JP6538922B2 - Method of producing ethylene oxide - Google Patents
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Description
本発明は、エチレンオキシドの製造方法に関する。 The present invention relates to a process for the production of ethylene oxide.
エチレンオキシドは、今日ではエチレンを銀触媒の存在下で分子状酸素含有ガスにより
接触気相酸化して製造される。そして、エチレンオキシドの製造プロセスにおける精製方
法は大略以下のとおりである(例えば、特許文献1を参照)。
Ethylene oxide is today produced by catalytic gas phase oxidation of ethylene with a molecular oxygen containing gas in the presence of a silver catalyst. And the purification method in the manufacturing process of ethylene oxide is as follows roughly (for example, refer to patent documents 1).
まず、エチレンと分子状酸素含有ガスとを銀触媒上で接触気相酸化して、エチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを得る(反応工程)。次いで、得られた反応生成ガスをエチレン
オキシド吸収塔へ導き、水を主成分とする吸収液と接触させて、エチレンオキシドを水溶
液として回収する(吸収工程)。次いで、回収されたエチレンオキシド水溶液をエチレン
オキシドの精製系へと送り、いくつかの段階を経て高純度エチレンオキシドが得られる。
このエチレンオキシドの精製系は通常、放散工程、脱水工程、軽質分分離工程、重質分分
離(精製)工程などからなっている。
First, ethylene and a molecular oxygen-containing gas are subjected to catalytic gas phase oxidation on a silver catalyst to obtain a reaction product gas containing ethylene oxide (reaction step). Next, the reaction product gas obtained is introduced into an ethylene oxide absorber, and brought into contact with an absorbing solution containing water as a main component to recover ethylene oxide as an aqueous solution (absorption step). The recovered aqueous ethylene oxide solution is then sent to the ethylene oxide purification system, and high purity ethylene oxide is obtained through several steps.
The ethylene oxide purification system usually comprises a diffusion step, a dehydration step, a light component separation step, a heavy component separation (purification) step and the like.
ここで、エチレンオキシド吸収塔の塔頂部から排出される未反応エチレン、副生した二
酸化炭素や水、さらには不活性ガス(窒素、アルゴン、メタン、エタン等)を含む排出ガ
スについては、そのままエチレン酸化工程に循環させるか、またはその一部を抜き出し、
二酸化炭素吸収塔に導きアルカリ性吸収液により二酸化炭素を選択的に吸収させ、この吸
収液から二酸化炭素を放散回収することが通常行われている。
Here, with regard to the exhaust gas containing unreacted ethylene discharged from the top of the ethylene oxide absorber, by-product carbon dioxide and water, and further inert gases (nitrogen, argon, methane, ethane, etc.), ethylene oxidation is carried out as it is. Cycle through the process, or take out part of it,
It is a common practice to introduce to a carbon dioxide absorption tower to selectively absorb carbon dioxide with an alkaline absorbing solution and to diffuse and recover carbon dioxide from the absorbing solution.
一方、反応原料である分子状酸素含有ガスはアルゴンを含有しており、上述したように
エチレンオキシド吸収塔の塔頂部からの排出ガスをエチレン酸化工程または二酸化炭素吸
収工程に循環させるのみでは、プロセス循環ガス中にアルゴンが蓄積する。プロセス循環
ガス中にアルゴンが蓄積すると、反応系の圧力が上昇して一定圧力での運転ができなくな
る虞がある。また、プロセス循環ガス中のアルゴン濃度が高くなりすぎると、エチレン濃
度および酸素濃度の低下によりEO反応率が低下する虞もある。そこで、エチレンオキシ
ド吸収塔の塔頂部からの排出ガスの一部を抜き出してパージすること(アルゴンパージ)
が通常行われている。
On the other hand, the molecular oxygen-containing gas that is the reaction raw material contains argon, and as described above, the process circulation can be performed only by circulating the exhaust gas from the top of the ethylene oxide absorber into the ethylene oxidation step or the carbon dioxide absorption step. Argon builds up in the gas. Accumulation of argon in the process circulation gas may increase the pressure of the reaction system, making it impossible to operate at a constant pressure. In addition, when the argon concentration in the process recycle gas becomes too high, the ethylene concentration and the oxygen concentration may decrease to lower the EO reaction rate. Therefore, extracting and purging a part of the exhaust gas from the top of the ethylene oxide absorber (argon purge)
Is usually done.
上述したように、アルゴンパージされる吸収塔の塔頂部からの排出ガス(吸収塔排ガス
)はエチレンオキシドの製造原料であるエチレンを含んでおり、アルゴンパージによるエ
チレンロス分は、エチレン酸化反応器へ投入されるエチレン量の0.55%にも達する。
このため、アルゴンパージ量を削減することが求められている。
As described above, the exhaust gas (absorber exhaust gas) from the top of the absorber which is purged with argon contains ethylene which is a raw material for producing ethylene oxide, and the ethylene loss by argon purge is supplied to the ethylene oxidation reactor. Reaches 0.55% of the amount of ethylene
For this reason, it is required to reduce the argon purge amount.
本発明は、上述したような従来の状況に鑑みなされたものであり、エチレンオキシドの
製造プロセスにおけるアルゴンパージ量をよりいっそう削減することが可能な新規な技術
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the conventional situation as described above, and it is an object of the present invention to provide a novel technology capable of further reducing the amount of argon purge in the process of producing ethylene oxide.
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意研究を行った。その過程で、エチレン酸化反応器で
の接触気相酸化反応に用いるために系外から系内へ供給される分子状酸素含有ガスに含ま
れる微量の窒素やアルゴンのプロセスへの混入が、アルゴンパージ量増加の原因の一つと
なっていることを突き止めた。
The present inventors have intensively studied in view of the above-mentioned problems. In the process, mixing of trace amounts of nitrogen and argon contained in the molecular oxygen-containing gas supplied into the system from outside the system for use in catalytic gas phase oxidation reaction in the ethylene oxidation reactor causes argon purge It was found that it was one of the causes of the volume increase.
そして、上記分子状酸素含有ガスにおける分子状酸素(O2)の濃度を所定の値以上と
することで、上記分子状酸素含有ガスを由来とするプロセスへの窒素やアルゴンの混入を
抑制することができ、ひいてはアルゴンパージ量を削減することが可能となることを見出
し、本発明を完成させるに至った。
And by controlling the concentration of molecular oxygen (O 2 ) in the molecular oxygen-containing gas to a predetermined value or more, it is possible to suppress the mixing of nitrogen and argon into the process derived from the molecular oxygen-containing gas. As a result, it has been found that the amount of argon purge can be reduced, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明の一形態は、エチレンオキシドの製造方法に関する。当該製造方法は
、まず、エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガスにより接触気相酸化させる、エ
チレン酸化反応器でのエチレン酸化反応工程において生成したエチレンオキシドを含有す
る反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ供給し、前記エチレンオキシド吸収塔へ供給
された吸収液と接触させ、エチレンオキシドを含有する前記エチレンオキシド吸収塔の塔
底液をエチレンオキシド精製系へ供給し、前記エチレンオキシド精製系においてエチレン
オキシドを精製する工程を含む。また、当該製造方法は、前記エチレンオキシド吸収塔の
塔頂部から排出される炭酸ガス含有ガスの少なくとも一部を炭酸ガス吸収塔へ供給し、前
記炭酸ガス含有ガスを吸収液と接触させて得られる炭酸ガス濃厚吸収液を前記炭酸ガス吸
収塔の塔底液として抜き出して炭酸ガス放散塔の上部へ供給し、前記炭酸ガス濃厚吸収液
から炭酸ガスを放散させて前記炭酸ガス放散塔の塔頂部から排ガスとして排出させる工程
を含む。
That is, one aspect of the present invention relates to a method for producing ethylene oxide. In the production method, first, ethylene is absorbed by ethylene oxide in the ethylene oxidation reaction step in an ethylene oxidation reactor by catalytic gas phase oxidation of ethylene with a molecular oxygen-containing gas in the presence of a silver catalyst. A step of supplying to a column and contacting with the absorbing solution supplied to the ethylene oxide absorber, supplying a bottom liquid of the ethylene oxide absorber containing ethylene oxide to an ethylene oxide purification system, and purifying ethylene oxide in the ethylene oxide purification system Including. Moreover, the said manufacturing method supplies the carbon dioxide gas absorption column by supplying at least one part of the carbon dioxide gas containing gas discharged | emitted from the tower | column top part of the said ethylene oxide absorption column, and makes the said carbon dioxide gas containing gas contact an absorption liquid. The gas-rich absorbent is withdrawn as the bottom liquid of the carbon dioxide absorption column and supplied to the upper part of the carbon dioxide gas diffusion tower, carbon dioxide is diffused from the carbon dioxide-rich absorbent liquid, and the exhaust gas is discharged from the top of the carbon dioxide tower. Including the step of
そして、本形態に係るエチレンオキシドの製造方法では、系外から系内へ供給される前
記分子状酸素含有ガスにおける分子状酸素(O2)の濃度が99.7容量%以上である点
に特徴がある。
And, the method for producing ethylene oxide according to the present embodiment is characterized in that the concentration of molecular oxygen (O 2 ) in the molecular oxygen-containing gas supplied from the outside of the system into the system is 99.7% by volume or more. is there.
本発明によれば、エチレンオキシドの製造プロセスにおいて、系外から系内へ供給され
る分子状酸素含有ガスにおける分子状酸素(O2)の濃度を99.7容量%以上とするこ
とで、上記分子状酸素含有ガス由来の窒素やアルゴンのプロセスへの混入が抑制される。
その結果、エチレンオキシドの製造プロセスにおけるアルゴンパージ量を削減することが
可能となる。
According to the present invention, in the process of producing ethylene oxide, the concentration of molecular oxygen (O 2 ) in the molecular oxygen-containing gas supplied from the outside of the system to the inside of the system is 99.7% by volume or more. Contamination of nitrogen and argon derived from the gaseous oxygen-containing gas into the process is suppressed.
As a result, it is possible to reduce the amount of argon purge in the ethylene oxide production process.
以下、図面を参照しながら、本発明を実施するための具体的な形態について詳細に説明
するが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、
下記の形態のみには限定されない。
Hereinafter, specific modes for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings, but the technical scope of the present invention should be determined based on the description of the claims,
It is not limited only to the following forms.
≪反応系≫
まず、図1を参照しつつ、エチレンの酸化反応によってエチレンオキシドを製造する系
(以下、単に「反応系」とも称する)について説明する。図1は、本発明の一実施形態に
係るエチレンオキシドの製造方法を実施するプロセスの構成例を示すブロック図である。
図1に示すエチレンオキシドの製造プロセスは、大きく分けて反応系、炭酸ガス系、およ
び精製系の3つの系から構成されている。
«Reaction system»
First, a system for producing ethylene oxide by the oxidation reaction of ethylene (hereinafter, also simply referred to as a “reaction system”) will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a block diagram showing an example of the configuration of a process for carrying out the method for producing ethylene oxide according to an embodiment of the present invention.
The production process of ethylene oxide shown in FIG. 1 is roughly divided into three systems of a reaction system, a carbon dioxide gas system, and a purification system.
本発明で用いられる「エチレンオキシドを含有する反応生成ガス」は、エチレンを銀触
媒の存在下、分子状酸素含有ガスにより接触気相酸化させる工程(以下、「エチレン酸化
反応工程」とも称する)で生成したものであればよい。この接触気相酸化反応の技術自体
は広く知られたものであり、本発明の実施にあたっても、従来公知の知見が適宜参照され
うる。なお、反応生成ガスの組成等の具体的な形態に特に制限はない。一例として、反応
生成ガスは、通常0.5〜5容量%のエチレンオキシドの他、未反応酸素、未反応エチレ
ン、生成水、二酸化炭素、窒素、アルゴン、メタン、エタン等のガスに加えて、ホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒドのアルデヒド類、酢酸等の有機酸類を微量含有している。
The "ethylene oxide-containing reaction product gas" used in the present invention is produced in the step of catalytic gas phase oxidation of ethylene with a molecular oxygen-containing gas in the presence of a silver catalyst (hereinafter also referred to as "ethylene oxidation reaction step") What is necessary is just that. The technology itself of this catalytic gas phase oxidation reaction is widely known, and conventional knowledge can be appropriately referred to in the practice of the present invention. In addition, there is no restriction | limiting in particular in a concrete form, such as composition of reaction product gas. As an example, the reaction product gas is usually added to a gas such as unreacted oxygen, unreacted ethylene, produced water, carbon dioxide, nitrogen, argon, methane, ethane, etc. in addition to formaldehyde, in addition to 0.5 to 5% by volume ethylene oxide And a trace amount of organic acids such as aldehydes of acetaldehyde and acetic acid.
図1を参照すると、まず、エチレンや分子状酸素を含有する原料ガスは、昇圧ブロワ4
で昇圧された後、熱交換器(図示せず)で加熱されてエチレン酸化反応器1に供給される
。エチレン酸化反応器1は通常、銀触媒が充填された反応管を多数備えた多管式反応器で
ある。エチレン酸化反応工程で生成した反応生成ガスは、熱交換器(図示せず)を通過す
ることで冷却された後、エチレンオキシド吸収塔(以下、単に「吸収塔」とも称する)2
に供給される。具体的には、反応生成ガスは吸収塔2の塔底部から供給される。一方、吸
収塔2の塔頂部からは、水を主成分とする吸収液が供給される。これにより、吸収塔2の
内部において気液の向流接触が行われ、反応生成ガスに含まれるエチレンオキシド(通常
は99質量%以上)が吸収液に吸収される。また、エチレンオキシドの他にも、エチレン
、酸素、二酸化炭素、不活性ガス(窒素、アルゴン、メタン、エタン等)、並びにエチレ
ン酸化反応工程で生成したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒド、酢酸
等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸収される。なお、吸収塔2に供給される反応生
成ガスの温度は、好ましくは約20〜80℃である。また、吸収液の組成について特に制
限はなく、水を主成分とするもののほか、特開平8−127573号公報に開示されてい
るようなプロピレンカーボネートが吸収液として用いられてもよい。また、必要に応じて
、吸収液には添加剤が添加されうる。吸収液に添加されうる添加剤としては、例えば、消
泡剤やpH調整剤が挙げられる。消泡剤としては、エチレンオキシドおよび副生エチレン
グリコール等に対して不活性であり、吸収液の消泡効果を有するものであればいかなる消
泡剤も使用されうるが、代表的な例としては、水溶性シリコンエマルションが吸収液への
分散性、希釈安定性、熱安定性が優れているため、効果的である。また、pH調整剤とし
ては、例えば、カリウム、ナトリウムといったアルカリ金属の水酸化物や炭酸塩等の、吸
収液に溶解しうる化合物が挙げられ、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムが好ましい
。なお、吸収液のpHは、好ましくは5〜12であり、より好ましくは6〜11である。
Referring to FIG. 1, first, the raw material gas containing ethylene or molecular oxygen is supplied to the booster blower 4.
The pressure is increased by the pressure, and then heated by a heat exchanger (not shown) to be supplied to the ethylene oxidation reactor 1. The ethylene oxidation reactor 1 is usually a multi-tubular reactor provided with a large number of reaction tubes filled with a silver catalyst. The reaction product gas produced in the ethylene oxidation reaction step is cooled by passing through a heat exchanger (not shown), and then an ethylene oxide absorber (hereinafter simply referred to as "absorbent tower") 2
Supplied to Specifically, the reaction product gas is supplied from the bottom of the absorber 2. On the other hand, from the top of the absorption tower 2, an absorption liquid containing water as a main component is supplied. Thereby, countercurrent contact of gas and liquid is performed in the inside of absorption tower 2, and ethylene oxide (usually 99 mass% or more) contained in reaction product gas is absorbed by absorption liquid. In addition to ethylene oxide, ethylene, oxygen, carbon dioxide, inert gases (nitrogen, argon, methane, ethane, etc.), low boiling impurities such as formaldehyde produced in the ethylene oxidation reaction step, acetaldehyde, acetic acid, etc. A substantial amount of boiling impurities is also absorbed at the same time. The temperature of the reaction product gas supplied to the absorption tower 2 is preferably about 20 to 80 ° C. The composition of the absorbing solution is not particularly limited, and in addition to one containing water as a main component, propylene carbonate as disclosed in JP-A-8-127573 may be used as the absorbing solution. Also, if necessary, additives may be added to the absorbing solution. As an additive which may be added to absorption liquid, an antifoamer and a pH adjuster are mentioned, for example. As the antifoaming agent, any antifoaming agent may be used as long as it is inert to ethylene oxide and by-product ethylene glycol etc. and has the defoaming effect of the absorbing liquid, but as a representative example, The water-soluble silicone emulsion is effective because it is excellent in the dispersibility in the absorbing liquid, the dilution stability, and the thermal stability. Moreover, as a pH adjuster, the compound which can melt | dissolve in absorption liquid, such as hydroxide and carbonate of alkali metals, such as potassium and sodium, is mentioned, for example, and potassium hydroxide or sodium hydroxide is preferable. The pH of the absorbing solution is preferably 5 to 12, more preferably 6 to 11.
吸収塔2としては、通常、棚段塔形式または充填塔形式の吸収塔が用いられうる。吸収
塔2の操作条件としては、反応生成ガス中のエチレンオキシド濃度が0.5〜5容量%、
好ましくは1.0〜4容量%であり、吸収塔2の操作圧は0.2〜4.0MPa gau
ge、好ましくは1.0〜3.0MPa gaugeである。吸収操作は、高圧ほど有利
であるが、そのとりうる値は酸化反応器の運転圧力に応じて決定されうる。また、反応生
成ガスに対する吸収液のモル流量比(L/V)は、通常0.30〜2.00である。また
、反応生成ガスの標準状態における空間線速度(GHSV[NTP])は、通常400〜
6000h−1である。
As the absorption tower 2, a tray type or packed tower type absorption tower can usually be used. As the operating conditions of the absorption tower 2, the ethylene oxide concentration in the reaction product gas is 0.5 to 5% by volume,
Preferably, it is 1.0 to 4% by volume, and the operating pressure of the absorption tower 2 is 0.2 to 4.0 MPa gau
It is ge, preferably 1.0 to 3.0 MPa gauge. The absorption operation is more advantageous as the pressure is higher, but the possible value can be determined according to the operating pressure of the oxidation reactor. The molar flow ratio (L / V) of the absorbing solution to the reaction product gas is usually 0.30 to 2.00. In addition, the space linear velocity (GHSV [NTP]) in the standard state of the reaction product gas is usually 400 to
It is 6000 h −1 .
吸収塔2において吸収されなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス(窒素、
アルゴン、メタン、エタン)、アルデヒド、酸性物質等を含有するガスは、吸収塔2の塔
頂部から導管3を通じて排出される。そして、この排出ガスは、昇圧ブロワ4によって圧
力を高められた後、導管5を通じてエチレン酸化反応器1へと循環される。なお、エチレ
ン酸化反応工程の詳細については上述したとおりである。ここで、エチレン酸化反応工程
は通常、銀触媒が充填された反応管を多数備えた酸化反応器中で、加圧(1.0〜3.0
MPa gauge程度の圧力)条件下にて行われる。このため、吸収塔2の塔頂部から
の排出ガスをエチレン酸化反応工程へと循環する前に、昇圧ブロワ4等の昇圧手段を用い
て昇圧する必要があるのである。
Ethylene, oxygen, carbon dioxide, inert gas (nitrogen, not absorbed in the absorption tower 2
A gas containing argon, methane, ethane), an aldehyde, an acidic substance and the like is discharged from the top of the absorber 2 through a conduit 3. Then, the exhaust gas is pressurized by the pressure raising blower 4 and then circulated to the ethylene oxidation reactor 1 through the conduit 5. The details of the ethylene oxidation reaction step are as described above. Here, the ethylene oxidation reaction step is usually carried out under pressure (1.0 to 3.0) in an oxidation reactor equipped with a large number of reaction tubes filled with a silver catalyst.
It is carried out under the conditions of pressure (about MPa gauge). For this reason, before circulating the exhaust gas from the top of the absorption tower 2 to the ethylene oxidation reaction step, it is necessary to increase the pressure using a pressurizing means such as the pressurizing blower 4 or the like.
本発明では、系外から系内へ供給される分子状酸素含有ガスにおける分子状酸素(O2
)の濃度が99.7容量%以上である点に特徴がある。ここで、「系外から系内へ供給さ
れる分子状酸素含有ガス」とは、吸収塔2の塔頂部と昇圧ブロワ4とを繋ぐ導管3に供給
される分子状酸素含有ガス(図1に「O2」として示すもの)を意味する。
In the present invention, molecular oxygen (O 2) in a molecular oxygen-containing gas supplied from the outside of the system into the system is
Is characterized by having a concentration of 99.7% by volume or more. Here, “molecular oxygen-containing gas supplied from outside the system into the system” refers to molecular oxygen-containing gas supplied to the conduit 3 connecting the top of the absorption tower 2 and the booster blower 4 (see FIG. 1). Mean “as shown as“ O 2 ”.
上述したように、本発明者らは、エチレンオキシドの製造プロセスにおけるアルゴンパ
ージ量の削減を目指す過程で、エチレン酸化反応器での接触気相酸化反応に用いるために
系外から系内へ供給される分子状酸素含有ガスに含まれる微量の窒素やアルゴンのプロセ
スへの混入が、アルゴンパージ量増加の原因の一つとなっていることを突き止めた。そし
て、上記分子状酸素含有ガスにおける分子状酸素(O2)の濃度を所定の値以上とするこ
とで、上記分子状酸素含有ガスを由来とするプロセスへの窒素やアルゴンの混入を抑制す
ることができ、ひいてはアルゴンパージ量を削減することが可能となることを見出し、本
発明を完成させるに至ったのである。
As described above, in the process of aiming to reduce the amount of argon purge in the process of producing ethylene oxide, the present inventors are supplied from the outside of the system into the system for use in the catalytic gas phase oxidation reaction in the ethylene oxidation reactor. It has been found that the incorporation of trace amounts of nitrogen and argon contained in the molecular oxygen-containing gas into the process is one of the causes of the increase in the amount of argon purge. And by controlling the concentration of molecular oxygen (O 2 ) in the molecular oxygen-containing gas to a predetermined value or more, it is possible to suppress the mixing of nitrogen and argon into the process derived from the molecular oxygen-containing gas. It has been found that it is possible to reduce the amount of argon purge, and to complete the present invention.
なお、本発明において、系内へ供給される分子状酸素含有ガスにおける分子状酸素(O
2)の濃度は99.7容量%以上であることが必要であるが、このように高濃度のO2を
含有する分子状酸素含有ガスを得るための具体的な手法について特に制限はない。例えば
、深冷分離式やPSA方式といった手法により、上述したような高濃度の分子状酸素含有
ガスを得ることが可能である。
In the present invention, molecular oxygen (O 2) in the molecular oxygen-containing gas supplied into the system
The concentration of 2 ) needs to be 99.7% by volume or more, but there is no particular limitation on the specific method for obtaining the molecular oxygen-containing gas containing such a high concentration of O 2 . For example, it is possible to obtain the above-described high concentration molecular oxygen-containing gas by a technique such as a cryogenic separation method or a PSA method.
また、本発明者らは、上記とは別の観点からもアルゴンパージ量の削減について検討を
進めたところ、エチレン酸化反応器に供給される原料ガスを昇圧するための昇圧ブロワの
軸封装置(いわゆる軸シール)からプロセスへの窒素の混入もまた、アルゴンパージ量増
加の原因の一つとなっていることを突き止めた。そして、上記昇圧ブロワとして、軸封装
置のシール方式がドライガスシール方式である遠心圧縮機を採用することによっても、上
記昇圧ブロワからプロセスへの窒素の混入を抑制することができることを見出した。
The inventors of the present invention also studied reduction of the argon purge amount from the viewpoint different from the above, and the shaft seal device of the pressure-boosting blower for pressurizing the source gas supplied to the ethylene oxidation reactor ( It was also found that the incorporation of nitrogen from the so-called shaft seal) into the process was also one of the causes of the increased argon purge amount. And it discovered that mixing of nitrogen to the process from the said pressure rising blower could be suppressed also by employ | adopting the centrifugal compressor whose sealing system of a shaft sealing apparatus is a dry gas sealing system as said pressure rising blower.
ドライガスシール方式は、垂直端面の狭いシール部で回転によりガス圧を発生させ、ガ
ス膜により非接触として(隙間は数ミクロンのレベル)、極小のガス漏れを発生させなが
らシールの機能を発揮するものである。なお、軸封装置としてドライガスシールを備えた
遠心圧縮機そのものは公知の技術に属するものであり、これに関する文献も多数存在して
いる。
The dry gas seal system generates gas pressure by rotation at the narrow seal portion of the vertical end face, and makes the gas film non-contact (the gap is a few microns level) and exerts the function of the seal while generating a minimal gas leak It is a thing. In addition, the centrifugal compressor itself provided with a dry gas seal as a shaft seal device belongs to a well-known technology, and a large number of documents regarding this also exist.
ここで、上記知見に基づいて本発明者らが検討したところによれば、理論上、分子状酸
素(O2)の濃度が99.7容量%以上の分子状酸素含有ガスを用い、かつ、昇圧ブロワ
として上記所定の遠心圧縮機を用いれば、アルゴンパージが不要となるものと考えられた
。このため、上述した2つの技術を併用し、かつ、アルゴンパージを行うことなくエチレ
ンオキシドの製造プロセスを実施してみたところ、驚くべきことに、アルゴンパージによ
ってのみ系外へと排出されると考えられていたプロセス中の窒素の量が経時的に有意に減
少していくという現象が観察された。このように、プロセス中の窒素の量が経時的に有意
に減少してしまうと、エチレン酸化反応器に供給される原料ガスの物質収支に不均衡が生
じ、具体的には反応系内の運転圧力が低下するという問題が新たに発生することとなる。
このため、上述した2つの技術を併用し、かつ、アルゴンパージを行うことなくエチレン
オキシドの製造プロセスを実施するにあたっては、分子状酸素含有ガスとともに不活性ガ
ス(窒素、アルゴンなど(好ましくは窒素))を系内に供給しながら行うことが好ましい
ことを見出したのである(実施例2を参照)。
Here, according to the study by the present inventors based on the above findings, theoretically, a molecular oxygen-containing gas having a concentration of molecular oxygen (O 2 ) of 99.7% by volume or more is used, and It was thought that argon purge would be unnecessary if the above-mentioned predetermined centrifugal compressor was used as a pressure rising blower. For this reason, when the process of producing ethylene oxide was carried out using the above two techniques in combination and without performing the argon purge, it is surprisingly considered that only the argon purge can be discharged out of the system. A phenomenon was observed that the amount of nitrogen during the process was significantly reduced over time. As described above, if the amount of nitrogen in the process is significantly reduced with time, an imbalance occurs in the mass balance of the raw material gas supplied to the ethylene oxidation reactor, specifically, the operation in the reaction system. There is a new problem that the pressure decreases.
Therefore, when carrying out the process for producing ethylene oxide without using the above two techniques in combination and without performing the argon purge, an inert gas (nitrogen, argon, etc. (preferably nitrogen, etc.) with a molecular oxygen-containing gas) It has been found that it is preferable to carry out the reaction while feeding it into the system (see Example 2).
≪炭酸ガス系≫
図1に示すように、吸収塔2の塔頂部から排出されるガス(炭酸ガス含有ガス)の少な
くとも一部は、昇圧ブロワ4等の昇圧手段により昇圧され、導管6を通じて炭酸ガス吸収
塔7へ供給される。以下、図1を参照しつつ、炭酸ガス吸収塔7へのガスの導入に始まる
炭酸ガス回収系(以下、単に「炭酸ガス系」とも称する)について説明する。
«Carbon dioxide system»
As shown in FIG. 1, at least a portion of the gas (carbon dioxide gas-containing gas) discharged from the top of the absorption tower 2 is boosted by the pressurizing means such as the pressure-boosting blower 4 and the like to the carbon dioxide absorption tower 7 through the conduit 6. Supplied. Hereinafter, a carbon dioxide gas recovery system (hereinafter, also simply referred to as “carbon dioxide gas system”) starting with the introduction of gas to the carbon dioxide gas absorption tower 7 will be described with reference to FIG. 1.
上述したように吸収塔2の塔頂部から排出されるガスが加圧されて(導管6を通じて)
炭酸ガス吸収塔7へ導入される場合、その際のガス圧力は0.5〜4.0MPa gau
ge程度に調節され、ガス温度は80〜120℃程度に調節される。炭酸ガス吸収塔7の
後段には炭酸ガス放散塔8が設置されており、この炭酸ガス放散塔8の塔底部からはアル
カリ性吸収液が炭酸ガス吸収塔7の上部へ供給される。そして、このアルカリ性吸収液と
の向流接触により、炭酸ガス吸収塔7へ導入されたガスに含まれる炭酸ガスや、少量の不
活性ガス(例えば、エチレン、メタン、エタン、酸素、窒素、アルゴン等)が吸収される
。炭酸ガス吸収塔7の塔頂部から排出される未吸収ガスは導管3へ循環され、新たに補充
される酸素、エチレン、メタン等と混合された後、エチレン酸化反応器1へ循環される。
As described above, the gas discharged from the top of the absorption tower 2 is pressurized (through the conduit 6)
When introduced into the carbon dioxide absorption tower 7, the gas pressure at that time is 0.5 to 4.0 MPa gau
The gas temperature is adjusted to about 80 to 120 ° C. The carbon dioxide gas diffusion tower 8 is installed at the rear stage of the carbon dioxide gas absorption tower 7, and the alkaline absorbing liquid is supplied from the bottom of the carbon dioxide gas diffusion tower 8 to the upper portion of the carbon dioxide gas absorption tower 7. Then, carbon dioxide gas contained in the gas introduced into the carbon dioxide gas absorption column 7 in a countercurrent contact with the alkaline absorbing liquid, a small amount of inert gas (eg, ethylene, methane, ethane, oxygen, nitrogen, argon, etc.) ) Is absorbed. The unabsorbed gas discharged from the top of the carbon dioxide absorber 7 is recycled to the conduit 3 and mixed with oxygen, ethylene, methane and the like to be newly replenished, and then recycled to the ethylene oxidation reactor 1.
炭酸ガス吸収塔7において炭酸ガスを吸収した炭酸ガス濃厚吸収液は、炭酸ガス吸収塔
の塔底部から抜き出された後、圧力0.01〜0.5MPa gauge、温度80〜1
20℃程度に調節され、塔底部にリボイラー9を備えた炭酸ガス放散塔8の上部に供給さ
れる。炭酸ガス放散塔8の上部の供液部において吸収液は、炭酸ガス吸収塔7と炭酸ガス
放散塔8との圧力差によって圧力フラッシュを起こす。これにより、吸収液中の10〜8
0容量%の炭酸ガスおよび大部分の不活性ガスは吸収液から分離され、炭酸ガス放散塔8
の塔頂部から排ガスとして排出される。本実施形態においては、図1に示すように、この
排ガスの排熱を精製系におけるエチレンオキシド精製塔の熱源として利用することが好ま
しい(この詳細については後述する)。ここで、炭酸ガス放散塔8のリボイラー9への投
入蒸気量を削減するという観点からは、炭酸ガス放散塔8の運転圧力は小さいほど好まし
い。具体的には、炭酸ガス放散塔8の運転圧力は、好ましくは0〜0.1MPa gau
geであり、より好ましくは0.01〜0.015MPa gaugeである。
The carbon dioxide-rich absorbent which has absorbed carbon dioxide gas in the carbon dioxide absorption column 7 is withdrawn from the bottom of the carbon dioxide absorption column, and then the pressure 0.01 to 0.5 MPa gauge, temperature 80 to 1
The temperature is adjusted to about 20 ° C., and is supplied to the top of the carbon dioxide gas stripping tower 8 equipped with a reboiler 9 at the bottom. In the liquid supply section at the upper part of the carbon dioxide gas diffusion tower 8, the absorbing liquid causes a pressure flash due to the pressure difference between the carbon dioxide gas absorption tower 7 and the carbon dioxide gas diffusion tower 8. Thereby, 10 to 8 in the absorbing solution
0% by volume of carbon dioxide gas and most of the inert gas are separated from the absorption liquid, and carbon dioxide gas stripping tower 8
It is discharged as exhaust gas from the top of the tower. In the present embodiment, as shown in FIG. 1, it is preferable to use the exhaust heat of the exhaust gas as a heat source of the ethylene oxide purification tower in the purification system (this will be described later in detail). Here, from the viewpoint of reducing the amount of steam supplied to the reboiler 9 of the carbon dioxide gas diffusion tower 8, the smaller the operating pressure of the carbon dioxide gas diffusion tower 8, the better. Specifically, the operating pressure of the carbon dioxide gas diffusion tower 8 is preferably 0 to 0.1 MPa gau
ge, more preferably 0.01 to 0.015 MPa gauge.
なお、上述した圧力フラッシュにより炭酸ガスの一部を分離された残りの炭酸ガス吸収
液は、供液部の下方に設けられた気液接触部10に入り、リボイラー9より発生した蒸気
および気液接触部10以下の部分から発生した炭酸ガスを主とするガスと向流接触して吸
収液中の炭酸ガスの一部およびその他の不活性ガスの大部分が吸収液から分離される。炭
酸ガス系におけるこれら一連のプロセスにより、気液接触部10の最上部から下方、好ま
しくは気液接触に必要な一理論段数以上に相当する気液接触部10の下部の炭酸ガス放散
塔8の内部から、高純度の炭酸ガスが得られる。すなわち、気液接触部10で炭酸ガス吸
収液中の不活性ガスは、下部から上昇してくるごく微量の不活性ガスを含む炭酸ガスと水
蒸気とによって向流気液接触を起こして放散され、これにより不活性ガスの濃度は極めて
低くなる。したがって、この放散後のガスを取り出せば高純度の炭酸ガスが得られる。
The remaining carbon dioxide-absorbing liquid from which part of carbon dioxide gas has been separated by the above-described pressure flash enters the gas-liquid contact unit 10 provided below the liquid supply unit, and the vapor and gas-liquid generated from the reboiler 9 In a countercurrent contact with a gas mainly composed of carbon dioxide gas generated from the portion below the contact portion 10, a part of carbon dioxide gas in the absorbing solution and most of the other inert gases are separated from the absorbing solution. From the top of the gas-liquid contact portion 10 by the series of processes in the carbon dioxide gas system, preferably the carbon dioxide gas diffusion tower 8 in the lower portion of the gas-liquid contact portion 10 corresponds to one theoretical plate number or more required for gas-liquid contact. From the inside, carbon dioxide of high purity is obtained. That is, the inert gas in the carbon dioxide absorbing liquid at the gas-liquid contact portion 10 is dissipated by causing a countercurrent gas-liquid contact with the carbon dioxide gas containing a very small amount of inert gas rising from the lower part and water vapor, This makes the concentration of inert gas extremely low. Therefore, carbon dioxide gas with high purity can be obtained by taking out the released gas.
≪精製系≫
吸収塔2においてエチレンオキシドを吸収した吸収液は、当該吸収塔2の塔底液として
、エチレンオキシド精製系(以下、単に「精製系」とも称する)へと送られる。精製系の
具体的な形態について特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。一例として
、精製系は通常、放散工程、脱水工程、軽質分分離工程、重質分分離(精製)工程などか
らなっている。以下、図2および図3を参照しつつ、これらのうちのいくつかの工程から
なる精製系について説明する。図2は、本発明の一実施形態に係るエチレンオキシドの製
造プロセスを実施するためのプロセスの構成例を示すブロック図である。
«Purification system»
The absorption liquid which absorbed ethylene oxide in the absorption tower 2 is sent to an ethylene oxide purification system (hereinafter, also simply referred to as "purification system") as the bottom liquid of the absorption tower 2. There is no restriction | limiting in particular about the specific form of a refinement | purification system, The conventionally well-known knowledge may be referred suitably. As an example, the purification system usually comprises a diffusion step, a dehydration step, a light separation step, a heavy separation (purification) step and the like. Hereinafter, a purification system consisting of several of these steps will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG. 2 is a block diagram showing an exemplary configuration of a process for carrying out a process for producing ethylene oxide according to an embodiment of the present invention.
吸収塔2の塔底液(吸収液)は、エチレンオキシド放散塔(以下、単に「放散塔」とも
称する)11へ供給される前に、通常は放散塔11における放散に適した温度にまで予め
加熱される。具体的には、図2に示すように、吸収塔2の塔底液(吸収液)は導管12を
通じて熱交換器13へ供給される。そして、この熱交換器13において、放散塔11の塔
底液との間での熱交換が行われ、さらに必要であれば加熱器14によって加熱され、吸収
塔2の塔底液(吸収液)は70〜110℃程度の温度まで加熱される。本実施形態におい
て、放散塔11の塔底液との熱交換によって加熱された吸収塔2の塔底液(吸収液)は、
導管15を通じて気液分離タンク16に供給される。気液分離タンク16においては、一
部エチレンオキシド及び水を含む不活性ガスの軽質ガスが分離されて導管17を通じて排
出され、エチレンオキシド再吸収塔(図示せず)へ供給される。一方、軽質分ガスをフラ
ッシュした残部の吸収液は、導管18を通じて放散塔11の上部へ供給される。なお、導
管18のように特に高温条件下でエチレンオキシドが水と共存する部位については、その
配設距離を可能な限り短くするように配慮することで、吸収液の滞留時間を短くすること
ができ、その結果、エチレングリコールの副生の防止に資することができる。
The bottom liquid (absorption liquid) of the absorption tower 2 is usually preheated to a temperature suitable for the emission in the separation tower 11 before being supplied to the ethylene oxide separation tower (hereinafter, also simply referred to as “the separation tower”) 11 Be done. Specifically, as shown in FIG. 2, the bottom liquid (absorbent liquid) of the absorber 2 is supplied to the heat exchanger 13 through the conduit 12. Then, in this heat exchanger 13, heat exchange is performed with the bottom liquid of the diffusion tower 11, and if necessary, it is heated by the heater 14, and the bottom liquid (absorption liquid) of the absorption tower 2 Is heated to a temperature of about 70 to 110.degree. In the present embodiment, the bottom liquid (absorption liquid) of the absorption tower 2 heated by heat exchange with the bottom liquid of the diffusion tower 11 is
The gas-liquid separation tank 16 is supplied through the conduit 15. In the gas-liquid separation tank 16, the light gas of the inert gas including a part of ethylene oxide and water is separated, discharged through the conduit 17, and supplied to the ethylene oxide reabsorption tower (not shown). On the other hand, the remaining absorption liquid that has flashed the light gas is supplied to the top of the diffusion tower 11 through the conduit 18. The residence time of the absorbing liquid can be shortened by considering as short as possible the arrangement distance of the portion where ethylene oxide coexists with water particularly under high temperature conditions as in the case of the conduit 18 As a result, it can contribute to the prevention of by-production of ethylene glycol.
続いて、例えば、図2に示すように水蒸気等の加熱媒体をリボイラー19へ供給し、当
該リボイラー19において加熱された加熱媒体を用いて放散塔11を加熱するか、または
、放散塔11の塔底部へ直接水蒸気を供給することによって放散塔11を加熱する。この
ようにして放散塔11が加熱されることによって、放散塔11の上部から供給された吸収
液に含まれるエチレンオキシド(通常はその99質量%以上)が放散し、放散塔11の塔
頂部から導管20を経て排出される。なお、放散塔11の操作条件は、塔頂圧力が通常0
.01〜0.20MPa gauge、好ましくは0.03〜0.06MPa gaug
eである。塔頂圧力は小さいほど塔内の温度が低下し、その結果として塔内におけるエチ
レンオキシドからのエチレングリコールの副生が抑制される傾向がある。しかしながら、
エチレンオキシドは比較的着火しやすい物質であるため、系内への酸素の漏れ込みを防止
するという観点から、大気圧以下での運転は通常行われず、上述したように大気圧よりも
やや大きい圧力で運転される。なお、放散塔11の温度条件としては、塔頂温度は通常8
5〜120℃であり、塔底温度は通常100〜130℃である。
Subsequently, for example, as shown in FIG. 2, a heating medium such as water vapor is supplied to the reboiler 19 and the diffusion tower 11 is heated using the heating medium heated in the reboiler 19 or the tower of the diffusion tower 11 The diffusion tower 11 is heated by supplying steam directly to the bottom. By heating the diffusion tower 11 in this manner, ethylene oxide (usually 99% by mass or more) contained in the absorbing liquid supplied from the top of the diffusion tower 11 is dissipated, and the conduit from the top of the diffusion tower 11 Exhausted after 20 hours. In addition, the operating condition of the stripping tower 11 is that the overhead pressure is usually 0
. 01 to 0.20MPa gauge, preferably 0.03 to 0.06MPa gaug
e. The lower the pressure at the top of the column, the lower the temperature in the column, and as a result, there is a tendency that by-production of ethylene glycol from ethylene oxide in the column is suppressed. However,
Since ethylene oxide is a relatively easily ignited substance, from the viewpoint of preventing the leakage of oxygen into the system, the operation below the atmospheric pressure is not usually performed, and as described above, at a pressure slightly higher than the atmospheric pressure It is driven. The temperature at the top of the stripping tower 11 is usually 8 at the top.
The temperature is 5 to 120 ° C., and the bottom temperature is usually 100 to 130 ° C.
エチレンオキシドが放散された後の残部の吸収液は、図2に示すように、放散塔11の
塔底液として抜き出され、吸収塔2における吸収液として吸収塔2の上部へ供給され、循
環使用されうる。ただし、吸収液の組成を調節する目的で、別途設けた導管を通じて、新
鮮な水や、必要に応じて上述した添加剤を吸収塔2へと供給してもよい。また、吸収塔2
へ供給される吸収液中のエチレングリコール濃度を一定に保持することが好ましい。この
ため、吸収塔2と放散塔11との間を循環する吸収液の一部は放散塔11の塔底部から抜
き出される。ここで、放散塔11の塔底液はエチレンオキシドを実質的に含まない。具体
的には、当該塔底液中に含まれるエチレンオキシドの濃度は、好ましくは10質量ppm
以下であり、より好ましくは0.5質量ppm以下である。この塔底液は、エチレン酸化
反応工程とエチレンオキシド放散工程との間で吸収液中に副生したエチレングリコールを
含有しており、その一部は、導管21および導管22を通じて抜き出される。導管22を
通じて抜き出された液は、燃焼処理に供されるか、または、含有するエチレングリコール
を濃縮して回収するためのエチレングリコール濃縮工程に供給される。さらに、場合によ
っては、抜き出された液に含まれるエチレングリコールをそのまま、またはエチレングリ
コール濃縮工程を経た後に、特公昭45−9926号公報や特公平4−28247号公報
等に開示されているような化学的処理のほか、場合によっては物理的処理を施すことによ
って、繊維グレード製品として回収することも可能である。なお、放散塔11の塔底液は
、ホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドおよび酢酸等の高沸点不純物を
も含有していることから、上述したようにその一部を系外に抜き出すことで、吸収塔2に
循環される吸収液中へのこれらの不純物の蓄積を防止することができるという利点も得ら
れる。一方、導管22を通じて抜き出されなかった放散塔の塔底液は、熱交換器13を通
過することで吸収塔2の塔底液との熱交換により冷却されて、吸収塔2の塔頂部へと循環
される。
The remaining absorption liquid after ethylene oxide is released is extracted as the bottom liquid of the separation tower 11 as shown in FIG. 2, and is supplied to the upper part of the absorption tower 2 as the absorption liquid in the absorption tower 2, and is circulated and used It can be done. However, in order to adjust the composition of the absorbing solution, fresh water and, if necessary, the additives described above may be supplied to the absorber 2 through a separately provided conduit. In addition, absorption tower 2
It is preferable to keep the concentration of ethylene glycol in the absorbing solution to be supplied constant. For this reason, a part of the absorption liquid circulating between the absorption tower 2 and the stripping tower 11 is extracted from the bottom of the stripping tower 11. Here, the bottom liquid of the stripping tower 11 contains substantially no ethylene oxide. Specifically, the concentration of ethylene oxide contained in the bottom solution is preferably 10 ppm by mass
Or less, more preferably 0.5 mass ppm or less. The bottom liquid contains ethylene glycol by-produced in the absorbing liquid between the ethylene oxidation reaction step and the ethylene oxide releasing step, and a portion thereof is withdrawn through the conduit 21 and the conduit 22. The liquid withdrawn through the conduit 22 is subjected to a combustion process or supplied to an ethylene glycol concentration step for concentrating and recovering the ethylene glycol contained therein. Furthermore, depending on the case, ethylene glycol contained in the extracted solution is as it is or after being subjected to an ethylene glycol concentration step, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 45-9926 or Japanese Patent Publication No. 4-28247. In addition to chemical treatments, it is also possible to recover as a fiber grade product by applying physical treatments in some cases. In addition, since the bottom liquid of the diffusion tower 11 also contains low boiling impurities such as formaldehyde and high boiling impurities such as acetaldehyde and acetic acid, part of the bottom liquid is extracted outside the system as described above. The advantage is also obtained that the accumulation of these impurities in the absorption liquid circulated to the absorption tower 2 can be prevented. On the other hand, the bottom of the stripping tower which has not been withdrawn through the conduit 22 is cooled by heat exchange with the bottom of the absorber 2 by passing through the heat exchanger 13, to the top of the absorber 2. It is circulated with.
放散塔11の塔頂部から放散された、エチレンオキシドを含む放散物は、導管20を通
じて、導管23および導管24に冷却水が通る放散塔凝縮器25へ送り、凝縮液は導管2
6を通じて放散塔11の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管27を通じて脱水塔28(図
3)へ供給される。
The ethylene oxide-laden emissions that are dissipated from the top of the stripping tower 11 are sent through the conduit 20 to the stripping tower condenser 25 where the cooling water passes through the conduit 23 and the conduit 24, and the condensate is discharged from the conduit 2.
6 to the top of the stripping tower 11, and the uncondensed vapor is supplied to the dewatering tower 28 (FIG. 3) through the conduit 27.
脱水塔28に供給されたエチレンオキシドを含む蒸気は、導管29を通して還流される
液と接触してよりエチレンオキシド濃度の高い蒸気となり、塔底から抜き出されるエチレ
ンオキシド濃度の低い液は導管を通して放散塔凝縮器25へ送られる。
The ethylene oxide-containing vapor supplied to the dewatering tower 28 comes in contact with the liquid to be refluxed through the conduit 29 to become a higher ethylene oxide concentration vapor, and the liquid with low ethylene oxide concentration withdrawn from the bottom is the stripping condenser through the conduit Sent to 25
脱水塔28の塔頂部から排出された、エチレンオキシドを含む蒸気は、導管30を通じ
て、導管31および導管32に冷却水が通る脱水塔凝縮器33へ送られ、凝縮液の一部は
導管29を通して脱水塔28の塔頂部へ還流し、脱水塔凝縮器33の未凝縮蒸気(エチレ
ンオキシド含有未凝縮ガス)は導管34を通してエチレンオキシド再吸収塔(図示せず)
へ供給される。エチレンオキシド再吸収塔では、上述した吸収塔2と同様に、吸収液との
向流接触によってエチレンオキシドが再吸収される。ここで、再吸収塔においてエチレン
オキシドの再吸収に用いられる吸収液の組成やpH、再吸収塔の形態(棚段塔形式または
充填塔形式)や操作条件などについては、吸収塔2について上述したのと同様である。な
お、エチレンオキシド再吸収塔の塔底液は、上述した吸収塔2の塔底液と同様に精製系(
本実施形態では、具体的には放散塔11)へと循環される。一方、エチレンオキシド再吸
収塔において吸収されなかった未凝縮ガスは塔頂部から排出される。エチレンオキシド再
吸収塔から排出された未凝縮ガスは、加圧手段によって圧力を高めた後に、吸収塔2また
は炭酸ガス吸収塔7に循環される(図1に示す実施形態では、図示していないが、吸収塔
2へと循環されている)。ただし、好ましくは、この未凝縮ガスは炭酸ガス吸収塔7へ循
環される。この未凝縮ガスには炭酸ガスが多く(通常は5〜60体積%程度)含まれてい
ることから、かような構成とすることで、吸収塔2から炭酸ガス吸収塔7に供給されるガ
ス中の炭酸ガス濃度を増加させることができる。その結果、炭酸ガス吸収塔7に供給され
るガス中の炭酸ガス量の増加に起因する問題の発生が防止され、エチレンオキシドの製造
プロセスからの炭酸ガスの回収をより効率的に行うことができる。より具体的には、炭酸
ガス放散塔8のリボイラー9に投入する蒸気量の削減、炭酸ガス吸収促進剤の投入量の削
減、吸収塔2から炭酸ガス吸収塔7に送られるガス風量の低減による昇圧ブロア動力の低
減、炭酸ガス吸収塔7の設備の小型化、エチレン酸化反応器1入口の炭酸ガス濃度の低減
によるエチレンオキシドの収率向上、の少なくとも1つの工業的にきわめて有利な効果が
得られる。
The ethylene oxide-containing vapor discharged from the top of the dewatering tower 28 is sent to the dewatering tower condenser 33 through which the cooling water passes through the conduit 30 and the conduit 31 and the conduit 32, and a part of the condensate is dewatered through the conduit 29. Reflux to the top of the column 28 and uncondensed vapor (deoxidized gas containing ethylene oxide) of the dehydrating column condenser 33 passes through the conduit 34 and an ethylene oxide reabsorption column (not shown)
Supplied to In the ethylene oxide reabsorption tower, ethylene oxide is resorbed by the countercurrent contact with the absorbing liquid as in the absorption tower 2 described above. Here, with regard to the composition and pH of the absorbent used for the reabsorption of ethylene oxide in the reabsorption tower, the form of the reabsorption tower (plate column type or packed column type), the operating conditions, etc. Is the same as The bottom liquid of the ethylene oxide reabsorption column is a purification system (the same as the bottom liquid of absorption column 2 described above)
Specifically, in the present embodiment, the gas is circulated to the stripping tower 11). On the other hand, uncondensed gas that has not been absorbed in the ethylene oxide reabsorption column is discharged from the top of the column. The uncondensed gas discharged from the ethylene oxide reabsorption column is circulated to the absorption column 2 or the carbon dioxide gas absorption column 7 after the pressure is increased by the pressurizing means (not shown in the embodiment shown in FIG. 1). , To the absorption tower 2). However, preferably, the uncondensed gas is circulated to the carbon dioxide gas absorption tower 7. Since the non-condensed gas contains a large amount of carbon dioxide gas (usually about 5 to 60% by volume), the gas supplied from the absorption tower 2 to the carbon dioxide gas absorption tower 7 with such a configuration It is possible to increase the concentration of carbon dioxide in the medium. As a result, the occurrence of a problem caused by the increase in the amount of carbon dioxide in the gas supplied to the carbon dioxide absorption tower 7 can be prevented, and the carbon dioxide can be recovered more efficiently from the ethylene oxide production process. More specifically, by reducing the amount of steam input to the reboiler 9 of the carbon dioxide gas diffusion tower 8, reducing the input amount of carbon dioxide absorption promoter, and reducing the gas volume sent from the absorption tower 2 to the carbon dioxide absorption tower 7. At least one industrially very advantageous effect is obtained: reduction of power of boost blower, miniaturization of equipment of carbon dioxide gas absorption column 7, improvement of ethylene oxide yield by reduction of carbon dioxide concentration at the inlet of ethylene oxidation reactor 1 .
脱水塔凝縮器33の凝縮液の残部は導管36を通して軽質分分離塔37へ供給される。
軽質分分離塔37のリボイラー38により水蒸気等の加熱媒体で導管39を通じて加熱す
る方式により加熱し、軽質分分離塔37の塔頂部より軽質分を含むエチレンオキシド蒸気
は導管40を通じて導管41および導管42に冷却水が通る軽質分分離塔凝縮器43へ送
り、凝縮液は導管44を通じて軽質分分離塔37の塔頂部へ還流し、軽質分分離塔凝縮器
43の未凝縮蒸気(エチレンオキシド含有未凝縮ガス)は導管45を通してエチレンオキ
シドを回収するため上記のエチレンオキシド再吸収塔へ供給される。
The remainder of the condensate from the dewatering column condenser 33 is supplied to the light separation column 37 through a conduit 36.
The ethylene oxide vapor which is heated by the reboiler 38 of the light separation column 37 is heated by a heating medium such as steam through the conduit 39, and the ethylene oxide vapor containing light from the top of the light separation column 37 flows into the conduit 41 and the conduit 42 through the conduit 40 The coolant is sent to the light separation column condenser 43 through which the cooling water passes, and the condensate is refluxed to the top of the light separation column 37 through the conduit 44, and the uncondensed vapor of the light separation column condenser 43 (ethylene oxide containing noncondensed gas) Is fed through conduit 45 to the ethylene oxide reabsorption column to recover ethylene oxide.
軽質分分離塔37の塔底液は導管46を通してエチレンオキシド精製塔(以下、単に「
精製塔」とも称する)47へ供拾される。精製塔47は塔底部にリボイラー48を備えて
いる。そして、本実施形態では、精製塔47のリボイラー48へは、当該リボイラー48
を加熱するための加熱媒体として、圧力0.05〜0.10MPa gauge程度の水
蒸気が供給されている。ただし、加熱媒体はほかの物であってもよく、例えば、グリコー
ル水溶液、温水などが用いられうる。
The bottom liquid of the light separation column 37 is an ethylene oxide purification column (hereinafter referred to simply as “
To the purification tower) 47). The purification tower 47 is provided with a reboiler 48 at the bottom. And, in this embodiment, the reboiler 48 of the purification tower 47 is
As a heating medium for heating, steam having a pressure of about 0.05 to 0.10 MPa gauge is supplied. However, the heating medium may be another one, for example, glycol aqueous solution, warm water, etc. may be used.
上述したように、精製塔47のリボイラー48を加熱するための加熱媒体を、上述した
炭酸ガス放散塔8の塔頂部からの排ガスとの熱交換によって加熱することが好ましい。こ
れを達成すべく、上記加熱媒体(水蒸気)のリボイラー48への循環経路56上には熱交
換器57が設置されている。そして、この熱交換器57には炭酸ガス放散塔8の塔頂部か
らの排ガスが導管58を通じて供給されており、これにより上記加熱媒体(水蒸気)との
間で熱交換が起こって、当該加熱媒体(水蒸気)が加熱される。なお、熱交換器57で熱
交換された後の排ガスは、図1に示すように再度炭酸ガス放散塔8の気液分離部10に循
環させた後に大気中にパージすればよい。
As described above, the heating medium for heating the reboiler 48 of the purification tower 47 is preferably heated by heat exchange with the exhaust gas from the top of the carbon dioxide gas stripping tower 8 described above. In order to achieve this, a heat exchanger 57 is installed on the circulation path 56 to the reboiler 48 of the heating medium (steam). Then, the exhaust gas from the top of the carbon dioxide gas diffusion tower 8 is supplied to the heat exchanger 57 through the conduit 58, whereby heat exchange occurs with the heating medium (steam), and the heating medium is heated. (Water vapor) is heated. The exhaust gas after heat exchange in the heat exchanger 57 may be circulated to the gas-liquid separation unit 10 of the carbon dioxide gas diffusion tower 8 again as shown in FIG.
ここで、精製塔47は、安全上の理由から高温下での運転は好ましくないことから、精
製塔47の温度は他の蒸留塔に比べて運転温度が低いという特徴がある。炭酸ガス放散塔
8の塔頂温度は87℃と比較的低温であり、この温度の排ガスであれば、精製塔47の熱
源としての利用が可能である。すなわち、炭酸ガス放散塔8の塔頂部からの排ガスは炭酸
ガスを含んだ蒸気であり、排ガス中の蒸気の熱回収効率を高めるためには、熱交換される
物どうしの温度差が大きいほど好ましいことから、上記排ガスを熱交換に用いる先の温度
は低いほど好ましいのである。
Here, the purification tower 47 is characterized in that the temperature of the purification tower 47 is lower in operating temperature than other distillation towers, since the operation at high temperature is not preferable for safety reasons. The top temperature of the carbon dioxide gas stripping column 8 is a relatively low temperature of 87 ° C., and if the exhaust gas of this temperature is used, the refining tower 47 can be used as a heat source. That is, the exhaust gas from the top of the carbon dioxide gas diffusion tower 8 is a vapor containing carbon dioxide gas, and in order to enhance the heat recovery efficiency of the vapor in the exhaust gas, it is preferable that the temperature difference between the materials to be exchanged is large. Thus, the lower the temperature at which the exhaust gas is used for heat exchange, the better.
上述したように加熱媒体がリボイラー48に供給されることにより、精製塔47の塔底
温度35〜80℃、精製塔47の塔底圧力0.10〜0.80MPa gaugeで精製
を行い、精製塔47の塔頂部から、塔頂温度12〜75℃、塔頂部圧力0.10〜0.8
0MPa gaugeのエチレンオキシド蒸気が、導管49および導管50に冷却水が通
る精製塔凝縮器51へ送られる。そして、精製塔凝縮器51においてエチレンオキシドを
液化させ、一部は導管52を通して精製塔47の塔頂部へ還流液として供給し、残部は導
管53を通して製品エチレンオキシド(製品EO)として抜き出す。精製塔凝縮器51の
未凝縮蒸気(エチレンオキシド含有未凝縮ガス)は導管54を通してエチレンオキシドを
回収するため上記のエチレンオキシド再吸収塔へ供給される。
As described above, by supplying the heating medium to the reboiler 48, the purification is performed with the column bottom temperature of the purification column 47 at 35 to 80 ° C. and the column pressure of 0.1 to 0.80 MPa gauge. From the top of 47, the top temperature 12 to 75 ° C., the top pressure 0.10 to 0.8
A 0 MPa gauge ethylene oxide vapor is sent to the purification tower condenser 51 where the cooling water passes through the conduit 49 and the conduit 50. Then, ethylene oxide is liquefied in the purification column condenser 51, and a part thereof is supplied as a reflux solution to the top of the purification column 47 through the conduit 52, and the remainder is withdrawn as the product ethylene oxide (product EO) through the conduit 53. The uncondensed vapor (ethylene oxide-containing uncondensed gas) of the purification column condenser 51 is supplied through the conduit 54 to the ethylene oxide reabsorption column to recover ethylene oxide.
なお、精製塔47の塔底液は、アセトアルデヒド、水、および酢酸等の高沸点不純物の
重質分分離のため、必要により導管55を通して抜き出される。
The bottom liquid of the purification column 47 is withdrawn through the conduit 55 as necessary for heavy fraction separation of high boiling impurities such as acetaldehyde, water, and acetic acid.
上述したように、精製系から排出される未凝縮蒸気(図3に示す実施形態では、脱水塔
凝縮器33、軽質分分離塔凝縮器43、および精製塔凝縮器51由来の未凝縮蒸気)はエ
チレンオキシドを含有している。このため、これらの未凝縮蒸気は、上記のエチレンオキ
シド再吸収塔へ供給される。
As described above, the uncondensed vapor discharged from the purification system (in the embodiment shown in FIG. 3, the uncondensed vapor derived from the dehydration column condenser 33, the light separation column condenser 43, and the purification column condenser 51) Contains ethylene oxide. For this reason, these uncondensed vapors are supplied to the above-mentioned ethylene oxide reabsorption tower.
以下、実施例を用いて本発明の実施形態をより詳細に説明するが、本発明の技術的範囲
は下記の形態のみには限定されない。
Hereinafter, although the embodiment of the present invention is described in more detail using an example, the technical scope of the present invention is not limited to only the following form.
[比較例]
図1〜図3に示すエチレンオキシドの製造プロセスによりエチレンオキシドを製造した
。なお、本比較例では、軸封装置としてオイルフィルムシールを備えた遠心圧縮機(2基
)を昇圧ブロワ4として用いた。また、吸収塔2の塔頂部と昇圧ブロワ4とを繋ぐ導管3
に供給される分子状酸素含有ガスとして、O2濃度99.60容量%(残部アルゴン)の
ものを用いた。ここで、本比較例の定常運転時における、図1に示す丸数字1〜丸数字5
までの各部位における成分量および運転条件(流量、圧力、温度)を下記の表1に示す。
[Comparative example]
Ethylene oxide was produced by the process for producing ethylene oxide shown in FIGS. In the present comparative example, centrifugal compressors (two units) provided with oil film seals were used as the pressure rising blower 4 as the shaft sealing device. Also, a conduit 3 connecting the top of the absorption tower 2 and the booster blower 4
As the molecular oxygen-containing gas to be supplied to, the one having an O 2 concentration of 99.60% by volume (the balance being argon) was used. Here, the circled numbers 1 to 5 shown in FIG.
The component amounts and operating conditions (flow rate, pressure, temperature) at each site up to are shown in Table 1 below.
[実施例1]
図1〜図3に示すエチレンオキシドの製造プロセスによりエチレンオキシドを製造した
。なお、本実施例では、軸封装置としてオイルフィルムシールを備えた遠心圧縮機(2基
)を昇圧ブロワ4として用いた。また、吸収塔2の塔頂部と昇圧ブロワ4とを繋ぐ導管3
に供給される分子状酸素含有ガスとして、O2濃度99.95容量%(残部アルゴン)の
ものを用いた。ここで、本実施例の定常運転時における、図1に示す丸数字1〜丸数字5
までの各部位における成分量および運転条件(流量、圧力、温度)を下記の表2に示す。
Example 1
Ethylene oxide was produced by the process for producing ethylene oxide shown in FIGS. In the present embodiment, centrifugal compressors (two units) provided with oil film seals are used as the pressure rising blower 4 as the shaft sealing device. Also, a conduit 3 connecting the top of the absorption tower 2 and the booster blower 4
As the molecular oxygen-containing gas to be supplied to, the one having an O 2 concentration of 99.95% by volume (the balance being argon) was used. Here, the circled numbers 1 to 5 shown in FIG. 1 during steady operation of the present embodiment.
The component amounts and operating conditions (flow rate, pressure, temperature) at each site up to are shown in Table 2 below.
[実施例2]
図1〜図3に示すエチレンオキシドの製造プロセスによりエチレンオキシドを製造した
。なお、本実施例では、軸封装置としてドライガスシールを備えた遠心圧縮機(2基)を
昇圧ブロワ4として用いた。また、吸収塔2の塔頂部と昇圧ブロワ4とを繋ぐ導管3に供
給される分子状酸素含有ガスとして、O2濃度99.95容量%(残部アルゴン)のもの
を用いた。ここで、本実施例の定常運転時における、図1に示す丸数字1〜丸数字5まで
の各部位における成分量および運転条件(流量、圧力、温度)を下記の表3に示す。なお
、本実施例ではアルゴンパージを実施していないため、丸数字5における流量は0となっ
ている。また、吸収塔2の塔頂部と昇圧ブロワ4とを繋ぐ導管3に、分子状酸素含有ガス
とともに窒素(N2)ガスを1.1Nm3/分の流量で供給することにより、物質収支を
均衡させた。
Example 2
Ethylene oxide was produced by the process for producing ethylene oxide shown in FIGS. In the present embodiment, centrifugal compressors (two units) provided with a dry gas seal were used as the pressure rising blower 4 as the shaft sealing device. Further, as the molecular oxygen-containing gas supplied to the conduit 3 connecting the top of the absorption tower 2 and the booster blower 4, one having an O 2 concentration of 99.95% by volume (remaining argon) was used. Here, the component amounts and the operating conditions (flow rate, pressure, temperature) in each part from the circled number 1 to the circled number 5 shown in FIG. 1 during steady operation of this example are shown in Table 3 below. In the present embodiment, since the argon purge is not performed, the flow rate in the circled number 5 is zero. Also, by supplying nitrogen (N 2 ) gas together with molecular oxygen-containing gas at a flow rate of 1.1 Nm 3 / minute to the conduit 3 connecting the top of the absorption tower 2 and the booster blower 4, the material balance is balanced. I did.
上述した比較例および実施例1〜2から算出されるアルゴンパージ中のメタン量および
エチレンロス量を以下の通り算出した。
The amount of methane and the amount of ethylene loss in the argon purge calculated from the above-described comparative example and Examples 1 and 2 were calculated as follows.
表4に示す結果から、本発明の構成とする(高濃度O2含有ガスを系内に供給する)こ
とにより、アルゴンパージ量を削減することができることがわかる(実施例1)。また、
軸封装置としてドライガスシールを備えた遠心圧縮機を昇圧ブロワとしてさらに用いるこ
とで、アルゴンパージの操作自体を行わずにエチレンオキシドの製造プロセスを実施でき
ることがわかる(実施例2)。なお、この際には、物質収支を均衡させるべく、系内に分
子状酸素含有ガスと併せて、窒素等の不活性ガスを別途供給することも必要であった。
From the results shown in Table 4, it is understood that the argon purge amount can be reduced by adopting the configuration of the present invention (supplying the high concentration O 2 -containing gas into the system) (Example 1). Also,
It can be seen that, by further using a centrifugal compressor equipped with a dry gas seal as a shaft seal device as a pressure-boosting blower, it is possible to carry out an ethylene oxide manufacturing process without performing the argon purge operation itself (Example 2). In this case, it is also necessary to separately supply an inert gas such as nitrogen together with the molecular oxygen-containing gas in the system in order to balance the mass balance.
以上のことから、本発明によれば(さらには上記所定の遠心圧縮機との併用により)、
きわめて経済性に優れたエチレンオキシドの製造方法が提供されることがわかる。
From the above, according to the present invention (further in combination with the above-described predetermined centrifugal compressor),
It can be seen that a very economical process for producing ethylene oxide is provided.
1 エチレン酸化反応器
2 エチレンオキシド吸収塔
4 昇圧ブロワ
7 炭酸ガス吸収塔
8 炭酸ガス放散塔
9 リボイラー
10 気液接触部
11 エチレンオキシド放散塔
13 熱交換器
14 リボイラー
16 気液分離タンク
19 放散塔リボイラー
25 放散塔凝縮器
28 脱水塔
33 脱水塔凝縮器
37 軽質分分離塔
38 軽質分分離塔リボイラー
43 軽質分分離塔凝縮器
47 エチレンオキシド精製塔
48 精製塔リボイラー
51 精製塔凝縮器
56 循環経路
57 熱交換器
58 導管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ethylene oxidation reactor 2 ethylene oxide absorption tower 4 pressure | voltage rise blower 7 carbon dioxide gas absorption tower 8 carbon dioxide gas diffusion tower 9 reboiler 10 gas-liquid contact part 11 ethylene oxide diffusion tower 13 heat exchanger 14 reboiler 16 gas-liquid separation tank 19 diffusion tower reboiler 25 emission Tower condenser 28 Dewatering tower 33 Dewatering tower condenser 37 Light separation column 38 Light separation column reboiler 43 Light separation column condenser 47 Ethylene oxide purification tower 48 Purification tower reboiler 51 Purification tower condenser 56 Circulation path 57 Heat exchanger 58 conduit
Claims (3)
前記エチレンオキシド吸収塔の塔頂部から排出される炭酸ガス含有ガスの少なくとも一部を炭酸ガス吸収塔へ供給し、前記炭酸ガス含有ガスを吸収液と接触させて得られる炭酸ガス濃厚吸収液を前記炭酸ガス吸収塔の塔底液として抜き出して炭酸ガス放散塔の上部へ供給し、前記炭酸ガス濃厚吸収液から炭酸ガスを放散させて前記炭酸ガス放散塔の塔頂部から排ガスとして排出させる工程と、
を含むエチレンオキシドの製造方法であって、
系外から系内へ供給される前記分子状酸素含有ガスにおける分子状酸素(O2)の濃度が99.7容量%以上であり、
軸封装置としてドライガスシールを備えた遠心圧縮機を用いて前記エチレンを含む原料ガスを昇圧し、昇圧された前記原料ガスを前記エチレン酸化反応器へ供給する、エチレンオキシドの製造方法。 A reaction product gas containing ethylene oxide generated in an ethylene oxidation reaction step in an ethylene oxidation reactor is fed to an ethylene oxide absorption tower, wherein ethylene is catalytically vapor phase oxidized with a molecular oxygen-containing gas in the presence of a silver catalyst. Contacting the absorbing liquid supplied to the absorption column, supplying the bottom of the ethylene oxide absorption column containing ethylene oxide to an ethylene oxide purification system, and purifying ethylene oxide in the ethylene oxide purification system;
At least a part of the carbon dioxide gas-containing gas discharged from the top of the ethylene oxide absorber is supplied to the carbon dioxide gas absorption tower, and the carbon dioxide gas rich absorbent obtained by bringing the carbon dioxide gas-containing gas into contact with the absorbent Extracting the bottom liquid of the gas absorption column and supplying it to the upper part of the carbon dioxide gas diffusion column, desorbing carbon dioxide gas from the carbon dioxide gas rich absorption liquid, and discharging the carbon dioxide gas from the top of the carbon dioxide gas diffusion column as exhaust gas;
A process for producing ethylene oxide containing
Der concentration 99.7% by volume or more of molecular oxygen (O 2) in the molecular oxygen-containing gas supplied from outside the system into the system it is,
The manufacturing method of ethylene oxide which pressurizes the said source gas containing ethylene using the centrifugal compressor provided with the dry gas seal as a shaft seal apparatus, and supplies the said source gas pressure | voltage-risen to the said ethylene oxidation reactor .
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