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JP6596931B2 - Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element - Google Patents

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element Download PDF

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JP6596931B2 JP2015109924A JP2015109924A JP6596931B2 JP 6596931 B2 JP6596931 B2 JP 6596931B2 JP 2015109924 A JP2015109924 A JP 2015109924A JP 2015109924 A JP2015109924 A JP 2015109924A JP 6596931 B2 JP6596931 B2 JP 6596931B2
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Description

本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子に関する。   The present invention relates to a liquid crystal aligning agent, a liquid crystal alignment film, and a liquid crystal display element.

従来、液晶表示素子としては、電極構造や使用する液晶分子の物性、製造工程等が異なる種々の駆動方式のものが開発されており、例えばTN(Twisted Nematic)型や、STN(Super Twisted Nematic)型、VA(Vertical Alignment)型、IPS型(In-Plane Switching)、FFS(fringe field switching)型等の各種液晶表示素子が知られている。これら液晶表示素子は、液晶分子を配向させるための液晶配向膜を有する。液晶配向膜の材料としては、耐熱性や機械的強度、液晶との親和性などの各種特性が良好である点から、ポリアミック酸やポリイミドが一般に使用されている。   Conventionally, as a liquid crystal display element, various drive systems having different electrode structures, physical properties of liquid crystal molecules to be used, manufacturing processes, and the like have been developed. For example, a TN (Twisted Nematic) type or STN (Super Twisted Nematic) type has been developed. Various liquid crystal display elements such as a type, a VA (Vertical Alignment) type, an IPS (In-Plane Switching) type, and an FFS (fringe field switching) type are known. These liquid crystal display elements have a liquid crystal alignment film for aligning liquid crystal molecules. As a material for the liquid crystal alignment film, polyamic acid or polyimide is generally used from the viewpoints of various properties such as heat resistance, mechanical strength, and affinity with liquid crystal.

近年、スマートフォン、PDA(Personal Digital Assistance)等のモバイル端末や、タブレットPC等といった小型の表示端末の普及が進み、液晶パネルに対する高精細化の要求は更に高まりつつある。こうした背景を基に、液晶パネルの表示品位や信頼性の向上を図るべく種々の液晶配向剤が提案されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1には、ポリアミック酸又はポリイミドの重合体成分とともに、特定構造を有するエポキシ系化合物を液晶配向剤に含有させ、この液晶配向剤を用いて液晶配向膜を形成することにより、表示素子において液晶配向性及び信頼性を向上させることが開示されている。また近年では、タブレット型端末やモバイル端末の需要増加に伴い、タッチパネル方式の液晶ディスプレイが増加している。   In recent years, mobile terminals such as smartphones and PDAs (Personal Digital Assistance), and small display terminals such as tablet PCs have become widespread, and the demand for higher definition for liquid crystal panels is increasing. Based on this background, various liquid crystal aligning agents have been proposed in order to improve the display quality and reliability of the liquid crystal panel (see, for example, Patent Document 1). In Patent Document 1, an epoxy compound having a specific structure is contained in a liquid crystal alignment agent together with a polymer component of polyamic acid or polyimide, and a liquid crystal alignment film is formed using the liquid crystal alignment agent. It is disclosed that liquid crystal alignment and reliability are improved. In recent years, with an increase in demand for tablet terminals and mobile terminals, touch panel type liquid crystal displays are increasing.

特開2008−299318号公報JP 2008-299318 A

タッチパネル方式の液晶ディスプレイでは、指や、ペンなどのポインティングデバイスによる押圧等の外部圧力に対して耐性が高いこと、つまり外部圧力が付与された場合にも配向不良や輝点不良が生じにくいことが求められる。また近年、タブレット型端末やモバイル端末では、軽量化及び薄型化が進み、液晶ディスプレイ製造時のパネル組み立て工程において、パネルの歪みが生じたりパネル内部に応力がかかりやすくなっている。こうしたパネルの歪みや応力は、配向膜の基板からの剥がれの原因となり、輝点不良や配向不良が発生する原因にもなる。そのため、液晶配向膜には、基板剥がれが生じにくいことが要求される。   Touch-panel type liquid crystal displays are highly resistant to external pressure such as pressing with a finger or a pointing device such as a pen.In other words, even when external pressure is applied, alignment defects and bright spot defects are less likely to occur. Desired. In recent years, tablet terminals and mobile terminals have become lighter and thinner, and in the panel assembly process at the time of manufacturing a liquid crystal display, the panel is easily distorted or stress is easily applied to the inside of the panel. Such distortion and stress of the panel cause peeling of the alignment film from the substrate, and also cause a bright spot defect and an alignment defect. Therefore, the liquid crystal alignment film is required to be less likely to peel off the substrate.

特に近年、液晶表示素子の高精細化により、1画素のサイズが従来よりも小さくなってきており、液晶配向膜が形成される基板上には、該基板に搭載される電子部品による段差の数が増加している。そのため、近年の液晶配向膜は、ラビング処理によって従来よりも高いストレスを受けやすく、傷や膜剥がれが生じやすくなっていると言える。一方、液晶配向膜に生じた傷や剥がれは、表示不良の原因となることから、液晶配向膜としてはラビング耐性が高いことが求められる。   Particularly in recent years, the size of one pixel has become smaller than before due to the higher definition of liquid crystal display elements, and the number of steps due to electronic components mounted on the substrate is formed on the substrate on which the liquid crystal alignment film is formed. Has increased. Therefore, it can be said that the liquid crystal alignment film in recent years is easily subjected to higher stress than before due to the rubbing treatment, and the scratches and film peeling are likely to occur. On the other hand, since scratches or peeling off in the liquid crystal alignment film cause display defects, the liquid crystal alignment film is required to have high rubbing resistance.

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、ラビング耐性が良好な液晶配向膜を得ることができ、かつ外部圧力に対する耐性が高い液晶表示素子を得ることができる液晶配向剤を提供することを一つの目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a liquid crystal aligning agent capable of obtaining a liquid crystal alignment film having good rubbing resistance and a liquid crystal display element having high resistance to external pressure. One purpose.

本発明者らは、上記のような従来技術の課題を解決するべく鋭意検討し、特定構造を有するケイ素化合物を液晶配向剤に含有させたところ、液晶配向膜のラビング耐性及び液晶表示素子の外部圧力に対する耐性の改善効果が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明により以下の液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子が提供される。   The present inventors diligently studied to solve the above-described problems of the prior art, and when a silicon compound having a specific structure was included in the liquid crystal aligning agent, the rubbing resistance of the liquid crystal alignment film and the exterior of the liquid crystal display element The inventors have found that an effect of improving resistance to pressure can be obtained, and have completed the present invention. Specifically, the present invention provides the following liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element.

本発明は一つの側面において、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体(P)と、下記式(1a)で表される窒素含有構造を有する有機ケイ素化合物(ただし、下記式(1a)中の「*1」は、水素原子、メチレン基又は1価の炭化水素基に結合している。)と、を含む液晶配向剤を提供する。   In one aspect, the present invention provides at least one polymer (P) selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide, and an organosilicon compound having a nitrogen-containing structure represented by the following formula (1a) ( However, “* 1” in the following formula (1a) is bonded to a hydrogen atom, a methylene group, or a monovalent hydrocarbon group).

Figure 0006596931
(式(1a)中、R及びRはそれぞれ独立に2価の有機基である。「*1」及び「*2」は結合手を示す。)
Figure 0006596931
(In Formula (1a), R a and R b are each independently a divalent organic group. “* 1” and “* 2” represent a bond.)

本発明は一つの側面において、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体(P)と、上記式(1a)で表される窒素含有構造を有し、且つ分子内にヒドロキシ基を有すること及び上記式(1a)中のRがカルボニル基であることのうちの少なくとも一方を満たす有機ケイ素化合物と、を含む液晶配向剤を提供する。 In one aspect, the present invention has at least one polymer (P) selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide, a nitrogen-containing structure represented by the above formula (1a), and a molecule. There is provided a liquid crystal aligning agent comprising an organosilicon compound satisfying at least one of having a hydroxy group therein and R a in the formula (1a) being a carbonyl group.

また、別の一つの側面において、上記液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜及び該液晶配向膜を備える液晶表示素子を提供する。   In another aspect, a liquid crystal alignment film formed using the liquid crystal alignment agent and a liquid crystal display element including the liquid crystal alignment film are provided.

上記した特定の有機ケイ素化合物を含む液晶配向剤によれば、ラビング耐性が良好な液晶配向膜を得ることができる。また、外部圧力に対する耐性が高い液晶表示素子を得ることができる。   According to the liquid crystal aligning agent containing the specific organosilicon compound described above, a liquid crystal aligning film having good rubbing resistance can be obtained. In addition, a liquid crystal display element having high resistance to external pressure can be obtained.

本開示の液晶配向剤は、重合体成分が、好ましくは有機溶媒中に溶解又は分散してなる液状の重合体組成物である。以下に、本開示の液晶配向剤に含まれる各成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。   The liquid crystal aligning agent of the present disclosure is a liquid polymer composition in which a polymer component is preferably dissolved or dispersed in an organic solvent. Below, each component contained in the liquid crystal aligning agent of this indication and the other component arbitrarily mix | blended as needed are demonstrated.

<重合体(P)>
本開示の液晶配向剤は、重合体成分として、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体(P)を含有する。
<Polymer (P)>
The liquid crystal aligning agent of this indication contains at least 1 type of polymer (P) chosen from the group which consists of a polyamic acid, a polyimide, and a polyamic acid ester as a polymer component.

[ポリアミック酸]
本開示の液晶配向剤に含有されるポリアミック酸は、例えばテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得ることができる。
(テトラカルボン酸二無水物)
ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物として、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物などを;
脂環式テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−3a,4,5,9b−テトラヒドロナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−8−メチル−3a,4,5,9b−テトラヒドロナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,5,6−トリカルボキシ−2−カルボキシメチルノルボルナン−2:3,5:6−二無水物、ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸2:4,6:8−二無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸2:3,5:6−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオン、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物などを;
[Polyamic acid]
The polyamic acid contained in the liquid crystal aligning agent of this indication can be obtained by making tetracarboxylic dianhydride and diamine react, for example.
(Tetracarboxylic dianhydride)
Examples of tetracarboxylic dianhydrides used for the synthesis of polyamic acid include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and the like. it can. Specific examples of these include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as butane tetracarboxylic dianhydride;
Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 5- (2,5-di Oxotetrahydrofuran-3-yl) -3a, 4,5,9b-tetrahydronaphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -8 -Methyl-3a, 4,5,9b-tetrahydronaphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3-oxabicyclo [3.2.1] octane-2,4-dione-6-spiro -3 ′-(tetrahydrofuran-2 ′, 5′-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 3 , 5,6-To Carboxy-2-carboxymethylnorbornane-2: 3,5: 6-dianhydride, bicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2: 4,6: 8-di Anhydride, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid 2: 3,5: 6-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1] .0 2,6] undecane -3,5,8,10- tetraone, 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene -2, 3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, ethylenediaminetetraacetic acid dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride and the like;

芳香族テトラカルボン酸二無水物として、例えばピロメリット酸二無水物、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、1,3−プロピレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)などを;それぞれ挙げることができるほか、特開2010−97188号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。なお、ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、これらの1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 1,3-propylene glycol bis (anhydrotrimellitate); In addition, the tetracarboxylic dianhydride described in JP 2010-97188 A can be used. In addition, as tetracarboxylic dianhydride used for the synthesis | combination of a polyamic acid, these 1 type can be used individually or in combination of 2 or more types.

テトラカルボン酸二無水物としては、液晶配向性及び溶剤に対する溶解性を良好にできる点で、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸2:3,5:6−二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−3a,4,5,9b−テトラヒドロナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−8−メチル−3a,4,5,9b−テトラヒドロナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸2:4,6:8−二無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,3−プロピレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)及びピロメリット酸二無水物よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を含むことが好ましい。これらの好ましい化合物の使用量(2種以上使用する場合にはその合計量)は、ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物の全量に対して、5モル%以上とすることが好ましく、10モル%以上とすることがより好ましく、20モル%以上とすることがより好ましい。   As tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid 2: 3,5 is preferable in that the liquid crystal orientation and the solubility in a solvent can be improved. : 6-dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3- Yl) -3a, 4,5,9b-tetrahydronaphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -8-methyl-3a, 4,5,9b-tetrahydronaphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, bicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2: 4,6: 8-dianhydride, cyclohexanetetra Carboxylic acid dianhydride preferably comprises 1,3-propylene glycol bis (anhydrotrimellitate) and at least one compound selected from the group consisting of pyromellitic dianhydride. The amount of these preferred compounds used (the total amount when two or more are used) is preferably 5 mol% or more based on the total amount of tetracarboxylic dianhydride used for the synthesis of polyamic acid. It is more preferable to set it as 10 mol% or more, and it is more preferable to set it as 20 mol% or more.

(ジアミン)
ポリアミック酸の合成に使用するジアミンとしては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサンなどが挙げられる。これらの具体例としては、脂肪族ジアミンとして、例えばm−キシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンなどを;
脂環式ジアミンとして、例えば1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)などを;
(Diamine)
Examples of the diamine used for the synthesis of the polyamic acid include aliphatic diamine, alicyclic diamine, aromatic diamine, and diaminoorganosiloxane. Specific examples of these include aliphatic diamines such as m-xylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, and 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane. ;
Examples of alicyclic diamines include 1,4-diaminocyclohexane, 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine) and the like;

芳香族ジアミンとして、例えばドデカノキシジアミノベンゼン、テトラデカノキシジアミノベンゼン、ペンタデカノキシジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシジアミノベンゼン、オクタデカノキシジアミノベンゼン、コレスタニルオキシジアミノベンゼン、コレステリルオキシジアミノベンゼン、ジアミノ安息香酸コレスタニル、ジアミノ安息香酸コレステリル、ジアミノ安息香酸ラノスタニル、3,6−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)コレスタン、3,6−ビス(4−アミノフェノキシ)コレスタン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ブチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェノキシ)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−(4−ヘプチルシクロヘキシル)シクロヘキサン、N−(2,4−ジアミノフェニル)−4−(4−ヘプチルシクロヘキシル)ベンズアミド、下記式(D−1)

Figure 0006596931
(式(D−1)中、XI及びXIIは、それぞれ独立に、単結合、−O−、−COO−又は−OCO−であり、Rは炭素数1〜3のアルカンジイル基であり、RIIは単結合又は炭素数1〜3のアルカンジイル基であり、aは0又は1であり、bは0〜2の整数であり、cは1〜20の整数であり、dは0又は1である。但し、a及びbが同時に0になることはない。)
で表される化合物、光配向性構造を有するジアミンなどの配向性基含有ジアミン: Examples of aromatic diamines include dodecanoxydiaminobenzene, tetradecanoxydiaminobenzene, pentadecanoxydiaminobenzene, hexadecanoxydiaminobenzene, octadecanoxydiaminobenzene, cholestanyloxydiaminobenzene, and cholesteryloxydiaminobenzene. Cholestanyl diaminobenzoate, cholesteryl diaminobenzoate, lanostannyl diaminobenzoate, 3,6-bis (4-aminobenzoyloxy) cholestane, 3,6-bis (4-aminophenoxy) cholestane, 1,1-bis (4 -((Aminophenyl) methyl) phenyl) -4-butylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1,1-bis (4-((amino Phenoxy Methyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4- (4-heptylcyclohexyl) cyclohexane, N- (2,4-diaminophenyl) -4 -(4-Heptylcyclohexyl) benzamide, the following formula (D-1)
Figure 0006596931
(In Formula (D-1), X I and X II are each independently a single bond, —O—, —COO— or —OCO—, and R I is an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. R II is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, a is 0 or 1, b is an integer of 0 to 2, c is an integer of 1 to 20, and d is 0 or 1, provided that a and b are not 0 at the same time.)
An orientation group-containing diamine such as a diamine having a photo-orientation structure represented by:

p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルアミン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート、4,4’−ジアミノアゾベンゼン、1,5−ビス(4−アミノフェノキシ)ペンタン、1,7−ビス(4−アミノフェノキシ)ヘプタン、ビス[2−(4−アミノフェニル)エチル]ヘキサン二酸、N,N−ビス(4−アミノフェニル)メチルアミン、1,5−ジアミノナフタレン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(p−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,6−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジン、3,6−ジアミノアクリジン、3,6−ジアミノカルバゾール、N−メチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−ベンジジン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−N,N’−ジメチルベンジジン、1,4−ビス−(4−アミノフェニル)−ピペラジン、3,5−ジアミノ安息香酸、4,4’−[4,4’−プロパン−1,3−ジイルビス(ピペリジン−1,4−ジイル)]ジアニリン、4,4’−ジアミノトリフェニルアミンなどのその他のジアミン、などを;
ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−テトラメチルジシロキサンなどを;それぞれ挙げることができるほか、特開2010−97188号公報に記載のジアミンを用いることができる。
p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylamine, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate, 4,4′-diaminoazobenzene, 1 , 5-bis (4-aminophenoxy) pentane, 1,7-bis (4-aminophenoxy) heptane, bis [2- (4-aminophenyl) ethyl] hexanedioic acid, N, N-bis (4-amino) Phenyl) methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, 4,4 '-Diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 9,9-bis (4-aminophen Fluorene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 '-(p-phenylenediisopropyl Riden) bisaniline, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,6-diaminopyridine, 2,4-diaminopyrimidine, 3,6-diamino Acridine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole, N, N′-bis (4-aminophenyl) -benzidine, N, N′-bis (4-aminophenyl) -N, N′-dimethylbenzidine, 1,4-bis- (4-aminophenyl) -piperazine, 3,5-diaminobenzoic acid, 4,4 ′-[4,4 ′ Propane-1,3-diyl bis (piperidine-1,4-diyl)] dianiline, 4,4' other diamines, such as diaminodiphenyl triphenylamine, and the like;
Examples of the diaminoorganosiloxane include 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane; and the diamines described in JP-A 2010-97188 can be used.

上記式(D−1)における「−X−(R−XII−」で表される2価の基としては、炭素数1〜3のアルカンジイル基、*−O−、*−COO−又は*−O−C−O−(ただし、「*」を付した結合手がジアミノフェニル基と結合する。)であることが好ましい。基「−C2c+1」としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基などを挙げることができ、これらは直鎖状であることが好ましい。ジアミノフェニル基における2つのアミノ基は、他の基に対して2,4−位又は3,5−位にあることが好ましい。 Examples of the divalent group represented by “—X I — (R I —X II ) d —” in the formula (D-1) include alkanediyl groups having 1 to 3 carbon atoms, * —O—, * —COO— or * —O—C 2 H 4 —O— (however, a bond marked with “*” is bonded to a diaminophenyl group) is preferred. Examples of the group “—C c H 2c + 1 ” include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group. Group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, eicosyl group and the like, and these are preferably linear. The two amino groups in the diaminophenyl group are preferably in the 2,4-position or 3,5-position with respect to other groups.

上記式(D−1)で表される化合物の具体例としては、例えば下記式(D−1−1)〜(D−1−4)のそれぞれで表される化合物などを挙げることができる。

Figure 0006596931
なお、ポリアミック酸の合成に使用するジアミンとしては、これらの化合物の1種を単独で又は2種以上を適宜選択して使用することができる。 Specific examples of the compound represented by the formula (D-1) include compounds represented by the following formulas (D-1-1) to (D-1-4).
Figure 0006596931
In addition, as diamine used for the synthesis | combination of a polyamic acid, 1 type of these compounds can be used individually or in combination of 2 or more types as appropriate.

TN型、STN型又は垂直配向型の液晶表示素子用の液晶配向剤に適用する場合、ポリアミック酸の側鎖に、塗膜に対して液晶配向能を付与可能な基(配向性基)を導入してもよい。こうした配向性基としては、例えば直鎖構造を有する基、メソゲン骨格を有する基及び嵩高い構造を有する基などが挙げられ、具体的には、例えば炭素数4〜20のアルキル基、炭素数4〜20のフルオロアルキル基、炭素数4〜20のアルコキシ基、炭素数17〜51のステロイド骨格を有する基、複数個の環が直接又は連結基を介して結合した基などが挙げられる。配向性基を有するポリアミック酸は、例えば配向性基含有ジアミンをモノマー組成に含む重合によって得ることができる。配向性基含有ジアミンを使用する場合、その配合割合は、液晶配向性を良好にする観点から、合成に使用する全ジアミンに対して、3モル%以上とすることが好ましく、5〜70モル%とすることがより好ましい。   When applied to a liquid crystal aligning agent for TN type, STN type or vertical alignment type liquid crystal display elements, a group (orientation group) capable of imparting liquid crystal alignment ability to the coating film is introduced into the side chain of the polyamic acid. May be. Examples of such an orientation group include a group having a straight chain structure, a group having a mesogen skeleton, and a group having a bulky structure. Specifically, for example, an alkyl group having 4 to 20 carbon atoms, a carbon number of 4 -20-fluoroalkyl group, C4-C20 alkoxy group, group having a steroid skeleton having 17-51 carbon atoms, or a group in which a plurality of rings are bonded directly or via a linking group. The polyamic acid having an orientation group can be obtained, for example, by polymerization containing an orientation group-containing diamine in the monomer composition. In the case of using an orientation group-containing diamine, the blending ratio is preferably 3 mol% or more with respect to the total diamine used in the synthesis, from the viewpoint of improving liquid crystal orientation, and is preferably 5 to 70 mol%. More preferably.

(ポリアミック酸の合成)
ポリアミック酸は、上記のようなテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、必要に応じて分子量調整剤とともに反応させることによって得ることができる。ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合は、ジアミンのアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2〜2当量となる割合が好ましく、0.3〜1.2当量となる割合がより好ましい。
分子量調整剤としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸などの酸一無水物;アニリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、ステアリルアミンなどのモノアミン化合物;フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどのモノイソシアネート化合物等を挙げることができる。分子量調整剤の使用割合は、使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計100重量部に対して、20重量部以下とすることが好ましく、10重量部以下とすることがより好ましい。
(Synthesis of polyamic acid)
The polyamic acid can be obtained by reacting the above tetracarboxylic dianhydride and diamine together with a molecular weight adjusting agent as necessary. The ratio of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine used in the polyamic acid synthesis reaction is 0.2 to 2 for the tetracarboxylic dianhydride acid anhydride group to 1 equivalent of the amino group of the diamine. The ratio which becomes an equivalent is preferable, and the ratio which becomes 0.3-1.2 equivalent is more preferable.
Examples of the molecular weight regulator include acid monoanhydrides such as maleic anhydride, phthalic anhydride and itaconic anhydride; monoamine compounds such as aniline, cyclohexylamine, n-butylamine and stearylamine; monoisocyanates such as phenyl isocyanate and naphthyl isocyanate A compound etc. can be mentioned. The use ratio of the molecular weight modifier is preferably 20 parts by weight or less, and more preferably 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total of the tetracarboxylic dianhydride and diamine used.

ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は、−20℃〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましい。また、反応時間は、0.1〜24時間が好ましく、0.5〜12時間がより好ましい。   The polyamic acid synthesis reaction is preferably carried out in an organic solvent. The reaction temperature at this time is preferably -20 ° C to 150 ° C, more preferably 0 to 100 ° C. The reaction time is preferably from 0.1 to 24 hours, more preferably from 0.5 to 12 hours.

反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などを挙げることができる。これらの有機溶媒のうち、非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒よりなる群(第一群の有機溶媒)から選択される1種以上、又は、第一群の有機溶媒から選択される1種以上と、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素及び炭化水素よりなる群(第二群の有機溶媒)から選択される1種以上との混合物を使用することが好ましい。後者の場合、第二群の有機溶媒の使用割合は、第一群の有機溶媒及び第二群の有機溶媒の合計量に対して、好ましくは50重量%以下であり、より好ましくは40重量%以下であり、更に好ましくは30重量%以下である。   Examples of the organic solvent used in the reaction include aprotic polar solvents, phenol solvents, alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, and the like. Among these organic solvents, one or more selected from the group consisting of an aprotic polar solvent and a phenolic solvent (first group organic solvent), or one or more selected from the first group of organic solvents And a mixture of at least one selected from the group consisting of alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons and hydrocarbons (second-group organic solvent). In the latter case, the proportion of the second group organic solvent used is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight, based on the total amount of the first group organic solvent and the second group organic solvent. Or less, more preferably 30% by weight or less.

特に好ましい有機溶媒は、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、m−クレゾール、キシレノール及びハロゲン化フェノールよりなる群から選択される1種以上を溶媒として使用するか、あるいはこれらの1種以上と他の有機溶媒との混合物を、上記割合の範囲で使用することが好ましい。有機溶媒の使用量(a)は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量(b)が、反応溶液の全量(a+b)に対して、0.1〜50重量%になる量とすることが好   Particularly preferred organic solvents are N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide, m-cresol, xylenol. And at least one selected from the group consisting of halogenated phenols is used as a solvent, or a mixture of one or more of these and another organic solvent is preferably used in the above range. The amount of organic solvent used (a) is such that the total amount (b) of tetracarboxylic dianhydride and diamine is 0.1 to 50% by weight based on the total amount (a + b) of the reaction solution. Prefer

以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸を脱水閉環してポリイミドとする場合には、上記反応溶液をそのまま脱水閉環反応に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで脱水閉環反応に供してもよく、又は単離したポリアミック酸を精製したうえで脱水閉環反応に供してもよい。ポリアミック酸の単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。   As described above, a reaction solution obtained by dissolving polyamic acid is obtained. This reaction solution may be used as it is for the preparation of the liquid crystal aligning agent, may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after isolating the polyamic acid contained in the reaction solution, or the isolated polyamic acid was purified. You may use for preparation of a liquid crystal aligning agent. When polyamic acid is dehydrated and cyclized into a polyimide, the above reaction solution may be directly subjected to dehydration and cyclization reaction, or may be subjected to dehydration and cyclization reaction after isolating the polyamic acid contained in the reaction solution. Alternatively, the isolated polyamic acid may be purified and then subjected to a dehydration ring closure reaction. Isolation and purification of the polyamic acid can be performed according to known methods.

[ポリアミック酸エステル]
ポリアミック酸エステルは、例えば、[I]上記合成反応により得られたポリアミック酸とエステル化剤とを反応させる方法、[II]テトラカルボン酸ジエステルとジアミンとを反応させる方法、[III]テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミンとを反応させる方法、などによって得ることができる。
なお、本明細書において「テトラカルボン酸ジエステル」とは、テトラカルボン酸が有する4個のカルボキシル基のうち2個がエステル化され、残りの2個がカルボキシル基である化合物を意味する。「テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物」とは、テトラカルボン酸が有する4個のカルボキシル基のうち2個がエステル化され、残りの2個がハロゲン化された化合物を意味する。
[Polyamic acid ester]
Examples of the polyamic acid ester include [I] a method of reacting the polyamic acid obtained by the above synthesis reaction with an esterifying agent, [II] a method of reacting a tetracarboxylic acid diester and a diamine, and [III] tetracarboxylic acid. It can be obtained by a method of reacting a diester dihalide and a diamine.
In this specification, “tetracarboxylic acid diester” means a compound in which two of the four carboxyl groups of tetracarboxylic acid are esterified and the remaining two are carboxyl groups. “Tetracarboxylic acid diester dihalide” means a compound in which two of the four carboxyl groups of tetracarboxylic acid are esterified and the remaining two are halogenated.

方法[I]で使用するエステル化剤としては、例えば水酸基含有化合物、アセタール系化合物、ハロゲン化物、エポキシ基含有化合物等が挙げられる。これらの具体例としては、水酸基含有化合物として、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、フェノール、クレゾール等のフェノール類などを;アセタール系化合物として、例えばN,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、N,N−ジエチルホルムアミドジエチルアセタールなどを;ハロゲン化物として、例えば臭化メチル、臭化エチル、臭化ステアリル、塩化メチル、塩化ステアリル、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタンなどを;エポキシ基含有化合物として、例えばプロピレンオキシドなどを、それぞれ挙げることができる。   Examples of the esterifying agent used in Method [I] include a hydroxyl group-containing compound, an acetal compound, a halide, an epoxy group-containing compound, and the like. Specific examples thereof include hydroxyl group-containing compounds such as alcohols such as methanol, ethanol and propanol; phenols such as phenol and cresol; and acetal compounds such as N, N-dimethylformamide diethyl acetal, N, N-diethylformamide diethyl acetal and the like; halides such as methyl bromide, ethyl bromide, stearyl bromide, methyl chloride, stearyl chloride, 1,1,1-trifluoro-2-iodoethane and the like; epoxy group-containing Examples of the compound include propylene oxide.

方法[II]で使用するテトラカルボン酸ジエステルは、例えば上記ポリアミック酸の合成で例示したテトラカルボン酸二無水物を、上記のアルコール類を用いて開環することにより得ることができる。なお、方法[II]において、使用するテトラカルボン酸誘導体はテトラカルボン酸ジエステルのみであってもよいが、テトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。方法[II]で使用するジアミンとしては、ポリアミック酸の合成で例示したジアミンを挙げることができる。方法[II]の反応は、有機溶媒中、適当な脱水触媒の存在下で行うことが好ましい。有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水触媒としては、例えば4−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−4−メチルモルホリニウムハライド、カルボニルイミダゾール、リン系縮合剤などが挙げられる。   The tetracarboxylic acid diester used in the method [II] can be obtained, for example, by ring-opening the tetracarboxylic dianhydride exemplified in the synthesis of the polyamic acid with the above alcohols. In the method [II], the tetracarboxylic acid derivative used may be only a tetracarboxylic acid diester, or a tetracarboxylic dianhydride may be used in combination. Examples of the diamine used in Method [II] include the diamines exemplified in the synthesis of polyamic acid. The reaction of Method [II] is preferably carried out in an organic solvent in the presence of a suitable dehydration catalyst. As an organic solvent, the organic solvent illustrated as what is used for the synthesis | combination of a polyamic acid can be mentioned. Examples of the dehydration catalyst include 4- (4,6-dimethoxy-1,3,5-triazin-2-yl) -4-methylmorpholinium halide, carbonylimidazole, a phosphorus condensing agent, and the like.

方法[III]で使用するテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物は、例えば上記の如くして得たテトラカルボン酸ジエステルを、塩化チオニル等の適当な塩素化剤と反応させることにより得ることができる。なお、方法[III]において、使用するテトラカルボン酸誘導体はテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物のみであってもよいが、テトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。方法[III]で使用するジアミンとしては、ポリアミック酸の合成で例示したジアミンを挙げることができる。方法[III]の反応は、有機溶媒中、適当な塩基の存在下で行うことが好ましい。有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン等の3級アミンを好ましく使用することができる。
なお、液晶配向剤に含有させるポリアミック酸エステルは、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存する部分エステル化物であってもよい。
The tetracarboxylic acid diester dihalide used in the method [III] can be obtained, for example, by reacting the tetracarboxylic acid diester obtained as described above with an appropriate chlorinating agent such as thionyl chloride. In Method [III], the tetracarboxylic acid derivative used may be only a tetracarboxylic acid diester dihalide, or a tetracarboxylic dianhydride may be used in combination. Examples of the diamine used in Method [III] include the diamines exemplified in the synthesis of polyamic acid. The reaction of Method [III] is preferably carried out in an organic solvent in the presence of a suitable base. As an organic solvent, the organic solvent illustrated as what is used for the synthesis | combination of a polyamic acid can be mentioned. As the base, for example, tertiary amines such as pyridine and triethylamine can be preferably used.
In addition, the polyamic acid ester contained in the liquid crystal aligning agent may have only an amic acid ester structure, or may be a partially esterified product in which an amic acid structure and an amic acid ester structure coexist.

ポリアミック酸エステルを溶解してなる反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸エステルを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸エステルを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸エステルの単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。   The reaction solution obtained by dissolving the polyamic acid ester may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, or may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after isolating the polyamic acid ester contained in the reaction solution, Or after purifying the isolated polyamic acid ester, you may use for preparation of a liquid crystal aligning agent. Isolation and purification of the polyamic acid ester can be performed according to a known method.

[ポリイミド]
ポリイミドは、例えば上記の如くして合成されたポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。
[Polyimide]
Polyimide can be obtained, for example, by dehydrating and ring-closing imidized polyamic acid synthesized as described above.

ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。反応に使用するポリイミドは、そのイミド化率が20%以上であることが好ましく、30〜99%であることがより好ましく、40〜99%であることが更に好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。   Polyimide may be a completely imidized product obtained by dehydrating and cyclizing all of the amic acid structure possessed by the precursor polyamic acid, and only a part of the amic acid structure may be dehydrated and cyclized. It may be a partially imidized product in which a ring structure coexists. The polyimide used for the reaction preferably has an imidization ratio of 20% or more, more preferably 30 to 99%, and still more preferably 40 to 99%. This imidation ratio represents the ratio of the number of imide ring structures to the total of the number of polyimide amic acid structures and the number of imide ring structures in percentage. Here, a part of the imide ring may be an isoimide ring.

ポリアミック酸の脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸を加熱する方法により、又はポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。このうち、後者の方法によることが好ましい。   The polyamic acid is preferably dehydrated and closed by heating the polyamic acid, or by dissolving the polyamic acid in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to the solution, and heating the solution as necessary. . Of these, the latter method is preferred.

ポリアミック酸の溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸のアミック酸構造の1モルに対して0.01〜20モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の3級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01〜10モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは0〜180℃であり、より好ましくは10〜150℃である。反応時間は、好ましくは1.0〜120時間であり、より好ましくは2.0〜30時間である。   In the method of adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to a polyamic acid solution, as the dehydrating agent, for example, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and trifluoroacetic anhydride can be used. It is preferable that the usage-amount of a dehydrating agent shall be 0.01-20 mol with respect to 1 mol of the amic acid structure of a polyamic acid. As the dehydration ring closure catalyst, for example, tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine, triethylamine and the like can be used. The amount of the dehydration ring closure catalyst used is preferably 0.01 to 10 moles per mole of the dehydrating agent used. Examples of the organic solvent used in the dehydration ring-closing reaction include the organic solvents exemplified as those used for the synthesis of polyamic acid. The reaction temperature of the dehydration ring closure reaction is preferably 0 to 180 ° C, more preferably 10 to 150 ° C. The reaction time is preferably 1.0 to 120 hours, more preferably 2.0 to 30 hours.

このようにしてポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。これらの精製操作は公知の方法に従って行うことができる。その他、ポリイミドは、ポリアミック酸エステルのイミド化により得ることもできる。   In this way, a reaction solution containing polyimide is obtained. This reaction solution may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after removing the dehydrating agent and the dehydrating ring-closing catalyst from the reaction solution, and the liquid crystal after isolating the polyimide. You may use for preparation of an aligning agent, or you may use for preparation of a liquid crystal aligning agent, after purifying the isolated polyimide. These purification operations can be performed according to known methods. In addition, polyimide can also be obtained by imidation of polyamic acid ester.

以上のようにして得られる重合体(P)は、これを濃度15重量%の溶液としたときに、20〜1,800mPa・sの溶液粘度を持つものであることが好ましく、50〜1,500mPa・sの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、重合体(P)の溶液粘度(mPa・s)は、重合体(P)の良溶媒(例えばγ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドンなど)を用いて調製した濃度15重量%の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25℃において測定した値である。
重合体(P)のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは1,000〜500,000であり、より好ましくは2,000〜300,000である。また、Mwと、GPCにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)との比で表される分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは15以下であり、より好ましくは10以下である。このような分子量範囲にあることで、液晶表示素子の良好な配向性及び安定性を確保することができる。
The polymer (P) obtained as described above preferably has a solution viscosity of 20 to 1,800 mPa · s when it is made into a solution having a concentration of 15% by weight. More preferably, it has a solution viscosity of 500 mPa · s. The solution viscosity (mPa · s) of the polymer (P) is 15% by weight with a concentration of 15% by weight prepared using a good solvent (for example, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, etc.) of the polymer (P). It is a value measured at 25 ° C. using an E-type viscometer for the polymer solution.
The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of the polymer (P) is preferably 1,000 to 500,000, more preferably 2,000 to 300,000. It is. Moreover, the molecular weight distribution (Mw / Mn) represented by the ratio between Mw and the polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) measured by GPC is preferably 15 or less, more preferably 10 or less. By being in such a molecular weight range, it is possible to ensure good orientation and stability of the liquid crystal display element.

<有機ケイ素化合物>
本開示の液晶配向剤は、上記重合体(P)とともに、添加剤として、下記式(1a)で表される窒素含有構造を有する有機ケイ素化合物(以下「特定ケイ素化合物」とも称する。)を含有する。

Figure 0006596931
(式(1a)中、R及びRはそれぞれ独立に2価の有機基である。「*1」及び「*2」は結合手を示す。) <Organic silicon compound>
The liquid crystal aligning agent of this indication contains the organosilicon compound (henceforth a "specific silicon compound") which has a nitrogen-containing structure represented by following formula (1a) as an additive with the said polymer (P). To do.
Figure 0006596931
(In Formula (1a), R a and R b are each independently a divalent organic group. “* 1” and “* 2” represent a bond.)

上記式(1a)において、R及びRの2価の有機基としては、例えばカルボニル基、2価の炭化水素基、複素環基などが挙げられる。ここで、本明細書において「炭化水素基」とは、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を含む意味である。「鎖状炭化水素基」とは、主鎖に環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状炭化水素基及び分岐状炭化水素基を意味する。ただし、飽和でも不飽和でもよい。「脂環式炭化水素基」とは、環構造としては脂環式炭化水素の構造のみを含み、芳香環構造を含まない炭化水素基を意味する。ただし、脂環式炭化水素の構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。「芳香族炭化水素基」とは、環構造として芳香環構造を含む炭化水素基を意味する。ただし、芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造や脂環式炭化水素の構造を含んでいてもよい。 In the above formula (1a), examples of the divalent organic group represented by R a and R b include a carbonyl group, a divalent hydrocarbon group, and a heterocyclic group. Here, in the present specification, the “hydrocarbon group” means a chain hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group. The “chain hydrocarbon group” means a linear hydrocarbon group and a branched hydrocarbon group that are composed only of a chain structure without including a cyclic structure in the main chain. However, it may be saturated or unsaturated. The “alicyclic hydrocarbon group” means a hydrocarbon group that includes only an alicyclic hydrocarbon structure as a ring structure and does not include an aromatic ring structure. However, it is not necessary to be comprised only by the structure of an alicyclic hydrocarbon, The thing which has a chain structure in the part is also included. “Aromatic hydrocarbon group” means a hydrocarbon group containing an aromatic ring structure as a ring structure. However, it is not necessary to be composed only of an aromatic ring structure, and a part thereof may include a chain structure or an alicyclic hydrocarbon structure.

本開示の液晶配向剤に含有される特定ケイ素化合物は、さらに、上記式(1a)中の「*1」が、水素原子、メチレン基又は1価の炭化水素基に結合しているか、又は、分子内にヒドロキシ基を有すること及び上記式(1a)中のRがカルボニル基であることのうちの少なくとも一方を満たす化合物である。こうした有機ケイ素化合物を液晶配向剤に含有させることにより、ラビング耐性や、外部圧力に対する耐性が良好な液晶配向膜を得ることができる。 In the specific silicon compound contained in the liquid crystal aligning agent of the present disclosure, “* 1” in the formula (1a) is further bonded to a hydrogen atom, a methylene group, or a monovalent hydrocarbon group, or It is a compound that satisfies at least one of having a hydroxy group in the molecule and R a in the above formula (1a) being a carbonyl group. By including such an organosilicon compound in the liquid crystal aligning agent, a liquid crystal alignment film having good rubbing resistance and resistance to external pressure can be obtained.

ここで、上記式(1a)中の「*1」がメチレン基に結合している場合、当該メチレン基は、式(1a)中の窒素原子及びRと共に、環構造の少なくとも一部を形成していてもよい。また、特定ケイ素化合物が、上記式(1a)で表される窒素含有構造を少なくとも1個有し、且つ、上記式(1a)中の「*1」が、水素原子、メチレン基又は1価の炭化水素基に結合している化合物である場合、さらに、分子内にヒドロキシ基を有すること及び上記式(1a)中のRがカルボニル基であることのうちの少なくとも一方を満たす化合物であってもよい。
特定ケイ素化合物としては、本発明の効果を十分に得る観点から、中でも、上記式(1a)で表される窒素含有構造とヒドロキシ基とを有するケイ素化合物、及びウレア構造を有するケイ素化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。
Here, when “* 1” in the formula (1a) is bonded to a methylene group, the methylene group forms at least a part of the ring structure together with the nitrogen atom and R b in the formula (1a). You may do it. The specific silicon compound has at least one nitrogen-containing structure represented by the above formula (1a), and “* 1” in the above formula (1a) is a hydrogen atom, a methylene group or a monovalent group. In the case of a compound bonded to a hydrocarbon group, the compound further satisfies at least one of having a hydroxy group in the molecule and that Ra in the formula (1a) is a carbonyl group. Also good.
As the specific silicon compound, from the viewpoint of sufficiently obtaining the effects of the present invention, among others, a group consisting of a silicon compound having a nitrogen-containing structure and a hydroxy group represented by the above formula (1a), and a silicon compound having a urea structure It is preferably at least one selected from

特定ケイ素化合物が、上記式(1a)で表される窒素含有構造とヒドロキシ基とを有するケイ素化合物である場合、当該化合物としては、例えば、1級アミノ基及び2級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも1種(以下「特定アミノ基」とも称する。)を有するアミン化合物と、酸無水物基、エポキシ基及びオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性基を有する反応性基含有化合物と、を反応させて得られる化合物が挙げられる。
なお、上記アミン化合物及び上記反応性基含有化合物の少なくともいずれかは、ケイ素原子を有する化合物である。この場合、上記アミン化合物及び上記反応性基含有化合物のいずれか一方のみがケイ素原子を有していてもよく、あるいは上記アミン化合物及び上記反応性基含有化合物が共にケイ素原子を有していてもよい。
When the specific silicon compound is a silicon compound having a nitrogen-containing structure represented by the above formula (1a) and a hydroxy group, the compound is, for example, selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group And a reactive group having at least one reactive group selected from the group consisting of an acid anhydride group, an epoxy group, and an oxetanyl group. Examples thereof include compounds obtained by reacting compounds.
In addition, at least one of the amine compound and the reactive group-containing compound is a compound having a silicon atom. In this case, only one of the amine compound and the reactive group-containing compound may have a silicon atom, or both the amine compound and the reactive group-containing compound may have a silicon atom. Good.

上記アミン化合物と上記反応性基含有化合物との反応により特定ケイ素化合物を合成する場合の具体例としては、例えば下記[1]〜[4]
[1]上記アミン化合物として特定アミノ基を有するケイ素化合物(s−1)を用い、上記反応性基含有化合物として酸無水物基を有する化合物(t−1)を用い、これらを反応させる方法;
[2]上記反応性基含有化合物として酸無水物基を有するケイ素化合物(s−2)を用い、上記アミン化合物と反応させる方法
[3]上記反応性基含有化合物としてエポキシ基又はオキセタニル基を有するケイ素化合物(s−3)を用い、上記アミン化合物と反応させる方法
[4]上記アミン化合物として特定アミノ基を有するケイ素化合物(s−1)を用い、上記反応性基含有化合物としてエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物(e−1)を用い、これらを反応させる方法
などが挙げられる。
Specific examples of the synthesis of the specific silicon compound by the reaction of the amine compound and the reactive group-containing compound include, for example, the following [1] to [4].
[1] A method in which a silicon compound (s-1) having a specific amino group is used as the amine compound and a compound (t-1) having an acid anhydride group is used as the reactive group-containing compound, and these are reacted;
[2] Method of reacting the amine compound with a silicon compound (s-2) having an acid anhydride group as the reactive group-containing compound [3] Having an epoxy group or an oxetanyl group as the reactive group-containing compound Method of reacting with amine compound using silicon compound (s-3) [4] Using silicon compound (s-1) having a specific amino group as the amine compound, epoxy group or oxetanyl as the reactive group-containing compound The method of making these react using the compound (e-1) which has group is mentioned.

上記[1]及び[4]で使用するケイ素化合物(s−1)としては、例えば3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、3−アミノプロピルジエチルメトキシシラン、3−アミノプロピルジエチルエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、4−アミノブチルジメチルメトキシシラン等が挙げられる。ケイ素化合物(s−1)は、これらのうちの1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   Examples of the silicon compound (s-1) used in the above [1] and [4] include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, and 3-amino. Propylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropylethyldimethoxysilane, 3-aminopropylethyldiethoxysilane, 3-aminopropyldimethylethoxysilane, 3-aminopropyldiethylmethoxysilane, 3-aminopropyldiethylethoxysilane, N- (2 -Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 4-amino Butyldimethylmethoxy Run, and the like. A silicon compound (s-1) can be used individually by 1 type in these or in mixture of 2 or more types.

上記式[2]で使用するケイ素化合物(s−2)としては、例えばトリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、トリエトキシシリルプロピルコハク酸無水物、メチルジメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、メチルジエトキシシリルプロピルコハク酸無水物などが挙げられる。ケイ素化合物(s−2)は1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   Examples of the silicon compound (s-2) used in the above formula [2] include trimethoxysilylpropyl succinic anhydride, triethoxysilylpropyl succinic anhydride, methyldimethoxysilylpropyl succinic anhydride, methyldiethoxysilyl. And propyl succinic anhydride. A silicon compound (s-2) can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

上記[3]で使用するエポキシ基又はオキセタニル基を有するケイ素化合物(s−3)としては、例えば3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシランなどのエポキシ基含有シラン化合物;下記式(s−3−1)

Figure 0006596931
で表される化合物などのオキセタニル基含有シラン化合物;などを挙げることができる。ケイ素化合物(s−3)は1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。 Examples of the silicon compound (s-3) having an epoxy group or oxetanyl group used in [3] above include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidyloxy. Propylmethyldimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane , Epoxy group-containing silane compounds such as 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; the following formula (s-3-1)
Figure 0006596931
An oxetanyl group-containing silane compound such as a compound represented by the formula: A silicon compound (s-3) can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

上記[1]で使用する酸無水物基を有する化合物(t−1)としては、1分子内に少なくとも1個の酸無水物基を有していれば特に制限されない。具体的には、1分子内に1個の酸無水物基を有する化合物として、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、2,3−ピリジンカルボン酸無水物等を;1分子内に2個以上の酸無水物基を有する化合物として、例えば上記ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物として例示した化合物等を、それぞれ挙げることができる。酸無水物基を有する化合物(t−1)は、これらの1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   The compound (t-1) having an acid anhydride group used in the above [1] is not particularly limited as long as it has at least one acid anhydride group in one molecule. Specifically, as a compound having one acid anhydride group in one molecule, for example, maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, 2,3-pyridinecarboxylic acid anhydride, etc .; Examples of the compound having two or more acid anhydride groups include compounds exemplified as tetracarboxylic dianhydrides used for the synthesis of the polyamic acid. The compound (t-1) having an acid anhydride group can be used alone or in combination of two or more.

上記[2]及び[3]で使用するアミン化合物としては、1分子内に少なくとも1個の特定アミノ基を有していれば特に制限されない。具体的には、1分子内に1個の1級アミノ基を有する化合物として、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン等を;1分子内に1個の2級アミノ基を有する化合物として、例えばジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ドデカメチレンイミン、ピペリジン、ピロリジン、ヘキサメチレンイミン、ヘプタメチレンイミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルベンジルアミン、ジ−(2−エチルヘキシル)アミン、ジアリルアミン、モルホリン等を;
1分子内に2個以上の1級アミノ基を有する化合物として、例えば上記ポリアミック酸の合成に使用するジアミンとして例示した化合物等を;1分子内に2個以上の2級アミノ基を有する化合物として、例えばピペラジン等を、挙げることができる。上記アミン化合物は、これらの1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
The amine compound used in the above [2] and [3] is not particularly limited as long as it has at least one specific amino group in one molecule. Specifically, as a compound having one primary amino group in one molecule, for example, aniline, cyclohexylamine, propylamine, butylamine, pentylamine, hexylamine, etc .; one secondary amino group in one molecule Examples of the compound having a group include dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, dibutylamine, dodecamethyleneimine, piperidine, pyrrolidine, hexamethyleneimine, heptamethyleneimine, dicyclohexylamine, N-methylbenzylamine, di- (2-ethylhexyl). ) Amines, diallylamine, morpholine, etc .;
As compounds having two or more primary amino groups in one molecule, for example, compounds exemplified as diamines used for the synthesis of the polyamic acid, etc .; as compounds having two or more secondary amino groups in one molecule For example, piperazine and the like can be mentioned. The said amine compound can use these 1 type individually or in combination of 2 or more types.

上記[4]で使用するエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物(e−1)としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−シクロヘキシルアミン等が挙げられる。上記化合物(e−1)は、これらの1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the compound (e-1) having an epoxy group or oxetanyl group used in the above [4] include ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexanediol diene. Glycidyl ether, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, N, N-diglycidyl-benzylamine, N, N-diglycidyl-aminomethylcyclohexane, N, N-diglycidyl-cyclohexyl An amine etc. are mentioned. The said compound (e-1) can use these 1 type individually or in combination of 2 or more types.

特定ケイ素化合物の合成反応に供されるアミン化合物と反応性基含有化合物との使用割合は、アミン化合物の特定アミノ基1当量に対して、反応性基含有化合物の反応性基が0.2〜2.5当量となる割合が好ましく、0.3〜2.2当量となる割合がより好ましい。
アミン化合物と反応性基含有化合物との反応は、好ましくは有機溶媒中で行われる。反応に使用する有機溶媒としては、アミン化合物及び反応性基含有化合物に対して不活性であって、かつこれらを溶解可能な溶媒であればよく、例えばN−メチル−2−ピロリドン等が挙げられる。反応温度は、好ましくは0〜80℃であり、より好ましくは10〜70℃である。反応時間は、好ましくは1〜60時間であり、より好ましくは10〜30時間である。
The use ratio of the amine compound and the reactive group-containing compound used for the synthesis reaction of the specific silicon compound is such that the reactive group of the reactive group-containing compound is 0.2 to 1 equivalent to 1 equivalent of the specific amino group of the amine compound. A ratio of 2.5 equivalents is preferable, and a ratio of 0.3 to 2.2 equivalents is more preferable.
The reaction between the amine compound and the reactive group-containing compound is preferably performed in an organic solvent. The organic solvent used in the reaction may be any solvent that is inactive with respect to the amine compound and the reactive group-containing compound and can dissolve them, and examples thereof include N-methyl-2-pyrrolidone. . The reaction temperature is preferably 0 to 80 ° C, more preferably 10 to 70 ° C. The reaction time is preferably 1 to 60 hours, more preferably 10 to 30 hours.

上記反応によって得られる特定ケイ素化合物の具体例としては、例えば下記式(1)で表される化合物などが挙げられる。

Figure 0006596931
(式(1)中、R19は水素原子若しくは1価の炭化水素基、又は分子内の2つのR19が結合して形成される2価の炭化水素基である。R20は3価の有機基であり、R21は2価の有機基であり、R22及びR23は、それぞれ独立に1価の炭化水素基であり、R24は(h+i)価の有機基である。Aは単結合又はカルボニル基であり、Aは単結合、カルボニル基又は炭素数1〜3のアルカンジイル基であり、B及びBは、それぞれ独立にカルボニル基又は炭素数1〜3のアルカンジイル基である。e、f、g及びiはそれぞれ独立に0〜4の整数であり、e+f+g≧1かつe+i≧1である。hは1〜4の整数であり、jは1〜3の整数である。ただし、R20、R22、R23、A、A、B及びBがそれぞれ複数存在する場合、複数のR20、R22、R23、A、A、B及びBは独立して上記定義を有する。) Specific examples of the specific silicon compound obtained by the above reaction include a compound represented by the following formula (1).
Figure 0006596931
(In Formula (1), R 19 is a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group, or a divalent hydrocarbon group formed by combining two R 19 in the molecule. R 20 is a trivalent group. an organic group, R 21 is a divalent organic group, R 22 and R 23 are each independently a monovalent hydrocarbon group, R 24 is (h + i) -valent organic group .A 1 Is a single bond or a carbonyl group, A 2 is a single bond, a carbonyl group or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, and B 1 and B 2 are each independently a carbonyl group or an alkane having 1 to 3 carbon atoms. E, f, g and i are each independently an integer of 0 to 4, e + f + g ≧ 1 and e + i ≧ 1, h is an integer of 1 to 4, and j is 1 to 3. An integer, where R 20 , R 22 , R 23 , A 1 , A 2 , B 1 and B When a plurality of 2 are present, a plurality of R 20 , R 22 , R 23 , A 1 , A 2 , B 1 and B 2 independently have the above definition.)

上記式(1)において、R19の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基などの直鎖状又は分岐状のアルキル基;シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基;などが挙げられる。これらのうち、R19は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基がより好ましい。
なお、R19が1分子内に2個以上存在する場合、分子内の2個のR19は、互いに結合して環の一部を構成していてもよい。この場合、式(1)中の「−R19−窒素原子−B−R24−B−窒素原子−R19−」で環が形成される。R19の結合により形成される環は2個の窒素原子を有する窒素含有複素環であり、例えばピペラジン環等が挙げられる。
In the above formula (1), examples of the monovalent hydrocarbon group for R 19 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, and a decyl group. A linear or branched alkyl group; a cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an aryl group such as a phenyl group or a tolyl group; an aralkyl group such as a benzyl group; Among these, R 19 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
In the case where R 19 there are two or more in one molecule, two R 19 in the molecule may constitute part of a ring bonded to each other. In this case, in the formula (1) ring is formed by "-R 19 - nitrogen atom -B 2 -R 24 -B 2 - - nitrogen atom -R 19". The ring formed by the bond of R 19 is a nitrogen-containing heterocyclic ring having two nitrogen atoms, and examples thereof include a piperazine ring.

20の3価の有機基としては、例えば炭素数1〜10の炭化水素基が挙げられ、好ましくは炭素数1〜3の鎖状炭化水素基である。R21の2価の有機基としては、例えば炭素数1〜6のアルカンジイル基又は当該アルカンジイル基のメチレン基が−O−に置き換わった2価の基などが挙げられる。
22及びR23の1価の炭化水素基としては、R19の1価の炭化水素基として例示した基が挙げられる。好ましくは炭素数1〜5のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。R24としては、例えば炭素数1〜20の炭化水素基、当該炭化水素基のメチレン基が−O−、−CO−、−COO−、−NH−、−NHCO−等で置き換わった基、炭化水素基の水素原子がハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)等で置換された基などが挙げられる。
Examples of the trivalent organic group R 20, for example, there are mentioned hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably a chain hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the divalent organic group represented by R 21 include a C 1-6 alkanediyl group or a divalent group in which a methylene group of the alkanediyl group is replaced with —O—.
Examples of the monovalent hydrocarbon group for R 22 and R 23 include the groups exemplified as the monovalent hydrocarbon group for R 19 . Preferably it is a C1-C5 alkyl group, More preferably, it is a C1-C3 alkyl group. Examples of R 24 include a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a group in which the methylene group of the hydrocarbon group is replaced by —O—, —CO—, —COO—, —NH—, —NHCO—, etc. Examples include a group in which a hydrogen atom of a hydrogen group is substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom).

e=0の場合、B及びBの少なくともいずれかがカルボニル基であり、かつAがカルボニル基であることが好ましい。この場合、特定ケイ素化合物は、特定ケイ素化合物が有するヒドロキシ基及び窒素含有構造が、それぞれカルボニル基に結合した構造を有することとなる。なお、ヒドロキシ基がカルボニル基に結合している場合、特定ケイ素化合物はカルボキシル基を有し、窒素含有構造がカルボニル基に結合している場合、特定ケイ素化合物はアミド結合(−CO−NR−)を有する。ただし、特定ケイ素化合物は、カルボキシル基とは別に更にヒドロキシ基を有していてもよく、またアミド結合とは別に更に−NR−を有していてもよい。 When e = 0, it is preferable that at least one of B 1 and B 2 is a carbonyl group, and A 1 is a carbonyl group. In this case, the specific silicon compound has a structure in which the hydroxy group and the nitrogen-containing structure of the specific silicon compound are respectively bonded to the carbonyl group. In addition, when the hydroxy group is bonded to the carbonyl group, the specific silicon compound has a carboxyl group, and when the nitrogen-containing structure is bonded to the carbonyl group, the specific silicon compound is an amide bond (—CO—NR—). Have However, the specific silicon compound may further have a hydroxy group in addition to the carboxyl group, and may further have —NR— in addition to the amide bond.

上記式(1)で表される化合物の具体例としては、例えば下記式(1−1)〜式(1−5)のそれぞれで表される化合物などが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the above formula (1) include compounds represented by the following formulas (1-1) to (1-5).

Figure 0006596931
(式(1−1)中、Rは4価の有機基であり、Rは2価の有機基であり、R及びRは、それぞれ独立に1価の炭化水素基であり、aは1〜3の整数である。ただし、複数のRは同じでも異なっていてもよい。R及びRがそれぞれ複数存在する場合、複数のR及び複数のRは同じでも異なっていてもよい。)
Figure 0006596931
(In Formula (1-1), R 1 is a tetravalent organic group, R 2 is a divalent organic group, R 3 and R 4 are each independently a monovalent hydrocarbon group, a is an integer of 1 to 3. However, when a plurality of R 2 is the optionally be the same or different .R 3 and R 4 are present in plural, even the plurality of R 3 and plural R 4 are the same or different May be.)

Figure 0006596931
(式(1−2)中、R及びRは、それぞれ独立に2価の有機基であり、Rは3価の有機基であり、R及びRはそれぞれ独立に1価の炭化水素基であり、bは1〜3の整数である。ただし、複数のRは同じでも異なっていてもよい。R及びRがそれぞれ複数存在する場合、複数のR及び複数のRは同じでも異なっていてもよい。)
Figure 0006596931
(In Formula (1-2), R 5 and R 7 are each independently a divalent organic group, R 6 is a trivalent organic group, and R 8 and R 9 are each independently monovalent. a hydrocarbon group, b is an integer of 1-3. However, the plurality R 6 If the good .R 8 and R 9 may be the same or different are present in plural, a plurality of R 8 and a plurality of R 9 may be the same or different.)

Figure 0006596931
(式(1−3)中、R10及びR11はそれぞれ独立に2価の有機基であり、R12及びR13はそれぞれ独立に1価の炭化水素基であり、cは1〜3の整数である。ただし、R12及びR13がそれぞれ複数存在する場合、複数のR12及び複数のR13は同じでも異なっていてもよい。)
Figure 0006596931
(In formula (1-3), R 10 and R 11 are each independently a divalent organic group, R 12 and R 13 are each independently a monovalent hydrocarbon group, and c is 1 to 3. (However, when there are a plurality of R 12 and R 13 , respectively, the plurality of R 12 and the plurality of R 13 may be the same or different.)

Figure 0006596931
(式(1−4)中、R14は1価の有機基であり、R15は3価の有機基であり、R16は2価の炭化水素基であり、R17及びR18はそれぞれ独立に1価の炭化水素基であり、dは1〜3の整数である。ただし、R17及びR18がそれぞれ複数存在する場合、複数のR17及び複数のR18は同じでも異なっていてもよい。)
Figure 0006596931
(In the formula (1-4), R 14 is a monovalent organic group, R 15 is a trivalent organic group, R 16 is a divalent hydrocarbon group, and R 17 and R 18 are respectively independently a monovalent hydrocarbon group, d is an integer of 1-3. However, if R 17 and R 18 are present in plural, plural R 17 and plural R 18 are either the same or different May be.)

Figure 0006596931
(式(1−5)中、R25は水素原子若しくは1価の炭化水素基、又は分子内の2つのR25が結合して形成される2価の炭化水素基である。R26は2価の有機基であり、R27は3価の有機基であり、R30は2価の有機基であり、R28及びR29はそれぞれ独立に1価の炭化水素基であり、kは1〜3の整数である。Aは単結合、カルボニル基又は炭素数1〜3のアルカンジイル基である。ただし、分子内に存在する複数のR25、R27、R30及びAは、互いに同じでも異なってもよい。R28及びR29がそれぞれ複数存在する場合、複数のR28及び複数のR29は同じでも異なっていてもよい。)
Figure 0006596931
(In Formula (1-5), R 25 is a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group, or a divalent hydrocarbon group formed by combining two R 25 in the molecule. R 26 is 2 R 27 is a trivalent organic group, R 30 is a divalent organic group, R 28 and R 29 are each independently a monovalent hydrocarbon group, and k is 1 A 3 is a single bond, a carbonyl group or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, provided that a plurality of R 25 , R 27 , R 30 and A 3 present in the molecule are And may be the same or different from each other. When there are a plurality of R 28 and R 29 , the plurality of R 28 and the plurality of R 29 may be the same or different.)

上記式(1−1)で表される化合物は、上記[1]の方法により合成することができ、具体的には、ケイ素化合物(s−1)としてアミノ基含有シラン化合物、及び酸無水物基を有する化合物(t−1)としてテトラカルボン酸二無水物を用い、これらを反応させることによって得ることができる。
ここで、上記式(1−1)において、Rの4価の有機基は、テトラカルボン酸二無水物に由来する4価の基である。Rの2価の有機基は、アミノ基含有シラン化合物に由来する2価の基であり、例えば炭素数1〜6のアルカンジイル基、該アルカンジイル基の炭素−炭素結合間に−NH−を有する2価の基などが挙げられる。
及びRの1価の炭化水素基としては、上記式(1)中のR19の1価の炭化水素基として例示した基が挙げられる。好ましくは炭素数1〜5のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。
The compound represented by the above formula (1-1) can be synthesized by the method of [1], specifically, an amino group-containing silane compound and an acid anhydride as the silicon compound (s-1). It can be obtained by using tetracarboxylic dianhydride as the compound (t-1) having a group and reacting them.
Here, in the above formula (1-1), the tetravalent organic group of R 1 is a tetravalent group derived from tetracarboxylic dianhydride. The divalent organic group of R 2 is a divalent group derived from an amino group-containing silane compound. For example, an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and —NH— between the carbon-carbon bonds of the alkanediyl group. And a divalent group having.
Examples of the monovalent hydrocarbon group for R 3 and R 4 include the groups exemplified as the monovalent hydrocarbon group for R 19 in the above formula (1). Preferably it is a C1-C5 alkyl group, More preferably, it is a C1-C3 alkyl group.

上記式(1−2)で表される化合物は、上記[2]の方法により合成することができ、具体的には、ケイ素化合物(s−2)として酸無水物基含有シラン化合物、及び上記アミン化合物としてジアミンを用い、これらを反応させることによって得ることができる。
ここで、上記式(1−2)において、Rの2価の有機基は、ジアミンに由来する2価の基である。Rの2価の有機基は、酸無水物基含有シラン化合物に由来する2価の有機基であり、例えば炭素数1〜6のアルカンジイル基などが挙げられる。Rの3価の有機基としては、例えば炭素数1〜5の鎖状炭化水素基などが挙げられる。R及びRの1価の炭化水素基としては、上記式(1)中のR19の1価の炭化水素基として例示した基が挙げられる。好ましくは炭素数1〜5のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。
The compound represented by the above formula (1-2) can be synthesized by the method of [2] above. Specifically, an acid anhydride group-containing silane compound as the silicon compound (s-2), and the above It can be obtained by using diamine as the amine compound and reacting them.
Here, in the above formula (1-2), the divalent organic group represented by R 5 is a divalent group derived from diamine. The divalent organic group of R 7 is a divalent organic group derived from an acid anhydride group-containing silane compound, and examples thereof include an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the trivalent organic group for R 6 include a chain hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group for R 8 and R 9 include the groups exemplified as the monovalent hydrocarbon group for R 19 in the above formula (1). Preferably it is a C1-C5 alkyl group, More preferably, it is a C1-C3 alkyl group.

上記式(1−3)で表される化合物は、上記[1]の方法により合成することができ、具体的には、ケイ素化合物(s−1)としてアミノ基含有シラン化合物、及び酸無水物基を有する化合物(t−1)として酸一無水物を用い、これらを反応させることによって得ることができる。
ここで、上記式(1−3)において、R10の2価の有機基は、酸一無水物に由来する2価の基であり、例えば炭素数2〜20の2価の炭化水素基などが挙げられる。R11の2価の有機基は、アミノ基含有シラン化合物に由来する2価の基であり、例えば炭素数1〜6のアルカンジイル基、該アルカンジイル基の炭素−炭素結合間に−NH−を有する2価の基などが挙げられる。
12及びR13の1価の炭化水素基としては、上記式(1)中のR19の1価の炭化水素基として例示した基が挙げられる。好ましくは炭素数1〜5のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。
The compound represented by the above formula (1-3) can be synthesized by the method of [1], specifically, an amino group-containing silane compound and an acid anhydride as the silicon compound (s-1). It can be obtained by using acid monoanhydride as the compound (t-1) having a group and reacting them.
Here, in the above formula (1-3), the divalent organic group represented by R 10 is a divalent group derived from an acid monoanhydride, such as a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms. Is mentioned. The divalent organic group of R 11 is a divalent group derived from an amino group-containing silane compound. For example, an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and —NH— between the carbon-carbon bonds of the alkanediyl group. And a divalent group having.
Examples of the monovalent hydrocarbon group for R 12 and R 13 include the groups exemplified as the monovalent hydrocarbon group for R 19 in the above formula (1). Preferably it is a C1-C5 alkyl group, More preferably, it is a C1-C3 alkyl group.

上記式(1−4)で表される化合物は、上記[2]の方法により合成することができ、具体的には、ケイ素化合物(s−2)として酸無水物基含有シラン化合物、及び上記アミン化合物としてモノアミンを用い、これらを反応させることによって得ることができる。
ここで、上記式(1−4)において、R14の1価の有機基は、モノアミンに由来する1価の基である。R15の3価の有機基としては、例えば炭素数1〜5の鎖状炭化水素基などが挙げられる。R16の2価の有機基は、酸無水物基含有シラン化合物に由来する2価の有機基であり、例えば炭素数1〜6のアルカンジイル基などが挙げられる。R17及びR18の1価の炭化水素基としては、上記式(1)中のR19の1価の炭化水素基として例示した基が挙げられる。好ましくは炭素数1〜5のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。
The compound represented by the above formula (1-4) can be synthesized by the method of [2], specifically, an acid anhydride group-containing silane compound as the silicon compound (s-2), and the above It can be obtained by using monoamines as amine compounds and reacting them.
Here, in the above formula (1-4), the monovalent organic group of R 14 is a monovalent group derived from monoamine. Examples of the trivalent organic group for R 15 include a chain hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. The divalent organic group of R 16 is a divalent organic group derived from an acid anhydride group-containing silane compound, and examples thereof include an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group for R 17 and R 18 include the groups exemplified as the monovalent hydrocarbon group for R 19 in the above formula (1). Preferably it is a C1-C5 alkyl group, More preferably, it is a C1-C3 alkyl group.

上記式(1−5)で表される化合物は、上記[3]の方法により合成することができ、具体的には、ケイ素化合物(s−3)としてエポキシ基含有シラン化合物又はオキセタニル基含有シラン化合物、及び上記アミン化合物として上記例示の化合物を用い、これらを反応させることによって得ることができる。
ここで、上記式(1−5)において、R26の2価の有機基は、アミン化合物に由来する2価の基である。R27の3価の有機基としては、例えば炭素数1〜5の鎖状炭化水素基などが挙げられる。R30の2価の有機基は、エポキシ基含有シラン化合物又はオキセタニル基含有シラン化合物に由来する2価の基であり、例えば炭素数1〜5のアルカンジイル基又は該アルカンジイル基の炭素−炭素結合間に−O−を有する2価の基などが挙げられる。R25、R28及びR29の1価の炭化水素基としては、上記式(1)中のR19の1価の炭化水素基として例示した基が挙げられる。好ましくは炭素数1〜5のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。Aは、単結合又は炭素数1〜3のアルカンジイル基であることが好ましい。
The compound represented by the above formula (1-5) can be synthesized by the method of [3], specifically, an epoxy group-containing silane compound or an oxetanyl group-containing silane as the silicon compound (s-3). It can be obtained by reacting a compound and the compound exemplified above as the amine compound.
Here, in the above formula (1-5), the divalent organic group represented by R 26 is a divalent group derived from an amine compound. Examples of the trivalent organic group represented by R 27 include a chain hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. The divalent organic group of R 30 is a divalent group derived from an epoxy group-containing silane compound or an oxetanyl group-containing silane compound, such as an alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms or a carbon-carbon of the alkanediyl group. And a divalent group having —O— between the bonds. Examples of the monovalent hydrocarbon group for R 25 , R 28 and R 29 include the groups exemplified as the monovalent hydrocarbon group for R 19 in the above formula (1). Preferably it is a C1-C5 alkyl group, More preferably, it is a C1-C3 alkyl group. A 3 is preferably a single bond or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.

特定ケイ素化合物が、ウレア構造を有するケイ素化合物である場合の好ましい具体例としては、例えば下記式(2)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0006596931
(式(2)中、R31及びR32は、それぞれ独立に1価の炭化水素基であり、R33は2価の有機基であり、R34は1価の有機基である。tは1〜3の整数である。ただし、R31、R32が複数存在する場合、複数のR31、R32は独立して上記定義を有する。) Preferable specific examples in the case where the specific silicon compound is a silicon compound having a urea structure include, for example, a compound represented by the following formula (2).
Figure 0006596931
(In Formula (2), R 31 and R 32 are each independently a monovalent hydrocarbon group, R 33 is a divalent organic group, and R 34 is a monovalent organic group. 1-3 is an integer. However, if R 31, R 32 there are a plurality, a plurality of R 31, R 32 have the above defined independently.)

上記式(2)において、R31及びR32は、メチル基又はエチル基が好ましい。R33としては、例えば炭素数1〜6のアルカンジイル基又は当該アルカンジイル基のメチレン基が−O−に置き換わった2価の基などが挙げられる。R34としては、例えば1価の炭化水素基、1価の脂環式基などが挙げられる。
上記式(2)で表される化合物の具体例としては、例えば1−(ピリジン−2−イル)−3−(3−トリエトキシシリル)プロピル)ウレア、1−(ピリジン−2−イル)−3−(3−トリメトキシシリル)プロピル)ウレア、1−(ピリジン−2−イル)−3−(3−メチルジエトキシシリル)プロピル)ウレア等が挙げられる。なお、ウレア構造を有するケイ素化合物としては、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
In the above formula (2), R 31 and R 32 are preferably a methyl group or an ethyl group. Examples of R 33 include a C1-C6 alkanediyl group or a divalent group in which a methylene group of the alkanediyl group is replaced with —O—. Examples of R 34 include a monovalent hydrocarbon group and a monovalent alicyclic group.
Specific examples of the compound represented by the above formula (2) include, for example, 1- (pyridin-2-yl) -3- (3-triethoxysilyl) propyl) urea, 1- (pyridin-2-yl)- 3- (3-trimethoxysilyl) propyl) urea, 1- (pyridin-2-yl) -3- (3-methyldiethoxysilyl) propyl) urea and the like. In addition, as a silicon compound which has a urea structure, 1 type can be used individually or in combination of 2 or more types.

本開示の液晶配向剤に含有させる特定ケイ素化合物としては、上記の中でも、上記式(1)で表される化合物及び上記式(2)で表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種を特に好ましく使用することができる。なお、特定ケイ素化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   As the specific silicon compound contained in the liquid crystal aligning agent of the present disclosure, among the above, at least one selected from the group consisting of the compound represented by the above formula (1) and the compound represented by the above formula (2) is particularly preferable. It can be preferably used. In addition, a specific silicon compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

特定ケイ素化合物の配合割合は、液晶配向剤の重合体成分の合計100重量部に対して、0.01〜50重量部とすることが好ましい。0.01重量部未満とすると、有機ケイ素化合物の添加による改善効果が得にくく、50重量部よりも多くすると、液晶配向性が低下する傾向にあるからである。より好ましくは、0.05〜40重量部であり、更に好ましくは0.1〜35重量部であり、特に好ましくは0.1〜30重量部である。なお、特定ケイ素化合物は、上記の1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The blending ratio of the specific silicon compound is preferably 0.01 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total polymer components of the liquid crystal aligning agent. This is because if the amount is less than 0.01 part by weight, the improvement effect due to the addition of the organosilicon compound is difficult to obtain, and if the amount exceeds 50 parts by weight, the liquid crystal orientation tends to decrease. More preferably, it is 0.05-40 weight part, More preferably, it is 0.1-35 weight part, Especially preferably, it is 0.1-30 weight part. In addition, a specific silicon compound can be used individually by said 1 type or in combination of 2 or more types.

<その他の成分>
本開示の液晶配向剤は、必要に応じて、重合体(P)及び特定ケイ素化合物以外のその他の成分を含有していてもよい。当該その他の成分としては、例えばポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステル以外のその他の重合体、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物(以下、「エポキシ基含有化合物」という。)、特定ケイ素化合物以外のその他の官能性シラン化合物等を挙げることができる。
<Other ingredients>
The liquid crystal aligning agent of this indication may contain other components other than a polymer (P) and a specific silicon compound as needed. Examples of the other components include polymers other than polyamic acid, polyimide and polyamic acid ester, compounds having at least one epoxy group in the molecule (hereinafter referred to as “epoxy group-containing compound”), and specific silicon compounds. Other functional silane compounds other than can be mentioned.

[その他の重合体]
上記その他の重合体は、溶液特性や電気特性の改善のために使用することができる。かかるその他の重合体としては、例えばポリオルガノシロキサン、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレートなどを主骨格に有する重合体等が挙げられる。
その他の重合体を液晶配向剤に添加する場合、その配合割合は、液晶配向剤中に含まれる重合体の合計100重量部に対して、50重量部以下とすることが好ましく、0.1〜40重量部とすることがより好ましく、0.1〜30重量部以下とすることが更に好ましい。
[Other polymers]
The above other polymers can be used for improving solution properties and electrical properties. Examples of such other polymers include polymers having a main skeleton of polyorganosiloxane, polyester, polyamide, cellulose derivative, polyacetal, polystyrene derivative, poly (styrene-phenylmaleimide) derivative, poly (meth) acrylate, and the like. It is done.
When adding another polymer to a liquid crystal aligning agent, it is preferable that the mixture ratio shall be 50 weight part or less with respect to a total of 100 weight part of the polymer contained in a liquid crystal aligning agent, The amount is more preferably 40 parts by weight, and still more preferably 0.1 to 30 parts by weight.

[エポキシ基含有化合物]
エポキシ基含有化合物は、液晶配向膜における基板表面との接着性や電気特性を向上させるために使用することができる。このようなエポキシ基含有化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−シクロヘキシルアミン等を好ましいものとして挙げることができる。その他、エポキシ基含有化合物の例としては、国際公開第2009/096598号記載のエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを用いることができる。
エポキシ基含有化合物を液晶配向剤に添加する場合、その配合割合は、液晶配向剤中に含まれる重合体の合計100重量部に対して、40重量部以下とすることが好ましく、0.1〜30重量部とすることがより好ましい。
[Epoxy group-containing compound]
The epoxy group-containing compound can be used to improve the adhesion and electrical properties with the substrate surface in the liquid crystal alignment film. Examples of the epoxy group-containing compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1 , 6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylylene diene Amine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diamy Diphenylmethane, N, N-diglycidyl - benzylamine, N, N-diglycidyl - aminomethyl cyclohexane, N, N-diglycidyl - may be mentioned as being preferred and cyclohexylamine. In addition, as an example of the epoxy group-containing compound, an epoxy group-containing polyorganosiloxane described in International Publication No. 2009/096598 can be used.
When adding an epoxy group containing compound to a liquid crystal aligning agent, it is preferable that the mixture ratio shall be 40 weight part or less with respect to a total of 100 weight part of the polymer contained in a liquid crystal aligning agent. More preferably, it is 30 parts by weight.

[その他の官能性シラン化合物]
その他の官能性シラン化合物は、液晶配向剤の印刷性の向上を目的として使用することができる。このような官能性シラン化合物としては、例えば3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10−トリメトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノナン酸メチル、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、2−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
その他の官能性シラン化合物を液晶配向剤に添加する場合、その配合割合は、液晶配向剤中に含まれる重合体の合計100重量部に対して、2重量部以下とすることが好ましく、0.02〜0.2重量部とすることがより好ましい。
[Other functional silane compounds]
Other functional silane compounds can be used for the purpose of improving the printability of the liquid crystal aligning agent. Examples of such functional silane compounds include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl). ) -3-Aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3- Aminopropyltrimethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-trimethoxysilyl -3,6- Methyl azananoate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 3-glycid And xylpropyltrimethoxysilane.
When other functional silane compounds are added to the liquid crystal aligning agent, the blending ratio is preferably 2 parts by weight or less with respect to a total of 100 parts by weight of the polymer contained in the liquid crystal aligning agent. It is more preferable to set it as 02-0.2 weight part.

なお、その他の成分としては、上記のほか、分子内に少なくとも一つのオキセタニル基を有する化合物や酸化防止剤、金属キレート化合物、硬化促進剤、界面活性剤、充填剤、分散剤、増感剤などを挙げることができる。   As other components, in addition to the above, compounds having at least one oxetanyl group in the molecule, antioxidants, metal chelate compounds, curing accelerators, surfactants, fillers, dispersants, sensitizers, etc. Can be mentioned.

<溶剤>
本開示の液晶配向剤は、重合体(P)、特定ケイ素化合物及び必要に応じて使用されるその他の成分が、好ましくは適当な溶媒中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。
<Solvent>
The liquid crystal aligning agent of the present disclosure is prepared as a liquid composition in which the polymer (P), the specific silicon compound and other components used as necessary are preferably dispersed or dissolved in an appropriate solvent. The

使用する有機溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等を挙げることができる。これらは、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   Examples of the organic solvent to be used include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, Ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether , Ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol Recall diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diisobutyl ketone, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate, diisopentyl ether, ethylene carbonate, propylene carbonate, etc. be able to. These can be used alone or in admixture of two or more.

液晶配向剤における固形分濃度(液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合)は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1〜10重量%の範囲である。すなわち、液晶配向剤は、後述するように基板表面に塗布され、好ましくは加熱されることにより、液晶配向膜である塗膜又は液晶配向膜となる塗膜が形成される。このとき、固形分濃度が1重量%未満である場合には、塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜が得にくくなる。一方、固形分濃度が10重量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜が得にくく、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布性が低下する傾向にある。   The solid content concentration in the liquid crystal aligning agent (the ratio of the total weight of components other than the solvent of the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) is appropriately selected in consideration of viscosity, volatility, etc. It is in the range of 1 to 10% by weight. That is, the liquid crystal aligning agent is applied to the substrate surface as will be described later, and preferably heated to form a coating film that is a liquid crystal alignment film or a coating film that becomes a liquid crystal alignment film. At this time, when the solid content concentration is less than 1% by weight, the film thickness of the coating film becomes too small, and it becomes difficult to obtain a good liquid crystal alignment film. On the other hand, when the solid content concentration exceeds 10% by weight, it is difficult to obtain a good liquid crystal alignment film because the film thickness is excessive, and the viscosity of the liquid crystal aligning agent increases and the applicability decreases. There is a tendency.

特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって異なる。例えばスピンナー法により基板に塗布する場合には、固形分濃度(液晶配向剤中の溶媒以外の全成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合)が1.5〜4.5重量%の範囲であることが特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を3〜9重量%の範囲とし、それにより溶液粘度を12〜50mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を1〜5重量%の範囲とし、それにより、溶液粘度を3〜15mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは10〜50℃であり、より好ましくは20〜30℃である。   The particularly preferable range of the solid content concentration varies depending on the method used when the liquid crystal aligning agent is applied to the substrate. For example, when applied to a substrate by the spinner method, the solid content concentration (the ratio of the total weight of all components other than the solvent in the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) is 1.5 to 4.5% by weight. It is particularly preferable that the range is In the case of the printing method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 3 to 9% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 12 to 50 mPa · s. In the case of the inkjet method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 1 to 5% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 3 to 15 mPa · s. The temperature when preparing the liquid crystal aligning agent is preferably 10 to 50 ° C, more preferably 20 to 30 ° C.

<液晶表示素子>
本開示の液晶表示素子は、上記で説明した液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜を具備する。液晶表示素子の動作モードは特に限定せず、例えばTN型、STN型、VA型(VA−MVA型、VA−PVA型などを含む。)、IPS型、FFS型、OCB(Optically Compensated Bend)型など種々の動作モードに適用することができる。
<Liquid crystal display element>
The liquid crystal display element of this indication comprises the liquid crystal aligning film formed using the liquid crystal aligning agent demonstrated above. The operation mode of the liquid crystal display element is not particularly limited, and for example, TN type, STN type, VA type (including VA-MVA type, VA-PVA type, etc.), IPS type, FFS type, OCB (Optically Compensated Bend) type. It can be applied to various operation modes.

液晶表示素子は、例えば以下の工程(1)〜(3)を含む方法により製造することができる。工程(1)は、所望の動作モードによって使用基板が異なる。工程(2)及び工程(3)は各動作モード共通である。   A liquid crystal display element can be manufactured by the method including the following processes (1)-(3), for example. In step (1), the substrate to be used varies depending on the desired operation mode. Step (2) and step (3) are common to each operation mode.

[工程(1):塗膜の形成]
先ず、基板上に液晶配向剤を塗布し、次いで塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。
(1−A)例えばTN型、STN型又はVA型の液晶表示素子を製造する場合、まず、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板二枚を一対として、その各透明性導電膜形成面上に、液晶配向剤を、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法又はインクジェット印刷法によりそれぞれ塗布する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ(脂環式オレフィン)などのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ(SnO)からなるNESA膜(米国PPG社、登録商標)、酸化インジウム−酸化スズ(In−SnO)からなるITO膜などを用いることができる。パターニングされた透明導電膜を得るには、例えばパターンなし透明導電膜を形成した後、フォト・エッチングによりパターンを形成する方法;透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法;などによることができる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板表面及び透明導電膜と塗膜との接着性を更に良好にするために、基板表面のうち塗膜を形成する面に、官能性シラン化合物、官能性チタン化合物などを予め塗布する前処理を施しておいてもよい。
[Step (1): Formation of coating film]
First, a liquid crystal aligning agent is apply | coated on a board | substrate, Then, a coating film is formed on a board | substrate by heating an application surface.
(1-A) For example, when manufacturing a TN type, STN type, or VA type liquid crystal display element, first, a pair of two substrates provided with patterned transparent conductive films is formed, and each transparent conductive film is formed. On the surface, a liquid crystal aligning agent is preferably applied by an offset printing method, a spin coating method, a roll coater method or an ink jet printing method, respectively. As the substrate, for example, glass such as float glass or soda glass; a transparent substrate made of plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, poly (cycloaliphatic olefin) can be used. As the transparent conductive film provided on one surface of the substrate, an NESA film (US PPG, registered trademark) made of tin oxide (SnO 2 ), an ITO film made of indium oxide-tin oxide (In 2 O 3 —SnO 2 ), etc. Can be used. In order to obtain a patterned transparent conductive film, for example, after forming a transparent conductive film without a pattern, a method of forming a pattern by photo-etching; a method of using a mask having a desired pattern when forming a transparent conductive film; And so on. In applying the liquid crystal aligning agent, in order to further improve the adhesion between the substrate surface and the transparent conductive film and the coating film, a functional silane compound or a functional titanium compound is formed on the surface of the substrate surface on which the coating film is formed. It is also possible to perform a pretreatment to apply the above in advance.

液晶配向剤を塗布した後、塗布した液晶配向剤の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱(プレベーク)が実施される。プレベーク温度は、好ましくは30〜200℃であり、より好ましくは40〜150℃であり、特に好ましくは40〜100℃である。プレベーク時間は、好ましくは0.25〜10分であり、より好ましくは0.5〜5分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じて、重合体に存在するアミック酸構造を熱イミド化することを目的として焼成(ポストベーク)工程が実施される。このときの焼成温度(ポストベーク温度)は、好ましくは80〜300℃であり、より好ましくは120〜250℃である。ポストベーク時間は、好ましくは5〜200分であり、より好ましくは10〜100分である。このようにして形成される膜の膜厚は、好ましくは0.001〜1μmであり、より好ましくは0.005〜0.5μmである。   After applying the liquid crystal aligning agent, preheating (pre-baking) is preferably performed for the purpose of preventing dripping of the applied liquid crystal aligning agent. The pre-baking temperature is preferably 30 to 200 ° C, more preferably 40 to 150 ° C, and particularly preferably 40 to 100 ° C. The pre-bake time is preferably 0.25 to 10 minutes, and more preferably 0.5 to 5 minutes. Thereafter, the solvent is completely removed, and if necessary, a baking (post-baking) step is performed for the purpose of thermally imidizing the amic acid structure present in the polymer. The firing temperature (post-bake temperature) at this time is preferably 80 to 300 ° C, more preferably 120 to 250 ° C. The post-bake time is preferably 5 to 200 minutes, more preferably 10 to 100 minutes. The thickness of the film thus formed is preferably 0.001 to 1 μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm.

(1−B)IPS型又はFFS型の液晶表示素子を製造する場合、櫛歯型にパターニングされた透明導電膜又は金属膜からなる電極が設けられている基板の電極形成面と、電極が設けられていない対向基板の一面とに液晶配向剤をそれぞれ塗布し、次いで各塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。このとき使用される基板及び透明導電膜の材質、塗布方法、塗布後の加熱条件、透明導電膜又は金属膜のパターニング方法、基板の前処理、並びに形成される塗膜の好ましい膜厚については上記(1−A)と同様である。金属膜としては、例えばクロムなどの金属からなる膜を使用することができる。   (1-B) When manufacturing an IPS type or FFS type liquid crystal display element, an electrode forming surface of a substrate provided with an electrode made of a transparent conductive film or a metal film patterned in a comb shape, and an electrode are provided. A liquid crystal aligning agent is apply | coated to one surface of the counter substrate which is not formed, respectively, Then, each coating surface is heated and a coating film is formed. Regarding the material used for the substrate and the transparent conductive film, the coating method, the heating conditions after coating, the patterning method for the transparent conductive film or the metal film, the pretreatment of the substrate, and the preferred film thickness of the coating film to be formed Same as (1-A). As the metal film, for example, a film made of a metal such as chromium can be used.

上記(1−A)及び(1−B)のいずれの場合も、基板上に液晶配向剤を塗布した後、有機溶媒を除去することによって液晶配向膜又は液晶配向膜となる塗膜が形成される。このとき、塗膜形成後に更に加熱することによって、液晶配向剤に配合されているポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドの脱水閉環反応を進行させ、よりイミド化された塗膜としてもよい。   In both cases (1-A) and (1-B), after applying the liquid crystal aligning agent on the substrate, the organic solvent is removed to form a liquid crystal alignment film or a liquid crystal alignment film. The At this time, by further heating after the coating film is formed, the dehydration ring-closing reaction of the polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide compounded in the liquid crystal aligning agent may be advanced to obtain a more imidized coating film.

[工程(2):配向能付与処理]
TN型、STN型、IPS型又はFFS型の液晶表示素子を製造する場合、上記工程(1)で形成した塗膜に液晶配向能を付与する処理を実施する。これにより、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜となる。配向能付与処理としては、塗膜を、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビング処理、塗膜に対して偏光又は非偏光の放射線を照射する光配向処理などが挙げられる。特に、上記液晶配向剤で形成した液晶配向膜はラビング耐性が高く、配向能付与処理としてラビング処理を採用した場合にも、傷や膜剥がれが生じにくい。一方、VA型液晶表示素子を製造する場合には、上記工程(1)で形成した塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができるが、該塗膜に対し配向能付与処理を施してもよい。
[Step (2): Orientation ability imparting treatment]
When manufacturing a TN type, STN type, IPS type, or FFS type liquid crystal display element, the process which provides liquid crystal aligning ability to the coating film formed at the said process (1) is implemented. Thereby, the orientation ability of liquid crystal molecules is imparted to the coating film to form a liquid crystal orientation film. The alignment ability imparting treatment includes a rubbing treatment in which the coating film is rubbed in a fixed direction with a roll wound with a fiber made of, for example, nylon, rayon, or cotton, and light that irradiates the coating film with polarized or non-polarized radiation. An alignment process etc. are mentioned. In particular, the liquid crystal alignment film formed with the liquid crystal aligning agent has high rubbing resistance, and even when the rubbing treatment is adopted as the alignment ability imparting treatment, scratches and film peeling hardly occur. On the other hand, when manufacturing a VA type liquid crystal display element, the coating film formed in the above step (1) can be used as it is as a liquid crystal alignment film, but even if the coating film is subjected to alignment ability imparting treatment. Good.

なお、ラビング処理後の液晶配向膜に対して更に、液晶配向膜の一部に紫外線を照射することによって液晶配向膜の一部の領域のプレチルト角を変化させる処理や、液晶配向膜表面の一部にレジスト膜を形成した上で先のラビング処理と異なる方向にラビング処理を行った後にレジスト膜を除去する処理を行い、液晶配向膜が領域ごとに異なる液晶配向能を持つようにしてもよい。この場合、得られる液晶表示素子の視界特性を改善することが可能である。VA型の液晶表示素子に好適な液晶配向膜は、PSA(Polymer sustained alignment)型の液晶表示素子にも好適に用いることができる。   Note that the liquid crystal alignment film after the rubbing treatment is further subjected to a process for changing the pretilt angle of a part of the liquid crystal alignment film by irradiating a part of the liquid crystal alignment film with ultraviolet rays, A resist film is formed on the part, and a rubbing process is performed in a direction different from the previous rubbing process, followed by a process of removing the resist film, so that the liquid crystal alignment film has different liquid crystal alignment capabilities for each region. . In this case, it is possible to improve the visibility characteristics of the obtained liquid crystal display element. A liquid crystal alignment film suitable for a VA liquid crystal display element can also be suitably used for a PSA (Polymer sustained alignment) type liquid crystal display element.

[工程(3):液晶セルの構築]
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を2枚準備し、対向配置した2枚の基板間に液晶を配置することにより液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば以下の2つの方法が挙げられる。第一の方法は、従来から知られている方法である。先ず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙(セルギャップ)を介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造することができる。また、第二の方法は、ODF(One Drop Fill)方式と呼ばれる手法である。液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に、例えば紫外光硬化性のシール剤を塗布し、更に液晶配向膜面上の所定の数箇所に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせるとともに液晶を基板の全面に押し広げ、次いで、基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造することができる。いずれの方法による場合でも、上記のようにして製造した液晶セルにつき更に、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが望ましい。
[Step (3): Construction of liquid crystal cell]
Two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed as described above are prepared, and a liquid crystal cell is manufactured by disposing a liquid crystal between the two substrates disposed to face each other. In order to manufacture a liquid crystal cell, the following two methods are mentioned, for example. The first method is a conventionally known method. First, two substrates are arranged opposite to each other through a gap (cell gap) so that the respective liquid crystal alignment films are opposed to each other, and the peripheral portions of the two substrates are bonded together using a sealant, and the substrate surface and the sealant are bonded. A liquid crystal cell can be manufactured by injecting and filling liquid crystal into the cell gap partitioned by the step, and then sealing the injection hole. The second method is a method called an ODF (One Drop Fill) method. For example, an ultraviolet light curable sealant is applied to a predetermined location on one of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed, and liquid crystal is dropped to a predetermined location on the liquid crystal alignment film surface. After that, the other substrate is bonded so that the liquid crystal alignment film faces and the liquid crystal is spread over the entire surface of the substrate, and then the entire surface of the substrate is irradiated with ultraviolet light to cure the sealing agent, thereby Can be manufactured. Regardless of which method is used, the liquid crystal cell produced as described above is further heated to a temperature at which the used liquid crystal takes an isotropic phase, and then slowly cooled to room temperature, thereby removing the flow alignment at the time of filling the liquid crystal. It is desirable to do.

シール剤としては、例えば硬化剤及びスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。
液晶としては、ネマチック液晶及びスメクチック液晶を挙げることができ、その中でもネマチック液晶が好ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを用いることができる。また、これらの液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック液晶;商品名「C−15」、「CB−15」(メルク社製)として販売されているようなカイラル剤;p−デシロキシベンジリデン−p−アミノ−2−メチルブチルシンナメートなどの強誘電性液晶などを、添加して使用してもよい。
As the sealing agent, for example, an epoxy resin containing a curing agent and aluminum oxide spheres as a spacer can be used.
Examples of the liquid crystal include nematic liquid crystal and smectic liquid crystal. Among them, nematic liquid crystal is preferable. For example, Schiff base liquid crystal, azoxy liquid crystal, biphenyl liquid crystal, phenylcyclohexane liquid crystal, ester liquid crystal, terphenyl liquid crystal, biphenyl. Cyclohexane liquid crystals, pyrimidine liquid crystals, dioxane liquid crystals, bicyclooctane liquid crystals, cubane liquid crystals, and the like can be used. Further, cholesteric liquid crystals such as cholestyl chloride, cholesteryl nonate, and cholesteryl carbonate; chiral agents such as those sold under the trade names “C-15” and “CB-15” (manufactured by Merck & Co., Inc.). A ferroelectric liquid crystal such as p-decyloxybenzylidene-p-amino-2-methylbutylcinnamate may be added and used.

そして、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより液晶表示素子を得ることができる。液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はH膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。   And a liquid crystal display element can be obtained by sticking a polarizing plate on the outer surface of a liquid crystal cell. As a polarizing plate to be bonded to the outer surface of the liquid crystal cell, a polarizing film or an H film itself in which a polarizing film called an “H film” in which iodine is absorbed while stretching and aligning polyvinyl alcohol is sandwiched between cellulose acetate protective films The polarizing plate which consists of can be mentioned.

本開示の液晶表示素子は、種々の装置に有効に適用することができ、例えば、時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、PDA、デジタルカメラ、携帯電話、スマートフォン、タブレットPC、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイなどの各種表示装置に用いることができる。   The liquid crystal display element of the present disclosure can be effectively applied to various devices, such as watches, portable games, word processors, notebook computers, car navigation systems, camcorders, PDAs, digital cameras, cellular phones, smartphones, It can be used for various display devices such as tablet PCs, various monitors, liquid crystal televisions, and information displays.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

以下の合成例において、重合体の重量平均分子量Mw及びイミド化率、並びに重合体溶液の溶液粘度は以下の方法により測定した。なお、以下では、式Xで表される化合物を単に「化合物X」と記すことがある。
[重合体の重量平均分子量Mw]
Mwは、以下の条件におけるGPCにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム:東ソー(株)製、TSKgelGRCXLII
溶剤:テトラヒドロフラン
温度:40℃
圧力:68kgf/cm
[重合体のイミド化率]
ポリイミドを含有する溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温でH−NMRを測定した。得られたH−NMRスペクトルから、下記数式(1)を用いてイミド化率を求めた。
イミド化率(%)=(1−A/A×α)×100 …(1)
(数式(1)中、Aは化学シフト10ppm付近に現れるNH基のプロトン由来のピーク面積であり、Aはその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体(ポリアミック酸)におけるNH基のプロトン1個に対するその他のプロトンの個数割合である。)
[重合体溶液の溶液粘度]
重合体溶液の溶液粘度(mPa・s)は、E型回転粘度計を用いて25℃で測定した。
In the following synthesis examples, the weight average molecular weight Mw and imidization rate of the polymer, and the solution viscosity of the polymer solution were measured by the following methods. Hereinafter, the compound represented by Formula X may be simply referred to as “Compound X”.
[Weight average molecular weight Mw of polymer]
Mw is a polystyrene equivalent value measured by GPC under the following conditions.
Column: Tosoh Co., Ltd., TSKgelGRCXLII
Solvent: Tetrahydrofuran Temperature: 40 ° C
Pressure: 68 kgf / cm 2
[Imidation rate of polymer]
A solution containing polyimide is poured into pure water, and the resulting precipitate is sufficiently dried at room temperature under reduced pressure, then dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide, and 1 H-NMR is measured at room temperature using tetramethylsilane as a reference substance. did. From the obtained 1 H-NMR spectrum, the imidation ratio was determined using the following mathematical formula (1).
Imidation ratio (%) = (1-A 1 / A 2 × α) × 100 (1)
(In Formula (1), A 1 is a peak area derived from protons of NH groups appearing near a chemical shift of 10 ppm, A 2 is a peak area derived from other protons, and α is a precursor of a polymer (polyamic acid). The number ratio of other protons to one proton of NH group in)
[Solution viscosity of polymer solution]
The solution viscosity (mPa · s) of the polymer solution was measured at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer.

<有機ケイ素化合物の合成>
[合成例1−1;化合物(Si−1)の合成]
3−アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)及び1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CB)をAPTES:CB=2:1(モル比)の配合比率でN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に加えて撹拌し、25℃で6時間反応させ、有機ケイ素化合物として化合物(Si−1)を含有する溶液を得た。
<Synthesis of organosilicon compounds>
[Synthesis Example 1-1; Synthesis of Compound (Si-1)]
3-aminopropyltriethoxysilane (APTES) and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CB) were mixed with N-methyl-2 at a blend ratio of APTES: CB = 2: 1 (molar ratio). -In addition to pyrrolidone (NMP), the mixture was stirred and reacted at 25 ° C for 6 hours to obtain a solution containing the compound (Si-1) as an organosilicon compound.

[合成例1−2〜合成例1−6]
反応に使用する化合物(前駆体)及びそれらの配合割合を下記表1に示す通り変更した以外は合成例1−1と同様の操作により、有機ケイ素化合物として化合物(Si−2)〜化合物(Si−6)をそれぞれ含有する溶液を得た。
[Synthesis Example 1-2 to Synthesis Example 1-6]
Except that the compounds (precursors) used in the reaction and the blending ratios thereof were changed as shown in Table 1 below, compounds (Si-2) to compounds (Si A solution containing -6) was obtained.

Figure 0006596931
Figure 0006596931

表1中、前駆体の略称は以下の通りである。
(前駆体1;シラン化合物)
C−1; 3−アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)
C−2; 3−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物
C−3; 3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
(前駆体2;その他の化合物)
AN−1; ピロメリット酸二無水物
AN−2; 1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CB)
DA−1; p−フェニレンジアミン
B−1; 無水マレイン酸
B−2; 2,3−ピリジンジカルボン酸無水物
B−3; ピペラジン
In Table 1, the abbreviations of the precursors are as follows.
(Precursor 1; Silane compound)
C-1; 3-aminopropyltriethoxysilane (APTES)
C-2; 3-trimethoxysilylpropyl succinic anhydride C-3; 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane (precursor 2; other compounds)
AN-1; pyromellitic dianhydride AN-2; 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CB)
DA-1; p-phenylenediamine B-1; maleic anhydride B-2; 2,3-pyridinedicarboxylic anhydride B-3; piperazine

<重合体の合成>
[合成例2−1;重合体(PAA−1)の合成]
テトラカルボン酸二無水物としてピロメリット酸二無水物100モル部、及びジアミンとしてビス[2−(4−アミノフェニル)エチル]ヘキサン二酸100モル部を、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)に溶解し、60℃で6時間反応を行い、固形分濃度15重量%のポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、測定した溶液粘度は420mPa・sであった。
<Synthesis of polymer>
[Synthesis Example 2-1; Synthesis of Polymer (PAA-1)]
100 mol parts of pyromellitic dianhydride as tetracarboxylic dianhydride, and 100 mol parts of bis [2- (4-aminophenyl) ethyl] hexanedioic acid as diamine, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) And a reaction was performed at 60 ° C. for 6 hours to obtain a polyamic acid solution having a solid concentration of 15% by weight. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected, and the measured solution viscosity was 420 mPa · s.

[合成例2−2〜合成例2−7]
上記合成例2−1において、反応に使用するテトラカルボン酸二無水物及びアミン(ジアミン及びモノアミン)の種類及び量を下記表2の通り変更した以外は合成例2−1と同様にしてポリアミック酸を得た。なお、合成例2−2〜合成例2−7について、表2中の数値は、反応に使用したテトラカルボン酸二無水物の全体量100モル部に対する使用割合(モル部)を示す。
[Synthesis Example 2-2 to Synthesis Example 2-7]
In the above Synthesis Example 2-1, the polyamic acid was used in the same manner as in Synthesis Example 2-1, except that the types and amounts of tetracarboxylic dianhydride and amine (diamine and monoamine) used in the reaction were changed as shown in Table 2 below. Got. In addition, about the synthesis example 2-2 to the synthesis example 2-7, the numerical value of Table 2 shows the use ratio (mol part) with respect to 100 mol parts of the whole quantity of the tetracarboxylic dianhydride used for reaction.

Figure 0006596931
Figure 0006596931

表2中のテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの略称は以下の通りである。
(テトラカルボン酸二無水物)
AN−1; ピロメリット酸二無水物
AN−2; 1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物
AN−3; 2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物
AN−4; ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸2:4,6:8−二無水物
AN−5; 5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−8−メチル−3a,4,5,9b−テトラヒドロナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン
AN−6; 1,3−プロピレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)
AN−7; ジメチル−1,3−ビス(クロロカルボニル)シクロブタン−2,4−カルボキシレート
AN−8; ジメチル−1,3−ビス(クロロカルボニル)シクロペンタン−2,4−カルボキシレート

Figure 0006596931
Abbreviations of tetracarboxylic dianhydride and diamine in Table 2 are as follows.
(Tetracarboxylic dianhydride)
AN-1; pyromellitic dianhydride AN-2; 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride AN-3; 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride AN-4; Bicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2: 4,6: 8-dianhydride AN-5; 5- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl ) -8-methyl-3a, 4,5,9b-tetrahydronaphtho [1,2-c] furan-1,3-dione AN-6; 1,3-propylene glycol bis (anhydrotrimellitate)
AN-7; dimethyl-1,3-bis (chlorocarbonyl) cyclobutane-2,4-carboxylate AN-8; dimethyl-1,3-bis (chlorocarbonyl) cyclopentane-2,4-carboxylate
Figure 0006596931

(ジアミン)
DA−1; p−フェニレンジアミン
DA−2; 4,4’−ジアミノジフェニルメタン
DA−3; 4,4’−ジアミノジフェニルアミン
DA−4; 1,5−ビス(4−アミノフェノキシ)ペンタン
DA−5; 4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート
DA−6; ビス[2−(4−アミノフェニル)エチル]ヘキサン二酸
DA−7; 2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル
DA−8; 4,4’−ジアミノトリフェニルアミン
DA−9; 下記式(DA−9)で表される化合物
DA−10; 4−(テトラデカオキシ)ベンゼン−1,3−ジアミン
DA−11; ステアリルアミン
DA−12; 1,3−ビス(3−アミノプロピル)−テトラメチルジシロキサン
DA−13; 3,6−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)コレスタン
DA−14; 下記式(DA−14)で表される化合物
DA−15; 下記式(DA−15)で表される化合物

Figure 0006596931
(Diamine)
P-phenylenediamine DA-2; 4,4′-diaminodiphenylmethane DA-3; 4,4′-diaminodiphenylamine DA-4; 1,5-bis (4-aminophenoxy) pentane DA-5; 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate DA-6; bis [2- (4-aminophenyl) ethyl] hexanedioic acid DA-7; 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′- Diaminobiphenyl DA-8; 4,4′-diaminotriphenylamine DA-9; compound DA-10 represented by the following formula (DA-9); 4- (tetradecaoxy) benzene-1,3-diamine DA -11; stearylamine DA-12; 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane DA-13; 3,6-bis (4-aminobenzoylo Xyl) cholestane DA-14; compound DA-15 represented by the following formula (DA-14); compound represented by the following formula (DA-15)
Figure 0006596931

[合成例2−8;重合体(PI−8)の合成]
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物100モル部、並びにジアミンとして、p−フェニレンジアミン80モル部、4,4’−ジアミノジフェニルメタン10モル部、及び2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル10モル部をNMPに溶解し、室温で6時間反応を行い、固形分濃度15重量%のポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液にNMPを追加して固形分濃度10重量%にし、ピリジン及び無水酢酸をテトラカルボン酸二無水物の合計100モル部に対してそれぞれ200モル部ずつ添加し、110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶剤置換して、イミド化率75%のポリイミド(重合体(PI−8))を含有する溶液を得た。得られた重合体(PI−8)をNMPにて15重量%となるように調整した溶液の粘度を測定したところ520mPa・sであった。
[Synthesis Example 2-8; Synthesis of Polymer (PI-8)]
100 mol parts of 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride, and 80 mol parts of p-phenylenediamine, 10 mol parts of 4,4′-diaminodiphenylmethane as diamine, and 2, 10 mol parts of 2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl was dissolved in NMP and reacted at room temperature for 6 hours to obtain a polyamic acid solution having a solid content concentration of 15% by weight. NMP was added to this polyamic acid solution to a solid content concentration of 10% by weight, and 200 mol parts of pyridine and acetic anhydride were added to each of 100 mol parts of tetracarboxylic dianhydride for 4 hours at 110 ° C. A dehydration ring closure reaction was performed. After the dehydration ring-closing reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP to obtain a solution containing polyimide (polymer (PI-8)) having an imidization rate of 75%. It was 520 mPa * s when the viscosity of the solution which adjusted the obtained polymer (PI-8) so that it might become 15 weight% with NMP was measured.

[合成例2−9;重合体(PI−9)の合成]
上記合成例2−8において、反応に使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの種類及び量、並びにピリジン及び無水酢酸の量を上記表2の通り変更した以外は合成例2−9と同様の操作を行うことによりポリイミド(重合体(PI−9))を得た。なお、合成例2−9について、表2中の数値は、反応に使用したテトラカルボン酸二無水物の全体量100モル部に対する使用割合(モル部)を示す。得られた重合体(PI−9)をNMPにて15重量%となるように調整した溶液の粘度を測定したところ520mPa・sであった。
[Synthesis Example 2-9; Synthesis of Polymer (PI-9)]
In Synthesis Example 2-8, the types and amounts of tetracarboxylic dianhydride and diamine used in the reaction and the amounts of pyridine and acetic anhydride were changed as shown in Table 2 above, and were the same as those of Synthesis Example 2-9. By performing the operation, polyimide (polymer (PI-9)) was obtained. In addition, about the synthesis example 2-9, the numerical value of Table 2 shows the use ratio (mol part) with respect to 100 mol parts of the whole quantity of the tetracarboxylic dianhydride used for reaction. It was 520 mPa * s when the viscosity of the solution which adjusted the obtained polymer (PI-9) so that it might become 15 weight% with NMP was measured.

[合成例2−10;重合体(PAE−10)の合成]
ジアミンとしてp−フェニレンジアミン6.92g(合成に使用したジアミンの全体量100モル部に対して80モル部)及び4,4’−ジアミノジフェニルメタン3.17g(同20モル部)、並びにピリジン15ml及びN−メチル−2−ピロリドン(NMP)505mlを加え溶解させた。この溶液を水冷撹拌しながら、ジメチル−1,3−ビス(クロロカルボニル)シクロブタン−2,4−カルボキシレート2.975g(同97モル部)を添加し、さらに固形分濃度が5重量%となるようにNMPを加え、水冷しながら4時間撹拌した。この溶液を250gの水に注いで重合体を析出させ、吸引濾過により重合体をろ取し、再度水250gで洗浄したのち、メタノール63gにて3回洗浄し、40℃で減圧乾燥することで、ポリアミック酸エステル粉末28gを得た。このポリアミック酸エステル(重合体(PAE−10))の重量平均分子量はMw=27,000であった。なお、合成例2−10について、表2中の数値は、テトラカルボン酸誘導体については、反応に使用したテトラカルボン酸誘導体の全体量100モル部に対する使用割合(モル部)を示し、ジアミンについては、反応に使用したジアミンの全体量100モル部に対する使用割合(モル部)を示す。
[Synthesis Example 2-10; Synthesis of Polymer (PAE-10)]
As the diamine, 6.92 g of p-phenylenediamine (80 mol parts relative to 100 mol parts of the total amount of diamine used in the synthesis), 3.17 g (20 mol parts) of 4,4′-diaminodiphenylmethane, and 15 ml of pyridine and 505 ml of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added and dissolved. While stirring this solution with water, 2.975 g (97 mol parts) of dimethyl-1,3-bis (chlorocarbonyl) cyclobutane-2,4-carboxylate was added, and the solid content concentration became 5% by weight. NMP was added so that the mixture was stirred for 4 hours while cooling with water. This solution is poured into 250 g of water to precipitate a polymer, the polymer is collected by suction filtration, washed again with 250 g of water, washed 3 times with 63 g of methanol, and dried under reduced pressure at 40 ° C. Thus, 28 g of polyamic acid ester powder was obtained. The weight average molecular weight of this polyamic acid ester (polymer (PAE-10)) was Mw = 27,000. In addition, about the synthesis example 2-10, the numerical value of Table 2 shows the usage-amount (mol part) with respect to 100 mol part of the whole quantity of the tetracarboxylic acid derivative used for reaction about the tetracarboxylic acid derivative, About diamine, The ratio of use (mole parts) to the total amount of 100 parts by mole of diamine used in the reaction is shown.

[合成例2−11;重合体(PAE−11)の合成]
上記合成例2−10において、反応に使用するテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物及びジアミンの種類及び量、並びにピリジン及び無水酢酸の量を上記表2の通り変更した以外は合成例2−10と同様の操作を行うことによりポリアミック酸エステル(重合体(PAE−11))を得た。なお、合成例2−11について、表2中の数値は、上記合成例2−10と同義である。
[Synthesis Example 2-11; Synthesis of Polymer (PAE-11)]
In Synthesis Example 2-10, similar to Synthesis Example 2-10 except that the types and amounts of tetracarboxylic acid diester dihalide and diamine used in the reaction and the amounts of pyridine and acetic anhydride were changed as shown in Table 2 above. By performing the operation, a polyamic acid ester (polymer (PAE-11)) was obtained. For Synthesis Example 2-11, the numerical values in Table 2 are synonymous with those of Synthesis Example 2-10.

<液晶配向剤の調製及び評価>
[実施例1]
(1)液晶配向剤の調製
重合体として合成例2−1で得た重合体(PAA−1)100重量部、及び有機ケイ素化合物として合成例1−1で得た化合物(Si−1)2重量部を、γ−ブチロラクトン(GBL)、NMP及びジエチレングリコールジエチルエーテル(DEDG)からなる混合溶媒(GBL:NMP:DEDG=55:30:15(重量比))に溶解し、固形分濃度が6.0重量%の溶液とした。この溶液を孔径0.2μmのフィルターで濾過することにより液晶配向剤を調製した。
<Preparation and evaluation of liquid crystal aligning agent>
[Example 1]
(1) Preparation of liquid crystal aligning agent 100 parts by weight of polymer (PAA-1) obtained in Synthesis Example 2-1 as a polymer, and compound (Si-1) 2 obtained in Synthesis Example 1-1 as an organosilicon compound A weight part is melt | dissolved in the mixed solvent (GBL: NMP: DEDG = 55: 30: 15 (weight ratio)) which consists of (gamma) -butyrolactone (GBL), NMP, and diethylene glycol diethyl ether (DEDG), and solid content concentration is 6. The solution was 0% by weight. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution through a filter having a pore size of 0.2 μm.

(2)ラビング耐性評価
上記(1)で調製した液晶配向剤を用いて、石英基板上に塗膜を形成し、次いでレーヨン製の布を巻きつけたロールを備えたラビング装置を用い、下記表3に記載の2条件(条件(A)及び条件(B))にてラビング処理を行った。ラビング処理後の塗膜(液晶配向膜)をイソプロピルアルコールにて洗浄し、配向膜の基板からの剥離及びラビング傷の有無を目視にて確認した。このとき、液晶配向膜の剥離及びラビング傷のいずれも観察されなかった場合をラビング耐性「良好(○)」、液晶配向膜の剥離及びラビング傷の少なくともいずれかが観察された場合を「不良(×)」とした。その結果、この実施例では、条件(A)及び条件(B)のいずれでも、液晶配向膜の剥離及びラビング傷が観察されず、ラビング耐性「良好」の結果であった。
(2) Evaluation of rubbing resistance Using the liquid crystal aligning agent prepared in the above (1), a coating film was formed on a quartz substrate, and then a rubbing apparatus provided with a roll wound with a rayon cloth was used. The rubbing treatment was performed under the two conditions described in 3 (condition (A) and condition (B)). The coating film (liquid crystal alignment film) after the rubbing treatment was washed with isopropyl alcohol, and the presence or absence of peeling of the alignment film from the substrate and rubbing damage was visually confirmed. At this time, when neither peeling of the liquid crystal alignment film nor rubbing scratch was observed, rubbing resistance “good” (◯), and when at least one of peeling of the liquid crystal alignment film or rubbing scratch was observed, “bad” X) ". As a result, in this example, peeling of the liquid crystal alignment film and rubbing scratches were not observed in any of the conditions (A) and (B), and the rubbing resistance was “good”.

Figure 0006596931
Figure 0006596931

(3)液晶セルの製造
上記(1)で調製した液晶配向剤を、櫛歯状に設けられたITO電極を有する厚さ1mmのガラス基板の電極面に液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いて塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、200℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚0.06μmの塗膜を形成した。この塗膜に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数500rpm、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押し込み長さ0.4mmでラビング処理を行い、液晶配向能を付与した。その後、超純水中で1分間、超音波洗浄を行い、次いで100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。また、高さ5μm、直径5μmの円形フォトスペーサーが面積率0.1%で分散された、電極を有さない厚さ1mmのガラス基板に対しても上記の操作を繰り返し、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。
次に、上記一対の基板のうちの一方の基板につき、液晶配向膜を有する面の外縁に直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、一対の基板を液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化した。次いで、液晶注入口より一対の基板間にネマチック液晶(メルク社製、MLC−2042)を充填した後、アクリル系光硬化型接着剤で液晶注入口を封止することにより液晶セルを製造した。
(3) Manufacture of liquid crystal cell The liquid crystal aligning agent prepared in the above (1) is applied to a liquid crystal alignment film printer (Nissha Printing (Nissha Printing) on the electrode surface of a 1 mm thick glass substrate having ITO electrodes provided in a comb shape. The product is applied on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute (pre-baked) to remove the solvent, and then heated on a hot plate at 200 ° C. for 10 minutes (post-bake) to obtain an average film. A coating film having a thickness of 0.06 μm was formed. This coating film was rubbed with a rubbing machine having a roll wrapped with a rayon cloth at a roll rotation speed of 500 rpm, a stage moving speed of 3 cm / sec, and a hair foot indentation length of 0.4 mm to give liquid crystal alignment ability. . Then, ultrasonic cleaning was performed in ultrapure water for 1 minute, and then drying was performed in a 100 ° C. clean oven for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. In addition, the above operation is repeated for a glass substrate having a thickness of 5 μm and a circular photospacer having a diameter of 5 μm dispersed at an area ratio of 0.1% and having a thickness of 1 mm and having no electrode, thereby having a liquid crystal alignment film. A pair (two) of substrates was obtained.
Next, for one of the pair of substrates, an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm is applied to the outer edge of the surface having the liquid crystal alignment film, and then the pair of substrates is aligned with the liquid crystal alignment film surface. The adhesives were cured by overlapping and pressing them so that they face each other. Next, a nematic liquid crystal (MLC-2042, manufactured by Merck & Co., Inc.) was filled between the pair of substrates through the liquid crystal injection port, and then the liquid crystal injection port was sealed with an acrylic photocurable adhesive to produce a liquid crystal cell.

(4)液晶セルの輝点不良の評価
プッシュプルゲージ((株)イマダ製)を用いて、上記(3)で製造した液晶セルの中央部に40Nになるように圧力を5秒加えた。これを100回繰り返し、偏光顕微鏡にて輝点が観察されなかった場合を「良好(○)」、輝点が1〜9個観察された場合を「可(△)」、輝点が10個以上観察された場合を「不良(×)」とした。その結果、この実施例では輝点が観察されず、「良好」の結果であった。
(4) Evaluation of defective bright spot of liquid crystal cell Using a push-pull gauge (manufactured by Imada Co., Ltd.), a pressure was applied to the central portion of the liquid crystal cell produced in the above (3) for 5 seconds so as to be 40 N. This process was repeated 100 times. “Good (◯)” when no bright spot was observed with a polarizing microscope, “Yes (Δ)” when 1 to 9 bright spots were observed, and 10 bright spots. The case where it was observed above was defined as “defective (×)”. As a result, no bright spot was observed in this example, and the result was “good”.

(5)液晶配向性の評価A
上記(3)で製造した液晶セルについて、液晶の流動配向の有無を偏光顕微鏡で観察するとともに、5Vの電圧のオン・オフ(印加・解除)を繰り返した際の明暗の変化における異常ドメインの有無を偏光顕微鏡で観察することにより、液晶配向性を評価した。評価は、流動配向及び異常ドメインが共に観察されなかった場合を液晶配向性「良好(○)」、流動配向は見られないが、異常ドメインが観察された場合を「可(△)」、流動配向が見られた場合を「不良(×)」とした。その結果、この実施例の液晶配向性は「良好」の評価であった。
(5) Evaluation of liquid crystal alignment A
Regarding the liquid crystal cell produced in (3) above, the presence or absence of abnormal domains in the change in brightness when observing the presence or absence of flow alignment of liquid crystals with a polarizing microscope and repeatedly turning on and off (applying and releasing) the voltage of 5 V The liquid crystal orientation was evaluated by observing the film with a polarizing microscope. In the evaluation, when neither flow alignment nor abnormal domain was observed, the liquid crystal alignment was “good (◯)”, and when flow alignment was not observed, but abnormal domain was observed “OK” (△) A case where orientation was observed was defined as “bad (×)”. As a result, the liquid crystal orientation of this example was evaluated as “good”.

(6)液晶配向性の評価B(高温下での焼き付き耐性)
上記(3)の方法により2個の液晶セルを準備し、そのうち一つ(素子A)には交流電圧10Vを、もう一つ(素子B)には交流電圧1Vを、それぞれ、バックライト下、60℃にて20時間印加した。その後、電圧印加を直流電圧2.5Vに切り替えたときに観測される素子Aと素子Bの輝度差を256階調で表し、輝度差により高温環境下での焼き付き耐性を評価した。輝度差が5未満であった場合を焼き付き耐性「良好」とし、5以上10未満であった場合を焼き付き耐性「可」とし、10を超えた場合を焼き付き耐性「不良」とした。その結果、この実施例では、焼き付き耐性「良好」の評価であった。
(6) Evaluation of liquid crystal alignment B (resistance to seizure at high temperature)
Two liquid crystal cells are prepared by the above method (3), one of which (element A) has an AC voltage of 10 V, the other (element B) has an AC voltage of 1 V, respectively, under the backlight. Application was performed at 60 ° C. for 20 hours. Thereafter, the luminance difference between the element A and the element B observed when the voltage application was switched to the DC voltage of 2.5 V was expressed by 256 gradations, and the burn-in resistance under a high temperature environment was evaluated by the luminance difference. When the luminance difference was less than 5, the burn-in resistance was “good”. When the brightness difference was 5 or more and less than 10, the burn-in resistance was “good”. As a result, in this example, the seizure resistance was “good”.

(7)電気特性評価(電圧保持率)
上記(3)の方法で製造した液晶セルにつき、40℃において5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率(VHR)を測定した。なお、測定装置としては、(株)東陽テクニカ製、VHR−1を使用した。液晶セルの電気特性の評価は、電圧保持率が98%以上であった場合を「良好」、95%以上98%未満であった場合を「可」、95%以下であった場合を「不良」とした。その結果、この実施例では、電気特性「良好」の評価であった。
(7) Electrical characteristics evaluation (voltage holding ratio)
About the liquid crystal cell manufactured by the method of (3) above, after applying a voltage of 5 V at 40 ° C. with an application time of 60 microseconds and a span of 167 milliseconds, the voltage holding ratio (VHR) after 167 milliseconds from the release of application ) Was measured. In addition, as a measuring apparatus, Toyo Technica Co., Ltd. make and VHR-1 were used. The electrical characteristics of the liquid crystal cell are evaluated as “good” when the voltage holding ratio is 98% or more, “good” when the voltage holding ratio is 95% or more and less than 98%, and “bad” when the voltage holding ratio is 95% or less. " As a result, in this example, the electrical property was “good”.

[実施例2〜実施例12及び比較例1〜5]
上記実施例1において、使用する重合体及び添加剤の種類及び量を下記表4に示す通りとしたほかは、実施例1と同様にして液晶配向剤の調製及び液晶セルの製造を行い、各種評価を行った。評価結果は下記表4に示した。
[Examples 2 to 12 and Comparative Examples 1 to 5]
In Example 1 above, except that the types and amounts of the polymers and additives used were as shown in Table 4 below, preparation of the liquid crystal aligning agent and production of the liquid crystal cell were conducted in the same manner as in Example 1, Evaluation was performed. The evaluation results are shown in Table 4 below.

Figure 0006596931
Figure 0006596931

表4中、添加剤の略称は以下の通りである。
Add−1; N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4、4’−ジアミノジフェニルメタン
Add−2; 3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
Add−3; 3−アミノプロピルトリエトキシシラン
Si−7;下記式(si−7)で表される化合物

Figure 0006596931
In Table 4, the abbreviations of the additives are as follows.
Add-1, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane Add-2; 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane Add-3; 3-aminopropyltriethoxysilane Si-7 Compound represented by the following formula (si-7)
Figure 0006596931

表4に示すように、上記式(1a)で表される窒素含有構造を有する有機ケイ素化合物を含有する実施例1〜12の液晶配向剤では、これを用いて形成した液晶配向膜のラビング耐性が良好であった。また、実施例1〜12の液晶セルは、輝点不良の生じにくさ、液晶配向性の評価(液晶の流動配向及び異常ドメインの有無)、高温下での焼き付き耐性、及び電気特性において「良好」又は「可」の結果であり、各種特性のバランスが取れていた。これに対し、比較例では、液晶配向膜のラビング耐性、並びに液晶セルにおける輝点不良の生じにくさ及び液晶配向性の少なくともいずれかで実施例のものよりも劣っていた。   As shown in Table 4, in the liquid crystal aligning agents of Examples 1 to 12 containing the organosilicon compound having the nitrogen-containing structure represented by the above formula (1a), the rubbing resistance of the liquid crystal alignment film formed using the same Was good. In addition, the liquid crystal cells of Examples 1 to 12 are “good” in terms of resistance to bright spot defects, evaluation of liquid crystal alignment (fluid alignment of liquid crystals and presence / absence of abnormal domains), burn-in resistance at high temperatures, and electrical characteristics. "Or" Yes ", and various characteristics were balanced. On the other hand, in the comparative example, it was inferior to the thing of an Example by the rubbing tolerance of a liquid crystal aligning film, the difficulty of generating the bright spot defect in a liquid crystal cell, and / or liquid crystal orientation.

Claims (6)

ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体(P)と、
下記式(1)で表される有機ケイ素化合物(ただし、下記式(3)で表される化合物を除く。)と、を含む液晶配向剤。
Figure 0006596931
(式(1)中、R19は水素原子若しくは1価の炭化水素基、又は分子内の2つのR19が結合して形成される2価の炭化水素基である。R20は3価の有機基であり、R21は2価の有機基であり、R22及びR23は、それぞれ独立に1価の炭化水素基であり、R24は(h+i)価の有機基である。Aは単結合又はカルボニル基であり、Aは単結合、カルボニル基又は炭素数1〜3のアルカンジイル基であり、B及びBは、それぞれ独立にカルボニル基又は炭素数1〜3のアルカンジイル基である。e、f、g及びiはそれぞれ独立に0〜4の整数であり、e+f+g≧1かつe+i≧1である。hは1〜4の整数であり、jは1〜3の整数である。ただし、R20、R22、R23、A、A、B及びBがそれぞれ複数存在する場合、複数のR20、R22、R23、A、A、B及びBは独立して上記定義を有する。)
Figure 0006596931
At least one polymer (P) selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide;
A liquid crystal aligning agent comprising an organosilicon compound represented by the following formula (1) (excluding a compound represented by the following formula (3)).
Figure 0006596931
(In Formula (1), R 19 is a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group, or a divalent hydrocarbon group formed by combining two R 19 in the molecule. R 20 is a trivalent group. an organic group, R 21 is a divalent organic group, R 22 and R 23 are each independently a monovalent hydrocarbon group, R 24 is (h + i) -valent organic group .A 1 Is a single bond or a carbonyl group, A 2 is a single bond, a carbonyl group or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, and B 1 and B 2 are each independently a carbonyl group or an alkane having 1 to 3 carbon atoms. E, f, g and i are each independently an integer of 0 to 4, e + f + g ≧ 1 and e + i ≧ 1, h is an integer of 1 to 4, and j is 1 to 3. An integer, where R 20 , R 22 , R 23 , A 1 , A 2 , B 1 and B When a plurality of 2 are present, a plurality of R 20 , R 22 , R 23 , A 1 , A 2 , B 1 and B 2 independently have the above definition.)
Figure 0006596931
前記有機ケイ素化合物は、1級アミノ基及び2級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも1種を有するアミン化合物と、酸無水物基、エポキシ基及びオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも1種を有する反応性基含有化合物と、を反応させて得られる化合物であり、
前記アミン化合物及び前記反応性含有化合物の少なくともいずれかが、ケイ素原子を有する化合物である、請求項1に記載の液晶配向剤。
The organosilicon compound comprises an amine compound having at least one selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group, and at least one selected from the group consisting of an acid anhydride group, an epoxy group and an oxetanyl group. A compound obtained by reacting a reactive group-containing compound with
The liquid crystal aligning agent of Claim 1 whose at least any one of the said amine compound and the said reactive group containing compound is a compound which has a silicon atom.
前記有機ケイ素化合物はヒドロキシ基を有し、
前記有機ケイ素化合物が有するヒドロキシ基の少なくとも1個がカルボニル基に結合している、請求項1又は2に記載の液晶配向剤。
The organosilicon compound has a hydroxy group;
The liquid crystal aligning agent of Claim 1 or 2 with which at least 1 of the hydroxy group which the said organosilicon compound has couple | bonded with the carbonyl group.
前記有機ケイ素化合物の配合割合が、前記重合体(P)の100重量部に対して0.1〜30重量部である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶配向剤。   The liquid crystal aligning agent as described in any one of Claims 1-3 whose compounding ratio of the said organosilicon compound is 0.1-30 weight part with respect to 100 weight part of the said polymer (P). 請求項1〜4のいずれか一項に記載の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。   The liquid crystal aligning film formed using the liquid crystal aligning agent as described in any one of Claims 1-4. 請求項5に記載の液晶配向膜を具備する液晶表示素子。   A liquid crystal display device comprising the liquid crystal alignment film according to claim 5.
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