JP7216288B2 - マイクロ流路チップの製造方法 - Google Patents
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Description
なお、本発明において、「デュロメータ硬さ」は、JIS K6253に準拠し、タイプEデュロメータを用いて測定することができる。
なお、工程(B)において、前記流路基板および前記蓋基板を袋に収容し、前記袋の内部を減圧して密封する場合には、前記工程(A)において、シランカップリング剤を用いて前記表面改質処理を施すことが特に好ましい。工程(B)において減圧時にシランカップリング剤の縮合反応および/または付加反応が良好に進行して、流路基板と蓋基板とを更に良好に接合させることができるからである。
ここで、本発明のマイクロ流路チップの製造方法は、樹脂製のマイクロ流路チップを製造する方法である。そして、本発明の製造方法を用いて製造されたマイクロ流路チップは、特に限定されることなく、例えばDNA検査、生体物質分析、創薬・製薬開発、有機合成、水質分析などの様々な分野で利用することができる。
本発明のマイクロ流路チップの製造方法では、少なくとも一方の表面に微細な流路を形成した樹脂製の流路基板と、樹脂製の蓋基板とを接合してマイクロ流路チップを製造する。また、本発明のマイクロ流路チップの製造方法は、流路基板および蓋基板の接合面に表面改質処理を施す工程(A)と、工程(A)の後に、流路基板の接合面と蓋基板の接合面とを重ね合わせ、加熱下、流体またはデュロメータ硬さがE20以下の弾性体を介して流路基板および蓋基板を加圧する工程(B)とを含むことを特徴とする。
流路基板としては、少なくとも一方の表面に微細な流路を形成した樹脂製の基板を用いることができる。そして、流路基板は、微細な流路が形成されている面を接合面として、蓋基板と接合される。
なお、環状オレフィン系樹脂の単量体としては、好ましくはノルボルネン系単量体が挙げられる。ノルボルネン系単量体は、ノルボルネン環を含む単量体である。ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン(慣用名:ノルボルネン)、5-エチリデン-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン(慣用名:エチリデンノルボルネン)、および、それらの誘導体(環に置換基を有するもの)等の2環式単量体;トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ-3,8-ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、および、その誘導体等の3環式単量体;テトラシクロ[7.4.0.02,7.110,13]テトラデカ-2,4,6,11-テトラエン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、9-エチリデンテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン、および、それらの誘導体等の4環式単量体;等が挙げられる。これらの単量体は、任意の位置に置換基を有していてもよい。また、環状オレフィン系樹脂は、付加重合体であってもよいし、開環重合体であってもよいし、それらの水素化物であってもよいが、開環重合体または開環重合体水素化物であることが好ましい。
なお、本発明において、「(メタ)アクリル」とは、アクリルおよび/またはメタクリルを意味する。また、「吸水率」は、ASTM D570-98に準拠して測定することができる。
蓋基板としては、流路基板に形成された微細な流路に蓋をし得る任意の樹脂製の基板を用いることができる。具体的には、蓋基板としては、流路基板に蓋をし得る平滑面を有し、任意に、流路基板と共にマイクロ流路チップを形成した際に流路基板の微細な流路内へのサンプル等の注入口となる貫通孔を有する基板を用いることができる。そして、蓋基板は、平滑面側を接合面として、流路基板と接合される。なお、蓋基板としては、流路基板に接合される平滑面側とは反対側の面に微細な流路が形成された基板を用いてもよい。
なお、環状オレフィン系樹脂の単量体としては、好ましくはノルボルネン系単量体が挙げられる。ノルボルネン系単量体は、ノルボルネン環を含む単量体である。ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン(慣用名:ノルボルネン)、5-エチリデン-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン(慣用名:エチリデンノルボルネン)、および、それらの誘導体(環に置換基を有するもの)等の2環式単量体;トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ-3,8-ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、および、その誘導体等の3環式単量体;テトラシクロ[7.4.0.02,7.110,13]テトラデカ-2,4,6,11-テトラエン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、9-エチリデンテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン、および、それらの誘導体等の4環式単量体;等が挙げられる。これらの単量体は、任意の位置に置換基を有していてもよい。また、環状オレフィン系樹脂は、付加重合体であってもよいし、開環重合体であってもよいし、それらの水素化物であってもよいが、開環重合体または開環重合体水素化物であることが好ましい。
また、流路基板と蓋基板とを良好に接合させる観点からは、流路基板と蓋基板とは同一の樹脂からなることが好ましい。
工程(A)では、流路基板の接合面と、蓋基板の接合面とに表面改質処理を施す。この表面改質処理を施すことにより、工程(B)において流路基板と蓋基板とを良好に接合することができる。
ここで、接合面の表面改質処理は、特に限定されることなく、例えば、シランカップリング剤の塗布、真空紫外線(VUV)の照射、コロナ放電、大気圧プラズマ等のプラズマの照射、または、これらの組み合わせなどの任意の表面改質方法を用いて行うことができる。中でも、表面改質処理は、シランカップリング剤または真空紫外線を用いて行うことが好ましく、シランカップリング剤を用いて行うことがより好ましい。また、シランカップリング剤を用いる場合には、表面改質処理は、接合面にコロナ放電または大気圧プラズマ等のプラズマの照射を行った後にシランカップリング剤を塗布することにより行うことが特に好ましい。シランカップリング剤を使用すれば、流路基板と蓋基板とを良好に接合させ、製造後初期の接合強度を十分に高めることができる。また、シランカップリング剤を使用すれば、真空紫外線の照射などを利用して表面改質処理を施す場合と比較し、製造されるマイクロ流路チップの光学的安定性が低下するのを抑制することができる。
なお、表面改質処理条件は、流路基板および蓋基板の材質などに応じて適宜設定することができる。
また、シランカップリング剤としては、任意のシランカップリング剤を用いることができる。中でも、流路基板の接合面および蓋基板の接合面の一方にアミノ基を有するシランカップリング剤(例えば、3-アミノプロピルトリメトキシシラン等)を使用し、他方にエポキシ基を有するシランカップリング剤(例えば、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等)を使用することが好ましい。アミノ基を有するシランカップリング剤と、エポキシ基を有するシランカップリング剤とを組み合わせて使用すれば、エポキシ開環反応によって流路基板と蓋基板とを強固に接合することができるからである。
工程(B)では、工程(A)において表面改質処理を施した流路基板の接合面と、工程(A)において表面改質処理を施した蓋基板の接合面とを重ね合わせた後、加熱下において、流体またはデュロメータ硬さがE20以下の弾性体を介して流路基板および蓋基板を加圧し、流路基板と蓋基板とを接合させる。中でも、工程(B)では、製造後初期の接合強度を十分に高める観点から、流体を介して流路基板および蓋基板を加圧することが好ましい。
表面改質処理を施した流路基板の接合面と、表面改質処理を施した蓋基板の接合面との重ね合わせは、任意の手段を用いて流路基板と蓋基板とを位置合わせし、通常は接着剤などの接着部材を介さずに行う。接着部材を使用した場合、微細な流路内に接着部材が侵入して所望の形状を有する流路が得られなくなる虞があるからである。
ここで、接合面同士を重ね合わせて得られた流路基板および蓋基板の積層体を加熱下において流体を介して加圧する場合、流路基板および蓋基板の積層体は、特に限定されることなく、オートクレーブ、温水ラミネーターなどの加圧装置を使用し、加圧した流体を介して加圧することができる。中でも、流路基板および蓋基板の積層体を効率的に加熱および加圧する観点、並びに、流路基板と蓋基板とを良好に接合させ、微細な流路の変形の抑制と、製造後初期の接合強度の向上とを高いレベルで両立する観点からは、流路基板および蓋基板の積層体は、オートクレーブを用いて加熱および加圧することが好ましい。
そして、流体としては、特に限定されることなく、水、油などの液体、または、空気、水蒸気などの気体、或いは、それらの混合物を用いることができる。
更に、工程(B)において任意に流路基板および蓋基板の積層体を収容する袋としては、袋内を減圧して密封可能な袋であれば、任意の袋を用いることができる。
また、流路基板および蓋基板の積層体を収容した袋の内部は、特に限定されることなく、例えば10kPa以下(絶対圧)まで減圧することが好ましく、2kPa以下(絶対圧)まで減圧することがより好ましい。減圧時の袋内の圧力を上記上限値以下にすれば、流路基板および蓋基板に圧力を良好に負荷し、製造後初期の接合強度を更に高めることができるからである。
そして、工程(B)において、流路基板および蓋基板の積層体の加熱は、通常、流路基板および蓋基板の材料として用いられている樹脂の荷重たわみ温度未満の温度で行われ、荷重たわみ温度-20℃以下の温度で行うことが好ましく、荷重たわみ温度-30℃以下の温度で行うことがより好ましく、荷重たわみ温度-80℃以上の温度で行うことが好ましく、荷重たわみ温度-60℃以上の温度で行うことがより好ましく、荷重たわみ温度-40℃以上の温度で行うことが更に好ましい。加熱温度を上記上限値以下にすれば、微細な流路が変形するのを十分に抑制することができるからである。また、加熱温度を上記下限値以上にすれば、製造後初期の接合強度を十分に高めることができるからである。
なお、本発明において、「荷重たわみ温度」は、JIS 7191(フラットワイズ、A法)に準拠して測定することができる。
更に、工程(B)において、流体を介して流路基板および蓋基板の積層体を加圧する際の圧力は、特に限定されることなく、例えば0.2MPa以上とすることが好ましく、0.5MPa以上とすることがより好ましく、0.7MPa以上とすることが更に好ましく、1.5MPa以下とすることが好ましく、1.0MPa以下とすることがより好ましい。圧力を上記上限値以下にすれば、微細な流路が変形するのを十分に抑制することができるからである。また、圧力を上記下限値以上にすれば、製造後初期の接合強度を十分に高めることができるからである。
また、接合面同士を重ね合わせて得られた流路基板および蓋基板の積層体を加熱下において弾性体を介して加圧する場合、弾性体としては、デュロメータ硬さがE20以下の弾性体を使用する。なお、弾性体を介して加圧される積層体は、減圧および密封された袋内に収容されていてもよいし、収容されていなくてもよい。
ここで、弾性体としては、デュロメータ硬さがE20以下の弾性体を使用する必要があり、弾性体のデュロメータ硬さは、E5以下であることが好ましい。弾性体のデュロメータ硬さを上記上限値以下にすれば、製造後初期の接合強度に優れ、且つ、微細な流路の変形が抑制された樹脂製のマイクロ流路チップを製造することができる。
そして、弾性体を使用する場合において、流路基板および蓋基板の積層体の加熱は、流体を使用する場合と同様に、通常、流路基板および蓋基板の材料として用いられている樹脂の荷重たわみ温度未満の温度で行われ、荷重たわみ温度-20℃以下の温度で行うことが好ましく、荷重たわみ温度-30℃以下の温度で行うことがより好ましく、荷重たわみ温度-80℃以上の温度で行うことが好ましく、荷重たわみ温度-60℃以上の温度で行うことがより好ましく、荷重たわみ温度-40℃以上の温度で行うことが更に好ましい。加熱温度を上記上限値以下にすれば、微細な流路が変形するのを十分に抑制することができるからである。また、加熱温度を上記下限値以上にすれば、製造後初期の接合強度を十分に高めることができるからである。
更に、弾性体を使用する場合において、弾性体を介した流路基板および蓋基板の積層体の加圧は、積層体の積層方向の少なくとも一方側に配置した弾性体を使用し、弾性体で積層体を積層方向に押圧することにより行うことができる。また、弾性体を介して積層体を加圧する際の圧力は、特に限定されることなく、例えば0.2MPa以上とすることが好ましく、0.5MPa以上とすることがより好ましく、0.7MPa以上とすることが更に好ましく、1.5MPa以下とすることが好ましく、1.0MPa以下とすることがより好ましい。圧力を上記上限値以下にすれば、微細な流路が変形するのを十分に抑制することができるからである。また、圧力を上記下限値以上にすれば、製造後初期の接合強度を十分に高めることができるからである。
なお、上述した弾性体を用いた加圧は、例えば、市販の加圧装置(例えば、日機装株式会社製、「アイソボンダー&ドライラミネーター」などの弾性体ヘッドプレス)等を用いて行うことができる。
実施例および比較例において製造したマイクロ流路チップの性能は、それぞれ以下の方法を使用して評価した。
作製した接合強度測定用試験片について、支持台の支点間距離を60mmとした以外はJIS K7171に準拠して、三点曲げ試験を行った。なお、および接合強度測定用試験片は、流路基板が圧子側、接合強度測定用の蓋基板が支持台側になるようにして支持台の中央に設置した。
5個の接合強度測定用試験片について三点曲げ試験を行い、最大荷重(接合面が剥離したときの荷重に相当)の平均値を接合強度とした。そして、以下の基準に従って評価した。接合強度が大きいほど、製造後初期の接合強度に優れていることを示す。
A:接合強度が15N以上
B:接合強度が5N以上15N未満
C:接合強度が5N未満
D:接合強度測定用試験片がハンドリング中に剥離
<液にじみ>
5個のサンプルについて、作製したマイクロ流路チップの各流路に、マイクロピペットを用いて、インク水溶液を注入口より注入した。そして、流路から接合部へのインク水溶液のにじみの有無を目視により確認した。
<流速バラつき>
10個のサンプルについて、作製したマイクロ流路チップの各流路に、マイクロピペットを用いて、インク水溶液を一方の注入口より2.0μL注入した。そして、他方の注入口まで到達する時間を測定し、平均値と標準偏差から変動係数を算出した。そして、以下の基準に従って評価した。変動係数が大きいほど、製造過程において流路の変形が生じ、流路間での流速のバラツキが大きくなっていることを示す。
A:変動係数が5%未満
B:変動係数が5%以上10%未満
C:変動係数が10%以上
<耐久試験後接合強度>
作製した接合強度測定用試験片を、温度60℃、相対湿度90%、大気圧の恒温恒湿環境下に168時間(1週間)曝し、耐久試験を行った。
その後、上記<初期接合強度>と同様にして耐久試験後の接合強度を測定し、以下の基準に従って評価した。耐久試験後接合強度が大きいほど、長期に亘って優れた接合強度を発揮することを示す。
A:接合強度が15N以上
B:接合強度が5N以上15N未満
C:接合強度が5N未満
<光学的安定性>
5個のサンプルについて、作製したマイクロ流路チップの流路が形成されていない接合面部分において、波長400nmの光の光線透過率を、紫外可視分光光度計(日本分光社製、製品名:UV-VIS V570)を用いて測定した。
その後、マイクロ流路チップを、温度60℃、相対湿度90%、大気圧の恒温恒湿環境下に168時間(1週間)曝し、耐久試験を行った。
そして、耐久試験後のマイクロ流路チップについて、波長400nmの光の光線透過率を上記と同様にして測定し、耐久試験前後での光線透過率の変化率(=(耐久試験後の光線透過率平均値-初期の光線透過率平均値)/初期の光線透過率平均値×100%)を算出し、以下の基準に従って評価した。光線透過率の変化率が小さいほど、外観の経時変化が少なく、光学的安定性に優れていることを示す。
A:変化率が2%未満
B:変化率が2%以上
<基板の準備>
環状オレフィン系樹脂(COP)(日本ゼオン製、ZEONEX(登録商標)690R、ノルボルネン系単量体の開環重合体水素化物、荷重たわみ温度:136℃、吸水率:0.01質量%以下)からなる樹脂製基板(厚さ:1.0mm、外形:76.0mm×26.0mm)の片面に、図1(a)に示すようなパターンで4本の流路11(幅:200μm、深さ100μm)を形成し、流路基板10とした。
また、環状オレフィン系樹脂(日本ゼオン製、ZEONEX(登録商標)690R、ノルボルネン系単量体の開環重合体水素化物、荷重たわみ温度:136℃、吸水率:0.01質量%以下)からなる樹脂製基板(厚さ:1.0mm、外形:76.0mm×26.0mm)に対し、図1(b)に示すように直径2.0mmの貫通孔21(注入口)を8個形成し、蓋基板20とした。なお、貫通孔21の位置は、流路基板10の流路11の端部12に対応する位置とした。
<表面改質処理>
流路基板10の流路11を形成した側の表面(接合面)には、常圧プラズマ表面処理装置(積水化学社製、AP-T03-L)を用いて、出力1.5kW、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行った後に、シランカップリング剤として3-アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM-903;信越化学社製)を塗布することにより、表面改質処理を行った。また、蓋基板20の一方の表面(接合面)には、流路基板10と同様にして大気圧プラズマ照射を行った後に、シランカップリング剤として3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製、KBM-403)を塗布することにより、表面改質処理を行った。
<接合>
流路基板10の接合面と蓋基板20の接合面とを、流路11の端部12の位置と貫通孔21の位置とが一致するように重ね合わせ、積層体を得た。
次に、得られた積層体をPET(ポリエチレンテレフタレートフィルム)/ONY(二軸延伸ナイロンフィルム)/CPP(無延伸ポリプロピレンフィルム)製の袋に収容し、袋の内部を真空包装機で圧力1kPa(絶対圧)まで減圧して、袋の開口部をヒートシールで密封した。
その後、流路基板10と蓋基板20との積層体を袋ごとオートクレーブ内に設置し、空気雰囲気下、温度100℃(荷重たわみ温度-36℃)、圧力0.8MPaで30分間加熱および加圧して、流路基板10と蓋基板20とを接合させた。
そして、流路基板10と蓋基板20とを接合させて得られたマイクロ流路チップについて、各種評価を行った。結果を表1に示す。
<接合強度測定用試験片の作製>
上記と同様にして、流路基板10を準備し、流路11を形成した側の表面(接合面)に表面改質処理と行った。
また、接合強度測定用の蓋基板として、環状オレフィン系樹脂(日本ゼオン製、ZEONEX(登録商標)690R、ノルボルネン系単量体の開環重合体水素化物、荷重たわみ温度:136℃、吸水率:0.01質量%以下)からなる樹脂製基板(厚さ:1.0mm、外形:40.0mm×26.0mm)を準備した。そして、接合強度測定用の蓋基板の一方の表面(接合面)に対し、流路基板10と同様にして大気圧プラズマ照射を行った後に、シランカップリング剤として3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製、KBM-403)を塗布することにより、表面改質処理を行った。
そして、流路基板10の接合面と接合強度測定用の蓋基板の接合面とを、各基板の長手方向中央の位置を一致させて重ね合わせて積層体とした以外は上記と同様にして流路基板10と接合強度測定用の蓋基板とを接合させ、接合強度測定用試験片を得た。そして、接合強度測定用試験片を用いて接合強度の評価を行った。結果を表1に示す。
接合時に、オートクレーブに変えて、加圧ヘッド部と被加圧体との間に弾性体(デュロメータ硬さ:E5)を有する弾性体ヘッドプレスを使用し、袋に収容していない積層体を積層方向に温度100℃(荷重たわみ温度-36℃)、圧力0.8MPaで30分間加熱および加圧して流路基板と蓋基板とを接合させた以外は実施例1と同様にして、マイクロ流路チップおよび接合強度測定用試験片を製造した。そして、実施例1と同様にして各種評価を行った。結果を表1に示す。
表面改質処理時に、大気圧プラズマ照射およびシランカップリング剤の塗布に替えて接合面への真空紫外線の照射(発光波長:172nm、照射距離:5mm、照射強度:10mW/cm2、照射時間:10分)を行った以外は実施例1と同様にして、マイクロ流路チップおよび接合強度測定用試験片を製造した。そして、実施例1と同様にして各種評価を行った。結果を表1に示す。
接合時の温度を、それぞれ、120℃(荷重たわみ温度-16℃)(実施例4)および70℃(荷重たわみ温度-66℃)(実施例5)に変更した以外は実施例1と同様にして、マイクロ流路チップおよび接合強度測定用試験片を製造した。そして、実施例1と同様にして各種評価を行った。結果を表1に示す。
接合時に袋の内部の圧力を15kPa(絶対圧)に変更した以外は実施例1と同様にして、マイクロ流路チップおよび接合強度測定用試験片を製造した。そして、実施例1と同様にして各種評価を行った。結果を表1に示す。
基板の準備時に、環状オレフィン系樹脂からなる樹脂製基板に替えてポリカーボネート系樹脂(PC)(三菱化学製ユーピロンH-4000、荷重たわみ温度:136℃、吸水率:0.24質量%)からなる樹脂製基板(厚さ:1.0mm、外形:76.0mm×26.0mmまたは40.0mm×26.0mm)を使用した以外は実施例1と同様にして、マイクロ流路チップおよび接合強度測定用試験片を製造した。そして、実施例1と同様にして各種評価を行った。結果を表1に示す。
接合時に、オートクレーブに変えて平板プレス機(加圧ヘッド:金属板)を使用し、袋に収容していない積層体を積層方向に温度100℃(荷重たわみ温度-36℃)、圧力0.8MPaで30分間加熱および加圧して流路基板と蓋基板とを接合させた以外は実施例1と同様にして、マイクロ流路チップおよび接合強度測定用試験片を製造した。そして、実施例1と同様にして各種評価を行った。なお、流速バラつきは液漏れにより測定できなかった。結果を表1に示す。
接合時の圧力を5.0MPaに変更した以外は比較例1と同様にして、マイクロ流路チップおよび接合強度測定用試験片を製造した。そして、実施例1と同様にして各種評価を行った。結果を表1に示す。
表面改質処理を行わなかった以外は実施例1と同様にして、マイクロ流路チップおよび接合強度測定用試験片を製造した。そして、実施例1と同様にして各種評価を行った。なお、初期接合強度以外の項目は流路基板と蓋基板とが剥離して評価できなかった。結果を表1に示す。
弾性体のデュロメータ硬さをE25に変更した以外は実施例2と同様にして、マイクロ流路チップおよび接合強度測定用試験片を製造した。そして、実施例1と同様にして各種評価を行った。なお、流速バラつきは液漏れにより測定できなかった。結果を表1に示す。
11 流路
12 両端部
20 蓋基板
21 貫通孔
Claims (4)
- 少なくとも一方の表面に微細な流路を形成した樹脂製の流路基板と、樹脂製の蓋基板とを接合してマイクロ流路チップを製造する方法であって、
前記流路基板および前記蓋基板の接合面に表面改質処理を施す工程(A)と、
前記工程(A)の後に、前記流路基板の接合面と前記蓋基板の接合面とを重ね合わせ、加熱下、流体またはデュロメータ硬さがE20以下の弾性体を介して前記流路基板および前記蓋基板を加圧する工程(B)と、
を含み、
前記工程(A)では、前記流路基板の接合面および前記蓋基板の接合面の一方に3-アミノプロピルトリメトキシシランを使用し、他方に3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを使用して前記表面改質処理を施す、
マイクロ流路チップの製造方法。 - 前記流路基板および前記蓋基板が環状オレフィン系樹脂からなる、請求項1に記載のマイクロ流路チップの製造方法。
- 前記工程(B)において、オートクレーブを使用し、前記流体を介して前記流路基板および前記蓋基板を加圧する、請求項1または2に記載のマイクロ流路チップの製造方法。
- 前記工程(B)において、重ね合わせた前記流路基板および前記蓋基板を袋に収容し、前記袋の内部を減圧して密封した後、前記袋に密封された前記流路基板および前記蓋基板をオートクレーブ内に設置し、前記流体を介して前記流路基板および前記蓋基板を加圧する、請求項3に記載のマイクロ流路チップの製造方法。
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