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JP7230426B2 - Method for manufacturing conjugate - Google Patents

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JP7230426B2 JP2018199986A JP2018199986A JP7230426B2 JP 7230426 B2 JP7230426 B2 JP 7230426B2 JP 2018199986 A JP2018199986 A JP 2018199986A JP 2018199986 A JP2018199986 A JP 2018199986A JP 7230426 B2 JP7230426 B2 JP 7230426B2
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Description

本発明は、アルコキシシリル基が導入された変性ブロック共重合体水素化物を含む成形体と、樹脂成形体とを接着して接合体を製造する方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a joined body by adhering a molded article containing a hydrogenated modified block copolymer into which an alkoxysilyl group has been introduced and a resin molded article.

アルコキシシリル基が導入された変性ブロック共重合体水素化物は、ガラス板と樹脂シートとの接着や、金属箔と樹脂シートとの接着等に有用であり、例えば特許文献1~3には、医薬品や食品の包装、太陽電池モジュール用封止材、有機EL素子用封止材、電子部品用封止材、および合わせガラス中間膜等に利用できることが開示されている。 Hydrogenated modified block copolymers into which alkoxysilyl groups have been introduced are useful for adhesion between a glass plate and a resin sheet, adhesion between a metal foil and a resin sheet, and the like. and food packaging, solar cell module encapsulant, organic EL element encapsulant, electronic component encapsulant, laminated glass interlayer film, and the like.

そして、特許文献3では、アルコキシシリル基が導入された変性ブロック共重合体水素化物からなるシートと熱可塑性樹脂シートとが接着してなる接合体を作製するに際し、これら二つのシートの加熱圧着に先んじて、熱可塑性樹脂シートの表面に対して、プラズマ照射、エキシマ紫外線照射及びコロナ放電から選ばれる少なくとも一種の活性化処理を行うことで、これらの二つのシートを強固に接着させることが提案されている。 Then, in Patent Document 3, when producing a joined body in which a sheet made of a modified block copolymer hydride to which an alkoxysilyl group is introduced and a thermoplastic resin sheet are adhered, the two sheets are heat-pressed together. Prior to this, it has been proposed that the surface of a thermoplastic resin sheet be subjected to at least one type of activation treatment selected from plasma irradiation, excimer ultraviolet irradiation, and corona discharge to firmly bond these two sheets together. ing.

国際公開第2015/137376号WO2015/137376 特開2017-171833号公報JP 2017-171833 A 国際公開第2017/154718号WO2017/154718

しかしながら、本発明者が検討したところ、上記特許文献3の活性化処理は、その効果が維持される時間が必ずしも長いとはいえないという問題点があることが明らかとなった。そのため、アルコキシシリル基が導入された変性ブロック共重合体水素化物からなるシートと熱可塑性樹脂シートとを貼り合わせた製品を製造するに際し、貼り合わせ面の強固な接着力を確保するには、両者を貼り合わせる直前に上記活性化処理を行うことが必要となる等、製造上の制約となる虞があった。即ち、上記従来の手法では、アルコキシシリル基が導入された変性ブロック共重合体水素化物からなるシートと熱可塑性樹脂シートとが強固に接着してなる接合体を安定して製造することが困難であった。 However, as a result of investigation by the present inventors, it has become clear that the activation treatment of Patent Document 3 has a problem that the time for which the effect is maintained is not necessarily long. Therefore, when manufacturing a product in which a sheet made of a hydrogenated modified block copolymer into which an alkoxysilyl group is introduced and a thermoplastic resin sheet are bonded together, both There is a possibility that the above activation treatment is required to be performed immediately before bonding the substrates together, which may lead to restrictions on manufacturing. That is, it is difficult to stably produce a joined body in which a sheet made of a hydrogenated modified block copolymer into which an alkoxysilyl group is introduced and a thermoplastic resin sheet are firmly adhered by the above-described conventional method. there were.

そこで、本発明は、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物を主成分とする成形体と、樹脂成形体とを安定して強固に接着させて、当該成形体と当該樹脂成形体の接合体を製造する方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a method for stably and firmly adhering a molded article mainly composed of a hydrogenated modified block copolymer into which an alkoxysilyl group is introduced and a resin molded article, thereby forming the molded article and the resin. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a joined body of molded bodies.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物を主成分とする成形体と、樹脂成形体との貼り合わせに先んじて、樹脂成形体の表面に対して、珪素化合物の存在下で所定の表面加工を行う表面処理、及び/又は、所定の表面加工を施した後に珪素化合物を接触させる表面処理を行えば、表面処理の実施後長時間が経過した後に貼り合わせを行ったとしても、変性ブロック共重合体水素化物を主成分とする成形体と、樹脂成形体とを安定して強固に接着できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies aimed at achieving the above object, the present inventors have found that they are the first to bond a resin molded article to a molded article whose main component is a hydrogenated modified block copolymer into which an alkoxysilyl group has been introduced. If the surface of the resin molding is subjected to a surface treatment in which a predetermined surface treatment is performed in the presence of a silicon compound and/or a surface treatment is performed in which a silicon compound is brought into contact with the surface after the predetermined surface treatment, the surface The present inventors have found that a molded article containing a hydrogenated modified block copolymer as a main component and a resin molded article can be stably and firmly adhered to each other even if the bonding is performed after a long time has passed since the treatment. I have perfected my invention.

かくして本発明によれば、下記(1)~(3)の接合体の製造方法が提供される。
(1)アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする成形体[F]と、樹脂成形体[G]とを接着して接合体[H]を製造する方法であって、下記工程1及び2を含む、接合体の製造方法。
工程1:前記樹脂成形体[G]の表面に対して、珪素化合物の存在下で、プラズマ照射、紫外線照射、コロナ放電、及び火炎吹き付けからなる群から選ばれる少なくとも一つを行う処理(i)と、前記樹脂成形体[G]の表面に対して、プラズマ照射、紫外線照射、コロナ放電及び火炎吹き付けからなる群から選ばれる少なくとも一つを行った後に、当該表面を珪素化合物と接触させる処理(ii)の少なくとも一つの処理を実施する工程。
工程2:前記工程1を経た前記樹脂成形体[G]と、前記成形体[F]とを、前記樹脂成形体[G]の前記処理(i)と(ii)の少なくとも一方がなされた表面と前記成形体[F]とが接するように積層し、加熱圧着する工程。
(2)前記接合体[H]における前記成形体[F]と前記樹脂成形体[G]との接着面の剥離強度が4N/cm以上である、(1)の接合体の製造方法。
(3)前記変性ブロック共重合体水素化物[E]が、芳香族ビニル化合物由来の構造単位〔a〕を主成分とする、少なくとも二つの重合体ブロック[A]と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位〔b〕を主成分とする、少なくとも一つの重合体ブロック[B]とからなるブロック共重合体[C]であって、前記構造単位〔a〕の全量がブロック共重合体[C]に占める質量分率をwaとし、前記構造単位〔b〕の全量がブロック共重合体[C]に占める質量分率をwbとしたときに、waとwbとの比wa:wbが20:80~60:40であるブロック共重合体[C]の、前記構造単位〔b〕由来の炭素-炭素不飽和結合の90%以上を水素化したブロック共重合体水素化物[D]に、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物である、(1)または(2)の接合体の製造方法。
Thus, according to the present invention, the following methods (1) to (3) for producing a joined body are provided.
(1) Bonded body [H] is formed by bonding molded body [F] mainly composed of hydrogenated modified block copolymer [E] into which alkoxysilyl groups are introduced and resin molded body [G]. A manufacturing method of a joined body, comprising steps 1 and 2 below.
Step 1: Treatment (i) of subjecting the surface of the resin molding [G] to at least one selected from the group consisting of plasma irradiation, ultraviolet irradiation, corona discharge, and flame spraying in the presence of a silicon compound. and a treatment of contacting the surface with a silicon compound after performing at least one selected from the group consisting of plasma irradiation, ultraviolet irradiation, corona discharge and flame spraying on the surface of the resin molded body [G] ( performing at least one treatment of ii).
Step 2: The resin molded body [G] that has undergone the step 1 and the molded body [F] are subjected to at least one of the treatments (i) and (ii) of the resin molded body [G]. and the molded body [F] are laminated so as to be in contact with each other, and are heat-pressed.
(2) The method for producing a bonded body according to (1), wherein the bonding surface between the molded body [F] and the resin molded body [G] in the bonded body [H] has a peel strength of 4 N/cm or more.
(3) The hydrogenated modified block copolymer [E] contains at least two polymer blocks [A] mainly composed of structural units [a] derived from an aromatic vinyl compound, and a chain conjugated diene compound derived A block copolymer [C] consisting of at least one polymer block [B], which is mainly composed of the structural unit [b] of ], and the mass fraction of the total amount of the structural unit [b] in the block copolymer [C] is wb, the ratio wa:wb between wa and wb is 20: A block copolymer hydride [D] obtained by hydrogenating 90% or more of the carbon-carbon unsaturated bonds derived from the structural unit [b] of the block copolymer [C] having a ratio of 80 to 60:40, an alkoxy A method for producing a conjugate according to (1) or (2), which is a hydrogenated modified block copolymer into which a silyl group is introduced.

本発明の接合体の製造方法によれば、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物を主成分とする成形体と、樹脂成形体とを安定して強固に接着させて、当該成形体と当該樹脂成形体の接合体を製造することができる。 According to the method for producing a bonded body of the present invention, a molded body mainly composed of a hydrogenated modified block copolymer into which an alkoxysilyl group is introduced and a resin molded body are stably and firmly adhered to each other, A joined body of the molded article and the resin molded article can be manufactured.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。本発明の接合体の製造方法は、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする成形体[F]と、樹脂成形体[G]とを接着して接合体[H]を製造する方法である。そして、本発明の接合体の製造方法は、少なくとも、以下の工程1及び2を含むことを特徴とする。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the method for producing a joined body of the present invention, a molded body [F] mainly composed of a hydrogenated modified block copolymer [E] into which an alkoxysilyl group has been introduced is bonded to a resin molded body [G]. This is a method for manufacturing a conjugate [H]. The method for manufacturing a joined body of the present invention is characterized by including at least the following steps 1 and 2.

工程1:樹脂成形体[G]の表面に対して、珪素化合物の存在下で、プラズマ照射、紫外線照射、コロナ放電、及び火炎吹き付けからなる群から選ばれる少なくとも一つの表面加工を行う処理(i)、並びに/又は、
樹脂成形体[G]の表面に対して、プラズマ照射、紫外線照射、コロナ放電及び火炎吹き付けからなる群から選ばれる少なくとも一つの表面加工を行った後に、当該表面加工を行った表面(以下、「被加工面」という。)を珪素化合物と接触させる処理(ii)、
を実施する工程。
工程2:上記工程1を経た樹脂成形体[G]と、成形体[F]とを、樹脂成形体[G]の上記処理(i)及び/又は上記処理(ii)がなされた表面(以下、「被処理面」という。)と成形体[F]とが接するように積層し、加熱圧着する工程。
Step 1: A treatment (i ), and/or
After performing at least one surface treatment selected from the group consisting of plasma irradiation, ultraviolet irradiation, corona discharge and flame spraying on the surface of the resin molded body [G], the surface subjected to the surface treatment (hereinafter referred to as " A treatment (ii) in which the surface to be processed" is brought into contact with a silicon compound,
the process of carrying out
Step 2: The surface of the resin molded body [G] subjected to the above treatment (i) and/or the above treatment (ii) (hereinafter referred to as , referred to as the “surface to be treated”) and the molded body [F] are laminated so as to be in contact with each other, and are heat-pressed.

そして、上述した工程1及び工程2を経ることで、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする成形体[F]と、樹脂成形体[G]とが強固に接着してなる接合体を、安定して製造することができる。 Then, through the above-described steps 1 and 2, the molded article [F] mainly composed of the hydrogenated modified block copolymer [E] into which an alkoxysilyl group has been introduced, and the resin molded article [G] It is possible to stably manufacture a joined body in which the two are strongly bonded together.

(成形体[F])
成形体[F]は、変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする。そして、成形体[F]は、変性ブロック共重合体水素化物[E]以外の成分(以下、「その他の成分」と称する。)を含んでいてもよい。
なお、本発明において、成形体が特定の重合体を「主成分とする」とは、「成形体の全質量を100質量%として、当該重合体を70質量%以上含む」ことを意味する。
なお、成形体[F]中に含まれる変性ブロック共重合体水素化物[E]の含有量は、成形体[F]全体を100質量%として、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。
(Molded body [F])
Molded article [F] is mainly composed of hydrogenated modified block copolymer [E]. The molded article [F] may contain components other than the hydrogenated modified block copolymer [E] (hereinafter referred to as "other components").
In the present invention, the expression that the molded article "contains a specific polymer as a main component" means that the molded article contains 70% by mass or more of the polymer based on 100% by mass of the total mass of the molded article.
The content of the hydrogenated modified block copolymer [E] contained in the molded article [F] is preferably 80% by mass or more, preferably 90% by mass, based on 100% by mass of the entire molded article [F]. % or more is more preferable.

<変性ブロック共重合体水素化物[E]>
変性ブロック共重合体水素化物[E]は、前駆体であるブロック共重合体水素化物[D]に、アルコキシシリル基が導入された高分子である。
<Modified block copolymer hydride [E]>
The modified block copolymer hydride [E] is a polymer obtained by introducing an alkoxysilyl group into the precursor block copolymer hydride [D].

<<ブロック共重合体水素化物[D]>>
ここで、ブロック共重合体水素化物[D]は、アルコキシシリル基の導入が可能であれば特に限定されないが、ブロック共重合体水素化物[D]としては、例えば、芳香族ビニル化合物に由来する構造単位〔a〕を主成分とする重合体ブロック[A]と鎖状共役ジエン化合物(直鎖状共役ジエン化合物、分岐鎖状共役ジエン化合物)に由来する構造単位〔b〕を主成分とする重合体ブロック[B]とを有するブロック共重合体[C]を水素化して得られる高分子を好適に用いることができる。
なお、本発明において、重合体ブロックが特定の構造単位を「主成分とする」とは、「重合体ブロックを構成する全構造単位(全繰り返し単位)を100質量%として、当該構造単位を70質量%以上含む」ことを意味する。
<<block copolymer hydride [D]>>
Here, the block copolymer hydride [D] is not particularly limited as long as an alkoxysilyl group can be introduced. Polymer block [A] containing structural unit [a] as a main component and structural unit [b] derived from a chain conjugated diene compound (linear conjugated diene compound, branched conjugated diene compound) as main components A polymer obtained by hydrogenating a block copolymer [C] having a polymer block [B] can be preferably used.
In the present invention, the expression that the polymer block "consists of a specific structural unit as a main component" means that "the total structural unit (total repeating unit) constituting the polymer block is 100% by mass, and the structural unit is 70 containing at least % by mass".

〔ブロック共重合体[C]〕
ブロック共重合体[C]は、少なくとも2個の重合体ブロック[A]と少なくとも1個の重合体ブロック[B]を有することが好ましい。
[Block copolymer [C]]
The block copolymer [C] preferably has at least two polymer blocks [A] and at least one polymer block [B].

〔〔重合体ブロック[A]〕〕
重合体ブロック[A]は、芳香族ビニル化合物に由来する構造単位〔a〕を主成分とする重合体ブロックである。重合体ブロック[A]中における構造単位〔a〕の含有割合は、重合体ブロック[A]を構成する全構造単位を100質量%として、70質量%以上であることが必要であり、90質量%以上であることが好ましく、95質量%以上であることがより好ましく、98質量%以上であることが更に好ましい。重合体ブロック[A]中における構造単位〔a〕の含有割合が少な過ぎると、変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする成形体[F]の耐熱性が低下するおそれがある。なお、重合体ブロック[A]中における構造単位〔a〕の含有割合の上限は特に限定されず、100質量%以下とすることができる。
[[polymer block [A]]]
Polymer block [A] is a polymer block mainly composed of structural unit [a] derived from an aromatic vinyl compound. The content of the structural unit [a] in the polymer block [A] must be 70% by mass or more, and 90% by mass, based on 100% by mass of the total structural units constituting the polymer block [A]. % or more, more preferably 95 mass % or more, and even more preferably 98 mass % or more. If the content of the structural unit [a] in the polymer block [A] is too low, the heat resistance of the molded product [F] containing the hydrogenated modified block copolymer [E] as a main component may be lowered. . The upper limit of the content of the structural unit [a] in the polymer block [A] is not particularly limited, and may be 100% by mass or less.

重合体ブロック[A]は、構造単位〔a〕以外の構造単位(その他の構造単位)を含有していてもよい。重合体ブロック[A]が含有しうるその他の構造単位としては、鎖状共役ジエン化合物に由来する構造単位〔b〕および/またはその他のビニル化合物に由来する構造単位〔j〕が挙げられる。重合体ブロック[A]中における鎖状共役ジエン化合物に由来する構造単位〔b〕およびその他のビニル化合物に由来する構造単位〔j〕の含有割合の合計は、重合体ブロック[A]を構成する全構造単位を100質量%として、30質量%以下であることが必要であり、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましく、2質量%以下であることが更に好ましい。 Polymer block [A] may contain structural units (other structural units) other than structural unit [a]. Other structural units that the polymer block [A] may contain include structural units [b] derived from chain conjugated diene compounds and/or structural units [j] derived from other vinyl compounds. The total content of the structural unit [b] derived from the linear conjugated diene compound and the structural unit [j] derived from the other vinyl compound in the polymer block [A] constitutes the polymer block [A]. Based on 100% by mass of all structural units, it is necessary to be 30% by mass or less, preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and preferably 2% by mass or less. More preferred.

―芳香族ビニル化合物―
ここで、構造単位〔a〕を導入するために使用される芳香族ビニル化合物としては、スチレン;α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、3-メチルスチレン、4-メチルスチレン、2,4-ジイソプロピルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、4-t-ブチルスチレン、5-t-ブチル-2-メチルスチレン等の、置換基として炭素数1以上6以下のアルキル基を有するスチレン類;4-メトキシスチレン等の、置換基として炭素数1以上6以下のアルコキシ基を有するスチレン類;4-フェニルスチレン等の、置換基としてアリール基を有するスチレン類;1-ビニルナフタレン、2-ビニルナフタレン等の、ビニルナフタレン類;等が挙げられる。これらは、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用してもよい。
そしてこれらの中でも、成形体[F]の吸湿性を低下させる観点から、スチレンや、置換基として炭素数1以上6以下のアルキル基を有するスチレン類等の、極性基を含有しない芳香族ビニル化合物が好ましく、工業的な入手の容易さから、スチレンが特に好ましい。
-Aromatic Vinyl Compound-
Here, the aromatic vinyl compound used to introduce the structural unit [a] includes styrene; α-methylstyrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-diisopropyl styrene, 2,4-dimethylstyrene, 4-t-butylstyrene, 5-t-butyl-2-methylstyrene, and other styrenes having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent; 4-methoxystyrene; styrenes having an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent; styrenes having an aryl group as a substituent such as 4-phenylstyrene; vinyls such as 1-vinylnaphthalene and 2-vinylnaphthalene naphthalenes; and the like. These may be used singly or in combination of two or more.
Among these, aromatic vinyl compounds containing no polar groups, such as styrene and styrenes having an alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms as a substituent, from the viewpoint of reducing the hygroscopicity of the molded article [F]. is preferred, and styrene is particularly preferred because of its industrial availability.

―鎖状共役ジエン化合物―
また、構造単位〔b〕を導入するために使用される鎖状共役ジエン系化合物(直鎖状共役ジエン化合物、分岐鎖状共役ジエン化合物)としては、1,3-ブタジエン、イソプレン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン、1,3-ペンタジエン、クロロプレン等が挙げられる。これらは、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用してもよい。
そしてこれらの中でも、成形体[F]の吸湿性を低下させる観点から、極性基を含有しない鎖状共役ジエン系化合物が好ましく、工業的な入手の容易さから、1,3-ブタジエン、イソプレンが特に好ましい。
- Chain conjugated diene compounds -
The chain conjugated diene compounds (straight chain conjugated diene compound, branched chain conjugated diene compound) used to introduce the structural unit [b] include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3 -dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, chloroprene and the like. These may be used singly or in combination of two or more.
Among these, chain conjugated diene compounds containing no polar group are preferable from the viewpoint of reducing the hygroscopicity of the molded article [F], and 1,3-butadiene and isoprene are preferable from the viewpoint of industrial availability. Especially preferred.

―その他のビニル化合物―
そして、構造単位〔j〕を導入するために使用されるその他のビニル系化合物としては、芳香族ビニル化合物および鎖状共役ジエン化合物以外のビニル化合物、例えば、鎖状ビニル化合物、環状ビニル化合物、不飽和の環状酸無水物、不飽和イミド化合物等が挙げられる。これらの化合物は、ニトリル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。また、これらの化合物は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用してもよい。そしてこれらの中でも、成形体[F]の吸湿性を低下させる観点から、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-ノネン、1-デセン、1-ドデセン、1-エイコセン、4-メチル-1-ペンテン、4,6-ジメチル-1-ヘプテン等の、炭素数2以上20以下の鎖状ビニル化合物(鎖状オレフィン);ビニルシクロヘキサン、ノルボルネン等の炭素数5以上20以下の環状ビニル化合物(環状オレフィン);1,3-シクロヘキサジエン、ノルボルナジエン等の環状ジエン化合物;等の、極性基を含有しないものが好ましい。
―Other Vinyl Compounds―
Other vinyl compounds used to introduce the structural unit [j] include vinyl compounds other than aromatic vinyl compounds and chain conjugated diene compounds, such as chain vinyl compounds, cyclic vinyl compounds, Examples include saturated cyclic acid anhydrides and unsaturated imide compounds. These compounds may have substituents such as nitrile groups, alkoxycarbonyl groups, hydroxycarbonyl groups, and halogen atoms. Moreover, you may use these compounds individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among these, from the viewpoint of reducing the hygroscopicity of the molded article [F], ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene , 1-dodecene, 1-eicosene, 4-methyl-1-pentene, 4,6-dimethyl-1-heptene, chain vinyl compounds (chain olefins) having 2 to 20 carbon atoms; vinylcyclohexane, norbornene Cyclic vinyl compounds (cyclic olefins) having 5 to 20 carbon atoms such as; Cyclic diene compounds such as 1,3-cyclohexadiene and norbornadiene;

〔〔重合体ブロック[B]〕〕
重合体ブロック[B]は、鎖状共役ジエン化合物に由来する構造単位〔b〕を主成分とする重合体ブロックである。重合体ブロック[B]中における構造単位〔b〕の含有割合は、重合体ブロック[B]を構成する全構造単位を100質量%として、70質量%以上であることが必要であり、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。重合体ブロック[B]中における構造単位〔b〕の含有割合が少な過ぎると、成形体[F]の柔軟性が低下するおそれがある。なお、重合体ブロック[B]中における構造単位〔b〕の含有割合の上限は特に限定されず、100質量%以下とすることができる。
[[polymer block [B]]]
Polymer block [B] is a polymer block mainly composed of structural unit [b] derived from a chain conjugated diene compound. The content of the structural unit [b] in the polymer block [B] is required to be 70% by mass or more based on 100% by mass of the total structural units constituting the polymer block [B], and 80% by mass. % or more, more preferably 90 mass % or more. If the content of the structural unit [b] in the polymer block [B] is too low, the molded product [F] may have reduced flexibility. The upper limit of the content of the structural unit [b] in the polymer block [B] is not particularly limited, and may be 100% by mass or less.

重合体ブロック[B]は、構造単位〔b〕以外の構造単位(その他の構造単位)を含有していてもよい。重合体ブロック[B]が含有しうるその他の構造単位としては、「重合体ブロック[A]」の項で上述した、芳香族ビニル化合物に由来する構造単位〔a〕及び/又はその他のビニル化合物に由来する構造単位〔j〕が挙げられる。重合体ブロック[B]中における芳香族ビニル化合物に由来する構造単位〔a〕およびその他のビニル化合物に由来する構造単位〔j〕の含有割合の合計は、重合体ブロック[B]を構成する全構造単位を100質量%として、30質量%以下であることが必要であり、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることが更に好ましい。 Polymer block [B] may contain structural units (other structural units) other than structural unit [b]. Other structural units that may be contained in the polymer block [B] include the structural unit [a] derived from the aromatic vinyl compound and/or other vinyl compounds described above in the section "Polymer block [A]". A structural unit [j] derived from The total content of the structural unit [a] derived from the aromatic vinyl compound and the structural unit [j] derived from the other vinyl compound in the polymer block [B] is the total content of the polymer block [B]. Based on 100% by mass of structural units, the content is required to be 30% by mass or less, preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.

―鎖状共役ジエン化合物、芳香族ビニル化合物、及びその他のビニル化合物―
構造単位〔b〕を導入するために使用される鎖状共役ジエン化合物、構造単位〔a〕を導入するために使用される芳香族ビニル化合物、および、構造単位〔j〕を導入するために使用されるその他のビニル化合物の具体例としては、それぞれ「重合体ブロック[A]」の項で上述したものを使用することができ、それぞれの好適例も「重合体ブロック[A]」の項で好適例として挙げたものと同様である。
- Chain Conjugated Diene Compounds, Aromatic Vinyl Compounds, and Other Vinyl Compounds -
Chain conjugated diene compound used to introduce structural unit [b], aromatic vinyl compound used to introduce structural unit [a], and used to introduce structural unit [j] As specific examples of the other vinyl compounds, those described above in the section "Polymer block [A]" can be used, and preferred examples of each can also be described in the section "Polymer block [A]". It is the same as that mentioned as a suitable example.

〔〔ブロック共重合体[C]の性状〕〕
ここで、芳香族ビニル化合物由来の構造単位〔a〕の全量がブロック共重合体[C]に占める質量分率をwaとし、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位〔b〕の全量がブロック共重合体[C]に占める質量分率をwbとしたときに、waとwbとの比wa:wbは、20:80~60:40であることが好ましく、30:70~55:45であることがより好ましく、40:60~50:50であることが更に好ましい。
芳香族ビニル化合物由来の構造単位〔a〕の質量分率(wa)を60%以下にすることにより、成形体[F]の柔軟性を確保することができる。一方、芳香族ビニル化合物由来の構造単位〔a〕の質量分率(wa)を20%以上にすることにより、成形体[F]の耐熱性を確保することができる。
なお、「waとwbとの比(wa:wb)」については、ブロック共重合体を製造する過程において、ブロック共重合体の重合に用いた芳香族ビニル化合物、鎖状共役ジエン化合物およびその他のビニル化合物の部数と、ガスクロマトグラフィー(GC)を使用して測定されたブロック共重合体の各ブロックの重合終了段階での用いたモノマーの重合体への重合転化率より、算出することができる。
[[Properties of block copolymer [C]]]
Here, the mass fraction occupied by the block copolymer [C] by the total amount of the structural units [a] derived from the aromatic vinyl compound is wa, and the total amount of the structural units [b] derived from the chain conjugated diene compound is the block copolymer. When the mass fraction occupied in the polymer [C] is wb, the ratio wa:wb between wa and wb is preferably 20:80 to 60:40, and 30:70 to 55:45. is more preferred, and 40:60 to 50:50 is even more preferred.
By setting the mass fraction (wa) of the structural unit [a] derived from the aromatic vinyl compound to 60% or less, the flexibility of the molded product [F] can be ensured. On the other hand, by setting the mass fraction (wa) of the structural unit [a] derived from the aromatic vinyl compound to 20% or more, the heat resistance of the molded product [F] can be ensured.
Regarding the "ratio between wa and wb (wa:wb)", in the process of producing the block copolymer, the aromatic vinyl compound, the chain conjugated diene compound and other It can be calculated from the number of parts of the vinyl compound and the polymerization conversion rate of the monomer used at the end of the polymerization of each block of the block copolymer measured by gas chromatography (GC) to the polymer. .

また、ブロック共重合体[C]中の全重合体ブロック[A]が、ブロック共重合体[C]全体に占める質量分率をwAとし、全重合体ブロック[B]が、ブロック共重合体[C]全体に占める質量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比(wA:wB)は、20:80~60:40であることが好ましく、30:70~55:45であることがより好ましく、40:60~50:50であることが更に好ましい。
重合体ブロック[A]の質量分率(wA)を60%以下にすることにより、成形体[F]の柔軟性を確保することができる。一方、重合体ブロック[A]の質量分率(wA)を20%以上にすることにより、成形体[F]の耐熱性を確保することができる。
Further, the mass fraction of all the polymer blocks [A] in the block copolymer [C] with respect to the entire block copolymer [C] is wA, and the total polymer block [B] is the block copolymer [C] When wB is the mass fraction in the whole, the ratio of wA to wB (wA:wB) is preferably 20:80 to 60:40, and 30:70 to 55:45. more preferably 40:60 to 50:50.
By setting the mass fraction (wA) of the polymer block [A] to 60% or less, the flexibility of the molding [F] can be ensured. On the other hand, by setting the mass fraction (wA) of the polymer block [A] to 20% or more, the heat resistance of the molding [F] can be ensured.

そして、ブロック共重合体[C]中の重合体ブロック[A]の数は、上述した通り2個以上であることが好ましく、3個以下であることが好ましく、2個であることがより好ましい。また、ブロック共重合体[C]中の重合体ブロック[B]の数は、上述した通り1個以上であり、2個以下であることが好ましく、1個であることがより好ましい。
ブロック共重合体[C]中の重合体ブロック[A]及び重合体ブロック[B]の数が多くなると、ブロック共重合体水素化物[D]において、重合体ブロック[A]由来の水素化重合体ブロックと重合体ブロック[B]由来の水素化重合体ブロックとの相分離が不明瞭になり、重合体ブロック[A]由来の水素化重合体ブロックに基づく高温側のガラス転位温度が低下して、成形体[F]の耐熱性が低下するおそれがある。
As described above, the number of polymer blocks [A] in the block copolymer [C] is preferably 2 or more, preferably 3 or less, and more preferably 2. . As described above, the number of polymer blocks [B] in the block copolymer [C] is 1 or more, preferably 2 or less, and more preferably 1.
When the number of polymer blocks [A] and polymer blocks [B] in the block copolymer [C] increases, in the block copolymer hydride [D], the hydrogenated polymer derived from the polymer block [A] The phase separation between the coalescing block and the hydrogenated polymer block derived from the polymer block [B] becomes unclear, and the glass transition temperature on the high temperature side based on the hydrogenated polymer block derived from the polymer block [A] decreases. As a result, the heat resistance of the molded product [F] may decrease.

なお、ブロック共重合体[C]に含まれる複数の重合体ブロック[A]同士は、組成及び/又はブロック長が互いに同一であっても、相異なっていてもよい。また、ブロック共重合体[C]が重合体ブロック[B]を複数有する場合、複数の重合体ブロック[B]同士は、組成及び/又はブロック長が互いに同一であっても、相異なっていてもよい。 A plurality of polymer blocks [A] contained in the block copolymer [C] may have the same composition and/or different block lengths. Further, when the block copolymer [C] has a plurality of polymer blocks [B], the plurality of polymer blocks [B] are different even if the composition and/or block length are the same. good too.

また、ブロック共重合体[C]のブロックの形態は、特に限定されず、鎖状型ブロックでもラジアル型ブロックでもよい。鎖状型ブロックであるのが成形体[F]の機械的強度に優れ好ましい。
ブロック共重合体[C]の最も好ましい形態は、重合体ブロック[B]の両端に重合体ブロック[A]が結合したトリブロック共重合体([A]-[B]-[A])である。
Moreover, the form of the block of the block copolymer [C] is not particularly limited, and may be a linear block or a radial block. A chain type block is preferable because the molded article [F] has excellent mechanical strength.
The most preferred form of block copolymer [C] is a triblock copolymer ([A]-[B]-[A]) in which polymer block [A] is bound to both ends of polymer block [B]. be.

そして、ブロック共重合体[C]の分子量は、成形体[F]の耐熱性および機械的強度を向上させる観点から、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、好ましくは35,000以上、より好ましくは38,000以上、更に好ましくは40,000以上であり、好ましくは200,000以下、より好ましくは150,000以下、更に好ましくは100,000以下である。また、ブロック共重合体[C]の分子量分布(Mw/Mn)は、成形体[F]の耐熱性および機械的強度を向上させる観点から、好ましくは3以下、より好ましくは2以下、更に好ましくは1.7以下である。 The molecular weight of the block copolymer [C] is determined by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent from the viewpoint of improving the heat resistance and mechanical strength of the molded product [F]. The polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) to be measured is preferably 35,000 or more, more preferably 38,000 or more, still more preferably 40,000 or more, preferably 200,000 or less, more preferably 150 ,000 or less, more preferably 100,000 or less. In addition, the molecular weight distribution (Mw/Mn) of the block copolymer [C] is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and still more preferably, from the viewpoint of improving the heat resistance and mechanical strength of the molded article [F]. is 1.7 or less.

〔〔ブロック共重合体[C]の製造方法〕〕
ブロック共重合体[C]の製造方法としては、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。具体的には、ブロック共重合体[C]の製造方法としては、国際公開第2003/018656号、国際公開第2011/096389号等に記載の方法を採用することができる。
[[Method for producing block copolymer [C]]]
The method for producing the block copolymer [C] is not particularly limited, and known methods can be employed. Specifically, as the method for producing the block copolymer [C], the methods described in International Publication No. 2003/018656, International Publication No. 2011/096389, etc. can be employed.

〔ブロック共重合体[C]の水素化〕
上述したブロック共重合体[C]の少なくとも鎖状共役ジエン化合物に由来する炭素-炭素不飽和結合を水素化することで、ブロック共重合体水素化物[D]を得ることができる。
ここで、ブロック共重合体水素化物[D]は、ブロック共重合体[C]の鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素不飽和結合のみを選択的に水素化した高分子であってもよいし、ブロック共重合体[C]の鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素不飽和結合並びに芳香族ビニル化合物に由来する芳香環の炭素-炭素不飽和結合を水素化した高分子であってもよいし、これらの混合物であってもよい。
[Hydrogenation of block copolymer [C]]
Hydrogenated block copolymer [D] can be obtained by hydrogenating at least the carbon-carbon unsaturated bond derived from the chain conjugated diene compound of block copolymer [C] described above.
Here, the block copolymer hydride [D] is obtained by selectively hydrogenating only the carbon-carbon unsaturated bonds of the main chain and side chains derived from the chain conjugated diene compound of the block copolymer [C]. It may be a polymer, and the main chain and side chain carbon-carbon unsaturated bonds derived from the chain conjugated diene compound of the block copolymer [C] and the aromatic ring carbon derived from the aromatic vinyl compound- It may be a polymer obtained by hydrogenating a carbon unsaturated bond, or a mixture thereof.

水素化に際して、ブロック共重合体[C]の、構造単位〔b〕(鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位)由来の炭素-炭素不飽和結合の水素化率は、成形体[F]の耐光性及び耐熱劣化性を向上させる観点から、好ましくは、90%以上、より好ましくは95%以上、更に好ましくは98%以上である。
例えば、ブロック共重合体[C]の鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素不飽和結合のみを選択的に水素化する場合、主鎖及び側鎖の炭素-炭素不飽和結合の水素化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上、更に好ましくは98%以上であり、芳香族ビニル化合物に由来する芳香環の炭素-炭素不飽和結合の水素化率は、好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下、更に好ましくは5%以下である。
鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素不飽和結合を水素化することにより、得られるブロック共重合体水素化物[D]はブロック共重合体[C]に比べて耐光性、耐熱劣化性が向上する。そして、鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素不飽和結合の水素化率が90%を下回る場合、成形体[F]の耐光性、耐熱劣化性が劣るおそれがある。また、芳香族ビニル化合物に由来する芳香環の炭素-炭素不飽和結合の水素化率を15%以下に抑制することにより、成形体[F]の耐熱劣化性を維持し易くなる。
Upon hydrogenation, the hydrogenation rate of the carbon-carbon unsaturated bond derived from the structural unit [b] (structural unit derived from the chain conjugated diene compound) of the block copolymer [C] is the light resistance of the molded product [F]. From the viewpoint of improving durability and heat deterioration resistance, it is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and still more preferably 98% or more.
For example, when selectively hydrogenating only the carbon-carbon unsaturated bonds of the main chain and side chains derived from the chain conjugated diene compound of the block copolymer [C], the carbon-carbon unsaturated bonds of the main chain and side chains The hydrogenation rate of the saturated bond is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and still more preferably 98% or more, and the hydrogenation rate of the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring derived from the aromatic vinyl compound is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, still more preferably 5% or less.
The block copolymer hydride [D] obtained by hydrogenating the carbon-carbon unsaturated bonds of the main chain and side chain derived from the chain conjugated diene compound has better light resistance than the block copolymer [C]. and heat deterioration resistance are improved. If the hydrogenation rate of the carbon-carbon unsaturated bonds in the main chain and side chains derived from the chain conjugated diene compound is less than 90%, the molded product [F] may have poor light resistance and heat deterioration resistance. . In addition, by suppressing the hydrogenation rate of the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring derived from the aromatic vinyl compound to 15% or less, it becomes easier to maintain the heat deterioration resistance of the molded product [F].

また例えば、ブロック共重合体[C]の鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素不飽和結合並びに芳香族ビニル化合物に由来する芳香環の炭素-炭素不飽和結合を水素化する場合、水素化率は、全炭素-炭素不飽和結合の90%以上であることが好ましく、95%以上であることがより好ましく、98%以上であることが更に好ましい。水素化率を90%以上にすることにより、成形体[F]は、耐光性及び耐熱劣化性に優れる。また、鎖状共役ジエン化合物に由来する炭素-炭素不飽和結合のみを選択的に水素化したブロック共重合体水素化物[D]を前駆体として得られる変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする成形体[F]に比較して、耐光性及び耐熱劣化性がより優れ、更に熱変形温度も高くなるため特に好ましい。 Further, for example, the carbon-carbon unsaturated bond of the main chain and side chain derived from the chain conjugated diene compound of the block copolymer [C] and the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring derived from the aromatic vinyl compound are hydrogenated. In the case of hydrogenation, the hydrogenation rate of all carbon-carbon unsaturated bonds is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and even more preferably 98% or more. By setting the hydrogenation rate to 90% or more, the molded article [F] is excellent in light resistance and heat deterioration resistance. Further, a modified block copolymer hydride [E] obtained by using as a precursor a block copolymer hydride [D] obtained by selectively hydrogenating only carbon-carbon unsaturated bonds derived from a chain conjugated diene compound, Compared to the molded article [F], which is the main component, it is particularly preferable because it has superior light resistance and heat deterioration resistance and also has a high heat distortion temperature.

ブロック共重合体水素化物[D]の、鎖状共役ジエン化合物に由来する炭素-炭素不飽和結合の水素化率並びに芳香族ビニル化合物に由来する炭素-炭素不飽和結合の水素化率は、例えば、前駆体であるブロック共重合体[C]及びブロック共重合体水素化物[D]のH-NMRを測定することにより、求めることができる。 The hydrogenation rate of the carbon-carbon unsaturated bond derived from the chain conjugated diene compound and the hydrogenation rate of the carbon-carbon unsaturated bond derived from the aromatic vinyl compound of the hydrogenated block copolymer [D] are, for example, , can be determined by measuring 1 H-NMR of the precursor block copolymer [C] and block copolymer hydride [D].

ブロック共重合体[C]中の不飽和結合の水素化方法や反応形態等は特に限定されず、公知の方法に従って行えばよい。
ブロック共重合体[C]の鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素不飽和結合を選択的に水素化する方法としては、例えば、特開2015-78090号公報等に記載された公知の水素化方法が挙げられる。
また、ブロック共重合体[C]の鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素不飽和結合並びに芳香族ビニル化合物に由来する芳香環の炭素-炭素不飽和結合を水素化する方法としては、例えば、国際公開第2011/096389号、国際公開第2012/043708号等に記載された方法が挙げられる。
The method for hydrogenating the unsaturated bond in the block copolymer [C], the reaction mode, and the like are not particularly limited, and the hydrogenation may be carried out according to known methods.
As a method for selectively hydrogenating the carbon-carbon unsaturated bonds of the main chain and side chains derived from the linear conjugated diene compound of the block copolymer [C], for example, see JP-A-2015-78090. Mention may be made of the known hydrogenation methods described.
In addition, the carbon-carbon unsaturated bonds of the main chain and side chains derived from the chain conjugated diene compound of the block copolymer [C] and the carbon-carbon unsaturated bonds of the aromatic ring derived from the aromatic vinyl compound are hydrogenated. Examples of the method include those described in International Publication No. 2011/096389, International Publication No. 2012/043708, and the like.

水素化反応終了後においては、水素化触媒、又は水素化触媒及び重合触媒を反応溶液から除去した後、得られた溶液からブロック共重合体水素化物[D]を回収することができる。
回収されたブロック共重合体水素化物[D]の形態は限定されるものではないが、通常はペレット形状にして、その後のアルコキシシリル基の導入反応に供することができる。
After the completion of the hydrogenation reaction, after removing the hydrogenation catalyst or the hydrogenation catalyst and the polymerization catalyst from the reaction solution, the hydrogenated block copolymer [D] can be recovered from the resulting solution.
The form of the recovered block copolymer hydride [D] is not limited, but it can usually be made into pellets and subjected to the subsequent reaction for introducing alkoxysilyl groups.

ブロック共重合体水素化物[D]の分子量は、成形体[F]に十分な溶融成形性と機械的強度を付与する観点から、THFを溶媒としたGPCにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、好ましくは35,000以上、より好ましくは38,000以上、更に好ましくは40,000以上であり、好ましくは200,000以下、より好ましくは150,000以下、更に好ましくは100,000以下である。
また、ブロック共重合体水素化物[D]の分子量分布(Mw/Mn)は、成形体[F]に十分な溶融成形性と機械的強度を付与する観点から、好ましくは3以下、より好ましくは2以下、更に好ましくは1.7以下である。
The molecular weight of the hydrogenated block copolymer [D] is the polystyrene-equivalent weight-average molecular weight measured by GPC using THF as a solvent, from the viewpoint of imparting sufficient melt moldability and mechanical strength to the molded product [F]. (Mw) is preferably 35,000 or more, more preferably 38,000 or more, still more preferably 40,000 or more, preferably 200,000 or less, more preferably 150,000 or less, still more preferably 100, 000 or less.
Further, the molecular weight distribution (Mw/Mn) of the block copolymer hydride [D] is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, more preferably 1.7 or less.

<<ブロック共重合体水素化物[D]へのアルコキシシリル基の導入>>
上述したブロック共重合体水素化物[D]に、アルコキシシリル基を導入することで、変性ブロック共重合体水素化物[E]を得ることができる。
ブロック共重合体水素化物[D]にアルコキシシリル基を導入することにより、変性ブロック共重合体水素化物[E]にガラスや金属に対する強固な接着性が付与される。
<<Introduction of alkoxysilyl group to block copolymer hydride [D]>>
A modified block copolymer hydride [E] can be obtained by introducing an alkoxysilyl group into the block copolymer hydride [D] described above.
By introducing an alkoxysilyl group into the hydrogenated block copolymer [D], the modified hydrogenated block copolymer [E] is imparted with strong adhesion to glass and metal.

アルコキシシリル基としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等の、トリ(炭素数1~6アルコキシ)シリル基;メチルジメトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、エチルジメトキシシリル基、エチルジエトキシシリル基、プロピルジメトキシシリル基、プロピルジエトキシシリル基等の、(炭素数1~20アルキル)ジ(炭素数1~6アルコキシ)シリル基;フェニルジメトキシシリル基、フェニルジエトキシシリル基等の、(アリール)ジ(炭素数1~6アルコキシ)シリル基;等が挙げられる。また、アルコキシシリル基は、ブロック共重合体水素化物[D]に、炭素数1~20のアルキレン基や、炭素数2~20のアルキレンオキシカルボニルアルキレン基等の2価の有機基を介して結合していても良い。これらの中でも、変性ブロック共重合体水素化物[E]にガラスや金属に対する更に優れた接着性を付与すると共に、成形体[F]と樹脂成形体[G]が一層強固に接着してなる接合体を安定して製造する観点から、トリメトキシシリル基がより好ましい。なお、ブロック共重合体水素化物[D]に導入されるアルコキシシリル基は、1種単独でもよく、複数種であってもよい。 Alkoxysilyl groups include tri(C1-6 alkoxy)silyl groups such as trimethoxysilyl group and triethoxysilyl group; methyldimethoxysilyl group, methyldiethoxysilyl group, ethyldimethoxysilyl group, ethyldiethoxysilyl group; (C1-20 alkyl) di(C1-6 alkoxy)silyl group such as propyldimethoxysilyl group and propyldiethoxysilyl group; phenyldimethoxysilyl group and phenyldiethoxysilyl group (aryl ) di(C1-C6 alkoxy)silyl group; and the like. Further, the alkoxysilyl group is bonded to the hydrogenated block copolymer [D] via a divalent organic group such as an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkyleneoxycarbonylalkylene group having 2 to 20 carbon atoms. It's okay to be Among these, the modified block copolymer hydride [E] is imparted with even better adhesion to glass and metal, and the molded product [F] and the resin molded product [G] are bonded more firmly. A trimethoxysilyl group is more preferable from the viewpoint of stably producing the body. In addition, the alkoxysilyl group introduced into the block copolymer hydride [D] may be of one type alone or of a plurality of types.

ここで、ブロック共重合体水素化物[D]へのアルコキシシリル基の導入量は、ブロック共重合体水素化物[D]100質量部に対し、好ましくは0.1質量部以上、より好ましくは0.2質量部以上、さらに好ましくは0.3質量部以上であり、好ましくは10質量部以下、より好ましくは5質量部以下、さらに好ましくは3質量部以下である。アルコキシシリル基の導入量が多過ぎると、得られる変性ブロック共重合体水素化物[E]を所望の形状に溶融成形する前に微量の水分等で分解されたアルコキシシリル基同士の架橋が進み、ゲル化したり、溶融時の流動性が低下して成形性が低下したりする等のおそれがある。一方、アルコキシシリル基の導入量が少な過ぎると、成形体[F]を樹脂成形体[G]と接着するのに十分な接着力が得られないおそれがある。
なお、変性ブロック共重合体水素化物[E]にアルコキシシリル基が導入されたことは、IRスペクトルで確認することができる。また、その導入量は、H-NMRスペクトルにて算出することができる。
Here, the amount of the alkoxysilyl group introduced into the hydrogenated block copolymer [D] is preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 0, per 100 parts by mass of the hydrogenated block copolymer [D]. .2 parts by mass or more, more preferably 0.3 parts by mass or more, preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, and even more preferably 3 parts by mass or less. If the amount of alkoxysilyl groups introduced is too large, cross-linking between the alkoxysilyl groups decomposed with a trace amount of moisture or the like proceeds before the hydrogenated modified block copolymer [E] obtained is melt-molded into a desired shape. There is a risk of gelation, or a decrease in moldability due to a decrease in fluidity when melted. On the other hand, if the amount of alkoxysilyl groups to be introduced is too small, there is a possibility that sufficient adhesive strength for adhering the molded article [F] to the resin molded article [G] cannot be obtained.
The introduction of alkoxysilyl groups into the hydrogenated modified block copolymer [E] can be confirmed by an IR spectrum. Also, the introduction amount can be calculated from the 1 H-NMR spectrum.

ブロック共重合体水素化物[D]にアルコキシシリル基を導入する方法は、特に限定されない。好ましい方法としては、例えば、ブロック共重合体水素化物[D]に、有機過酸化物の存在下で、エチレン性不飽和シラン化合物を反応(グラフト化反応)させることにより、アルコキシシリル基を導入する方法が挙げられる。 A method for introducing an alkoxysilyl group into the hydrogenated block copolymer [D] is not particularly limited. As a preferred method, for example, an ethylenically unsaturated silane compound is reacted (grafting reaction) with block copolymer hydride [D] in the presence of an organic peroxide to introduce an alkoxysilyl group. method.

用いるエチレン性不飽和シラン化合物としては、ブロック共重合体水素化物[D]とグラフト化反応し、ブロック共重合体水素化物[D]にアルコキシシリル基を導入するものであれば、特に限定されない。例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、等が好適に用いられる。
これらのエチレン性不飽和シラン化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合せて使用してもよい。そして、これらの中でも、変性ブロック共重合体水素化物[E]にガラスや金属に対する更に優れた接着性を付与すると共に、成形体[F]と樹脂成形体[G]が一層強固に接着してなる接合体を安定して製造する観点から、ビニルトリメトキシシランが特に好ましい。
The ethylenically unsaturated silane compound to be used is not particularly limited as long as it undergoes a grafting reaction with the hydrogenated block copolymer [D] and introduces an alkoxysilyl group into the hydrogenated block copolymer [D]. For example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, dimethoxymethylvinylsilane, diethoxymethylvinylsilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxysilane, Roxypropyltriethoxysilane, 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-Methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-Acryloxypropyltrimethoxysilane Silane, etc. are preferably used.
These ethylenically unsaturated silane compounds may be used alone or in combination of two or more. Among these, the modified block copolymer hydride [E] is imparted with even better adhesion to glass and metal, and the molded product [F] and the resin molded product [G] are more strongly bonded. Vinyltrimethoxysilane is particularly preferred from the viewpoint of stably producing a joined body.

グラフト化反応に使用する有機過酸化物としては、1分間半減期温度が100℃以上190℃以下のものが好ましく使用される。
有機過酸化物としては、例えば、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ブチルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、1,1-ジ(t-ブチルパーオキシ)-2-メチルシクロヘキサン、t-ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ-t-ヘキシルパーオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ-t-ブチルパーオキシド、ジ(2-t-ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン等が好適に用いられる。
これらの有機過酸化物は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
As the organic peroxide used in the grafting reaction, one having a 1-minute half-life temperature of 100° C. or higher and 190° C. or lower is preferably used.
Examples of organic peroxides include t-butyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxypivalate, t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate, 1,1-di(t-butyl per oxy)-2-methylcyclohexane, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane, di- t-Butyl peroxide, di(2-t-butylperoxyisopropyl)benzene and the like are preferably used.
These organic peroxides may be used alone or in combination of two or more.

ブロック共重合体水素化物[D]とエチレン性不飽和シラン化合物とを、有機過酸化物の存在下で反応させる方法は、特に限定されない。例えば、ブロック共重合体水素化物[D]、エチレン性不飽和シラン化合物及び過酸化物からなる混合物を、二軸混練機にて溶融状態で所望の時間混練することにより、ブロック共重合体水素化物[D]にアルコキシシリル基を容易に導入することができる。二軸混練機による混練温度は、好ましくは180℃以上、より好ましくは185℃以上、更に好ましくは190℃以上であり、好ましくは220℃以下、より好ましくは210℃以下、更に好ましくは200℃以下である。加熱混練時間は、好ましくは0.1分以上10分以下、好ましくは0.2分以上5分以下、より好ましくは0.3分以上2分以下である。加熱混練温度、加熱混練時間(滞留時間)が上記範囲になるようにして、連続的に混練、押出しをすることにより、目的とする変性ブロック共重合体水素化物[E]を効率よく製造することができる。
得られた変性ブロック共重合体水素化物[E]の形態は限定されるものではないが、通常はペレット形状にして、その後の成形加工や添加剤などのその他の成分の配合に供することができる。
The method of reacting the block copolymer hydride [D] and the ethylenically unsaturated silane compound in the presence of an organic peroxide is not particularly limited. For example, a block copolymer hydride [D], an ethylenically unsaturated silane compound and a peroxide mixture are kneaded in a molten state for a desired time in a twin-screw kneader to obtain a block copolymer hydride. An alkoxysilyl group can be easily introduced into [D]. The kneading temperature by the twin-screw kneader is preferably 180° C. or higher, more preferably 185° C. or higher, still more preferably 190° C. or higher, and preferably 220° C. or lower, more preferably 210° C. or lower, and still more preferably 200° C. or lower. is. The heat-kneading time is preferably 0.1 minutes or more and 10 minutes or less, preferably 0.2 minutes or more and 5 minutes or less, more preferably 0.3 minutes or more and 2 minutes or less. The target hydrogenated modified block copolymer [E] is efficiently produced by continuously kneading and extruding the mixture so that the heat-kneading temperature and the heat-kneading time (residence time) are within the above ranges. can be done.
Although the form of the resulting hydrogenated modified block copolymer [E] is not limited, it can usually be made into a pellet shape and used for subsequent molding and blending of other components such as additives. .

変性ブロック共重合体水素化物[E]の分子量は、導入されるアルコキシシリル基の量が少ないため、原料として用いたブロック共重合体水素化物[D]の分子量と大きくは変わらない。ただし、有機過酸化物の存在下で、エチレン性不飽和シラン化合物と反応させるため、重合体の架橋反応、切断反応が併発し、変性ブロック共重合体水素化物[E]の分子量分布の値は大きくなる傾向にある。 The molecular weight of the modified block copolymer hydride [E] does not differ greatly from the molecular weight of the block copolymer hydride [D] used as a starting material, since the amount of alkoxysilyl groups to be introduced is small. However, since the polymer is reacted with an ethylenically unsaturated silane compound in the presence of an organic peroxide, cross-linking reaction and cleavage reaction of the polymer occur simultaneously, and the value of the molecular weight distribution of the modified block copolymer hydride [E] is tend to be large.

変性ブロック共重合体水素化物[E]の分子量は、成形体[F]の耐熱性及び機械的強度を向上させる観点から、THFを溶媒としたGPCにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、好ましくは35,000以上、より好ましくは38,000以上、更に好ましくは40,000以上であり、好ましくは200,000以下、より好ましくは150,000以下、更に好ましくは100,000以下である。
また、分子量分布(Mw/Mn)は、成形体[F]の耐熱性及び機械的強度を向上させる観点から、好ましくは3.5以下、より好ましくは2.5以下、更に好ましくは2.0以下である。
The molecular weight of the hydrogenated modified block copolymer [E] is the weight average molecular weight (Mw ), preferably 35,000 or more, more preferably 38,000 or more, still more preferably 40,000 or more, preferably 200,000 or less, more preferably 150,000 or less, still more preferably 100,000 or less is.
In addition, the molecular weight distribution (Mw/Mn) is preferably 3.5 or less, more preferably 2.5 or less, and still more preferably 2.0 from the viewpoint of improving the heat resistance and mechanical strength of the molded product [F]. It is below.

<成形体[F]の製造方法>
成形体[F]は、主成分である変性ブロック共重合体水素化物[E]、及び、必要に応じて各種の添加剤や充填剤などのその他の成分を含有する樹脂組成物[f]を成形することにより得ることができる。
<Method for producing compact [F]>
Molded article [F] is a resin composition [f] containing hydrogenated modified block copolymer [E], which is a main component, and other components such as various additives and fillers as necessary. It can be obtained by molding.

<<変性ブロック共重合体水素化物[E]>>
樹脂組成物[f]における変性ブロック共重合体水素化物[E]の含有量は、樹脂組成物[f]を100質量%として、通常70質量%以上、好ましくは80質量%以上、より好ましくは90質量%以上である。
<<modified block copolymer hydride [E]>>
The content of the hydrogenated modified block copolymer [E] in the resin composition [f] is usually 70% by mass or more, preferably 80% by mass or more, more preferably 100% by mass of the resin composition [f]. It is 90% by mass or more.

<<その他の成分>>
〔添加剤〕
添加剤としては、粘着性付与剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、ブロッキング防止剤、光安定剤等が挙げられる。これらは、1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
<<Other Ingredients>>
〔Additive〕
Additives include tackifiers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antioxidants, antiblocking agents, light stabilizers, and the like. These can be used singly or in combination of two or more.

〔〔粘着性付与剤〕〕
粘着性付与剤の具体例としては、ポリイソブチレン、ポリブテン、ポリ-1-オクテン、エチレン・α-オレフィン共重合体等の低分子量体及びその水素化物;ポリイソプレン、ポリイソプレン-ブタジエン共重合体等の低分子量体及びその水素化物等が挙げられる。粘着性付与剤は、1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、特に透明性、耐光性を維持し、より低温での粘着性付与の効果に優れている点で、低分子量(数平均分子量が通常300以上5,000以下)のポリイソブチレン水素化物、低分子量(数平均分子量が通常300以上5,000以下)のポリイソプレン水素化物が好ましい。
[[Tackifier]]
Specific examples of tackifiers include low-molecular-weight compounds such as polyisobutylene, polybutene, poly-1-octene, ethylene/α-olefin copolymers, and hydrides thereof; polyisoprene, polyisoprene-butadiene copolymers, etc. and hydrides thereof. The tackifier can be used singly or in combination of two or more. Among these, polyisobutylene hydride having a low molecular weight (the number average molecular weight is usually 300 or more and 5,000 or less) in that it maintains transparency and light resistance and is excellent in the effect of imparting tackiness at lower temperatures. Polyisoprene hydride having a low molecular weight (generally having a number average molecular weight of 300 or more and 5,000 or less) is preferred.

〔〔紫外線吸収剤〕〕
紫外線吸収剤としては、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤は、1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
[[Ultraviolet absorber]]
Examples of ultraviolet absorbers include oxybenzophenone-based compounds, benzotriazole-based compounds, salicylic acid ester-based compounds, benzophenone-based compounds, and triazine-based compounds. Ultraviolet absorbers can be used singly or in combination of two or more.

〔〔赤外線吸収剤〕〕
赤外線吸収剤としては、金属酸化物微粒子、近赤外線吸収色素等が挙げられる。
金属酸化物微粒子としては、酸化錫、アルミニウムドープ酸化錫、インジウムドープ酸化錫、アンチモンドープ酸化錫等の錫酸化物の微粒子;酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、錫ドープ酸化亜鉛、珪素ドープ酸化亜鉛等の亜鉛酸化物の微粒子;酸化チタン、ニオブドープ酸化チタン等のチタン酸化物の微粒子;酸化タングステン、ナトリウムドープ酸化タングステン、セシウムドープ酸化タングステン、タリウムドープ酸化タングステン、ルビジウムドープ酸化タングステン等のタングステン酸化物の微粒子;酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム等のインジウム酸化物の微粒子;等が挙げられる。
近赤外線吸収色素としては、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、イモニウム化合物、ジイモニウム化合物、ポリメチン化合物、ジフェニルメタン化合物、アントラキノン化合物、ペンタジエン化合物、アゾメチン化合物、6ホウ化ランタン等が挙げられる。
赤外線吸収剤は、1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
[[Infrared absorbing agent]]
Infrared absorbing agents include metal oxide fine particles, near-infrared absorbing dyes, and the like.
Metal oxide fine particles include fine particles of tin oxide such as tin oxide, aluminum-doped tin oxide, indium-doped tin oxide, and antimony-doped tin oxide; zinc oxide, aluminum-doped zinc oxide, indium-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, fine particles of zinc oxide such as tin-doped zinc oxide and silicon-doped zinc oxide; fine particles of titanium oxide such as titanium oxide and niobium-doped titanium oxide; tungsten oxide, sodium-doped tungsten oxide, cesium-doped tungsten oxide, thallium-doped tungsten oxide, rubidium fine particles of tungsten oxide such as doped tungsten oxide; fine particles of indium oxide such as indium oxide and tin-doped indium oxide;
Examples of near-infrared absorbing dyes include phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, imonium compounds, diimonium compounds, polymethine compounds, diphenylmethane compounds, anthraquinone compounds, pentadiene compounds, azomethine compounds, lanthanum hexaboride, and the like.
The infrared absorbers can be used singly or in combination of two or more.

〔〔酸化防止剤〕〕
酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。酸化防止剤は、1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
〔〔Antioxidant〕〕
Antioxidants include phosphorus antioxidants, phenolic antioxidants, sulfur antioxidants, and the like. Antioxidants can be used singly or in combination of two or more.

〔〔ブロッキング防止剤〕〕
ブロッキング防止剤としては、エチレンビスステアリン酸アマイド、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸バリウム、ラウリン酸カルシウム、ラウリン酸亜鉛、ラウリン酸バリウム、ミリスチン酸亜鉛、リシノール酸カルシウム、リシノール酸亜鉛、リシノール酸バリウム、ベヘン酸亜鉛、モンタン酸ナトリウム、12-ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、12-ヒドロキシステアリン酸カルシウム、12-ヒドロキシステアリン酸亜鉛等が挙げられる。ブロッキング防止剤は、1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
[[Anti-blocking agent]]
Antiblocking agents include ethylene bisstearate amide, lithium stearate, sodium stearate, potassium stearate, magnesium stearate, calcium stearate, aluminum stearate, zinc stearate, barium stearate, calcium laurate, zinc laurate, barium laurate, zinc myristate, calcium ricinoleate, zinc ricinoleate, barium ricinoleate, zinc behenate, sodium montanate, magnesium 12-hydroxystearate, calcium 12-hydroxystearate, zinc 12-hydroxystearate, etc. be done. An antiblocking agent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

〔〔光安定剤〕〕
光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤等が使用できる。光安定剤は、1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
[[Light stabilizer]]
As the light stabilizer, a hindered amine light stabilizer or the like can be used. A light stabilizer can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

〔〔添加量〕〕
粘着性付与剤の添加量は、変性ブロック共重合体水素化物[E]100質量部に対し、好ましくは40質量部以下、より好ましくは30質量部以下である。添加量は要求される粘着性に応じて適宜選定できる。
紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、ブロッキング防止剤、光安定剤等の添加量は、これらの添加剤の合計が、変性ブロック共重合体水素化物[E]100質量部に対し、好ましくは0.001質量部以上、より好ましくは0.01質量部以上、更に好ましくは0.05質量部以上であり、好ましくは5質量部以下、より好ましくは4質量部以下、更に好ましくは3質量部以下である。
[[Addition amount]]
The amount of the tackifier to be added is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the hydrogenated modified block copolymer [E]. The amount to be added can be appropriately selected according to the required adhesiveness.
Addition amounts of ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antioxidants, antiblocking agents, light stabilizers, etc. are preferably such that the total of these additives is based on 100 parts by mass of the modified block copolymer hydride [E]. is 0.001 parts by mass or more, more preferably 0.01 parts by mass or more, still more preferably 0.05 parts by mass or more, preferably 5 parts by mass or less, more preferably 4 parts by mass or less, still more preferably 3 parts by mass It is below the department.

〔充填剤〕
充填剤としては、機械的強度を向上させるための有機繊維、無機繊維及び無機層状化合物;意匠性を付与するための顔料、色素及び中空粒子;導電性を付与するための金属繊維、炭素繊維及びカーボンナノチューブ;等が挙げられる。充填剤は、1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
〔filler〕
Fillers include organic fibers, inorganic fibers and inorganic layered compounds for improving mechanical strength; pigments, dyes and hollow particles for imparting design; metal fibers, carbon fibers and carbon nanotubes; and the like. A filler can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

〔その他の成分の配合方法〕
変性ブロック共重合体水素化物[E]に、上述した添加剤や充填剤などのその他の成分を配合する方法としては、一般に用いられる公知の方法が適用できる。
例えば、変性ブロック共重合体水素化物[E]のペレット及びその他の成分を、タンブラー、リボンブレンダー、ヘンシェルタイプミキサー等の混合機を使用して均等に混合した後、二軸押出し機等の連続式溶融混練機により溶融混合し、押出してペレット状にする方法や、変性ブロック共重合体水素化物[E]を、サイドフィーダーを備えた二軸押出し機により、サイドフィーダーから配合剤を連続的に添加しながら、溶融混練して押出し、ペレット状にする方法等によって、その他の成分が均一に分散された、成形体[F]製造用の樹脂組成物(f)を製造することができる。
[Method of blending other ingredients]
As a method for blending the modified block copolymer hydride [E] with other components such as the above-described additives and fillers, a generally used known method can be applied.
For example, pellets of the modified block copolymer hydride [E] and other components are uniformly mixed using a mixer such as a tumbler, ribbon blender, and Henschel type mixer, and then a continuous type such as a twin-screw extruder. A method of melting and mixing with a melt kneader and extruding into pellets, or a method of continuously adding compounding agents from a side feeder to a hydrogenated modified block copolymer [E] using a twin-screw extruder equipped with a side feeder. On the other hand, a resin composition (f) for producing a molded article [F] in which other components are uniformly dispersed can be produced by a method such as melt-kneading, extruding, and pelletizing.

<<成形体[F]の製造方法>>
樹脂組成物(f)を成形して成形体[F]を製造する方法としては、特に限定されず、溶融押出し成形法、インフレーション成形法、カレンダー成形法、射出成型法、等の公知の成形方法が適用できる。なかでも、成形体[F]の形状がシート状である場合、成形体[F]の成形方法としては溶融押出し成形法が好ましく、比較的経済的で高品質な製品を得られる点で、Tダイからキャストロール面に押し出す方法が好ましく用いられる。
<<Method for producing compact [F]>>
The method for producing the molded article [F] by molding the resin composition (f) is not particularly limited, and known molding methods such as a melt extrusion molding method, an inflation molding method, a calendar molding method, an injection molding method, and the like can be used. is applicable. Among them, when the molded article [F] has a sheet-like shape, a melt extrusion molding method is preferable as a method for molding the molded article [F], and T A method of extruding from a die onto a cast roll surface is preferably used.

溶融押出し成形法により、シート状の成形体[F]を成形する場合は、樹脂温度は、好ましくは170℃以上250℃以下、より好ましくは180℃以上240℃以下、更に好ましくは190℃以上230℃以下の温度範囲で適宜選択される。
樹脂温度が低過ぎる場合は、流動性が悪化し、得られるシート状の成形体[F]にゆず肌やダイライン等の不良を生じ易く、また、シート状の成形体[F]の押出し速度が上げられず、工業的に不利となるおそれがある。樹脂温度が高過ぎる場合は、シート状の成形体[F]のガラスおよび金属ヘの接着性が不良となったり、シート状の成形体[F]の貯蔵安定性が低下して、常温常湿環境下で長期間貯蔵した後のガラスおよび金属に対する接着性が低下したりするおそれがある。
When the sheet-shaped molding [F] is formed by a melt extrusion molding method, the resin temperature is preferably 170° C. or higher and 250° C. or lower, more preferably 180° C. or higher and 240° C. or lower, still more preferably 190° C. or higher and 230° C. C. or lower temperature range is selected as appropriate.
If the resin temperature is too low, the flowability deteriorates, and defects such as citrus peel and die lines are likely to occur in the obtained sheet-shaped molded body [F], and the extrusion speed of the sheet-shaped molded body [F] is reduced. It cannot be increased, and there is a possibility that it will be industrially disadvantageous. If the resin temperature is too high, the adhesion of the sheet-shaped molded product [F] to glass and metal may be poor, or the storage stability of the sheet-shaped molded product [F] may be deteriorated. Adhesion to glass and metal may deteriorate after long-term storage in the environment.

<<成形体[F]の性状>>
シート状の成形体[F]の表面は、平面状やエンボス加工を施した形状等とすることができる。また、シート状の成形体[F]同士のブロッキングを防止するために、シート状の成形体[F]の片面に、離型フィルムを重ねて保管することもできる。
<<Properties of compact [F]>>
The surface of the sheet-like molding [F] can be planar or embossed. In addition, in order to prevent blocking between the sheet-shaped moldings [F], a release film may be layered on one side of the sheet-shaped moldings [F] for storage.

シート状の成形体[F]の厚みは、特に制限されないが、好ましくは0.02mm以上、より好ましくは0.05mm以上、更に好ましくは0.1mm以上であり、好ましくは10mm以下、より好ましくは5mm以下、更に好ましくは3mm以下である。
シート状の成形体[F]の厚みが上記範囲にあれば、例えば、ガラス板とシート状の樹脂成形体[G]の間に配置して接着剤として使用し、樹脂シートにより耐貫通性を強化した合わせガラス等として好適に使用できる。
シート状の成形体[F]の厚みは均一であっても不均一であっても良い。また、シート状の成形体[F]は、凹凸パターン、エンボス形状、段差、溝形状、貫通孔等の不均一構造を有するものであっても良い。
The thickness of the sheet-shaped molding [F] is not particularly limited, but is preferably 0.02 mm or more, more preferably 0.05 mm or more, still more preferably 0.1 mm or more, and preferably 10 mm or less, more preferably 5 mm or less, more preferably 3 mm or less.
If the thickness of the sheet-shaped molded body [F] is within the above range, for example, it is placed between the glass plate and the sheet-shaped resin molded body [G] and used as an adhesive, and the resin sheet improves penetration resistance. It can be suitably used as tempered laminated glass or the like.
The thickness of the sheet-shaped molding [F] may be uniform or non-uniform. Moreover, the sheet-like molded body [F] may have uneven structures such as uneven patterns, embossed shapes, steps, groove shapes, and through-holes.

(樹脂成形体[G])
樹脂成形体[G]は、上述した変性ブロック共重合体水素化物[E]以外の樹脂材料を主成分とする。
そして、樹脂成形体[G]は、樹脂材料(熱可塑性樹脂および/または熱硬化性樹脂など)を含み、任意に各種添加剤や充填剤等を含む樹脂組成物を成形して得られる。樹脂成形体[G]は、厚さが均等なシート状の成形体であっても各部位の厚さが不均等な成形体であってもよい。
なお、樹脂成形体[G]がポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等の熱可塑性樹脂からなるフィルムの場合は、本発明の製造方法で得られる接合体[H]を合わせガラスの中間膜等に使用することにより、合わせガラスの耐貫通性を向上させる等の効果が期待できる。
(Resin molding [G])
The resin molding [G] is mainly composed of a resin material other than the hydrogenated modified block copolymer [E] described above.
The resin molding [G] contains a resin material (thermoplastic resin and/or thermosetting resin, etc.), and is obtained by molding a resin composition that optionally contains various additives, fillers, and the like. The resin molded product [G] may be a sheet-like molded product with uniform thickness or a molded product with uneven thickness at each part.
When the resin molded product [G] is a film made of a thermoplastic resin such as polycarbonate or polyethylene terephthalate, the bonded product [H] obtained by the production method of the present invention can be used as an interlayer film for laminated glass. , effects such as improving the penetration resistance of the laminated glass can be expected.

本発明の製造方法で使用する樹脂成形体[G]は、透明であっても不透明であってもよいが、透明性を有するものが特に好ましい。
例えば、本発明の製造方法により得られる接合体[H]が合わせガラス等の光透過性や透明性を要求されるような用途で使用される場合、透明性を有するシート状の樹脂成形体[G]を使用することで、成形体[F]と接合することにより透明性が良好な接合体[H]を得ることができる。
The resin molded article [G] used in the production method of the present invention may be transparent or opaque, but a transparent one is particularly preferred.
For example, when the joined body [H] obtained by the production method of the present invention is used in applications requiring light transmittance and transparency, such as laminated glass, a transparent sheet-like resin molded body [H] G] can be used to obtain a joined product [H] with good transparency by joining with the molded product [F].

<樹脂材料>
ここで、樹脂成形体[G]の主成分である樹脂材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の何れも用いることができる。
熱可塑性樹脂としては、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ-1-ブテン、ポリ-4-メチルペンテン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・1-ブテン共重合体、エチレン・4-メチルペンテン共重合体、エチレン・1-オクテン共重合体、エチレン・1-ブテン・1-オクテン共重合体、エチレン・プロピレン・ジシクロペンタジエン共重合体、エチレン・プロピレン・5-エチリデン-2-ノルボルネン共重合体、エチレン・プロピレン・5-ビニル-2-ノルボルネン共重合体、エチレン・1-ブテン・ジシクロペンタジエン共重合体、エチレン・1-ブテン・5-エチリデン-2-ノルボルネン共重合体、エチレン・1-ブテン・ビニルノルボルネン共重合体等のポリオレフィン系樹脂;
エチレン・ノルボルネン共重合体、エチレン・テトラシクロドデセン共重合体、ノルボルネン誘導体の開環メタセシス重合体水素化物、シクロヘキサジエン重合体等のシクロオレフィンポリマー;
エチレン・メタクリル酸メチル共重合体、エチレン・メタクリル酸エチル共重合体、エチレン・アクリル酸メチル共重合体、エチレン・アクリル酸エチル共重合体等のエチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体に例示されるオレフィン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体;
エチレン・不飽和カルボン酸ランダム共重合体を金属化合物と反応させて得られたアイオノマー樹脂;
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂;
ビスフェノールA、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、ビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フェニルエタン、2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2-ビス(3-フェニル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(3-イソプロピル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3’-ジメチル-4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’-ジヒドロキシジフェニルオキシド、9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン等のビスフェノール類と塩化カルボニル等のカルボニル化合物との反応で得られるポリカーボネート樹脂;
ポリスチレン、スチレン・メタクリル酸メチル共重合体、スチレン・アクリロニトリル共重合体等のスチレン系樹脂;
ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル・メタクリル酸グリシジル共重合体、メタクリル酸メチル・メタクリル酸トリシクロデシル共重合体等の(メタ)アクリル酸エステル(共)重合体;
エチレン・酢酸ビニル共重合体;
ポリ塩化ビニル(塩化ビニル樹脂)、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、エチレン・テトラフルオロエチレン共重合体等の含ハロゲン系樹脂;
ポリウレタン系樹脂;
ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂等の芳香族系樹脂;
ナイロン6、ナイロン66、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6T等のポリアミド系樹脂;等が挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、
エポキシ樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂;等が挙げられる。
これらの樹脂材料は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、例えば、ガラス板と積層して使用する場合は、優れた透明性、機械的強度等の観点から、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、(メタ)アクリル酸エステル(共)重合体がより好ましい。
なお、本発明において、「(メタ)アクリル」は、アクリルおよび/またはメタクリルを意味し、「(共)重合体」は、単独重合体および/または共重合体を意味する。
<Resin material>
Here, as the resin material which is the main component of the resin molding [G], either a thermoplastic resin or a thermosetting resin can be used.
As a thermoplastic resin,
Polyethylene, polypropylene, poly-1-butene, poly-4-methylpentene, ethylene/propylene copolymer, ethylene/1-butene copolymer, ethylene/4-methylpentene copolymer, ethylene/1-octene copolymer coalescence, ethylene/1-butene/1-octene copolymer, ethylene/propylene/dicyclopentadiene copolymer, ethylene/propylene/5-ethylidene-2-norbornene copolymer, ethylene/propylene/5-vinyl-2 - Polyolefins such as norbornene copolymers, ethylene/1-butene/dicyclopentadiene copolymers, ethylene/1-butene/5-ethylidene-2-norbornene copolymers, and ethylene/1-butene/vinylnorbornene copolymers system resin;
Cycloolefin polymers such as ethylene/norbornene copolymers, ethylene/tetracyclododecene copolymers, ring-opening metathesis polymer hydrides of norbornene derivatives, and cyclohexadiene polymers;
Ethylene/(meth)acrylic acid ester copolymers such as ethylene/methyl methacrylate copolymer, ethylene/ethyl methacrylate copolymer, ethylene/methyl acrylate copolymer, and ethylene/ethyl acrylate copolymer are exemplified. olefin-(meth)acrylic acid ester copolymer;
an ionomer resin obtained by reacting an ethylene/unsaturated carboxylic acid random copolymer with a metal compound;
Polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate;
Bisphenol A, 4,4'-dihydroxybiphenyl, bis(4-hydroxyphenyl)methane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)phenylethane, 2,2 -bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)propane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 2,2-bis(3-phenyl-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis( 3-isopropyl-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)butane, 2,2-bis(3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3 ,5-dibromo-4-hydroxyphenyl)propane, 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfoxide, 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide, 3,3′-dimethyl-4,4′ -Polycarbonate resins obtained by reacting bisphenols such as dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl oxide and 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene with carbonyl compounds such as carbonyl chloride;
Styrenic resins such as polystyrene, styrene/methyl methacrylate copolymer, and styrene/acrylonitrile copolymer;
(meth)acrylic ester (co)polymers such as polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, methyl methacrylate/glycidyl methacrylate copolymer, and methyl methacrylate/tricyclodecyl methacrylate copolymer;
ethylene-vinyl acetate copolymer;
Halogen-containing resins such as polyvinyl chloride (vinyl chloride resin), polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, and ethylene/tetrafluoroethylene copolymer;
polyurethane resin;
Aromatic resins such as polyetheretherketone resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyarylate resins, polyimide resins, and polyetherimide resins;
polyamide-based resins such as nylon 6, nylon 66, nylon 11, nylon 12, and nylon 6T;
As a thermosetting resin,
epoxy resin, urea resin, melamine resin, phenol resin, unsaturated polyester resin;
These resin materials can be used singly or in combination of two or more.
Among these, polycarbonate resins, polyester resins, and (meth)acrylic acid ester (co)polymers are more preferable from the viewpoint of excellent transparency, mechanical strength, etc., when used by being laminated with a glass plate, for example. .
In the present invention, "(meth)acryl" means acryl and/or methacryl, and "(co)polymer" means homopolymer and/or copolymer.

樹脂成形体[G]が、熱可塑性樹脂を主成分とする場合、樹脂成形体[G]中における熱可塑性樹脂の含有量は、樹脂成形体[G]を100質量%として、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上、更に好ましくは90質量%以上である。
樹脂成形体[G]が、熱硬化性樹脂を含む場合、樹脂成形体[G]中における熱硬化性樹脂の含有量は、樹脂成形体[G]を100質量%として、好ましくは15質量%以上、より好ましくは20質量%以上、更に好ましくは30質量%以上である。
When the resin molded product [G] contains a thermoplastic resin as a main component, the content of the thermoplastic resin in the resin molded product [G] is preferably 70 mass% when the resin molded product [G] is taken as 100% by mass. % or more, more preferably 80 mass % or more, and still more preferably 90 mass % or more.
When the resin molded body [G] contains a thermosetting resin, the content of the thermosetting resin in the resin molded body [G] is preferably 15% by mass when the resin molded body [G] is taken as 100% by mass. Above, more preferably 20% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more.

<その他の成分>
樹脂成形体[G]に含まれる添加剤としては、特に限定されないが、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤等が挙げられる。これらの具体例としては、「成形体[F]」の項で上述したものと同様のものが挙げられる。
<Other ingredients>
Additives contained in the resin molding [G] are not particularly limited, but may include antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, and the like. Specific examples thereof include those similar to those described above in the section of "Molded article [F]".

<樹脂成形体[G]の製造方法>
樹脂組成物を成形して樹脂成形体[G]を得る成形方法は、特に限定されず、溶融押出し成形法、インフレーション成形法、カレンダー成形法、射出成形法等の公知の成形方法が挙げられる。
<Method for producing resin molding [G]>
The molding method for molding the resin composition to obtain the resin molding [G] is not particularly limited, and examples thereof include known molding methods such as melt extrusion molding, inflation molding, calendar molding, and injection molding.

<樹脂成形体[G]の性状>
樹脂成形体[G]の厚さは、特に制限されない。樹脂成形体[G]が、厚さが略均等なシート状の成形体の場合は、厚さは、好ましくは0.02mm以上、より好ましくは0.05mm以上、更に好ましくは0.1mm以上であり、好ましくは20mm以下、より好ましくは15mm以下、更に好ましくは10mm以下である。シート状の樹脂成形体[G]の厚さは均一であっても不均一であってもよい。また、樹脂成形体[G]は、凹凸パターン、エンボス形状、段差、溝形状、貫通孔等の不均一構造を有するものであっても良い。
シート状の樹脂成形体[G]の厚さが上記範囲にあれば、例えば、シート状の成形体[F]を使用してガラス板と樹脂成形体[G]を接着して合わせガラスを製造した場合に、合わせガラスの耐貫通性や耐衝撃性を十分に高めることができる。
<Properties of Resin Mold [G]>
The thickness of the resin molding [G] is not particularly limited. When the resin molding [G] is a sheet-like molding having a substantially uniform thickness, the thickness is preferably 0.02 mm or more, more preferably 0.05 mm or more, and still more preferably 0.1 mm or more. Yes, preferably 20 mm or less, more preferably 15 mm or less, still more preferably 10 mm or less. The thickness of the sheet-shaped resin molding [G] may be uniform or non-uniform. Moreover, the resin molding [G] may have uneven structures such as uneven patterns, embossed shapes, steps, groove shapes, and through holes.
If the thickness of the sheet-shaped resin molded body [G] is within the above range, for example, the sheet-shaped molded body [F] is used to bond the glass plate and the resin molded body [G] to manufacture laminated glass. In this case, the penetration resistance and impact resistance of the laminated glass can be sufficiently enhanced.

(工程1)
本発明の接合体の製造方法は、上述した成形体[F]と、上述した樹脂成形体[G]を接着(加熱圧着)する前に、樹脂成形体[G]の表面の少なくとも一部に、所定の表面処理を施す工程を必須とする。
具体的には、工程1は、樹脂成形体[G]の表面の少なくとも一部に対して、珪素化合物の存在下で、プラズマ照射、紫外線照射、コロナ放電及び火炎吹き付けからなる群から選ばれる少なくとも一つの表面加工を行う処理(i)、並びに/又は、樹脂成形体[G]の表面の少なくとも一部に対して、プラズマ照射、紫外線照射、コロナ放電及び火炎吹き付けからなる群から選ばれる少なくとも一つの表面加工を行った後に、当該表面を珪素化合物と接触させる処理(ii)、の少なくとも一つの処理を実施する工程である。
(Step 1)
In the method for producing a bonded body of the present invention, before bonding (heating and pressing) the molded body [F] described above and the resin molded body [G] described above, a , the step of applying a predetermined surface treatment is essential.
Specifically, in step 1, at least part of the surface of the resin molding [G] is exposed to at least one selected from the group consisting of plasma irradiation, ultraviolet irradiation, corona discharge and flame spraying in the presence of a silicon compound. Treatment (i) for performing one surface treatment and/or at least one selected from the group consisting of plasma irradiation, ultraviolet irradiation, corona discharge and flame spraying to at least part of the surface of the resin molded body [G] It is a step of performing at least one treatment of the treatment (ii) of contacting the surface with a silicon compound after performing one surface treatment.

<プラズマ照射>
プラズマ照射としては、大気圧下でプラズマ照射を行う常圧プラズマ照射、減圧下でプラズマ照射を行う減圧プラズマ照射が挙げられ、より簡便に均一に照射を行う観点から、常圧プラズマ照射が好ましい。
常圧プラズマ照射は、大気圧下、水素、ヘリウム、窒素、酸素、アルゴンから選択される少なくとも1種のガス雰囲気下で行うことが好ましく、大気圧下、窒素と乾燥空気又は窒素と酸素との混合ガス雰囲気下で行うことがさらに好ましい。
常圧プラズマ照射において、プラズマ照射の出力は0.1kW以上2kW以下であることが好ましい。プラズマ照射の照射速度は1cm/分以上100cm/分以下が好ましい。プラズマ発生源と樹脂成形体[G]との距離は1mm以上20mm以下が好ましい。
<Plasma irradiation>
Examples of plasma irradiation include normal pressure plasma irradiation in which plasma irradiation is performed under atmospheric pressure, and low pressure plasma irradiation in which plasma irradiation is performed under reduced pressure. From the viewpoint of performing plasma irradiation more simply and uniformly, normal pressure plasma irradiation is preferable.
Atmospheric pressure plasma irradiation is preferably performed under atmospheric pressure in an atmosphere of at least one gas selected from hydrogen, helium, nitrogen, oxygen, and argon. Under atmospheric pressure, nitrogen and dry air or nitrogen and oxygen It is more preferable to carry out in a mixed gas atmosphere.
In normal pressure plasma irradiation, the output of plasma irradiation is preferably 0.1 kW or more and 2 kW or less. The irradiation rate of plasma irradiation is preferably 1 cm/min or more and 100 cm/min or less. The distance between the plasma generation source and the resin molding [G] is preferably 1 mm or more and 20 mm or less.

プラズマ照射を減圧下で行うときは、0.001kPa以上10kPa以下(絶対圧)の低圧ガス(アルゴン、酸素、窒素、又はこれらの混合ガス等)を用いてプラズマ照射を行うことが好ましい。
低圧ガスとしては、窒素と酸素との混合ガスを用いることが特に好ましい。窒素と酸素との混合比は体積比で10:1~1:10であることが好ましい。減圧プラズマ照射において、プラズマ照射の出力は好ましくは50W以上500W以下である。
When plasma irradiation is performed under reduced pressure, plasma irradiation is preferably performed using a low-pressure gas (eg, argon, oxygen, nitrogen, or a mixed gas thereof) of 0.001 kPa to 10 kPa (absolute pressure).
It is particularly preferable to use a mixed gas of nitrogen and oxygen as the low-pressure gas. The mixing ratio of nitrogen and oxygen is preferably 10:1 to 1:10 by volume. In the low-pressure plasma irradiation, the output of plasma irradiation is preferably 50 W or more and 500 W or less.

<コロナ放電>
コロナ放電は、乾燥空気雰囲気下で行うことが好ましい。
コロナ放電の出力は好ましくは50W以上1000W以下、放電電量は好ましくは20W・分/m以上550W・分/m以下である。電極と樹脂成形体[G]との距離は1mm以上20mm以下が好ましい。
<Corona discharge>
Corona discharge is preferably performed in a dry air atmosphere.
The corona discharge output is preferably 50 W or more and 1000 W or less, and the discharge power is preferably 20 W·min/m 2 or more and 550 W·min/m 2 or less. The distance between the electrode and the resin molding [G] is preferably 1 mm or more and 20 mm or less.

<紫外線照射>
紫外線照射は、窒素と乾燥空気又は酸素との混合ガスを流しながらエキシマ紫外線ランプを用いてエキシマ紫外線照射することが好ましい。該混合ガスの酸素濃度は、好ましくは0.01体積%以上15体積%以下、より好ましくは0.05体積%以上5体積%以下である。
エキシマ紫外線ランプと樹脂成形体[G]の被照射面との距離は、10mm以下が好ましく、1mm以上5mm以下がより好ましい。
照射の強度(照度)は、好ましくは5mW/cm以上200mW/cm以下、より好ましくは30mW/cm以上150mW/cm以下である。
<Ultraviolet irradiation>
The ultraviolet irradiation is preferably performed using an excimer ultraviolet lamp while flowing a mixed gas of nitrogen and dry air or oxygen. The oxygen concentration of the mixed gas is preferably 0.01% by volume or more and 15% by volume or less, more preferably 0.05% by volume or more and 5% by volume or less.
The distance between the excimer ultraviolet lamp and the irradiated surface of the resin molding [G] is preferably 10 mm or less, more preferably 1 mm or more and 5 mm or less.
The irradiation intensity (illuminance) is preferably 5 mW/cm 2 or more and 200 mW/cm 2 or less, more preferably 30 mW/cm 2 or more and 150 mW/cm 2 or less.

<火炎吹き付け>
火炎吹き付けは、樹脂成形体[G]の表面に対して燃料ガスの火炎を吹き付けることにより行う。火炎の温度は、好ましくは500℃以上1,500℃以下、より好ましくは550℃以上1,200℃以下、更に好ましくは600℃以上900℃以下である。火炎の温度は、使用する燃料ガスの種類や、燃料ガス及び空気の流量によって、適宜調節することができる。
火炎による処理時間は、好ましくは0.1秒以上100秒以下、より好ましくは0.3秒以上30秒以下、更に好ましくは0.5秒以上20秒以下である。
<Flame Spray>
The flame spraying is carried out by spraying the flame of the fuel gas onto the surface of the resin molding [G]. The flame temperature is preferably 500° C. or higher and 1,500° C. or lower, more preferably 550° C. or higher and 1,200° C. or lower, and still more preferably 600° C. or higher and 900° C. or lower. The temperature of the flame can be appropriately adjusted according to the type of fuel gas used and the flow rates of the fuel gas and air.
The flame treatment time is preferably 0.1 to 100 seconds, more preferably 0.3 to 30 seconds, and even more preferably 0.5 to 20 seconds.

上述した表面加工は1種を単独で、また2種以上を組み合わせて実施することができる。そしてこれらの表面加工の中でも、成形体[F]と樹脂成形体[G]が一層強固に接着してなる接合体を安定して製造する観点から、プラズマ照射、コロナ放電及び火炎吹き付けが好ましく、プラズマ照射及びコロナ放電がより好ましい。 The surface treatment described above can be carried out singly or in combination of two or more. Among these surface treatments, plasma irradiation, corona discharge, and flame spraying are preferable from the viewpoint of stably producing a joined body in which the molded body [F] and the resin molded body [G] are more strongly bonded. Plasma irradiation and corona discharge are more preferred.

<珪素化合物>
本発明の接合体の製造方法において使用する珪素化合物は、アルコキシシリル基とアルキルシリル基の少なくとも一方を有する化合物である。
<Silicon compound>
The silicon compound used in the method for producing a conjugate of the present invention is a compound having at least one of an alkoxysilyl group and an alkylsilyl group.

樹脂成形体[G]の表面に対して、珪素化合物の存在下で所定の表面加工を行う場合(すなわち、処理(i)を採用する場合)は、例えば、珪素化合物を気化した状態で窒素、アルゴン、ヘリウム等のキャリアガスと共に、表面処理装置内に導入することができる。特に、火炎吹き付けを採用する場合は、キャリアガスとして、天然ガス、プロパンガス等の可燃性ガス、空気、酸素等の支燃性ガスを使用することもできる。
樹脂成形体[G]の表面に対して、所定の表面加工を施した後に珪素化合物を接触させる場合(すなわち、処理(ii)を採用する場合)は、例えば、樹脂成形体[G]の被加工面と、気化した状態の珪素化合物を上記のキャリアガスと共に接触させる方法、及び/又は、溶媒(水、水-アルコール混合溶剤等)に溶解した状態の珪素化合物を接触させる方法を適用することができる。
When the surface of the resin molding [G] is subjected to a predetermined surface treatment in the presence of a silicon compound (i.e., when treatment (i) is employed), for example, the silicon compound is vaporized and then nitrogen, It can be introduced into the surface treatment apparatus together with a carrier gas such as argon or helium. In particular, when flame spraying is employed, a combustible gas such as natural gas or propane gas, or a combustion-supporting gas such as air or oxygen may be used as the carrier gas.
When the silicon compound is brought into contact with the surface of the resin molded body [G] after being subjected to a predetermined surface treatment (that is, when the treatment (ii) is adopted), for example, the surface of the resin molded body [G] is Applying a method of contacting the processed surface with the vaporized silicon compound together with the carrier gas and/or a method of contacting the silicon compound dissolved in a solvent (water, water-alcohol mixed solvent, etc.). can be done.

珪素化合物を気化した状態で使用する場合、珪素化合物の沸点は、好ましくは300℃以下、より好ましくは250℃以下、更に好ましくは200℃以下である。沸点が300℃を超える場合は、キャリアガス中の珪素化合物濃度を十分高くできず、珪素化合物を用いた表面処理の効果が発現できなくなるおそれがある。また、珪素化合物の沸点の下限は、特に限定されないが、例えば-111℃以上である。
なお、本発明において、「沸点」とは、常圧における沸点を意味する。
When the silicon compound is used in a vaporized state, the boiling point of the silicon compound is preferably 300° C. or lower, more preferably 250° C. or lower, and still more preferably 200° C. or lower. If the boiling point exceeds 300° C., the concentration of the silicon compound in the carrier gas cannot be sufficiently increased, and the effect of the surface treatment using the silicon compound may not be obtained. Also, the lower limit of the boiling point of the silicon compound is not particularly limited, but is, for example, -111°C or higher.
In addition, in this invention, a "boiling point" means the boiling point in a normal pressure.

珪素化合物の具体例としては、シラン(沸点:-111℃)、メチルシラン(沸点:-57℃)、ジシラン(沸点:-15℃)、トリメチルシラン(沸点:7℃)、テトラメチルシラン(沸点:28℃)、ジメチルジメトキシシラン(沸点:81℃)、メチルトリメトキシシラン(沸点:102℃)、ヘキサメチルジシラン(沸点:113℃)、ジメチルジエトキシシラン(沸点:114℃)、テトラメトキシシラン(沸点:121℃)、ビニルトリメトキシシラン(沸点:123℃)、ヘキサメチルジシラザン(沸点:125℃)、メチルトリエトキシシラン(沸点:143℃)、テトラエチルシラン(沸点:155℃)、ビニルトリエトキシシラン(沸点:161℃)、テトラエトキシシラン(沸点:168℃)、ヘキシルトリメトキシシラン(沸点:202℃)、3-アミノプロピルトリメトキシシラン(沸点:215℃)、3-アミノプロピルトリエトキシシラン(沸点:217℃)、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン(沸点:234℃)、フェニルトリエトキシシラン(沸点:236℃)、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(沸点:255℃)、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン(沸点:259℃)、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン(沸点:259℃)、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン(沸点:265℃)、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(沸点:290℃)、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(沸点:310℃)、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン(沸点:312℃)、等が挙げられる。これらは1種単独で、または2種以上を組み合わせ用いることができる。 Specific examples of silicon compounds include silane (boiling point: -111°C), methylsilane (boiling point: -57°C), disilane (boiling point: -15°C), trimethylsilane (boiling point: 7°C), tetramethylsilane (boiling point: 28°C), dimethyldimethoxysilane (boiling point: 81°C), methyltrimethoxysilane (boiling point: 102°C), hexamethyldisilane (boiling point: 113°C), dimethyldiethoxysilane (boiling point: 114°C), tetramethoxysilane ( boiling point: 121°C), vinyltrimethoxysilane (boiling point: 123°C), hexamethyldisilazane (boiling point: 125°C), methyltriethoxysilane (boiling point: 143°C), tetraethylsilane (boiling point: 155°C), vinyltri Ethoxysilane (boiling point: 161°C), tetraethoxysilane (boiling point: 168°C), hexyltrimethoxysilane (boiling point: 202°C), 3-aminopropyltrimethoxysilane (boiling point: 215°C), 3-aminopropyltriethoxy Silane (boiling point: 217°C), N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane (boiling point: 234°C), phenyltriethoxysilane (boiling point: 236°C), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (boiling point: 255°C), 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane (boiling point: 259°C), N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane (boiling point: 259°C), 3-methacryloxy Propylmethyldiethoxysilane (boiling point: 265°C), 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (boiling point: 290°C), 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (boiling point: 310°C), N -phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (boiling point: 312°C), and the like. These can be used singly or in combination of two or more.

なお、気化した状態の珪素化合物を混合ガスの一部として用いる場合、混合ガス中における珪素化合物の濃度(例えば、キャリアガスと気化した珪素化合物との混合ガス中の珪素化合物の濃度)は、好ましくは1×10-5g/L以上5×10-1g/L以下、より好ましくは1×10-4g/L以上2×10-1g/L以下、更に好ましくは1×10-3g/L以上1×10-1g/L以下である。
珪素化合物の濃度が低すぎる場合は、珪素化合物を用いた表面処理の効果が十分に発現しないおそれがある。珪素化合物の濃度が高すぎる場合は、珪素化合物の消費量が多くなり経済性に劣るおそれがある。
混合ガス中の珪素化合物の濃度は、例えばガスクロマトグラフィー等により測定できる。
When the vaporized silicon compound is used as part of the mixed gas, the concentration of the silicon compound in the mixed gas (for example, the concentration of the silicon compound in the mixed gas of the carrier gas and the vaporized silicon compound) is preferably is 1×10 −5 g/L or more and 5×10 −1 g/L or less, more preferably 1×10 −4 g/L or more and 2×10 −1 g/L or less, further preferably 1×10 −3 g/L or more and 1×10 −1 g/L or less.
If the concentration of the silicon compound is too low, the effect of the surface treatment using the silicon compound may not be sufficiently exhibited. If the concentration of the silicon compound is too high, the consumption of the silicon compound increases, which may result in poor economy.
The concentration of the silicon compound in the mixed gas can be measured, for example, by gas chromatography.

珪素化合物を溶液にした状態で使用する場合、珪素化合物の沸点は特に限定されない。珪素化合物を溶液にした状態で使用する場合は、上記具体的に例示した珪素化合物に加え、例えば特開2015-155196号公報、特開2015-211940号公報等に記載の、シランカップリング剤として公知の化合物を使用することができる。 When the silicon compound is used in the form of a solution, the boiling point of the silicon compound is not particularly limited. When using a silicon compound in a solution state, in addition to the silicon compounds specifically exemplified above, for example, as a silane coupling agent described in JP-A-2015-155196, JP-A-2015-211940, etc. Known compounds can be used.

珪素化合物の溶液は上記の珪素化合物を溶媒で希釈したものである。溶媒の具体例としては、水あるいは有機溶剤をそれぞれ単独あるいは2種以上混合して用いることができる。有機溶剤の例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等どのケトン類、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等どの芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ-n-ブチルエーテル等のエーテル類等が挙げられる。珪素化合物の溶液には、更にギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸等の有機酸やアンモニア水等のpH調整剤、界面活性剤等を添加することもできる。 The silicon compound solution is obtained by diluting the above silicon compound with a solvent. As a specific example of the solvent, water or an organic solvent can be used alone or in combination of two or more. Examples of organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and n-butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; glycol ethers such as ethylene glycol and propylene glycol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; and ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether and di-n-butyl ether. Organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid and oxalic acid, pH adjusters such as aqueous ammonia, surfactants, and the like can also be added to the silicon compound solution.

珪素化合物の溶液中における珪素化合物の濃度は、好ましくは0.1質量%以上10質量%以下、より好ましくは0.2質量%以上5質量%以下、更に好ましくは0.3質量%以上2質量%以下である。
珪素化合物の濃度が低すぎる場合は、珪素化合物を用いた表面処理の効果が十分に発現しないおそれがある。珪素化合物の濃度が高すぎる場合は、珪素化合物の消費量が多くなり経済性に劣るおそれがある。
The concentration of the silicon compound in the silicon compound solution is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or more and 5% by mass or less, and still more preferably 0.3% by mass or more and 2% by mass. % or less.
If the concentration of the silicon compound is too low, the effect of the surface treatment using the silicon compound may not be sufficiently exhibited. If the concentration of the silicon compound is too high, the consumption of the silicon compound increases, which may result in poor economy.

そして、工程1で用いる珪素化合物としては、成形体[F]と樹脂成形体[G]が一層強固に接着してなる接合体を安定して製造する観点から、上述した中でも、テトラメチルシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシランが好ましい。
より具体的には、珪素化合物を気化した状態で使用する場合、工程1で用いる珪素化合物としては、テトラメチルシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランが好ましく、珪素化合物を溶液にした状態で使用する場合、工程1で用いる珪素化合物としては、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシランが好ましい。
As the silicon compound used in step 1, tetramethylsilane, dimethyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, hexamethyldisilane, dimethyldiethoxysilane, tetramethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane Silane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane are preferred.
More specifically, when the silicon compound is used in a vaporized state, the silicon compound used in step 1 includes tetramethylsilane, dimethyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, hexamethyldisilane, dimethyldiethoxysilane, tetramethoxysilane, Silane and vinyltrimethoxysilane are preferable, and when the silicon compound is used in a solution state, the silicon compound used in step 1 is 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-amino propylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane , 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane are preferred.

(工程2)
本発明の接合体の製造方法の工程2は、上述した工程1を経た樹脂成形体[G]と、上述した成形体[F]とを、工程1において処理(i)及び/又は処理(ii)が施された被処理面と成形体[F]とが接するように積層し、加熱圧着する工程である。
ここで、本発明の製造方法によれば、工程1で樹脂成形体[G]の表面に処理(i)及び/又は処理(ii)を施した直後から、樹脂成形体[G]に成形体[F]を積層して加熱圧着するまでの時間を長くとった場合であっても、成形体[F]と樹脂成形体[G]を強固に接着することができる。なお、表面処理(処理(i)及び/又は処理(ii))後から、積層して加熱圧着するまでの時間は、特に限定されないが、成形体[F]と樹脂成形体[G]を十分強固に接着させる観点から、好ましくは7日以内、より好ましくは5日以内、更に好ましくは3日以内である。
表面処理後から積層して加熱圧着して強固に接着できるまでの時間が十分長いことにより、変性ブロック共重合体水素化物と樹脂成形体とが強固に接着された接合体を安定して生産することができる。
(Step 2)
In step 2 of the method for manufacturing a joined body of the present invention, the resin molding [G] that has undergone step 1 described above and the molding [F] described above are subjected to treatment (i) and/or treatment (ii) in step 1. ) is laminated so that the surface to be treated and the molded body [F] are in contact with each other, and then heat-pressed.
Here, according to the production method of the present invention, immediately after the surface of the resin molded body [G] is subjected to the treatment (i) and/or the treatment (ii) in step 1, the resin molded body [G] has a molded body Even if it takes a long time until [F] is laminated and heat-pressed, the compact [F] and the resin compact [G] can be strongly bonded. The time from surface treatment (treatment (i) and/or treatment (ii)) to lamination and thermocompression bonding is not particularly limited. It is preferably within 7 days, more preferably within 5 days, and still more preferably within 3 days from the viewpoint of strong adhesion.
A sufficiently long period of time from surface treatment to lamination and thermocompression bonding for strong bonding allows stable production of a joined body in which the hydrogenated modified block copolymer and the resin molding are firmly bonded. be able to.

成形体[F]と樹脂成形体[G]を積層して加熱圧着する方法は特に限定されない。
例えば、成形体[F]及び樹脂成形体[G]が何れもシート状であれば、成形体[F]と樹脂成形体[G]を、成形体[F]と樹脂成形体[G]の被処理面が接するようにして重ね合わせ、得られた積層物を可撓性の袋(以下、「バッグ」ということがある。)に入れて、バッグ内の空気を脱気しながら、加熱圧着して接合体とする方法;上記と同様にして得られた積層物をバックに入れて、バッグ内の空気を脱気した後、オートクレーブ中で、加熱圧着して貼り合わせて接合体とする方法;上記と同様にして得られた積層物を熱プレス装置で加熱圧着して接合体とする方法等が挙げられる。また、上記と同様にして得られた積層物を、真空ラミネータ、真空プレス、ロールラミネータ等の加圧機を使用して加熱圧着する方法等も用いることができる。
成形体[F]と樹脂成形体[G]の接合体は、更に必要に応じてその他の部材を同時に重ね合わせて多種材の接合体としてもよい。
ここで、バッグに入れて加熱圧着して接合体を得る方法は、曲面形状を有する接合体を製造する方法として特に有用である。また、平面状の樹脂成形体[G]を成形体[F]と貼り合わせて曲面形状を有する接合体を製造する場合、工程1を経た樹脂成形体[G]を、加熱軟化させた状態で成形体[F]と積層して貼り合わせて曲面形状を有する接合体を得ることもできる。
The method of laminating the molded product [F] and the resin molded product [G] and heat-pressing them is not particularly limited.
For example, if both the molded body [F] and the resin molded body [G] are sheet-like, the molded body [F] and the resin molded body [G] are divided into the molded body [F] and the resin molded body [G]. The surfaces to be treated are superimposed so that they are in contact with each other, and the obtained laminate is placed in a flexible bag (hereinafter sometimes referred to as "bag"), and heated and pressed while removing air from the bag. A method in which the laminate obtained in the same manner as described above is placed in a bag, the air in the bag is degassed, and then heated and pressed together in an autoclave to form a bonded body. ; a method of bonding the laminate obtained in the same manner as above under heat and pressure with a hot press to form a joined body, and the like. Alternatively, a laminate obtained in the same manner as described above may be heat-pressed using a pressure machine such as a vacuum laminator, a vacuum press, or a roll laminator.
The joined body of the molded body [F] and the resin molded body [G] may be made into a multi-material joined body by further superimposing other members at the same time, if necessary.
Here, the method of putting in a bag and thermocompression bonding to obtain a bonded body is particularly useful as a method of manufacturing a bonded body having a curved surface shape. Further, when manufacturing a bonded body having a curved surface shape by bonding the planar resin molded body [G] to the molded body [F], the resin molded body [G] that has undergone step 1 is heated and softened. It is also possible to obtain a joined body having a curved surface shape by laminating it with the molded body [F] and bonding it together.

成形体[F]と樹脂成形体[G]を加熱して圧着する際の温度(加熱圧着温度)は、好ましくは80℃以上180℃以下、より好ましくは90℃以上170℃以下、更に好ましくは90℃以上160℃以下である。
加熱圧着温度が上記範囲であれば、十分な接着強度が得られ、また、接着面に気泡等の不良も発生し難い。
The temperature at which the molded product [F] and the resin molded product [G] are heated and pressed together (thermocompression temperature) is preferably 80° C. or higher and 180° C. or lower, more preferably 90° C. or higher and 170° C. or lower, and still more preferably It is 90°C or higher and 160°C or lower.
If the thermocompression bonding temperature is within the above range, sufficient bonding strength can be obtained, and defects such as air bubbles are less likely to occur on the bonding surface.

オートクレーブ中で加熱圧着を行う際の圧力は、好ましくは0.1MPa以上1.5MPa以下、より好ましくは0.2MPa以上1.2MPa以下、更に好ましくは0.3MPa以上1.0MPa以下である。加熱圧着を行う際の圧力が上記範囲であれば、十分な接着強度が得られ、また、接着面に気泡等の不良も発生し難い。
熱プレス装置を使用して加熱圧着を行う際の圧力は、好ましくは0.1MPa以上10MPa以下、より好ましくは0.2MPa以上5MPa以下、更に好ましくは0.3MPa以上2MPa以下である。加熱圧着を行う際の圧力が上記範囲であれば、十分な接着強度が得られ、また、接着面に気泡等の不良も発生し難い。
オートクレーブ中で加熱圧着を行う際の時間(加熱圧着時間)は、十分な生産性を維持する観点から、好ましくは10分以上60分以下、より好ましくは15分以上50分以下、更に好ましくは20分以上40分以下である。
熱プレス装置を使用して加熱圧着を行う際の時間(加熱圧着時間)は、十分な生産性を維持する観点から、好ましくは0.2分以上15分以下、より好ましくは0.4分以上10分以下、更に好ましくは0.5分以上5分以下である。
The pressure during thermocompression bonding in an autoclave is preferably 0.1 MPa or more and 1.5 MPa or less, more preferably 0.2 MPa or more and 1.2 MPa or less, and still more preferably 0.3 MPa or more and 1.0 MPa or less. If the pressure during thermocompression bonding is within the above range, sufficient adhesive strength can be obtained, and defects such as air bubbles are less likely to occur on the adhesive surface.
The pressure at the time of thermocompression bonding using a hot press device is preferably 0.1 MPa or more and 10 MPa or less, more preferably 0.2 MPa or more and 5 MPa or less, and still more preferably 0.3 MPa or more and 2 MPa or less. If the pressure during thermocompression bonding is within the above range, sufficient adhesive strength can be obtained, and defects such as air bubbles are less likely to occur on the adhesive surface.
The time for thermocompression bonding in an autoclave (thermal compression bonding time) is preferably 10 minutes or more and 60 minutes or less, more preferably 15 minutes or more and 50 minutes or less, still more preferably 20 minutes, from the viewpoint of maintaining sufficient productivity. minutes or more and 40 minutes or less.
From the viewpoint of maintaining sufficient productivity, the time for performing thermocompression bonding using a hot press device (thermal compression bonding time) is preferably 0.2 minutes or more and 15 minutes or less, more preferably 0.4 minutes or more. It is 10 minutes or less, more preferably 0.5 minutes or more and 5 minutes or less.

(接合体[H])
本発明の製造方法によって得られる接合体[H]は、変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする成形体[F]と、樹脂成形体[G]とが十分な接着強度で接合されたものである。接合体[H]は、成形体[F]と樹脂成形体[G]との接着面の剥離強度が、特に限定されないが、好ましくは4N/cm以上、より好ましくは6N/cm以上、更に好ましくは8N/cm以上、特に好ましくは10N/cm以上である。接着面の剥離強度が4N/cm以上であれば、接合体[H]は、成形体[F]と樹脂成形体[G]が容易には剥離しない。剥離強度は、例えば、実施例に記載されたJIS6854-3:1999等の方法により、測定することができる。
なお、成形体[F]と樹脂成形体[G]の接着面の剥離強度の上限は、特に限定されないが、例えば30N/cm以下である。
(Conjugate [H])
The joined body [H] obtained by the production method of the present invention has sufficient adhesive strength between the molded body [F] containing the modified block copolymer hydride [E] as a main component and the resin molded body [G]. It is joined. The bonded body [H] is not particularly limited in the peel strength of the adhesive surface between the molded body [F] and the resin molded body [G], but is preferably 4 N/cm or more, more preferably 6 N/cm or more, and still more preferably. is 8 N/cm or more, particularly preferably 10 N/cm or more. If the peel strength of the adhesive surface is 4 N/cm or more, in the bonded body [H], the molded body [F] and the resin molded body [G] are not easily separated. The peel strength can be measured, for example, by a method such as JIS6854-3:1999 described in Examples.
Although the upper limit of the peel strength between the adhesive surfaces of the molded product [F] and the resin molded product [G] is not particularly limited, it is, for example, 30 N/cm or less.

本発明の製造方法によって得られる接合体[H]は、少なくとも一つ以上の成形体[F]と、少なくとも一つ以上の樹脂成形体[G]とを備え、成形体[F]と樹脂成形体[G]が互いに接する面の一部又は全部が接着した部位を有する接合体である。
なお、成形体[F]及び/又は樹脂成形体[G]は、互いに接する面とは異なる面(シート状である場合は、反対側の面)に、それぞれガラス、金属、他樹脂等からなる他の部材が接合していても良い。
The joined body [H] obtained by the production method of the present invention includes at least one or more molded bodies [F] and at least one or more resin molded bodies [G]. It is a conjugate having a portion where parts or all of the surfaces where the bodies [G] are in contact with each other are adhered.
The molded body [F] and/or the resin molded body [G] are made of glass, metal, other resin, etc. on a surface different from the surface in contact with each other (in the case of a sheet, the surface on the opposite side). Other members may be joined.

本発明の製造方法により得られる接合体[H]としては、具体的には、成形体[F]/樹脂成形体[G]の構成からなる2部材接合体;成形体[F]/樹脂成形体[G]/成形体[F]、樹脂成形体[G]/成形体[F]/樹脂成形体[G]、ガラス板/成形体[F]/樹脂成形体[G]、金属板/成形体[F]/樹脂成形体[G]、樹脂成形体[G]/成形体[F]/金属メッキ部位を有する他樹脂成形体等の構成からなる3部材接合体(3層接合体);ガラス板/成形体[F]/樹脂成形体[G]/成形体[F]、金属板/成形体[F]/樹脂成形体[G]/成形体[F]、樹脂成形体[G]/成形体[F]/樹脂成形体[G]/成形体[F]、ハードコート層/樹脂成形体[G]/成形体[F]/金属メッキ部位を有する他樹脂成形体等の構成からなる4部材接合体(4層接合体);ガラス板/成形体[F]/樹脂成形体[G]/成形体[F]/ガラス板、ガラス板/成形体[F]/樹脂成形体[G]/成形体[F]/金属板、ガラス板/成形体[F]/樹脂成形体[G]/成形体[F]/樹脂成形体[G]、金属板/成形体[F]/樹脂成形体[G]/成形体[F]/金属板等の構成からなる5部材接合体(5層接合体);ガラス板とガラス板の間に成形体[F]/樹脂成形体[G]からなる多数の層が積層された多部材(6部材以上の)接合体(多層接合体);等の構成を有するものが挙げられる。 The bonded body [H] obtained by the production method of the present invention specifically includes a two-member bonded body composed of molded body [F]/resin molded body [G]; molded body [F]/resin molding Body [G] / molded body [F], resin molded body [G] / molded body [F] / resin molded body [G], glass plate / molded body [F] / resin molded body [G], metal plate / Molded body [F]/Resin molded body [G], Resin molded body [G]/Molded body [F]/Three-member bonded body (three-layer bonded body) composed of other resin molded bodies having metal-plated parts, etc. ; Glass plate / molded body [F] / resin molded body [G] / molded body [F], metal plate / molded body [F] / resin molded body [G] / molded body [F], resin molded body [G ]/Molded body [F]/Resin molded body [G]/Molded body [F], hard coat layer/Resin molded body [G]/Molded body [F]/Construction of other resin molded bodies having metal-plated parts A four-member bonded body (four-layer bonded body) consisting of: glass plate / molded body [F] / resin molded body [G] / molded body [F] / glass plate, glass plate / molded body [F] / resin molded body [G] / molded body [F] / metal plate, glass plate / molded body [F] / resin molded body [G] / molded body [F] / resin molded body [G], metal plate / molded body [F] / Resin molding [G] / Molding [F] / Five-member bonded body (five-layer bonded body) composed of metal plates, etc.; Molded body [F] between glass plates / Resin molded body [G] multi-member (six or more members) bonded body (multilayer bonded body) in which a large number of layers are laminated;

本発明の製造方法によって得られる接合体[H]が、例えば、合わせガラスである場合、使用する2枚以上のガラス板同士は、厚さや材質等が互いに同一であっても、相異なっていてもよい。使用するガラス板の厚さは特に限定されないが、好ましくは0.05mm以上10mm以下である。また、例えば、ガラス板/シート状の成形体[F]/シート状のポリカーボネート樹脂成形体[G]/シート状の成形体[F]/ガラス板のような5層構成となるような、耐貫通性に優れた合わせガラス(それぞれの厚みは、例えば、1mm(ガラス板)/0.8mm(成形体[F])/2mm(ポリカーボネート樹脂成形体[G])/0.8mm(成形体[F])/1mm(ガラス板))等とすることもできる。 When the joined body [H] obtained by the production method of the present invention is, for example, laminated glass, the two or more glass plates used may have the same thickness, material, etc., but may differ from each other. good too. Although the thickness of the glass plate to be used is not particularly limited, it is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less. In addition, for example, a glass plate/sheet-shaped molded body [F]/sheet-shaped polycarbonate resin molded body [G]/sheet-shaped molded body [F]/glass plate. Laminated glass with excellent penetrability (each thickness is, for example, 1 mm (glass plate) / 0.8 mm (molded body [F]) / 2 mm (polycarbonate resin molded body [G]) / 0.8 mm (molded body [ F])/1 mm (glass plate)) or the like.

以下に実施例を示しながら、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお「部」及び「%」は特に断りのない限り質量基準である。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited only to the following examples. "Parts" and "%" are based on mass unless otherwise specified.

本実施例における評価は、以下の方法によって行った。
(1)重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)
ブロック共重合体[C]及びブロック共重合体水素化物[D]の分子量は、THFを溶離液とするGPCによる標準ポリスチレン換算値として38℃において測定した。測定装置としては、東ソー社製HLC8320GPCを用いた。
(2)水素化率
ブロック共重合体水素化物[D]の主鎖、側鎖及び芳香環の水素化率は、ブロック共重合体[C]及びブロック共重合体水素化物[D]のH-NMRを測定して算出した。
(3)接着性(所定条件で保持後の剥離強度)
工程1の表面処理を経た樹脂成形体[G]を、温度25℃、湿度50%RHの大気中に保持した。保持時間をそれぞれ、1時間、24時間、48時間とした樹脂成形体[G]を使用して、シート状の成形体[F]と加熱圧着して得られた接合体[H]の剥離強度を測定し評価した。剥離強度は、以下のようにして測定した。
得られた接合体[H]から、長さ200mm×幅25mmの試験片を採取した。試験片の非接着部位(積層の際に剥離フィルムを挟んだことにより、成形体[F]と樹脂成形体[G]が接着していない部位)から、JIS K6854-3:1999(接着剤-はく離接着強さ試験方法-第3部:T形はく離)に準じて、オートグラフ(島津製作所製、製品名「AGS-X」)を使用して、剥離速度100mm/分で成形体[F]と樹脂成形体[G]を剥離し、剥離強度を測定した。
剥離強度が4N/cm以上の場合を接着性が「良好」、4N/cm未満の場合を接着性が「不良」と評価した。特に、保持時間が48時間の場合であっても剥離強度が4N/cm以上である場合は、成形体[F]と樹脂成形体[G]が強固に接着してなる接合体を、十分に安定して製造することができると言える。
Evaluations in the examples were performed by the following methods.
(1) Weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw/Mn)
The molecular weights of block copolymer [C] and block copolymer hydride [D] were measured at 38° C. as standard polystyrene conversion values by GPC using THF as an eluent. As a measuring device, HLC8320GPC manufactured by Tosoh Corporation was used.
(2) Hydrogenation rate The hydrogenation rate of the main chain, side chain and aromatic ring of the block copolymer hydride [D] is 1 H of the block copolymer [C] and the block copolymer hydride [D]. - Calculated by measuring NMR.
(3) Adhesiveness (peel strength after holding under predetermined conditions)
The resin molding [G] that had undergone the surface treatment in step 1 was held in the atmosphere at a temperature of 25° C. and a humidity of 50% RH. The peel strength of the joined body [H] obtained by thermocompression bonding with the sheet-shaped molded body [F] using the resin molded body [G] with the holding time of 1 hour, 24 hours, and 48 hours, respectively. was measured and evaluated. The peel strength was measured as follows.
A test piece having a length of 200 mm and a width of 25 mm was taken from the resulting joined body [H]. JIS K6854-3: 1999 (adhesive- Peeling adhesive strength test method-Part 3: T-type peeling) Using Autograph (manufactured by Shimadzu Corporation, product name "AGS-X"), molded body [F] at a peeling speed of 100 mm / min and the resin molding [G] were peeled off, and the peel strength was measured.
The adhesion was evaluated as "good" when the peel strength was 4 N/cm or more, and as "poor" when the peel strength was less than 4 N/cm. In particular, when the peel strength is 4 N/cm or more even when the holding time is 48 hours, the bonded body formed by firmly bonding the molded body [F] and the resin molded body [G] is sufficiently It can be said that stable production is possible.

[製造例1]変性ブロック共重合体水素化物[E1]を主成分とする成形体[F1]の製造
(ブロック共重合体[C1]の調製)
十分に窒素置換された、攪拌装置を備えた反応器に脱水シクロヘキサン550部、脱水スチレン25.0部、n-ジブチルエーテル0.475部を入れ、60℃で攪拌しながらn-ブチルリチウムの15%シクロヘキサン溶液0.68部を加えて重合を開始した。
攪拌しながら60℃で60分反応させた。ガスクロマトグラフィーにより測定したこの時点での重合転化率は99.5%であった。
次に、脱水イソプレン50.0部を加えそのまま30分攪拌を続けた。この時点で重合転化率は99%であった。
その後、更に、脱水スチレンを25.0部加え、60分攪拌した。この時点での重合転化率はほぼ100%であった。ここでイソプロピルアルコール0.096部を加えて反応を停止した。得られたブロック共重合体[C1]の重量平均分子量(Mw)は61,600、分子量分布(Mw/Mn)は1.05、wa:wb=50:50、であった。
なお、上記「wa:wb」は、芳香族ビニル化合物としてのスチレンに由来する構造単位〔a〕がブロック共重合体[C1]に占める質量分率をwaとし、鎖状共役ジエン化合物としてのイソプレンに由来する構造単位〔b〕がブロック共重合体[C1]に占める質量分率をwbとしたときのwaとwbとの比(wa:wb)を表す。以下の製造例2においても同様である。
[Production Example 1] Production of Molded Product [F1] Containing Hydrogenated Modified Block Copolymer [E1] as Main Component (Preparation of Block Copolymer [C1])
550 parts of dehydrated cyclohexane, 25.0 parts of dehydrated styrene, and 0.475 parts of n-dibutyl ether are placed in a sufficiently nitrogen-substituted reactor equipped with a stirrer, and 15 parts of n-butyllithium are added while stirring at 60°C. % cyclohexane solution was added to initiate polymerization.
The mixture was reacted at 60° C. for 60 minutes while stirring. The polymerization conversion at this point was 99.5% as measured by gas chromatography.
Next, 50.0 parts of dehydrated isoprene was added and stirring was continued for 30 minutes. At this point, the polymerization conversion rate was 99%.
After that, 25.0 parts of dehydrated styrene was further added and stirred for 60 minutes. The polymerization conversion rate at this point was almost 100%. Here, 0.096 part of isopropyl alcohol was added to terminate the reaction. The obtained block copolymer [C1] had a weight average molecular weight (Mw) of 61,600, a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.05, and wa:wb = 50:50.
In the above "wa:wb", the mass fraction of the structural unit [a] derived from styrene as the aromatic vinyl compound in the block copolymer [C1] is wa, and isoprene as the chain conjugated diene compound. represents the ratio (wa:wb) between wa and wb, where wb is the mass fraction of the structural unit [b] derived from the block copolymer [C1]. The same applies to Production Example 2 below.

(ブロック共重合体水素化物[D1]の調製)
次に、上記のようにして得られた重合体溶液を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として、トルエン1.0部中で、ビス(シクロペンタジエニル)チタニウムジクロリド0.042部とジエチルアルミニウムクロライド0.122部を混合した溶液を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、更に溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度90℃、圧力1.0MPaにて5時間水素化反応を行った。
水素化反応後のブロック共重合体水素化物[D1]の重量平均分子量(Mw)は62,900、分子量分布(Mw/Mn)は1.06であった。
(Preparation of block copolymer hydride [D1])
Next, the polymer solution obtained as described above was transferred to a pressure-resistant reactor equipped with a stirrer, and bis(cyclopentadienyl)titanium dichloride was added in 1.0 parts of toluene as a hydrogenation catalyst. A mixed solution of 0.042 parts and 0.122 parts of diethylaluminum chloride was added and mixed. The inside of the reactor was replaced with hydrogen gas, hydrogen was supplied while stirring the solution, and a hydrogenation reaction was carried out at a temperature of 90° C. and a pressure of 1.0 MPa for 5 hours.
The hydrogenated block copolymer [D1] after the hydrogenation reaction had a weight average molecular weight (Mw) of 62,900 and a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.06.

水素化反応終了後、反応溶液に水0.10部を添加して、60℃で60分間攪拌した。その後、30℃以下まで冷却し、活性白土(製品名「ガレオンアース(登録商標)」、水澤化学工業社製)1.5部及びタルク(製品名「ミクロエース(登録商標)」、日本タルク社製)1.5部を添加して、反応溶液を濾過ろ過して不溶物を除去した。濾過された溶液にフェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート](SONGWON社製、製品名「Songnox1010」)0.1部を溶解したキシレン溶液1.0部を添加して溶解させた。
次いで、上記溶液を、金属ファイバー製フィルター(孔径0.4μm、ニチダイ社製)にて濾過して微小な固形分を除去した後、円筒型濃縮乾燥器(製品名「コントロ」、日立製作所社製)を用いて、温度260℃、圧力0.001MPa以下で、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去し、濃縮乾燥器に直結したダイから溶融状態でストランド状に押出し、冷却後、ペレタイザーでカットしてブロック共重合体水素化物[D1]のペレット92部を得た。ペレットにはブロッキング防止剤として約100ppmのエチレンビスステアリン酸アマイドの微粉を添加した。得られたブロック共重合体水素化物[D1]の重量平均分子量(Mw)は62,300、分子量分布(Mw/Mn)は1.11であった。鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素二重結合の水素化率は99%、芳香族ビニル化合物に由来する芳香環の炭素-炭素二重結合の水素化率は5%未満であった。
After completion of the hydrogenation reaction, 0.10 part of water was added to the reaction solution and stirred at 60° C. for 60 minutes. After that, it is cooled to 30 ° C. or less, and 1.5 parts of activated clay (product name “Galeon Earth (registered trademark)”, manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd.) and talc (product name “Micro Ace (registered trademark)”, Nippon Talc Co., Ltd. ) was added, and the reaction solution was filtered to remove insoluble matter. Pentaerythrityl tetrakis [3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] (manufactured by SONGWON, product name "Songnox1010"), a phenolic antioxidant, was added to the filtered solution. 1.0 part of a xylene solution in which .1 part was dissolved was added and dissolved.
Next, the above solution is filtered through a metal fiber filter (pore size 0.4 μm, manufactured by Nichidai Co., Ltd.) to remove minute solids, and then a cylindrical concentration dryer (product name “Kontoro” manufactured by Hitachi, Ltd.) ), the solvent cyclohexane, xylene and other volatile components are removed from the solution at a temperature of 260 ° C. and a pressure of 0.001 MPa or less, extruded in a molten state into strands from a die directly connected to a concentration dryer, After cooling, it was cut with a pelletizer to obtain 92 parts of pellets of hydrogenated block copolymer [D1]. About 100 ppm of finely divided ethylene bisstearic acid amide was added to the pellets as an antiblocking agent. The resulting hydrogenated block copolymer [D1] had a weight average molecular weight (Mw) of 62,300 and a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.11. The hydrogenation rate of the carbon-carbon double bonds in the main chain and side chains derived from the chain conjugated diene compound is 99%, and the hydrogenation rate of the carbon-carbon double bonds in the aromatic ring derived from the aromatic vinyl compound is 5. %.

(変性ブロック共重合体水素化物[E1]の調製)
得られたブロック共重合体水素化物[D1]のペレット100部に対してビニルトリメトキシシラン2.0部及び2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン(製品名「パーヘキサ(登録商標) 25B」、日油社製)0.2部を添加し、混合物を得た。この混合物を、二軸押出機(製品名「TEM37B」、東芝機械社製)を用いて、樹脂温度200℃、滞留時間60~70秒で混練し、ストランド状に押出し、空冷した後、ペレタイザーによりカッティングし、アルコキシシリル基を有する変性ブロック共重合体水素化物[E1]のペレット97部を得た。ペレットには約100ppmのブロッキング防止剤(エチレンビスステアリン酸アマイドの微粉)を追加添加した。
(Preparation of modified block copolymer hydride [E1])
2.0 parts of vinyltrimethoxysilane and 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane (product name 0.2 part of "PERHEXA (registered trademark) 25B" manufactured by NOF CORPORATION) was added to obtain a mixture. This mixture is kneaded using a twin-screw extruder (product name "TEM37B", manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) at a resin temperature of 200 ° C. and a residence time of 60 to 70 seconds, extruded into strands, air-cooled, and then pelletized by a pelletizer. By cutting, 97 parts of pellets of hydrogenated modified block copolymer [E1] having an alkoxysilyl group were obtained. About 100 ppm of an antiblocking agent (ethylene bis stearamide fine powder) was additionally added to the pellets.

得られた変性ブロック共重合体水素化物[E1]のペレット10部をシクロヘキサン100部に溶解した後、脱水したメタノール400部中に注いで変性ブロック共重合体水素化物[E1]を凝固させ、濾別した後、25℃で真空乾燥して変性ブロック共重合体水素化物[E1]のクラム9.0部を単離した。FT-IRスペクトルでは、1090cm-1にSi-OCH基、825cm-1と739cm-1にSi-CH基に由来する新たな吸収帯が、ビニルトリメトキシシランのそれらの1075cm-1、808cm-1、及び766cm-1と異なる位置に観察された。また、H-NMRスペクトル(重クロロホルム中)では3.6ppmにメトキシ基のプロトンに基づく吸収帯が観察され、ピーク面積比からブロック共重合体水素化物[D1]100部に対してビニルトリメトキシシラン1.8部が結合したことが確認された。 After dissolving 10 parts of the obtained hydrogenated block copolymer [E1] pellets in 100 parts of cyclohexane, the solution is poured into 400 parts of dehydrated methanol to solidify the hydrogenated modified block copolymer [E1], followed by filtration. After separation, 9.0 parts of crumbs of hydrogenated modified block copolymer [E1] were isolated by vacuum drying at 25°C. In the FT-IR spectrum, new absorption bands originating from Si—OCH 3 groups at 1090 cm −1 and Si—CH 2 groups at 825 cm −1 and 739 cm −1 are observed in those of vinyltrimethoxysilane at 1075 cm −1 and 808 cm −1 . −1 , and 766 cm −1 at different positions. Also, in the 1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform), an absorption band based on the proton of the methoxy group was observed at 3.6 ppm. It was confirmed that 1.8 parts of silane had bound.

(成形体[F1]の調製)
得られた変性ブロック共重合体水素化物[E1]のペレット100部に対して、紫外線吸収剤である2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール(Tinuvin(登録商標)329、BASFジャパン社製)0.2部を添加して、均等に混合した。得られた混合物を、直径20mmのスクリューを備えた単軸押出し機、Tダイ(幅300mm)、および、梨地エンボスパターンを有するキャストロール(幅300mm)を備えたシート引取機からなるフィルム成形機(商品名:「SZW20-25MG」、テクノベル社製)を使用し、溶融樹脂温度220℃、Tダイ温度220℃、キャストロール温度60℃の成形条件でシート状の成形体[F1](厚さ0.40mm、幅230mm)を作製した。成形体[F1]はロール状に巻き取り回収した。
(Preparation of compact [F1])
An ultraviolet absorber 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3- 0.2 part of tetramethylbutyl)phenol (Tinuvin (registered trademark) 329, manufactured by BASF Japan) was added and mixed evenly. The resulting mixture was passed through a film forming machine ( Product name: "SZW20-25MG" manufactured by Technobell), a sheet-like molded body [F1] (thickness 0 .40 mm, width 230 mm). The compact [F1] was wound up into a roll and collected.

[製造例2]変性ブロック共重合体水素化物[E2]を主成分とする成形体[F2]の製造
(ブロック共重合体[C2]の調製)
製造例1と同様の装置を使用し、n-ジブチルエーテルの使用量を0.59部、n-ブチルリチウムの15%シクロヘキサン溶液の使用量を1.04部、イソプロピルアルコールの使用量を0.43部に変える以外は製造例1と同様にして重合を行った。重合転化率はほぼ100%であった。
得られたブロック共重合体[C2]の重量平均分子量(Mw)は40,000、分子量分布(Mw/Mn)は1.15、wa:wb=50:50、であった。
[Production Example 2] Production of Molded Product [F2] Containing Hydrogenated Modified Block Copolymer [E2] as Main Component (Preparation of Block Copolymer [C2])
Using the same apparatus as in Production Example 1, 0.59 parts of n-dibutyl ether, 1.04 parts of 15% cyclohexane solution of n-butyllithium, and 0.5 parts of isopropyl alcohol were used. Polymerization was carried out in the same manner as in Production Example 1 except that the content was changed to 43 parts. The polymerization conversion rate was almost 100%.
The obtained block copolymer [C2] had a weight average molecular weight (Mw) of 40,000, a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.15, and wa:wb = 50:50.

(ブロック共重合体水素化物[D2]の調製)
次に、上記の重合体溶液を、製造例1と同様の耐圧反応器に移送し、水素化触媒として、珪藻土担持型ニッケル触媒(製品名「製品名「E22U」、ニッケル担持量60%、日揮触媒化成社製)7.0部、および脱水シクロヘキサン80部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度150℃、圧力3.0MPaにて1時間水素化反応を行い、引続いて温度190℃、圧力4.5MPaに昇温昇圧して6時間水素化反応を行った。
水素化反応により得られた反応溶液に含まれるブロック共重合体水素化物[D2]の重量平均分子量(Mw)は41,900、分子量分布(Mw/Mn)は1.20であった。
(Preparation of block copolymer hydride [D2])
Next, the above polymer solution is transferred to the same pressure-resistant reactor as in Production Example 1, and a diatomaceous earth-supported nickel catalyst (product name “E22U”, nickel loading 60%, JGC Catalyst Kasei Co., Ltd.) and 80 parts of dehydrated cyclohexane were added and mixed. The inside of the reactor is replaced with hydrogen gas, hydrogen is supplied while stirring the solution, hydrogenation reaction is carried out at a temperature of 150° C. and a pressure of 3.0 MPa for 1 hour, followed by a temperature of 190° C. and a pressure of 4.5 MPa. The temperature was elevated to 100°C and the hydrogenation reaction was carried out for 6 hours.
The hydrogenated block copolymer [D2] contained in the reaction solution obtained by the hydrogenation reaction had a weight average molecular weight (Mw) of 41,900 and a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.20.

水素化反応終了後、反応溶液を濾過して水素化触媒を除去した後、製造例1と同じフェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]0.1部を溶解したキシレン溶液2.0部を添加して、溶解させて溶液を得た。
次いで、上記溶液を製造例1と同様に処理して、ブロック共重合体水素化物[D2]のペレット93部を製造した。
製造したペレット状のブロック共重合体水素化物[D2]は、重量平均分子量(Mw)が41,400、分子量分布(Mw/Mn)が1.25、鎖状共役ジエン化合物に由来する主鎖及び側鎖の炭素-炭素の二重結合の水素化率、並びに、芳香族ビニル化合物に由来する芳香環の炭素-炭素二重結合の水素化率は、いずれもほぼ100%であった。
After completion of the hydrogenation reaction, the reaction solution was filtered to remove the hydrogenation catalyst, and pentaerythrityl tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl 2.0 parts of a xylene solution containing 0.1 part of 4-hydroxyphenyl)propionate] was added and dissolved to obtain a solution.
Next, the above solution was treated in the same manner as in Production Example 1 to produce 93 parts of pellets of hydrogenated block copolymer [D2].
The produced pellet-shaped block copolymer hydride [D2] has a weight average molecular weight (Mw) of 41,400, a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.25, and a main chain derived from a chain conjugated diene compound and The hydrogenation rate of the carbon-carbon double bond of the side chain and the hydrogenation rate of the carbon-carbon double bond of the aromatic ring derived from the aromatic vinyl compound were both approximately 100%.

(変性ブロック共重合体水素化物[E2]の調製)
ブロック共重合体水素化物[D1]に代えてブロック共重合体水素化物[D2]のペレットを使用する以外は製造例1と同様にしてアルコキシシリル基を有する変性ブロック共重合体水素化物[E2]のペレット96部を得た。ペレットには約100ppmのブロッキング防止剤(エチレンビスステアリン酸アマイドの微粉)を追加添加した。
(Preparation of modified block copolymer hydride [E2])
Modified block copolymer hydride [E2] having an alkoxysilyl group in the same manner as in Production Example 1, except that pellets of block copolymer hydride [D2] are used instead of block copolymer hydride [D1] 96 parts of pellets of About 100 ppm of an antiblocking agent (ethylene bis stearamide fine powder) was additionally added to the pellets.

製造例1と同様に分析した結果、変性ブロック共重合体水素化物[E2]はブロック共重合体水素化物[D2]100部に対してビニルトリメトキシシラン1.8部が結合したことが確認された。 As a result of analysis in the same manner as in Production Example 1, it was confirmed that 100 parts of hydrogenated block copolymer [E2] and 1.8 parts of vinyltrimethoxysilane were bonded to 100 parts of hydrogenated block copolymer [D2]. rice field.

(変性ブロック共重合体水素化物[E2]を主成分とする成形体[F2]の調製)
変性ブロック共重合体水素化物[E1]に代えて変性ブロック共重合体水素化物[E2]のペレットを使用する以外は製造例1と同様にして、紫外線吸収剤である2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノールを添加して、シート状の成形体[F2](厚さ0.40mm、幅230mm)を作製した。
(Preparation of molded article [F2] containing hydrogenated modified block copolymer [E2] as main component)
2-(2H-benzotriazole, which is an ultraviolet absorber, is prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the modified block copolymer hydride [E2] is used instead of the modified block copolymer hydride [E1]. -2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol was added to prepare a sheet-like compact [F2] (thickness: 0.40 mm, width: 230 mm).

[実施例1]
(工程1)コロナ放電および珪素化合物との接触(処理(ii))
ポリカーボネート樹脂成形体[G1](帝人化成社製、製品名「パンライトシート」、PC-2151、厚さ0.5mmのシート状)から、縦300mm×横200mmのシート状の試験片を作製し、この試験片の片面に対して、コロナ表面処理装置(ウェッジ社製、製品名「A3SW-LW」)を使用してコロナ放電による表面加工(出力:60W、電極とポリカーボネート樹脂成形体[G1]の距離:10mm、処理速度:1m/分)を行った。
上記コロナ放電を行なった樹脂成形体[G1c]の被加工面を、珪素化合物である3-アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製、製品名「KBM903」)の水溶液(濃度:2%)に浸漬した後、オーブン中で110℃、5分の条件で乾燥した。
[Example 1]
(Step 1) Corona discharge and contact with silicon compound (treatment (ii))
A sheet-shaped test piece with a length of 300 mm and a width of 200 mm was prepared from a polycarbonate resin molded body [G1] (manufactured by Teijin Chemicals, product name “Panlite Sheet”, PC-2151, sheet with a thickness of 0.5 mm). , On one side of this test piece, using a corona surface treatment device (manufactured by Wedge, product name “A3SW-LW”), surface processing by corona discharge (output: 60 W, electrode and polycarbonate resin molded body [G1] distance: 10 mm, processing speed: 1 m/min).
The surface to be processed of the resin molding [G1c] subjected to the above corona discharge was immersed in an aqueous solution (concentration: 2%) of 3-aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name "KBM903"), which is a silicon compound. After immersion, it was dried in an oven at 110°C for 5 minutes.

上記のコロナ放電及びそれに続く珪素化合物との接触による処理(ii)を行った樹脂成形体[G1cs]を、25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間及び48時間保持した。 The resin molding [G1cs] subjected to the treatment (ii) by the above corona discharge and subsequent contact with a silicon compound was held under environmental conditions of 25° C. and 50% RH for 1 hour, 24 hours and 48 hours. .

(工程2)積層および加熱圧着
上記の25℃、50%RHの環境で1時間保持したシート状の樹脂成形体[G1cs-1h]の被処理面と、製造例1で調製したシート状の成形体[F1]から切り出した縦300mm×横200mmの試験片を、縦端部の50mmには離形フィルムを挟み、対向させて重ねて積層物とした。
(Step 2) Lamination and thermocompression bonding The treated surface of the sheet-shaped resin molding [G1cs-1h] held for 1 hour in the above environment of 25 ° C. and 50% RH, and the sheet-shaped molding prepared in Production Example 1 A test piece having a length of 300 mm and a width of 200 mm cut out from the body [F1] was sandwiched with a release film at 50 mm of the longitudinal end portion, and the pieces were stacked to form a laminate.

この成形体[F1]と樹脂成形体[G1cs-1h]の積層物を、NY(ナイロン)/接着層/PP(ポリプロピレン)の層構成を有する厚さ75μmの樹脂製の袋に入れた。袋の開口部の中央部を200mm幅残して両側をヒートシーラーでヒートシールした後、密封パック器(パナソニック社製、製品名「BH-951」)を使用して、袋内を脱気しながら開口部をヒートシールして積層物を密封包装した。その後、密封包装した積層物をオートクレーブに入れて、温度140℃、圧力0.8MPaで30分間加熱圧着し、接合体H(F1/G1cs-1h)を作製した。 A laminate of this molded body [F1] and resin molded body [G1cs-1h] was placed in a 75 μm thick resin bag having a layer structure of NY (nylon)/adhesive layer/PP (polypropylene). After heat-sealing both sides with a heat sealer while leaving a 200 mm width at the center of the opening of the bag, use a sealed packer (manufactured by Panasonic, product name "BH-951") to deaerate the inside of the bag. The laminate was hermetically packaged by heat sealing the opening. Thereafter, the hermetically-packaged laminate was placed in an autoclave and heat-pressed at a temperature of 140° C. and a pressure of 0.8 MPa for 30 minutes to produce a joined body H (F1/G1cs-1h).

得られた接合体H(F1/G1cs-1h)からT形はく離試験片を切り出し、成形体[F1]と樹脂成形体[G1cs-1h]の接着面の接着性を評価した結果、剥離強度は17N/cmであり、接着性の評価は良好であった。 A T-shaped peel test piece was cut out from the resulting joined body H (F1/G1cs-1h), and the adhesion between the molded body [F1] and the resin molded body [G1cs-1h] was evaluated. As a result, the peel strength was It was 17 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was good.

接合体H(F1/G1cs-1h)の製造と同様にして、処理(ii)を行なった後25℃、50%RHの環境で24時間及び48時間保持した樹脂成形体[G1cs-24h]及び樹脂成形体[G1cs-48h]を使用して、成形体[F1]と樹脂成形体[G1cs-24h]及び樹脂成形体[G1cs-48h]を接着した接合体H(F1/G1cs-24h)及び接合体H(F1/G1cs-48h)を作製した。
接合体H(F1/G1cs-1h)と同様にして、接合体H(F1/G1cs-24h)及び接合体H(F1/G1cs-48h)における接着面の接着性を評価した結果、剥離強度は接合体H(F1/G1cs-24h)では16N/cm、接合体H(F1/G1cs-48h)では15N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
Resin moldings [G1cs-24h] that were held in an environment of 25° C. and 50% RH for 24 hours and 48 hours after the treatment (ii) was performed in the same manner as in the production of joined body H (F1/G1cs-1h), and Bonded body H (F1/G1cs-24h) in which molded body [F1], resin molded body [G1cs-24h] and resin molded body [G1cs-48h] are bonded using resin molded body [G1cs-48h] and Conjugate H (F1/G1cs-48h) was made.
As a result of evaluating the adhesiveness of the adhesive surfaces of the conjugate H (F1/G1cs-24h) and the conjugate H (F1/G1cs-48h) in the same manner as the conjugate H (F1/G1cs-1h), the peel strength was The bond H (F1/G1cs-24h) was 16 N/cm, and the bond H (F1/G1cs-48h) was 15 N/cm.

[比較例1]
珪素化合物に接触させないこと以外は実施例1と同様にして、実施例1と同様のポリカーボネート樹脂成形体[G1]の片面に対してコロナ放電を行った。
[Comparative Example 1]
Corona discharge was applied to one side of the polycarbonate resin molding [G1] similar to that of Example 1 in the same manner as in Example 1 except that it was not brought into contact with the silicon compound.

上記のコロナ放電による表面加工を行った樹脂成形体[G1c]を実施例1と同様に25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間及び48時間保持した。その後、それぞれ製造例1で作製した成形体[F1]を重ねて、実施例1と同様にして接合体H(F1/G1c-1h)、接合体H(F1/G1c-24h)及び接合体H(F1/G1c-48h)を作製した。 As in Example 1, the resin molding [G1c] subjected to surface processing by corona discharge was held under environmental conditions of 25° C. and 50% RH for 1 hour, 24 hours and 48 hours. After that, the compacts [F1] prepared in Production Example 1 were superimposed, and joined body H (F1/G1c-1h), joined body H (F1/G1c-24h), and joined body H in the same manner as in Example 1. (F1/G1c-48h) was produced.

実施例1と同様にして、接合体H(F1/G1c-1h)、接合体H(F1/G1c-24h)、及び接合体H(F1/G1c-1h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F1/G1c-1h)の剥離強度は12N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F1/G1c-24h)及び接合体H(F1/G1c-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, the adhesiveness of the adhesive surface was evaluated for conjugate H (F1/G1c-1h), conjugate H (F1/G1c-24h), and conjugate H (F1/G1c-1h). .
The peel strength of the bonded body H (F1/G1c-1h) was 12 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was good. 48h), the peel strength was all less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例2]
(工程1)珪素化合物存在下でのプラズマ照射(処理(i))
実施例1で使用したのと同様のポリカーボネート樹脂成形体[G1]から、縦200mm×横100mmの試験片を作製し、この試験片の片面に対して、常圧プラズマ処理装置(AcXys Technologies社製、製品名「UL-Coat」)を使用して、以下の条件で、珪素化合物であるヘキサメチルジシランの存在下、プラズマ照射を行なった。
出力:0.2kW、
ノズル―基材間距離(プラズマ発生源とポリカーボネート樹脂成形体[G1]との距離):15mm、
テーブル速度:320mm/分、
空気流量:5L/分、
珪素化合物(ヘキサメチルジシラン)流量:0.12g/分
なお、キャリアガス(空気)と気化した珪素化合物との混合ガス中の珪素化合物の濃度は、2.4×10-2g/Lであった。
[Example 2]
(Step 1) Plasma irradiation in the presence of a silicon compound (treatment (i))
A test piece with a length of 200 mm and a width of 100 mm was prepared from the same polycarbonate resin molding [G1] as used in Example 1, and one side of the test piece was treated with an atmospheric pressure plasma treatment apparatus (manufactured by AcXys Technologies , product name “UL-Coat”), plasma irradiation was performed in the presence of hexamethyldisilane, which is a silicon compound, under the following conditions.
Output: 0.2kW,
Nozzle-substrate distance (distance between plasma generation source and polycarbonate resin molding [G1]): 15 mm,
table speed: 320mm/min,
air flow rate: 5 L/min,
Silicon compound (hexamethyldisilane) flow rate: 0.12 g/min The concentration of the silicon compound in the mixed gas of the carrier gas (air) and the vaporized silicon compound was 2.4×10 −2 g/L. rice field.

上記の珪素化合物の存在下でのプラズマ照射による処理(i)を行った樹脂成形体[G1sp]を実施例1と同様に25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間又及び48時間保持した。 In the same manner as in Example 1, the resin molding [G1sp] subjected to the treatment (i) by plasma irradiation in the presence of the silicon compound was subjected to environmental conditions of 25° C. and 50% RH for 1 hour, 24 hours, or and held for 48 hours.

(工程2)積層および加熱圧着
その後、それぞれ製造例1で調製した成形体[F1]を重ねて、実施例1と同様にして接合体H(F1/G1sp-1h)、接合体H(F1/G1sp-24h)及び接合体H(F1/G1sp-48h)を作製した。
(Step 2) Lamination and thermocompression bonding After that, the compacts [F1] prepared in Production Example 1 were stacked, and joined body H (F1/G1sp-1h) and joined body H (F1/ G1sp-24h) and conjugate H (F1/G1sp-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F1/G1sp-1h)、接合体H(F1/G1sp-24h)及び接合体H(F1/G1sp-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F1/G1sp-1h)の剥離強度は16N/cm、接合体H(F1/G1sp-24h)の剥離強度は15N/cm、接合体H(F1/G1sp-48h)の剥離強度は15N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F1/G1sp-1h), conjugate H (F1/G1sp-24h) and conjugate H (F1/G1sp-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F1/G1sp-1h) is 16 N/cm, the peel strength of conjugate H (F1/G1sp-24h) is 15 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F1/G1sp-48h) is It was 15 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例2]
珪素化合物を導入しないこと以外は実施例2と同様にして、実施例2と同様のポリカーボネート樹脂成形体[G1]の片面に対してプラズマ照射を行った。
[Comparative Example 2]
In the same manner as in Example 2 except that the silicon compound was not introduced, one surface of the polycarbonate resin molding [G1] similar to that in Example 2 was irradiated with plasma.

上記のプラズマ照射による表面加工を行った樹脂成形体[G1p]を実施例2と同様に25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間及び48時間保持した。その後、それぞれ製造例1で作製した成形体[F1]を重ねて、実施例1と同様にして接合体H(F1/G1p-1h)、接合体H(F1/G1p-24h)及び接合体H(F1/G1p-48h)を作製した。 As in Example 2, the resin molding [G1p] surface-treated by plasma irradiation was held under the environmental conditions of 25° C. and 50% RH for 1 hour, 24 hours and 48 hours. After that, the compacts [F1] prepared in Production Example 1 were superimposed, and joined body H (F1/G1p-1h), joined body H (F1/G1p-24h), and joined body H in the same manner as in Example 1. (F1/G1p-48h) was produced.

実施例1と同様にして、接合体H(F1/G1p-1h)、接合体H(F1/G1p-24h)及び接合体H(F1/G1p-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F1/G1p-1h)の剥離強度は11N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F1/G1p-24h)及び接合体H(F1/G1p-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F1/G1p-1h), conjugate H (F1/G1p-24h) and conjugate H (F1/G1p-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of the conjugate H (F1/G1p-1h) was 11 N/cm, and the evaluation of adhesion was good. 48h), the peel strength was all less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例3]
(工程1)珪素化合物存在下での火炎吹き付け(処理(i))
実施例1で使用したのと同様のポリカーボネート樹脂成形体[G1]から、なる縦200mm×横200mmの試験片を作製し、この試験片の片面に対して、火炎処理装置(イトロ社製、製品名「イトロ処理装置」)を使用して、以下の条件で、珪素化合物であるヘキサメチルジシランの存在下、火炎吹き付けを行なった。
バーナーノズルから処理対象物までの距離:50mm、
空気流量:150L/分、
可燃ガス(LPG)流量:8L/分、
珪素化合物(ヘキサメチルジシラン)流量:4.7g/分
テーブル速度:760mm/秒
処理回数:1往復
なお、キャリアガス(空気とLPG)と気化した珪素化合物との混合ガス中の珪素化合物の濃度は、3.0×10-2g/Lであった。
[Example 3]
(Step 1) Flame spraying in the presence of a silicon compound (treatment (i))
A test piece with a length of 200 mm and a width of 200 mm was prepared from the same polycarbonate resin molding [G1] as used in Example 1, and one side of the test piece was treated with a flame treatment device (manufactured by Itro Co., Ltd., product Flame spraying was carried out in the presence of hexamethyldisilane, which is a silicon compound, under the following conditions using the name "Itro processing apparatus".
Distance from burner nozzle to object to be treated: 50 mm,
air flow rate: 150 L/min,
Combustible gas (LPG) flow rate: 8 L / min,
Silicon compound (hexamethyldisilane) flow rate: 4.7 g/min Table speed: 760 mm/sec Number of treatments: 1 reciprocation Incidentally, the concentration of the silicon compound in the mixed gas of the carrier gas (air and LPG) and the vaporized silicon compound was , 3.0×10 −2 g/L.

上記の珪素化合物の存在下での火炎吹き付けによる表面加工を行った樹脂成形体[G1sf]を実施例1と同様に25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間及び48時間保持した。 In the same manner as in Example 1, the resin molding [G1sf] subjected to the surface treatment by flame spraying in the presence of the silicon compound was subjected to environmental conditions of 25° C. and 50% RH for 1 hour, 24 hours and 48 hours. held.

(工程2)積層および加熱圧着
その後、それぞれ製造例1で調製した成形体[F1]を重ねて、実施例1と同様にして接合体H(F1/G1sf-1h)、接合体H(F1/G1sf-24h)及び接合体H(F1/G1sf-48h)を作製した。
(Step 2) Lamination and thermocompression bonding After that, the compacts [F1] prepared in Production Example 1 were respectively stacked, and in the same manner as in Example 1, joined body H (F1/G1sf-1h), joined body H (F1/ G1sf-24h) and conjugate H (F1/G1sf-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F1/G1sf-1h)、接合体H(F1/G1sf-24h)及び接合体H(F1/G1sf-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F1/G1sf-1h)の剥離強度は16N/cm、接合体H(F1/G1sf-24h)の剥離強度は14N/cm、接合体H(F1/G1sf-48h)の剥離強度は13N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F1/G1sf-1h), conjugate H (F1/G1sf-24h) and conjugate H (F1/G1sf-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F1/G1sf-1h) is 16 N/cm, the peel strength of conjugate H (F1/G1sf-24h) is 14 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F1/G1sf-48h) is It was 13 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例3]
珪素化合物を導入しないこと以外は実施例3と同様にして、実施例3と同様のポリカーボネート樹脂成形体[G1]に対して火炎吹き付けを行った。
[Comparative Example 3]
The same polycarbonate resin molding [G1] as in Example 3 was subjected to flame spraying in the same manner as in Example 3, except that no silicon compound was introduced.

上記の火炎吹き付けによる表面加工を行った樹脂成形体[G1f]を実施例3と同様に25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間及び48時間保持した。その後、それぞれ製造例1で作製した成形体[F1]を重ねて、実施例1と同様にして接合体H(F1/G1f-1h)、接合体H(F1/G1f-24h)及び接合体H(F1/G1f-48h)を作製した。 As in Example 3, the resin molding [G1f] subjected to surface treatment by flame spraying was held under environmental conditions of 25° C. and 50% RH for 1 hour, 24 hours and 48 hours. After that, the compacts [F1] prepared in Production Example 1 were superimposed, and joined body H (F1/G1f-1h), joined body H (F1/G1f-24h), and joined body H in the same manner as in Example 1. (F1/G1f-48h) was produced.

実施例1と同様にして、接合体H(F1/G1f-1h)、接合体H(F1/G1f-24h)及び接合体H(F1/G1f-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F1/G1f-1h)の剥離強度は10N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F1/G1f-24h)及び接合体H(F1/G1f-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F1/G1f-1h), conjugate H (F1/G1f-24h) and conjugate H (F1/G1f-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surfaces.
The peel strength of the joined body H (F1/G1f-1h) was 10 N/cm, and the adhesive evaluation was good. 48h), the peel strength was all less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例4]
製造例1で調製したシート状の成形体[F1]に代えて製造例2で調製したシート状の成形体[F2]を使用する以外は実施例1と同様にして、接合体H(F2/G1cs-1h)、H(F2/G1cs-24h)及びH(F2/G1cs-48h)を作製した。
[Example 4]
Joined body H (F2/ G1cs-1h), H(F2/G1cs-24h) and H(F2/G1cs-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G1cs-1h)、接合体H(F2/G1cs-24h)及び接合体H(F2/G1cs-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G1cs-1h)の剥離強度は16N/cm、接合体H(F1/G2cs-24h)の剥離強度は15N/cm、接合体H(F1/G2cs-48h)の剥離強度は15N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G1cs-1h), conjugate H (F2/G1cs-24h), and conjugate H (F2/G1cs-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F2/G1cs-1h) is 16 N/cm, the peel strength of conjugate H (F1/G2cs-24h) is 15 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F1/G2cs-48h) is It was 15 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例4]
製造例1で調製したシート状の成形体[F1]に代えて製造例2で調製したシート状の成形体[F2]を使用する以外は比較例1と同様にして、接合体H(F2/G1c-1h)、H(F2/G1c-24h)及びH(F2/G1c-48h)を作製した。
[Comparative Example 4]
Joined body H (F2/ G1c-1h), H(F2/G1c-24h) and H(F2/G1c-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G1c-1h)、接合体H(F2/G1c-24h)、及び接合体H(F2/G1c-1h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G1c-1h)の剥離強度は12N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F2/G1c-24h)及び接合体H(F2/G1c-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, the adhesiveness of the adhesive surface was evaluated for conjugate H (F2/G1c-1h), conjugate H (F2/G1c-24h), and conjugate H (F2/G1c-1h). .
The peel strength of the conjugate H (F2/G1c-1h) was 12 N/cm, and the evaluation of adhesion was good. 48 h), the peel strength was less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例5]
製造例1で調製したシート状の成形体[F1]に代えて製造例2で調製したシート状の成形体[F2]を使用する以外は実施例2と同様にして、接合体H(F2/G1sp-1h)、H(F2/G1sp-24h)及びH(F2/G1sp-48h)を作製した。
[Example 5]
Joined body H (F2/ G1sp-1h), H(F2/G1sp-24h) and H(F2/G1sp-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G1sp-1h)、接合体H(F2/G1sp-24h)及び接合体H(F2/G1sp-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G1sp-1h)の剥離強度は16N/cm、接合体H(F1/G2sp-24h)の剥離強度は15N/cm、接合体H(F1/G2sp-48h)の剥離強度は14N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G1sp-1h), conjugate H (F2/G1sp-24h) and conjugate H (F2/G1sp-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F2/G1sp-1h) is 16 N/cm, the peel strength of conjugate H (F1/G2sp-24h) is 15 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F1/G2sp-48h) is It was 14 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例5]
製造例1で調製したシート状の成形体[F1]に代えて製造例2で調製したシート状の成形体[F2]を使用する以外は比較例2と同様にして、接合体H(F2/G1p-1h)、H(F2/G1p-24h)及びH(F2/G1p-48h)を作製した。
[Comparative Example 5]
Joined body H (F2/ G1p-1h), H(F2/G1p-24h) and H(F2/G1p-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G1p-1h)、接合体H(F2/G1p-24h)及び接合体H(F2/G1p-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G1p-1h)の剥離強度は10N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F2/G1p-24h)及び接合体H(F2/G1p-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G1p-1h), conjugate H (F2/G1p-24h) and conjugate H (F2/G1p-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of the conjugate H (F2/G1p-1h) was 10 N/cm, and the evaluation of adhesion was good. 48h), the peel strength was all less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例6]
製造例1で調製したシート状の成形体[F1]に代えて製造例2で調製したシート状の成形体[F2]を使用する以外は実施例3と同様にして、接合体H(F2/G1sf-1h)、H(F2/G1sf-24h)及びH(F2/G1sf-48h)を作製した。
[Example 6]
Joined body H (F2/ G1sf-1h), H(F2/G1sf-24h) and H(F2/G1sf-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G1sf-1h)、接合体H(F2/G1sf-24h)及び接合体H(F2/G1sf-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G1sf-1h)の剥離強度は15N/cm、接合体H(F2/G1sf-24h)の剥離強度は13N/cm、接合体H(F2/G1sf-48h)の剥離強度は13N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G1sf-1h), conjugate H (F2/G1sf-24h), and conjugate H (F2/G1sf-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F2/G1sf-1h) is 15 N/cm, the peel strength of conjugate H (F2/G1sf-24h) is 13 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F2/G1sf-48h) is It was 13 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例6]
製造例1で調製したシート状の成形体[F1]に代えて製造例2で調製したシート状の成形体[F2]を使用する以外は比較例3と同様にして、接合体H(F2/G1f-1h)、H(F2/G1f-24h)及びH(F2/G1f-48h)を作製した。
[Comparative Example 6]
Joined body H (F2/ G1f-1h), H(F2/G1f-24h) and H(F2/G1f-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G1f-1h)、接合体H(F2/G1f-24h)及び接合体H(F2/G1f-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G1f-1h)の剥離強度は10N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F2/G1f-24h)及び接合体H(F2/G1f-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G1f-1h), conjugate H (F2/G1f-24h), and conjugate H (F2/G1f-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surfaces.
The peel strength of the conjugate H (F2/G1f-1h) was 10 N/cm, and the evaluation of adhesion was good. 48h), the peel strength was all less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例7]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えてポリエチレンテレフタレート樹脂成形体[G2](アクリサンデー社製、製品名「サンデーPET」、厚さ0.5mmのシート状)を使用する以外は、実施例4と同様にして接合体H(F2/G2cs-1h)、H(F2/G2cs-24h)及びH(F2/G2cs-48h)を作製した。
[Example 7]
Same as Example 4, except that a polyethylene terephthalate resin molded product [G2] (manufactured by Acrysunday Co., Ltd., product name "Sunday PET", sheet shape with a thickness of 0.5 mm) was used instead of the polycarbonate resin molded product [G1]. Conjugates H(F2/G2cs-1h), H(F2/G2cs-24h) and H(F2/G2cs-48h) were produced by

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G2cs-1h)、接合体H(F2/G2cs-24h)及び接合体H(F2/G2cs-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G2cs-1h)の剥離強度は18N/cm、接合体H(F2/G2cs-24h)の剥離強度は17N/cm、接合体H(F2/G2cs-48h)の剥離強度は15N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G2cs-1h), conjugate H (F2/G2cs-24h), and conjugate H (F2/G2cs-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F2/G2cs-1h) is 18 N/cm, the peel strength of conjugate H (F2/G2cs-24h) is 17 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F2/G2cs-48h) is It was 15 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例7]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えてポリエチレンテレフタレート樹脂成形体[G2]を使用する以外は、比較例4と同様にして接合体H(F2/G2c-1h)、H(F2/G2c-24h)及びH(F2/G2c-48h)を作製した。
[Comparative Example 7]
Joined bodies H (F2/G2c-1h) and H (F2/G2c-24h) were prepared in the same manner as in Comparative Example 4, except that polyethylene terephthalate resin molded body [G2] was used instead of polycarbonate resin molded body [G1]. and H(F2/G2c-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G2c-1h)、接合体H(F2/G2c-24h)及び接合体H(F2/G2c-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G2c-1h)の剥離強度は13N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F2/G2c-24h)及び接合体H(F2/G2c-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G2c-1h), conjugate H (F2/G2c-24h), and conjugate H (F2/G2c-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of the joined body H (F2/G2c-1h) was 13 N/cm, and the adhesive evaluation was good. 48 h), the peel strength was less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例8]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えてポリエチレンテレフタレート樹脂成形体[G2]を使用する以外は、実施例5と同様にして接合体H(F2/G2sp-1h)、H(F2/G2sp-24h)及びH(F2/G2sp-48h)を作製した。
[Example 8]
Joined bodies H (F2/G2sp-1h) and H (F2/G2sp-24h) were prepared in the same manner as in Example 5, except that polyethylene terephthalate resin molded body [G2] was used instead of polycarbonate resin molded body [G1]. and H(F2/G2sp-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G2sp-1h)、接合体H(F2/G2sp-24h)及び接合体H(F2/G2sp-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G2sp-1h)の剥離強度は19N/cm、接合体H(F2/G2sp-24h)の剥離強度は17N/cm、接合体H(F2/G2sp-48h)の剥離強度は16N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G2sp-1h), conjugate H (F2/G2sp-24h) and conjugate H (F2/G2sp-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F2/G2sp-1h) is 19 N/cm, the peel strength of conjugate H (F2/G2sp-24h) is 17 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F2/G2sp-48h) is It was 16 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例8]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えてポリエチレンテレフタレート樹脂成形体[G2]を使用する以外は、比較例5と同様にして接合体H(F2/G2p-1h)、H(F2/G2p-24h)及びH(F2/G2p-48h)を作製した。
[Comparative Example 8]
Joined bodies H (F2/G2p-1h) and H (F2/G2p-24h) were prepared in the same manner as in Comparative Example 5, except that polyethylene terephthalate resin molded body [G2] was used instead of polycarbonate resin molded body [G1]. and H(F2/G2p-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G2p-1h)、接合体H(F2/G2p-24h)及び接合体H(F2/G2p-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G2p-1h)の剥離強度は11N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F2/G2p-24h)及び接合体H(F2/G2p-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G2p-1h), conjugate H (F2/G2p-24h), and conjugate H (F2/G2p-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of the conjugate H (F2/G2p-1h) was 11 N/cm, and the evaluation of adhesion was good. 48h), the peel strength was all less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例9]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えてポリエチレンテレフタレート樹脂成形体[G2]を使用する以外は、実施例6と同様にして接合体H(F2/G2sf-1h)、H(F2/G2sf-24h)及びH(F2/G2sf-48h)を作製した。
[Example 9]
Joined bodies H (F2/G2sf-1h) and H (F2/G2sf-24h) were prepared in the same manner as in Example 6, except that polyethylene terephthalate resin molded body [G2] was used instead of polycarbonate resin molded body [G1]. and H(F2/G2sf-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G2sf-1h)、接合体H(F2/G2sf-24h)及び接合体H(F2/G2sf-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G2sf-1h)の剥離強度は16N/cm、接合体H(F2/G2sf-24h)の剥離強度は14N/cm、接合体H(F2/G2sf-48h)の剥離強度は13N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G2sf-1h), conjugate H (F2/G2sf-24h), and conjugate H (F2/G2sf-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F2/G2sf-1h) is 16 N/cm, the peel strength of conjugate H (F2/G2sf-24h) is 14 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F2/G2sf-48h) is It was 13 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例9]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えてポリエチレンテレフタレート樹脂成形体[G2]を使用する以外は、比較例6と同様にして接合体H(F2/G2f-1h)、H(F2/G2f-24h)及びH(F2/G2f-48h)を作製した。
[Comparative Example 9]
Joined bodies H (F2/G2f-1h) and H (F2/G2f-24h) were prepared in the same manner as in Comparative Example 6, except that polyethylene terephthalate resin molded body [G2] was used instead of polycarbonate resin molded body [G1]. and H(F2/G2f-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G2f-1h)、接合体H(F2/G2f-24h)及び接合体H(F2/G2f-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G2f-1h)の剥離強度は12N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F2/G2f-24h)及び接合体H(F2/G2f-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G2f-1h), conjugate H (F2/G2f-24h), and conjugate H (F2/G2f-48h) were evaluated for adhesion of the adhesive surfaces.
The peel strength of the joined body H (F2/G2f-1h) was 12 N/cm, and the adhesive evaluation was good. 48 h), the peel strength was less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例10]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えて硬質塩化ビニル樹脂成形体[G3](アクリサンデー社製、製品名「サンデーシート」、透明タイプ、厚さ0.5mmのシート状)を使用する以外は、実施例4と同様にして接合体H(F2/G3cs-1h)、H(F2/G3cs-24h)及びH(F2/G3cs-48h)を作製した。
[Example 10]
Except for using a rigid vinyl chloride resin molded body [G3] (manufactured by Acrysunday Co., Ltd., product name "Sunday Sheet", transparent type, sheet shape with a thickness of 0.5 mm) instead of the polycarbonate resin molded body [G1] Similar to Example 4, conjugates H(F2/G3cs-1h), H(F2/G3cs-24h) and H(F2/G3cs-48h) were produced.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G3cs-1h)、接合体H(F2/G3cs-24h)及び接合体H(F2/G3cs-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G3cs-1h)の剥離強度は20N/cm、接合体H(F2/G3cs-24h)の剥離強度は18N/cm、接合体H(F2/G3cs-48h)の剥離強度は17N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G3cs-1h), conjugate H (F2/G3cs-24h), and conjugate H (F2/G3cs-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F2/G3cs-1h) is 20 N/cm, the peel strength of conjugate H (F2/G3cs-24h) is 18 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F2/G3cs-48h) is It was 17 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例10]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えて硬質塩化ビニル樹脂成形体[G3]を使用する以外は、比較例4と同様にして接合体H(F2/G3c-1h)、H(F2/G3c-24h)及びH(F2/G3c-48h)を作製した。
[Comparative Example 10]
Joined bodies H (F2/G3c-1h) and H (F2/G3c-24h) were prepared in the same manner as in Comparative Example 4, except that the rigid vinyl chloride resin molded body [G3] was used instead of the polycarbonate resin molded body [G1]. ) and H(F2/G3c-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G3c-1h)、接合体H(F2/G3c-24h)及び接合体H(F2/G3c-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G3c-1h)の剥離強度は15N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F2/G3c-24h)及び接合体H(F2/G3c-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G3c-1h), conjugate H (F2/G3c-24h), and conjugate H (F2/G3c-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surfaces.
The peel strength of the conjugate H (F2/G3c-1h) was 15 N/cm, and the evaluation of adhesion was good. 48 h), the peel strength was less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例11]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えて硬質塩化ビニル樹脂成形体[G3]を使用する以外は、実施例5と同様にして接合体H(F2/G3sp-1h)、H(F2/G3sp-24h)及びH(F2/G3sp-48h)を作製した。
[Example 11]
Joined bodies H (F2/G3sp-1h) and H (F2/G3sp-24h) were prepared in the same manner as in Example 5, except that the rigid vinyl chloride resin molded body [G3] was used instead of the polycarbonate resin molded body [G1]. ) and H(F2/G3sp-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G3sp-1h)、接合体H(F2/G3sp-24h)及び接合体H(F2/G3sp-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G3sp-1h)の剥離強度は21N/cm、接合体H(F2/G3sp-24h)の剥離強度は19N/cm、接合体H(F2/G3sp-48h)の剥離強度は18N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G3sp-1h), conjugate H (F2/G3sp-24h) and conjugate H (F2/G3sp-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F2/G3sp-1h) is 21 N/cm, the peel strength of conjugate H (F2/G3sp-24h) is 19 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F2/G3sp-48h) is It was 18 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例11]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えて硬質塩化ビニル樹脂成形体[G3]を使用する以外は、比較例5と同様にして接合体H(F2/G3p-1h)、H(F2/G3p-24h)及びH(F2/G3p-48h)を作製した。
[Comparative Example 11]
Joined bodies H (F2/G3p-1h) and H (F2/G3p-24h) were prepared in the same manner as in Comparative Example 5, except that the rigid vinyl chloride resin molded body [G3] was used instead of the polycarbonate resin molded body [G1]. ) and H(F2/G3p-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G3p-1h)、接合体H(F2/G3p-24h)及び接合体H(F2/G3p-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G3p-1h)の剥離強度は13N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F2/G3p-24h)及び接合体H(F2/G3p-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G3p-1h), conjugate H (F2/G3p-24h) and conjugate H (F2/G3p-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of the conjugate H (F2/G3p-1h) was 13 N/cm, and the evaluation of adhesion was good. 48h), the peel strength was all less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例12]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えて硬質塩化ビニル樹脂成形体[G3]を使用する以外は、実施例6と同様にして接合体H(F2/G3sf-1h)、H(F2/G3sf-24h)及びH(F2/G3sf-48h)を作製した。
[Example 12]
Joined bodies H (F2/G3sf-1h) and H (F2/G3sf-24h) were prepared in the same manner as in Example 6, except that the rigid vinyl chloride resin molded body [G3] was used instead of the polycarbonate resin molded body [G1]. ) and H(F2/G3sf-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G3sf-1h)、接合体H(F2/G3sf-24h)及び接合体H(F2/G3sf-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G3sf-1h)の剥離強度は16N/cm、接合体H(F2/G3sf-24h)の剥離強度は13N/cm、接合体H(F2/G3sf-48h)の剥離強度は12N/cmであり、接着性の評価はいずれも良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G3sf-1h), conjugate H (F2/G3sf-24h), and conjugate H (F2/G3sf-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F2/G3sf-1h) is 16 N/cm, the peel strength of conjugate H (F2/G3sf-24h) is 13 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F2/G3sf-48h) is It was 12 N/cm, and all evaluations of adhesiveness were good.

[比較例12]
ポリカーボネート樹脂成形体[G1]に代えて硬質塩化ビニル樹脂成形体[G3]を使用する以外は、比較例6と同様にして接合体H(F2/G3f-1h)、H(F2/G3f-24h)及びH(F2/G3f-48h)を作製した。
[Comparative Example 12]
Joined bodies H (F2/G3f-1h) and H (F2/G3f-24h) were prepared in the same manner as in Comparative Example 6 except that the rigid vinyl chloride resin molded body [G3] was used instead of the polycarbonate resin molded body [G1]. ) and H(F2/G3f-48h) were generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F2/G3f-1h)、接合体H(F2/G3f-24h)及び接合体H(F2/G3f-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F2/G3f-1h)の剥離強度は10N/cmであり、接着性の評価は良好であったが、接合体H(F2/G3f-24h)及び接合体H(F2/G3f-48h)の剥離強度はいずれも4N/cm未満であり、接着性の評価は不良であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F2/G3f-1h), conjugate H (F2/G3f-24h), and conjugate H (F2/G3f-48h) were evaluated for adhesion of the adhesive surfaces.
The peel strength of the joined body H (F2/G3f-1h) was 10 N/cm, and the adhesive evaluation was good. 48h), the peel strength was all less than 4 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was unsatisfactory.

[実施例13]
(工程1)プラズマ照射および珪素化合物との接触(処理(ii))
珪素化合物を導入しないこと以外は実施例2と同様にして、実施例2と同様のポリカーボネート樹脂成形体[G1]に対してプラズマ照射を行った。
[Example 13]
(Step 1) Plasma irradiation and contact with a silicon compound (treatment (ii))
The same polycarbonate resin molding [G1] as in Example 2 was irradiated with plasma in the same manner as in Example 2, except that no silicon compound was introduced.

上記のプラズマ照射を行なった樹脂成形体[G1p]の被加工面を、珪素化合物である3-アミノプロピルトリメトキシシランの水溶液(濃度:2%)に浸漬した後、オーブン中で110℃、5分の条件で乾燥した。 The surface to be processed of the resin molding [G1p] subjected to the above plasma irradiation was immersed in an aqueous solution (concentration: 2%) of 3-aminopropyltrimethoxysilane, which is a silicon compound, and then placed in an oven at 110°C for 5 hours. Dried under conditions of minutes.

(工程2)積層および加熱圧着
上記のプラズマ照射及びそれに続く珪素化合物との接触による処理(ii)を行った樹脂成形体[G1ps]を25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間及び48時間保持した。その後それぞれ製造例1で調製した成形体[F1]を重ねて、実施例1と同様にして接合体H(F1/G1ps-1h)、接合体H(F1/G1ps-24h)及び接合体H(F1/G1ps-48h)を作製した。
(Step 2) Lamination and thermocompression bonding The resin molded product [G1ps] subjected to the treatment (ii) by the above plasma irradiation and subsequent contact with a silicon compound under environmental conditions of 25 ° C. and 50% RH for 1 hour, Hold for 24 hours and 48 hours. After that, the compacts [F1] prepared in Production Example 1 were superimposed, and in the same manner as in Example 1, joined body H (F1/G1ps-1h), joined body H (F1/G1ps-24h) and joined body H ( F1/G1ps-48h) was produced.

実施例1と同様にして、接合体H(F1/G1ps-1h)、接合体H(F1/G1ps-24h)及び接合体H(F1/G1ps-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F1/G1ps-1h)の剥離強度は18N/cm、接合体H(F1/G1ps-24h)の剥離強度は16N/cm、接合体H(F1/G1ps-48h)の剥離強度は16N/cmであり、接着性の評価は良好であった。
In the same manner as in Example 1, the adhesiveness of the bonding surface was evaluated for conjugate H (F1/G1ps-1h), conjugate H (F1/G1ps-24h) and conjugate H (F1/G1ps-48h).
The peel strength of bonded body H (F1/G1ps-1h) is 18 N/cm, the peel strength of bonded body H (F1/G1ps-24h) is 16 N/cm, and the peel strength of bonded body H (F1/G1ps-48h) is It was 16 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was good.

[実施例14]
(工程1)紫外線照射および珪素化合物との接触(処理(ii))
実施例1で使用したのと同様のポリカーボネート樹脂成形体[G1]からなる縦200mm×横100mmのシート状の試験片を作製し、この試験片の片面に対して、キセノンエキシマ紫外線照射装置(エム・ディ・エキシマ社製、製品名「MECL-M-1-200」)を使用して、以下の条件で、紫外線照射(エキシマ紫外線照射)を行った。
照度:140mW/cm
ステージ温度:100℃、
試料と光源の距離(エキシマ紫外線ランプとポリカーボネート樹脂成形体[G1]の被照射面との距離):2mm、
処理環境:窒素ガス雰囲気下、酸素濃度0.1体積%、
ステージ可動速度:10mm/秒、
エキシマ光露光積算量:6500mJ/cm
[Example 14]
(Step 1) UV irradiation and contact with a silicon compound (treatment (ii))
A sheet-shaped test piece of 200 mm long × 100 mm wide was prepared from the same polycarbonate resin molded product [G1] as used in Example 1, and one side of this test piece was irradiated with a xenon excimer ultraviolet irradiation device (M · Ultraviolet irradiation (excimer ultraviolet irradiation) was performed under the following conditions using a product name "MECL-M-1-200" manufactured by Di-Excima.
Illuminance: 140 mW/cm 2 ,
Stage temperature: 100°C,
The distance between the sample and the light source (the distance between the excimer ultraviolet lamp and the irradiated surface of the polycarbonate resin molded body [G1]): 2 mm,
Processing environment: nitrogen gas atmosphere, oxygen concentration 0.1% by volume,
Stage movable speed: 10 mm/sec,
Accumulated amount of excimer light exposure: 6500 mJ/cm 2

上記のエキシマ紫外線照射を行なった樹脂成形体[G1uv]の被加工面を、珪素化合物である3-アミノプロピルトリメトキシシランの水溶液(濃度:2%)に浸漬した後、オーブン中で110℃、5分の条件で乾燥した。 After immersing the processed surface of the resin molding [G1uv] irradiated with the above excimer ultraviolet rays in an aqueous solution (concentration: 2%) of 3-aminopropyltrimethoxysilane, which is a silicon compound, in an oven at 110 ° C. It was dried under the conditions of 5 minutes.

(工程2)積層および加熱圧着
上記のエキシマ紫外線照射及びそれに続く珪素化合物との接触による処理(ii)を行った樹脂成形体[G1uvs]を25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間及び48時間保持した。その後それぞれ製造例1で調製した成形体[F1]を重ねて、実施例1と同様にして接合体H(F1/G1uvs-1h)、接合体H(F1/G1uvs-24h)及び接合体H(F1/G1uvs-48h)を作製した。
(Step 2) Lamination and thermocompression bonding The resin molded body [G1uvs] subjected to the above treatment (ii) by irradiation with excimer ultraviolet rays and subsequent contact with a silicon compound was placed under environmental conditions of 25° C. and 50% RH for 1 hour. , 24 hours and 48 hours. After that, the compacts [F1] prepared in Production Example 1 were superimposed, and in the same manner as in Example 1, joined body H (F1/G1uvs-1h), joined body H (F1/G1uvs-24h), and joined body H ( F1/G1uvs-48h) was generated.

実施例1と同様にして、接合体H(F1/G1uvs-1h)、接合体H(F1/G1uvs-24h)及び接合体H(F1/G1uvs-48h)について接着面の接着性を評価した。
接合体H(F1/G1uvs-1h)の剥離強度は14N/cm、接合体H(F1/G1uvs-24h)の剥離強度は13N/cm、接合体H(F1/G1uvs-48h)の剥離強度は12N/cmであり、接着性の評価は良好であった。
In the same manner as in Example 1, conjugate H (F1/G1uvs-1h), conjugate H (F1/G1uvs-24h) and conjugate H (F1/G1uvs-48h) were evaluated for adhesiveness of the adhesive surface.
The peel strength of conjugate H (F1/G1uvs-1h) is 14 N/cm, the peel strength of conjugate H (F1/G1uvs-24h) is 13 N/cm, and the peel strength of conjugate H (F1/G1uvs-48h) is It was 12 N/cm, and the evaluation of adhesiveness was good.

上述した実施例1~14および比較例1~12の結果を、それぞれ以下の表1および2に示す。なお、表1および2中、
「APTM」は、3-アミノプロピルトリメトキシシランを示し、
「HMDS」は、ヘキサメチルジシランを示し、
「PC」は、ポリカーボネート樹脂を示し、
「PET」は、ポリエチレンテレフタレート樹脂を示し、
「PVC」は、硬質塩化ビニル樹脂を示す。
The results of Examples 1-14 and Comparative Examples 1-12 described above are shown in Tables 1 and 2 below, respectively. In Tables 1 and 2,
"APTM" denotes 3-aminopropyltrimethoxysilane;
"HMDS" denotes hexamethyldisilane,
"PC" indicates a polycarbonate resin,
"PET" indicates polyethylene terephthalate resin,
"PVC" indicates rigid vinyl chloride resin.

Figure 0007230426000001
Figure 0007230426000001

Figure 0007230426000002
Figure 0007230426000002

本実施例及び比較例の結果から以下のことがわかる。
珪素化合物の非存在下で、表面に、コロナ放電、プラズマ照射又は火炎吹き付けを施した樹脂成形体[G]は、25℃、50%RHの環境条件の下で1時間保持した後では変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする成形体[F]と強固に接着できるが、24時間以上保持した後では成形体[F]と強固に接着できなくなっている(比較例1~9)。
これに対し、珪素化合物の存在下で、表面に、プラズマ照射又は火炎吹き付けを行う処理(i)を行った樹脂成形体[G]は、25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間、48時間のいずれの時間保持した後でも、変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする成形体[F]と安定して強固に接着できる(実施例2、3、5、6、8、9、11、12)。また、表面に、コロナ放電、プラズマ照射又はエキシマ紫外線照射を施した後に珪素化合物と接触させる処理(ii)を行った樹脂成形体[G]は、25℃、50%RHの環境条件の下で1時間、24時間、48時間のいずれの時間保持した後でも、変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とするシート状の成形体[F]と安定して強固に接着できる(実施例1、4、7、10、13、14)。
また、樹脂成形体[G]の表面に対して、処理(i)及び処理(ii)の少なくとも一つの処理を実施した後、成形体[F]と接着して接合体[H]を製造する本発明の製造方法によれば、珪素化合物の非存在下で、表面加工(表面に、コロナ放電、プラズマ照射又は火炎吹き付けを施す)のみを実施した樹脂成形体[G]と成形体[F]と接着して接合体[H]を製造する方法に比較して、より強固な接着性を有する接合体が得られるという効果もある(実施例1と比較例1、実施例2と比較例2、実施例3と比較例3、実施例4と比較例4、実施例5と比較例5、実施例6と比較例6、実施例7と比較例7、実施例8と比較例8、実施例9と比較例9、実施例10と比較例10、実施例11と比較例11、実施例12と比較例12について、表1中「1時間保持後」の「剥離強度(N/cm)」を比較)。
The results of this example and comparative example reveal the following.
In the absence of a silicon compound, the resin molded product [G] whose surface was subjected to corona discharge, plasma irradiation, or flame spraying was kept under environmental conditions of 25 ° C. and 50% RH for 1 hour. Although it can be strongly adhered to the molded article [F] containing the copolymer hydride [E] as a main component, it cannot be firmly adhered to the molded article [F] after being held for 24 hours or more (Comparative Examples 1 to 9).
On the other hand, in the presence of a silicon compound, the resin molding [G] subjected to treatment (i) of plasma irradiation or flame spraying on the surface was subjected to environmental conditions of 25 ° C. and 50% RH for 1 hour. , 24 hours, or 48 hours, it can be stably and strongly adhered to the molded article [F] containing the hydrogenated modified block copolymer [E] as a main component (Examples 2, 3, 5, 6, 8, 9, 11, 12). In addition, the resin molded body [G] subjected to the treatment (ii) in which the surface was subjected to corona discharge, plasma irradiation, or excimer ultraviolet irradiation and then contacted with a silicon compound was subjected to environmental conditions of 25 ° C. and 50% RH. Even after holding for any time of 1 hour, 24 hours, or 48 hours, it can be stably and strongly adhered to the sheet-like molded product [F] containing the hydrogenated modified block copolymer [E] as a main component (practical Examples 1, 4, 7, 10, 13, 14).
Also, after performing at least one of the treatment (i) and treatment (ii) on the surface of the resin molded body [G], it is adhered to the molded body [F] to produce the joined body [H]. According to the production method of the present invention, the resin molded body [G] and the molded body [F] which have been subjected to only surface treatment (the surface is subjected to corona discharge, plasma irradiation, or flame spraying) in the absence of a silicon compound. There is also an effect that a bonded body having stronger adhesiveness can be obtained compared to the method of manufacturing a bonded body [H] by bonding with , Example 3 and Comparative Example 3, Example 4 and Comparative Example 4, Example 5 and Comparative Example 5, Example 6 and Comparative Example 6, Example 7 and Comparative Example 7, Example 8 and Comparative Example 8, Example For Example 9 and Comparative Example 9, Example 10 and Comparative Example 10, Example 11 and Comparative Example 11, Example 12 and Comparative Example 12, "Peel strength (N/cm)" in Table 1 "After holding for 1 hour" ”).

本発明の接合体の製造方法によれば、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物を主成分とする成形体と、樹脂成形体とを安定して強固に接着させて、当該成形体と当該樹脂成形体の接合体を製造することができる。このため、本発明の接合体の製造方法は、アルコキシシリル基が導入された特定の変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とする成形体[F]とポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等の樹脂成形体[G]との強固な接着性を必要とする太陽電池モジュールの封止、有機EL素子の封止、電子部品の封止、耐貫通性合わせガラスの貼り合わせ等の用途に有用である。
According to the method for producing a bonded body of the present invention, a molded body mainly composed of a hydrogenated modified block copolymer into which an alkoxysilyl group is introduced and a resin molded body are stably and firmly adhered to each other, A joined body of the molded article and the resin molded article can be manufactured. For this reason, the method for producing a bonded body of the present invention comprises a molded body [F] mainly composed of a specific hydrogenated modified block copolymer [E] into which an alkoxysilyl group has been introduced, and a resin such as polycarbonate or polyethylene terephthalate. Useful for encapsulation of solar cell modules, encapsulation of organic EL elements, encapsulation of electronic components, lamination of penetration-resistant laminated glass, etc., which require strong adhesion to the molded product [G]. .

Claims (3)

アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物[E]を主成分とし、エチレンビスステアリン酸アマイドを含む成形体[F]と、樹脂成形体[G]とを接着して接合体[H]を製造する方法であって、下記工程1及び2を含む、接合体の製造方法。
工程1:前記樹脂成形体[G]の表面に対して、ヘキサメチルジシランと3-アミノプロピルトリメトキシシランの少なくとも一方の存在下で、プラズマ照射、コロナ放電、及び火炎吹き付けからなる群から選ばれる少なくとも一つを行う処理(i)を実施する工程。
工程2:前記工程1を経た前記樹脂成形体[G]と、前記成形体[F]とを、前記樹脂成形体[G]の前記処理(i)がなされた表面と前記成形体[F]とが接するように積層し、加熱圧着する工程。
A bonded product obtained by bonding a molded body [F] containing ethylene bisstearic acid amide, which is mainly composed of a modified block copolymer hydride [E] into which an alkoxysilyl group is introduced, and a resin molded body [G]. A method for producing [H], comprising steps 1 and 2 below.
Step 1: The surface of the resin molding [G] is selected from the group consisting of plasma irradiation, corona discharge, and flame spraying in the presence of at least one of hexamethyldisilane and 3-aminopropyltrimethoxysilane. performing at least one process (i);
Step 2: The resin molded body [G] that has undergone the step 1 and the molded body [F] are separated from the surface of the resin molded body [G] subjected to the treatment (i) and the molded body [F] A step of laminating the layers so that they are in contact with each other and heat-pressing them.
前記接合体[H]における前記成形体[F]と前記樹脂成形体[G]との接着面の剥離強度が4N/cm以上である、請求項1に記載の接合体の製造方法。 2. The method for producing a bonded body according to claim 1, wherein the bonding surface between said molded body [F] and said resin molded body [G] in said bonded body [H] has a peel strength of 4 N/cm or more. 前記変性ブロック共重合体水素化物[E]が、芳香族ビニル化合物由来の構造単位〔a〕を主成分とする、少なくとも二つの重合体ブロック[A]と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位〔b〕を主成分とする、少なくとも一つの重合体ブロック[B]とからなるブロック共重合体[C]であって、前記構造単位〔a〕の全量がブロック共重合体[C]に占める質量分率をwaとし、前記構造単位〔b〕の全量がブロック共重合体[C]に占める質量分率をwbとしたときに、waとwbとの比wa:wbが20:80~60:40であるブロック共重合体[C]の、前記構造単位〔b〕由来の炭素-炭素不飽和結合の90%以上を水素化したブロック共重合体水素化物[D]に、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物である、請求項1または2に記載の接合体の製造方法。 The hydrogenated modified block copolymer [E] comprises at least two polymer blocks [A] mainly composed of structural units [a] derived from an aromatic vinyl compound and structural units derived from a chain conjugated diene compound. A block copolymer [C] comprising [b] as a main component and at least one polymer block [B], wherein the entire amount of the structural unit [a] accounts for the block copolymer [C] When the mass fraction is wa and the mass fraction of the total amount of the structural unit [b] in the block copolymer [C] is wb, the ratio wa:wb between wa and wb is 20:80 to 60. : 40, the block copolymer hydride [D] obtained by hydrogenating 90% or more of the carbon-carbon unsaturated bonds derived from the structural unit [b] of the block copolymer [C] has an alkoxysilyl group. 3. The method for producing a conjugate according to claim 1, wherein the introduced modified block copolymer is a hydrogenated product.
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Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001500552A (en) 1996-09-13 2001-01-16 ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー Flame treatment method
WO2003069017A1 (en) 2002-02-13 2003-08-21 Yasuhiro Mori Method for modifying surface of solid material, surface-modified solid material and device for modifying surface of solid material
JP2005249572A (en) 2004-03-04 2005-09-15 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Micro flow-path chip manufacturing method, micro flow-path chip, biomolecule separating method using the micro flow-path chip, and electrophoresis device comprising the micro flow-path chip
WO2006082794A1 (en) 2005-02-01 2006-08-10 Mitsui Chemicals, Inc. Method for joining members, composite film and use thereof
JP2007119752A (en) 2005-09-28 2007-05-17 Iwate Univ Molecular adhesive for pasting resin and rubber, method for pasting resin and rubber, and composite pasted product from resin and rubber
JP2007160919A (en) 2005-06-29 2007-06-28 Toyobo Co Ltd Polyethylenic resin laminated film
JP2007291264A (en) 2006-04-26 2007-11-08 Dainippon Ink & Chem Inc Resin composition for heat-shrinkable film, heat-shrinkable film and bottle wound with the film
JP2008156592A (en) 2006-11-28 2008-07-10 Asahi Rubber:Kk Substrate for bonding and silicone rubber bonded product using the same
JP2009046524A (en) 2007-08-13 2009-03-05 Shin Etsu Polymer Co Ltd Thermoplastic resin composition, film for electronic material, and reinforcement material for flexible substrate
WO2012043631A1 (en) 2010-09-30 2012-04-05 株式会社いおう化学研究所 Bonding method, bondability improving agent, surface modification method, surface modifying agent, and novel compound
DE102012004385A1 (en) 2012-03-03 2013-09-05 Vereinigung zur Förderung des Instituts für Kunststoffverarbeitung in Industrie und Handwerk an der Rhein.-Westf. Technischen Hochschule Aachen e.V. Method for bonding dissimilar thermoplastic mold portions, for use in e.g. consumer electronics, involves joining together bonding surfaces of surface treated mold portions through atmospheric and/or non-atmospheric plasma process
JP2014503683A (en) 2010-11-18 2014-02-13 フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ Substrate bonding method and composite structure obtained thereby
JP2014162799A (en) 2013-02-21 2014-09-08 Toray Ind Inc Polylactic acid-based mulching film
WO2015129653A1 (en) 2014-02-28 2015-09-03 日本ゼオン株式会社 Transparent adhesive sheet
JP2016179612A (en) 2015-03-24 2016-10-13 本田技研工業株式会社 Joint product of heterogeneous material and method for manufacturing the same
JP2016190389A (en) 2015-03-31 2016-11-10 大日本印刷株式会社 Laminate
WO2017154718A1 (en) 2016-03-09 2017-09-14 日本ゼオン株式会社 Assembly, method for producing same, and sheet comprising modified block copolymer hydride
JP2018052067A (en) 2016-09-30 2018-04-05 株式会社朝日Fr研究所 Conjugate

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5647939A (en) * 1994-12-05 1997-07-15 Integrated Liner Technologies, Inc. Method of bonding a cured elastomer to plastic and metal surfaces

Patent Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001500552A (en) 1996-09-13 2001-01-16 ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー Flame treatment method
WO2003069017A1 (en) 2002-02-13 2003-08-21 Yasuhiro Mori Method for modifying surface of solid material, surface-modified solid material and device for modifying surface of solid material
JP2005249572A (en) 2004-03-04 2005-09-15 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Micro flow-path chip manufacturing method, micro flow-path chip, biomolecule separating method using the micro flow-path chip, and electrophoresis device comprising the micro flow-path chip
WO2006082794A1 (en) 2005-02-01 2006-08-10 Mitsui Chemicals, Inc. Method for joining members, composite film and use thereof
JP2007160919A (en) 2005-06-29 2007-06-28 Toyobo Co Ltd Polyethylenic resin laminated film
JP2007119752A (en) 2005-09-28 2007-05-17 Iwate Univ Molecular adhesive for pasting resin and rubber, method for pasting resin and rubber, and composite pasted product from resin and rubber
JP2007291264A (en) 2006-04-26 2007-11-08 Dainippon Ink & Chem Inc Resin composition for heat-shrinkable film, heat-shrinkable film and bottle wound with the film
JP2008156592A (en) 2006-11-28 2008-07-10 Asahi Rubber:Kk Substrate for bonding and silicone rubber bonded product using the same
JP2009046524A (en) 2007-08-13 2009-03-05 Shin Etsu Polymer Co Ltd Thermoplastic resin composition, film for electronic material, and reinforcement material for flexible substrate
WO2012043631A1 (en) 2010-09-30 2012-04-05 株式会社いおう化学研究所 Bonding method, bondability improving agent, surface modification method, surface modifying agent, and novel compound
JP2014503683A (en) 2010-11-18 2014-02-13 フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ Substrate bonding method and composite structure obtained thereby
DE102012004385A1 (en) 2012-03-03 2013-09-05 Vereinigung zur Förderung des Instituts für Kunststoffverarbeitung in Industrie und Handwerk an der Rhein.-Westf. Technischen Hochschule Aachen e.V. Method for bonding dissimilar thermoplastic mold portions, for use in e.g. consumer electronics, involves joining together bonding surfaces of surface treated mold portions through atmospheric and/or non-atmospheric plasma process
JP2014162799A (en) 2013-02-21 2014-09-08 Toray Ind Inc Polylactic acid-based mulching film
WO2015129653A1 (en) 2014-02-28 2015-09-03 日本ゼオン株式会社 Transparent adhesive sheet
JP2016179612A (en) 2015-03-24 2016-10-13 本田技研工業株式会社 Joint product of heterogeneous material and method for manufacturing the same
JP2016190389A (en) 2015-03-31 2016-11-10 大日本印刷株式会社 Laminate
WO2017154718A1 (en) 2016-03-09 2017-09-14 日本ゼオン株式会社 Assembly, method for producing same, and sheet comprising modified block copolymer hydride
JP2018052067A (en) 2016-09-30 2018-04-05 株式会社朝日Fr研究所 Conjugate

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