JP6400062B2 - 電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜 - Google Patents

Description

本発明は、電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜に関する。

例えば、フロントグリル、エンブレムといった自動車のフロント部分に搭載されるミリ波レーダーのカバー部材を装飾するために、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢部材が求められている。

ミリ波レーダーは、ミリ波帯の電磁波（周波数約７７ＧＨｚ、波長約４ｍｍ）を自動車の前方に送信し、ターゲットからの反射波を受信して、反射波を測定、分析することで、ターゲットとの距離や、ターゲットの方向、サイズを計測することができるものである。計測結果は、車間計測、速度自動調整、ブレーキ自動調整などに利用することができる。このようなミリ波レーダーが配置される自動車のフロント部分は、いわば自動車の顔であり、ユーザに大きなインパクトを与える部分であるから、金属光沢調のフロント装飾で高級感を演出することが好ましい。しかしながら、自動車のフロント部分に金属を使用した場合には、ミリ波レーダーによる電磁波の送受信が実質的に不可能、或いは、妨害されてしまう。したがって、ミリ波レーダーの働きを妨げることなく、自動車の意匠性を損なわせないために、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢部材が必要とされている。

この種の金属光沢部材は、ミリ波レーダーのみならず、通信を必要とする様々な機器、例えば、スマートキーを設けた自動車のドアハンドル、車載通信機器、携帯電話、パソコン等の電子機器等への応用が期待されている。更に、近年では、ＩｏＴ技術の発達に伴い、従来は通信等行われることがなかった、冷蔵庫等の家電製品、生活機器等、幅広い分野での応用も期待されている。

金属光沢部材に関して、特開２００７−１４４９８８号公報（特許文献１）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）より成る金属被膜を含む樹脂製品が開示されている。この樹脂製品は、樹脂基材と、当該樹脂基材の上に成膜された無機化合物を含む無機質下地膜と、当該無機質下地膜の上に物理蒸着法により成膜された光輝性及び不連続構造のクロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）よりなる金属皮膜を含む。無機質下地膜として、特許文献１では、（ａ）金属化合物の薄膜、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₃Ｏ₅等）等のチタン化合物；酸化ケイ素（ＳｉＯ、ＳｉＯ₂等）、窒化ケイ素（Ｓｉ₃Ｎ₄等）等のケイ素化合物；酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）等のアルミニウム化合物；酸化鉄（Ｆｅ₂Ｏ₃）等の鉄化合物；酸化セレン（ＣｅＯ）等のセレン化合物；酸化ジルコン（ＺｒＯ）等のジルコン化合物；硫化亜鉛（ＺｎＳ）等の亜鉛化合物等、（ｂ）無機塗料の塗膜、例えば、シリコン、アモルファスＴｉＯ₂等（その他、上記例示の金属化合物）を主成分とする無機塗料による塗膜が使用されている。しかしながら、この樹脂製品では、金属皮膜として、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみを用いるものであって、これらに比べて価格や光輝性において優れる、例えば、アルミニウム（Ａｌ）を金属皮膜として用いることはできない。

一方、特開２００９−２９８００６号（特許文献２）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）をも金属膜として形成することができる電磁波透過性光輝樹脂製品が開示されている。これらの金属膜は、不連続構造の下地膜を設けることによって形成されるものであるが、下地膜を不連続層とするために、スパッタの基材傾斜角度を０°又は７０°に設定しなければならない等の制約があることから、製造が煩雑であるといった問題がある。また、特許文献２によっては、例えば、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金を金属膜として形成することもできない。

特開２００７−１４４９８８号公報 特開２００９−２９８００６号公報 特開２０１０−５９９９号公報

本願発明は、これら従来技術における問題点を解決するためになされたものであり、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属を金属層として用いた場合にも、容易に製造することができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することを目的とする。また、アルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）に加えて、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金を金属層とすることができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することを目的とする。

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、酸化インジウム含有層を下地層として用いることによって、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、通常は不連続構造になり難い、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属から成る金属層をも不連続構造とすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。

上記の課題を解決するため、本発明の一態様による電磁波透過性光沢部材は、基体の面に沿って設けた酸化インジウム含有層と、前記酸化インジウム含有層に積層された金属層と、を備え、前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含む。
この態様の電磁波透過性金属光沢部材によれば、酸化インジウム含有層を下地層として用いることにより、通常は不連続構造になり難い、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属から成る金属層をも不連続構造とすることができ、この結果、シート抵抗を大きくして電磁波透過性を向上させることができるため、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属を金属層として用いた、容易に製造可能な電磁波透過性金属光沢部材が提供される。また、アルミニウム（Ａｌ）に加えて銀（Ａｇ）や、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金をも金属層として使用した電磁波透過性金属光沢部材が提供される。
上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記酸化インジウム含有層は、連続状態であってもよい。連続状態とすることにより、平滑性や耐食性を向上させることができ、また、酸化インジウム含有層を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。
尚、前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってもよい。

上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかであってもよい。

また、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記酸化インジウム含有層の厚さは、１ｎｍ〜１０００ｎｍであるのが好ましい。また、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記金属層の厚さは、２０ｎｍ〜１００ｎｍであるのが好ましい。更に、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記金属層の厚さと前記酸化インジウム含有層の厚さとの比（前記金属層の厚さ／前記酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．０２〜１００であるのが好ましい。

更に、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗は１００〜１０００００Ω／□であってもよい。

また、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記部分は島状に形成されていてもよい。

上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかであってもよい。

また、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、基材フィルム、樹脂成型物基材、又はガラス基材を用いた物品としてもよいし、又は、金属光沢を付与すべき物品に電磁波透過性金属光沢部材を設けた物品としてもよい。

また、本発明の他の態様によれば、基体の面に沿って設けた金属薄膜であって、前記金属薄膜は、２０ｎｍ〜１００ｎｍの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含む金属薄膜を特徴とする。
金属薄膜を転写可能とすることによって、様々な物品に金属薄膜を容易に設けることができる。

本発明によれば、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属を金属層として用いた場合にも、容易に製造することができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することができる。また、アルミニウム（Ａｌ）に加えて銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金を金属層とすることができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することができる。

図１の（ａ）は、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材と、この金属光沢部材を用いた電磁波透過性金属フィルムの概略断面図であり、図１の（ｂ）は、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材の表面の電子顕微鏡写真である。 図１の（ｂ）の一部領域における断面の画像である。

以下、添付図面を参照しつつ、本発明の一つの好適な実施形態について説明する。以下においては、説明の便宜のために本発明の好適な実施形態のみを示すが、勿論、これによって本発明を限定しようとするものではない。

＜１．基本構成＞
図１の（ａ）に、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材（以下、「金属光沢部材」という。）１と、この金属光沢部材１を用いた電磁波透過性金属フィルム（以下、「金属フィルム」という。）３の概略断面図を示し、また、図１の（ｂ）に、本発明の一実施形態による金属光沢部材１の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す。尚、電子顕微鏡写真における画像サイズは１．１６μm×０．８５μmである。

金属光沢部材１は、少なくとも酸化インジウムを含有する、下地層としての酸化インジウム含有層１１と、この酸化インジウム含有層１１の上に積層された、金属層１２を含む。金属フィルム３は、この金属光沢部材１と基材フィルム１０を含む。酸化インジウム含有層１１は、金属光沢を付与すべき基材フィルム１０の面に設けられている。酸化インジウム含有層１１は、基材フィルム１０の面に直接設けられていてもよいし、基材フィルム１０の面に設けた保護膜等を介して間接的に設けられてもよい。酸化インジウム含有層１１は、金属光沢を付与すべき基材フィルム１０の面に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けるのが好ましい。連続状態で設けることにより、酸化インジウム含有層１１、ひいては、金属光沢部材１や金属フィルム３の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、酸化インジウム含有層１１を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。

金属層１２は酸化インジウム含有層１１に積層される。金属層１２は複数の部分１２ａを含む。酸化インジウム含有層１１に積層されることにより、これらの部分１２ａは、少なくとも一部において互いに不連続の状態、言い換えれば、少なくとも一部において隙間１２ｂによって隔てられる。隙間１２ｂによって隔てられるため、これらの部分１２ａのシート抵抗は大きくなり、電波との相互作用が低下するため、電波を透過させることができる。これらの各部分１２ａは金属を蒸着、スパッタ等することによって形成されたスパッタ粒子の集合体である。スパッタ粒子が基材フィルム１０等の基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼす。本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、基体上に酸化インジウム含有層を設け、金属膜の表面拡散性を促進することで、金属層を不連続の状態で成長させることに成功した。尚、本明細書でいう「不連続の状態」とは、隙間１２ｂによって互いに隔てられており、この結果、互いに電気的に絶縁されている状態を意味する。電気的に絶縁されることにより、シート抵抗が大きくなり、所望とする電磁波透過性が得られることになる。不連続の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、島状、クラック等が含まれる。ここで「島状」とは、図１の（ｂ）に示されているように、スパッタ粒子の集合体である粒子同士が各々独立しており、それらの粒子が、互いに僅かに離間し又は一部接触した状態で敷き詰められてなる構造を意味する。

＜２．基材フィルム（基体）＞
基材フィルム１０には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。これらの部材によれば、光輝性や電磁波透過性に影響を与えることもない。但し、酸化インジウム含有層１１や金属層１２を後に形成する観点から、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ＡＢＳ、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。基材フィルム１０は、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。加工のし易さ等から、厚さは、例えば、６μｍ〜２５０μｍ程度が好ましい。酸化インジウム含有層１１との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。

ここで、基材フィルム１０は、本願発明の金属光沢部材１を付与することができる対象（以下、「基体」という）の一例にすぎない点に注意すべきである。基体には、基材フィルム１０の他、樹脂成型物基材、ガラス基材、金属光沢を付与すべき物品それ自体も含まれる。樹脂成型基材としては、例えば、自動車のエンブレム用の樹脂等がある。金属光沢を付与すべき物品としては、例えば、スマートキーを設けた自動車のドアノブ、携帯電話筐体、パソコン筐体、冷蔵庫等がある。本発明の金属光沢部材１は、これら全ての基体に付与することができる。この場合、金属光沢部材１を付与すべき基体は、上記の基材フィルム１０と同様の材質、条件を満たしていることが好ましい。

＜３．酸化インジウム含有層＞
酸化インジウム含有層１１として、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）そのものを使用することもできるし、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属含有物を使用することもできる。但し、第二の金属を含有したＩＴＯやＩＺＯの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。これらの酸化インジウム含有層１１を用いることにより、基体の面に沿って連続状態の膜を形成することもでき、また、この場合には、酸化インジウム含有層の上に積層される金属層を、例えば、島状の不連続構造とすることもできる。更に、後述するように、この場合には、金属層に、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、通常は不連続構造になり難く、本用途には適用が難しかった、アルミニウム等の様々な金属を含めることができる。ＩＴＯにおけるＩｎ２Ｏ３の重量に対する錫（Ｓｎ）の含有率は特に限定されるものではないが、例えば、２．５ｗｔ％〜３０ｗｔ％、より好ましくは、３ｗｔ％〜１０ｗｔ％である。また、ＩＺＯにおけるＩｎ２Ｏ３の重量に対する酸化亜鉛（ＺｎＯ）の含有率は、例えば、２ｗｔ％〜２０ｗｔ％である。酸化インジウム含有層１１の厚さは、シート抵抗や電波透過性、生産性の観点から、通常１０００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。一方、積層される金属層１２が不連続状態となるように、１ｎｍ以上であることが好ましく、確実に不連続状態にするために２ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましい。

＜４．金属層＞
金属層１２は、十分な光輝性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが望ましい。金属層１２は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって付与されるためである。このような理由から、金属層１２としては、融点が約１０００℃以下の金属が適しており、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含むことが好ましい。特に、物質の光輝性や安定性、価格等の理由からＡｌおよびそれらの合金が好ましい。

金属層１２の厚さは、十分な光輝性を発揮するように、通常２０ｎｍ以上が好ましく、一方、シート抵抗や電波透過性の観点から、通常１００ｎｍ以下が好ましい。例えば、２０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、３０ｎｍ〜７０ｎｍがより好ましい。この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、最終製品である樹脂成形品の見栄えも良い。

また、同様の理由から、金属層の厚さと酸化インジウム含有層の厚さとの比（金属層の厚さ／酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．１〜１００の範囲が好ましく、０．３〜３５の範囲がより好ましい。

更に、金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗は、１００〜１０００００Ω／□であるのが好ましい。この場合、電波透過性は、１ＧＨｚの波長において、１０〜０．０１［−ｄＢ］程度となる。更に好ましくは、１０００〜５００００Ω／□である。このシート抵抗の値は、金属層の材質や厚さは勿論のこと、下地層である酸化インジウム含有層の材質や厚さからも大きな影響を受ける。よって、酸化インジウム含有層との関係も考慮したうえで設定する必要がある。

＜５．金属層が不連続状態となるメカニズム＞
酸化インジウム含有層１１を設けることなく、基体の上に直接的に金属層１２を成膜した場合、金属層１１は基体１０上で連続状態となってしまう。この場合、十分な光輝性は得られるものの、シート抵抗は非常に小さくなり、従って、電波透過性を確保することはできない。これに対し、基体の上に成膜した酸化インジウム含有層１１の上に金属層１２を積層した場合、例えば連続状態で形成された酸化インジウム含有層１１の上で、金属層１１は不連続の状態で形成され、この結果、十分な光輝性が得られることは勿論、電波透過性を確保することもできる。金属層１１が酸化インジウム含有層１１の上で不連続状態となるメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属層１１の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成しやすさは、金属層１１が付与される被付与部材（本件では、酸化インジウム含有層１１）上での表面拡散と関連性があり、被付与部材の温度が高く、被付与部材に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。従って、以下の実施例で特に使用したアルミニウム（Ａｌ））以外の金属についても、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）などの比較的融点の低い金属については、同様の手法で不連続構造を形成しうると考えられる。

＜６．金属光沢部材の製造＞
金属光沢部材１の製造方法の一例について、基体として基材フィルム１０を用いた場合、即ち、金属フィルム３を製造する場合を例に挙げて説明する。特に説明しないが、基材フィルム１０以外の基体を用いた場合についても同様の方法で製造することができる。

（１）酸化インジウム含有層を成膜する工程
基材フィルム１０に対し、酸化インジウム含有層１１を成膜する。酸化インジウム含有層１１は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成することができる。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。

（２）金属層を積層する工程
次いで、酸化インジウム含有層１１の上に、金属層１２を積層する。この場合も、例えば、スパッタリングを用いることができる。尚、酸化インジウム含有層１１と金属層１２の間には、他の層を介在させずに直接接触させるのが好ましい。但し、上に説明した酸化インジウム含有層１１上における金属層１２の表面拡散のメカニズムが確保されるのであれば、他の層を介在させることもできる。

＜７．実施例＞
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。金属フィルム３に関して各種試料を準備し、シート抵抗、電波透過減衰量、及び可視光反射率を評価した。シート抵抗と電波透過減衰量は、電波透過性に関する評価、可視光反射率は、光輝性に関する評価である。可視光反射率とシート抵抗の値は大きい方が好ましく、電波透過減衰量の値は小さい方が好ましい。
評価方法の詳細は以下のとおりである。

（１）シート抵抗
ナプソン社製非接触式抵抗測定装置ＮＣ−８０ＭＡＰを用い、ＪＩＳ−Ｚ２３１６に準拠し、渦電流測定法により金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗を測定した。
このシート抵抗は、１００Ω／□以上であることが必要であり、２００Ω／□以上であるのが好ましく、更に６００Ω／□以上であることがより好ましい。１００Ω／□より小さいと、充分な電波透過性が得られないという問題がある。

（２）電波透過減衰量
1GHzにおける電波透過減衰量をKEC法測定評価治具およびアジレント社製スペクトルアナライザCXA signal Analyzer NA9000Aを用いて評価した。ミリ波レーダーの周波数帯域（76〜80GHz）における電磁波透過性と、マイクロ波帯域（1GHz）における電磁波透過性には相関性があり、比較的近い値を示すことから、今回の評価では、マイクロ波帯域（1GHz）における電磁波透過性、即ち、マイクロ波電界透過減衰量を指標とした。
このマイクロ波電界透過減衰量は、１０［−ｄＢ］以下であることが必要であり、５［−ｄＢ］以下であるのが好ましく、２［−ｄＢ］以下であることがより好ましい。１０［−ｄＢ］以上であると、９０％以上の電波が遮断されるという問題がある。

（３）可視光反射率
日立ハイテクノロジーズ社製分光光度計Ｕ４１００を用い、５５０ｎｍの測定波長における反射率を測定した。基準として、Ａｌ蒸着ミラーの反射率を反射率１００％とした。
この可視光反射率は、十分な光輝性を有するために２０％以上が必要であり、４０％以上であるのが好ましく、更に好ましくは５０％以上である。可視光反射率が、２０％より小さいと、光輝性が低下し、外観に優れないという問題がある。

以下の表１に、評価結果を示す。

[実施例１]
基材フィルムとして、三菱樹脂社製ＰＥＴフィルム（厚さ１２５μｍ）を用いた。
先ず、ＤＣマグネトロンスパッタリングを用いて、基材フィルムの面に沿って、５０ｎｍの厚さのＩＴＯ層をその上に直接形成した。ＩＴＯ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。ＩＴＯは、Ｉｎ２Ｏ３に対してＳｎを１０ｗｔ％含有させたものである。

次いで、交流スパッタリング（ＡＣ：４０ｋＨｚ）を用いて、ＩＴＯ層の上に、５０ｎｍの厚さのアルミニウム（Ａｌ）層を形成し、金属光沢部材（金属フィルム）を得た。Ａｌ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。

図１の（ｂ）は、これらの処理の結果得られた金属光沢部材（金属フィルム）表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）であり、図２は、この図１の（ｂ）の一部領域における断面の画像である。尚、図２の電子顕微鏡写真における画像サイズは１．１６μm×０．８５μmである。

これらの図から明らかなように、本実施例では、金属光沢部材のＩＴＯ層は、基材フィルムの面に沿って連続状態で設けられていることから高い平滑性と耐食性を発揮し、その一方で、アルミニウム層は、ＩＴＯ層に積層されることによって不連続な状態に形成された複数の部分１２ａを含むことから、そのシート抵抗は２６０Ω／□となり、その電波透過減衰量は１ＧＨｚの波長において４．５［−ｄＢ］となり、電波透過性について良好な結果が得られた。尚、表１では、便宜上、電波透過減衰量の「評価」結果として、当該電波透過減衰量が２［−ｄＢ］より小さい場合を「◎」で、２［−ｄＢ］以上で且つ５［−ｄＢ］より小さい場合を「○」で、５［−ｄＢ］以上で且つ１０［−ｄＢ］より小さい場合を「△」で、１０［−ｄＢ］以上を「×」で、それぞれ表している。
また、この金属光沢部材の可視光反射率は５６％となり、光輝性についても良好な結果が得られた。尚、便宜上、表１では、可視光反射率の「評価」結果として、当該可視光反射率が５０％より大きい場合を「◎」で、５０％以下で且つ４０％より大きい場合を「○」で、４０％以下で且つ２０％より大きい場合を「△」で、２０％以下を「×」で、それぞれ表している。更に、電波透過性と光輝性の「総合評価」として、両者が同じ評価結果の場合には同じ評価結果を、一方が片方より悪い結果の場合には悪い方の評価結果を、それぞれ示している。結果、実施例１について、総合評価は「○」となり、電波透過性と光輝性の双方を兼ね備えた良好な金属光沢部材、或いは、金属フィルムが得られた。

[実施例２]〜［実施例４］
ＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム層の厚さを、実施例２、３については実施例１のそれよりも薄くなるように変更し、一方、実施例４については実施例１のそれよりも厚くなるように変更した。その他の条件については実施例１と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例２〜実施例４の全てにおいて、実施例１と同様の値及び結果が得られた。一方、可視光反射率については、アルミニウム層の厚さが実施例１のそれより薄い実施例２、３については若干劣る結果となったが、実施例４については、実施例１よりも良好な結果が得られた。但し、実施例２、３についても、実用に十分耐え得るものである。

[実施例５]〜［実施例８］
ＩＴＯ層の厚さを、実施例１よりも薄くなるように設定した。その他の条件については、実施例１と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例５〜実施例８の全てにおいて、実施例１よりも良好な結果が得られた。また、可視光反射率については、実施例５〜実施例８の全てにおいて、実施例１と同様の値及び結果が得られた。これらの実施例により、ＩＴＯ層の厚さは薄くてもよいことが明らかとなり、ＩＴＯ層の厚さを薄くすることにより、材料コストを抑制できることが明らかとなった。

[実施例９]〜［実施例１２］
ＩＴＯ層におけるＳｎの含有率を、実施例９については実施例１のそれより大きくなるように変更し、一方、実施例１０乃至１２については実施例１のそれより小さくなるように変更した。尚、実施例１２のＩＴＯ層ではＳｎをゼロとしていることから、より正確には、ＩＴＯ層ではなく、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）層となっている。その他、実施例１２では、アルミニウム層は４０ｎｍとした。その他の条件については、実施例１と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例９〜実施例１１において、実施例１と同様の結果が得られ、実施例１２においては、実施例１より若干劣る結果となった。また、可視光反射率については、実施例９〜実施例１１において、実施例１と同様の値及び結果が得られ、実施例１２において、実施例１より若干劣る結果となった。これの結果から、ＩＴＯ層は、Ｓｎを含有するのがより好ましいことが明らかとなった。

[実施例１３]
ＩＴＯではなく、酸化インジウムにＺｎＯを含有させたＩＺＯを用いた。ＺｎＯは、Ｉｎ２Ｏ３に対して１１ｗｔ％含有する。その他の条件については、実施例１と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１よりも若干劣る結果となった。一方、可視光反射率については、実施例１と同様の値及び結果が得られた。実施例１より総合評価は劣るものの、ＺｎＯを含有させた場合でも、十分に実用可能であることが明らかとなった。

[比較例１]
ＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム層の厚さを、実施例１のそれよりも厚くなるように変更した。その他の条件については、実施例１と同じである。
この場合、可視光反射率については、厚さを増した分、実施例１よりも良好な結果が得られた。一方、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１のそれらよりも大きく劣る結果となり、実用不可能なものとなった。

[比較例２]
ＩＴＯ層を設けることなく、基材フィルム上にアルミニウム層を直接成膜した。その他の条件については、実施例１と同じである。
この場合、可視光反射率については、実施例１と同様の値及び結果が得られたが、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１のそれらよりも大きく劣る結果となり、実用不可能なものとなった。

＜８．金属薄膜の利用＞
金属光沢部材１に形成された金属層１２は、厚さ２０ｎｍ〜１００ｎｍ程度の薄いものであって、これのみを金属薄膜として使用することもできる。例えば、基材フィルム１０のような基体に積層されたインジウム酸化物含有層１１の上に、スパッタリングで金属層１２を形成して、フィルムを得る。また、これとは別に、接着剤を基材の上に塗工して接着剤層付きの基材を作成する。フィルムと基材を、金属層１２と接着剤層が接するように貼り合せ、十分に密着させた後にフィルムと基材を剥離させることで、フィルムの最表面に存在した金属層（金属薄膜）１２を基材の最表面に転写させることができる。

本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することもできる。

本発明に係る金属フィルムや金属光沢部材は、例えば、フロントグリル、エンブレム、といった自動車のフロント部分に搭載されるミリ波レーダーのカバー部材を装飾するために好適に用いることができる。また、例えば、携帯電話やスマートフォン、タブレット型ＰＣ、ノート型ＰＣ、冷蔵庫など、意匠性と電磁波透過性の双方が要求される様々な用途にも利用できる。

１ 金属光沢部材
３ 金属フィルム
１０ 基材フィルム
１１ 酸化インジウム含有層
１２ 金属層

Claims (10)

1. 基体の面に連続状態で設けた酸化インジウム含有層と、前記酸化インジウム含有層に積層された金属層と、を備え、前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含むことを特徴とする電磁波透過性金属光沢部材。
2. 前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかである請求項１に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
3. 前記酸化インジウム含有層の厚さは、１ｎｍ〜１０００ｎｍである請求項１又は２のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
4. 前記金属層の厚さは、２０ｎｍ〜１００ｎｍである請求項１乃至３のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
5. 前記金属層の厚さと前記酸化インジウム含有層の厚さとの比（前記金属層の厚さ／前記酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．０２〜１００である請求項１乃至４のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
6. 前記金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗は、１００〜１０００００Ω／□である請求項１乃至５のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
7. 前記部分は島状に形成されている請求項１乃至６のいずれかに記載の電磁波透過性積層部材。
8. 前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかである請求項１乃至７のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
9. 前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかである請求項１乃至８のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
10. 請求項９に記載の基材フィルム、樹脂成型物基材、又はガラス基材を用いた物品、又は、請求項９に記載の金属光沢を付与すべき物品に請求項１乃至８の何れかに記載の電磁波透過性金属光沢部材を設けた物品。