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JP6935268B2 - Manufacturing method of multi-layer printed wiring board and multi-layer printed wiring board - Google Patents

Manufacturing method of multi-layer printed wiring board and multi-layer printed wiring board Download PDF

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JP6935268B2 JP2017154499A JP2017154499A JP6935268B2 JP 6935268 B2 JP6935268 B2 JP 6935268B2 JP 2017154499 A JP2017154499 A JP 2017154499A JP 2017154499 A JP2017154499 A JP 2017154499A JP 6935268 B2 JP6935268 B2 JP 6935268B2
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Description

本発明は、多層プリント配線板の製造方法、および多層プリント配線板に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board and a multilayer printed wiring board.

従来、プリント配線板に対する高密度化の要求を受け、複数のプリント配線板が積層された多層プリント配線板が開発されている。多層プリント配線板の一つとして、特許文献1には混成多層回路基板が記載されている。多層プリント配線板には、可撓性を有する多層フレキシブルプリント配線板(多層FPC)も含まれる。 Conventionally, in response to a demand for higher density of printed wiring boards, a multilayer printed wiring board in which a plurality of printed wiring boards are laminated has been developed. As one of the multilayer printed wiring boards, Patent Document 1 describes a hybrid multilayer circuit board. The multilayer printed wiring board also includes a flexible multilayer flexible printed wiring board (multilayer FPC).

多層プリント配線板の各層の導電パターンは、公知のフォトファブリケーション手法を用いて形成される。すなわち、銅張積層板の銅箔の上にフォトレジスト層を形成した後、パターンが描かれた露光マスク(フォトマスク)をフォトレジスト層の上に位置合わせしてから配置する。そして、露光マスクを通してフォトレジスト層に光を照射した後、現像処理を行ってエッチングマスクを形成する。その後、エッチングマスクを用いて銅箔をエッチングすることにより導電パターンを形成する。導電パターンの形成においては、各層の導電パターン間の位置精度を高めることが重要である。導電パターンの位置精度を高くすることにより、例えば、層間接続部のランドを小径化することができる。 The conductive pattern of each layer of the multilayer printed wiring board is formed by using a known photofabrication technique. That is, after the photoresist layer is formed on the copper foil of the copper-clad laminate, the exposure mask (photomask) on which the pattern is drawn is aligned on the photoresist layer and then arranged. Then, after irradiating the photoresist layer with light through an exposure mask, development processing is performed to form an etching mask. Then, a conductive pattern is formed by etching the copper foil with an etching mask. In forming the conductive pattern, it is important to improve the positional accuracy between the conductive patterns of each layer. By increasing the positional accuracy of the conductive pattern, for example, the land diameter of the interlayer connection portion can be reduced.

特許文献2には、内層にアライメント用のターゲットを設けるとともに、レーザ加工でこれを露出させた状態でアライメントを行い、ビアホール形成加工のための位置合わせデータを取得するようにした多層プリント配線板の製造方法が記載されている。この方法では、ターゲットが露出しているので、明瞭にこれを認識してアライメントを行うことができ、位置合わせ精度が高い。 In Patent Document 2, a target for alignment is provided in the inner layer, and alignment is performed in a state where the target is exposed by laser processing to acquire alignment data for via hole forming processing. The manufacturing method is described. In this method, since the target is exposed, it is possible to clearly recognize this and perform alignment, and the alignment accuracy is high.

特許第2631287号Patent No. 2631287 特開平10−256737号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-256737

ところで、多層プリント配線板が使用される電子機器の小型化、高密度化の進展を受けて近年、多層プリント配線板の端面と配線パターンとの間の距離を小さくすることが要求されるようになっている。 By the way, in recent years, with the progress of miniaturization and high density of electronic devices in which multi-layer printed wiring boards are used, it has been required to reduce the distance between the end face of the multi-layer printed wiring board and the wiring pattern. It has become.

例えば、幅が非常に狭いケーブル状であって、各層に水平位置が同じ複数の配線パターンを有する多層フレキシブルプリント配線板が必要とされる。この場合、外形加工の際に各層の配線パターンが多層フレキシブルプリント配線板の側端面に露出しないように、各層の配線パターンの位置精度を高める必要がある。 For example, a multi-layer flexible printed wiring board having a cable shape having a very narrow width and having a plurality of wiring patterns having the same horizontal position in each layer is required. In this case, it is necessary to improve the positional accuracy of the wiring pattern of each layer so that the wiring pattern of each layer is not exposed on the side end surface of the multilayer flexible printed wiring board during the outer shape processing.

各層の配線パターンを形成するための露光工程は、従来、特許文献2に記載されているように、被加工の銅箔に最も近接した内側の配線パターンと同時に形成されたターゲットマークを用いて露光マスクを位置合わせしてから行われていた。すなわち、配線パターンは、被加工の導電膜の一つ内層側に位置するターゲットマークを基準にして形成されていた。 The exposure process for forming the wiring pattern of each layer is conventionally exposed using a target mark formed at the same time as the inner wiring pattern closest to the copper foil to be processed, as described in Patent Document 2. It was done after the mask was aligned. That is, the wiring pattern was formed with reference to the target mark located on the inner layer side of one of the conductive films to be processed.

しかしながら、この方法では、多層化が進むにつれて配線パターンの位置ずれが累積するという課題がある。すなわち、従来の方法では、露光時の位置精度×露光回数分の位置ずれを見込む必要がある。例えば、各層の配線パターン形成時の位置合わせ精度(露光マスクの配置精度)が±10μmで、計5回の露光により6層の多層プリント配線板を製造する場合、配線パターンの位置ずれとして±50μmを見込まねばならない。これより小さい値を見込んだ場合は、歩留まりが低下するおそれがある。レーザ光による外形加工精度が例えば±25μmとすると、外形加工端を配線パターンから75μmまでしか近接させることができない。 However, this method has a problem that the misalignment of the wiring pattern accumulates as the number of layers increases. That is, in the conventional method, it is necessary to anticipate the position accuracy at the time of exposure × the position deviation corresponding to the number of exposures. For example, when the alignment accuracy (exposure mask placement accuracy) at the time of forming the wiring pattern of each layer is ± 10 μm and a 6-layer multilayer printed wiring board is manufactured by a total of 5 exposures, the misalignment of the wiring pattern is ± 50 μm. You have to anticipate. If a value smaller than this is expected, the yield may decrease. If the external shape processing accuracy by the laser beam is, for example, ± 25 μm, the external shape processing end can be brought close to the wiring pattern only up to 75 μm.

そこで、本発明は、各層の配線パターンの位置ずれの累積を防止し、各層の配線パターンの位置精度を向上させることが可能な多層プリント配線板の製造方法および多層プリント配線板を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a method for manufacturing a multilayer printed wiring board and a multilayer printed wiring board capable of preventing the accumulation of misalignment of the wiring pattern of each layer and improving the positional accuracy of the wiring pattern of each layer. The purpose.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法は、
第1の主面および前記第1の主面と反対側の第2の主面を有するコア基材と、前記第1の主面に形成された第1の金属箔とを有する第1の金属箔張積層板を準備する工程と、
前記第1の金属箔をパターニングして、アライメント孔を有するターゲットマークを形成する工程と、
第3の主面および前記第3の主面と反対側の第4の主面を有する第1のビルドアップ基材と、前記第3の主面に形成された第2の金属箔とを有する第2の金属箔張積層板を準備する工程と、
前記第2の金属箔張積層板を厚さ方向に貫通する第1の貫通孔を形成する工程と、
第5の主面および前記第5の主面と反対側の第6の主面を有する第2のビルドアップ基材と、前記第5の主面に形成された第3の金属箔とを有する第3の金属箔張積層板を準備する工程と、
前記第3の金属箔張積層板を厚さ方向に貫通する第2の貫通孔を形成する工程と、
前記第4の主面が前記第1の主面に対向し且つ前記アライメント孔が厚さ方向に見て前記第1の貫通孔内に位置するように、前記第2の金属箔張積層板を前記第1の金属箔張積層板に積層する工程と、
前記第6の主面が前記第2の主面に対向し且つ前記アライメント孔が厚さ方向に見て前記第2の貫通孔内に位置するように、前記第3の金属箔張積層板を前記第1の金属箔張積層板に積層する工程と、
前記ターゲットマークの前記アライメント孔を基準にして前記第2の金属箔および前記第3の金属箔をパターニングして第1の配線パターンおよび第2の配線パターンをそれぞれ形成する工程と、
を備えることを特徴とする。
The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention is as follows.
A first metal having a core base material having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and a first metal foil formed on the first main surface. The process of preparing the foil-clad laminate and
A step of patterning the first metal foil to form a target mark having an alignment hole, and
It has a first build-up base material having a third main surface and a fourth main surface opposite to the third main surface, and a second metal foil formed on the third main surface. The process of preparing the second metal leaf-clad laminate and
A step of forming a first through hole that penetrates the second metal leaf-clad laminate in the thickness direction, and
It has a second build-up base material having a fifth main surface and a sixth main surface opposite to the fifth main surface, and a third metal foil formed on the fifth main surface. The process of preparing the third metal leaf-clad laminate and
A step of forming a second through hole that penetrates the third metal leaf-clad laminate in the thickness direction, and
The second metal leaf-clad laminate is provided so that the fourth main surface faces the first main surface and the alignment hole is located in the first through hole when viewed in the thickness direction. The step of laminating on the first metal leaf-clad laminate and
The third metal leaf-clad laminate is provided so that the sixth main surface faces the second main surface and the alignment hole is located in the second through hole when viewed in the thickness direction. The step of laminating on the first metal leaf-clad laminate and
A step of patterning the second metal leaf and the third metal foil with reference to the alignment hole of the target mark to form a first wiring pattern and a second wiring pattern, respectively.
It is characterized by having.

また、本発明に係る多層プリント配線板の製造方法は、
第1の主面および前記第1の主面と反対側の第2の主面を有するコア基材と、前記第1の主面に形成された第1の金属箔とを有する第1の金属箔張積層板を準備する工程と、
前記第1の金属箔をパターニングして、アライメント孔を有するターゲットマークを形成する工程と、
第3の主面および前記第3の主面と反対側の第4の主面を有する第1のビルドアップ基材と、前記第3の主面に形成された第2の金属箔とを有する第2の金属箔張積層板を準備する工程と、
前記第2の金属箔張積層板を厚さ方向に貫通する第1の貫通孔を形成する工程と、
前記第4の主面が前記第1の主面に対向し且つ前記アライメント孔が厚さ方向に見て前記第1の貫通孔内に位置するように、前記第2の金属箔張積層板を前記第1の金属箔張積層板に積層する工程と、
前記ターゲットマークの前記アライメント孔を基準にして前記第2の金属箔をパターニングして配線パターンを形成する工程と、
第5の主面および前記第5の主面と反対側の第6の主面を有する第2のビルドアップ基材と、前記第5の主面に形成された第3の金属箔とを有する第3の金属箔張積層板を準備する工程と、
前記第3の金属箔張積層板を厚さ方向に貫通する第2の貫通孔を形成する工程と、
前記第6の主面が前記第2の金属箔張積層板の前記第3の主面に対向し且つ前記アライメント孔が厚さ方向に見て前記第2の貫通孔内に位置するように、前記第3の金属箔張積層板を前記第2の金属箔張積層板に積層する工程と、
前記ターゲットマークの前記アライメント孔を基準にして前記第3の金属箔をパターニングして配線パターンを形成する工程と、
を備えることを特徴とする。
Further, the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention is as follows.
A first metal having a core base material having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and a first metal foil formed on the first main surface. The process of preparing the foil-clad laminate and
A step of patterning the first metal foil to form a target mark having an alignment hole, and
It has a first build-up base material having a third main surface and a fourth main surface opposite to the third main surface, and a second metal foil formed on the third main surface. The process of preparing the second metal leaf-clad laminate and
A step of forming a first through hole that penetrates the second metal leaf-clad laminate in the thickness direction, and
The second metal leaf-clad laminate is provided so that the fourth main surface faces the first main surface and the alignment hole is located in the first through hole when viewed in the thickness direction. The step of laminating on the first metal leaf-clad laminate and
A step of patterning the second metal foil with reference to the alignment hole of the target mark to form a wiring pattern.
It has a second build-up base material having a fifth main surface and a sixth main surface opposite to the fifth main surface, and a third metal foil formed on the fifth main surface. The process of preparing the third metal leaf-clad laminate and
A step of forming a second through hole that penetrates the third metal leaf-clad laminate in the thickness direction, and
The sixth main surface faces the third main surface of the second metal leaf-clad laminate so that the alignment hole is located in the second through hole when viewed in the thickness direction. A step of laminating the third metal leaf-clad laminate on the second metal leaf-clad laminate, and
A step of patterning the third metal foil with reference to the alignment hole of the target mark to form a wiring pattern.
It is characterized by having.

本発明に係る多層プリント配線板は、
第1の主面および前記第1の主面と反対側の第2の主面を有するコア基材と、前記第1の主面に形成され、アライメント孔が設けられたターゲットマークと、を有するコア配線板と、
第3の主面および前記第3の主面と反対側の第4の主面を有する第1のビルドアップ基材と、前記第3の主面に形成された第1の配線パターンとを有する第1のビルドアップ配線板と、
第5の主面および前記第5の主面と反対側の第6の主面を有する第2のビルドアップ基材と、前記第5の主面に形成された第2の配線パターンとを有する第2のビルドアップ配線板と、を備え、
前記第1のビルドアップ配線板は、前記第4の主面が前記第1の主面に対向するように、接着剤層を介して前記コア配線板に積層され、
前記第2のビルドアップ配線板は、前記第6の主面が前記第2の主面に対向するように、接着剤層を介して前記コア配線板に積層され、
前記コア配線板には、前記コア基材を厚さ方向に貫通する有底孔が形成され、
前記第1のビルドアップ配線板には、前記第1のビルドアップ基材を厚さ方向に貫通する第1の貫通孔が形成され、
前記第2のビルドアップ配線板には、前記第2のビルドアップ基材を厚さ方向に貫通し、前記有底孔に連通する第2の貫通孔が形成され、
前記アライメント孔は、前記第1の貫通孔の底面に露出し前記第3の主面側から視認可能であるとともに、前記有底孔の底面に露出し前記第5の主面側からも視認可能であることを特徴とする。
The multilayer printed wiring board according to the present invention
It has a core base material having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and a target mark formed on the first main surface and provided with an alignment hole. With the core wiring board
It has a first build-up base material having a third main surface and a fourth main surface opposite to the third main surface, and a first wiring pattern formed on the third main surface. The first build-up wiring board and
It has a second build-up base material having a fifth main surface and a sixth main surface opposite to the fifth main surface, and a second wiring pattern formed on the fifth main surface. With a second build-up wiring board,
The first build-up wiring board is laminated on the core wiring board via an adhesive layer so that the fourth main surface faces the first main surface.
The second build-up wiring board is laminated on the core wiring board via an adhesive layer so that the sixth main surface faces the second main surface.
The core wiring board is formed with a bottomed hole that penetrates the core base material in the thickness direction.
The first build-up wiring board is formed with a first through hole that penetrates the first build-up base material in the thickness direction.
The second build-up wiring board is formed with a second through hole that penetrates the second build-up base material in the thickness direction and communicates with the bottomed hole.
The alignment hole is exposed on the bottom surface of the first through hole and is visible from the third main surface side, and is also exposed on the bottom surface of the bottomed hole and is visible from the fifth main surface side. It is characterized by being.

また、本発明に係る多層プリント配線板は、
第1の主面および前記第1の主面と反対側の第2の主面を有するコア基材と、前記第1の主面に形成され、アライメント孔が設けられたターゲットマークと、を有するコア配線板と、
第3の主面および前記第3の主面と反対側の第4の主面を有する第1のビルドアップ基材と、前記第3の主面に形成された第1の配線パターンと、を有する第1のビルドアップ配線板と、
第5の主面および前記第5の主面と反対側の第6の主面を有する第2のビルドアップ基材と、前記第5の主面に形成された第2の配線パターンと、を有する第2のビルドアップ配線板と、を備え、
前記第1のビルドアップ配線板は、前記第4の主面が前記第1の主面に対向するように、接着剤層を介して前記コア配線板に積層され、
前記第2のビルドアップ配線板は、前記第6の主面が前記第3の主面に対向するように、接着剤層を介して前記第1のビルドアップ配線板に積層され、
前記第1のビルドアップ配線板には、前記第1のビルドアップ基材を厚さ方向に貫通する第1の貫通孔が形成され、
前記第2のビルドアップ配線板には、前記第2のビルドアップ基材を厚さ方向に貫通し、前記第1の貫通孔に連通する第2の貫通孔が形成され、
前記アライメント孔は、前記第1の貫通孔の底面に露出し、前記第5の主面側から視認可能であることを特徴とする。
Further, the multilayer printed wiring board according to the present invention is
It has a core base material having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and a target mark formed on the first main surface and provided with an alignment hole. With the core wiring board
A first build-up substrate having a third main surface and a fourth main surface opposite to the third main surface, and a first wiring pattern formed on the third main surface. With the first build-up wiring board that has
A second build-up substrate having a fifth main surface and a sixth main surface opposite to the fifth main surface, and a second wiring pattern formed on the fifth main surface. With a second build-up wiring board that has
The first build-up wiring board is laminated on the core wiring board via an adhesive layer so that the fourth main surface faces the first main surface.
The second build-up wiring board is laminated on the first build-up wiring board via an adhesive layer so that the sixth main surface faces the third main surface.
The first build-up wiring board is formed with a first through hole that penetrates the first build-up base material in the thickness direction.
The second build-up wiring board is formed with a second through hole that penetrates the second build-up base material in the thickness direction and communicates with the first through hole.
The alignment hole is exposed on the bottom surface of the first through hole and is visible from the fifth main surface side.

本発明によれば、各層の配線パターンの位置ずれの累積を防止し、各層の配線パターンの位置精度を向上させることが可能な多層プリント配線板の製造方法および多層プリント配線板を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board and a multilayer printed wiring board capable of preventing the accumulation of misalignment of the wiring pattern of each layer and improving the positional accuracy of the wiring pattern of each layer.

第1の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 1st Embodiment. 第1の例に係るターゲットマークの平面図である。It is a top view of the target mark which concerns on 1st example. 第2の例に係るターゲットマークの平面図である。It is a top view of the target mark which concerns on the 2nd example. 2つのターゲットマークと、配線パターンの配置例を示す平面図である。It is a top view which shows the arrangement example of two target marks and a wiring pattern. 第1の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 1st Embodiment. 図4に続く、第1の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process cross-sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 1st Embodiment following FIG. 図5に続く、第1の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process cross-sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 1st Embodiment following FIG. 図6に続く、第1の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process cross-sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 1st Embodiment following FIG. 図7に続く、第1の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process cross-sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 1st Embodiment following FIG. 第2の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 2nd Embodiment. 図9に続く、第2の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process cross-sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 2nd Embodiment following FIG. 図10に続く、第2の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process cross-sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 2nd Embodiment following FIG. 図11に続く、第2の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process cross-sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 2nd Embodiment following FIG. 図12に続く、第2の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is a process cross-sectional view for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on 2nd Embodiment following FIG.

以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、各図において同等の機能を有する構成要素には同一の符号を付す。また、図面は模式的なものであり、各実施形態に係る特徴部分を中心に示すものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なる。 Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings. In each figure, components having the same function are designated by the same reference numerals. Further, the drawings are schematic and show mainly the characteristic portions according to each embodiment, and the relationship between the thickness and the plane dimension, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from the actual ones.

(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法について、図1〜図8を参照しつつ説明する。
(First Embodiment)
A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 8.

まず、図1(1)に示すように、金属箔張積層板10(第1の金属箔張積層板)を準備する。金属箔張積層板10は、コア基材11と、金属箔12と、金属箔13とを有する、いわゆる両面金属箔張積層板である。 First, as shown in FIG. 1 (1), a metal foil-clad laminate 10 (first metal foil-clad laminate) is prepared. The metal foil-clad laminate 10 is a so-called double-sided metal foil-clad laminate having a core base material 11, a metal foil 12, and a metal foil 13.

コア基材11は、主面11a(第1の主面)、および主面11aと反対側の主面11b(第2の主面)を有する。金属箔12はコア基材11の主面11aに形成され、金属箔13はコア基材11の主面11bに形成されている。コア基材11の厚さは例えば50μmであり、金属箔12,13の厚さは例えば12μmである。 The core base material 11 has a main surface 11a (first main surface) and a main surface 11b (second main surface) opposite to the main surface 11a. The metal foil 12 is formed on the main surface 11a of the core base material 11, and the metal foil 13 is formed on the main surface 11b of the core base material 11. The thickness of the core base material 11 is, for example, 50 μm, and the thickness of the metal foils 12 and 13 is, for example, 12 μm.

コア基材11は、絶縁性の材料からなる。本実施形態では、コア基材11は、液晶ポリマー(Liquid Crystal Polymer:LCP)、ポリイミド等の可撓性を有する材料からなる。なお、コア基材11は、他の絶縁材料からなるものでもよいし、あるいは可撓性を有しない材料から構成されてもよい。金属箔12,13は、本実施形態では銅箔であるが、これに限らず、他の金属(例えば銀、アルミニウム)からなるものでもよい。 The core base material 11 is made of an insulating material. In the present embodiment, the core base material 11 is made of a flexible material such as a liquid crystal polymer (LCP) or polyimide. The core base material 11 may be made of another insulating material, or may be made of a material having no flexibility. The metal foils 12 and 13 are copper foils in the present embodiment, but are not limited to these, and may be made of other metals (for example, silver or aluminum).

次に、図1(2)に示すように、金属箔12をパターニングして、アライメント孔14aを有するターゲットマーク14を形成する。ターゲットマーク14は、後段の工程で各層の配線パターンを形成する際に共通に用いられる。ターゲットマーク14の直径は例えば3mmであり、アライメント孔14aの直径は例えば0.5mmである。 Next, as shown in FIG. 1 (2), the metal foil 12 is patterned to form the target mark 14 having the alignment holes 14a. The target mark 14 is commonly used when forming a wiring pattern for each layer in the subsequent process. The diameter of the target mark 14 is, for example, 3 mm, and the diameter of the alignment hole 14a is, for example, 0.5 mm.

金属箔12のパターニングは、公知のフォトファブリケーション手法を用いて金属箔12をエッチングすることにより行われる。金属箔12のパターニングにより、ターゲットマーク14とともに、配線パターン15を形成してもよい。 The patterning of the metal leaf 12 is performed by etching the metal leaf 12 using a known photofabrication technique. The wiring pattern 15 may be formed together with the target mark 14 by patterning the metal foil 12.

ターゲットマーク14の外形形状は、図2Aに示すように円形であるが、これに限るものではない。例えば、図2Bに示すように、ターゲットマーク14の外形形状は四角形でもよい。なお、ターゲットマーク14は複数個形成してもよい。例えば、図2Cに示すように、配線パターン15を挟んで2個のターゲットマーク14を形成してもよい。 The outer shape of the target mark 14 is circular as shown in FIG. 2A, but is not limited to this. For example, as shown in FIG. 2B, the outer shape of the target mark 14 may be a quadrangle. A plurality of target marks 14 may be formed. For example, as shown in FIG. 2C, two target marks 14 may be formed with the wiring pattern 15 interposed therebetween.

図1(2)に示すように、金属箔13をパターニングして、配線パターン16を形成する。本実施形態では、金属箔12と金属箔13を同時に加工して配線パターン15と配線パターン16をそれぞれ形成する。 As shown in FIG. 1 (2), the metal foil 13 is patterned to form the wiring pattern 16. In the present embodiment, the metal foil 12 and the metal foil 13 are processed at the same time to form the wiring pattern 15 and the wiring pattern 16, respectively.

ここで、金属箔のパターニング方法の詳細を説明する。 Here, the details of the patterning method of the metal foil will be described.

まず、金属箔12および金属箔13の上にフォトレジスト層(図示せず)を形成する。このフォトレジスト層は、ドライフィルムを金属箔12,13上にラミネートすることにより形成してもよいし、あるいはエッチングレジストペーストを金属箔12,13上に塗布することにより形成してもよい。次に、金属箔12を被覆するフォトレジスト層の上に表側用の露光マスク(図示せず)を位置合わせして配置する。同様に、金属箔13を被覆するフォトレジスト層の上に裏側用の露光マスク(図示せず)を位置合わせして配置する。 First, a photoresist layer (not shown) is formed on the metal foil 12 and the metal foil 13. The photoresist layer may be formed by laminating a dry film on the metal foils 12 and 13, or may be formed by applying an etching resist paste on the metal foils 12 and 13. Next, an exposure mask (not shown) for the front side is aligned and arranged on the photoresist layer covering the metal foil 12. Similarly, an exposure mask (not shown) for the back side is aligned and arranged on the photoresist layer covering the metal foil 13.

その後、フォトレジスト層を露光、現像することによりエッチングマスクを形成する。そして、エッチングマスクを用いて金属箔12と金属箔13をエッチングする。エッチング終了後、エッチングマスクを剥離する。 Then, the photoresist layer is exposed and developed to form an etching mask. Then, the metal foil 12 and the metal foil 13 are etched using the etching mask. After the etching is completed, the etching mask is peeled off.

このようにしてターゲットマーク14、配線パターン15および配線パターン16が形成される。配線パターン15および16は比較的高い位置精度(例えば±10μm以内)で形成することが可能である。本実施形態では、配線パターン16は、配線パターン15と平面視してほぼ重なるように形成される。配線パターン15,16は、図1(2)において紙面と垂直方向に延在している。なお、本実施形態において配線パターン15,16は、中心線がほぼ同じであれば、幅が異なっていてもよい。 In this way, the target mark 14, the wiring pattern 15, and the wiring pattern 16 are formed. The wiring patterns 15 and 16 can be formed with relatively high position accuracy (for example, within ± 10 μm). In the present embodiment, the wiring pattern 16 is formed so as to substantially overlap with the wiring pattern 15 in a plan view. The wiring patterns 15 and 16 extend in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 1 (2). In the present embodiment, the wiring patterns 15 and 16 may have different widths as long as the center lines are substantially the same.

上記のようにして金属箔12,13のパターニングを行い、ターゲットマーク14および配線パターン15,16を形成した後、図1(3)に示すように、有底孔17を形成する。この有底孔17の直径は、アライメント孔14aの直径よりも大きく、例えば1mmである。 After patterning the metal foils 12 and 13 as described above to form the target marks 14 and the wiring patterns 15 and 16, the bottomed holes 17 are formed as shown in FIG. 1 (3). The diameter of the bottomed hole 17 is larger than the diameter of the alignment hole 14a, for example, 1 mm.

有底孔17はコア基材11を厚さ方向に貫通しており、有底孔17の底面にはアライメント孔14aが露出している。有底孔17を形成することにより、ターゲットマーク14(アライメント孔14a)は、コア基材11の主面11b側からも視認可能となる。
本実施形態では、有底孔17は、主面11bにレーザ光を照射し、コア基材11をレーザ加工することにより形成される。このレーザ加工にはCOレーザ等を使用する。レーザ光はターゲットマーク14の略中心(アライメント孔14a近辺)を狙って照射される。レーザ光照射位置の調整は、配線パターン16あるいは配線パターン16と同時に形成したターゲットマーク(図示せず)を基準にして行ってもよい。これにより、特殊なアライメントによらず有底孔17を形成することが可能である。
The bottomed hole 17 penetrates the core base material 11 in the thickness direction, and the alignment hole 14a is exposed on the bottom surface of the bottomed hole 17. By forming the bottomed hole 17, the target mark 14 (alignment hole 14a) can be visually recognized from the main surface 11b side of the core base material 11.
In the present embodiment, the bottomed hole 17 is formed by irradiating the main surface 11b with a laser beam and laser-machining the core base material 11. A CO 2 laser or the like is used for this laser processing. The laser beam is emitted aiming at the substantially center of the target mark 14 (near the alignment hole 14a). The laser light irradiation position may be adjusted with reference to the wiring pattern 16 or the target mark (not shown) formed at the same time as the wiring pattern 16. This makes it possible to form the bottomed hole 17 regardless of special alignment.

なお、有底孔17を形成した後、ターゲットマーク14を構成する金属箔12の裏面(コア基材11と接着していた面)を鏡面化する処理を行ってもよい。例えば、ターゲットマーク14に対して、プラズマ処理またはエッチング処理(例えば1μm程度の軽いエッチング)を行うことで、金属箔12の裏面を鏡面化する。これにより、主面11b側から見たときのターゲットマーク14の視認性を向上させることができる。 After forming the bottomed hole 17, the back surface (the surface that was adhered to the core base material 11) of the metal foil 12 that constitutes the target mark 14 may be mirrored. For example, the back surface of the metal foil 12 is mirrored by performing plasma treatment or etching treatment (for example, light etching of about 1 μm) on the target mark 14. Thereby, the visibility of the target mark 14 when viewed from the main surface 11b side can be improved.

次に、図3(1)に示すように、金属箔張積層板20(第2の金属箔張積層板)を準備する。金属箔張積層板20は、ビルドアップ基材21(第1のビルドアップ基材)と、金属箔22(第2の金属箔)と、接着剤層23とを有している。なお、接着剤層23は必須ではない。 Next, as shown in FIG. 3 (1), the metal foil-clad laminate 20 (second metal foil-clad laminate) is prepared. The metal foil-clad laminate 20 has a build-up base material 21 (first build-up base material), a metal foil 22 (second metal foil), and an adhesive layer 23. The adhesive layer 23 is not essential.

ビルドアップ基材21は、主面21a(第3の主面)および主面21aと反対側の主面21b(第4の主面)を有する。金属箔22は主面21aに形成され、接着剤層23は主面21bに仮付けされている。ビルドアップ基材21の厚さは例えば50μmであり、金属箔22の厚さは例えば12μmである。 The build-up base material 21 has a main surface 21a (third main surface) and a main surface 21b (fourth main surface) opposite to the main surface 21a. The metal foil 22 is formed on the main surface 21a, and the adhesive layer 23 is temporarily attached to the main surface 21b. The thickness of the build-up base material 21 is, for example, 50 μm, and the thickness of the metal foil 22 is, for example, 12 μm.

ビルドアップ基材21は、絶縁性の材料からなる。本実施形態では、ビルドアップ基材21は、液晶ポリマー、ポリイミド等の可撓性を有する材料からなる。なお、ビルドアップ基材21は、他の絶縁材料からなるものでもよいし、あるいは可撓性を有しない材料から構成されてもよい。金属箔22は、本実施形態では銅箔であるが、これに限らず、他の金属(例えば銀、アルミニウム)からなるものでもよい。 The build-up base material 21 is made of an insulating material. In the present embodiment, the build-up base material 21 is made of a flexible material such as a liquid crystal polymer or polyimide. The build-up base material 21 may be made of another insulating material, or may be made of a non-flexible material. The metal foil 22 is a copper foil in the present embodiment, but is not limited to this, and may be made of another metal (for example, silver or aluminum).

次に、図3(2)に示すように、金属箔張積層板20を厚さ方向に貫通する貫通孔24(第1の貫通孔)を形成する。この貫通孔24は、例えばレーザ加工でビルドアップ基材21を部分的に除去することにより形成される。貫通孔24の直径は、例えば2.5mmである。貫通孔24の直径は、アライメント孔14aの直径よりも大きい必要がある。 Next, as shown in FIG. 3 (2), a through hole 24 (first through hole) that penetrates the metal foil-clad laminate 20 in the thickness direction is formed. The through hole 24 is formed by partially removing the build-up base material 21 by, for example, laser processing. The diameter of the through hole 24 is, for example, 2.5 mm. The diameter of the through hole 24 needs to be larger than the diameter of the alignment hole 14a.

なお、貫通孔24の直径は、ターゲットマーク14の直径よりも少し小さいことが好ましい。これにより、ターゲットマーク14の周縁部を接着剤層23で押さえることができる(図6(1)参照)。 The diameter of the through hole 24 is preferably slightly smaller than the diameter of the target mark 14. As a result, the peripheral edge of the target mark 14 can be pressed by the adhesive layer 23 (see FIG. 6 (1)).

次に、図4(1)に示すように、金属箔張積層板30(第3の金属箔張積層板)を準備する。金属箔張積層板30は、ビルドアップ基材31(第2のビルドアップ基材)と、金属箔32(第3の金属箔)と、接着剤層33とを有している。なお、接着剤層33は必須ではない。 Next, as shown in FIG. 4 (1), a metal foil-clad laminate 30 (third metal foil-clad laminate) is prepared. The metal foil-clad laminate 30 has a build-up base material 31 (second build-up base material), a metal foil 32 (third metal foil), and an adhesive layer 33. The adhesive layer 33 is not essential.

ビルドアップ基材31は、主面31a(第5の主面)および主面31aと反対側の主面31b(第6の主面)を有する。金属箔32は主面31aに形成され、接着剤層33は主面31bに仮付けされている。ビルドアップ基材31の厚さは例えば50μmであり、金属箔32の厚さは例えば12μmである。 The build-up base material 31 has a main surface 31a (fifth main surface) and a main surface 31b (sixth main surface) opposite to the main surface 31a. The metal foil 32 is formed on the main surface 31a, and the adhesive layer 33 is temporarily attached to the main surface 31b. The thickness of the build-up base material 31 is, for example, 50 μm, and the thickness of the metal foil 32 is, for example, 12 μm.

ビルドアップ基材31は、絶縁性の材料からなる。本実施形態では、ビルドアップ基材31は、液晶ポリマー、ポリイミド等の可撓性を有する材料からなる。なお、ビルドアップ基材31は、他の絶縁材料からなるものでもよいし、あるいは可撓性を有しない材料から構成されてもよい。金属箔32は、本実施形態では銅箔であるが、これに限らず、他の金属(例えば銀、アルミニウム)からなるものでもよい。 The build-up base material 31 is made of an insulating material. In the present embodiment, the build-up base material 31 is made of a flexible material such as a liquid crystal polymer or polyimide. The build-up base material 31 may be made of another insulating material, or may be made of a non-flexible material. The metal foil 32 is a copper foil in the present embodiment, but is not limited to this, and may be made of another metal (for example, silver or aluminum).

次に、図4(2)に示すように、金属箔張積層板30を厚さ方向に貫通する貫通孔34(第2の貫通孔)を形成する。この貫通孔34は、例えばレーザ加工でビルドアップ基材31を部分的に除去することにより形成される。貫通孔34の直径は、例えば2.5mmである。貫通孔34の直径は、アライメント孔14aの直径よりも大きい必要がある。 Next, as shown in FIG. 4 (2), a through hole 34 (second through hole) that penetrates the metal foil-clad laminate 30 in the thickness direction is formed. The through hole 34 is formed by partially removing the build-up base material 31 by, for example, laser processing. The diameter of the through hole 34 is, for example, 2.5 mm. The diameter of the through hole 34 needs to be larger than the diameter of the alignment hole 14a.

なお、貫通孔34の直径は、有底孔17の直径よりも大きいことが好ましい。これにより、後段の工程において金属箔張積層板30を金属箔張積層板10上に積層する際に多少の位置ずれが発生したとしても、外側から貫通孔34を通してアライメント孔14aを視認することができる。 The diameter of the through hole 34 is preferably larger than the diameter of the bottomed hole 17. As a result, even if some misalignment occurs when the metal foil-clad laminate 30 is laminated on the metal foil-clad laminate 10 in the subsequent process, the alignment hole 14a can be visually recognized from the outside through the through hole 34. can.

次に、図5および図6(1)に示すように、ビルドアップ基材21の主面21bがコア基材11の主面11aに対向し且つアライメント孔14aが厚さ方向に見て貫通孔24内に位置するように、金属箔張積層板20を金属箔張積層板10に接着剤層23を介して積層する。この積層は、例えばピンガイドで金属箔張積層板間の位置合わせした後に行う。以下の積層工程についても同様である。 Next, as shown in FIGS. 5 and 6 (1), the main surface 21b of the build-up base material 21 faces the main surface 11a of the core base material 11, and the alignment hole 14a is a through hole when viewed in the thickness direction. The metal foil-clad laminate 20 is laminated on the metal foil-clad laminate 10 via the adhesive layer 23 so as to be located inside the 24. This lamination is performed, for example, after aligning the metal foil-clad laminates with a pin guide. The same applies to the following laminating steps.

次に、図5および図6(1)に示すように、ビルドアップ基材31の主面31bがコア基材11の主面11bに対向し且つアライメント孔14aが厚さ方向に見て貫通孔34内に位置するように、金属箔張積層板30を金属箔張積層板10に接着剤層33を介して積層する。この際、金属箔張積層板30は、貫通孔34が有底孔17に連通するように金属箔張積層板10に積層される。 Next, as shown in FIGS. 5 and 6 (1), the main surface 31b of the build-up base material 31 faces the main surface 11b of the core base material 11, and the alignment hole 14a is a through hole when viewed in the thickness direction. The metal foil-clad laminate 30 is laminated on the metal foil-clad laminate 10 via the adhesive layer 33 so as to be located inside 34. At this time, the metal leaf-clad laminate 30 is laminated on the metal foil-clad laminate 10 so that the through hole 34 communicates with the bottomed hole 17.

なお、金属箔張積層板20,30に接着剤層23,33が設けられていない場合は、ローフローボンディングシートをコア基材11の両面にラミネートした後、金属箔張積層板20,30をコア基材11上に積層してもよい。 If the metal foil-clad laminates 20 and 30 are not provided with the adhesive layers 23 and 33, the low-flow bonding sheets are laminated on both sides of the core base material 11, and then the metal foil-clad laminates 20 and 30 are attached. It may be laminated on the core base material 11.

次に、積層された金属箔張積層板10,20,30(積層体)を加熱・加圧して一体化する。具体的には、真空プレス装置または真空ラミネータ装置を用いて、積層体に対して加熱および加圧を行う。例えば、積層体を150〜200℃程度に加熱するとともに、2〜4MPa程度の圧力で加圧する。なお、この温度は液晶ポリマーの軟化温度より50℃以上低い。本工程により接着剤層23,33は硬化する。 Next, the laminated metal leaf-clad laminates 10, 20, 30 (laminated body) are heated and pressurized to be integrated. Specifically, a vacuum press device or a vacuum laminator device is used to heat and pressurize the laminate. For example, the laminate is heated to about 150 to 200 ° C. and pressurized at a pressure of about 2 to 4 MPa. This temperature is 50 ° C. or more lower than the softening temperature of the liquid crystal polymer. The adhesive layers 23 and 33 are cured by this step.

次に、図7(2)に示すように、ターゲットマーク14のアライメント孔14aを基準にして金属箔22および金属箔32をパターニングして、配線パターン25(第1の配線パターン)および配線パターン35(第2の配線パターン)をそれぞれ形成する。本実施形態では、配線パターン25,35は配線パターン15,16と平面視してほぼ重なるように形成される。 Next, as shown in FIG. 7 (2), the metal foil 22 and the metal foil 32 are patterned with reference to the alignment hole 14a of the target mark 14, and the wiring pattern 25 (first wiring pattern) and the wiring pattern 35 are used. (Second wiring pattern) is formed respectively. In the present embodiment, the wiring patterns 25 and 35 are formed so as to substantially overlap with the wiring patterns 15 and 16 in a plan view.

配線パターン25,35は、具体的には以下のようにして形成される。 Specifically, the wiring patterns 25 and 35 are formed as follows.

まず、図6(2)に示すように、ラミネータ装置を用いて、積層体の外表面にドライフィルム41および42を貼り付ける。これにより、貫通孔24の開口はドライフィルム41により覆われ、貫通孔34の開口はドライフィルム42により覆われる。ドライフィルム41,42としては、貫通孔24,34をテンティング可能な厚み(例えば30μm厚)を有するドライフィルムレジストを用いることが望ましい。 First, as shown in FIG. 6 (2), the dry films 41 and 42 are attached to the outer surface of the laminate using a laminator device. As a result, the opening of the through hole 24 is covered with the dry film 41, and the opening of the through hole 34 is covered with the dry film 42. As the dry films 41 and 42, it is desirable to use a dry film resist having a thickness (for example, 30 μm thickness) capable of tenting the through holes 24 and 34.

次に、積層体の表側および裏側に設けられた2台のカメラ(図示せず)により、積層体のアライメント孔14aを認識する。そして、認識されたアライメント孔14aの位置に基づいて表側用と裏側用の2枚の露光マスク(フォトマスク)の位置合わせを行い、それぞれドライフィルム41および42上に配置する。その後、ドライフィルム41,42を露光、現像することにより、図7(1)に示すように、エッチングマスク41a,41b,42a,42bを形成する。なお、ドライフィルム41,42の露光は両面露光により同時に行ってもよいし、片面ずつ行ってもよい。 Next, the alignment holes 14a of the laminated body are recognized by two cameras (not shown) provided on the front side and the back side of the laminated body. Then, based on the recognized positions of the alignment holes 14a, the two exposure masks (photomasks) for the front side and the back side are aligned and arranged on the dry films 41 and 42, respectively. After that, the dry films 41 and 42 are exposed and developed to form etching masks 41a, 41b, 42a and 42b as shown in FIG. 7 (1). The dry films 41 and 42 may be exposed at the same time by double-sided exposure, or may be exposed on one side at a time.

エッチングマスク41a,42aは、金属箔22,32をエッチングする際にターゲットマーク14がエッチングされないように保護するために形成されている。エッチングマスク41b,42bは、配線パターン25,35を形成するためのエッチングマスクである。このように本実施形態では、共通のアライメント孔14aを基準にして露光マスクを配置するため、高い位置精度でエッチングマスク41b,42bを形成することができる。 The etching masks 41a and 42a are formed to protect the target mark 14 from being etched when the metal foils 22 and 32 are etched. The etching masks 41b and 42b are etching masks for forming the wiring patterns 25 and 35. As described above, in the present embodiment, since the exposure mask is arranged with reference to the common alignment hole 14a, the etching masks 41b and 42b can be formed with high position accuracy.

その後、エッチングマスク41a,41b,42a,42bを用いて金属箔22と金属箔32をエッチングする。エッチング終了後、エッチングマスク41a,41b,42a,42bを剥離する。これにより、配線パターン25,35が形成される。エッチングマスク41b,42bが高い位置精度で形成されているため、配線パターン25,35を配線パターン15,16に対して高い位置精度(例えば±10μm以内)で形成することができる。 Then, the metal foil 22 and the metal foil 32 are etched using the etching masks 41a, 41b, 42a, 42b. After the etching is completed, the etching masks 41a, 41b, 42a, 42b are peeled off. As a result, the wiring patterns 25 and 35 are formed. Since the etching masks 41b and 42b are formed with high position accuracy, the wiring patterns 25 and 35 can be formed with high position accuracy (for example, within ± 10 μm) with respect to the wiring patterns 15 and 16.

配線パターン25,35は、図7(2)において紙面と垂直方向に延在している。なお、本実施形態において配線パターン25,35は、中心線がほぼ同じであれば、幅が異なっていてもよい。 The wiring patterns 25 and 35 extend in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 7 (2). In the present embodiment, the wiring patterns 25 and 35 may have different widths as long as the center lines are substantially the same.

ここまでの工程を経て、図7(2)に示すように、4層の多層プリント配線板が得られる。4層の配線パターン15,16,25,35は高い位置精度で形成される。 Through the steps up to this point, as shown in FIG. 7 (2), a four-layer multilayer printed wiring board can be obtained. The four-layer wiring patterns 15, 16, 25, and 35 are formed with high position accuracy.

さらに多層のプリント配線板を製造する場合は、上記の工程(ビルドアップ用の金属箔張積層板の準備、貫通孔の形成、積層、および金属箔のパターニング)を繰り返せばよい。図8は、図7(2)に示す4層の多層プリント配線板の両面に金属箔張積層板を積層した6層の多層プリント配線板を示している。最外層の配線パターン26,36は、配線パターン25,35と同様に、共通のアライメント孔14aを基準として形成されたエッチングマスクを用いたエッチングにより形成される。よって、配線パターン26,36は高い位置精度で形成される。このため、配線パターン26,36は配線パターン25,35に対して高い位置精度(例えば±10μm以内)で形成される。その結果、6層の配線パターン15,16,25,26,35,36を高い位置精度で形成することができる。 Further, in the case of manufacturing a multi-layer printed wiring board, the above steps (preparation of metal foil-clad laminate for build-up, formation of through holes, lamination, and patterning of metal foil) may be repeated. FIG. 8 shows a 6-layer multilayer printed wiring board in which a metal foil-clad laminate is laminated on both sides of the 4-layer multilayer printed wiring board shown in FIG. 7 (2). The wiring patterns 26 and 36 of the outermost layer are formed by etching using an etching mask formed with reference to the common alignment hole 14a as in the wiring patterns 25 and 35. Therefore, the wiring patterns 26 and 36 are formed with high position accuracy. Therefore, the wiring patterns 26 and 36 are formed with high positional accuracy (for example, within ± 10 μm) with respect to the wiring patterns 25 and 35. As a result, the 6-layer wiring patterns 15, 16, 25, 26, 35, 36 can be formed with high position accuracy.

配線パターン26,36は、図8において紙面と垂直方向に延在している。なお、本実施形態において配線パターン26,36は、中心線がほぼ同じであれば、幅が異なっていてもよい。 The wiring patterns 26 and 36 extend in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. In the present embodiment, the wiring patterns 26 and 36 may have different widths as long as the center lines are substantially the same.

上記のように本実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法によれば、各層の配線パターンを高い位置精度で形成することができる。これにより、例えば、配線パターンと、多層プリント配線板の外形加工端との間の距離を短くすることができる。図8の例で言えば、配線パターン15,16,25,26,35,36の横方向の位置ずれが小さいため、カットラインC1とカットラインC2間の長さを短くすることができる。これにより、例えばケーブル状の細長いプリント配線板を容易に製造することができる。 As described above, according to the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present embodiment, the wiring pattern of each layer can be formed with high position accuracy. Thereby, for example, the distance between the wiring pattern and the outer shape processed end of the multilayer printed wiring board can be shortened. In the example of FIG. 8, since the lateral misalignment of the wiring patterns 15, 16, 25, 26, 35, 36 is small, the length between the cut line C1 and the cut line C2 can be shortened. Thereby, for example, a cable-shaped elongated printed wiring board can be easily manufactured.

多層プリント配線板の外形加工は、例えば、画像アライメント方式のレーザ加工により行われる。すなわち、ターゲットマーク14のアライメント孔14aをカメラで認識してレーザ光源および多層プリント配線板の位置合わせを行い、カットラインに沿って外形加工を行う。カットラインは、レーザの加工精度の範囲内で配線パターンに近接した位置に設定することが可能である。 The outer shape of the multilayer printed wiring board is processed by, for example, laser processing of an image alignment method. That is, the alignment hole 14a of the target mark 14 is recognized by the camera, the laser light source and the multilayer printed wiring board are aligned, and the outer shape is processed along the cut line. The cut line can be set at a position close to the wiring pattern within the processing accuracy of the laser.

本実施形態によれば、各層の配線パターンは共通のターゲットマークを基準にして形成されるため、位置ずれの累積を防止することができる。よって、外形加工端がレーザ加工精度(例えば±25μm)と、配線パターンの形成位置精度(例えば±10μm)との2乗平均値(例えば±27μm)まで配線パターンに近接した多層プリント配線板を得ることができる。 According to this embodiment, since the wiring pattern of each layer is formed with reference to a common target mark, it is possible to prevent the accumulation of misalignment. Therefore, a multilayer printed wiring board whose outer shape processing end is close to the wiring pattern up to the square average value (for example, ± 27 μm) of the laser processing accuracy (for example, ± 25 μm) and the wiring pattern formation position accuracy (for example, ± 10 μm) is obtained. be able to.

このように、本実施形態によれば、特に高価な装置を適用することなく、従来方法に比べて外形加工端を配線パターンへ近接させることが可能となる。 As described above, according to the present embodiment, it is possible to bring the outer shape processed end closer to the wiring pattern as compared with the conventional method without applying a particularly expensive device.

なお、図8の例では、外形加工の際にターゲットマーク14が形成された領域を切り落としたが、当該領域を残しておいてもよい。 In the example of FIG. 8, the region where the target mark 14 was formed was cut off during the outer shape processing, but the region may be left.

上記の多層プリント配線板の製造方法は一例に過ぎず、種々の変更を行ってもよい。例えば、金属箔張積層板10,20,30の各々に対する加工工程の実施順序は任意である。金属箔張積層板20,30に貫通孔24,34を形成した後に金属箔張積層板10のターゲットマーク14や有底孔17を形成してもよい。 The above-mentioned method for manufacturing a multilayer printed wiring board is only an example, and various modifications may be made. For example, the execution order of the processing steps for each of the metal leaf-clad laminates 10, 20, and 30 is arbitrary. After forming the through holes 24 and 34 in the metal foil-clad laminates 20 and 30, the target mark 14 and the bottomed hole 17 of the metal foil-clad laminate 10 may be formed.

また、有底孔17は、ターゲットマーク14を形成した後に形成してもよい。 Further, the bottomed hole 17 may be formed after the target mark 14 is formed.

また、コア基材11が透明な材料からなる場合で、カメラが絶縁基材を通してターゲットマーク14を視認可能であるときは、有底孔17は形成しなくてもよい。 Further, when the core base material 11 is made of a transparent material and the camera can see the target mark 14 through the insulating base material, the bottomed hole 17 does not have to be formed.

また、金属箔張積層板10は、両面金属箔張積層板であるが、これに限らず、片面(主面11a)にのみ金属箔が形成された片面金属箔張積層板であってもよい。 Further, the metal foil-clad laminate 10 is a double-sided metal foil-clad laminate, but is not limited to this, and may be a single-sided metal foil-clad laminate in which a metal foil is formed only on one surface (main surface 11a). ..

また、ターゲットマーク14は、上記製造方法により製造された多層プリント配線板の識別情報を含むように形成されたものでもよい。例えば、ターゲットマーク14は、バーコード、二次元コード等の形状に形成されたものであってもよい。これにより、多層プリント配線板を初期の工程(金属箔張積層板10の加工)からトレースすることが可能になる。 Further, the target mark 14 may be formed so as to include identification information of the multilayer printed wiring board manufactured by the above manufacturing method. For example, the target mark 14 may be formed in a shape such as a bar code or a two-dimensional code. This makes it possible to trace the multilayer printed wiring board from the initial process (processing of the metal leaf-clad laminate 10).

<多層プリント配線板>
第1の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法により製造された多層プリント配線板は以下の構成を有する。
<Multilayer printed wiring board>
The multilayer printed wiring board manufactured by the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the first embodiment has the following configuration.

本実施形態に係る多層プリント配線板は、図7(2)に示すように、コア配線板1と、コア配線板1の一方の主面に積層されたビルドアップ配線板2と、コア配線板1の他方の主面に積層されたビルドアップ配線板3と、を備えている。 As shown in FIG. 7 (2), the multilayer printed wiring board according to the present embodiment includes a core wiring board 1, a build-up wiring board 2 laminated on one main surface of the core wiring board 1, and a core wiring board. A build-up wiring board 3 laminated on the other main surface of 1 is provided.

コア配線板1は、コア基材11と、コア基材11の主面11aに形成され、アライメント孔14aが設けられたターゲットマーク14とを有する。ビルドアップ配線板2は、ビルドアップ基材21と、ビルドアップ基材21の主面21aに形成された配線パターン25とを有する。ビルドアップ配線板3は、ビルドアップ基材31と、ビルドアップ基材31の主面31aに形成された配線パターン35とを有する。 The core wiring board 1 has a core base material 11 and a target mark 14 formed on the main surface 11a of the core base material 11 and provided with an alignment hole 14a. The build-up wiring board 2 has a build-up base material 21 and a wiring pattern 25 formed on the main surface 21a of the build-up base material 21. The build-up wiring board 3 has a build-up base material 31 and a wiring pattern 35 formed on the main surface 31a of the build-up base material 31.

ビルドアップ配線板2は、主面21bがコア基材11の主面11aに対向するように、接着剤層23を介してコア配線板1に積層されている。ビルドアップ配線板3は、主面31bがコア基材11の主面11bに対向するように、接着剤層33を介してコア配線板1に積層されている。 The build-up wiring board 2 is laminated on the core wiring board 1 via the adhesive layer 23 so that the main surface 21b faces the main surface 11a of the core base material 11. The build-up wiring board 3 is laminated on the core wiring board 1 via the adhesive layer 33 so that the main surface 31b faces the main surface 11b of the core base material 11.

コア配線板1には、コア基材11を厚さ方向に貫通する有底孔17が形成されている。ビルドアップ配線板2には、ビルドアップ基材21を厚さ方向に貫通する貫通孔24が形成されている。ビルドアップ配線板3には、ビルドアップ基材31を厚さ方向に貫通し、有底孔17に連通する貫通孔34が形成されている。 The core wiring board 1 is formed with a bottomed hole 17 that penetrates the core base material 11 in the thickness direction. The build-up wiring board 2 is formed with a through hole 24 that penetrates the build-up base material 21 in the thickness direction. The build-up wiring board 3 is formed with a through hole 34 that penetrates the build-up base material 31 in the thickness direction and communicates with the bottomed hole 17.

ターゲットマーク14のアライメント孔14aは、貫通孔24の底面に露出しビルドアップ基材21の主面21a側から視認可能であるとともに、有底孔17の底面に露出しビルドアップ基材31の主面31a側からも視認可能である。 The alignment hole 14a of the target mark 14 is exposed on the bottom surface of the through hole 24 and is visible from the main surface 21a side of the build-up base material 21, and is exposed on the bottom surface of the bottomed hole 17 and is the main part of the build-up base material 31. It is also visible from the surface 31a side.

また、本実施形態に係る多層プリント配線板は、図7(2)に示すように、多層プリント配線板の長手方向に延在する配線パターン15,16,25,35を各層に有する。そして、配線パターン15,16,25,35の、長手方向に直交する幅方向の位置は、多層プリント配線板の厚さ方向に見てほぼ同じである。 Further, as shown in FIG. 7 (2), the multilayer printed wiring board according to the present embodiment has wiring patterns 15, 16, 25, and 35 extending in the longitudinal direction of the multilayer printed wiring board in each layer. The positions of the wiring patterns 15, 16, 25, and 35 in the width direction orthogonal to the longitudinal direction are substantially the same when viewed in the thickness direction of the multilayer printed wiring board.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法について、図9〜図13を参照して説明する。第2の実施形態の第1の実施形態との相違点の一つは、金属箔張積層板20,30の積層方法である。第1の実施形態では、金属箔張積層板10の一方の主面に金属箔張積層板20を積層し、他方の主面に金属箔張積層板30を積層した。これに対し、第2の実施形態では、金属箔張積層板20,30のいずれも金属箔張積層板10の片面側に積層する。
(Second Embodiment)
Next, a method of manufacturing the multilayer printed wiring board according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 to 13. One of the differences between the second embodiment and the first embodiment is the method of laminating the metal leaf-clad laminates 20 and 30. In the first embodiment, the metal leaf-clad laminate 20 is laminated on one main surface of the metal leaf-clad laminate 10, and the metal leaf-clad laminate 30 is laminated on the other main surface. On the other hand, in the second embodiment, both the metal leaf-clad laminates 20 and 30 are laminated on one side of the metal foil-clad laminate 10.

以下、第1の実施形態との重複部分の説明は適宜省略し、相違点を中心に第2の実施形態について説明する。 Hereinafter, the description of the overlapping portion with the first embodiment will be omitted as appropriate, and the second embodiment will be described focusing on the differences.

まず、図9に示すように、金属箔張積層板10を準備した後、金属箔12をパターニングして、アライメント孔14aを有するターゲットマーク14を形成する。第1の実施形態と同様にして、配線パターン15,16も形成する。ただし、本実施形態では、有底孔17を形成する必要はない。 First, as shown in FIG. 9, after preparing the metal foil-clad laminate 10, the metal foil 12 is patterned to form the target mark 14 having the alignment holes 14a. Wiring patterns 15 and 16 are also formed in the same manner as in the first embodiment. However, in this embodiment, it is not necessary to form the bottomed hole 17.

次に、金属箔張積層板20を準備した後、図9に示すように、金属箔張積層板20を厚さ方向に貫通する貫通孔24を形成する。 Next, after preparing the metal foil-clad laminate 20, as shown in FIG. 9, a through hole 24 that penetrates the metal foil-clad laminate 20 in the thickness direction is formed.

次に、図9および図10(1)に示すように、ビルドアップ基材21の主面21bがコア基材11の主面11aに対向し且つアライメント孔14aが厚さ方向に見て貫通孔24内に位置するように、接着剤層23を介して金属箔張積層板20を金属箔張積層板10に積層する。その後、積層された金属箔張積層板10,20(積層体)を加熱・加圧して一体化する。本工程により接着剤層23は硬化する。 Next, as shown in FIGS. 9 and 10 (1), the main surface 21b of the build-up base material 21 faces the main surface 11a of the core base material 11, and the alignment hole 14a is a through hole when viewed in the thickness direction. The metal foil-clad laminate 20 is laminated on the metal foil-clad laminate 10 via the adhesive layer 23 so as to be located inside the 24. After that, the laminated metal leaf-clad laminates 10 and 20 (laminated body) are heated and pressurized to be integrated. The adhesive layer 23 is cured by this step.

次に、図11(2)に示すように、ターゲットマーク14のアライメント孔14aを基準にして金属箔22をパターニングして配線パターン25を形成する。配線パターン25は、以下のようにして形成する。 Next, as shown in FIG. 11 (2), the metal foil 22 is patterned with reference to the alignment hole 14a of the target mark 14 to form the wiring pattern 25. The wiring pattern 25 is formed as follows.

まず、図10(2)に示すように、金属箔22の上にドライフィルム41を貼り付ける。これにより、貫通孔24の開口はドライフィルム41により覆われる。次に、カメラ(図示せず)で積層体の外側からドライフィルム41を通してアライメント孔14aを認識する。そして、認識されたアライメント孔14aの位置に基づいて露光マスクの位置合わせを行い、ドライフィルム41上に露光マスクを配置する。その後、ドライフィルム41を露光、現像することにより、図11(1)に示すように、エッチングマスク41a,41bを形成する。その後、エッチングマスク41a,41bを用いて金属箔22をエッチングする。これにより、図11(2)に示すように、配線パターン25が形成される。 First, as shown in FIG. 10 (2), the dry film 41 is attached on the metal foil 22. As a result, the opening of the through hole 24 is covered with the dry film 41. Next, the alignment hole 14a is recognized from the outside of the laminated body through the dry film 41 with a camera (not shown). Then, the exposure mask is aligned based on the recognized position of the alignment hole 14a, and the exposure mask is placed on the dry film 41. After that, the dry film 41 is exposed and developed to form etching masks 41a and 41b as shown in FIG. 11 (1). Then, the metal foil 22 is etched using the etching masks 41a and 41b. As a result, the wiring pattern 25 is formed as shown in FIG. 11 (2).

次に、金属箔張積層板30を準備した後、図12に示すように、金属箔張積層板30を厚さ方向に貫通する貫通孔34を形成する。 Next, after preparing the metal foil-clad laminate 30, as shown in FIG. 12, a through hole 34 is formed through the metal foil-clad laminate 30 in the thickness direction.

なお、図12では貫通孔24と貫通孔34の直径は同じであるが、これに限らず、貫通孔34の直径を貫通孔24の直径よりも大きくしてもよい。これにより、後段の工程において金属箔張積層板30を金属箔張積層板20上に積層する際に多少の位置ずれが発生したとしても、外側から貫通孔34を通してアライメント孔14aを視認することができる。 Although the diameters of the through hole 24 and the through hole 34 are the same in FIG. 12, the diameter of the through hole 34 may be larger than the diameter of the through hole 24. As a result, even if some misalignment occurs when the metal foil-clad laminate 30 is laminated on the metal foil-clad laminate 20 in the subsequent process, the alignment hole 14a can be visually recognized from the outside through the through hole 34. can.

次に、図12および図13(1)に示すように、ビルドアップ基材31の主面31bがビルドアップ基材21の主面21aに対向し且つアライメント孔14aが厚さ方向に見て貫通孔34内に位置するように、接着剤層33を介して金属箔張積層板30を金属箔張積層板20に積層する。なお、貫通孔34は貫通孔24に連通するように配置される。その後、積層された金属箔張積層板10,20,30を加熱・加圧して一体化する。本工程により接着剤層33は硬化する。 Next, as shown in FIGS. 12 and 13 (1), the main surface 31b of the build-up base material 31 faces the main surface 21a of the build-up base material 21, and the alignment hole 14a penetrates in the thickness direction. The metal foil-clad laminate 30 is laminated on the metal foil-clad laminate 20 via the adhesive layer 33 so as to be located in the hole 34. The through hole 34 is arranged so as to communicate with the through hole 24. After that, the laminated metal leaf-clad laminates 10, 20, and 30 are heated and pressurized to be integrated. The adhesive layer 33 is cured by this step.

次に、図13(2)に示すように、ターゲットマーク14のアライメント孔14aを基準にして金属箔32をパターニングして配線パターン35を形成する。配線パターン35は、配線パターン25と同様の方法で形成される。 Next, as shown in FIG. 13 (2), the metal foil 32 is patterned with reference to the alignment hole 14a of the target mark 14 to form the wiring pattern 35. The wiring pattern 35 is formed in the same manner as the wiring pattern 25.

ここまでの工程を経て、図13(2)に示すように、4層の多層プリント配線板が得られる。4層の配線パターン15,16,25,35は共通のアライメント孔14aを基準にして形成されるため、高い位置精度で形成されている。 Through the steps up to this point, as shown in FIG. 13 (2), a four-layer multilayer printed wiring board can be obtained. Since the four-layer wiring patterns 15, 16, 25, and 35 are formed with reference to the common alignment hole 14a, they are formed with high position accuracy.

なお、上記の工程を繰り返すことにより、さらに多層のプリント配線板を製造することが可能である。 By repeating the above steps, it is possible to further manufacture a multi-layer printed wiring board.

上記のように本実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法によれば、各層の配線パターンを高い位置精度で形成することができる。これにより、例えば、配線パターンと、多層プリント配線板の外形加工端との間の距離を短くすることができる。 As described above, according to the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present embodiment, the wiring pattern of each layer can be formed with high position accuracy. Thereby, for example, the distance between the wiring pattern and the outer shape processed end of the multilayer printed wiring board can be shortened.

<多層プリント配線板>
第2の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法により製造された多層プリント配線板は以下の構成を有する。
<Multilayer printed wiring board>
The multilayer printed wiring board manufactured by the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the second embodiment has the following configuration.

本実施形態に係る多層プリント配線板は、図13(2)に示すように、コア配線板1と、コア配線板1に積層されたビルドアップ配線板2と、ビルドアップ配線板2に積層されたビルドアップ配線板3と、を備えている。 As shown in FIG. 13 (2), the multilayer printed wiring board according to the present embodiment is laminated on the core wiring board 1, the build-up wiring board 2 laminated on the core wiring board 1, and the build-up wiring board 2. It also has a build-up wiring board 3.

コア配線板1は、コア基材11と、コア基材11の主面11aに形成され、アライメント孔14aが設けられたターゲットマーク14とを有する。ビルドアップ配線板2は、ビルドアップ基材21と、ビルドアップ基材21の主面21aに形成された配線パターン25とを有する。ビルドアップ配線板3は、ビルドアップ基材31と、ビルドアップ基材31の主面31aに形成された配線パターン35とを有する。 The core wiring board 1 has a core base material 11 and a target mark 14 formed on the main surface 11a of the core base material 11 and provided with an alignment hole 14a. The build-up wiring board 2 has a build-up base material 21 and a wiring pattern 25 formed on the main surface 21a of the build-up base material 21. The build-up wiring board 3 has a build-up base material 31 and a wiring pattern 35 formed on the main surface 31a of the build-up base material 31.

ビルドアップ配線板2は、ビルドアップ基材21の主面21bがコア基材11の主面11aに対向するように、接着剤層23を介してコア配線板1に積層されている。ビルドアップ配線板3は、ビルドアップ基材31の主面31bがビルドアップ基材21の主面21aに対向するように、接着剤層33を介してビルドアップ配線板2に積層されている。 The build-up wiring board 2 is laminated on the core wiring board 1 via the adhesive layer 23 so that the main surface 21b of the build-up base material 21 faces the main surface 11a of the core base material 11. The build-up wiring board 3 is laminated on the build-up wiring board 2 via an adhesive layer 33 so that the main surface 31b of the build-up base material 31 faces the main surface 21a of the build-up base material 21.

ビルドアップ配線板2には、ビルドアップ基材21を厚さ方向に貫通する貫通孔24が形成されている。ビルドアップ配線板3には、ビルドアップ基材31を厚さ方向に貫通し、貫通孔24に連通する貫通孔34が形成されている。 The build-up wiring board 2 is formed with a through hole 24 that penetrates the build-up base material 21 in the thickness direction. The build-up wiring board 3 is formed with a through hole 34 that penetrates the build-up base material 31 in the thickness direction and communicates with the through hole 24.

ターゲットマーク14のアライメント孔14aは、貫通孔24の底面に露出し、ビルドアップ基材31の主面31a側から(すなわち、積層体の外側から)視認可能である。 The alignment hole 14a of the target mark 14 is exposed on the bottom surface of the through hole 24 and is visible from the main surface 31a side of the build-up base material 31 (that is, from the outside of the laminate).

また、本実施形態に係る多層プリント配線板は、図13(2)に示すように、多層プリント配線板の長手方向に延在する配線パターン15,16,25,35を各層に有する。そして、配線パターン15,16,25,35の、長手方向に直交する幅方向の位置は、多層プリント配線板の厚さ方向に見てほぼ同じである。 Further, as shown in FIG. 13 (2), the multilayer printed wiring board according to the present embodiment has wiring patterns 15, 16, 25, and 35 extending in the longitudinal direction of the multilayer printed wiring board in each layer. The positions of the wiring patterns 15, 16, 25, and 35 in the width direction orthogonal to the longitudinal direction are substantially the same when viewed in the thickness direction of the multilayer printed wiring board.

上記の記載に基づいて、当業者であれば、本発明の追加の効果や種々の変形を想到できるかもしれないが、本発明の態様は、上述した実施形態に限定されるものではない。特許請求の範囲に規定された内容及びその均等物から導き出される本発明の概念的な思想と趣旨を逸脱しない範囲で種々の追加、変更及び部分的削除が可能である。 Based on the above description, those skilled in the art may be able to conceive of additional effects and various modifications of the present invention, but the embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments. Various additions, changes and partial deletions are possible without departing from the conceptual idea and purpose of the present invention derived from the contents defined in the claims and their equivalents.

1 コア配線板
2,3 ビルドアップ配線板
10 金属箔張積層板
11 コア基材
11a,11b 主面
12,13 金属箔
14 ターゲットマーク
14a アライメント孔
15,16 配線パターン
17 有底孔
20,30 金属箔張積層板
21,31 ビルドアップ基材
21a,21b,31a,31b 主面
22,32 金属箔
23,33 接着剤層
24,34 貫通孔
25,26,35,36 配線パターン
41,42 ドライフィルム
41a,41b,42a,42b エッチングマスク
C1,C2 カットライン
1 Core wiring board 2, 3 Build-up wiring board 10 Metal leaf-clad laminate 11 Core base material 11a, 11b Main surface 12, 13 Metal leaf 14 Target mark 14a Alignment hole 15, 16 Wiring pattern 17 Bottom hole 20, 30 Metal Foil-covered laminated board 21,31 Build-up base material 21a, 21b, 31a, 31b Main surface 22, 32 Metal leaf 23, 33 Adhesive layer 24, 34 Through hole 25, 26, 35, 36 Wiring pattern 41, 42 Dry film 41a, 41b, 42a, 42b Etching masks C1, C2 Cut lines

Claims (5)

第1の主面および前記第1の主面と反対側の第2の主面を有するコア基材と、前記第1の主面に形成された第1の金属箔とを有する第1の金属箔張積層板を準備する工程と、
前記第1の金属箔をパターニングして、アライメント孔を有するターゲットマークを形成する工程と、
前記コア基材を厚さ方向に貫通し、底面に前記アライメント孔が露出した有底孔を形成する工程と、
前記有底孔を形成した後、前記ターゲットマークを構成する金属箔の裏面を鏡面化する処理を行う工程と、
第3の主面および前記第3の主面と反対側の第4の主面を有する第1のビルドアップ基材と、前記第3の主面に形成された第2の金属箔とを有する第2の金属箔張積層板を準備する工程と、
前記第2の金属箔張積層板を厚さ方向に貫通する第1の貫通孔を形成する工程と、
第5の主面および前記第5の主面と反対側の第6の主面を有する第2のビルドアップ基材と、前記第5の主面に形成された第3の金属箔とを有する第3の金属箔張積層板を準備する工程と、
前記第3の金属箔張積層板を厚さ方向に貫通する第2の貫通孔を形成する工程と、
前記第4の主面が前記第1の主面に対向し且つ前記アライメント孔が厚さ方向に見て前記第1の貫通孔内に位置するように、前記第2の金属箔張積層板を前記第1の金属箔張積層板に積層する工程と、
前記第6の主面が前記第2の主面に対向し且つ前記第2の貫通孔が前記有底孔に連通するように、前記第3の金属箔張積層板を前記第1の金属箔張積層板に積層する工程と、
前記ターゲットマークの前記アライメント孔を基準にして前記第2の金属箔および前記第3の金属箔をパターニングして第1の配線パターンおよび第2の配線パターンをそれぞれ形成する工程と、
を備えることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
A first metal having a core base material having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and a first metal foil formed on the first main surface. The process of preparing the foil-clad laminate and
A step of patterning the first metal foil to form a target mark having an alignment hole, and
A step of penetrating the core base material in the thickness direction to form a bottomed hole in which the alignment hole is exposed on the bottom surface.
After forming the bottomed hole, a process of mirroring the back surface of the metal foil constituting the target mark and a step of performing the process.
It has a first build-up base material having a third main surface and a fourth main surface opposite to the third main surface, and a second metal foil formed on the third main surface. The process of preparing the second metal leaf-clad laminate and
A step of forming a first through hole that penetrates the second metal leaf-clad laminate in the thickness direction, and
It has a second build-up base material having a fifth main surface and a sixth main surface opposite to the fifth main surface, and a third metal foil formed on the fifth main surface. The process of preparing the third metal leaf-clad laminate and
A step of forming a second through hole that penetrates the third metal leaf-clad laminate in the thickness direction, and
The second metal leaf-clad laminate is provided so that the fourth main surface faces the first main surface and the alignment hole is located in the first through hole when viewed in the thickness direction. The step of laminating on the first metal leaf-clad laminate and
The third metal leaf-clad laminate is formed with the first metal foil so that the sixth main surface faces the second main surface and the second through hole communicates with the bottomed hole. The process of laminating on a stretched laminate and
A step of patterning the second metal leaf and the third metal foil with reference to the alignment hole of the target mark to form a first wiring pattern and a second wiring pattern, respectively.
A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises.
前記コア基材は、液晶ポリマーまたはポリイミドからなることを特徴とする請求項に記載の多層プリント配線板の製造方法。 The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1 , wherein the core base material is made of a liquid crystal polymer or polyimide. 前記第2の貫通孔の直径は、前記有底孔の直径よりも大きいことを特徴とする請求項1または2に記載の多層プリント配線板の製造方法。 The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1 or 2 , wherein the diameter of the second through hole is larger than the diameter of the bottomed hole. 前記コア基材、前記第1のビルドアップ基材および前記第2のビルドアップ基材は、可撓性を有することを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。 The multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 3 , wherein the core base material, the first build-up base material, and the second build-up base material have flexibility. Production method. 第1の主面および前記第1の主面と反対側の第2の主面を有するコア基材と、前記第1の主面に形成され、アライメント孔が設けられたターゲットマークと、を有するコア配線板と、
第3の主面および前記第3の主面と反対側の第4の主面を有する第1のビルドアップ基材と、前記第3の主面に形成された第1の配線パターンとを有する第1のビルドアップ配線板と、
第5の主面および前記第5の主面と反対側の第6の主面を有する第2のビルドアップ基材と、前記第5の主面に形成された第2の配線パターンとを有する第2のビルドアップ配線板と、を備え、
前記第1のビルドアップ配線板は、前記第4の主面が前記第1の主面に対向するように、接着剤層を介して前記コア配線板に積層され、
前記第2のビルドアップ配線板は、前記第6の主面が前記第2の主面に対向するように、接着剤層を介して前記コア配線板に積層され、
前記コア配線板には、前記コア基材を厚さ方向に貫通する有底孔が形成され、
前記第1のビルドアップ配線板には、前記第1のビルドアップ基材を厚さ方向に貫通する第1の貫通孔が形成され、
前記第2のビルドアップ配線板には、前記第2のビルドアップ基材を厚さ方向に貫通し、前記有底孔に連通する第2の貫通孔が形成され、
前記アライメント孔は、前記第1の貫通孔の底面に露出し前記第3の主面側から視認可能であるとともに、前記有底孔の底面に露出し前記第5の主面側からも視認可能であり、
前記有底孔の底面に露出した前記ターゲットマークは鏡面化処理されていることを特徴とする多層プリント配線板。
It has a core base material having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and a target mark formed on the first main surface and provided with an alignment hole. With the core wiring board
It has a first build-up base material having a third main surface and a fourth main surface opposite to the third main surface, and a first wiring pattern formed on the third main surface. The first build-up wiring board and
It has a second build-up base material having a fifth main surface and a sixth main surface opposite to the fifth main surface, and a second wiring pattern formed on the fifth main surface. With a second build-up wiring board,
The first build-up wiring board is laminated on the core wiring board via an adhesive layer so that the fourth main surface faces the first main surface.
The second build-up wiring board is laminated on the core wiring board via an adhesive layer so that the sixth main surface faces the second main surface.
The core wiring board is formed with a bottomed hole that penetrates the core base material in the thickness direction.
The first build-up wiring board is formed with a first through hole that penetrates the first build-up base material in the thickness direction.
The second build-up wiring board is formed with a second through hole that penetrates the second build-up base material in the thickness direction and communicates with the bottomed hole.
The alignment hole is exposed on the bottom surface of the first through hole and is visible from the third main surface side, and is also exposed on the bottom surface of the bottomed hole and is visible from the fifth main surface side. der is,
A multilayer printed wiring board characterized in that the target mark exposed on the bottom surface of the bottom hole is mirror-finished.
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