって約10hs以上となると、このライ
ンカソードが振動し易くなるという問題が生じ、この振
動によって電子ビームの軌道に重大な影響を与えて画像
表示の精細度が劣化するという問題が生ずる場合があっ
た。このため、従来はこの架張されたラインカソードの
途中部分に支柱を設ける等の処置を行っていた。However, in the case of such a one-line cathode structure, when the cathode length in the vertical scanning direction of the screen increases to about 10 hs or more as the screen becomes larger, there is a problem that the line cathode becomes susceptible to vibration. This vibration may have a serious effect on the trajectory of the electron beam, resulting in a problem of deterioration of the definition of the image display. For this reason, conventional measures have been taken such as providing a support in the middle of the stretched line cathode.
このような従来の1本のカソードを設けた1ライン弐カ
ソード構造の路線的拡大断面図を第11図に示す。ライ
ンカソード(81)は例えばタングステン線に三元塩を
塗布して成り、第11図に示すように、絶縁性の基体(
80)上に固定された支持部(82)によって架張され
ると共に支柱(83)によって振動を防ぐようになされ
る。(84)は背面電極で、01〜G4はそれぞれ第1
〜第4のグリッド電極である。FIG. 11 shows an enlarged cross-sectional view of such a conventional one-line two-cathode structure provided with one cathode. The line cathode (81) is made of, for example, a tungsten wire coated with a ternary salt, and as shown in FIG.
80) It is stretched by a support part (82) fixed on the top and is prevented from vibration by a column (83). (84) is the back electrode, and 01 to G4 are the first
~Fourth grid electrode.
このような構成において、例えば第1〜第4のグリッド
01〜G4に、それぞれG1に30V、G2に一5■、
G3に350■、G4に110■の電圧を印加し、さら
に背面電極(84)に−10Vの電圧を印加して所要の
加速度をもった電子ビームを得ることができる。In such a configuration, for example, in the first to fourth grids 01 to G4, 30V is applied to G1, 15V is applied to G2, and
By applying a voltage of 350 cm to G3 and 110 cm to G4, and further applying a voltage of -10 V to the back electrode (84), an electron beam with the required acceleration can be obtained.
しかしながら、このラインカソード(81)は電子ビー
ム照射時には76(L’C以上の高温となるため支柱(
83)においてその接点から熱が逃げてカソード(81
)の温度が低下する。この温度低下現象をエンドクール
(EC)と呼び、支柱(83)から約10+ms+の領
域ECのカソード(81)は温度が低下して熱電子放出
特性が劣化する領域となる。このように支柱(83)の
導入によってカソード(81)の振動を防止する場合は
ラインカソード(81)の無効領域が増大し、カソード
(81)の熱電子放出特性を劣化させるという問題があ
った。However, this line cathode (81) becomes hotter than 76 (L'C) during electron beam irradiation, so
Heat escapes from the contact point at the cathode (83)
) temperature decreases. This temperature drop phenomenon is called end cool (EC), and the cathode (81) in the region EC about 10+ms+ from the pillar (83) becomes a region where the temperature decreases and thermionic emission characteristics deteriorate. When the vibration of the cathode (81) is prevented by introducing the pillar (83) in this way, there is a problem in that the ineffective area of the line cathode (81) increases and the thermionic emission characteristics of the cathode (81) deteriorate. .
また、このようなラインカソード(81)からそのライ
ン方向に沿って断面線状をなして放出された電子は、蛍
光面に向かう途上において、例えば水平偏向電極によっ
て複数に分割されるが、この場合その線状電子ビームが
この複数に分割する例えば水平偏向電極に衝突して多く
の無効電子を生ずることになり、さらにこの衝突によっ
て発生する2次電子による迷走電子が、管体壁面等の絶
縁体露出部のチャージアップ等の原因となり、画像の乱
れを惹起していた。この無効電子の発生即ち無効電流を
減少させるためには、上述したラインカソード(81)
上の三元塩を水平偏向電極の各分割ビーム部に対応する
ように、分散して塗布する等の処置を必要とするため、
作業性の低下を招くという問題があった。Further, electrons emitted from such a line cathode (81) with a linear cross section along the line direction are divided into a plurality of parts by, for example, a horizontal deflection electrode on the way to the phosphor screen. The linear electron beam collides with, for example, the horizontal deflection electrode, which is divided into a plurality of parts, producing many invalid electrons.Furthermore, the stray electrons due to the secondary electrons generated by this collision are transmitted to insulators such as the tube wall surface. This caused charge-up in exposed areas, causing image disturbances. In order to reduce the generation of reactive electrons, that is, the reactive current, the above-mentioned line cathode (81)
Since it is necessary to apply the above ternary salt in a distributed manner so as to correspond to each divided beam part of the horizontal deflection electrode,
There was a problem that this resulted in a decrease in workability.
本発明は、この種の平面型表示装置においてその大画面
化に伴うカソードの振動を回避して画像の精細度の向上
をはかり、また無効電流の低減化をはかって消費電力の
低減化及び高輝度化、画像の乱れの低減化等の特性の向
上をはかる。The present invention aims to improve the definition of images by avoiding cathode vibration that accompanies the enlargement of the screen in this type of flat display device, and to reduce power consumption and increase efficiency by reducing reactive current. Aims to improve characteristics such as brightness and reduction of image disturbances.
本発明は、第1図にその一例の正面図を示し、第2図に
上面図を示し、第3図にその路線的断面図を示すように
、平面型管体(1)の前面パネル(IF)の内面に蛍光
面(2)が配置され、この蛍光面(2)との対向部より
ずれた位置、例えば垂直走査方向にずれた位置に電子銃
(10)が配置されて成る。The present invention has a front panel ( A phosphor screen (2) is disposed on the inner surface of the IF), and an electron gun (10) is disposed at a position offset from a portion facing the phosphor screen (2), for example, at a position offset in the vertical scanning direction.
平面型管体(1)の前面パネル(IF)と対向する背面
パネル(IB)の内面の、蛍光面(2)との対向部には
、水平走査方向に沿って延長する複数の平行電極(3a
)よりなる垂直偏向電極(3)が配置される。On the inner surface of the back panel (IB) facing the front panel (IF) of the flat tube body (1), on the part facing the fluorescent screen (2), a plurality of parallel electrodes ( 3a
) is arranged.
そしてこの垂直偏向電極(3)と蛍光面(2)との間の
空間に、垂直偏向電極(3)に対向して垂直偏向電極(
3)との共働によって垂直偏向系(34)を構成する電
子ビーム透過孔SLを有する対向電極(4)と、変調電
極(5)と、水平偏向電極(6)とを少なくとも有する
電極構体(7)が配置される。Then, in the space between the vertical deflection electrode (3) and the phosphor screen (2), a vertical deflection electrode (
an electrode structure (4) having at least a counter electrode (4) having an electron beam transmission aperture SL, a modulation electrode (5), and a horizontal deflection electrode (6), which cooperate with each other to form a vertical deflection system (34); 7) is placed.
そして特に本発明においては、この電子銃(10)のカ
ソード(IK)を、複数の電界放出型カソードが線状に
配列された構成とする。Particularly in the present invention, the cathode (IK) of the electron gun (10) is configured such that a plurality of field emission type cathodes are arranged in a line.
電界放出型カソードとは、MO等の物質に106〜10
’V/cm程度の電界を加えるとトンネル効果によって
電子が放出されることを利用して電子ビームを得るもの
である。A field emission cathode is a material such as MO that contains 106 to 10
An electron beam is obtained by utilizing the fact that when an electric field of about V/cm is applied, electrons are emitted due to the tunnel effect.
この電子銃(10)からの電子ビームbは、電極構体(
7)と垂直偏向電極(3)との間即ち垂直偏向電極(3
)と対向電極(4)との間の垂直偏向系(34)内に導
入されるようになされる。The electron beam b from this electron gun (10) is transmitted through the electrode structure (
7) and the vertical deflection electrode (3), that is, the vertical deflection electrode (3).
) and the counter electrode (4) into a vertical deflection system (34).
尚、本明細書において、水平及び垂直走査方向とは、物
理的水平及び垂直を指称するものではなく、画面上での
互いに直交する2方向を指称するものである。Note that in this specification, the horizontal and vertical scanning directions do not refer to the physical horizontal and vertical directions, but to two mutually orthogonal directions on the screen.
上述の構成において、電極構体(7)と垂直偏向電極(
3)との間の空間に沿って電子銃(lO)からの電子ビ
ームbが導入される。In the above configuration, the electrode structure (7) and the vertical deflection electrode (
3) An electron beam b from an electron gun (lO) is introduced along the space between the two.
この電子銃(10)のカソード(IK)は、線状に複数
の電界放出型カソードが配置されて成る。The cathode (IK) of this electron gun (10) is composed of a plurality of field emission type cathodes arranged in a line.
このようにすることによって、電子ビームbが全体とし
て帯状または線状となって放出される。By doing so, the electron beam b is emitted in the form of a band or line as a whole.
この電子銃(10)からの電子ビームbは、垂直偏向電
極(3)の平行電極(3a)に順次垂直走査周期に同期
して所要の電圧を印加することによって電極構体(7)
側に向かう偏向電界を形成して電子ビームbの垂直走査
を行わしめるものであり、更にこのようにして垂直偏向
された電子ビームbは、対向電極(4)に垂直偏向電極
(3)と共働して所要の電圧を印加することにより、蛍
光面(2)に向かわしめるようになされる。The electron beam b from the electron gun (10) is applied to the parallel electrode (3a) of the vertical deflection electrode (3) by sequentially applying a required voltage to the parallel electrode (3a) in synchronization with the vertical scanning period.
The electron beam b is vertically scanned by forming a deflection electric field toward the side, and the electron beam b vertically deflected in this way is applied to the counter electrode (4) together with the vertical deflection electrode (3). By applying a required voltage to the phosphor screen (2), it is directed toward the phosphor screen (2).
このように本発明による平面型表示装置においては、複
数の電界放出型カソードによって、電子ビームbを得る
ものであって、これによりこのカソード(IK)の長さ
が大となっても、振動が発生しない構造とすることがで
き、電子放出特性を劣化させることなく大画面化をはか
ることができる。In this way, in the flat display device according to the present invention, the electron beam b is obtained by a plurality of field emission type cathodes, and as a result, even if the length of the cathode (IK) becomes large, vibrations can be prevented. It is possible to have a structure in which no electron emission occurs, and it is possible to increase the screen size without deteriorating the electron emission characteristics.
図面を参照して本発明による平面型表示装置の実施例を
詳細に説明する。Embodiments of a flat display device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
本発明においては、平面型管体(1)が用いられる。In the present invention, a flat tubular body (1) is used.
この平面型管体(1)は、少なくとも光透過性の前面パ
ネル(IF)と背面パネル(IB)が周側壁(IS)を
介して気密的に封着されてなる。(21)は平面型管体
(1)の排気がなされ排気後にこれが封止されるチップ
オフ管を示す、前面パネル(IF)、背面パネル(IB
)及び周側壁(Is)は例えばガラス板によって形成さ
れて互いにガラスフリット付けされる。This flat tube body (1) has at least a light-transmissive front panel (IF) and a back panel (IB) that are hermetically sealed together via a peripheral side wall (IS). (21) shows the tip-off tube in which the flat tube body (1) is evacuated and sealed after being evacuated;
) and the peripheral side wall (Is) are formed, for example, by glass plates and are glass fritted to each other.
前面パネル(IF)の内側には、直接的にあるいは他の
透明基板に形成された蛍光面(2)が塗布して配置され
、通常のようにこの蛍光面(2)にはAt蒸着膜等によ
るメタルバックが施される。On the inside of the front panel (IF), a phosphor screen (2) formed directly or on another transparent substrate is placed, and as usual, this phosphor screen (2) is coated with an At evaporated film, etc. A metal back is applied.
また背面パネノ喧IB)には、直接的に或いは他の基板
上に形成された垂直偏向電極(3)が配置され、この垂
直偏向電極(3)と蛍光面(2)との間に、垂直偏向電
極(3)と所要の間隔を保持して電極構体(7)が配置
される。この垂直偏向電極(3)は、第3図と共に第4
図に正面側からみた各電極のパターン図を示し、第5図
に断面図を示すように、短冊状に例えば426合金かク
ロムの薄膜をエツチングしたものや、金属蒸着膜或いは
スクリーン印刷によるカーボン塗膜等によって加工され
た、所要の幅及び間隔をもって水平走査方向に沿って延
長する複数の、特に垂直走査線数の例えば480本〜5
25本の平行電極(3a)が配置されてなる。In addition, a vertical deflection electrode (3) formed directly or on another substrate is arranged on the back panel panel (IB), and a vertical deflection electrode (3) formed directly or on another substrate is arranged between the vertical deflection electrode (3) and the phosphor screen (2). The electrode assembly (7) is arranged with a required spacing from the deflection electrode (3). This vertical deflection electrode (3) is shown in FIG.
The figure shows a pattern diagram of each electrode seen from the front side, and as shown in Figure 5 a cross-sectional view, it can be made by etching a thin film of 426 alloy or chromium in a strip shape, by metal vapor deposition film, or by carbon coating by screen printing. A plurality of, in particular, the number of vertical scanning lines, for example 480 to 5, processed by a film or the like and extending along the horizontal scanning direction with the required width and spacing.
25 parallel electrodes (3a) are arranged.
そして、蛍光面(2)との対向部からずれた位置、例え
ば垂直走査方向にずれた位置に電子銃(10)が配置さ
れる。この電子銃(10)は、第6図にその路線的拡大
断面図を示すように、例えば複数の電界放出型カソード
部材Kが線状に配置されて成るカソード(IK)と、こ
れに正対して水平走査方向にそれぞれ延びるスリットが
配置されてなる第1〜第4のグリッド電極G1〜G4を
有して構成される。The electron gun (10) is placed at a position offset from the portion facing the phosphor screen (2), for example, at a position offset in the vertical scanning direction. As shown in an enlarged cross-sectional view in FIG. 6, this electron gun (10) has a cathode (IK) formed by, for example, a plurality of field emission cathode members K arranged in a line, and a cathode (IK) directly facing the cathode (IK). The first to fourth grid electrodes G1 to G4 each have slits extending in the horizontal scanning direction.
カソード(IK)は、例えばスピンド(Spindt)
電界放出型カソード構成を採る。このカソード巾)は、
複数の一直線状に配列された各電界放出型カソード部材
にと、所要の除電圧を印加する背面電極(41)と、絶
縁体(42)と、所要の陽電圧を印加して電子を引き出
す引き出し電極(43)とが順次配置されて構成される
。The cathode (IK) is, for example, Spindt.
Adopts a field emission cathode configuration. This cathode width) is
A back electrode (41) that applies a required removal voltage to each of the field emission cathode members arranged in a straight line, an insulator (42), and a drawer that applies a required positive voltage to draw out electrons. The electrodes (43) are sequentially arranged.
このようなカソード(IK)の製造方法の一例を第7図
A−Dの工程図に示す。先ず第7図Aに示すように、S
t等より成り、所要の幅及び長さの帯状或いは線状の背
面電極(41)上に、全面的にCVD(化学的気相成長
法)等により5iOzより成る絶縁層(42A)を例え
ば厚さ1.5μmとして被着し、更に例えばNb等の金
属層(43A)を蒸着等により例えば厚さ0.4μmと
して被着する。An example of a method for manufacturing such a cathode (IK) is shown in the process diagrams of FIGS. 7A to 7D. First, as shown in FIG. 7A, S
An insulating layer (42A) made of 5 iOz is deposited on the entire surface of the back electrode (41) in the form of a strip or line with a desired width and length by CVD (chemical vapor deposition) or the like. A metal layer (43A) of Nb or the like is further deposited to a thickness of 0.4 μm, for example, by vapor deposition.
次に第7図Bに示すように、例えば長さ方向のピッチP
を5μm程度として、直径が例えば1.2μmφの円孔
(44)をRIE(反応性イオンエツチング)等の異方
性工・7チングにより形成して、引き出し電極(43)
を形成するとともに、この円孔(44)を通じて絶縁層
(42A)を等方性エツチングにより円孔(44)より
大径の開口部(45)を穿設する。Next, as shown in FIG. 7B, for example, the pitch P in the length direction
is about 5 μm, and a circular hole (44) with a diameter of, for example, 1.2 μmφ is formed by anisotropic etching such as RIE (reactive ion etching).
At the same time, an opening (45) having a larger diameter than the circular hole (44) is formed by isotropically etching the insulating layer (42A) through the circular hole (44).
この後第7図Cに示すように、引き出し電極(43)上
に例えばNi等より成る金属層(46)を斜め蒸着によ
り被着する。この斜め蒸着は例えば背面電極(41)本
体を回転させながら行い、円孔(44)上周囲に円錐内
周形状を有する円孔(46A)が生じるように形成する
。この場合、金属層(46)の蒸着は円孔(44)を通
じて開口部(45)内に被着されないような角度をもっ
て行う。そしてこの金属層(46)上に例えばMoより
成る電極層(47)を蒸着等により被着する。このとき
蒸着を背面電極(41)に対して垂直に行っても、電極
層(47)は円孔(44)上周囲では金属層(46)の
斜面に続くよう−に斜面が形成され、ある厚さに達する
と円孔(44)が塞がる状態となる。Thereafter, as shown in FIG. 7C, a metal layer (46) made of, for example, Ni is deposited on the extraction electrode (43) by oblique vapor deposition. This oblique vapor deposition is performed, for example, while rotating the main body of the back electrode (41), so that a circular hole (46A) having a conical inner peripheral shape is formed around the upper circumference of the circular hole (44). In this case, the metal layer (46) is deposited at an angle such that it is not deposited through the circular hole (44) into the opening (45). Then, on this metal layer (46), an electrode layer (47) made of, for example, Mo is deposited by vapor deposition or the like. At this time, even if the vapor deposition is performed perpendicularly to the back electrode (41), the electrode layer (47) is formed with a slope following the slope of the metal layer (46) around the circular hole (44). When the thickness is reached, the circular hole (44) is closed.
このとき開口部(45)内には底部がほぼ金属層(46
)の開口に等しい円形を成す円錐状の電界放出型カソー
ド部材Kが形成される。At this time, inside the opening (45), the bottom is almost the metal layer (46).
A conical field emission type cathode member K is formed having a circular shape equal to the opening in ).
そして第7図りに示すように、引き出し電極(43)上
の金属層(46)及び電極層(47)を除去して電子銃
のカソード(IK)を得る。このとき電界放出型カソー
ド部材にはほぼ円孔(44)のピッチpと同じピッチで
形成され、引き出し電極(43)と、電界放出型カソー
ド部材にの頂部とのカソード延長方向の距離!は0.6
μ錫程度とすることができる。Then, as shown in the seventh diagram, the metal layer (46) and electrode layer (47) on the extraction electrode (43) are removed to obtain the cathode (IK) of the electron gun. At this time, the field emission type cathode member is formed with approximately the same pitch as the pitch p of the circular holes (44), and the distance between the extraction electrode (43) and the top of the field emission type cathode member in the cathode extension direction! is 0.6
It can be about μtin.
このようにして、5〜6μ−程度の微小な電界放出型カ
ソード部材Kから放出される電子の集合体として電子ビ
ームbが得られる。この場合電界放出型カソード部材K
が固定されていることから、このカソード(IK)にお
ける振動が発生しない構造とすることができる。In this way, the electron beam b is obtained as an aggregate of electrons emitted from the field emission type cathode member K, which is about 5 to 6 microns in size. In this case, the field emission type cathode member K
Since the cathode (IK) is fixed, it is possible to create a structure in which vibration does not occur at the cathode (IK).
上述した方法によって電界放出型カソード部材Kを形成
する場合、従来の複数のフィラメントによる場合に比し
てカソード相互の特性のばらつきを格段に小とすること
ができ、1ライン型カソードと同様に各部−様な明るさ
の画像表示を行わしめることができる。When the field emission type cathode member K is formed by the method described above, the variation in characteristics between the cathodes can be significantly reduced compared to the conventional case of using a plurality of filaments, and each part can be formed in the same way as a one-line type cathode. It is possible to display images with different brightness.
このような電界放出型カソード部材Kを有する電子銃(
10)において、背面電極(41)及び引き出し電極(
43)に所要の電圧を印加して電界放出型カソード部材
により所要のエネルギーをもって電子を引き出し、さら
に第6図に示すように例えば電界放出型カソード部材に
上にのみ例えば円形の透過孔が穿設されたメツシュ上金
属板より成る第1のグリッド電極G1と、例えば枠状に
成形された02〜G4に所要の電圧を印加して線状或い
は帯状の電子ビームbを得ることができる。An electron gun (
10), the back electrode (41) and the extraction electrode (
43) A required voltage is applied to the field emission type cathode member to extract electrons with the required energy, and further, as shown in FIG. A linear or band-shaped electron beam b can be obtained by applying a required voltage to the first grid electrode G1 made of a metal plate on a mesh and 02 to G4 formed into a frame shape, for example.
そして多数のカソード部材Kから、第3図に示すように
この電子ビームbがパネル(IF)及び(IB)の板面
方向と直交しかつ水平走査方向に、全体としてその断面
が線状ないしは帯状をなすいわば層流的ビームとして電
極構体(7)と垂直偏向電極(3)との間の空間に沿っ
て導入されるようになされる。As shown in FIG. 3, this electron beam b is emitted from a large number of cathode members K in a direction perpendicular to the surface direction of the panels (IF) and (IB) and in the horizontal scanning direction, and the cross section thereof as a whole is linear or strip-shaped. The beam is introduced as a so-called laminar beam along the space between the electrode structure (7) and the vertical deflection electrode (3).
対向電極(4)は例えば第4図及び第5図と共に、第7
図に分解斜視図を示すように、例えば所要のピッチps
t例えば2針ピツチをもって垂直走査方向に延長し、平
行配列された多数の電子ビーム透過孔例えばスリブ)S
Lが穿設されてなる電極板によって構成し得る。The counter electrode (4) is, for example, as well as in FIGS.
As shown in the exploded perspective view in the figure, for example, the required pitch ps
(t) A large number of electron beam transmission holes (e.g., a sleeve) extending in the vertical scanning direction with a two-needle pitch and arranged in parallel.
It can be constituted by an electrode plate having L perforated therein.
また、変調電極(5)は、対向電極(4)のスリ・ント
SLに対応して設けられたスリ・ント状の電子ビーム透
過孔h8が穿設された絶縁基板S8に、その各スリット
状の電子ビーム透過孔り、の周辺にそれぞれ電子ビーム
透過孔り、に関して独立に設けられた電極導電層(5a
)が被着されてなる。Further, the modulation electrode (5) is attached to an insulating substrate S8 in which a slit-shaped electron beam transmission hole h8 provided corresponding to the slit SL of the counter electrode (4) is formed. Electrode conductive layers (5a
) is coated.
また水平偏向電極(6)は、複数枚例えば図示の例にお
いては2枚の電極部(6a)及び(6b)の積層構造を
採る。各電極部(6a)及び(6b)は、例えばそれぞ
れ対向電極(4)のスリットSL及び変調電極(5)の
電子ビーム透過孔h8に対応して設けられた電子ビーム
透過孔hH1及びり、□を有する絶縁基板SHI及び5
I42を有し、各電子ビーム透過孔hH1及びhHtに
対応してそれぞれその両側に臨んでそれぞれ対の導電層
(6a 、) (6a z)及び(6b+) (6bz
)が被着形成されてなる。Further, the horizontal deflection electrode (6) has a laminated structure of a plurality of electrode parts (6a) and (6b), for example, in the illustrated example. Each electrode part (6a) and (6b) has, for example, an electron beam transmission hole hH1 and a □ which are provided corresponding to the slit SL of the counter electrode (4) and the electron beam transmission hole h8 of the modulation electrode (5), respectively. Insulating substrate SHI and 5
A pair of conductive layers (6a , ) (6a z) and (6b+) (6bz
) is formed by adhesion.
これら変調電極(5)及び水平偏向電極(6)の各絶縁
基板SN、 SMI、 SMIは、例えば感光性ガラス
によって形成され光学的に、すなわち露光、現像処理に
よって各電子ビーム透過孔has hNI、hNIが穿
設され、その所定部に無電界メツキ及び電気メツキによ
る例えばNi等のメツキ層によって各導電層(5A)、
(6a 、 )、(6az)、(6b+)、(6bz)
を形成する。The insulating substrates SN, SMI, and SMI of these modulation electrodes (5) and horizontal deflection electrodes (6) are formed of, for example, photosensitive glass, and each electron beam transmission hole has hNI, hNI is formed optically, that is, by exposure and development processing. are perforated, and each conductive layer (5A),
(6a, ), (6az), (6b+), (6bz)
form.
さらにこの電極構体(力において必要に応じて第5図の
拡大断面図に示されるように例えば水平偏向電極(6)
と蛍光面(2)との間にシールド電極(12)を配置す
ることができる。シールド電極(12)は複数枚例えば
4枚の金属電極板(12A)〜(120)によって構成
され、それぞれ電子ビームを選択する電子ビーム透過孔
hHtに対応して電子ビーム透過孔hsA〜hsnが穿
設されて成る。Furthermore, this electrode structure (for example, a horizontal deflection electrode (6) as shown in the enlarged cross-sectional view of FIG. 5)
A shield electrode (12) can be placed between the phosphor screen (2) and the phosphor screen (2). The shield electrode (12) is composed of a plurality of metal electrode plates (12A) to (120), for example, four metal electrode plates, each having an electron beam transmission hole hsA to hsn corresponding to an electron beam transmission hole hHt for selecting an electron beam. It consists of being set up.
そして、この電極構体(7)を構成する互いに電気的に
分離すべき電極間、例えば順次隣り合う対向電極(4)
、変調電極(5)、水平偏向電極(6)、シールド電極
(12)の各電極間、更にシールド電極(12)の各電
極(12A)〜(120)間に、それぞれガラスピーズ
等の絶縁法(11)が介在される。更に電極構体(7)
と前面パネル(IF)との間にも絶縁法(11)が介在
されて所要の間隔が保持されるようになされる。Between the electrodes that constitute this electrode structure (7) and should be electrically separated from each other, for example, the counter electrodes (4) that are adjacent to each other in sequence.
, between the modulation electrode (5), the horizontal deflection electrode (6), and the shield electrode (12), and between each electrode (12A) to (120) of the shield electrode (12) using insulation methods such as glass beads. (11) is interposed. Furthermore, the electrode structure (7)
An insulation method (11) is also interposed between the front panel (IF) and the front panel (IF) to maintain the required spacing.
蛍光面(2)は例えば垂直方向に延びるストライプ状の
赤、緑及び青の蛍光体トリブレットが、1本のビーム透
過孔hsoに対して数組設けられる。In the phosphor screen (2), for example, several sets of vertically extending striped red, green, and blue phosphor triplets are provided for one beam transmission hole hso.
このような構成において、電子銃(10)のカソード(
IK)に対して例えば上述したように電界放出型カソー
ドにの頂部と引き出し電極(43)との距Mpを0.6
μ…とすると、例えば背面電極(41)にOV1引き出
し電極(43)に80Vの電圧を印加して電界放出型カ
ソード部材により所要のエネルギーをもって電子を引き
出すことができる。さらに第1〜第3のグリッド電極G
1〜G4にそれぞれ30V、−5V、350 V、10
0■の電圧を印加する。そして、対向電極(4)と、垂
直偏向電極(3)を構成する平行電極(3a)に所要の
電圧を印加して垂直偏向系(34)を構成する。この場
合、垂直偏向電極(3)の平行電極(3a)には所定の
垂直走査位置■に対応して隣り合う電極(3a+)及び
(3az)間に電位差を与えて、即ち電極(3a I)
より電子銃(10)側に位置する全ての電極(3a)に
おいては例えば対向電極(4)と同電位の電圧100v
を与え、これとは反対側の電極(3a−)から電子銃(
10)とは反対側の全ての電極にはOvを印加し、順次
垂直走査速度及び周期に同期してその電位差を与える位
置Vを垂直走査方向に移動させる。このようにすると電
位差100■が与えられる電極(3a、)及び(3az
)近傍では、第3図に示すように電子ビームbが偏向し
て対向電極(4)の水平走査方向に延びる各スリン)S
Lにその位置が垂直走査されつつ導入され、各スリンl
−3Lによって電子銃(10)からのビームbによる1
条のビームスポットがスリットSLの数に応じて複数個
に分割される。In such a configuration, the cathode (
IK), for example, as mentioned above, the distance Mp between the top of the field emission cathode and the extraction electrode (43) is set to 0.6.
μ... For example, by applying a voltage of 80 V to the OV1 extraction electrode (43) on the back electrode (41), electrons can be extracted with the required energy by the field emission type cathode member. Furthermore, the first to third grid electrodes G
30V, -5V, 350V, 10 for 1 to G4 respectively
Apply a voltage of 0■. Then, a required voltage is applied to the counter electrode (4) and the parallel electrode (3a) forming the vertical deflection electrode (3) to form a vertical deflection system (34). In this case, a potential difference is applied to the parallel electrode (3a) of the vertical deflection electrode (3) between adjacent electrodes (3a+) and (3az) corresponding to a predetermined vertical scanning position (3), that is, the electrode (3a I)
For all electrodes (3a) located closer to the electron gun (10), a voltage of 100 V, which is the same potential as the counter electrode (4), is applied.
from the opposite electrode (3a-) to the electron gun (
Ov is applied to all the electrodes on the opposite side to 10), and the position V where the potential difference is applied is sequentially moved in the vertical scanning direction in synchronization with the vertical scanning speed and period. In this way, the electrodes (3a,) and (3az
), the electron beam b is deflected as shown in FIG.
L is introduced while its position is vertically scanned, and each sulin l
-1 by beam b from electron gun (10) by 3L
The beam spot of the strip is divided into a plurality of spots according to the number of slits SL.
変調電極(5)には例えば200Vの電圧を印加して各
分割ビームを集束させる作用をなさしめると共に、各電
子ビーム透過孔り、4の周縁にそれぞれ配置された電極
導電層(5a)に、表示信号に応じた例えばパルス幅変
調電圧が印加される。A voltage of, for example, 200 V is applied to the modulation electrode (5) to focus each divided beam, and the electrode conductive layer (5a) arranged around the periphery of each electron beam transmission hole 4 is For example, a pulse width modulated voltage is applied depending on the display signal.
水平偏向電極(6)は水平走査に同期して順次各電子ビ
ーム透過孔に対応して設けられた蛍光面領域例えば赤、
緑及び青の複数組のトリプレットに対する偏向を順次行
うように、例えば300v±100■の偏向電圧を、各
ビーム透過孔に対して設けられた対の偏向電極導電層(
6a+)(6b+)と(6az) (6bz)との間に
印加して、微小な水平偏向を行って対向電極(4)のス
リットSLによって分割された各分割ビームに関してそ
れぞれ水平偏向を行う。The horizontal deflection electrode (6) is arranged in synchronization with the horizontal scanning to sequentially move the phosphor screen area corresponding to each electron beam transmission aperture, for example, red,
In order to sequentially deflect multiple sets of green and blue triplets, a deflection voltage of, for example, 300V±100V is applied to a pair of deflection electrode conductive layers (
6a+) (6b+) and (6az) (6bz) to perform a minute horizontal deflection, thereby horizontally deflecting each divided beam divided by the slit SL of the counter electrode (4).
蛍光面(2)には、高圧の例えば10kVが印加され、
シールド電極(12)の各電極板(12A)〜(12D
)には、順次蛍光面(2)側の電極板に向かって高電圧
となる例えば2kV、4kV、6kV、8kVを印加し
て、水平偏向電極(6)及び変調電極(5)への高圧の
入り込みをシールドする。A high voltage, for example 10 kV, is applied to the phosphor screen (2),
Each electrode plate (12A) to (12D) of the shield electrode (12)
), high voltages such as 2kV, 4kV, 6kV, and 8kV are sequentially applied to the electrode plate on the phosphor screen (2) side to apply high voltage to the horizontal deflection electrode (6) and modulation electrode (5). Shield from intrusion.
尚上述したように本発明においては、1本の層流ビーム
bによって蛍光面(2)上の全域の蛍光面の励起を行わ
しめるものであるが、その電子ビームの密度が充分高く
なく即ちアノード電流が充分得られない場合には、例え
ば水平偏向電極(6)と変調電極(5)との間には2次
電子増倍手段(22)を配置することができる。As mentioned above, in the present invention, the entire area on the phosphor screen (2) is excited by one laminar beam b, but the density of the electron beam is not high enough, that is, the anode If a sufficient current cannot be obtained, a secondary electron multiplier (22) can be arranged, for example, between the horizontal deflection electrode (6) and the modulation electrode (5).
この2次電子増倍手段(22)は、例えば第9図にその
断面図を示すように、変調電極(5)と水平偏向電極(
6)との間に、それぞれ例えば複数の電極板(22A)
(22B) (22C)が設けられ、これら電極板(
22A)(22B) (22C)に、スリットSLに対
応する各電子ビーム透過孔hMA”””hMcが穿設さ
れ、その内面には、電子の衝撃によって2次電子を多量
に発生する、即ち2次電子放出比が高いMg等の物質を
塗布することによってこの透過孔hMA”hMcに導か
れる電子を2次増倍して蛍光面(2)に向かわしめるよ
うにすることができる。この場合において各2次電子増
倍電極板(22A) (22B) (22C)には順次
蛍光面(2)に近い方に向かって高い電圧を印加するよ
うになすことが望ましい。また各電極板間には、電極構
体(7)と同様にガラスピーズ等の絶縁法(11)を配
置することができる。This secondary electron multiplier (22) includes a modulation electrode (5) and a horizontal deflection electrode (22), as shown in FIG.
6) between each, for example, a plurality of electrode plates (22A)
(22B) (22C) are provided, and these electrode plates (
22A) (22B) (22C), each electron beam transmission hole hMA"""hMc corresponding to the slit SL is bored, and the inner surface thereof generates a large amount of secondary electrons by the impact of electrons, that is, 2 By coating a substance such as Mg with a high secondary electron emission ratio, the electrons guided to the transmission holes hMA"hMc can be quadratic multiplied and directed toward the phosphor screen (2). In this case, it is desirable to apply a higher voltage to each of the secondary electron multiplier electrode plates (22A), (22B), and (22C) in sequence toward the side closer to the phosphor screen (2). Furthermore, an insulation method (11) such as glass beads can be placed between each electrode plate in the same way as the electrode assembly (7).
また、上述した例に限らず、水平偏向電極(6)を例え
ば第10図にその断面図を示すように、互いに電気的に
独立する3枚の電極部(6A)〜(6C)を形成し、そ
の電子ビーム透過孔hMA”hHeの位置関係を透過孔
hHAを中心に左右に偏心させ、電極部(68)に対す
る水平偏向電圧の印加によって分割ビームb、を左右に
高解像度をもって微小偏向させるB様を採ることもでき
る。In addition, the horizontal deflection electrode (6) is not limited to the above-mentioned example, but the horizontal deflection electrode (6) may be formed into three electrode portions (6A) to (6C) that are electrically independent from each other, as shown in the cross-sectional view of FIG. , the positional relationship of the electron beam transmission aperture hMA"hHe is eccentric to the left and right around the transmission hole hHA, and the divided beam b is minutely deflected left and right with high resolution by applying a horizontal deflection voltage to the electrode part (68)B. You can also choose
また電界放出型カソード部材にの配置態様も上述の例に
限らず、例えば第6図において背面電極(41)及び引
き出し電極(43)はカソード部材Kに対して共通に設
けられているが、画電極(41)及び(43)を共にカ
ソード部材Kに対応して複数に独立に設けることもでき
る。Furthermore, the arrangement of the field emission type cathode member is not limited to the above-mentioned example. For example, in FIG. A plurality of electrodes (41) and (43) may be independently provided corresponding to the cathode member K.
上述のカソード(IK)は電極構体(7)の各電子透過
孔すなわち対向電極(4)の1つのスリットSLに対し
て1つの電界放出型カソード部材Kを設ける。In the above cathode (IK), one field emission type cathode member K is provided for each electron transmission hole of the electrode assembly (7), that is, one slit SL of the counter electrode (4).
或いは、1つのスリットSLに対して設けられるカソー
ド部材Kを微小なカソード部材の集合をもって形成する
こともできる。Alternatively, the cathode member K provided for one slit SL can be formed by a collection of minute cathode members.
上述したような各スリットSLに対応して、それぞれ1
個の電界放出型カソード部材に或いは微小なカソード部
材の集合による部材Kによってカソード(IK)を形成
する場合は、全スリットSLに対して連続して1本の帯
状カソード部材を配置させる場合に比して、電極構体(
7)のスリットSL以外の部分との衝突による無効電子
の発生を減少させることができ、無効電流の低減化をは
かることができる。Corresponding to each slit SL as described above, 1
When a cathode (IK) is formed by a member K made up of individual field emission type cathode members or a collection of minute cathode members, it is compared to a case where one strip-shaped cathode member is continuously arranged for all the slits SL. and the electrode structure (
7) The generation of invalid electrons due to collision with parts other than the slit SL can be reduced, and the reactive current can be reduced.
上述したように、本発明による平面型表示装置では、電
極構体(7)と垂直偏向電極(3)との間の空間に沿っ
て電子銃(10)からの電子ビームbが導入される。そ
してこの電子銃(10)のカソード(IK)は、線状に
複数の電界放出型カソード部材Kが配置されて成り、こ
れによりこのカソード(IK)の全体の長さを大として
も振動が発生しない構造とすることができ、電子放出特
性を劣化させることなく安定な画面の映出と大画面化を
はかることができる。As described above, in the flat display device according to the present invention, the electron beam b from the electron gun (10) is introduced along the space between the electrode structure (7) and the vertical deflection electrode (3). The cathode (IK) of this electron gun (10) is made up of a plurality of field emission type cathode members K arranged in a line, so that vibrations occur even if the overall length of this cathode (IK) is increased. Therefore, it is possible to achieve stable screen projection and enlargement of the screen without deteriorating the electron emission characteristics.
またカソード(1K)を構成する電界放出型カソード部
材K、背面電極(41)及び引き出し電極(43)等を
形成する場合に、その形状の制御性が良く高い精度をも
って製造することができるため、従来のフィラメントを
複数に配置して成るカソードに比して格段に特性のばら
つきを小とすることができ、このため画像の明るさのむ
らを回避することができる。In addition, when forming the field emission type cathode member K, back electrode (41), extraction electrode (43), etc. that constitute the cathode (1K), the shape can be easily controlled and manufactured with high precision. Compared to a conventional cathode formed by arranging a plurality of filaments, variations in characteristics can be made much smaller, and therefore unevenness in image brightness can be avoided.
さらにまたこの電界放出型カソード部材Kを、上述の電
極構体(7)の電子透過孔用スリンl−3L0幅及びピ
ッチと対応させて分散配置することにより無効電子の発
生を抑制して、2次電子や迷走電子が管体壁面等の絶縁
体露出部のチャージアンプ等を回避して画像の乱れを回
避することでき、また無効電流の低減化をはかることに
より、小電力化及び高輝度化をはかることができる。Furthermore, by distributing this field emission type cathode member K in a manner corresponding to the width and pitch of the electron transmission hole sulin l-3L0 of the electrode structure (7), generation of invalid electrons is suppressed, and secondary Electrons and stray electrons can avoid charge amplifiers on exposed insulators on the tube wall, etc. to avoid image disturbances, and by reducing reactive current, it is possible to reduce power consumption and increase brightness. It can be measured.
第1図は本発明による平面型表示装置の一例の正面図、
第2図はその上面図、第3図はその垂直走査方向の路線
的断面図、第4図は正面から見た各電極のパターン図、
第5図は電極構体の一例を示す要部の路線的断面図、第
6図は電子銃の一例を示す路線的断面図、第7図A−D
は電界放出型カソードの各製造工程を示す工程図、第8
図は電極構体の要部の分解斜視図、第9図は2次電子増
倍手段の一例の路線的断面図、第10図は水平偏向電極
の他の例の電極構成図及び電子ビーム透過孔の配置関係
を示す路線的断面図、第11図は従来の1ライン弐カソ
ード構造を示す路線的断面図である。
(1)は平面型管体、(lF)は前面パネル、(IB)
は背面パネル、(IS)は周側壁、(21)はチップオ
フ管、(2)は蛍光面、(3)は垂直偏向電極、(4)
は対向電極、(34)は垂直偏向系、(5)は変調電極
、(6)は水平偏向電極、(7)は電極構体、(10)
は電子銃、(11)は絶縁層、(12)はシールド電極
、(IK)はカソード、(41)は背面電極、(42)
は絶縁体、(43)は引き出し電極、(42A)は絶縁
層、(43A)は金属層、(44)及び(46A)は円
孔、(45)は開口部、Kは電界放出型カソード部材、
G1−G4は第1〜第4のグリッド電極である。
第
図
平面型表示長1の上面図
第2図
主ご走、糞力向の画面図
第3図
電卜銃に示す断面図
第6図
電千含厄の刀ソーLの要@外斤、すぎfr面口手続補正
書
平成
2年
8月
21日
平成 2年 特 許 願 第156168号2、 ’i
’iff II!1(7) S iff、
平面型表示装置3、補正をする者
事件との関係FIG. 1 is a front view of an example of a flat display device according to the present invention;
FIG. 2 is a top view, FIG. 3 is a cross-sectional view in the vertical scanning direction, and FIG. 4 is a pattern diagram of each electrode seen from the front.
FIG. 5 is a cross-sectional view of essential parts showing an example of an electrode structure, FIG. 6 is a cross-sectional view of an example of an electron gun, and FIGS. 7A-D
8 is a process diagram showing each manufacturing process of a field emission cathode.
The figure is an exploded perspective view of the main part of the electrode structure, FIG. 9 is a cross-sectional view of an example of a secondary electron multiplier, and FIG. 10 is an electrode configuration diagram of another example of a horizontal deflection electrode and an electron beam transmission hole. FIG. 11 is a cross-sectional view showing the conventional one-line two-cathode structure. (1) is a flat tube body, (IF) is a front panel, (IB)
is the back panel, (IS) is the peripheral side wall, (21) is the tip-off tube, (2) is the fluorescent screen, (3) is the vertical deflection electrode, (4)
is a counter electrode, (34) is a vertical deflection system, (5) is a modulation electrode, (6) is a horizontal deflection electrode, (7) is an electrode structure, (10)
is an electron gun, (11) is an insulating layer, (12) is a shield electrode, (IK) is a cathode, (41) is a back electrode, (42)
is an insulator, (43) is an extraction electrode, (42A) is an insulating layer, (43A) is a metal layer, (44) and (46A) are circular holes, (45) is an opening, and K is a field emission cathode member. ,
G1-G4 are first to fourth grid electrodes. Figure: Top view of the flat type display length 1 Figure 2: Screen view of the main gosashi, Shiki force direction Figure 3: Cross-sectional view of the electric gun Figure 6: The main point of the electric sword Saw L @ Gaiko, Sugi fr Written amendment to oral proceedings August 21, 1990 1990 Patent Application No. 156168 2, 'i
'if II! 1(7) S if,
Relationship between flat display device 3 and the amended case
Claims (1)
、 上記平面型管体の上記前面パネルと対向する背面パネル
の内面の、上記蛍光面との対向部に水平走査方向に沿っ
て延長する複数の平行電極よりなる垂直偏向電極が配置
され、 該垂直偏向電極と上記蛍光面との間の空間に、上記垂直
偏向電極に対向して該垂直偏向電極との共働によって垂
直偏向系を構成する電子ビーム透過孔を有する対向電極
と、変調電極と、水平偏向電極とを少なくとも有する電
極構体が配置され、上記電子銃のカソードは、複数の電
界放出型カソードが線状に配列されて成り、 上記電子銃からの電子ビームは、上記電極構体と上記垂
直偏向電極との間に導入されるようになされたこと を特徴とする平面型表示装置。[Claims] A fluorescent screen is arranged in the inner tube of the front panel of the flat tube, and an electron gun is arranged at a position offset from the part facing the fluorescent screen, and the front surface of the flat tube A vertical deflection electrode consisting of a plurality of parallel electrodes extending along the horizontal scanning direction is disposed on the inner surface of the rear panel facing the panel at a portion facing the phosphor screen, and between the vertical deflection electrode and the phosphor screen. an electrode structure including at least a counter electrode having an electron beam transmission hole that faces the vertical deflection electrode and forms a vertical deflection system by cooperating with the vertical deflection electrode, a modulation electrode, and a horizontal deflection electrode, in a space of is arranged, the cathode of the electron gun is made up of a plurality of field emission cathodes arranged in a line, and the electron beam from the electron gun is introduced between the electrode structure and the vertical deflection electrode. A flat display device characterized by the following.
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