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JP6825173B2 - Analytical element - Google Patents

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JP6825173B2
JP6825173B2 JP2018048605A JP2018048605A JP6825173B2 JP 6825173 B2 JP6825173 B2 JP 6825173B2 JP 2018048605 A JP2018048605 A JP 2018048605A JP 2018048605 A JP2018048605 A JP 2018048605A JP 6825173 B2 JP6825173 B2 JP 6825173B2
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賢太郎 小林
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Description

本発明の実施形態は、分析素子に関する。 Embodiments of the present invention relate to analytical elements.

例えば、分析対象の粒(分子など)を含む液体(検体液)に流れる電流を測定することで、分析対象を分析する分析素子がある。分析素子において、分析精度の向上が望まれる。 For example, there is an analytical element that analyzes an analysis target by measuring a current flowing through a liquid (sample solution) containing particles (molecules, etc.) to be analyzed. It is desired to improve the analysis accuracy of the analysis element.

特表2017−515131号公報Special Table 2017-515131

本発明の実施形態は、分析精度を向上できる分析素子を提供する。 An embodiment of the present invention provides an analytical element capable of improving analytical accuracy.

本発明の実施形態によれば、分析素子は、第1部材、第1膜、第1〜第3壁部、及び、第1〜第3電極を含む。前記第1部材から前記第1膜への方向は、第1方向に沿う。前記第1膜は、第1〜第3孔を含む。前記第1壁部は、前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第1方向と交差する第2方向に延びる。前記第2壁部は、前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第2方向に延びる。前記第2壁部から前記第1壁部への第3方向は、前記第1方向及び前記第2方向を含む平面と交差する。前記第3壁部は、前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ、前記第3方向において前記第1壁部と前記第2壁部との間に設けられる。前記第3壁部は、第1〜第7部分を含む。前記第1部分から前記第4部分への方向は、前記第2方向に沿う。前記第2部分は、前記第1部分と前記第4部分との間に設けられる。前記第3部分は、前記第2部分と前記第4部分との間に設けられる。前記第5部分は、前記第3方向において前記第2部分と前記第1壁部との間、及び、前記第3方向において前記第3部分と前記第1壁部との間に設けられる。前記第5部分は、前記第2部分及び前記第3部分と接続される。前記第6部分は、前記第3方向において前記第1部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第2部分と前記第2壁部との間に設けられる。前記第6部分は、前記第1部分及び前記第2部分と接続される。前記第7部分は、前記第3方向において前記第3部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第4部分と前記第2壁部との間に設けられる。前記第7部分は、前記第3部分及び前記第4部分と接続される。前記第1〜第3電極は、前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられる。前記第1電極は、前記第2方向において前記第1部分と前記第2部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第1壁部と前記第6部分との間に設けられる。前記第2電極は、前記第2方向において前記第2部分と前記第3部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第5部分との間に設けられる。前記第3電極は、前記第2方向において前記第3部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第1壁部と前記第7部分との間に設けられる。 According to an embodiment of the present invention, the analytical element includes a first member, a first film, first to third wall portions, and first to third electrodes. The direction from the first member to the first film is along the first direction. The first film contains the first to third pores. The first wall portion is provided between the first member and the first film in the first direction and extends in a second direction intersecting the first direction. The second wall portion is provided between the first member and the first film in the first direction and extends in the second direction. The third direction from the second wall portion to the first wall portion intersects the plane including the first direction and the second direction. The third wall portion is provided between the first member and the first film in the first direction, and is provided between the first wall portion and the second wall portion in the third direction. .. The third wall portion includes the first to seventh parts. The direction from the first portion to the fourth portion is along the second direction. The second portion is provided between the first portion and the fourth portion. The third portion is provided between the second portion and the fourth portion. The fifth portion is provided between the second portion and the first wall portion in the third direction, and between the third portion and the first wall portion in the third direction. The fifth portion is connected to the second portion and the third portion. The sixth portion is provided between the first portion and the second wall portion in the third direction, and between the second portion and the second wall portion in the third direction. The sixth portion is connected to the first portion and the second portion. The seventh portion is provided between the third portion and the second wall portion in the third direction, and between the fourth portion and the second wall portion in the third direction. The seventh portion is connected to the third portion and the fourth portion. The first to third electrodes are provided between the first member and the first film in the first direction. The first electrode is provided between the first portion and the second portion in the second direction, and is provided between the first wall portion and the sixth portion in the third direction. The second electrode is provided between the second portion and the third portion in the second direction, and is provided between the second wall portion and the fifth portion in the third direction. The third electrode is provided between the third portion and the fourth portion in the second direction, and is provided between the first wall portion and the seventh portion in the third direction.

図1(a)及び図1(b)は、第1実施形態に係る分析素子を例示する模式的平面図である。1 (a) and 1 (b) are schematic plan views illustrating the analytical element according to the first embodiment. 図2は、第1実施形態に係る分析素子を例示する模式的斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view illustrating the analytical element according to the first embodiment. 図3は、第1実施形態に係る分析素子を例示する模式的断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating the analytical element according to the first embodiment. 図4(a)及び図4(b)は、第1実施形態に係る分析素子を例示する模式的平面図である。4 (a) and 4 (b) are schematic plan views illustrating the analytical element according to the first embodiment. 図5(a)及び図5(b)は、第2実施形態に係る分析素子を例示する模式的平面図である。5 (a) and 5 (b) are schematic plan views illustrating the analytical element according to the second embodiment. 図6(a)及び図6(b)は、第2実施形態に係る分析素子を例示する模式的平面図である。6 (a) and 6 (b) are schematic plan views illustrating the analytical element according to the second embodiment.

以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
The drawings are schematic or conceptual, and the relationship between the thickness and width of each part, the ratio of the sizes between the parts, etc. are not always the same as the actual ones. Even if the same part is represented, the dimensions and ratios of the parts may be different depending on the drawing.
In the present specification and each figure, the same elements as those described above with respect to the above-mentioned figures are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted as appropriate.

(第1実施形態)
図1(a)及び図1(b)は、第1実施形態に係る分析素子を例示する模式的平面図である。
図2は、第1実施形態に係る分析素子を例示する模式的斜視図である。
図3は、第1実施形態に係る分析素子を例示する模式的断面図である。
図1(a)及び図1(b)は、図2の矢印ARからみた平面図である。図1(a)及び図1(b)において、図を見やすくするために、一部の要素が省略されている。図3は、図2のA1−A2線断面図である。
(First Embodiment)
1 (a) and 1 (b) are schematic plan views illustrating the analytical element according to the first embodiment.
FIG. 2 is a schematic perspective view illustrating the analytical element according to the first embodiment.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating the analytical element according to the first embodiment.
1 (a) and 1 (b) are plan views seen from the arrow AR of FIG. In FIGS. 1 (a) and 1 (b), some elements are omitted to make the figure easier to see. FIG. 3 is a sectional view taken along line A1-A2 of FIG.

図3に示すように、実施形態に係る分析素子110は、第1部材51、第1膜21、複数の壁部10s及び複数の電極30Eを含む。 As shown in FIG. 3, the analysis element 110 according to the embodiment includes a first member 51, a first film 21, a plurality of wall portions 10s, and a plurality of electrodes 30E.

図2及び図3に示すように、例えば、第1部材51に第1膜21が設けられる。この例では、第1部材51に溝部51Tが設けられている。第1部材51の溝部51Tを除く部分が、凸部51pとなる。凸部51pの一部の上に、枠部52が設けられている。凸部51pと枠部52との間に、第1膜21が設けられる。第1膜21は、複数の孔21hを有する。第1膜21は、第1部材51の溝部51T(底部)から離れている。第1部材51と第1膜21との間に、複数の壁部10sが設けられている。複数の壁部10sは、例えば、第1部材51及び第1膜21と接する。 As shown in FIGS. 2 and 3, for example, the first film 21 is provided on the first member 51. In this example, the first member 51 is provided with a groove 51T. The portion of the first member 51 excluding the groove portion 51T is the convex portion 51p. A frame portion 52 is provided on a part of the convex portion 51p. The first film 21 is provided between the convex portion 51p and the frame portion 52. The first film 21 has a plurality of holes 21h. The first film 21 is separated from the groove 51T (bottom) of the first member 51. A plurality of wall portions 10s are provided between the first member 51 and the first film 21. The plurality of wall portions 10s are in contact with, for example, the first member 51 and the first film 21.

複数の壁部10sの間に、複数の電極30Eが設けられる。一方、別の電極(検出用電極30F)が設けられる。この例では、検出用電極30Fは、枠部52に設けられている。枠部52の内部に、検体液81が導入(例えば滴下)される。検体液81は、複数の孔21hを介して、第1膜21と、第1部材51(溝部51Tまたは凹部)と、の間に導入される。複数の電極30E、及び、検出用電極30Fと、検出部70が電気的に接続される。検出部70に含まれる回路の少なくとも一部は、分析素子110と集積されてもよい。検体液81は、導電性を有する。導電性は、例えば、溶解したイオンに基づく。 A plurality of electrodes 30E are provided between the plurality of wall portions 10s. On the other hand, another electrode (detection electrode 30F) is provided. In this example, the detection electrode 30F is provided on the frame portion 52. The sample liquid 81 is introduced (for example, dropped) into the frame portion 52. The sample liquid 81 is introduced between the first film 21 and the first member 51 (groove 51T or recess) through the plurality of holes 21h. The plurality of electrodes 30E and the detection electrode 30F are electrically connected to the detection unit 70. At least a part of the circuit included in the detection unit 70 may be integrated with the analysis element 110. The sample liquid 81 has conductivity. Conductivity is based, for example, on dissolved ions.

検体液81に含まれる粒(例えば、分子または細胞など)は、孔21hに向かって移動する。移動は、拡散または電気泳動に基づく。粒の特性(例えばサイズ及び形状)に応じて、粒は、孔21hを通過する。粒の孔21hの通過応じた電気的な信号が、検出部70により検出される。例えば、電気的な信号(パルス)の強度及び時間幅の少なくともいずれかは、粒の特性(例えば、サイズ、形状及び電荷など)に依存する。分析素子110は、例えば、マイクロ分析チップである。 The particles (for example, molecules or cells) contained in the sample solution 81 move toward the pores 21h. The transfer is based on diffusion or electrophoresis. Depending on the characteristics of the grains (eg size and shape), the grains pass through the holes 21h. An electrical signal corresponding to the passage of the grain holes 21h is detected by the detection unit 70. For example, at least one of the intensity and time width of the electrical signal (pulse) depends on the characteristics of the grain (eg, size, shape and charge, etc.). The analysis element 110 is, for example, a micro analysis chip.

図2に示すように、この例では、溝部51Tの上方に、枠部53及び枠部54が設けられる。枠部53及び枠部54の間に、上記の枠部52が設けられる。既に説明したように、枠部52に検体液81が導入される。一方、枠部53に、例えば、電解液82が導入される。枠部54は、例えば、インレットまたはアウトレットドレインとして機能する。 As shown in FIG. 2, in this example, the frame portion 53 and the frame portion 54 are provided above the groove portion 51T. The above-mentioned frame portion 52 is provided between the frame portion 53 and the frame portion 54. As described above, the sample solution 81 is introduced into the frame portion 52. On the other hand, for example, the electrolytic solution 82 is introduced into the frame portion 53. The frame portion 54 functions as, for example, an inlet or an outlet drain.

例えば、第1部材51から第1膜21への方向は、第1方向に沿う(図3参照)。 For example, the direction from the first member 51 to the first film 21 is along the first direction (see FIG. 3).

第1方向をZ軸方向とする。Z軸方向に対して垂直な1つの方向をX軸方向とする。Z軸方向及びX軸方向に対して垂直な方向をY軸方向とする。 The first direction is the Z-axis direction. One direction perpendicular to the Z-axis direction is defined as the X-axis direction. The direction perpendicular to the Z-axis direction and the X-axis direction is defined as the Y-axis direction.

以下、複数の壁部10s、複数の電極30E、及び、第1膜21の複数の孔21hの配置の例について説明する。
図1(a)では、第1膜21が省略されている。図1(b)は、第1膜21の孔21hの位置の例を示している。図1(a)及び図1(b)は、3×3のマトリクス状の複数の電極30Eに対応する部分を例示している。
Hereinafter, an example of arranging the plurality of wall portions 10s, the plurality of electrodes 30E, and the plurality of holes 21h of the first film 21 will be described.
In FIG. 1A, the first film 21 is omitted. FIG. 1B shows an example of the position of the hole 21h of the first film 21. 1 (a) and 1 (b) exemplify a portion corresponding to a plurality of electrodes 30E in a 3 × 3 matrix.

図1(a)に示すように、複数の壁部10sは、第1〜第3壁部11〜13を含む。この例では、さらに、第4壁部14及び第5壁部15などが設けられている。複数の壁部10sの数は、任意である。既に説明したように、複数の壁部10s(第1〜第5壁部11〜15など)は、第1方向(Z軸方向)において、第1部材51と第1膜21との間に設けられる。 As shown in FIG. 1A, the plurality of wall portions 10s include the first to third wall portions 11 to 13. In this example, a fourth wall portion 14, a fifth wall portion 15, and the like are further provided. The number of the plurality of wall portions 10s is arbitrary. As described above, the plurality of wall portions 10s (first to fifth wall portions 11 to 15, etc.) are provided between the first member 51 and the first film 21 in the first direction (Z-axis direction). Be done.

図1(a)に示すように、第1壁部11は、例えば、第2方向に延びる。第2方向は、第1方向(Z軸方向)と交差する。第2方向は、例えば、X軸方向である。 As shown in FIG. 1A, the first wall portion 11 extends in the second direction, for example. The second direction intersects the first direction (Z-axis direction). The second direction is, for example, the X-axis direction.

第2壁部12も、第2方向(例えば、X軸方向)に延びる。第2壁部12から第1壁部11への第3方向は、第1方向(Z軸方向)及び第2方向(例えば、X軸方向)を含む平面(Z−X平面)と交差する。第3方向は、例えば、Y軸方向である。 The second wall portion 12 also extends in the second direction (for example, the X-axis direction). The third direction from the second wall portion 12 to the first wall portion 11 intersects a plane (ZX plane) including the first direction (Z-axis direction) and the second direction (for example, the X-axis direction). The third direction is, for example, the Y-axis direction.

第3壁部13は、第3方向(Y軸方向)において、第1壁部11と第2壁部12との間に設けられる。第3壁部13は、第1〜第7部分p01〜p07を含む。 The third wall portion 13 is provided between the first wall portion 11 and the second wall portion 12 in the third direction (Y-axis direction). The third wall portion 13 includes the first to seventh portions p01 to p07.

第1部分p01から第4部分p04への方向は、第2方向(例えば、X軸方向)に沿う。第2部分p02は、第2方向において、第1部分p01と第4部分p04との間に設けられる。第3部分p03は、第2方向において、第2部分p02と第4部分p04との間に設けられる。 The direction from the first portion p01 to the fourth portion p04 is along the second direction (for example, the X-axis direction). The second portion p02 is provided between the first portion p01 and the fourth portion p04 in the second direction. The third portion p03 is provided between the second portion p02 and the fourth portion p04 in the second direction.

第5部分p05は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第2部分p02と第1壁部11との間、及び、第3方向において、第3部分p03と第1壁部11との間に設けられる。第5部分p05は、第2部分p02及び第3部分p03と接続されている。 The fifth portion p05 is located between the second portion p02 and the first wall portion 11 in the third direction (for example, the Y-axis direction), and with the third portion p03 and the first wall portion 11 in the third direction. It is provided between. The fifth portion p05 is connected to the second portion p02 and the third portion p03.

第6部分p06は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第1部分p01と第2壁部12との間、及び、第3方向において、第2部分p02と第2壁部12との間に設けられる。第6部分p06は、第1部分p01及び第2部分p02と接続されている。 The sixth portion p06 is between the first portion p01 and the second wall portion 12 in the third direction (for example, the Y-axis direction), and the second portion p02 and the second wall portion 12 in the third direction. It is provided between. The sixth portion p06 is connected to the first portion p01 and the second portion p02.

第7部分p07は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第3部分p03と第2壁部12との間、及び、第3方向において、第4部分p04と第2壁部12との間に設けられる。第7部分p07は、第3部分p03及び第4部分p04と接続されている。 The seventh portion p07 is between the third portion p03 and the second wall portion 12 in the third direction (for example, the Y-axis direction), and the fourth portion p04 and the second wall portion 12 in the third direction. It is provided between. The seventh portion p07 is connected to the third portion p03 and the fourth portion p04.

例えば、第1〜第4部分p01〜p04は、Y軸方向に延びる部分である。第5〜第7部分p05〜p07は、X軸方向に延びる部分である。 For example, the first to fourth portions p01 to p04 are portions extending in the Y-axis direction. The fifth to seventh portions p05 to p07 are portions extending in the X-axis direction.

複数の電極30Eは、例えば、第1〜第3電極31〜33を含む。複数の電極30Eは、例えば、第4〜第6電極34〜36をさらに含んでも良い。複数の電極30Eの数は、任意である。 The plurality of electrodes 30E include, for example, first to third electrodes 31 to 33. The plurality of electrodes 30E may further include, for example, the fourth to sixth electrodes 34 to 36. The number of plurality of electrodes 30E is arbitrary.

既に説明したように、複数の電極30E(第1〜第6電極31〜36など)は、第1方向(Z軸方向)において、第1部材51と第1膜21との間に設けられる(図3参照)。 As described above, the plurality of electrodes 30E (first to sixth electrodes 31 to 36, etc.) are provided between the first member 51 and the first film 21 in the first direction (Z-axis direction) (the first member 51 and the first film 21). (See FIG. 3).

第1電極31は、第2方向(例えば、X軸方向)において、第1部分p01と第2部分p02との間に設けられる。第1電極31は、第3方向(例えばY軸方向)において、第1壁部11と第6部分p06との間に設けられる。 The first electrode 31 is provided between the first portion p01 and the second portion p02 in the second direction (for example, the X-axis direction). The first electrode 31 is provided between the first wall portion 11 and the sixth portion p06 in the third direction (for example, the Y-axis direction).

第2電極32は、第2方向において、第2部分p02と第3部分p03との間に設けられる。第2電極32は、第3方向において、第2壁部12と第5部分p05との間に設けられる。 The second electrode 32 is provided between the second portion p02 and the third portion p03 in the second direction. The second electrode 32 is provided between the second wall portion 12 and the fifth portion p05 in the third direction.

第3電極33は、第2方向において、第3部分p03と第4部分p04との間に設けられる。第3電極33は、第3方向において、第1壁部11と第7部分p07との間に設けられる。 The third electrode 33 is provided between the third portion p03 and the fourth portion p04 in the second direction. The third electrode 33 is provided between the first wall portion 11 and the seventh portion p07 in the third direction.

既に説明したように、第1膜21は、複数の孔21hを有する。図3に示すように、複数の孔21hは、例えば、第1〜第3孔21a〜21cを含む。複数の孔21hは、例えば、第4〜第6孔21d〜21fをさらに含んでも良い。複数の孔21hの数は、任意である。複数の第1孔21aが設けられても良い。複数の第2孔21bが設けられても良い。複数の第3孔21cが設けられても良い。複数の第4孔21dが設けられても良い。複数の第5孔21eが設けられても良い。複数の第6孔21fが設けられても良い。 As described above, the first film 21 has a plurality of holes 21h. As shown in FIG. 3, the plurality of holes 21h include, for example, first to third holes 21a to 21c. The plurality of holes 21h may further include, for example, the fourth to sixth holes 21d to 21f. The number of the plurality of holes 21h is arbitrary. A plurality of first holes 21a may be provided. A plurality of second holes 21b may be provided. A plurality of third holes 21c may be provided. A plurality of fourth holes 21d may be provided. A plurality of fifth holes 21e may be provided. A plurality of sixth holes 21f may be provided.

例えば、第2方向における第1孔21aの位置は、第2方向における第1部分p01の位置と、第2方向における第2部分p02の位置と、の間に設けられる。第3方向における第1孔21aの位置は、第3方向における第1壁部11の位置と、第3方向における第6部分p06の位置と、の間に設けられる。 For example, the position of the first hole 21a in the second direction is provided between the position of the first portion p01 in the second direction and the position of the second portion p02 in the second direction. The position of the first hole 21a in the third direction is provided between the position of the first wall portion 11 in the third direction and the position of the sixth portion p06 in the third direction.

例えば、第2方向における第2孔21bの位置は、第2方向における第2部分p02の位置と、第2方向における第3部分p03の位置と、の間に設けられる。第3方向における第2孔21bの位置は、第3方向における第2壁部12の位置と、第3方向における第5部分p05の位置と、の間に設けられる。 For example, the position of the second hole 21b in the second direction is provided between the position of the second portion p02 in the second direction and the position of the third portion p03 in the second direction. The position of the second hole 21b in the third direction is provided between the position of the second wall portion 12 in the third direction and the position of the fifth portion p05 in the third direction.

例えば、第2方向における第3孔21cの位置は、第2方向における第3部分p03の位置と、第2方向における第4部分p04の位置と、の間に設けられる。第3方向における第3孔21cの位置は、第3方向における第1壁部11の位置と、第3方向における第7部分p07の位置と、間に設けらる。 For example, the position of the third hole 21c in the second direction is provided between the position of the third portion p03 in the second direction and the position of the fourth portion p04 in the second direction. The position of the third hole 21c in the third direction is provided between the position of the first wall portion 11 in the third direction and the position of the seventh portion p07 in the third direction.

例えば、図3に示すように、第1孔21aは、第1方向(Z軸方向)において、第1電極31と重なる。第2孔21bは、第1方向において、第2電極32と重なる。第3孔21cは、第1方向において、第3電極33と重なる。 For example, as shown in FIG. 3, the first hole 21a overlaps with the first electrode 31 in the first direction (Z-axis direction). The second hole 21b overlaps with the second electrode 32 in the first direction. The third hole 21c overlaps with the third electrode 33 in the first direction.

実施形態に係る分析素子110によれば、分析精度を向上できる。例えば、以下に説明するように、複数の電極30Eの間のクロスークを抑制することができる。 According to the analysis element 110 according to the embodiment, the analysis accuracy can be improved. For example, as described below, crosstalk between a plurality of electrodes 30E can be suppressed.

例えば、分析素子110において、第1部材51、第1膜21、第1壁部11及び第5部分p05により、第1空間sp1が形成される。第1部材51、第1膜21、第1部分p01、第2部分p02及び第6部分p06により第2空間sp2が形成される。第1部材51、第1膜21、第3部分p03、第4部分p04及び第7部分p07により、第3空間sp3が形成される。第1空間sp1は、第2空間sp2と繋がる。第1空間sp1は、第3空間sp3と繋がる。 For example, in the analysis element 110, the first space sp1 is formed by the first member 51, the first film 21, the first wall portion 11, and the fifth portion p05. The second space sp2 is formed by the first member 51, the first film 21, the first portion p01, the second portion p02, and the sixth portion p06. A third space sp3 is formed by the first member 51, the first film 21, the third portion p03, the fourth portion p04, and the seventh portion p07. The first space sp1 is connected to the second space sp2. The first space sp1 is connected to the third space sp3.

一方、第1部材51、第1膜21、第2壁部12、第6部分p06及び第7部分p07により第4空間sp4が形成される。第1部材51、第1膜21、第2部分p02、第3部分p03及び第5部分p05により、第5空間sp5が形成される。第4空間sp4は、第5空間sp5と繋がる。 On the other hand, the fourth space sp4 is formed by the first member 51, the first film 21, the second wall portion 12, the sixth portion p06, and the seventh portion p07. The fifth space sp5 is formed by the first member 51, the first film 21, the second portion p02, the third portion p03, and the fifth portion p05. The fourth space sp4 is connected to the fifth space sp5.

例えば、第1空間sp1により、第1経路18aが形成される。第1経路18aは、第2空間sp2と繋がり、第3空間sp3と繋がる。第2空間sp2に第1電極31が設けられる。第3空間sp3に第3電極33が設けられる。一方、第4空間sp4により、第2経路18bが形成される。第2経路18bは、第5空間sp5と接続される。第5空間sp5に第3電極33が設けられる。第1経路18aは、第2経路18bと分離されている。このため、第1電極31と第2電極32との間のクロストークが抑制される。第3電極31と第3電極33との間のクロストークが抑制される。さらに、第2空間sp2と第3空間sp3とは第1経路18aにより繋がっているものの、第2空間sp2と第3空間sp3との間の経路に沿った距離は長い。この例では、第2空間sp2と第3空間sp3との間に、第5空間sp5が設けられている。このため、第2空間sp2の中の第1電極31と、第3空間sp3の中の第3電極31と、の間のクロストークも抑制できる。 For example, the first space sp1 forms the first path 18a. The first path 18a is connected to the second space sp2 and is connected to the third space sp3. The first electrode 31 is provided in the second space sp2. A third electrode 33 is provided in the third space sp3. On the other hand, the second path 18b is formed by the fourth space sp4. The second path 18b is connected to the fifth space sp5. A third electrode 33 is provided in the fifth space sp5. The first path 18a is separated from the second path 18b. Therefore, crosstalk between the first electrode 31 and the second electrode 32 is suppressed. Crosstalk between the third electrode 31 and the third electrode 33 is suppressed. Further, although the second space sp2 and the third space sp3 are connected by the first path 18a, the distance along the path between the second space sp2 and the third space sp3 is long. In this example, a fifth space sp5 is provided between the second space sp2 and the third space sp3. Therefore, crosstalk between the first electrode 31 in the second space sp2 and the third electrode 31 in the third space sp3 can also be suppressed.

このように、実施形態においては、複数の電極30Eの間のクロスークが抑制される。例えば、分析精度を向上できる。 Thus, in the embodiment, the crosstalk between the plurality of electrodes 30E is suppressed. For example, the analysis accuracy can be improved.

図1(a)に示すように、この例では、第5部分p05の一部pp05は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第6部分p06と第1壁部11との間に設けられている。例えば、上記の一部pp05は、突出部である。第1電極31の少なくとも一部は、第3方向において、第5部分p05の上記の一部pp05と、第6部分p06と、の間に設けられる。これにより、第2空間sp2の開口部31oを小さくできる。これにより、クロストークがより抑制できる。 As shown in FIG. 1A, in this example, a part pp05 of the fifth part p05 is located between the sixth part p06 and the first wall portion 11 in the third direction (for example, the Y-axis direction). It is provided. For example, the above partial pp05 is a protruding portion. At least a part of the first electrode 31 is provided between the above-mentioned part pp05 of the fifth part p05 and the sixth part p06 in the third direction. As a result, the opening 31o of the second space sp2 can be made smaller. As a result, crosstalk can be further suppressed.

図1(a)に示すように、この例では、第6部分p06の一部pp06は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第5部分p05と第2壁部12との間に設けられる。上記の一部pp06は、第6部分p06の突出部である。第2電極32の少なくとも一部は、第3方向において、第6部分p06の上記の一部pp06と、第5部分p05と、の間に設けられる。これにより、第5空間sp5の開口部32oを小さくできる。例えば、X軸方向に沿って、4つ以上の電極が並ぶ構成が考えられる。このような構成においても、クロストークがより抑制できる。 As shown in FIG. 1A, in this example, a part pp06 of the sixth part p06 is located between the fifth part p05 and the second wall portion 12 in the third direction (for example, the Y-axis direction). Provided. The above-mentioned partial pp06 is a protruding portion of the sixth portion p06. At least a part of the second electrode 32 is provided between the above-mentioned part pp06 of the sixth part p06 and the fifth part p05 in the third direction. As a result, the opening 32o of the fifth space sp5 can be made smaller. For example, a configuration in which four or more electrodes are arranged along the X-axis direction can be considered. Even in such a configuration, crosstalk can be further suppressed.

図1(a)に示すように、この例では、第7部分p07の一部pp07は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第5部分p05と第2壁部12との間に設けられる。上記の一部pp07は、第7部分p07の突出部である。第2電極32の少なくとも一部は、第3方向において、第7部分p07の上記の一部pp07と、第5部分p05と、の間に設けられる。これにより、第3空間sp3の開口部33oを小さくできる。これにより、クロストークがより抑制できる。 As shown in FIG. 1 (a), in this example, a part pp07 of the seventh portion p07 is located between the fifth portion p05 and the second wall portion 12 in the third direction (for example, the Y-axis direction). Provided. The above-mentioned partial pp07 is a protruding portion of the seventh portion p07. At least a part of the second electrode 32 is provided between the above-mentioned part pp07 of the seventh part p07 and the fifth part p05 in the third direction. As a result, the opening 33o of the third space sp3 can be made smaller. As a result, crosstalk can be further suppressed.

図1(a)に示すように、この例では、第5部分p05の別の一部pq05は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第7部分p07と第1壁部11との間に設けられる。上記の一部pq05は、第5部分p05の別の一部である。第3電極33の少なくとも一部は、第3方向において、第5部分p05の上記の別の一部pq05と、第7部分p05と、の間に設けられる。第2空間sp2の開口部31oを小さくできる。これにより、クロストークがより抑制できる。 As shown in FIG. 1 (a), in this example, another part pq05 of the fifth portion p05 is a third portion (for example, the Y-axis direction) of the seventh portion p07 and the first wall portion 11. It is provided between them. The above partial pq05 is another part of the fifth portion p05. At least a part of the third electrode 33 is provided between the above-mentioned other part pq05 of the fifth portion p05 and the seventh portion p05 in the third direction. The opening 31o of the second space sp2 can be made smaller. As a result, crosstalk can be further suppressed.

図1(a)に示すように、第5部分p05は、第1端部pe01及び第2端部pe02を含む。第1端部pe01から第2端部pe02への方向は、第2方向(例えば、X軸方向)に沿う。第1端部pe01は、第1部分p01から離れている。第2端部pe02は、第4部分p04から離れている。第1端部pe01により、開口部31oが形成される。第2端部pe02により、開口部33oが形成される。開口部31oが第2空間sp2(第1電極31)の経路となる。開口部33oが第3空間sp3(第3電極33)の経路となる。 As shown in FIG. 1 (a), the fifth portion p05 includes a first end portion pe01 and a second end portion pe02. The direction from the first end portion pe01 to the second end portion pe02 is along the second direction (for example, the X-axis direction). The first end portion p01 is separated from the first portion p01. The second end portion p02 is separated from the fourth portion p04. The opening 31o is formed by the first end portion p01. The opening 33o is formed by the second end portion p02. The opening 31o serves as a path for the second space sp2 (first electrode 31). The opening 33o serves as a path for the third space sp3 (third electrode 33).

図1(a)に示すように、この例では、第3壁部13は、第8部分p08をさらに含む。第8部分p08は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第6部分p06と第1壁部11との間に設けられる。第8部分p08は、例えば、X軸方向に延びる。第1電極31の一部は、第3方向(Y軸方向)において、第8部分p08と第6部分p06との間に設けられる。第8部分p08は、例えば、第1端部pe01から離れる。第8部分p08と第1端部pe01との間が、開口部31oとなる。 As shown in FIG. 1 (a), in this example, the third wall portion 13 further includes an eighth portion p08. The eighth portion p08 is provided between the sixth portion p06 and the first wall portion 11 in the third direction (for example, the Y-axis direction). The eighth portion p08 extends, for example, in the X-axis direction. A part of the first electrode 31 is provided between the eighth portion p08 and the sixth portion p06 in the third direction (Y-axis direction). The eighth portion p08 is separated from, for example, the first end portion p01. The opening 31o is between the eighth portion p08 and the first end portion p01.

図1(a)に示すように、この例では、第6部分p06は第3端部pe03を含む。第2電極32の一部は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第3端部pe03と第5部分p05との間に設けられる。例えば、第3端部pe03と第3部分p03との間のX軸方向に沿った距離は、第2部分p02と第3部分p03との間のX軸方向に沿った距離よりも短い。例えば、開口部32oが小さくできる。 As shown in FIG. 1 (a), in this example, the sixth portion p06 includes the third end portion p03. A part of the second electrode 32 is provided between the third end portion p03 and the fifth portion p05 in the third direction (for example, the Y-axis direction). For example, the distance along the X-axis direction between the third end portion p03 and the third portion p03 is shorter than the distance along the X-axis direction between the second portion p02 and the third portion p03. For example, the opening 32o can be made smaller.

図1(a)に示すように、この例では、第7部分p07は第4端部pe04を含む。第2電極32の一部は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第4端部pe04と第5部分p05との間に設けられたる。例えば、第4端部pe04と第2部分p02との間のX軸方向に沿った距離は、第2部分p02と第3部分p03との間のX軸方向に沿った距離よりも短い。例えば、開口部32oが小さくできる。 As shown in FIG. 1 (a), in this example, the seventh portion p07 includes the fourth end portion pe04. A part of the second electrode 32 is provided between the fourth end portion p04 and the fifth portion p05 in the third direction (for example, the Y-axis direction). For example, the distance along the X-axis direction between the fourth end portion p04 and the second portion p02 is shorter than the distance along the X-axis direction between the second portion p02 and the third portion p03. For example, the opening 32o can be made smaller.

実施形態において、開口部31oと開口部33oとの間の経路における距離(開口部距離)は、第1〜第3電極31〜33のピッチ(X軸方向におけるピッチ)よりも長い。例えば、開口部距離は、ピッチの1.5倍以上である。開口部距離は、ピッチの1.8倍以上でも良い。 In the embodiment, the distance (opening distance) in the path between the opening 31o and the opening 33o is longer than the pitch (pitch in the X-axis direction) of the first to third electrodes 31 to 33. For example, the opening distance is 1.5 times or more the pitch. The opening distance may be 1.8 times or more the pitch.

図1(a)に示すように、分析素子110において、第4〜第6電極34〜36、第4壁部14及び第5壁部15がさらに設けられる。以下、これらの配置の例について説明する。第4、第5壁部14及び15(複数の壁部10s)も、第1方向(Z軸方向)において、第1部材51と第1膜21との間に設けられる(図3参照)。 As shown in FIG. 1A, the analysis element 110 is further provided with the fourth to sixth electrodes 34 to 36, the fourth wall portion 14, and the fifth wall portion 15. An example of these arrangements will be described below. The fourth and fifth wall portions 14 and 15 (plurality of wall portions 10s) are also provided between the first member 51 and the first film 21 in the first direction (Z-axis direction) (see FIG. 3).

図1(a)に示すように、第4壁部14は、第2方向(例えば、X軸方向)に延びる。第3方向(例えば、Y軸方向)において、第3壁部13と第4壁部14の間に、第2壁部12が設けられる。 As shown in FIG. 1A, the fourth wall portion 14 extends in the second direction (for example, the X-axis direction). In the third direction (for example, the Y-axis direction), the second wall portion 12 is provided between the third wall portion 13 and the fourth wall portion 14.

第5壁部15は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第2壁部12と第4壁部14との間に設けられる。第5壁部15は、第9〜第15部分p09〜p15を含む。 The fifth wall portion 15 is provided between the second wall portion 12 and the fourth wall portion 14 in the third direction (for example, the Y-axis direction). The fifth wall portion 15 includes the ninth to fifteenth portions p09 to p15.

第9部分p09から第12部分p12への方向は、第2方向(例えば、X軸方向)に沿う。第10部分p10は、第2方向において、第9部分p09と第12部分p12との間に設けられる。第11部分p11は、第2方向において、第10部分p10と第12部分p12との間に設けられる。 The direction from the ninth portion p09 to the twelfth portion p12 is along the second direction (for example, the X-axis direction). The tenth portion p10 is provided between the ninth portion p09 and the twelfth portion p12 in the second direction. The eleventh portion p11 is provided between the tenth portion p10 and the twelfth portion p12 in the second direction.

第13部分p13は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第10部分p10と第2壁部12との間、及び、第3方向において、第11部分p11と第2壁部12との間に設けられる。第13部分p13は、第10部分p10及び第11部分p11と接続される。 The thirteenth portion p13 is between the tenth portion p10 and the second wall portion 12 in the third direction (for example, the Y-axis direction), and the eleventh portion p11 and the second wall portion 12 in the third direction. It is provided between. The thirteenth portion p13 is connected to the tenth portion p10 and the eleventh portion p11.

第14部分p14は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第9部分p09と第4壁部14との間、及び、第3方向において、第10部分p10と第4壁部14との間に設けられる。第14部分p14は、第9部分p09及び第10部分p10と接続される。 The 14th portion p14 is between the 9th portion p09 and the 4th wall portion 14 in the 3rd direction (for example, the Y-axis direction), and the 10th portion p10 and the 4th wall portion 14 in the 3rd direction. It is provided between. The 14th portion p14 is connected to the 9th portion p09 and the 10th portion p10.

第15部分p15は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第11部分p11と第4壁部14との間、及び、第3方向において、第12部分p12と第4壁部14との間に設けられる。第15部分p15は、第11部分p11及び第12部分p12と接続される。 The fifteenth portion p15 is between the eleventh portion p11 and the fourth wall portion 14 in the third direction (for example, the Y-axis direction), and the twelfth portion p12 and the fourth wall portion 14 in the third direction. It is provided between. The fifteenth portion p15 is connected to the eleventh portion p11 and the twelfth portion p12.

既に説明したように、第4〜第5電極34〜36(複数の電極30E)は、第1方向(Z軸方向)において、第1部材51と第1膜21との間に設けられる(図3参照)。 As described above, the fourth to fifth electrodes 34 to 36 (plurality of electrodes 30E) are provided between the first member 51 and the first film 21 in the first direction (Z-axis direction) (FIG. 3).

図1(a)に示すように、第4電極34は、第2方向(例えばX軸方向)において、第9部分p09と第10部分p10との間に設けられる。第4電極34は、第3方向(例えばY軸方向)において、第2壁部12と第14部分p14との間に設けられる。 As shown in FIG. 1A, the fourth electrode 34 is provided between the ninth portion p09 and the tenth portion p10 in the second direction (for example, the X-axis direction). The fourth electrode 34 is provided between the second wall portion 12 and the 14th portion p14 in the third direction (for example, the Y-axis direction).

第5電極35は、第2方向(例えばX軸方向)において、第10部分p10と第11部分p11との間に設けられる。第5電極35は、第3方向(例えばY軸方向)において、第4壁部14と第13部分p13との間に設けられる。 The fifth electrode 35 is provided between the tenth portion p10 and the eleventh portion p11 in the second direction (for example, the X-axis direction). The fifth electrode 35 is provided between the fourth wall portion 14 and the thirteenth portion p13 in the third direction (for example, the Y-axis direction).

第6電極36は、第2方向(例えばX軸方向)において、第11部分p11と第12部分p12との間に設けられる。第6電極36は、第3方向(例えばY軸方向)において、第2壁部12と第15部分p15との間に設けられる。 The sixth electrode 36 is provided between the eleventh portion p11 and the twelfth portion p12 in the second direction (for example, the X-axis direction). The sixth electrode 36 is provided between the second wall portion 12 and the fifteenth portion p15 in the third direction (for example, the Y-axis direction).

既に説明したように、第1膜21は、第4〜第6孔21d〜21fをさらに含む。図1(b)に示すように、第4孔21dは、第1方向(Z軸方向)において、第4電極34と重なる。第5孔21eは、第1方向において第5電極35と重なる。第6孔21fは、第1方向において第6電極36と重なる。 As described above, the first film 21 further includes the fourth to sixth holes 21d to 21f. As shown in FIG. 1B, the fourth hole 21d overlaps with the fourth electrode 34 in the first direction (Z-axis direction). The fifth hole 21e overlaps with the fifth electrode 35 in the first direction. The sixth hole 21f overlaps with the sixth electrode 36 in the first direction.

第1部材51、第1膜21、第2壁部12及び第13部分p13により、第3経路18cが形成される。第3経路18cは、開口部34oを介して、第4電極34が設けられる空間と繋がる。第3経路18cは、開口部36oを介して、第6電極36が設けられる空間と繋がる。 The third path 18c is formed by the first member 51, the first film 21, the second wall portion 12, and the thirteenth portion p13. The third path 18c is connected to the space where the fourth electrode 34 is provided through the opening 34o. The third path 18c is connected to the space where the sixth electrode 36 is provided through the opening 36o.

一方、第1部材51、第1膜21、第4壁部14、第14部分p14及び第15部分p15により、第4経路18dが形成される。第4経路18dは、開口部36oを介して、第5電極35が設けられる空間と繋がる。 On the other hand, the fourth path 18d is formed by the first member 51, the first film 21, the fourth wall portion 14, the 14th portion p14, and the 15th portion p15. The fourth path 18d is connected to the space where the fifth electrode 35 is provided through the opening 36o.

第3経路18cと第4経路18dとは、分離されている。さらに、開口部34oと開口部36oとの間の経路に沿った距離が長い。第4〜第6電極34〜36においても、クロストークが抑制される。 The third path 18c and the fourth path 18d are separated. Further, the distance along the path between the opening 34o and the opening 36o is long. Crosstalk is also suppressed at the 4th to 6th electrodes 34 to 36.

以下、本実施形態に係る分析素子の別の例にいて説明する。
図4(a)及び図4(b)は、第1実施形態に係る分析素子を例示する模式的平面図である。
図4(a)及ぶ図4(b)は、図2の矢印ARからみた平面図に対応する。図4(a)及び図4(b)において、一部の要素が省略されている。
Hereinafter, another example of the analytical element according to the present embodiment will be described.
4 (a) and 4 (b) are schematic plan views illustrating the analytical element according to the first embodiment.
FIG. 4 (a) and FIG. 4 (b) correspond to the plan view seen from the arrow AR of FIG. In FIGS. 4 (a) and 4 (b), some elements are omitted.

これらの図に例示される分析素子111も、第1部材51、第1膜21、複数の壁部10s(例えば、第1〜第5壁部11〜15など)及び複数の電極30E(例えば、第1〜第6電極31〜36など)を含む。分析素子111における第1〜第3壁部11〜13及び第1〜第3電極31〜33の構成は、例えば、分析素子110と同様である。以下、分析素子111における第4、第5壁部14及び15、及び、第4〜第6電極34〜36の例について説明する。 The analytical elements 111 exemplified in these figures also include a first member 51, a first film 21, a plurality of wall portions 10s (for example, first to fifth wall portions 11 to 15 and the like), and a plurality of electrodes 30E (for example, for example. The first to sixth electrodes 31 to 36 and the like) are included. The configurations of the first to third wall portions 11 to 13 and the first to third electrodes 31 to 33 in the analysis element 111 are the same as those of the analysis element 110, for example. Hereinafter, examples of the fourth and fifth wall portions 14 and 15 and the fourth to sixth electrodes 34 to 36 in the analysis element 111 will be described.

図4(a)に示すように、第4壁部14は、第2方向(例えば、X軸方向)に延びる。第3方向(例えば、Y軸方向)において、第3壁部13と第4壁部14との間に、第2壁部12が設けられる。 As shown in FIG. 4A, the fourth wall portion 14 extends in the second direction (for example, the X-axis direction). In the third direction (for example, the Y-axis direction), the second wall portion 12 is provided between the third wall portion 13 and the fourth wall portion 14.

第5壁部15は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第2壁部12と第4壁部14との間に設けられる。第5壁部15は、第9〜第15部分p09〜p15を含む。 The fifth wall portion 15 is provided between the second wall portion 12 and the fourth wall portion 14 in the third direction (for example, the Y-axis direction). The fifth wall portion 15 includes the ninth to fifteenth portions p09 to p15.

第9部分p09から第12部分p12への方向は、第2方向(例えば、X軸方向)に沿う。第10部分p10は、第2方向において、第9部分p09と第12部分p12との間に設けられる。第11部分p11は、第2方向において、第10部分p10と第12部分p12との間に設けられる。 The direction from the ninth portion p09 to the twelfth portion p12 is along the second direction (for example, the X-axis direction). The tenth portion p10 is provided between the ninth portion p09 and the twelfth portion p12 in the second direction. The eleventh portion p11 is provided between the tenth portion p10 and the twelfth portion p12 in the second direction.

第13部分p13は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第10部分p10と第4壁部14との間、及び、第3方向において、第11部分p11と第4壁部14との間に設けられる。第13部分p13は、第10部分p10及び第11部分p11と接続される。 The thirteenth portion p13 is between the tenth portion p10 and the fourth wall portion 14 in the third direction (for example, the Y-axis direction), and the eleventh portion p11 and the fourth wall portion 14 in the third direction. It is provided between. The thirteenth portion p13 is connected to the tenth portion p10 and the eleventh portion p11.

第14部分p14は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第9部分p09と第2壁部12との間、及び、第3方向において、第10部分p10と第2壁部12との間に設けられる。第14部分p14は、第9部分p09及び第10部分p10と接続される。 The 14th portion p14 is between the 9th portion p09 and the 2nd wall portion 12 in the 3rd direction (for example, the Y-axis direction), and the 10th portion p10 and the 2nd wall portion 12 in the 3rd direction. It is provided between. The 14th portion p14 is connected to the 9th portion p09 and the 10th portion p10.

第15部分p15は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第11部分p11と第2壁部12との間、及び、第3方向において、第12部分p12と第2壁部12との間に設けられる。第15部分p15は、第11部分p11及び第12部分p12と接続される。 The fifteenth portion p15 is between the eleventh portion p11 and the second wall portion 12 in the third direction (for example, the Y-axis direction), and the twelfth portion p12 and the second wall portion 12 in the third direction. It is provided between. The fifteenth portion p15 is connected to the eleventh portion p11 and the twelfth portion p12.

第4〜第電極34〜36(複数の電極30E)は、第1方向(Z軸方向)において、第1部材51と第1膜21との間に設けられる。図4(a)に示すように、第4電極34は、第2方向(例えばX軸方向)において、第9部分p09と第10部分p10との間に設けられる。第4電極34は、第3方向(例えばY軸方向)において、第壁部1と第14部分p14との間に設けられる。 The fourth to sixth electrodes 34 to 36 (plurality of electrodes 30E) are provided between the first member 51 and the first film 21 in the first direction (Z-axis direction) . As shown in FIG. 4A , the fourth electrode 34 is provided between the ninth portion p09 and the tenth portion p10 in the second direction (for example, the X-axis direction). The fourth electrode 34, in the third direction (e.g. Y-axis direction), is provided between the fourth wall portion 1 4 and the 14 portion p14.

第5電極35は、第2方向(例えばX軸方向)において、第10部分p10と第11部分p11との間に設けられる。第5電極35は、第3方向(例えばY軸方向)において、第壁部1と第13部分p13との間に設けられる。 The fifth electrode 35 is provided between the tenth portion p10 and the eleventh portion p11 in the second direction (for example, the X-axis direction). The fifth electrode 35, in the third direction (e.g. Y-axis direction), is provided between the second wall portion 1 2 and the second 13 portion p13.

第6電極36は、第2方向(例えばX軸方向)において、第11部分p11と第12部分p12との間に設けられる。第6電極36は、第3方向(例えばY軸方向)において、第壁部1と第15部分p15との間に設けられる。 The sixth electrode 36 is provided between the eleventh portion p11 and the twelfth portion p12 in the second direction (for example, the X-axis direction). Sixth electrode 36, in the third direction (e.g. Y-axis direction), is provided between the fourth wall portion 1 4 and the 15 portion p15.

図4(b)に示すように、第4孔21dは、第1方向(Z軸方向)において、第4電極34と重なる。第5孔21eは、第1方向において第5電極35と重なる。第6孔21fは、第1方向において第6電極36と重なる。 As shown in FIG. 4B, the fourth hole 21d overlaps with the fourth electrode 34 in the first direction (Z-axis direction). The fifth hole 21e overlaps with the fifth electrode 35 in the first direction. The sixth hole 21f overlaps with the sixth electrode 36 in the first direction.

分析素子111において、第1部材51、第1膜21、第2壁部12、第14部分p14及び第15部分p15により、第3経路18cが形成される。第3経路18cは、開口部35oを介して、第5電極35が設けられる空間と繋がる。 In the analysis element 111, the third path 18c is formed by the first member 51, the first film 21, the second wall portion 12, the 14th portion p14, and the 15th portion p15. The third path 18c is connected to the space where the fifth electrode 35 is provided through the opening 35o.

一方、第1部材51、第1膜21、第4壁部14及び第13部分p13により、第4経路18dが形成される。第4経路18dは、開口部34oを介して、第4電極34が設けられる空間と繋がる。第4経路18dは、開口部36oを介して、第6電極36が設けられる空間と繋がる。 On the other hand, the fourth path 18d is formed by the first member 51, the first film 21, the fourth wall portion 14, and the thirteenth portion p13. The fourth path 18d is connected to the space where the fourth electrode 34 is provided through the opening 34o. The fourth path 18d is connected to the space where the sixth electrode 36 is provided through the opening 36o.

第3経路18cと第4経路18dとは、分離されている。さらに、開口部34oと開口部36oとの間の経路に沿った距離が長い。第4〜第6電極34〜36においても、クロストークが抑制される。 The third path 18c and the fourth path 18d are separated. Further, the distance along the path between the opening 34o and the opening 36o is long. Crosstalk is also suppressed at the 4th to 6th electrodes 34 to 36.

分析素子110及び111において、例えば、第1孔21aの第2方向における位置は、第1部分p01の第2方向における位置と、第2部分p02の第2方向における位置との間にあっても良い。第2孔21bの第2方向における位置は、第2部分p02の第2方向における位置と、第3部分p03の第2方向における位置との間にあっても良い。第3孔21cの第2方向における位置は、第3部分p03の第2方向における位置と、第4部分p04の第2方向における位置との間にあっても良い。 In the analysis elements 110 and 111, for example, the position of the first hole 21a in the second direction may be between the position of the first portion p01 in the second direction and the position of the second portion p02 in the second direction. The position of the second hole 21b in the second direction may be between the position of the second portion p02 in the second direction and the position of the third portion p03 in the second direction. The position of the third hole 21c in the second direction may be between the position of the third portion p03 in the second direction and the position of the fourth portion p04 in the second direction.

分析素子110及び111において、例えば、第1孔21aの第3方向における位置は、第1壁部11の第3方向における位置と、第6部分p06の第3方向における位置との間にあっても良い。第2孔21bの第3方向における位置は、第5部分p05の第3方向における位置と、第2壁部12の第3方向における位置との間にあっても良い。第3孔21cの第3方向における位置は、第1壁部11の第3方向における位置と、第7部分p07の第3方向における位置との間にあっても良い。 In the analysis elements 110 and 111, for example, the position of the first hole 21a in the third direction may be between the position of the first wall portion 11 in the third direction and the position of the sixth portion p06 in the third direction. .. The position of the second hole 21b in the third direction may be between the position of the fifth portion p05 in the third direction and the position of the second wall portion 12 in the third direction. The position of the third hole 21c in the third direction may be between the position of the first wall portion 11 in the third direction and the position of the seventh portion p07 in the third direction.

分析素子110及び111において、例えば、第4孔21dの第2方向における位置は、第9部分p09の第2方向における位置と、第10部分p10の第2方向における位置との間にあっても良い。第5孔21eの第2方向における位置は、第10部分p10の第2方向における位置と、第11部分p11の第2方向における位置との間にあっても良い。第6孔21fの第2方向における位置は、第11部分p11の第2方向における位置と、第12部分p12の第2方向における位置との間にあっても良い。 In the analysis elements 110 and 111, for example, the position of the fourth hole 21d in the second direction may be between the position of the ninth portion p09 in the second direction and the position of the tenth portion p10 in the second direction. The position of the fifth hole 21e in the second direction may be between the position of the tenth portion p10 in the second direction and the position of the eleventh portion p11 in the second direction. The position of the sixth hole 21f in the second direction may be between the position of the eleventh portion p11 in the second direction and the position of the twelfth portion p12 in the second direction.

分析素子110及び111において、例えば、第4孔21dの第3方向における位置は、第2壁部12の第3方向における位置と、第14部分p14の第3方向における位置との間にあっても良い。第5孔21eの第3方向における位置は、第13部分p13の第3方向における位置と、第4壁部14の第3方向における位置との間にあっても良い。第6孔21fの第3方向における位置は、第2壁部12の第3方向における位置と、第15部分p15の第3方向における位置との間にあっても良い。 In the analysis elements 110 and 111, for example, the position of the fourth hole 21d in the third direction may be between the position of the second wall portion 12 in the third direction and the position of the 14th portion p14 in the third direction. .. The position of the fifth hole 21e in the third direction may be between the position of the thirteenth portion p13 in the third direction and the position of the fourth wall portion 14 in the third direction. The position of the sixth hole 21f in the third direction may be between the position of the second wall portion 12 in the third direction and the position of the fifteenth portion p15 in the third direction.

(第2実施形態)
以下において、第1実施形態と同様の構成については、適宜説明が省略される。
図5(a)及び図5(b)は、第2実施形態に係る分析素子を例示する模式的平面図である。
図5(a)及ぶ図5(b)は、図2の矢印ARからみた平面図に対応する。図5(a)及び図5(b)において、一部の要素が省略されている。
(Second Embodiment)
Hereinafter, the description of the same configuration as that of the first embodiment will be omitted as appropriate.
5 (a) and 5 (b) are schematic plan views illustrating the analytical element according to the second embodiment.
5 (a) and 5 (b) correspond to the plan view seen from the arrow AR of FIG. In FIGS. 5 (a) and 5 (b), some elements are omitted.

これらの図に例示される分析素子120も、第1部材51、第1膜21、複数の壁部10s(例えば、第1〜第5壁部11〜15など)及び複数の電極30E(例えば、第1〜第6電極31〜36など)を含む。分析素子120における複数の壁部10sの構成が、第1実施形態における構成とは異なる。 The analytical elements 120 exemplified in these figures also include a first member 51, a first film 21, a plurality of wall portions 10s (for example, first to fifth wall portions 11 to 15 and the like), and a plurality of electrodes 30E (for example, for example. The first to sixth electrodes 31 to 36 and the like) are included. The configuration of the plurality of wall portions 10s in the analysis element 120 is different from the configuration in the first embodiment.

分析素子120においても、第1壁部11及び第2壁部12(複数の壁部10s)は、第1方向(Z軸方向)において、第1部材51と第1膜21との間に設けられる(図3参照)。例えば、第1壁部11及び第2壁部12(複数の壁部10s)は、第1部材51及び第1膜21と接する。第1〜第6電極31〜36(複数の電極30E)は、第1方向(Z軸方向)において、第1部材51と第1膜21との間に設けられる(図3参照)。 Also in the analysis element 120, the first wall portion 11 and the second wall portion 12 (plurality of wall portions 10s) are provided between the first member 51 and the first film 21 in the first direction (Z-axis direction). (See Fig. 3). For example, the first wall portion 11 and the second wall portion 12 (plurality of wall portions 10s) are in contact with the first member 51 and the first film 21. The first to sixth electrodes 31 to 36 (plurality of electrodes 30E) are provided between the first member 51 and the first film 21 in the first direction (Z-axis direction) (see FIG. 3).

図5(a)に示すように、第1壁部11は、第1〜第5部分p01〜p05を含む。第5部分p05は、第1方向と交差する第2方向(例えば、X軸方向)に沿う。 As shown in FIG. 5A, the first wall portion 11 includes the first to fifth portions p01 to p05. The fifth portion p05 is along a second direction (eg, the X-axis direction) that intersects the first direction.

第1部分p01から第4部分p04への方向は、第2方向に沿う。第2部分p02は、第2方向において、第1部分p01と第4部分p04との間に設けられる。第3部分p03は、第2方向において、第2部分p02と第4部分p04との間に設けられる。第1〜第4部分p11〜p14は、第5部分p05とそれぞれ接続される。 The direction from the first portion p01 to the fourth portion p04 is along the second direction. The second portion p02 is provided between the first portion p01 and the fourth portion p04 in the second direction. The third portion p03 is provided between the second portion p02 and the fourth portion p04 in the second direction. The first to fourth portions p11 to p14 are connected to the fifth portion p05, respectively.

第2壁部12は、第6〜第10部分p06〜p10を含む。第10部分p10は第2方向(例えばX軸方向)に沿う。第3方向において、第5部分p05と第10部分p10との間に、第1〜第4部分p01〜p04及び第5〜第9部分p05〜p09が設けられる。第3方向は、第1方向及び第2方向を含む平面(例えばZ−X平面)と交差する。第3方向は、例えば、Y軸方向である。 The second wall portion 12 includes the sixth to tenth portions p06 to p10. The tenth portion p10 is along the second direction (for example, the X-axis direction). In the third direction, the first to fourth portions p01 to p04 and the fifth to ninth portions p05 to p09 are provided between the fifth portion p05 and the tenth portion p10. The third direction intersects a plane (eg, a ZX plane) that includes the first and second directions. The third direction is, for example, the Y-axis direction.

第6部分p06から第9部分p09への方向は、第2方向(例えば、X軸方向)に沿う。第7部分p07は、第2方向において、第6部分p06と第9部分p09との間に設けられる。第8部分p08は、第7部分p07と第9部分p09との間に設けられる。第2方向において、第1部分p01と第2部分p02との間に、第6部分p06及び第7部分p07が設けられる。第2方向において、第3部分p03と第4部分p04との間に、第8部分p08及び第9部分p09が設けられる。第6〜第9部分p06〜p09は、第10部分p10と接続される。 The direction from the sixth portion p06 to the ninth portion p09 is along the second direction (for example, the X-axis direction). The seventh portion p07 is provided between the sixth portion p06 and the ninth portion p09 in the second direction. The eighth portion p08 is provided between the seventh portion p07 and the ninth portion p09. In the second direction, a sixth portion p06 and a seventh portion p07 are provided between the first portion p01 and the second portion p02. In the second direction, an eighth portion p08 and a ninth portion p09 are provided between the third portion p03 and the fourth portion p04. The sixth to ninth portions p06 to p09 are connected to the tenth portion p10.

第1電極31は、第2方向(例えば、X軸方向)において、第6部分p06と第7部分p07との間に設けられる。第1電極31は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第10部分p10と第5部分p05との間に設けられる。 The first electrode 31 is provided between the sixth portion p06 and the seventh portion p07 in the second direction (for example, the X-axis direction). The first electrode 31 is provided between the tenth portion p10 and the fifth portion p05 in the third direction (for example, the Y-axis direction).

第2電極32は、第2方向(例えば、X軸方向)において、第2部分p02と第3部分p03との間に設けられる。第2電極32は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第10部分p10と第5部分p05との間に設けられる。 The second electrode 32 is provided between the second portion p02 and the third portion p03 in the second direction (for example, the X-axis direction). The second electrode 32 is provided between the tenth portion p10 and the fifth portion p05 in the third direction (for example, the Y-axis direction).

第3電極33は、第2方向(例えば、X軸方向)において、第8部分p08と第9部分p08との間に設けられる。第3電極33は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第10部分p10と第5部分p05との間に設けられる。 The third electrode 33 is provided between the eighth portion p08 and the ninth portion p08 in the second direction (for example, the X-axis direction). The third electrode 33 is provided between the tenth portion p10 and the fifth portion p05 in the third direction (for example, the Y-axis direction).

例えば、第2方向における第1孔21aの位置は、第2方向における第6部分p06の位置と、第2方向における第7部分p07の位置と、の間に設けられる。第3方向における第1孔12aの位置は、第3方向における第10部分p10の位置と、第3方向における第5部分p05の位置と、の間に設けられる。 For example, the position of the first hole 21a in the second direction is provided between the position of the sixth portion p06 in the second direction and the position of the seventh portion p07 in the second direction. The position of the first hole 12a in the third direction is provided between the position of the tenth portion p10 in the third direction and the position of the fifth portion p05 in the third direction.

例えば、第2方向における第2孔21bの位置は、第2方向における第2部分p02の位置と、第2方向における第3部分p03の位置と、の間に設けられる。第3方向における第2孔21bの位置は、第3方向における第10部分p10の位置と、第3方向における第5部分p05の位置と、の間に設けられる。 For example, the position of the second hole 21b in the second direction is provided between the position of the second portion p02 in the second direction and the position of the third portion p03 in the second direction. The position of the second hole 21b in the third direction is provided between the position of the tenth portion p10 in the third direction and the position of the fifth portion p05 in the third direction.

例えば、第2方向における第3孔21cの位置は、第2方向における第8部分p08の位置と、第2方向における第9部分p09の位置と、の間に設けられる。第3方向における第3孔21cの位置は、第3方向における第10部分p10の位置と、第3方向における第5部分p05の位置と、の間に設けられる。 For example, the position of the third hole 21c in the second direction is provided between the position of the eighth portion p08 in the second direction and the position of the ninth portion p09 in the second direction. The position of the third hole 21c in the third direction is provided between the position of the tenth portion p10 in the third direction and the position of the fifth portion p05 in the third direction.

図5(b)に示すように、第1方向において、第1孔21aは、第1電極31と重なる。第1方向において、第2孔21bは、第2電極32と重なる。第1方向において、第3孔21cは、第3電極33と重なる。 As shown in FIG. 5B, the first hole 21a overlaps with the first electrode 31 in the first direction. In the first direction, the second hole 21b overlaps the second electrode 32. In the first direction, the third hole 21c overlaps the third electrode 33.

分析素子120においては、第1部材51、第1膜21、第1壁部11及び第2壁部12により、第1経路18aが形成される。第1経路18aと、第1電極31が設けられる空間と、が、開口部31oにより接続される。第1経路18aと、第2電極32が設けられる空間と、が、開口部32oにより接続される。第1経路18aと、第3電極33が設けられる空間と、が、開口部33oにより接続される。開口部31oは、第1電極31と第5部分p05との間に位置する。開口部32oは、第2電極32と第10部分p10との間に位置する。開口部33oは、第3電極33と第5部分p05との間に位置する。 In the analysis element 120, the first path 18a is formed by the first member 51, the first film 21, the first wall portion 11, and the second wall portion 12. The first path 18a and the space where the first electrode 31 is provided are connected by the opening 31o. The first path 18a and the space where the second electrode 32 is provided are connected by the opening 32o. The first path 18a and the space where the third electrode 33 is provided are connected by the opening 33o. The opening 31o is located between the first electrode 31 and the fifth portion p05. The opening 32o is located between the second electrode 32 and the tenth portion p10. The opening 33o is located between the third electrode 33 and the fifth portion p05.

開口部31oと開口部32oとの間の、第1経路18aに沿った距離は長い。開口部32oと開口部33oとの間の、第1経路18aに沿った距離は長い。 The distance between the opening 31o and the opening 32o along the first path 18a is long. The distance between the opening 32o and the opening 33o along the first path 18a is long.

本実施形態において、開口部31oと開口部32oとの間の経路における距離(開口部距離)は、第1〜第3電極31〜33のピッチ(X軸方向におけるピッチ)よりも長い。例えば、開口部距離は、ピッチの1.5倍以上である。 In the present embodiment, the distance (opening distance) in the path between the opening 31o and the opening 32o is longer than the pitch (pitch in the X-axis direction) of the first to third electrodes 31 to 33. For example, the opening distance is 1.5 times or more the pitch.

これにより、複数の電極30Eの間のクロストークが抑制できる。例えば、分析精度を向上できる分析素子が提供できる。 As a result, crosstalk between the plurality of electrodes 30E can be suppressed. For example, an analytical element capable of improving analysis accuracy can be provided.

図5(a)に示すように、第1壁部11は、第11部分p11を含んでも良い。第11部分p11は、第3方向(例えばY軸方向)において、第10部分p10と第5部分p05との間に設けられる。第11部分p11は、第2部分p02または第3部分p03と接続される。この例では、第11部分p11は、第2部分p02と接続される。この例では、第1壁部11は、第14部分p14を含む。第14部分p14は、第3方向において、第10部分p10と第5部分p05との間に設けられる。第14部分p14は、第3部分p03と接続される。第14部分p14を第11部分p11とみなしても良い。 As shown in FIG. 5A, the first wall portion 11 may include the eleventh portion p11. The eleventh portion p11 is provided between the tenth portion p10 and the fifth portion p05 in the third direction (for example, the Y-axis direction). The eleventh portion p11 is connected to the second portion p02 or the third portion p03. In this example, the eleventh portion p11 is connected to the second portion p02. In this example, the first wall portion 11 includes the 14th portion p14. The 14th portion p14 is provided between the 10th portion p10 and the 5th portion p05 in the third direction. The 14th portion p14 is connected to the 3rd portion p03. The 14th part p14 may be regarded as the 11th part p11.

第2電極32の少なくとも一部は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第11部分p11と第5部分p05との間に設けられる。第2電極32の少なくとも一部は、第3方向において第14部分p14と第5部分p05との間に設けられても良い。 At least a part of the second electrode 32 is provided between the eleventh portion p11 and the fifth portion p05 in the third direction (for example, the Y-axis direction). At least a part of the second electrode 32 may be provided between the 14th portion p14 and the 5th portion p05 in the third direction.

図5(a)に示すように、第2壁部12は、第12部分p12を含んでもよい。第12部分p12は、第3方向(例えばY軸方向)において、第10部分p10と第5部分p05との間に設けられる。第12部分p12は、第6部分p06または第7部分p07と接続される。この例では、第12部分p12は、第7部分p07と接続される。この例では、第2壁部12は、第15部分p15を含む。第15部分p15は、第3方向において、第10部分p10と第5部分p05との間に設けられる。第15部分p15は、第6部分p06と接続される。第15部分p15を第12部分p12とみなしても良い。 As shown in FIG. 5A, the second wall portion 12 may include a twelfth portion p12. The twelfth portion p12 is provided between the tenth portion p10 and the fifth portion p05 in the third direction (for example, the Y-axis direction). The twelfth part p12 is connected to the sixth part p06 or the seventh part p07. In this example, the twelfth portion p12 is connected to the seventh portion p07. In this example, the second wall portion 12 includes a fifteenth portion p15. The fifteenth portion p15 is provided between the tenth portion p10 and the fifth portion p05 in the third direction. The fifteenth portion p15 is connected to the sixth portion p06. The fifteenth portion p15 may be regarded as the twelfth portion p12.

第1電極31の少なくとも一部は、第3方向(例えばY軸方向)において、第12部分p12と第10部分p10との間に設けられる。第2電極32の少なくとも一部は、第3方向において第15部分p15と第10部分p10との間に設けられても良い。 At least a part of the first electrode 31 is provided between the twelfth portion p12 and the tenth portion p10 in the third direction (for example, the Y-axis direction). At least a part of the second electrode 32 may be provided between the 15th portion p15 and the 10th portion p10 in the third direction.

図5(a)に示すように、第2壁部12は、第13部分p13を含んでも良い。第13部分p13は、第3方向(例えばY軸方向)において、第10部分p10と第5部分p05との間に設けられる。第13部分p13は、第8部分p08または第9部分p09と接続される。この例では、第13部分p13は、第8部分p08と接続される。この例では、第2壁部12は、第16部分p16を含む。第16部分p16は、第3方向において、第10部分p10と第5部分p05との間に設けられる。第16部分p16は、第9部分p09と接続される。第16部分p16を第13部分p13とみなしても良い。 As shown in FIG. 5A, the second wall portion 12 may include the thirteenth portion p13. The thirteenth portion p13 is provided between the tenth portion p10 and the fifth portion p05 in the third direction (for example, the Y-axis direction). The thirteenth portion p13 is connected to the eighth portion p08 or the ninth portion p09. In this example, the thirteenth portion p13 is connected to the eighth portion p08. In this example, the second wall portion 12 includes the 16th portion p16. The 16th portion p16 is provided between the 10th portion p10 and the 5th portion p05 in the third direction. The 16th portion p16 is connected to the 9th portion p09. The 16th part p16 may be regarded as the 13th part p13.

第3電極33の少なくとも一部は、第3方向(例えば、Y軸方向)において、第13部分p13と第10部分p10との間に設けられる。第3電極33の少なくとも一部は、第3方向において第16部分p16と第10部分p10との間に設けられても良い。 At least a part of the third electrode 33 is provided between the thirteenth portion p13 and the tenth portion p10 in the third direction (for example, the Y-axis direction). At least a part of the third electrode 33 may be provided between the 16th portion p16 and the 10th portion p10 in the third direction.

図5(a)及び図5(b)に示すように、分析素子120において、第1壁部11、第2壁部12、及び、第1〜第3電極31〜33が1つの組みになる。複数の組みが、Y軸方向に並んでも良い。 As shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), in the analysis element 120, the first wall portion 11, the second wall portion 12, and the first to third electrodes 31 to 33 form one set. .. A plurality of sets may be arranged in the Y-axis direction.

図6(a)及び図6(b)は、第2実施形態に係る分析素子を例示する模式的平面図である。
図6(a)及ぶ図6(b)は、図2の矢印ARからみた平面図に対応する。図5(a)及び図5(b)において、一部の要素が省略されている。
6 (a) and 6 (b) are schematic plan views illustrating the analytical element according to the second embodiment.
6 (a) and 6 (b) correspond to the plan view seen from the arrow AR of FIG. In FIGS. 5 (a) and 5 (b), some elements are omitted.

これらの図に例示される分析素子121も、第1部材51、第1膜21、複数の壁部10s(例えば、第1〜第5壁部11〜15など)及び複数の電極30E(例えば、第1〜第6電極31〜36など)を含む。 The analytical elements 121 exemplified in these figures also include a first member 51, a first film 21, a plurality of wall portions 10s (for example, first to fifth wall portions 11 to 15 and the like), and a plurality of electrodes 30E (for example,). The first to sixth electrodes 31 to 36 and the like) are included.

分析素子121においても、第1壁部11、第2壁部12、及び、第1〜第3電極31〜33が1つの組みになる。複数の組みが、Y軸方向に並んでも良い。分析素子121においては、Y軸方向に並ぶ複数の組みは、交互に反転(ミラー反転)している。分析素子121においても、分析精度を向上できる分析素子が提供できる。 Also in the analysis element 121, the first wall portion 11, the second wall portion 12, and the first to third electrodes 31 to 33 form a set. A plurality of sets may be arranged in the Y-axis direction. In the analysis element 121, a plurality of sets arranged in the Y-axis direction are alternately inverted (mirror inversion). The analysis element 121 can also provide an analysis element capable of improving analysis accuracy.

上記の実施形態に係る分析素子に含まれる要素の例について、説明する。第1部材51は、例えば、シリコン基板に設けられた酸化シリコンなどを含む。第1膜21は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン及び酸窒化シリコンよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。複数の電極30Eは、例えば、Au、Pt、Cu、Ag、Cl、Cu、W及びMoよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。複数の電極30Eは、Ag膜及びAgCl膜を含む膜(例えば積層膜)を含んでも良い。複数の壁部10sは、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、及び、酸窒化シリコンよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。複数の壁部10sは、第1領域と、第2領域(薄膜)と、を含んでも良い。第1領域は、酸化シリコン、窒化シリコン、及び、酸窒化シリコンよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。第2領域は、第1領域の少なくとも一部の周りに設けられる。第2領域は、例えば、酸化アルミニウム及び酸化チタン(二酸化チタン)の少なくともいずれかを含む。例えば、表面親水性が向上する。例えば、表面電荷がコントロールされる。 An example of the elements included in the analytical element according to the above embodiment will be described. The first member 51 includes, for example, silicon oxide provided on a silicon substrate. The first film 21 includes, for example, at least one selected from the group consisting of silicon oxide, silicon nitride and silicon oxynitride. The plurality of electrodes 30E include, for example, at least one selected from the group consisting of Au, Pt, Cu, Ag, Cl, Cu, W and Mo. The plurality of electrodes 30E may include a film containing an Ag film and an AgCl film (for example, a laminated film). The plurality of wall portions 10s include, for example, at least one selected from the group consisting of silicon oxide, silicon nitride, and silicon oxynitride. The plurality of wall portions 10s may include a first region and a second region (thin film). The first region comprises at least one selected from the group consisting of silicon oxide, silicon nitride, and silicon oxynitride. The second region is provided around at least a part of the first region. The second region contains, for example, at least one of aluminum oxide and titanium oxide (titanium dioxide). For example, surface hydrophilicity is improved. For example, the surface charge is controlled.

複数の壁部10sの1つのZ軸方向に沿う長さ(高さ)は、例えば、0.5μm以上100μm以下である。複数の壁部10sの1つの幅(延びる方向と直交する方向の長さ)は、例えば、1μm以上5μm以下である。複数の壁部10sの1つの幅(延びる方向と直交する方向の長さ)は、例えば、複数の壁部10sの1つと、複数の壁部10sの別の1つと、の間の間隔の0.005倍以上0.5倍以下である。これにより、複数の壁部10sの適正な強度、適正な経路のサイズ(断面積)、及び、経路における適正な電気抵抗と、が得られる。 The length (height) of the plurality of wall portions 10s along one Z-axis direction is, for example, 0.5 μm or more and 100 μm or less. One width (length in the direction orthogonal to the extending direction) of the plurality of wall portions 10s is, for example, 1 μm or more and 5 μm or less. One width of the plurality of wall portions 10s (the length in the direction orthogonal to the extending direction) is, for example, 0 of the interval between one of the plurality of wall portions 10s and another one of the plurality of wall portions 10s. It is .005 times or more and 0.5 times or less. As a result, an appropriate strength of the plurality of wall portions 10s, an appropriate path size (cross-sectional area), and an appropriate electrical resistance in the path can be obtained.

例えば、第1実施形態において、第1壁部11の第3方向(Y軸方向)に沿う幅は、第1壁部11と第5部分p05との間の第3方向に沿う距離(間隔)の0.005倍以上0.1倍以下である。例えば、第2実施形態において、第1部分p01の第2方向(Y軸方向)に沿う幅は、第1部分p01と第6部分p06との間の第2方向に沿う距離の0.005倍以上0.5倍以下である。 For example, in the first embodiment, the width of the first wall portion 11 along the third direction (Y-axis direction) is the distance (interval) along the third direction between the first wall portion 11 and the fifth portion p05. It is 0.005 times or more and 0.1 times or less of. For example, in the second embodiment, the width of the first portion p01 along the second direction (Y-axis direction) is 0.005 times the distance along the second direction between the first portion p01 and the sixth portion p06. It is 0.5 times or more and 0.5 times or less.

第1膜21の複数の孔21hの1つの径は、例えば、0.1μm以上10μm以下である。 The diameter of one of the plurality of holes 21h of the first film 21 is, for example, 0.1 μm or more and 10 μm or less.

検体液81に含まれる粒は、例えば、細菌、ウイルス、細胞及び無機高分子化合物よりなる群から選択された少なくとも1つを含む。 The granules contained in the sample solution 81 include, for example, at least one selected from the group consisting of bacteria, viruses, cells and inorganic polymer compounds.

実施形態は、以下の構成(技術案)を含んでも良い。
(構成1)
第1部材と、
第1〜第3孔を含む第1膜であって、前記第1部材から前記第1膜への方向は、第1方向に沿う、前記第1膜と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第1方向と交差する第2方向に延びる第1壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第2方向に延びる第2壁部であって、前記第2壁部から前記第1壁部への第3方向は、前記第1方向及び前記第2方向を含む平面と交差する、前記第2壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ、前記第3方向において前記第1壁部と前記第2壁部との間に設けられた第3壁部であって、前記第3壁部は、第1〜第7部分を含み、前記第1部分から前記第4部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第2部分は、前記第1部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第3部分は、前記第2部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第5部分は、前記第3方向において前記第2部分と前記第1壁部との間、及び、前記第3方向において前記第3部分と前記第1壁部との間に設けられ、前記第5部分は、前記第2部分及び前記第3部分と接続され、前記第6部分は、前記第3方向において前記第1部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第2部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第6部分は、前記第1部分及び前記第2部分と接続され、前記第7部分は、前記第3方向において前記第3部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第4部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第7部分は、前記第3部分及び前記第4部分と接続された、前記第3壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第1〜第3電極であって、前記第1電極は、前記第2方向において前記第1部分と前記第2部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第1壁部と前記第6部分との間に設けられ、前記第2電極は、前記第2方向において前記第2部分と前記第3部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第5部分との間に設けられ、前記第3電極は、前記第2方向において前記第3部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第1壁部と前記第7部分との間に設けられた、前記第1〜第3電極と、
を備えた分析素子。
(構成2)
前記第2方向における前記第1孔の位置は、前記第2方向における前記第1部分の位置と、前記第2方向における前記第2部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第1孔の位置は、前記第3方向における前記第1壁部の位置と、前記第3方向における前記第6部分の位置と、の間に設けられ、
前記第2方向における前記第2孔の位置は、前記第2方向における前記第2部分の位置と、前記第2方向における前記第3部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第2孔の位置は、前記第3方向における前記第2壁部の位置と、前記第3方向における前記第5部分の位置と、の間に設けられ、
前記第2方向における前記第3孔の位置は、前記第2方向における前記第3部分の位置と、前記第2方向における前記第4部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第3孔の位置は、前記第3方向における前記第1壁部の位置と、前記第3方向における前記第7部分の位置と、の間に設けられた、構成1記載の分析素子。
(構成3)
前記第1方向において前記第1孔は前記第1電極と重なり、
前記第1方向において前記第2孔は前記第2電極と重なり、
前記第1方向において前記第3孔は前記第3電極と重なる、構成1記載の分析素子。
(構成4)
前記第5部分の一部は、前記第3方向において前記第6部分と前記第1壁部との間に設けられ、
前記第1電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第5部分の前記一部と前記第6部分との間に設けられた、構成1〜3のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成5)
前記第6部分の一部は、前記第3方向において前記第5部分と前記第2壁部との間に設けられ、
前記第2電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第6部分の前記一部と前記第5部分との間に設けられた、構成1〜4のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成6)
前記第7部分の一部は、前記第3方向において前記第5部分と前記第2壁部との間に設けられ、
前記第2電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第7部分の前記一部と前記第5部分との間に設けられた、構成1〜5のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成7)
前記第5部分の一部は、前記第3方向において前記第7部分と前記第1壁部との間に設けられ、
前記第3電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第5部分の前記一部と前記第7部分との間に設けられた、構成1〜3のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成8)
前記第5部分は、第1端部及び第2端部を含み、前記第1端部から前記第2端部への方向は、前記第2方向に沿い、
前記第1端部は、前記第1部分から離れ、前記第2端部は、前記第4部分から離れた、構成1〜7のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成9)
前記第3壁部は、第8部分をさらに含み、
前記第8部分は、前記第3方向において前記第6部分と前記第1壁部との間に設けられ、
前記第1電極の一部は、前記第3方向において、前記第8部分と前記第6部分との間に設けられ、
前記第8部分は、前記第1端部から離れた、構成8記載の分析素子。
(構成10)
前記第6部分は第3端部を含み、
前記第2電極の一部は、前記第3方向において、前記第3端部と前記第5部分との間に設けられた、構成1〜9のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成11)
前記第7部分は第4端部を含み、
前記第2電極の一部は、前記第3方向において、前記第4端部と前記第5部分との間に設けられた、構成1〜9のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成12)
前記第1部材、前記第1膜、前記第1壁部及び前記第5部分による第1空間は、前記第1部材、前記第1膜、前記第1部分、前記第2部分及び前記第6部分による第2空間と繋がり、
前記第1空間は、前記第1部材、前記第1膜、前記第3部分、前記第4部分及び前記第7部分による第3空間と繋がり、
前記第1部材、前記第1膜、前記第2壁部、前記第6部分及び前記第7部分による第4空間は、前記第1部材、前記第1膜、前記第2部分、前記第3部分及び前記第5部分による第5空間と繋がる、構成1〜11のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成13)
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第2方向に延びる第4壁部であって、前記第3方向において前記第3壁部と前記第4壁部との間に前記第2壁部が設けられた、前記第4壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第4壁部との間に設けられた第5壁部であって、前記第5壁部は、第9〜第15部分を含み、前記第9部分から前記第12部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第10部分は、前記第9部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第11部分は、前記第10部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第13部分は、前記第3方向において前記第10部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第11部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第13部分は、前記第10部分及び前記第11部分と接続され、前記第14部分は、前記第3方向において前記第9部分と前記第4壁部との間、及び、前記第3方向において前記第10部分と前記第4壁部との間に設けられ、前記第14部分は、前記第9部分及び前記第10部分と接続され、前記第15部分は、前記第3方向において前記第11部分と前記第4壁部との間、及び、前記第3方向において前記第12部分と前記第4壁部との間に設けられ、前記第15部分は、前記第11部分及び前記第12部分と接続され、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第4〜第6電極であって、前記第4電極は、前記第2方向において前記第9部分と前記第10部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第14部分との間に設けられ、前記第5電極は、前記第2方向において前記第10部分と前記第11部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第4壁部と前記第13部分との間に設けられ、前記第6電極は、前記第2方向において前記第11部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第15部分との間にある、前記第4〜第6電極と、
をさらに備え、
前記第1膜は、第4〜第6孔をさらに含み、
前記第4孔は、前記第1方向において前記第4電極と重なり、
前記第5孔は、前記第1方向において前記第5電極と重なり、
前記第6孔は、前記第1方向において前記第6電極と重なる、構成1〜12のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成14)
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第2方向に延びる第4壁部であって、前記第3方向において前記第3壁部と前記第4壁部との間に前記第2壁部が設けられた、前記第4壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第4壁部との間に設けられた第5壁部であって、前記第5壁部は、第9〜第15部分を含み、前記第9部分から前記第12部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第10部分は、前記第1部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第11部分は、前記第10部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第13部分は、前記第3方向において前記第10部分と前記第4壁部との間、及び、前記第3方向において前記第11部分と前記第4壁部との間に設けられ、前記第13部分は、前記第10部分及び前記第11部分と接続され、前記第14部分は、前記第3方向において前記第9部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第10部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第14部分は、前記第9部分及び前記第10部分と接続され、前記第15部分は、前記第3方向において前記第11部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第12部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第15部分は、前記第11部分及び前記第12部分と接続され、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第4〜第5電極であって、前記第4電極は、前記第2方向において前記第9部分と前記第10部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第14部分との間に設けられ、前記第5電極は、前記第2方向において前記第10部分と前記第11部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第4壁部と前記第13部分との間に設けられ、前記第5電極は、前記第2方向において前記第11部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第15部分との間にある、、前記第4〜第5電極と、
をさらに備え、
前記第1膜は、第4孔〜前記第6孔をさらに含み、
前記第4孔は、前記第1方向において前記第4電極と重なり、
前記第5孔は、前記第1方向において前記第5電極と重なり、
前記第6孔は、前記第1方向において前記第6電極と重なる、構成1〜12のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成15)
前記第1壁部の前記第3方向に沿う幅は、前記第1壁部と前記第5部分との間の前記第3方向に沿う距離の0.00倍以上0.5倍以下である、構成1〜14のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成16)
第1部材と、
第1〜第3孔を含む第1膜であって、前記第1部材から前記第1膜への方向は、第1方向に沿う、前記第1膜と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第1壁部であって、前記第1壁部は、第1〜第5部分を含み、前記第5部分は、前記第1方向と交差する第2方向に沿い、前記第1部分から前記第4部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第2部分は、前記第1部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第3部分は、前記第2部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第1〜第4部分は、前記第5部分とそれぞれ接続された、前記第1壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第2壁部であって、前記第2壁部は、第6〜第10部分を含み、前記第10部分は前記第2方向に沿い、前記第1方向及び前記第2方向を含む平面と交差する第3方向において、前記第5部分と前記第10部分との間に前記第1〜第4部分及び前記第5〜前記第9部分が設けられ、前記第6部分から前記第9部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第7部分は、前記第6部分と前記第9部分との間に設けられ、前記第8部分は、前記第7部分と前記第9部分との間に設けられ、前記第2方向において、前記第1部分と前記第2部分との間に、前記第6部分及び前記7部分が設けられ、前記第2方向において、前記第3部分と前記第4部分との間に、前記第8部分及び前記第9部分が設けられ、前記第6〜第9部分は、前記第10部分と接続された、前記第2壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第1〜第3電極であって、前記第1電極は、前記第2方向において前記第6部分と前記第7部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第10部分と前記第5部分との間に設けられ、前記第2電極は、前記第2方向において前記第2部分と前記第3部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第10部分と前記第5部分との間に設けられ、前記第3電極は、前記第2方向において前記第8部分と前記第9部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第10部分と前記第5部分との間に設けられた、前記第1〜第3電極と、
を備えた分析素子。
(構成17)
前記第2方向における前記第1孔の位置は、前記第2方向における前記第6部分の位置と、前記第2方向における前記第7部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第1孔の位置は、前記第3方向における前記第10部分の位置と、前記第3方向における前記第5部分の位置と、の間に設けられ、
前記第2方向における前記第2孔の位置は、前記第2方向における前記第2部分の位置と、前記第2方向における前記第3部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第2孔の位置は、前記第3方向における前記第10部分の位置と、前記第3方向における前記第5部分の位置と、の間に設けられ、
前記第2方向における前記第3孔の位置は、前記第2方向における前記第8部分の位置と、前記第2方向における前記第9部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第3孔の位置は、前記第3方向における前記第10部分の位置と、前記第3方向における前記第5部分の位置と、の間に設けられた、構成1記載の分析素子。
(構成18)
前記第1方向において前記第1孔は前記第1電極と重なり、
前記第1方向において前記第2孔は前記第2電極と重なり、
前記第1方向において前記第3孔は前記第3電極と重なる、構成16記載の分析素子。
(構成19)
前記第1壁部は、第11部分を含み、前記第11部分は、前記第10部分と前記第5部分との間に設けられ、前記第2部分または前記第3部分と接続され、
前記第2電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第11部分と前記第5部分との間に設けられた、構成16〜18のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成20)
前記第2壁部は、第12部分を含み、前記第12部分は、前記第10部分と前記第5部分との間に設けられ、前記第6部分または前記第7部分と接続され、
前記第1電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第12部分と前記第10部分との間に設けられた、構成16〜19のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成21)
前記第2壁部は、第13部分を含み、前記第13部分は、前記第10部分と前記第5部分との間に設けられ、前記第8部分または前記第9部分と接続され、
前記第3電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第13部分と前記第10部分との間に設けられた、構成16〜20のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成22)
前記第1部分の前記第2方向に沿う幅は、前記第1部分と前記第6部分との間の前記第2方向に沿う距離の0.5倍以上50倍以下である、構成16〜21のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成23)
前記第1壁部及び前記第2壁部は、前記第1部材と接し、前記第1膜と接した、構成1〜22のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成24)
検出用電極をさらに備えた、構成1〜23のいずれか1つに記載の分析素子。
(構成25)
前記第1〜第3電極、及び、前記検出用電極と電気的に接続された検出部をさらに備えた、構成23記載の分析素子。
The embodiment may include the following configuration (technical proposal).
(Structure 1)
With the first member
The first film including the first to third pores, and the direction from the first member to the first film is along the first direction with the first film.
A first wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and extending in the second direction intersecting the first direction, and
A second wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and extending in the second direction, and a third direction from the second wall portion to the first wall portion. With the second wall portion intersecting the plane including the first direction and the second direction.
A third wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and between the first wall portion and the second wall portion in the third direction. The third wall portion includes the first to seventh portions, the direction from the first portion to the fourth portion is along the second direction, and the second portion is the same as the first portion. The third portion is provided between the fourth portion and the third portion, and the fifth portion is provided between the second portion and the fourth portion in the third direction. It is provided between the first wall portion and between the third portion and the first wall portion in the third direction, and the fifth portion is connected to the second portion and the third portion. The sixth portion is provided between the first portion and the second wall portion in the third direction, and between the second portion and the second wall portion in the third direction. The sixth part is connected to the first part and the second part, and the seventh part is between the third part and the second wall part in the third direction and in the third direction. The third wall portion is provided between the fourth portion and the second wall portion, and the seventh portion is connected to the third portion and the fourth wall portion.
The first to third electrodes are provided between the first member and the first film in the first direction, and the first electrode is the first portion and the second electrode in the second direction. The second electrode is provided between the first wall portion and the sixth portion in the third direction, and the second electrode is provided between the second portion and the third portion in the second direction. The third electrode is provided between the second wall portion and the fifth portion in the third direction, and the third electrode is provided between the third portion and the fourth portion in the second direction. The first to third electrodes provided between the first wall portion and the seventh portion in the third direction, and the third electrode.
Analytical element equipped with.
(Structure 2)
The position of the first hole in the second direction is provided between the position of the first portion in the second direction and the position of the second portion in the second direction.
The position of the first hole in the third direction is provided between the position of the first wall portion in the third direction and the position of the sixth portion in the third direction.
The position of the second hole in the second direction is provided between the position of the second portion in the second direction and the position of the third portion in the second direction.
The position of the second hole in the third direction is provided between the position of the second wall portion in the third direction and the position of the fifth portion in the third direction.
The position of the third hole in the second direction is provided between the position of the third portion in the second direction and the position of the fourth portion in the second direction.
The position of the third hole in the third direction is provided between the position of the first wall portion in the third direction and the position of the seventh portion in the third direction. Analytical element.
(Structure 3)
In the first direction, the first hole overlaps with the first electrode,
In the first direction, the second hole overlaps with the second electrode,
The analytical device according to configuration 1, wherein the third hole overlaps with the third electrode in the first direction.
(Structure 4)
A part of the fifth portion is provided between the sixth portion and the first wall portion in the third direction.
The analysis according to any one of configurations 1 to 3, wherein at least a part of the first electrode is provided between the part of the fifth part and the sixth part in the third direction. element.
(Structure 5)
A part of the sixth portion is provided between the fifth portion and the second wall portion in the third direction.
The analysis according to any one of configurations 1 to 4, wherein at least a part of the second electrode is provided between the part of the sixth part and the fifth part in the third direction. element.
(Structure 6)
A part of the seventh portion is provided between the fifth portion and the second wall portion in the third direction.
The analysis according to any one of configurations 1 to 5, wherein at least a part of the second electrode is provided between the part of the seventh part and the fifth part in the third direction. element.
(Structure 7)
A part of the fifth portion is provided between the seventh portion and the first wall portion in the third direction.
The analysis according to any one of configurations 1 to 3, wherein at least a part of the third electrode is provided between the part of the fifth part and the seventh part in the third direction. element.
(Structure 8)
The fifth portion includes a first end portion and a second end portion, and the direction from the first end portion to the second end portion is along the second end portion.
The analytical device according to any one of configurations 1 to 7, wherein the first end portion is separated from the first portion and the second end portion is separated from the fourth portion.
(Structure 9)
The third wall portion further includes an eighth portion.
The eighth portion is provided between the sixth portion and the first wall portion in the third direction.
A part of the first electrode is provided between the eighth part and the sixth part in the third direction.
The analytical element according to configuration 8, wherein the eighth portion is separated from the first end portion.
(Structure 10)
The sixth portion includes the third end and includes the third end.
The analytical element according to any one of configurations 1 to 9, wherein a part of the second electrode is provided between the third end portion and the fifth portion in the third direction.
(Structure 11)
The seventh part includes the fourth end.
The analytical element according to any one of configurations 1 to 9, wherein a part of the second electrode is provided between the fourth end portion and the fifth portion in the third direction.
(Structure 12)
The first member, the first film, the first wall portion, and the first space formed by the fifth portion are the first member, the first film, the first portion, the second portion, and the sixth portion. Connected to the second space by
The first space is connected to the first member, the first film, the third part, the fourth part, and the third space by the seventh part.
The first member, the first film, the second wall portion, the sixth portion, and the fourth space formed by the seventh portion are the first member, the first film, the second portion, and the third portion. The analytical element according to any one of configurations 1 to 11, which is connected to the fifth space by the fifth part.
(Structure 13)
A fourth wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and extending in the second direction, the third wall portion and the fourth wall portion in the third direction. The fourth wall portion provided with the second wall portion and
A fifth wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and between the second wall portion and the fourth wall portion in the third direction. The fifth wall portion includes the ninth to fifteenth portions, the direction from the ninth portion to the twelfth portion is along the second direction, and the tenth portion is the ninth portion. The eleventh part is provided between the tenth part and the twelfth part, and the thirteenth part is provided between the tenth part and the twelfth part in the third direction. It is provided between the second wall portion and between the eleventh portion and the second wall portion in the third direction, and the thirteenth portion is connected to the tenth portion and the eleventh portion. The 14th portion is provided between the 9th portion and the 4th wall portion in the 3rd direction, and between the 10th portion and the 4th wall portion in the 3rd direction. The 14th part is connected to the 9th part and the 10th part, and the 15th part is between the 11th part and the 4th wall part in the 3rd direction and in the 3rd direction. Is provided between the twelfth portion and the fourth wall portion, and the fifteenth portion is connected to the eleventh portion and the twelfth portion.
The fourth to sixth electrodes are provided between the first member and the first film in the first direction, and the fourth electrode is the ninth portion and the tenth electrode in the second direction. The fifth electrode is provided between the second wall portion and the 14th portion in the third direction, and the fifth electrode is provided between the tenth portion and the eleventh portion in the second direction. The sixth electrode is provided between the fourth wall portion and the thirteenth portion in the third direction, and the sixth electrode is provided between the eleventh portion and the twelfth portion in the second direction. The fourth to sixth electrodes, which are provided between the two electrodes and are located between the second wall portion and the fifteenth portion in the third direction.
With more
The first film further includes 4th to 6th pores and includes
The fourth hole overlaps with the fourth electrode in the first direction.
The fifth hole overlaps with the fifth electrode in the first direction.
The analytical element according to any one of configurations 1 to 12, wherein the sixth hole overlaps with the sixth electrode in the first direction.
(Structure 14)
A fourth wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and extending in the second direction, the third wall portion and the fourth wall portion in the third direction. The fourth wall portion provided with the second wall portion and
A fifth wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and between the second wall portion and the fourth wall portion in the third direction. The fifth wall portion includes the ninth to fifteenth portions, the direction from the ninth portion to the twelfth portion is along the second direction, and the tenth portion is the same as the first portion. The eleventh part is provided between the tenth part and the twelfth part, and the thirteenth part is provided between the tenth part and the twelfth part in the third direction. It is provided between the fourth wall portion and between the eleventh portion and the fourth wall portion in the third direction, and the thirteenth portion is connected to the tenth portion and the eleventh portion. The 14th portion is provided between the 9th portion and the 2nd wall portion in the 3rd direction, and between the 10th portion and the 2nd wall portion in the 3rd direction. The 14th part is connected to the 9th part and the 10th part, and the 15th part is between the 11th part and the 2nd wall part in the 3rd direction and in the 3rd direction. The twelfth part and the second wall part are provided in the above, and the fifteenth part is connected to the eleventh part and the twelfth part.
The fourth to fifth electrodes are provided between the first member and the first film in the first direction, and the fourth electrode is the ninth portion and the tenth electrode in the second direction. The fifth electrode is provided between the second wall portion and the 14th portion in the third direction, and the fifth electrode is provided between the tenth portion and the eleventh portion in the second direction. The fifth electrode is provided between the fourth wall portion and the thirteenth portion in the third direction, and the fifth electrode is provided between the eleventh portion and the twelfth portion in the second direction. The fourth to fifth electrodes, which are provided between the second wall portion and the fifteenth portion in the third direction.
With more
The first film further includes the fourth hole to the sixth hole.
The fourth hole overlaps with the fourth electrode in the first direction.
The fifth hole overlaps with the fifth electrode in the first direction.
The analytical element according to any one of configurations 1 to 12, wherein the sixth hole overlaps with the sixth electrode in the first direction.
(Structure 15)
The width of the first wall portion along the third direction is 0.00 times or more and 0.5 times or less the distance between the first wall portion and the fifth portion along the third direction. The analytical element according to any one of configurations 1 to 14.
(Structure 16)
With the first member
The first film including the first to third pores, and the direction from the first member to the first film is along the first direction with the first film.
A first wall portion provided between the first member and the first film in the first direction, the first wall portion includes first to fifth portions, and the fifth portion is The direction from the first part to the fourth part is along the second direction along the second direction intersecting with the first direction, and the second part is the first part and the fourth part. The third portion is provided between the second portion and the fourth portion, and the first to fourth portions are connected to the fifth portion, respectively. 1 wall and
A second wall portion provided between the first member and the first film in the first direction, the second wall portion includes sixth to tenth portions, and the tenth portion includes the sixth to tenth portions. The first to fourth parts and the first part are between the fifth part and the tenth part in a third direction along the second direction and intersecting the plane including the first direction and the second direction. 5-The ninth portion is provided, the direction from the sixth portion to the ninth portion is along the second direction, and the seventh portion is between the sixth portion and the ninth portion. The eighth portion is provided between the seventh portion and the ninth portion, and in the second direction, the sixth portion and the sixth portion are provided between the first portion and the second portion. The 7 parts are provided, and in the 2nd direction, the 8th part and the 9th part are provided between the 3rd part and the 4th part, and the 6th to 9th parts are said. With the second wall part connected to the tenth part,
The first to third electrodes are provided between the first member and the first film in the first direction, and the first electrode is the sixth portion and the seventh electrode in the second direction. It is provided between the portions and is provided between the tenth portion and the fifth portion in the third direction, and the second electrode is provided between the second portion and the third portion in the second direction. The third electrode is provided between the tenth portion and the fifth portion in the third direction, and the third electrode is provided between the eighth portion and the ninth portion in the second direction. The first to third electrodes, which are provided between the tenth portion and the fifth portion in the third direction,
Analytical element equipped with.
(Structure 17)
The position of the first hole in the second direction is provided between the position of the sixth portion in the second direction and the position of the seventh portion in the second direction.
The position of the first hole in the third direction is provided between the position of the tenth portion in the third direction and the position of the fifth portion in the third direction.
The position of the second hole in the second direction is provided between the position of the second portion in the second direction and the position of the third portion in the second direction.
The position of the second hole in the third direction is provided between the position of the tenth portion in the third direction and the position of the fifth portion in the third direction.
The position of the third hole in the second direction is provided between the position of the eighth portion in the second direction and the position of the ninth portion in the second direction.
The position of the third hole in the third direction is provided between the position of the tenth portion in the third direction and the position of the fifth portion in the third direction, according to the configuration 1. Analytical element.
(Structure 18)
In the first direction, the first hole overlaps with the first electrode,
In the first direction, the second hole overlaps with the second electrode,
16. The analytical device according to configuration 16, wherein the third hole overlaps with the third electrode in the first direction.
(Structure 19)
The first wall portion includes an eleventh portion, and the eleventh portion is provided between the tenth portion and the fifth portion, and is connected to the second portion or the third portion.
The analytical element according to any one of configurations 16 to 18, wherein at least a part of the second electrode is provided between the eleventh portion and the fifth portion in the third direction.
(Structure 20)
The second wall portion includes a twelfth portion, the twelfth portion is provided between the tenth portion and the fifth portion, and is connected to the sixth portion or the seventh portion.
The analytical element according to any one of configurations 16 to 19, wherein at least a part of the first electrode is provided between the twelfth portion and the tenth portion in the third direction.
(Structure 21)
The second wall portion includes a thirteenth portion, the thirteenth portion being provided between the tenth portion and the fifth portion, and connected to the eighth portion or the ninth portion.
The analytical element according to any one of configurations 16 to 20, wherein at least a part of the third electrode is provided between the thirteenth portion and the tenth portion in the third direction.
(Structure 22)
The width of the first portion along the second direction is 0.5 times or more and 50 times or less the distance along the second direction between the first portion and the sixth portion, configurations 16 to 21. The analytical element according to any one of.
(Structure 23)
The analytical element according to any one of configurations 1 to 22, wherein the first wall portion and the second wall portion are in contact with the first member and in contact with the first film.
(Structure 24)
The analytical device according to any one of configurations 1 to 23, further comprising a detection electrode.
(Structure 25)
The analytical element according to configuration 23, further comprising the first to third electrodes and a detection unit electrically connected to the detection electrode.

実施形態によれば、分析精度を向上できる分析素子が提供できる。 According to the embodiment, it is possible to provide an analytical element capable of improving analytical accuracy.

以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、分析素子に含まれる第1部材、第1膜、壁部、電極、及び制御部などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。 The embodiments of the present invention have been described above with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to these specific examples. For example, regarding the specific configuration of each element such as the first member, the first film, the wall portion, the electrode, and the control portion included in the analysis element, the present invention can be obtained by appropriately selecting from a range known to those skilled in the art. It is included in the scope of the present invention as long as it can be carried out in the same manner and the same effect can be obtained.

また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。 Further, a combination of any two or more elements of each specific example to the extent technically possible is also included in the scope of the present invention as long as the gist of the present invention is included.

その他、本発明の実施の形態として上述した分析素子を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての分析素子も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。 In addition, all analytical elements that can be appropriately designed and implemented by those skilled in the art based on the analytical elements described above as embodiments of the present invention also belong to the scope of the present invention as long as the gist of the present invention is included. ..

その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。 In addition, within the scope of the idea of the present invention, those skilled in the art can come up with various modified examples and modified examples, and it is understood that these modified examples and modified examples also belong to the scope of the present invention. ..

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although some embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other embodiments, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof.

10s…壁部、 11〜15…第1〜第5壁部、 18a〜18d…第1〜第4経路、 21…第1膜、 21a〜21f…第1〜第6孔、 21h…孔、 30E…電極、 30F…検出用電極、 31〜36…第1〜第6電極、 31o〜36o…開口部、 51…第1部材、 51T…溝部、 51p…凸部、 52〜54…枠部、 70…検出部、 81…検体液、 82…電解液、 110、111、120、121…分析素子、 AR…矢印、 p01〜p16…第1〜第16部分、 pe01〜pe04…第1〜第4端部、 pp05、pp06、pp07、pq05…一部、 sp1〜sp5…第1〜第5空間 10s ... wall part, 11-15 ... first to fifth wall parts, 18a to 18d ... first to fourth paths, 21 ... first film, 21a to 21f ... first to sixth holes, 21h ... holes, 30E ... Electrode, 30F ... Detection electrode, 31-36 ... First to sixth electrodes, 31o to 36o ... Opening, 51 ... First member, 51T ... Groove, 51p ... Convex, 52 to 54 ... Frame, 70 ... Detection unit, 81 ... Sample solution, 82 ... Electrolytic solution, 110, 111, 120, 121 ... Analytical element, AR ... Arrow, p01 to p16 ... 1st to 16th parts, pe01 to pe04 ... 1st to 4th ends Part, pp05, pp06, pp07, pq05 ... Partial, sp1 to sp5 ... 1st to 5th spaces

Claims (11)

第1部材と、
第1〜第3孔を含む第1膜であって、前記第1部材から前記第1膜への方向は、第1方向に沿う、前記第1膜と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第1方向と交差する第2方向に延びる第1壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第2方向に延びる第2壁部であって、前記第2壁部から前記第1壁部への第3方向は、前記第1方向及び前記第2方向を含む平面と交差する、前記第2壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ、前記第3方向において前記第1壁部と前記第2壁部との間に設けられた第3壁部であって、前記第3壁部は、第1〜第7部分を含み、前記第1部分から前記第4部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第2部分は、前記第1部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第3部分は、前記第2部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第5部分は、前記第3方向において前記第2部分と前記第1壁部との間、及び、前記第3方向において前記第3部分と前記第1壁部との間に設けられ、前記第5部分は、前記第2部分及び前記第3部分と接続され、前記第6部分は、前記第3方向において前記第1部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第2部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第6部分は、前記第1部分及び前記第2部分と接続され、前記第7部分は、前記第3方向において前記第3部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第4部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第7部分は、前記第3部分及び前記第4部分と接続された、前記第3壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第1〜第3電極であって、前記第1電極は、前記第2方向において前記第1部分と前記第2部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第1壁部と前記第6部分との間に設けられ、前記第2電極は、前記第2方向において前記第2部分と前記第3部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第5部分との間に設けられ、前記第3電極は、前記第2方向において前記第3部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第1壁部と前記第7部分との間に設けられた、前記第1〜第3電極と、
を備え
分析対象の粒を含む導電性の検体液に流れる電流を測定可能な、分析素子。
With the first member
The first film including the first to third pores, and the direction from the first member to the first film is along the first direction with the first film.
A first wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and extending in the second direction intersecting the first direction, and
A second wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and extending in the second direction, and a third direction from the second wall portion to the first wall portion. With the second wall portion intersecting the plane including the first direction and the second direction.
A third wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and between the first wall portion and the second wall portion in the third direction. The third wall portion includes the first to seventh portions, the direction from the first portion to the fourth portion is along the second direction, and the second portion is the same as the first portion. The third portion is provided between the fourth portion and the third portion, and the fifth portion is provided between the second portion and the fourth portion in the third direction. It is provided between the first wall portion and between the third portion and the first wall portion in the third direction, and the fifth portion is connected to the second portion and the third portion. The sixth portion is provided between the first portion and the second wall portion in the third direction, and between the second portion and the second wall portion in the third direction. The sixth part is connected to the first part and the second part, and the seventh part is between the third part and the second wall part in the third direction and in the third direction. The third wall portion is provided between the fourth portion and the second wall portion, and the seventh portion is connected to the third portion and the fourth wall portion.
The first to third electrodes are provided between the first member and the first film in the first direction, and the first electrode is the first portion and the second electrode in the second direction. The second electrode is provided between the first wall portion and the sixth portion in the third direction, and the second electrode is provided between the second portion and the third portion in the second direction. The third electrode is provided between the second wall portion and the fifth portion in the third direction, and the third electrode is provided between the third portion and the fourth portion in the second direction. The first to third electrodes provided between the first wall portion and the seventh portion in the third direction, and the third electrode.
Equipped with a,
An analytical element capable of measuring the current flowing through a conductive sample solution containing particles to be analyzed.
前記第2方向における前記第1孔の位置は、前記第2方向における前記第1部分の位置と、前記第2方向における前記第2部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第1孔の位置は、前記第3方向における前記第1壁部の位置と、前記第3方向における前記第6部分の位置と、の間に設けられ、
前記第2方向における前記第2孔の位置は、前記第2方向における前記第2部分の位置と、前記第2方向における前記第3部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第2孔の位置は、前記第3方向における前記第2壁部の位置と、前記第3方向における前記第5部分の位置と、の間に設けられ、
前記第2方向における前記第3孔の位置は、前記第2方向における前記第3部分の位置と、前記第2方向における前記第4部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第3孔の位置は、前記第3方向における前記第1壁部の位置と、前記第3方向における前記第7部分の位置と、の間に設けられた、請求項1記載の分析素子。
The position of the first hole in the second direction is provided between the position of the first portion in the second direction and the position of the second portion in the second direction.
The position of the first hole in the third direction is provided between the position of the first wall portion in the third direction and the position of the sixth portion in the third direction.
The position of the second hole in the second direction is provided between the position of the second portion in the second direction and the position of the third portion in the second direction.
The position of the second hole in the third direction is provided between the position of the second wall portion in the third direction and the position of the fifth portion in the third direction.
The position of the third hole in the second direction is provided between the position of the third portion in the second direction and the position of the fourth portion in the second direction.
The position of the third hole in the third direction is provided between the position of the first wall portion in the third direction and the position of the seventh portion in the third direction, claim 1. The analytical element described.
前記第5部分の一部は、前記第3方向において前記第6部分と前記第1壁部との間に設けられ、
前記第1電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第5部分の前記一部と前記第6部分との間に設けられた、請求項1または2に記載の分析素子。
A part of the fifth portion is provided between the sixth portion and the first wall portion in the third direction.
The analytical element according to claim 1 or 2, wherein at least a part of the first electrode is provided between the part of the fifth part and the sixth part in the third direction.
前記第6部分の一部は、前記第3方向において前記第5部分と前記第2壁部との間に設けられ、
前記第2電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第6部分の前記一部と前記第5部分との間に設けられた、請求項1〜3のいずれか1つに記載の分析素子。
A part of the sixth portion is provided between the fifth portion and the second wall portion in the third direction.
The invention according to any one of claims 1 to 3, wherein at least a part of the second electrode is provided between the part of the sixth part and the fifth part in the third direction. Analytical element.
前記第7部分の一部は、前記第3方向において前記第5部分と前記第2壁部との間に設けられ、
前記第2電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第7部分の前記一部と前記第5部分との間に設けられた、請求項1〜4のいずれか1つに記載の分析素子。
A part of the seventh portion is provided between the fifth portion and the second wall portion in the third direction.
The invention according to any one of claims 1 to 4, wherein at least a part of the second electrode is provided between the part of the seventh part and the fifth part in the third direction. Analytical element.
前記第5部分の一部は、前記第3方向において前記第7部分と前記第1壁部との間に設けられ、
前記第3電極の少なくとも一部は、前記第3方向において、前記第5部分の前記一部と前記第7部分との間に設けられた、請求項1〜3のいずれか1つに記載の分析素子。
A part of the fifth portion is provided between the seventh portion and the first wall portion in the third direction.
The third aspect of the invention, wherein at least a part of the third electrode is provided between the part of the fifth part and the seventh part in the third direction, according to any one of claims 1 to 3. Analytical element.
前記第1部材、前記第1膜、前記第1壁部及び前記第5部分による第1空間は、前記第1部材、前記第1膜、前記第1部分、前記第2部分及び前記第6部分による第2空間と繋がり、
前記第1空間は、前記第1部材、前記第1膜、前記第3部分、前記第4部分及び前記第7部分による第3空間と繋がり、
前記第1部材、前記第1膜、前記第2壁部、前記第6部分及び前記第7部分による第4空間は、前記第1部材、前記第1膜、前記第2部分、前記第3部分及び前記第5部分による第5空間と繋がる、請求項1〜6のいずれか1つに記載の分析素子。
The first member, the first film, the first wall portion, and the first space formed by the fifth portion are the first member, the first film, the first portion, the second portion, and the sixth portion. Connected to the second space by
The first space is connected to the first member, the first film, the third part, the fourth part, and the third space by the seventh part.
The first member, the first film, the second wall portion, the sixth portion, and the fourth space formed by the seventh portion are the first member, the first film, the second portion, and the third portion. The analytical element according to any one of claims 1 to 6, which is connected to the fifth space according to the fifth part.
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第2方向に延びる第4壁部であって、前記第3方向において前記第3壁部と前記第4壁部との間に前記第2壁部が設けられた、前記第4壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第4壁部との間に設けられた第5壁部であって、前記第5壁部は、第9〜第15部分を含み、前記第9部分から前記第12部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第10部分は、前記第9部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第11部分は、前記第10部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第13部分は、前記第3方向において前記第10部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第11部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第13部分は、前記第10部分及び前記第11部分と接続され、前記第14部分は、前記第3方向において前記第9部分と前記第4壁部との間、及び、前記第3方向において前記第10部分と前記第4壁部との間に設けられ、前記第14部分は、前記第9部分及び前記第10部分と接続され、前記第15部分は、前記第3方向において前記第11部分と前記第4壁部との間、及び、前記第3方向において前記第12部分と前記第4壁部との間に設けられ、前記第15部分は、前記第11部分及び前記第12部分と接続され、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第4〜第6電極であって、前記第4電極は、前記第2方向において前記第9部分と前記第10部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第14部分との間に設けられ、前記第5電極は、前記第2方向において前記第10部分と前記第11部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第4壁部と前記第13部分との間に設けられ、前記第6電極は、前記第2方向において前記第11部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第15部分との間にある、前記第4〜第6電極と、
をさらに備え、
前記第1膜は、第4〜第6孔をさらに含み、
前記第4孔は、前記第1方向において前記第4電極と重なり、
前記第5孔は、前記第1方向において前記第5電極と重なり、
前記第6孔は、前記第1方向において前記第6電極と重なる、請求項1〜7のいずれか1つに記載の分析素子。
A fourth wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and extending in the second direction, the third wall portion and the fourth wall portion in the third direction. The fourth wall portion provided with the second wall portion and
A fifth wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and between the second wall portion and the fourth wall portion in the third direction. The fifth wall portion includes the ninth to fifteenth portions, the direction from the ninth portion to the twelfth portion is along the second direction, and the tenth portion is the ninth portion. The eleventh part is provided between the tenth part and the twelfth part, and the thirteenth part is provided between the tenth part and the twelfth part in the third direction. It is provided between the second wall portion and between the eleventh portion and the second wall portion in the third direction, and the thirteenth portion is connected to the tenth portion and the eleventh portion. The 14th portion is provided between the 9th portion and the 4th wall portion in the 3rd direction, and between the 10th portion and the 4th wall portion in the 3rd direction. The 14th part is connected to the 9th part and the 10th part, and the 15th part is between the 11th part and the 4th wall part in the 3rd direction and in the 3rd direction. Is provided between the twelfth portion and the fourth wall portion, and the fifteenth portion is connected to the eleventh portion and the twelfth portion.
The fourth to sixth electrodes are provided between the first member and the first film in the first direction, and the fourth electrode is the ninth portion and the tenth electrode in the second direction. The fifth electrode is provided between the second wall portion and the 14th portion in the third direction, and the fifth electrode is provided between the tenth portion and the eleventh portion in the second direction. The sixth electrode is provided between the fourth wall portion and the thirteenth portion in the third direction, and the sixth electrode is provided between the eleventh portion and the twelfth portion in the second direction. The fourth to sixth electrodes, which are provided between the two electrodes and are located between the second wall portion and the fifteenth portion in the third direction.
With more
The first film further includes 4th to 6th pores and includes
The fourth hole overlaps with the fourth electrode in the first direction.
The fifth hole overlaps with the fifth electrode in the first direction.
The analytical element according to any one of claims 1 to 7, wherein the sixth hole overlaps with the sixth electrode in the first direction.
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ前記第2方向に延びる第4壁部であって、前記第3方向において前記第3壁部と前記第4壁部との間に前記第2壁部が設けられた、前記第4壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられ、前記第3方向において前記第2壁部と前記第4壁部との間に設けられた第5壁部であって、前記第5壁部は、第9〜第15部分を含み、前記第9部分から前記第12部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第10部分は、前記第部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第11部分は、前記第10部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第13部分は、前記第3方向において前記第10部分と前記第4壁部との間、及び、前記第3方向において前記第11部分と前記第4壁部との間に設けられ、前記第13部分は、前記第10部分及び前記第11部分と接続され、前記第14部分は、前記第3方向において前記第9部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第10部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第14部分は、前記第9部分及び前記第10部分と接続され、前記第15部分は、前記第3方向において前記第11部分と前記第2壁部との間、及び、前記第3方向において前記第12部分と前記第2壁部との間に設けられ、前記第15部分は、前記第11部分及び前記第12部分と接続され、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第4〜第電極であって、前記第4電極は、前記第2方向において前記第9部分と前記第10部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第壁部と前記第14部分との間に設けられ、前記第5電極は、前記第2方向において前記第10部分と前記第11部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第壁部と前記第13部分との間に設けられ、前記第電極は、前記第2方向において前記第11部分と前記第12部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第4壁部と前記第15部分との間にある、前記第4〜第電極と、
をさらに備え、
前記第1膜は、第4孔〜第6孔をさらに含み、
前記第4孔は、前記第1方向において前記第4電極と重なり、
前記第5孔は、前記第1方向において前記第5電極と重なり、
前記第6孔は、前記第1方向において前記第6電極と重なる、請求項1〜7のいずれか1つに記載の分析素子。
A fourth wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and extending in the second direction, the third wall portion and the fourth wall portion in the third direction. The fourth wall portion provided with the second wall portion and
A fifth wall portion provided between the first member and the first film in the first direction and between the second wall portion and the fourth wall portion in the third direction. The fifth wall portion includes the ninth to fifteenth portions, the direction from the ninth portion to the twelfth portion is along the second direction, and the tenth portion is the ninth portion. The eleventh part is provided between the tenth part and the twelfth part, and the thirteenth part is provided between the tenth part and the twelfth part in the third direction. It is provided between the fourth wall portion and between the eleventh portion and the fourth wall portion in the third direction, and the thirteenth portion is connected to the tenth portion and the eleventh portion. The 14th portion is provided between the 9th portion and the 2nd wall portion in the 3rd direction, and between the 10th portion and the 2nd wall portion in the 3rd direction. The 14th part is connected to the 9th part and the 10th part, and the 15th part is between the 11th part and the 2nd wall part in the 3rd direction and in the 3rd direction. The twelfth part and the second wall part are provided in the above, and the fifteenth part is connected to the eleventh part and the twelfth part.
The fourth to sixth electrodes are provided between the first member and the first film in the first direction, and the fourth electrode is the ninth portion and the tenth electrode in the second direction. It is provided between the portions, and is provided between the fourth wall portion and the 14th portion in the third direction, and the fifth electrode is provided between the tenth portion and the eleventh portion in the second direction. The sixth electrode is provided between the second wall portion and the thirteenth portion in the third direction, and the sixth electrode is provided between the eleventh portion and the twelfth portion in the second direction. The fourth to sixth electrodes provided between the fourth wall portion and the fifteenth portion in the third direction, and the fourth to sixth electrodes.
With more
The first film further includes holes 4 to 6, and the first film further includes holes 4 to 6.
The fourth hole overlaps with the fourth electrode in the first direction.
The fifth hole overlaps with the fifth electrode in the first direction.
The analytical element according to any one of claims 1 to 7, wherein the sixth hole overlaps with the sixth electrode in the first direction.
第1部材と、
第1〜第3孔を含む第1膜であって、前記第1部材から前記第1膜への方向は、第1方向に沿う、前記第1膜と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第1壁部であって、前記第1壁部は、第1〜第5部分を含み、前記第5部分は、前記第1方向と交差する第2方向に沿い、前記第1部分から前記第4部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第2部分は、前記第1部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第3部分は、前記第2部分と前記第4部分との間に設けられ、前記第1〜第4部分は、前記第5部分とそれぞれ接続された、前記第1壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第2壁部であって、前記第2壁部は、第6〜第10部分を含み、前記第10部分は前記第2方向に沿い、前記第1方向及び前記第2方向を含む平面と交差する第3方向において、前記第5部分と前記第10部分との間に前記第1〜第4部分及び前記第5〜前記第9部分が設けられ、前記第6部分から前記第9部分への方向は、前記第2方向に沿い、前記第7部分は、前記第6部分と前記第9部分との間に設けられ、前記第8部分は、前記第7部分と前記第9部分との間に設けられ、前記第2方向において、前記第1部分と前記第2部分との間に、前記第6部分及び前記7部分が設けられ、前記第2方向において、前記第3部分と前記第4部分との間に、前記第8部分及び前記第9部分が設けられ、前記第6〜第9部分は、前記第10部分と接続された、前記第2壁部と、
前記第1方向において前記第1部材と前記第1膜との間に設けられた第1〜第3電極であって、前記第1電極は、前記第2方向において前記第6部分と前記第7部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第10部分と前記第5部分との間に設けられ、前記第2電極は、前記第2方向において前記第2部分と前記第3部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第10部分と前記第5部分との間に設けられ、前記第3電極は、前記第2方向において前記第8部分と前記第9部分との間に設けられ、前記第3方向において前記第10部分と前記第5部分との間に設けられた、前記第1〜第3電極と、
を備え
分析対象の粒を含む導電性の検体液に流れる電流を測定可能な、分析素子。
With the first member
The first film including the first to third pores, and the direction from the first member to the first film is along the first direction with the first film.
A first wall portion provided between the first member and the first film in the first direction, the first wall portion includes first to fifth portions, and the fifth portion is The direction from the first part to the fourth part is along the second direction along the second direction intersecting with the first direction, and the second part is the first part and the fourth part. The third portion is provided between the second portion and the fourth portion, and the first to fourth portions are connected to the fifth portion, respectively. 1 wall and
A second wall portion provided between the first member and the first film in the first direction, the second wall portion includes sixth to tenth portions, and the tenth portion includes the sixth to tenth portions. The first to fourth parts and the first part are between the fifth part and the tenth part in a third direction along the second direction and intersecting the plane including the first direction and the second direction. 5-The ninth portion is provided, the direction from the sixth portion to the ninth portion is along the second direction, and the seventh portion is between the sixth portion and the ninth portion. The eighth portion is provided between the seventh portion and the ninth portion, and in the second direction, the sixth portion and the sixth portion are provided between the first portion and the second portion. The 7 parts are provided, and in the 2nd direction, the 8th part and the 9th part are provided between the 3rd part and the 4th part, and the 6th to 9th parts are said. With the second wall part connected to the tenth part,
The first to third electrodes are provided between the first member and the first film in the first direction, and the first electrode is the sixth portion and the seventh electrode in the second direction. It is provided between the portions and is provided between the tenth portion and the fifth portion in the third direction, and the second electrode is provided between the second portion and the third portion in the second direction. The third electrode is provided between the tenth portion and the fifth portion in the third direction, and the third electrode is provided between the eighth portion and the ninth portion in the second direction. The first to third electrodes, which are provided between the tenth portion and the fifth portion in the third direction,
Equipped with a,
An analytical element capable of measuring the current flowing through a conductive sample solution containing particles to be analyzed.
前記第2方向における前記第1孔の位置は、前記第2方向における前記第6部分の位置と、前記第2方向における前記第7部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第1孔の位置は、前記第2方向における前記第10部分の位置と、前記第2方向における前記第5部分の位置と、の間に設けられ、
前記第2方向における前記第2孔の位置は、前記第2方向における前記第2部分の位置と、前記第2方向における前記第3部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第2孔の位置は、前記第3方向における前記第10部分の位置と、前記第3方向における前記第5部分の位置と、の間に設けられ、
前記第2方向における前記第3孔の位置は、前記第2方向における前記第8部分の位置と、前記第2方向における前記第9部分の位置と、の間に設けられ、
前記第3方向における前記第3孔の位置は、前記第3方向における前記第10部分の位置と、前記第3方向における前記第5部分の位置と、の間に設けられた、請求項10記載の分析素子。
The position of the first hole in the second direction is provided between the position of the sixth portion in the second direction and the position of the seventh portion in the second direction.
The position of the first hole in the third direction is provided between the position of the tenth portion in the second direction and the position of the fifth portion in the second direction.
The position of the second hole in the second direction is provided between the position of the second portion in the second direction and the position of the third portion in the second direction.
The position of the second hole in the third direction is provided between the position of the tenth portion in the third direction and the position of the fifth portion in the third direction.
The position of the third hole in the second direction is provided between the position of the eighth portion in the second direction and the position of the ninth portion in the second direction.
10. The position of the third hole in the third direction is provided between the position of the tenth portion in the third direction and the position of the fifth portion in the third direction. Analytical element.
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