JP7256885B2 - Uvフィルタリングを備えるフォトポリマーフィルム - Google Patents
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Description
及びGushへの米国特許第3,597,080号に記載されているように、液体フォトポリマー樹脂から印刷版を生成するために様々なプロセスが開発されており、それらの各々の主題は参照にその全体が本明細書に組み込まれる。
(1) キャスティングと、
(2) 回収と、
(3) 洗浄と、
(4) 後露光と、
(5) 乾燥と、
(6) 不粘着化と、を含む。
a)画像フィルムネガ上の画像のネガを含む画像フィルムネガを提供する工程であって、画像のネガが不透明領域のパターンを含む、提供する工程と、その後、
b)不透明領域のパターンによって被覆されていない画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、画像フィルムネガの部分が後続の露光工程において化学線の強度を変調することが望ましい部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む。
a)画像フィルムネガ上の画像のネガをインクジェット印刷する工程であって、画像のネガが不透明領域のパターンを含む、インクジェット印刷する工程と、
b)不透明領域のパターンによって被覆されていない画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、画像フィルムネガの部分が後続の露光工程において化学線の強度を変調することが望ましい部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む。
a)画像フィルムネガ上の画像のネガを含む画像フィルムネガを提供する工程であって、画像のネガが不透明領域のパターンを含む、提供する工程と、
b)不透明領域のパターンによって被覆されていない画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、画像フィルムネガの部分が後続の露光工程において化学線の強度を変調することが望ましい部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む。
本明細書に記載のプロセスを使用して、高い生産性のために短い露光時間で厚いプレートを作製するために設計されている市販の液体フォトポリマーLTL(MacDermid Printing Solutions,LLCから入手可能)を使用して薄いプレートを作製する試験を実施した。
Claims (27)
- 液体フォトポリマーの1つ以上の層を化学線源に画像露光する工程の間、液体フォトポリマーの前記1つ以上の層の非画像領域をマスキングすることができる画像フィルムネガを作り出す方法であって、
a)前記画像フィルムネガ上の画像のネガを含む画像フィルムネガを提供する工程であって、前記画像の前記ネガが第1のインクで印刷され、前記画像の前記ネガが不透明領域のパターンを含む、提供する工程と、その後、
b)前記不透明領域のパターンによって被覆されていない前記画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、前記フィルタリング層が第2のインクで印刷され、前記画像フィルムネガの前記部分が、液体フォトポリマーの1つ以上の層を化学線源に画像露光する露光工程において変調された強度の化学線に露光された部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む、方法。 - 前記画像の前記ネガが、レーザを使用してバッキング層上にコーティングされたUV不透過性材料を選択的に除去することと、直接印刷することと、からなる群から選択される方法によって、又はイメージセッターを使用してハロゲン化銀コーティングされたプラスチックフィルムを露光することによって、作り出される、請求項1に記載の方法。
- 前記画像の前記ネガが、レーザプリンタ又はインクジェットプリンタを使用して直接印刷することによって、作り出される、請求項2に記載の方法。
- a)前記画像フィルムネガを、液体フォトポリマー露光ユニット中に取り付ける工程と、
b)前記画像フィルムネガの上に、液体フォトポリマーの1つ以上の層をキャストする工程と、
c)液体フォトポリマーの前記1つ以上の層の上にバッキング層を置く工程と、
d)液体フォトポリマーの前記1つ以上の層を、前記画像フィルムネガを介して化学線源に露光して、前記ネガの不透明部分によって被覆されていない液体フォトポリマーの前記1つ以上の層を、選択的に架橋及び硬化させる工程と、を更に含み、
前記フィルタリング層が、前記化学線の強度を変調する、請求項1に記載の方法。 - 前記フィルタリング層の第2のインクが、UV吸収染料インクであり、前記UV吸収染料インクが、インクジェット印刷後の前記露光工程において、化学線源のUV光強度の約10~約80%を吸収することができる配合物を含む、請求項1に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.15インチ未満の全厚を有する、請求項1に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.10インチ未満の全厚を有する、請求項6に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.075インチ未満の全厚を有する、請求項7に記載の方法。
- 変調された強度の化学線源に露光された前記部分が、1%~5%ドット及び細線を含む部分を含む、請求項1に記載の方法。
- 化学線源が複数の個々の光源を含み、前記フィルタリング層が、前記複数の個々の光源によって発せられる全体的な光を平衡化させるために前記個々の光源の強度を変調する、請求項1に記載の方法。
- 化学線源が複数の個々の光源を含み、前記フィルタリング層が、前記複数の個々の光源によって発せられる全体的な光を平衡化させるために前記個々の光源の強度を変調する、請求項9に記載の方法。
- 工程b)の前に、前記画像フィルムネガの上に固体キャップを適用する工程を更に含む、請求項4に記載の方法。
- 工程d)の前に、前記バッキング層を介して液体フォトポリマーの前記1つ以上の層をバック露光して、前記バッキング層に隣接する液体フォトポリマーの前記1つ以上の層においてフロア層を作り出す工程を更に含む、請求項4に記載の方法。
- 前記バッキング層上にフィルタリング層をインクジェット印刷して、前記バック露光をする工程で使用される前記1つ以上の化学線源の強度を変調し、それにより一貫したフロア層が作り出される工程を更に含む、請求項13に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの1つ以上の層を化学線源に画像露光する工程の間、液体フォトポリマーの前記1つ以上の層の非画像領域をマスキングすることができる画像フィルムネガを作り出す方法であって、
a)画像フィルムネガ上の画像のネガをインクジェット印刷する工程であって、前記画像の前記ネガが第1のインクで印刷され、前記画像の前記ネガが不透明領域のパターンを含む、インクジェット印刷する工程と、
b)前記不透明領域のパターンによって被覆されていない前記画像フィルムネガの部分上にフィルタリング層をインクジェット印刷する工程であって、前記フィルタリング層が第2のインクで印刷され、前記画像フィルムネガの前記部分が、液体フォトポリマーの1つ以上の層を化学線源に画像露光する露光工程において変調された強度の化学線に露光された部分を含む、インクジェット印刷する工程と、を含む、方法。 - a)前記画像フィルムネガを、液体フォトポリマー露光ユニット中に取り付ける工程と、
b)前記画像フィルムネガの上に、液体フォトポリマーの1つ以上の層をキャストする工程と、
c)液体フォトポリマーの前記1つ以上の層の上にバッキング層を置く工程と、
d)液体フォトポリマーの前記1つ以上の層を、前記画像フィルムネガを介して化学線源に露光して、前記ネガの不透明部分によって被覆されていない液体フォトポリマーの前記1つ以上の層を、選択的に架橋及び硬化させる工程と、を更に含み、
前記フィルタリング層が、前記化学線の強度を変調する、請求項15に記載の方法。 - 前記フィルタリング層の第2のインクが、UV吸収染料インクであり、前記UV吸収染料インクが、インクジェット印刷後の前記露光工程において、化学線源のUV光強度の約10~約80%を吸収することができる配合物を含む、請求項15に記載の方法。
- 前記画像の前記ネガを前記画像フィルムネガ上に印刷するために使用される前記インクが、前記フィルタリング層を前記画像フィルムネガ上に印刷するために使用される前記インクとは異なる、請求項17に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.15インチ未満の全厚を有する、請求項15に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.10インチ未満の全厚を有する、請求項19に記載の方法。
- 液体フォトポリマーの前記1つ以上の層が、約0.075インチ未満の全厚を有する、請求項20に記載の方法。
- 変調された強度の化学線源に露光された前記部分が、1%~5%ドット及び細線を含む部分を含む、請求項15に記載の方法。
- 化学線源が複数の個々の光源を含み、前記フィルタリング層が、前記複数の個々の光源によって発せられる全体的な光を平衡化させるために前記個々の光源の強度を変調する、請求項15に記載の方法。
- 化学線源が複数の個々の光源を含み、前記フィルタリング層が、前記複数の個々の光源によって発せられる全体的な光を平衡化させるために前記個々の光源の強度を変調する、請求項22に記載の方法。
- 工程b)の前に、前記画像フィルムネガの上に固体キャップを適用する工程を更に含む、請求項16に記載の方法。
- 工程d)の前に、前記バッキング層を介して液体フォトポリマーの前記1つ以上の層をバック露光して、前記バッキング層に隣接する液体フォトポリマーの前記1つ以上の層においてフロア層を作り出す工程を更に含む、請求項16に記載の方法。
- 前記バッキング層上にフィルタリング層をインクジェット印刷して、前記バック露光をする工程で使用される前記1つ以上の化学線源の強度を変調し、それにより一貫したフロア層が作り出される工程を更に含む、請求項26に記載の方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002533761A (ja) | 1998-09-04 | 2002-10-08 | ポリフアイブロン・テクノロジーズ・インコーポレーテツド | 固体キャップされた(solid−capped)液体フォトポリマー印刷要素 |
JP2004264818A (ja) | 2002-09-16 | 2004-09-24 | E I Du Pont De Nemours & Co | フレキソ印刷の印刷制御 |
JP2009297871A (ja) | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 被研削品の製造方法 |
US20150097889A1 (en) | 2013-04-26 | 2015-04-09 | Chemence, Inc. | Ink Compositions for Controlling Exposure in Three Dimensions within a Layer of Photopolymer, and Methods of Using |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE525225A (ja) | 1951-08-20 | |||
BE627652A (ja) | 1962-01-29 | |||
US3597080A (en) | 1968-10-25 | 1971-08-03 | Grace W R & Co | Apparatus for preparing a printing plate from a photosensitive composition |
US4323636A (en) | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
CA1099435A (en) | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US3867153A (en) | 1972-09-11 | 1975-02-18 | Du Pont | Photohardenable element |
US3960572A (en) | 1973-02-21 | 1976-06-01 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive compositions comprising a polyester-polyether block polymer |
US4006024A (en) | 1973-02-21 | 1977-02-01 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive compositions comprising a polyester-polyether block polymer |
AU507014B2 (en) | 1975-11-05 | 1980-01-31 | Hercules Inc. | Photopolymer compositions |
US4174218A (en) | 1975-11-05 | 1979-11-13 | Hercules Incorporated | Relief plates from polymer with terminal unsaturation |
CA1100148A (en) | 1978-01-04 | 1981-04-28 | Rudolph L. Pohl | Photopolymer compositions for printing plates |
US4229520A (en) | 1979-06-18 | 1980-10-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photo-polymerization and development process which produces dot-etchable material |
DE2942183A1 (de) | 1979-10-18 | 1981-05-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus |
US4264705A (en) | 1979-12-26 | 1981-04-28 | Uniroyal, Inc. | Multilayered elastomeric printing plate |
US4423135A (en) | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
US4427759A (en) | 1982-01-21 | 1984-01-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
US4622088A (en) | 1984-12-18 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing photopolymer flexographic element with melt extrusion coated elastomeric surface layer |
US4857434A (en) | 1986-09-23 | 1989-08-15 | W. R. Grace & Co. | Radiation curable liquid (meth) acrylated polymeric hydrocarbon maleate prepolymers and formulations containing same |
US5213949A (en) | 1986-11-12 | 1993-05-25 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
DE4004512A1 (de) | 1990-02-14 | 1991-08-22 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von photopolymerplatten |
NZ237919A (en) | 1990-04-26 | 1994-09-27 | Grace W R & Co | Photocurable element comprising photocurable base layer and a photocurable printing layer which comprises two incompatible elastomeric polymers and a photopolymerisable monomer, base layer comprising elastomer, monomer and photoinitiator; relief printing plates |
US5223375A (en) | 1991-07-15 | 1993-06-29 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Flexographic printing plate comprising photosensitive elastomer polymer composition |
JP3423077B2 (ja) | 1993-08-25 | 2003-07-07 | ダブリュ・アール・グレイス・アンド・カンパニー・コネテイカット | 版面の製造方法 |
JP2896886B2 (ja) * | 1996-06-05 | 1999-05-31 | クレオ プロダクツ インコーポレイテッド | フレキソ印刷版の露光用マスク |
US6555292B1 (en) | 1996-09-24 | 2003-04-29 | Misty Huang | Liquid photopolymer useful in fabricating printing plates which are resistant to solvent based ink |
US5813342A (en) | 1997-03-27 | 1998-09-29 | Macdermid Imaging Technology, Incorporated | Method and assembly for producing printing plates |
US6063546A (en) | 1998-01-06 | 2000-05-16 | Creo Srl | Method for exposing flexographic plates |
EP1107063B1 (en) | 1999-12-07 | 2010-03-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Photobleachable compounds containing photopolymerizable compositions for use in flexographic printing plates |
US7318994B2 (en) | 2004-10-14 | 2008-01-15 | Donald Long | Compressible flexographic printing plate construction |
US8158331B2 (en) | 2009-10-01 | 2012-04-17 | Recchia David A | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
US9726971B2 (en) | 2010-09-30 | 2017-08-08 | Chemence, Inc. | Printable laminates for flexo plates, methods of making, and methods of using |
US9023591B2 (en) | 2010-09-30 | 2015-05-05 | Chemence, Inc. | Inkjet printable flexography substrate and method of using |
PL2806310T3 (pl) * | 2013-05-24 | 2017-07-31 | Chemence, Inc. | Wytwarzanie fleksograficznych płyt drukowych z fotopolimerów |
US9164390B2 (en) * | 2013-11-06 | 2015-10-20 | VIM Technologies, Inc. | Method of preparing flexographic printing members |
US10025183B2 (en) * | 2014-01-22 | 2018-07-17 | Macdermid Graphics Solutions, Llc | Photosensitive resin composition |
EP3018178A1 (en) * | 2014-11-10 | 2016-05-11 | Chemence, Inc. | Ink compositions for controlling exposure in three dimensions within a layer of photopolymer, and methods of using |
US9703201B2 (en) * | 2015-04-22 | 2017-07-11 | Macdermid Printing Solutions, Llc | Method of making relief image printing plates |
US10668711B2 (en) * | 2015-06-02 | 2020-06-02 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor, a process for making the precursor, and a method for preparing a printing form from the precursor |
US9740103B2 (en) * | 2015-11-09 | 2017-08-22 | Macdermid Printing Solutions, Llc | Method and apparatus for producing liquid flexographic printing plates |
-
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002533761A (ja) | 1998-09-04 | 2002-10-08 | ポリフアイブロン・テクノロジーズ・インコーポレーテツド | 固体キャップされた(solid−capped)液体フォトポリマー印刷要素 |
JP2004264818A (ja) | 2002-09-16 | 2004-09-24 | E I Du Pont De Nemours & Co | フレキソ印刷の印刷制御 |
JP2009297871A (ja) | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 被研削品の製造方法 |
US20150097889A1 (en) | 2013-04-26 | 2015-04-09 | Chemence, Inc. | Ink Compositions for Controlling Exposure in Three Dimensions within a Layer of Photopolymer, and Methods of Using |
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