JP6034360B2 - 多層薄膜を有する透明基材 - Google Patents
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Description
2.20以上の屈折率を有する材料で作られた少なくとも1つの高屈折率層であって、物理的な厚さ又は物理的な厚さの和が、15〜40nm、好ましくは20〜35nmである、高屈折率層;及び
1.70以下の屈折率を有する材料で作られた少なくとも1つの低屈折率層であって、物理的な厚さ又は物理的な厚さの和が、40〜120nmである、低屈折率層、
ここで、上記1以上の高屈折率層と上記1以上の低屈折率層との屈折率の差は、0.7〜1.2であり、好ましくは0.8〜1.1である。
−2.20以上の屈折率を有する材料で作られた少なくとも1つの高屈折率層であって、物理的な厚さ又は物理的な厚さの和が、15〜40nm、好ましくは20〜35nmである、高屈折率層;及び
−1.70以下の屈折率を有する材料で作られた少なくとも1つの低屈折率層であって、物理的な厚さ又は物理的な厚さの和が、40〜120nm、好ましくは50〜110nmである、低屈折率層、
ここで、上記1以上の高屈折率層と上記1以上の低屈折率層との屈折率の差は、0.7〜1.20であり、好ましくは0.80〜1.10である。
本発明の実施態様としては、以下を挙げることができる:
《態様1》
多層薄膜を備えた透明基材、特にガラス基材であって、
前記多層薄膜は、赤外反射性を有する金属層、特にLow−E特性を有する金属層、及び2つの上側及び下側の非金属誘電体コーティングを有し、
赤外反射性を有する前記金属層は、前記2つの上側及び下側の非金属誘電体コーティングの間に位置し、かつ
前記上側の誘電体コーティングは、赤外反射特性を有する前記金属層の上に、次の順番で堆積している一連の薄層を少なくとも含む、透明基材:
2.20以上の屈折率を有する材料で作られた少なくとも1つの高屈折率層であって、その物理的な厚さ又は物理的な厚さの和が、15〜40nm、好ましくは20〜35nmである、高屈折率層;及び
1.70以下の屈折率を有する材料で作られた少なくとも1つの低屈折率層であって、その物理的な厚さ又は物理的な厚さの和が、40〜120nmである、低屈折率層、
ここで、前記1以上の高屈折率層と前記1以上の低屈折率層との屈折率の差は、0.7〜1.2であり、好ましくは0.8〜1.1である。
《態様2》
前記上側の誘電体コーティングの、前記低屈折率層の物理的な厚さ又は物理的な厚さの和の、前記高屈折率層物理的な厚さ又は物理的な厚さの和に対する比が、2.5〜5.0であり、好ましくは2.5〜4.0である、態様1に記載の透明基材。
《態様3》
前記上側の誘電体コーティングの光学的厚さの合計の、前記下側のコーティングの光学的厚さの合計に対する比が、1.8〜2.3、好ましくは1.9〜2.2である、態様1又は2に記載の透明基材。
《態様4》
赤外反射特性を有する前記金属層が、銀又は銀含有合金に基づいている、態様1〜3のいずれか一項に記載の透明基材。
《態様5》
赤外反射特性を有する前記金属層が、5〜20nm、好ましくは5〜15nm、より好ましくは5〜10mmの物理的厚さを有する、態様1〜4のいずれか一項に記載の透明基材。
《態様6》
前記上側の誘電体コーティングの前記1以上の高屈折率層は、2.30より厳密に高く、より好ましくは2.35以上の屈折率を好ましくは有し、かつ酸化チタン、チタンとZn、Zr、及びSnからなる群より選択される他の1つの元素との複合酸化物、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、ケイ素ジルコニウム複合窒化物、又はケイ素、ジルコニウム及びアルミニウムの複合窒化物に基づいている、態様1〜5のいずれか一項に記載の透明基材。
《態様7》
前記上側の誘電体コーティングの前記低屈折率層の物理的厚さ又は物理的厚さの和は、50〜120nm、好ましくは75〜120nm、より好ましくは80〜110nmである、態様1〜6のいずれか一項に記載の透明基材。
《態様8》
前記上側の誘電体コーティングの前記1以上の低屈折率層が、本質的に酸化ケイ素からなる、態様1〜7のいずれか一項に記載の透明基材。
《態様9》
2.20以上、好ましくは2.30より厳密に高く、そしてより好ましくは2.35以上の屈折率を有する材料で作られた、かつその物理的厚さ又は物理的厚さの和が、10〜40nm、好ましくは15〜40nm、そしてより好ましくは15〜30nmである高屈折率層を、前記下側のコーティングがさらに含む、態様1〜8のいずれか一項に記載の透明基材。
《態様10》
前記下側の誘電体コーティングの前記1以上の高屈折率層が、酸化チタン、チタンとZn、Zr、及びSnからなる群より選択される他の1つの元素との複合酸化物、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、ケイ素ジルコニウム複合窒化物、又はケイ素、ジルコニウム及びアルミニウムの複合窒化物に基づく、態様9に記載の透明基材。
《態様11》
前記上側の誘電体コーティングが、赤外反射特性を有する前記金属層と前記上側の誘電体コーティングの前記高屈折率層との間に位置し、かつ1.80以上で2.20以下の屈折率を有する材料から作られた層をさらに含む、態様1〜10のいずれか一項に記載の透明基材。
《態様12》
1.80以上で2.20以下の屈折率を有する材料から作られた前記層が、酸化亜鉛、好ましくはアルミニウムドープ酸化亜鉛、又は酸化スズ若しくはスズ亜鉛複合酸化物に基づく、態様11に記載の透明基材。
《態様13》
赤外反射特性を有する前記金属層と前記上側の誘電体コーティングとの間に位置し、かつ赤外反射特性を有する前記金属層と直接接触する、NiCr、Ti、又はNbで作られたオーバーブロック層をさらに含む、態様11又は12に記載の透明基材。
《態様14》
前記下側の誘電体コーティングが、酸化亜鉛、好ましくはアルミニウムドープ酸化亜鉛、又は酸化スズ若しくはスズ亜鉛複合酸化物に基づき、かつ赤外反射特性を有する前記金属層と直接接触する湿潤層をさらに含む、態様1〜13のいずれか一項に記載の透明基材。
《態様15》
前記下側の誘電体コーティングは、前記基材の材料と直接接触する第一の層として、1.70〜2.30の屈折率を有し、かつ窒化物、特にアルミニウムドープ窒化ケイ素に基づく層をさらに含む、態様1〜14のいずれか一項に記載の透明基材。
《態様16》
合計数N枚の基材を具備する複層グレージングユニットであって、その基材のN−1枚は、態様1〜15のいずれか一項に記載の基材であり、Nは2以上であり、N枚の基材は、ガス充填キャビティによって対になって隔てられており、かつ前記多層薄膜はガス充填キャビティに面している、複層グレージングユニット。
《態様17》
前記基材の少なくとも1枚は、ポリマー中間層、例えばPVBで作られた中間層によって結合した2枚のガラスシートを含む積層ガラスである、態様16に記載の複層グレージングユニット。
《態様18》
建築物の外部に向けられることを意図しているその外側表面が、自己洗浄性及び/又は凝結防止コーティングを有しており、かつ/又は建築物の内部に向けられることを意図しているその外側表面は、Low−Eコーティングを有する、態様16又は17に記載の複層グレージングユニット。
Claims (17)
- 多層薄膜を備えたガラス基材であって、
前記多層薄膜は、赤外反射性を有する単一の金属層、及び2つの上側及び下側の非金属誘電体コーティングを有し、
赤外反射性を有する前記金属層は、前記2つの上側及び下側の非金属誘電体コーティングの間に位置し、かつ
前記上側の誘電体コーティングは、赤外反射特性を有する前記金属層の上に、次の順番で堆積している一連の薄層を少なくとも含む、ガラス基材:
1.80以上で2.20以下の屈折率を有する材料から作られた層
2.20以上の屈折率を有する材料で作られた少なくとも1つの高屈折率層であって、その物理的な厚さ又は物理的な厚さの和が、15〜40nmである、高屈折率層;及び
1.70以下の屈折率を有する材料で作られた少なくとも1つの低屈折率層であって、その物理的な厚さ又は物理的な厚さの和が、40〜120nmである、低屈折率層、
ここで、前記1以上の高屈折率層と前記1以上の低屈折率層との屈折率の差は、0.7〜1.2である。 - 前記上側の誘電体コーティングの、前記低屈折率層の物理的な厚さ又は物理的な厚さの和の、前記高屈折率層物理的な厚さ又は物理的な厚さの和に対する比が、2.5〜5.0である、請求項1に記載のガラス基材。
- 前記上側の誘電体コーティングの光学的厚さの合計の、前記下側のコーティングの光学的厚さの合計に対する比が、1.8〜2.3である、請求項1又は2に記載のガラス基材。
- 赤外反射特性を有する前記金属層が、銀又は銀含有合金に基づいている、請求項1〜3のいずれか一項に記載のガラス基材。
- 赤外反射特性を有する前記金属層が、5〜20nmの物理的厚さを有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載のガラス基材。
- 前記上側の誘電体コーティングの前記1以上の高屈折率層は、2.30より高く、かつ酸化チタン;チタンとZn、Zr、及びSnからなる群より選択される他の1つの元素との複合酸化物;酸化ジルコニウム;酸化ニオブ;ケイ素ジルコニウム複合窒化物;又はケイ素、ジルコニウム及びアルミニウムの複合窒化物;に基づいている、請求項1〜5のいずれか一項に記載のガラス基材。
- 前記上側の誘電体コーティングの前記低屈折率層の物理的厚さ又は物理的厚さの和は、50〜120nmである、請求項1〜6のいずれか一項に記載のガラス基材。
- 前記上側の誘電体コーティングの前記1以上の低屈折率層が、本質的に酸化ケイ素からなる、請求項1〜7のいずれか一項に記載のガラス基材。
- 2.20以上の屈折率を有する材料で作られ、かつその物理的厚さ又は物理的厚さの和が、10〜40nmである高屈折率層を、前記下側のコーティングがさらに含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載のガラス基材。
- 前記下側の誘電体コーティングの前記1以上の高屈折率層が、酸化チタン;チタンとZn、Zr、及びSnからなる群より選択される他の1つの元素との複合酸化物;酸化ジルコニウム;酸化ニオブ;ケイ素ジルコニウム複合窒化物;又はケイ素、ジルコニウム及びアルミニウムの複合窒化物;に基づいている、請求項9に記載のガラス基材。
- 1.80以上で2.20以下の屈折率を有する材料から作られた前記層が、酸化亜鉛、酸化スズ、又はスズ亜鉛複合酸化物に基づいている、請求項10に記載のガラス基材。
- 赤外反射特性を有する前記金属層と前記上側の誘電体コーティングとの間に位置し、かつ赤外反射特性を有する前記金属層と直接接触する、NiCr、Ti、又はNbで作られたオーバーブロック層をさらに含む、請求項10又は11に記載のガラス基材。
- 前記下側の誘電体コーティングが、酸化亜鉛、酸化スズ、又はスズ亜鉛複合酸化物に基づいており、かつ赤外反射特性を有する前記金属層と直接接触する湿潤層をさらに含む、請求項1〜12のいずれか一項に記載のガラス基材。
- 前記下側の誘電体コーティングは、前記基材の材料と直接接触する第一の層として、1.70〜2.30の屈折率を有する、請求項1〜13のいずれか一項に記載のガラス基材。
- 合計数N枚の基材を具備する複層グレージングユニットであって、その基材のN−1枚は、請求項1〜14のいずれか一項に記載のガラス基材であり、Nは2以上であり、N枚の基材は、ガス充填キャビティによって対になって隔てられており、かつ前記多層薄膜はガス充填キャビティに面している、複層グレージングユニット。
- 前記基材の少なくとも1枚は、ポリマー中間層によって結合した2枚のガラスシートを含む積層ガラスである、請求項15に記載の複層グレージングユニット。
- 建築物の外部に向けられることを意図しているその外側表面が、自己洗浄性及び/又は凝結防止コーティングを有しており、かつ/又は建築物の内部に向けられることを意図しているその外側表面は、Low−Eコーティングを有する、請求項15又は16に記載の複層グレージングユニット。
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