JP6451941B2 - 液晶配向剤および液晶表示素子 - Google Patents
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Description
例えば透明導電膜が設けられている基板表面に液晶配向膜を形成して液晶表示素子用基板とし、その2枚を対向配置してその間隙内に正の誘電異方性を有するネマチック液晶の層を形成してサンドイッチ構造のセルとし、液晶分子の長軸が一方の基板から他方の基板に向かって連続的に90°捻れるようにした、いわゆるTN(Twisted Nematic)型(特許文献1);
TN型液晶表示素子に比して高いデューティー比を実現できるSTN(Super Twisted Nematic)型(特許文献2);
極間隙内に負の誘電率異方性有するネマチック液晶の層を注入し、液晶を基板に対してほぼ垂直に配向させたVA(Vertical Alignment)型(特許文献3);
電極対を一枚の基板面内に櫛歯状に配置することにより、電界印加時の液晶の駆動方向が基板面内方向のみとなるIPS(In−Plane Switching)型(特許文献4および5);
IPS型の電極構造を変更し表示素子部分の開口率を上げて輝度を向上させたFFS(Fringe Field Switching)型(特許文献6);
視角依存性が少ないとともに映像画面の高速応答性に優れたOCB(Optical Compensated Bend=光学補償ベンド)型(特許文献7)
などの液晶表示装置が知られている。
このような液晶配向剤において、近年、塗布性(印刷性)の向上および信頼性(過酷な環境に対する長期安定性)の向上が従前にも増して求められるようになってきている。その事情は以下のとおりである。
従来の液晶表示素子の主用途であったノートパソコン、モニター用ディスプレイなどに比べ、近年普及が著しい液晶テレビジョンは買い替えサイクルが長く、もともと長寿命であることが求められている。例えば液晶テレビジョン用途などの場合、耐用年数が10年を超えることを前提として設計されることとなり、従来の液晶表示素子の用途と比較して桁外れに長時間の駆動が予定されている。同時に液晶表示素子の大型化かつ高精彩に表示するためには、バックライトの照度が高くなる傾向にあるほか、液晶配向剤の塗膜が大面積にわたって均一であることが要求される。
このように、液晶表示素子においては、多用途化などに伴って、高強度の光照射、長時間駆動など、従来では考えられなかった苛酷な環境にさらされることとなったうえで、さらなる塗膜の均一化および長寿命化が要求されているのである。
各繰り返し単位中のXは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル結合、チオエステル結合、−NR−または−CONR−(ただし、Rは水素原子または炭素原子1〜6のアルキル基である。)であり、
各繰り返し単位中のR01は、それぞれ独立に、水素原子、末端C=C二重結合を有する基、炭素間三重結合を有する基、エポキシ基を有する基、液晶分子を配向させる機能を有する基および光照射によって架橋反応もしくは異性化反応を生じる基から選択される。)
上記液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備する本発明の液晶表示素子は、長期にわたって表示品位が劣化することがない。従って、本発明の技術は、例えば液晶テレビジョン、液晶プロジェクター、携帯電話、携帯ゲーム機、タブレットPCなどの用途に好適に適用することができる。
<ポリアリーレン>
本発明におけるポリアリーレンは、アリーレン基の複数が直接結合して連結した構造を有するポリアリーレンのほか、アリーレン基の複数の間にアリーレン基以外の他の2価の基が結合して連結した主鎖構造、例えばポリアリーレンエーテル、ポリアリーレンスルフィド、ポリアリーレンアルケニレンなど、およびこれらのうちの2種以上からなるブロック共重合体なども包含する概念である。上記におけるアリーレン基は置換されていてもよい。
本発明におけるポリアリーレンとしては、アリーレン基の複数が直接結合して連結した構造を有するポリアリーレンであることが好ましい。特に好ましくは、置換されていてもよいナフタレン基の複数が直接結合して連結した構造を有するポリアリーレンであり、とりわけ、上記式(P)で表される繰り返し単位を有するポリアリーレンであることが好ましい。上記式(P)中、nは1または2であり、Arは(n+2)価の芳香族基である。つまり、Arはnが1のとき3価の芳香族基であり、nが2のとき4価の芳香族基である。また、各繰返し単位中のArは同一であっても異なっていてもよい。
上記式(P)中、各繰返し単位中のXは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル結合、チオエステル結合、−NR−または−CONR−で表される基である。ここでRは水素原子または炭素原子数1〜6のアルキル基である。
また、上記式(P)中、各繰返し単位中のR01は、それぞれ独立に、水素原子、末端C=C二重結合を有する基、炭素間三重結合を有する基、エポキシ基を有する基、液晶分子を配向させる機能を有する基または光照射によって架橋反応もしくは異性化反応を生じる基である。
上記式(P)で表される繰り返し単位の5個以上(好ましくは10個以上)が直接結合して連結した構造を有するポリアリーレンであることがさらに好ましく、
上記式(P)で表される繰り返し単位のみからなるポリアリーレンであることが最も好ましい。
上記−NR−および−CONR−におけるRの具体例としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基などを挙げることができる。
R01が末端C=C二重結合を有する基である場合、上記式(P)における置換基−X−R01としては、例えばアリルオキシ基、(メタ)アクリロキシ基などを挙げることができる。
R01がエポキシ基を有する基である場合、上記式(P1)における置換基−X−R01としては、例えばグリシジルオキシ基、2,3−シクロヘキシルエポキシ基、3,4−シクロヘキシルエポキシ基などを挙げることができる。
上記液晶配向性基は、液晶分子の群を一定の方向に整列させる機能を有する基である。このような液晶配向性基としては、例えば下記式(D)で表される基などを挙げることができる。
ZIは単結合、+−O−、+−COO−または+−OCO−(ただし、「+」を付した結合手がRI側である。)であり;
RIIはシクロへキシレン基またはフェニレン基であり、ただしこのシクロへキシレン基またはフェニレン基はシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基または炭素数1〜3のアルキル基によって置換されていてもよく;
n1は1または2であり、
ただしn1が2であるとき、2個のRIIは互いに同一であっても異なっていてもよく;
n2は0または1であり;
ZIIは単結合、+−O−、+−COO−または+−OCO−(ただし、「+」を付した結合手がRI側である。)であり;
n3は0〜2の整数であり;
n4は0または1であり;そして
「*」は結合手であることを表す。)
炭素数1〜40のフルオロアルキル基としては、直鎖のものが好ましく、具体的には、例えば3−トリフルオロメチルプロピル基、4−トリフルオロメチルブチル基、6−トリフルオロメチルヘキシル基、10−トリフルオロメチルデシル基、3−ペンタフルオロエチルプロピル基、4−ペンタフルオロエチルブチル基、8−ペンタフルオロエチルオクチル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシル基などを;
上記ステロイド骨格を有する17〜51の炭化水素基としては、例えば3−コレスタニル基、3−コレステニル基、3−ラノスタニル基、3−コラニル基、3−プレグナル基、3−アンドロスタニル基、3−エストラニル基などを、それぞれ挙げることができる。
式(D)において−(RII)n1−で表される2価の基としては、n1が1である場合として、例えば1,4−フェニレン基、1,4−シクロへキシレン基などを;
n1が2である場合として、例えば4,4’−ビフェニレン基、4,4’−ビシクロへキシレン基、下記式のそれぞれで表される基などを、それぞれ好ましいものとして挙げることができる。
上記式(D)におけるn3は2であることが好ましい。
上記式(D)において、n2が1であるか、あるいはn2が0であってRIがステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基であることが好ましい。
上記光反応性基は、光照射によって架橋反応または異性化反応を生じる基である。このような光反応性基としては、例えば下記式(E)で表される2価の基などを挙げることができる。
A1およびA2は、それぞれ、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子またはシアノ基であり;
eおよびfは、それぞれ、0〜4の整数であり;そして
「*」は、それぞれ、結合手であることを表す。)
上記式(E)におけるA1およびA2としては、それぞれ、炭素数1〜6のアルコキシ基であることが好ましい。eおよびfは、それぞれ、0であることが好ましい。
上記式(E)で表される基は、ポリアリーレンの側鎖中に存在することが好ましい。この場合、上記式(E)の結合手のどちらか片方に水素原子または1価の有機基(好ましくは上記の液晶配向性基)が結合して、式(E)全体で1価の基となり、もう1つの結合手によってポリアリーレンの主鎖骨格に結合することが好ましい。このような基の具体例としては、例えば下記式のそれぞれで表される基を挙げることができる。
vは1〜10の整数であり;
「*」は結合手であることを表す。)
ポリアリーレンが末端C=C二重結合を有する基およびエポキシ基よりなる群から選択される少なくとも1種の基を有する場合、該ポリアリーレンを含有する液晶配向剤は、特に低い残留DC電圧を示すこととなるから、FFS型液晶表示素子への適用に好適である。この機能を効果的に発現するためには、
ポリアリーレンが末端C=C二重結合を有する基を有する場合には、該ポリアリーレンにおける末端C=C二重結合の含有割合を、0.0001モル/g−ポリマー以上とすることが好ましく、0.0005〜0.025モル/g−ポリマーとすることがより好ましく;
ポリアリーレンがエポキシ基を有する場合には、該ポリアリーレンのエポキシ当量を、10,000g/モル以下とすることが好ましく、40〜2,000g/モルとすることがより好ましい。ポリアリーレンが末端C=C二重結合を有する基およびエポキシ基を上記の範囲で重畳的に有する場合も、FFS型液晶表示素子用途に好適である。
ポリアリーレンが液晶配向性基を有する場合、該ポリアリーレンを含有する液晶配向剤は垂直配向型の液晶表示素子の製造に好ましく適用することができる。この機能を効果的に発現するためには、ポリアリーレンにおける液晶配向性基の含有割合を、0.0001モル/g−ポリマー以上とすることが好ましく、0.0005〜0.025モル/g−ポリマーとすることがより好ましい。
さらに、ポリアリーレンが光反応性基を有する場合、該ポリアリーレンを含有する液晶配向剤は光配向法によって形成される液晶配向膜に好ましく適用することができる。この機能を効果的に発現するためには、ポリアリーレンにおける液光反応性基の含有割合を、0.0001モル/g−ポリマー以上とすることが好ましく、0.0005〜0.025モル/g−ポリマーとすることがより好ましい。
本発明の液晶配向剤に含有されるポリアリーレンは、上記のような基の2種類以上を重畳的に有していてもよい。
ポリアリーレン中には、上記式(P−1)および(P−2)のそれぞれで表される繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位が複数個存在するが、該複数個の繰り返し単位における置換基−X−R01は、同一であっても相違していてもよい。
本発明の液晶配向剤に含有されるポリアリーレンについて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは、好ましくは500〜1,000,000であり、より好ましくは1,000〜500,000である。
例えば、上記式(P−1)で表される繰り返し単位からなるポリアリーレンは、所望の置換基−XR01を有するナフタレンジハライドを原料とし、遷移金属錯体(例えば0価ニッケル錯体など)の存在下に行う高分子鎖成長反応;
所望の置換基−XR01を有するナフタレンジハライドのハロゲン原子のうちの片方をグリニャー化した後、II価ニッケル錯体の存在下に行う高分子鎖成長反応;
所望の置換基−XR1を有するナフタレンジハライドと、
該ナフタレンにトリアルキルスズ基(R3Sn−、Rはアルキル基である)またはジアルコキシホウ素基((RO)2B−、Rはアルキル基である)の2個を導入した化合物と
を原料とし、0価パラジウム錯体の存在下に行う高分子鎖成長反応;
所望の置換基−XR1を有するジヒドロキシナフタレンを原料とし、銅(II)錯体の存在下に行う高分子鎖成長反応などの適宜の方法により、合成することができる。
ポリアリーレンがアリーレン基以外の他の2価の基を有する主鎖構造を有するものは、例えば、上記高分子鎖成長反応の際に、アリーレン基以外の他の2価の基を与える他の共重合可能な単量体を共存させて製造することができる。
上記の方法のいずれかによって得たポリアリーレンにつき、置換基の反応性を利用してこれを化学的に変換する反応も好ましく適用することができる。
例えば置換基として水酸基を有するポリアリーレンは、該水酸基をアルカリ金属塩とした後、所望の基を有するハロゲン化炭化水素化合物と反応させることにより、該所望の基を有するポリアリーレンを得ることができる。この方法により、例えば置換基としてアリルオキシ基を有するポリアリーレンを得ることができる。置換基としてC=C二重結合を有する基を有するポリアリーレンは、該C=C二重結合を例えば過酸によって酸化することにより、エポキシ基を有するポリアリーレンを得ることができる。このエポキシ基を有するポリアリーレンをさらにカルボン酸などと反応させることによっても、所望の基を有するポリアリーレンを得ることができる。
上記の反応の好ましい条件は、当業者であれば少しの予備実験によって容易に設定することができよう。
また、上記式(P−2)で表わされる繰返し単位を与えるための化合物としては、例えば、フェノール、p−イソプロペニルフェノール、エチニルスチレンおよびフェニルアセチレンが挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
アリーレン基以外の上記他の2価の基を与えるための他の共重合可能な単量体としては、例えばプロパギル酸、6−ヘキシン酸、2−プロピン−1−オール、1−ブチン−3−オール、3−ブチン−3−オール、1−ペンチン−3−オール、4−ペンチン−1−オール、3−エチニルアニリンおよび4−エチニルアニリンを挙げることができる。他の共重合可能な単量体は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。
ポリアリーレンにおける上記他の2価の基の繰り返し単位の含有割合は、全繰返し単位に基づき、好ましくは0〜30モル%、より好ましくは0〜20モル%、さらに好ましくは0〜10モル%である。
本発明の液晶配向剤は、上記のようなポリアリーレンを必須の成分として含有し、好ましくはこれらが後述の溶媒に溶解された溶液組成物として構成されるが、必要に応じてその他の成分をさらに含有していてもよい。ここで、その他の成分としては、例えばその他の重合体、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物(以下、「エポキシ化合物」という。)、官能性シラン化合物などを挙げることができる。
上記その他の重合体は、上記式(1)で表される構造を有さない重合体であり、本発明の液晶配向剤の溶液特性(塗布性)および電気特性の改善のために使用することができる。その他の重合体としては、例えばポリアミック酸、該ポリアミック酸のイミド化重合体、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリオルガノシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレートなどを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。その他の重合体として好ましくは、ポリアミック酸、該ポリアミック酸のイミド化重合体、ポリアミック酸エステルおよびポリオルガノシロキサンよりなる群から選択される1種以上である。
その他の重合体の使用割合は、重合体の合計(ポリアリーレンとその他の重合体の合計を意味する。以下同じ。)100重量部に対して、60重量部以下であることが好ましく、40重量部以下であることがより好ましい。その他の重合体を使用する場合、その含有割合を重合体の合計100重量部に対して10重量部以上とすることにより、その他の重合体を使用することの効果が好ましく発現することとなる。
上記エポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−シクロヘキシルアミンなどを好ましいものとして挙げることができる。
これらエポキシ化合物の配合割合は、重合体の合計100重量部に対して、好ましくは40重量部以下であり、より好ましくは0.1〜30重量部である。
これら官能性シラン化合物の配合割合は、重合体の合計100重量部に対して、好ましくは2重量部以下であり、より好ましくは0.02〜0.2重量部である。
本発明の液晶配向剤は、上記の如きポリアリーレンおよび必要に応じて任意的に配合されるその他の添加剤が、好ましくは有機溶媒中に溶解含有されて構成される。
本発明の液晶配向剤に使用できる有機溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、2−メトキシエタノール、1−メトキシプロピル−2−アセテートなどを挙げることができる。これらは単独で使用することができ、または2種以上を混合して使用することができる。
特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって異なる。例えばスピンナー法による場合には固形分濃度1.5〜4.5重量%の範囲が特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を3〜9重量%の範囲とし、それにより溶液粘度を12〜50mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を1〜5重量%の範囲とし、それにより、溶液粘度を3〜15mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。
本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは10〜50℃であり、より好ましくは20〜30℃である。
上記のような本発明の液晶配向剤から液晶配向膜を形成することができる。
液晶配向膜の形成は、例えば(1)基板上に塗膜を形成する工程(塗膜形成工程)および(2)液晶配向性付与工程を、この順で行う方法によることができる。ただし、本発明の液晶配向剤を、VA型、MVA型などの垂直配向モードの液晶表示素子に適用する場合には、(2)液晶配向性付与工程は任意工程であり、これを行わなくてもよい。
以下、液晶配向膜を形成するための工程のそれぞれについて説明する。
塗膜形成工程においては、基板上に本発明の液晶配向剤を塗布し、好ましくはその後これを加熱することにより、塗膜を形成する。
基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス;
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネートなどのプラスチックなど
からなる透明基板などを用いることができる。
本発明の液晶配向剤を、TN型、STN型、VA型、MVA型、PSA型などの縦電界方式の液晶表示素子に適用する場合、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板2枚を一対として、その各透明性導電膜形成面上に、本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成する。一方、本発明の液晶配向剤を、IPS型、FFS型などの横電界方式の液晶表示素子に適用する場合には、片面に透明導電膜または金属膜が櫛歯状にパターニングされた電極の一対を有する基板と、電極が設けられていない対向基板とを一対とし、櫛歯状電極の形成面と、対向基板の片面とに、それぞれ本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成する。上記透明導電膜としては、例えばIn2O3−SnO2からなるITO膜、SnO2からなるNESA(登録商標)膜などを用いることができる。上記金属膜としては、例えばクロムなどの金属からなる膜を使用することができる。透明導電膜および金属膜のパターニングには、例えばパターンなしの透明導電膜を形成した後にフォト・エッチング法、スパッタ法などによりパターンを形成する方法、透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法などによることができる。
基板上への液晶配向剤の塗布は、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法、インクジェット印刷法などの適宜の塗布方法により行うことができる。好ましくは塗布後、塗布面を予備加熱(プレベーク)し、次いで焼成(ポストベーク)することにより塗膜を形成することができる。プレベークの条件は、例えば40〜120℃の加熱温度において0.1〜5分の加熱時間であり、ポストベークの条件は、例えば120〜300℃、好ましくは150〜250℃の加熱温度において、例えば5〜200分、好ましくは10〜100分の加熱時間である。
ポストベーク後の塗膜の膜厚は、0.001〜1μmとすることが好ましく、0.005〜0.5μmとすることがより好ましい
本発明の液晶配向剤を、VA型、MVA型、PSA(Polymer Stabilized Alignment)型などの垂直配向型の液晶表示素子に適用する場合には、上記のようにして形成された塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができる。ただしこの場合であっても、任意的に次の(2)液晶配向性付与工程を行ってもよい。
本発明の液晶配向剤を、TN型、STN型、IPS型、FFS型などの水平配向型の液晶表示素子に適用する場合には、上記(1)塗膜形成工程の後に(2)液晶配向性付与工程が行われる。
この液晶配向性付与工程は、ラビング処理および光照射処理のうちの少なくとも一方の処理を行うことによって行うことができる。
本発明の液晶配向剤に含有されるポリアリーレン(その他の重合体が存在する場合には、ポリアリーレンおよびその他の重合体のうちの少なくとも1種)が光反応性基を有している場合には液晶配向性付与工程として光照射処理を行うことが好ましく、そうでない場合には液晶配向性付与工程としてラビング処理を行うことが好ましい。
ラビング処理は、基板上に形成された塗膜の面を、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦ることにより行うことができる。
光照射処理において照射する光としては、例えば150〜800nmの波長の光を含む紫外線、可視光線などを用いることができる。200〜400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、Hg−Xeランプ、エキシマーレーザーなどを使用することができる。上記の好ましい波長領域の紫外線は、上記光源を、例えばフィルター、回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。
光照射の際に使用する光が偏光(直線偏光または部分偏光)している場合には、塗膜面に対して垂直方向から照射しても斜め方向から照射してもよい。一方、非偏光の光を照射する場合には、照射は塗膜面に対して斜め方向から行うことが好ましい。
光の照射量ないし露光量としては、好ましくは50〜40,000J/m2であり、より好ましくは100〜20,000J/m2である。
上記のようにして形成された液晶配向膜を有する基板を用いて液晶表示素子を製造することができる。
上記のようにして液晶配向膜が形成された一対の基板を準備し、この一対の基板間に液晶が狭持された構成の液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば以下の2つの方法を挙げることができる。
第1の方法として、各液晶配向膜が対向するように間隙(セルギャップ)を介して一対の基板を対向配置し、該一対の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面および適当なシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造する方法を挙げることができる。
第2の方法として、液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上の所定の数カ所に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせるとともに液晶を基板全面に押し広げ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造する方法(ODF(One Drop Fill)法)を挙げることができる。
上記いずれの方法による場合でも、次いで、液晶セルを、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが好ましい。
上記液晶としては、例えばネマティック型液晶、スメクティック型液晶などを用いることができる。
一方、垂直配向型の液晶表示素子を製造する場合には、負の誘電異方性を有するネマティック型液晶が好ましく、例えばジシアノベンゼン系液晶、ピリダジン系液晶、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶などを用いることができる。
PSA型の液晶表示素子を製造する場合には、さらに、上記のようにして得られた液晶の一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で、液晶セルに光照射する工程を行う。ここで印加する電圧は、例えば5〜50Vの直流または交流とすることができる。照射する光としては、液晶配向膜の形成における液晶配向性付与工程で使用される光と同じ光を使用することができる。光の照射量としては、好ましくは1,000J/m2以上100,000J/m2未満であり、より好ましくは1,000〜50,000J/m2である。
そして、液晶セルの外側表面に偏光板を所定の方向で貼り合わせることにより、本発明の液晶表示素子を得ることができる。
液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、またはH膜そのものからなる偏光板などを挙げることができる。
<特定重合体の合成例>
以下の合成例は、各重合体の合成操作を以下に記載のスケールで必要に応じて繰り返すことにより、以降の合成例における重合体必要量を確保した。
合成例1
窒素導入管を装着した三方コックおよび撹拌機を備えた500mLの3つ口フラスコの内部を窒素雰囲気とし、ここに2,6−ジヒドロキシナフタレン20.00g(0.125mol)、ジ−μ−ヒドロキソ-ビス[(N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン)銅(II)]クロリド0.58g(0.125mmol)および2−メトキシエタノール380mLを仕込んで撹拌を開始した。続いて、31重量%過酸化水素水13.7gを2時間かけて添加した後、25℃において3時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応液を蒸留水1,000mL中に投じて生成物を沈殿させた。得られた沈殿物をろ取して回収し、80℃において一晩真空下に置いて溶媒を除去することにより、灰色粉末状の重合体(A−1)(下記式(A−1)で表される繰り返し単位を有する重合体)を得た(収量18.76g、収率95%)。
以下の手法により、上記で得られた重合体(A−1)の赤外分光分析を行った。赤外スペクトルを図1に示した。
[赤外分光分析方法]
得られた重合体を2−メトキシエタノールに溶解し、重合体濃度20質量%の重合体溶液を得た。ポリエチレンテレフタレラート(PET)からなる基板上に上記溶液をドクターブレード法により塗布し、70℃において30分および120℃において30分、順次に加熱して溶媒を除去してフィルムを得た。このフィルムをPET基板から剥離し、粘着テープにより赤外測定用の金枠に固定した後、120℃において2時間真空下に置いて溶媒を完全に除去することにより、膜厚20μmの赤外評価用フィルムとし、該フィルムを用いて測定を行った。
下記スキーム1に従って、式(A−4)で表される繰り返し単位を有する重合体(重合体(A−4))を合成した。
重合体(A−4)について測定した1H−NMR(溶媒:CDCl3)の結果は以下のとおりであった。
化学シフトσ:7.8〜6.9ppm(ベンゼン環上水素、4H)、6.0〜5.6ppm(CH2=CH−CH2−O、2H)、5.3〜4.8ppm(CH 2 =CH−CH2−O、4H)、4.8〜4.3ppm(CH2=CH−CH 2 −O、4H)
下記スキーム2に従って、式(A−2)で表される繰り返し単位を有する重合体(重合体(A−2))を合成した。
500mLのナス型フラスコ中で、上記合成例2で得た重合体(A−4)6.88gをテトラヒドロフラン200gに溶解した。得られた溶液を0℃に冷却しつつ、ここにm−クロロ過安息香酸(含量69重量%)36.5gを、30分間かけて少量ずつ添加した。添加終了後、同温度において1時間撹拌後、室温まで昇温してさらに1時間撹拌した後、50℃まで昇温して同温度において8時間撹拌下に反応を継続した。その後、反応混合物の温度を冷却し、30℃において溶媒を減圧留去した。残渣にテトラヒドロフラン30gを加えて溶解し、得られた溶液をメタノール500mL中に投入して生成物を再沈殿させた。吸引ろ過により回収した固体をメタノールで洗浄後、50℃において真空乾燥することにより、式(A−2)で表される繰り返し単位を有する重合体(重合体(A−2))を5.1g得た(収率64%)。
重合体(A−2)について測定した1H−NMR(溶媒:CDCl3)の結果は以下のとおりであった。
化学シフトσ:7.8〜6.9ppm(ベンゼン環上水素、4H)、6.0〜5.6ppm(CH2=CH−CH2−O、XH)、5.3〜4.8ppm(CH 2 =CH−CH2−O、2XH)、4.8〜4.3ppm(CH2=CH−CH 2 −O、2XH)、4.4〜4.0ppm(CH2▽CH−CH 2 −O、4YH)、3.2〜1.8ppm(CH 2 ▽CH−CH2−O、6YH)
上記1H−NMRにおいて得られたピ−ク面積から上記のXおよびYの値を求めたところ、X=0.58およびY=0.42であった。従って、原料として用いた重合体(A−4)の有するアリル基のエポキシ化率は42%であった。
100mLの三角フラスコ中に、上記合成例3で得た重合体(A−2)17.8g、メチルイソブチルケトン28g、4−オクチルオキシ安息香酸2.1gおよびUCAT18X(商品名、サンアプロ(株)製の4級アミン塩)1.78gを仕込み、80℃において12時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物をメタノール中に投入して生成した沈殿物を回収した。得られた沈殿物を酢酸エチルに溶解して溶液とし、該溶液を3回水洗した後、減圧にて溶媒を留去することにより、重合体(A−2)の有するエポキシ基のうちの10%が4−(n−ペンチル)シクロヘキシル安息香酸によって変性された重合体(重合体(A−3))を18.8g得た。
窒素導入管を装着した三方コックおよび撹拌機を備えた500mLの3つ口フラスコの内部を窒素雰囲気とし、ここに1,4−ジブトキシベンゼン27.79g(0.125mol)、ジ−μ−ヒドロキソ-ビス[(N,N,N’,N’―テトラメチルエチレンジアミン)銅(II)]クロリド0.58g(0.125mmol)および2−メトキシエタノール380mLを仕込んで撹拌を開始した。続いて31重量%過酸化水素水13.7gを2時間かけて滴下した後、25℃において3時間反応を行った。反応終了後、反応液を蒸留水1,000mLに投入して生成した沈殿物をろ取により回収した。回収した沈殿物を80℃において一晩真空乾燥することにより、灰色粉末の重合体(A−5)(下記式(A−5)で表される繰り返し単位を有する重合体)を20.22g得た(収率73%)。
合成例m1
下記スキームm1に従って、化合物(m−1)を合成した。
次いで、温度計、滴下ロートおよび窒素導入管を備えた1Lの三口フラスコに、上記で得た化合物(m−1a)36.0g、テトラヒドロフラン400mLおよびトリエチルアミン17.8gを仕込み、5℃以下に氷冷した。ここに、塩化メタクリロイル18.4gを100mLのテトラヒドロフランに溶かした溶液を1時間かけて滴下した後、反応液の温度を室温に戻して2時間反応を行った。反応終了後、反応液に酢酸エチル400mLを加え、飽和炭酸ナトリウム水溶液で1回および水で3回、順次に分液洗浄した。洗浄後の有機層に2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール0.04gを加えて150mLまで濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(吸着材=シリカ、展開溶剤=ヘキサンおよび酢酸エチルからなる混合溶媒(混合比=7:3(重量比))にて精製した後、得られた留分を減圧濃縮して析出した結晶をろ取して減圧下に溶媒を除去することにより、化合物(m−1)を32.9g得た。
下記スキームm2に従って化合物(m−2)を合成した。
一方、温度計、滴下ロートおよび窒素導入管を備えた1Lの三口フラスコに、上記合成例m1の前段と同様にして得た化合物(m−1a)を22.5g、テトラヒドロフラン200mLおよびテトラエチルアミン10.6gを仕込み、5℃以下に氷冷した。ここに、上記で調整した溶液Aを1時間かけて滴下した後、反応液の温度を室温に戻して2時間反応を行った。反応終了後、反応液に酢酸エチル400mLを加え、水で3回分液洗浄を行った後、減圧濃縮して析出した結晶をろ取して減圧下に溶媒を除去することにより、化合物(m−2)の白色結晶を43.9g得た。
合成例6
下記スキーム3に従って、式(A−6)で示した2種類の
繰り返し単位を有する重合体(重合体(A−6))を合成した。
窒素導入管および撹拌機を備えた200mLの3つ口フラスコの内部を窒素雰囲気とし、ここに上記合成例m1で得た化合物(m−1)を4.1g、上記合成例m2で得た化合物(m−2)を2.9g、ジ−μ−ヒドロキソ-ビス[(N,N,N’,N’―テトラメチルエチレンジアミン)銅(II)]クロリド0.046gおよび2−メトキシエタノール70mLを仕込んで撹拌を開始した。続いてここに、31重量%過酸化水素水2.2gを2時間かけて分割添加した後、25℃において3時間反応を行った。反応終了後、反応液を蒸留水700mLに投入して生成した沈殿物をろ取により回収した。回収した沈殿物を80℃において一晩真空乾燥することにより、灰色粉末の重合体(A−6)を4.8g得た。
[ポリアミック酸の合成]
合成例PA−1
窒素導入管を装着した三方コックおよび撹拌機を備えた100mL四つ口フラスコに、ジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルアミン4.98g(50モル部)および4,4’−ジアミノジフェニルメタン4.96g(50モル部)をとり、ここにN−メチル−2−ピロリドン(NMP)66.35gを加えて、窒素を送りながら撹拌して溶解し、ジアミン溶液を得た。このジアミン溶液を撹拌しながら、テトラカルボン酸二無水物として1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物9.315g(95モル部)を添加し、室温で2時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、重合体濃度が15重量%になるようにNMPを加え、室温で24時間撹拌することにより、ポリアミック酸(PA−1)を含有する溶液を得た。
上記で得られたポリアミック酸(PA−1)を含有する溶液の粘度は910mPa・sであった(測定温度25℃)。
窒素導入管を装着した三方コックおよび撹拌機を備えた100mL四つ口フラスコに、ジアミンとして3,5−ジアミノ安息香酸7.60g(100モル部)をとり、ここにNMP50.71gを加えて、窒素を送りながら撹拌して溶解し、ジアミン溶液を得た。このジアミン溶液を撹拌しながら、テトラカルボン酸二無水物としてピロメリット酸二無水物10.361g(95モル部)を添加し、室温で2時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、重合体濃度が15重量%になるようにNMPを加え、室温で24時間撹拌することにより、ポリアミック酸(PA−2)を含有する溶液を得た。
上記で得られたポリアミック酸(PA−1)を含有する溶液の粘度は720mPa・sであった(測定温度25℃)。
ジアミンとして3,5−ジアミノ安息香酸 6−メタクリロキシヘキシル0.64gおよびオクタデシロキシ−2,4-ジアミノベンゼン0.19gならびにテトラカルボン酸二無水物として1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物0.49gをN−メチル−2−ピロリドン(NMP)5.26g中に溶解し、室温において16時間反応を行うことにより、ポリアミック酸(PA−3)を含有する溶液を得た。
合成例PI−1
ジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルアミン2.283g(50モル部)および4,4’−ジアミノジフェニルアミン2.271g(50モル部)ならびにテトラカルボン酸二無水物としてビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸2:4,6:8−二無水物5.446g(95モル部)をNMP40gに溶解し、室温において6時間撹拌下に反応を行い、ポリアミック酸を含有する溶液を得た。
次いで、得られた溶液にNMP50gを追加した後、ピリジン2.52g(ポリアミック酸の有するアミック酸単位1モル部に対して1.5モル部)および無水酢酸3.26g(同1.5モル部)を添加し、70℃において6時間脱水閉環反応を行った。反応終了後、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。回収した沈殿物をメタノールで洗浄した後、40℃において15時間減圧下に置いて溶媒を除去することにより、イミド化率50%のイミド化重合体(PI−1)を得た。
このイミド化重合体(PI−1)は、濃度15重量%のNMP溶液として、後述の液晶配向剤の調製に供した。該NMP溶液(濃度15重量%)の粘度は350mPa・sであった(測定温度25℃)。
反応容器中で、ジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルアミン8.93gおよび4,4’−ジアミノジフェニルメタン2.22gを仕込み、N−メチル−2−ピロリドン108.54g中に溶解した。ここに、テトラカルボン酸二無水物としてビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸二無水物13.52gを加え、さらにN−メチル−2−ピロリドンを加えてモノマー濃度を12重量%とした。この溶液を50℃において一晩撹拌下に反応することにより、ポリアミック酸を含有する溶液を得た。
上記溶液に、ピリジン4.04g(ポリアミック酸の有するアミック酸単位1モル部に対して1.0モル部)および無水酢酸5.21g(同1.0モル部)を添加し、110℃において4時間脱水閉環反応を行った。反応終了後、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。回収した沈殿物をメタノールで洗浄した後、40℃において15時間減圧下に置いて溶媒を除去することにより、イミド化率50%のイミド化重合体(PI−2)を得た。
合成例PE−1
ジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルアミン0.71g(50モル部)および4,4’−ジアミノジフェニルメタン0.72g(50モル部)、塩基としてピリジン1.4mLならびに溶媒としてNMP71mLを仕込んで溶解し、ジアミン溶液を得た。この溶液を水冷撹拌しながら、ここに、ジメチル−1,3−ビス(クロロカルボニル)シクロブタン−2,4−カルボキシレート2.08g(97モル部)を添加し、さらに固形分濃度が5重量%となるようにNMPを追加した後、水冷しながら4時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応液を250gの水中に投入して析出した重合体を吸引濾過により回収した。回収した重合体を、水250mLで1回およびメタノール63gで3回、順次に洗浄した後、40℃の減圧下で5時間乾燥することにより、粉末状のポリアミック酸エステル(PE−1)2.8gを得た。このポリアミック酸エステル(PE−1)の重量平均分子量Mwは23,000であった。
このポリアミック酸エステル(PE−1)は、濃度15重量%のNMP溶液として、後述の液晶配向剤の調製に供した。
合成例PS−1
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン100.0g、メチルイソブチルケトン500gおよびトリエチルアミン10.0gを仕込み、室温において混合した。次いでここに、脱イオン水100gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、還流下で撹拌しつつ、80℃において6時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、0.2重量%硝酸アンモニウム水溶液により、洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。このポリオルガノシロキサンについて、1H−NMR分析を行ったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。得られたポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mwは3,500、エポキシ当量は180g/モルであった。
次いで、200mLの三口フラスコに、上記で得られたエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン10.0g、メチルイソブチルケトン30.28g、4
−ドデシルオキシ安息香酸3.98gおよび触媒としてUCAT 18X(商品名、サンアプロ(株)製の4級アミン塩)0.10gを仕込み、100℃において48時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて得た溶液を3回水洗し、有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥した後、溶剤を留去することにより、ポリオルガノシロキサン(PS−1)を9.0g得た。得られたポリオルガノシロキサン(PS−1)の重量平均分子量Mwは9,900であった。
実施例1
[液晶配向剤の調製]
上記合成例1で得た重合体(A−1)を溶媒としての2−メトキシエタノールに溶解し、重合体濃度5重量%の溶液とした。この溶液を、孔径0.2μmのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤を調製した。
[液晶配向剤の評価]
1.塗布性の評価
上記で調製した液晶配向剤を、ガラス基板上にスピンナーを用いて塗布し、80℃のホットプレートで1分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換した200℃のオーブンで1時間加熱(ポストベーク)することにより、平均膜厚1,000Åの塗膜を形成した。この塗膜につき、原子間力顕微鏡(AFM)にて観察して中心平均粗さ(Ra)を測定した。
このRa値が1.0nm未満のとき該液晶配向剤の塗布性は「良好」、1.0nm以上5.0nm未満であるとき塗布性は「可」、5.0nm以上であるとき塗布性は「不良」と考えることができる。
基板として、図2に示した櫛歯状のパターンを有するクロムからなる2系統の電極(電極A(101)および電極B(102))が形成されたガラス基板(電極基板)と、
電極が形成されていないガラス基板(対向基板)と
を一対の基板として用い、上記液晶配向剤を、上記電極基板の電極形成面上および対向基板の片面に、それぞれスピンナーを用いて塗布し、80℃で1分加熱(プレベーク)および230℃で1時間加熱(ポストベーク)して、膜厚1,000Åの塗膜を形成した。これらの塗膜のそれぞれに対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数400rpm、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押しこみ長さ0.1mmでラビング処理を行った。その後、超純水中で1分間超音波洗浄を行ない、次いで100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板2枚を得た。
次に、対向基板の液晶配向膜形成面の外周縁部に液晶注入口を残して直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した後、液晶配向膜形成面が相対し、且つ光照射時の偏光面の基板面への投影方向が一致するように一対の基板を重ね合わせて圧着し、150℃で1時間加熱して接着剤を熱硬化した。
次いで、液晶注入口から一対の基板間にネマティック型液晶(メルク社製、MLC−6221)を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くため、これを150℃まで加熱してから室温まで徐冷することにより、FFS型の液晶セルを製造した。
液晶セルは合計3個製造し、そのうちの1つを下記の「(1)液晶配向性の評価
」および「(2)残留DC電圧の評価(通常条件)」に、別の1つを「(3)残留DC電圧の評価(過酷条件)」に、さらに別の1つを「(4)電圧保持率」および「(5)信頼性の評価」に、それぞれ供した。
(1)液晶配向性の評価
上記で製造した液晶セルについて、交流5Vの電圧をオン・オフ(印加・解除)したときの異常ドメインの有無を偏光顕微鏡で観察した。
異常ドメインが観察されなかった場合を液晶配向性「良好」、異常ドメインが表示領域中にひとつでも観察された場合を液晶配向性「不良」として評価したところ、この液晶セルの液晶配向性は「良好」と判定された。
(2)残留DC電圧の評価(通常条件)
上記で製造した液晶セルに対して、直流10Vを重畳した30Hz、3Vの矩形波を25℃の環境温度で20時間印加し、直流電圧を切った直後の液晶セル内に残留した電圧をフリッカー消去法により残留DC電圧を求めたところ、120mVであった。
この残留DC電圧の評価の値が300mV以下のとき該液晶セルの通常条件における残留DC電圧は「良好」、300mVを超えて500mV未満であるとき通常条件における残留DC電圧は「可」、500mV以上であるとき通常条件における残留DC電圧は「不良」と考えることができる。
上記「(2)残留DC電圧の評価(通常条件)」において、重畳直流の電圧、直流重畳矩形波の印可温度および時間を、それぞれ、20V、100℃および500時間としたほかは、上記と同様にして残留DC電圧を求めたところ、200mVであった。
この残留DC電圧の評価の値が300mV以下のとき該液晶セルの過酷条件における残留DC電圧は「良好」、300mVを超えて500mV未満であるとき過酷条件における残留DC電圧は「可」、500mV以上であるとき過酷条件における残留DC電圧は「不良」と考えることができる。
(4)電圧保持率の評価
上記で製造した液晶セルに対して、5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率(初期電圧保持率VHRBF)を測定したところ、92%であった。測定装置としては、(株)東陽テクニカ製、「VHR−1」を使用した。
この初期電圧保持率VHRBFの値が95%以上のとき該液晶セルの電圧保持率は「良好」、90%以上95%未満であるとき電圧保持率は「可」、90%未満であるとき電圧保持率は「不良」と考えることができる。
上記で初期電圧保持率測定後の液晶セルを、100℃のオーブン中に300時間静置した。その後、この液晶表示素子を室温下に静置して室温まで放冷した後
に、上記「(4)電圧保持率の評価」と同様にして電圧保持率を測定した(ストレス印加後電圧保持率VHRAF)。
そして、上記ストレス印加後電圧保持率VHRAFおよび初期電圧保持率VHRBFを下記数式(2)に代入して、電圧保持率の変化率(△VHR(%))を求め、これを信頼性の指標とした。
△VHR(%)=((VHRBF−VHRAF)÷VHRBF)×100 (2)
この△VHRの値が10%以下のとき該液晶セルの信頼性は「良好」、10%を超え20%以下であるとき信頼性は「可」、20%以上であるとき信頼性は「不良」と考えることができる。
上記実施例1の液晶配向剤の調製において、重合体として上記合成例2で得た重合体(A−2)を用い、溶媒としてプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテートを用いたほかは、実施例1と同様にして液晶配向剤を調製し、各種の評価を行った。
評価結果は第1表および第2表に示した。
[液晶配向剤の調製]
上記合成例3で得た重合体(A−3)をNMPおよびブチルセロソルブ(BC)からなる混合溶媒(NMP:BC=50:50(重量比))に溶解し、重合体濃度6.0重量%の溶液とした。この溶液を、孔径0.2μmのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤を調製した。
[液晶配向剤の評価]
1.塗布性の評価
実施例1における「1.塗布性の評価」と同様にして、上記液晶配向剤の塗布性を評価した。
評価結果は第1表に示した。
上記で調製した液晶配向剤を、液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いてITO膜からなる透明電極を有するガラス基板の透明電極面上に塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、150℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、膜厚1,000Åの塗膜を形成した。この塗膜に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数400rpm、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押しこみ長さ0.1mmでラビング処理を行った。その後、超純水中で1分間超音波洗浄を行ない、次いで100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、ラビング処理された塗膜を有する基板を得た。この操作を繰り返し、ラビング処理された塗膜を有する基板を一対(2枚)得た。
次に、上記一対の基板のうちの1枚のラビング処理された塗膜を有する面の外縁に、直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、一対の基板を各塗膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化した。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、ネマチック型液晶(メルク社製、MLC−6221)を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、TN型の液晶セルを製造した。
3.液晶セルの評価
上記で製造した液晶セルについて、実施例1と同様にして各種の評価を行った。
評価結果は第2表に示した。
[液晶配向剤の調製]
上記合成例4で得た重合体(A−4)をNMPおよびブチルセロソルブ(BC)からなる混合溶媒(NMP:BC=50:50(重量比))に溶解し、重合体濃度6.0重量%の溶液とした。この溶液を、孔径0.2μmのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤を調製した。
[液晶配向剤の評価]
1.塗布性の評価
実施例1における「1.塗布性の評価」と同様にして、上記液晶配向剤の塗布性を評価した。
評価結果は第1表に示した。
2.液晶セルの製造(VA型液晶セルの製造)
上記実施例3の「2.液晶セルの製造(TN型液晶セルの製造)」において、
液晶配向剤として上記で調製したものを用い、
塗膜形成後のラビング処理を行わず、そして
液晶としてネマチック型液晶(メルク社製、MLC−6608)を用いた
以外は実施例3と同様にしてVA型の液晶セルを製造した。
3.液晶セルの評価
上記で製造した液晶セルについて、実施例1と同様にして各種の評価を行った。
評価結果は第2表に示した。
上記実施例1の液晶配向剤の調製において、重合体として上記合成例5で得た重合体(A−5)を用い、溶媒としてNMPおよびBCからなる混合溶媒(NMP:BC=50:50(重量比))を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶配向剤を調製し、各種の評価を行った。
評価結果は第1表および第2表に示した。
[液晶配向剤の調製]
上記合成例PA−1で得たポリアミック酸(PA−1)を含有する溶液33.3重量部(ポリアミック酸(PA−1)換算で5重量部)に、上記合成例1で得た重合体(A−1)95重量部を加えて混合し、さらにNMPおよびBCを加えて希釈することにより、重合体の合計の濃度が5重量%および溶媒組成がNMP:BC=50:50(重量比)の溶液とした。この溶液を、孔径0.2μmのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤を調製した。
[液晶配向剤の評価]
液晶配向剤として上記で調製したものを用いたほかは実施例1と同様にして各種の評価を行った。
評価結果は第1表および第2表に示した。
[液晶配向剤の調製]
重合体として、上記合成例4で得た重合体(A−4)50重量部および上記合成例PI−1で得たイミド化重合体(PI−1)50重量部をNMPおよびBCからなる混合溶媒(NMP:BC=50:50(重量比))に溶解して、重合体の合計の濃度が5重量%の溶液とした。この溶液を、孔径0.2μmのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤を調製した。
[液晶配向剤の評価]
液晶配向剤として上記で調製したものを用いたほかは実施例1と同様にして各種の評価を行った。
評価結果は第1表および第2表に示した。
実施例8および9
上記実施例7の液晶配向剤の調製において、第1表に記載した種類および量の重合体を使用したほかは、実施例7と同様にして液晶配向剤を調製し、各種の評価を行った。
評価結果は第1表および第2表に示した。
[液晶配向剤の調製]
重合体として第1表に示した種類のものを用い、上記合成例で得た当該の重合体を含有する溶液にNMPおよびBCを加えて希釈することにより、重合体の合計の濃度が5重量%および溶媒組成がNMP:BC=50:50(重量比)の溶液とした。この溶液を、孔径0.2μmのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤を調製した。
[液晶配向剤の評価]
液晶配向剤として上記で調製したものを用いたほかは実施例1と同様にして各種の評価を行った。
評価結果は第1表および第2表に示した。
[液晶配向剤の調製]
重合体として第1表に示したものを、それぞれ、第1表に示した混合比のNMPおよびBCからなる混合溶媒に溶解して、重合体の合計の濃度が5重量%の溶液とした。この溶液を、孔径0.2μmのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤をそれぞれ調製した。
[液晶配向剤の評価]
液晶配向剤として上記で調製したものを用いたほかは実施例1と同様にして各種の評価を行った。
評価結果は第1表および第2表に示した。
[液晶配向剤の調製]
重合体として第1表に示したものを第1表に示した重量比で混合し、第1表に示した溶媒または混合溶媒に溶解して、重合体の合計の濃度が5重量%の溶液とした。この溶液を、孔径0.2μmのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤をそれぞれ調製した。
[液晶配向剤の評価]
1.塗布性の評価
上記で調製した液晶配向剤の塗布性の評価は、実施例1におけるのと同様にして行った。
評価結果は第1表に示した。
上記で調製した液相配向剤を、図3に示したようなスリット状にパターニングされ、複数の領域に区画されたITO電極をそれぞれ有するガラス基板2枚の各電極面上に液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いて塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、150℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚600Åの塗膜を形成した。この塗膜につき、超純水中で1分間超音波洗浄を行なった後、100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。この操作を繰り返し、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。
次いで、上記一対の基板のうちの1枚の基板につき、液晶配向膜を有する面の外縁に直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、一対の基板を液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化した。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、ネマチック型液晶(メルク社製、MLC−6608)を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、PSA型液晶セルを製造した。
(1)応答速度の評価
上記で製造した各液晶セルをクロスニコル状態に配置した2枚の偏光板で挟持したうえで、先ず電圧を印加せずに可視光ランプを照射して液晶セルを透過した光の輝度をフォトマルチメーターにて測定し、この値を相対透過率0%とした。次に液晶セルの電極間に交流60Vを5秒間印加したときの透過率を上記と同様にして測定し、この値を相対透過率100%とした。
このとき各液晶セルに対して交流60Vを印加したときに、相対透過率が10%から90%に移行するまでの時間を測定し、この時間を応答速度と定義して評価した。
評価結果は第3表に示した。
(2)その他の評価
その他の評価については実施例1と同様にして行った。
評価結果は第3表に示した。
[液晶配向剤の調製]
上記合成例PA−3で得たポリアミック酸(PA−3)を含有する溶液にNMPおよびBCを加えて希釈することにより、重合体の合計の濃度が5重量%および溶媒組成がNMP:BC=50:50(重量比)の溶液とした。この溶液を、孔径0.2μmのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤を調製した。
[液晶配向剤の評価]
液晶配向剤として上記で調製したものを用いたほかは実施例10〜12と同様にして各種の評価を行った。
評価結果は第1表および第3表に示した。
Claims (4)
- 下記式(P)
各繰返し単位中のXは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル結合、チオエステル結合、−NR−または−CONR−(ただし、Rは水素原子または炭素原子1〜6のアルキル基である。)であり、
各繰返し単位中のR 01 は、それぞれ独立に、水素原子、末端C=C二重結合を有する基、炭素間三重結合を有する基、エポキシ基を有する基、液晶分子を配向させる機能を有する基および光照射によって架橋反応もしくは異性化反応を生じる基から選択される、ただし、R 01 のうちの少なくとも1個は末端C=C二重結合を有する基、炭素間三重結合を有する基、エポキシ基を有する基、液晶分子を配向させる機能を有する基および光照射によって架橋反応もしくは異性化反応を生じる基から選択されるものとする、
で表わされる繰り返し単位を有する重合体であるポリアリーレンを含有することを特徴とする、液晶配向剤。 - 上記ポリアリーレンが、下記式(P−1)および(P−2)のそれぞれで表される繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有する重合体である、請求項1に記載の液晶配向剤。
- 請求項1〜2のいずれか一項に記載の液晶配向剤から形成された液晶配向膜。
- 請求項3に記載の液晶配向膜を具備する液晶表示素子。
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