JP5921188B2 - 紫外線遮蔽効果を有するシリカ系粒子の製造方法および該方法から得られたシリカ系粒子並びに該シリカ系粒子を配合してなる化粧料 - Google Patents
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Description
たとえば、特許文献1には、平均粒径が1〜50μの球状シリカゲルの細孔部および表面に、一次粒子径が50〜200A(5〜20nm)の酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムから選ばれた少なくとも1種の金属酸化物が担持され、かつ被覆された粒子の形状も球状である金属酸化物担持シリカが開示されている。しかしながら、この金属酸化物担持シリカは、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムから選ばれた少なくとも1種の金属酸化物の微粒子が分散された水性コロイドゾルを添加し、凝集させたあと、これを乾燥する方法にて製造されている。このようにして得られた前記金属酸化物担持シリカは、前記金属酸化物の微粒子が少なからず凝集した状態で前記シリカゲルの表面にも担持されている。
(1)粒子内に細孔径が2〜100nmの範囲にある細孔群を有し、さらにその細孔容積が0.05〜2.0ml/gの範囲にあり、しかも粒子径が100〜1000nmの範囲にある多孔質シリカ系粒子に、チタニウム、亜鉛、セリウム、および鉄から選ばれた1種または2種以上の金属元素を含む金属含有溶液を粒子内の毛管作用により含浸させ、次いで
(2)前記(1)に記載の含浸操作で得られたシリカ系粒子を100〜800℃の温度で加熱して前記金属元素の水酸化物または酸化物を細孔内に沈着・固定化させ、さらに
(3)前記(2)に記載の加熱操作で得られたシリカ系粒子を、再び前記(1)に記載の含浸操作と前記(2)に記載の加熱操作に供して前記金属元素の水酸化物および/または酸化物を前記細孔内に沈着・固定化させる
ことを特徴としている。
前記金属含有溶液は、前記金属元素の塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩、オキシ硫酸塩、ペルオキソ化合物、アルコキシド化合物および/または有機金属錯体から選ばれる1種または2種以上の溶解性金属化合物を含む溶液であることが好ましい。
さらに、前記含浸操作を、前記多孔質シリカ系粒子群を前記金属含有溶液中に浸漬することなく、該多孔質シリカ系粒子群に前記金属含有溶液を、該多孔質シリカ系粒子群の細孔容積に対して過不足ない量だけ散布しながら行うことが好ましい。
また、前記シリカ系粒子は、一般式(I)で表される有機珪素化合物および/または珪酸を水熱処理して得られるシリカ成分を粒子表面に被覆させて該粒子の表面を封止したものであることが好ましい。
本発明に係るシリカ系粒子の製造方法は、
紫外線遮蔽効果を有する、粒子径が100〜1000nmのシリカ系粒子の製造方法であって、
(1)粒子内に細孔径が2〜100nmの範囲にある細孔群を有し、さらにその細孔容積が0.05〜2.0ml/gの範囲にあり、しかも粒子径が100〜1000nmの範囲にある多孔質シリカ系粒子に、チタニウム、亜鉛、セリウムおよび鉄から選ばれた1種または2種以上の金属元素を含む金属含有溶液を粒子内の毛管作用により含浸させ、次いで
(2)前記(1)に記載の含浸操作で得られたシリカ系粒子を100〜800℃の温度で加熱して前記金属元素の水酸化物または酸化物を細孔内に沈着・固定化させ、さらに
(3)前記(2)に記載の加熱操作で得られたシリカ系粒子を、再び前記(1)に記載の含浸操作と前記(2)に記載の加熱操作に供して前記金属元素の水酸化物および/または酸化物を前記細孔内に沈着・固定化させる
ことにより行うものである。
この工程では、シリカ系微粒子(一次粒子)を含む水分散液、または該シリカ系微粒子(一次粒子)を含む水分散液と酸性珪酸液との混合物の固形分濃度を必要に応じて5〜50重量%に調整した後、これをスプレイドライヤーに供して、入口温度70〜400℃、出口温度40〜60℃の条件下で噴霧乾燥する。これにより、平均粒子径が100〜5000nmのシリカ系粒子(二次粒子)を得る。
この工程では、上記で得られたシリカ系粒子(二次粒子)を従来公知の分級装置(乾式分級装置または湿式分級装置)にかけて、100nm未満の粒子径を有するシリカ系粒子と、1000nmを超える粒子径を有するシリカ系粒子を分離して、粒子径が100〜1000nmのシリカ系粒子(二次粒子)を得る。このようにして所望の粒子径に調整されたシリカ系粒子(二次粒子)は、本発明の多孔質シリカ系粒子として用いることができる。しかし、この多孔質シリカ系粒子と同等またはほぼ同等の性状を有するものが市場から入手可能な場合(たとえば、エマルジョン法から得られる多孔質シリカ系粒子などを含む)には、それを使用してもよい。
次に、本発明に係るシリカ系粒子の製造方法について、上記の工程ごとに具体的に説明すれば、以下の通りである。
この工程では、前記多孔質シリカ系粒子としては、粒子内に細孔径が2〜100nmの範囲にある細孔群を有し、さらにその細孔容積が0.05〜2.0ml/gの範囲にあり、しかも粒子径が100〜1000nmの範囲にあるものを使用する。
この工程では、前記工程(1)に記載の含浸操作で得られたシリカ系粒子を100〜800℃の温度で加熱して前記金属元素の水酸化物および/または酸化物を細孔内に沈着・固定化させる。
この工程では、前記工程(2)に記載の加熱操作で得られたシリカ系粒子を、再び前記工程(1)に記載の含浸操作と前記工程(2)に記載の加熱操作に供して前記金属元素の水酸化物および/または酸化物を前記細孔内に沈着・固定化させる。
前記工程(3)に記載の繰返操作から得られたシリカ系粒子(本発明品)が、光触媒活性を示したり、あるいは化粧料に配合する際に併用されるその他の有機系成分を変質・分解する可能性があったりする場合には、予めその粒子表面を封止しておくことが望ましい。その表面封止の方法としては、以下に示す2つの方法があるが、本発明は、これらの方法に限定されるものではない。
前記工程(3)に記載の繰返操作から得られたシリカ系粒子を、さらに900〜1100℃の温度で焼成して粒子表面に存在するシリカ成分を焼結させることにより該粒子の表面を封止する。これにより、本発明に係るシリカ系粒子を上記のような場合でも問題なく使用することができる。さらに、紫外線遮蔽効果や透明性などにおいても、前記工程(3)で得られたシリカ系粒子と比べて遜色のないものである。
前記工程(3)に記載の繰返操作から得られたシリカ系粒子を、下記一般式(I)で表される有機珪素化合物および/または珪酸と混合したのち、該化合物を50〜350℃の温度で水熱処理して、前記シリカ系粒子の表面をシリカ成分で被覆することにより該粒子の表面を封止する。
本発明に係るシリカ系粒子は、粒子内に細孔径が2〜100nmの範囲にある細孔群を有し、さらにその細孔容積が0.05〜2.0ml/gの範囲にあり、しかも粒子径が100〜1000nmの範囲にある多孔質シリカ系粒子の細孔内部に、チタニウム、亜鉛、セリウムおよび鉄から選ばれた少なくとも1種の金属元素の水酸化物および/または酸化物を沈着・固定化してなる、紫外線遮蔽効果を有する、粒子径が100〜1000nmのシリカ系粒子である。
本発明に係る化粧料は、前記シリカ系粒子を、以下に述べる各種化粧料成分と配合して得られるものである。
前記シリカ系粒子を化粧料に配合する場合には、予め該粒子の表面を従来公知の一般的な方法で改質してから使用することもできる。この表面改質は、例えば、シリコーン処理、アルキルシラン処理、フッ素処理、ポリアクリル酸処理、ポリオレフィン処理、アミノ酸処理、水溶性高分子処理などの方法を用いて行うことができる。
また、ポリアクリル酸メチル、ナイロン、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、ポリエチレン、ポリエステル、ポリウレタンなどの樹脂粒子を含んでいてもよい。
このような方法で製造された化粧料は、粉末状、ケーキ状、ペンシル状、スティック状、クリーム状、ジェル状、ムース状、液状、クリーム状などの各種形態で使用され、さらに具体的に述べれば、石鹸、クレンジングフォーム、メーク落とし用クリーム等の洗浄用化粧料、保湿・肌荒れ防止、アクネ、角質ケア、マッサージ、しわ・たるみ対応、くすみ・くま対応、紫外線ケア、美白、抗酸化ケア用等のスキンケア化粧料、パウダーファンデーション、リキッドファンデーション、クリームファンデーション、ムースファンデーション、プレスドパウダー、化粧下地等のベースメークアップ化粧料、アイシャドウ、アイブロー、アイライナー、マスカラ、口紅等のポイントメークアップ化粧料、育毛用、フケ防止、かゆみ防止、洗浄用、コンディショニング・整髪、パーマネント・ウエーブ用、ヘアカラー・ヘアブリーチ用等のヘアケア化粧料、洗浄用、日焼け防止、手荒れ防止、スリミング用、血行改善用、かゆみ抑制、体臭防止、制汗、体毛ケア、リペラント用、ボディパウダー等のボディーケア化粧料、香水、オードパルファム、オードトワレ、オーデコロン、シャワーコロン等、練香水、ボディーロ−ション、バスオイル等のフレグランス化粧料、歯磨き、マウスウォッシュ等のオーラルケア製品などが挙げられる。
次に、本発明の実施例その他で採用された測定方法を具体的に述べれば、以下の通りである。
(1)シリカ系微粒子の平均粒子径
NaOH滴定法にてシリカ系微粒子の比表面積S(m2/g)を測定し、以下の式にて平均粒子径を算出する。
多孔質シリカ系粒子の粉体を40重量%のグリセリン含有水溶液に分散させてなるスラリー液(固形分濃度0.1〜5質量%)を調製し、これを超音波発生装置(iuch社製、US-2型)にかけて5分間、分散処理を施す。次いで、前記グリセリン水溶液を加えて濃度を調節した分散液より試料を取り、これをガラスセル(長さ10mm、幅10mm、高さ45cmのサイズ)に入れて、遠心沈降式粒度分布測定装置(堀場製作所製:CAPA−700)を用いて平均粒子径を測定する。
多孔質シリカ系粒子の粉体10gをルツボに取り、300℃で1時間乾燥後、デシケーターに入れて室温まで冷却した。ガラスセルに0.15g採取し、Belsorp miniII(日本ベル(株)製)を使用して真空脱気しながら試料に窒素ガスを吸着後、脱着させ、得られた吸着等温線から、BJH法により、細孔径(ピーク値)を算出した。
多孔質シリカ系粒子の粉体10gをルツボに取り、105℃の温度で1時間乾燥後、デシケーターに入れて室温まで冷却する。次いで、よく洗浄したセルに1g試料を取り、窒素吸着装置(日揮触媒化成社製)を用いて窒素を吸着させ、以下の式から細孔容積を算出する。
シリカ系粒子の粉体を誘導結合プラズマ発光分光分析装置(セイコー電子製SPS−1200A)を用いて、金属元素化合物の含有量を測定する。
シリカ系粒子の粉体を磁性ルツボ(B−2型)に約30ml採取し、105℃の温度で2時間乾燥後、デシケーターに入れて室温まで冷却する。次に、サンプルを1g取り、全自動表面積測定装置(湯浅アイオニクス社製、マルチソーブ12型)を用いて、比表面積(m2/g)をBET法にて測定する。
シリカ系粒子の粉体を51重量%のグリセリン含有水溶液に分散させてなるスラリー液(固形分濃度0.005質量%)を調製し、これを超音波発生装置(iuch社製、US−2型)にかけて1時間、分散処理を施す。これをガラスセル(長さ10mm、幅10mm、高さ45cmのサイズ)に入れて、分光光度計(日立製作所製:U−2000)を用いて、波長300nm(UV−B領域)、350nm(UV−A領域)および550nm(可視光領域)における透過率を測定する。
シリカ系粒子の粉体を二酸化チタンとしての重量が0.0067gとなるよう採取し、0.02重量%のサンセットイエロー含有グリセリン溶液9.45gに加えた後、水を加えて10gとしたスラリー液(二酸化チタン濃度0.067重量%)を調製し、これを超音波発生装置(iuch社製、US−2型)にかけて1時間、分散処理を施す。これをガラスセル(長さ10mm、幅10mm、高さ45cmのサイズ)に入れて、波長365nmの紫外線を3時間照射する。紫外線照射前後の波長490nmにおける吸光度を、分光光度計(日立製作所製:U−2000)を用いて測定し、以下の式からサンセットイエロー退色率を算出する。
シリカ系粒子の粉体に、真空蒸着装置(JEOL社製、JFC−1200)を用いて、真空度8Paで40秒間、金蒸着処理を施した試料を作成する。次いで、走査型電子顕微鏡(JEOL社製:JSM−5600)を用いて、この試料を加速電圧15kVの条件下で、20,000倍のSEM写真を撮影する。また、シリカ系粒子の調製に使用した多孔質シリカ系粒子の粉体についても上記と同様の方法でSEM写真を撮影する。シリカ系粒子のSEM写真と多孔質シリカ系粒子のSEM写真を比較して、粒子形状を維持していない崩壊した粒子の有無を確認する。
[調製例1]
実施例1用の多孔質シリカ粒子の調製
噴霧乾燥工程
平均粒子径15nmのシリカ系微粒子を含むシリカゾル(日揮触媒化成(株)製、Cataloid S−20L、SiO2含有量20重量%)をスプレイドライヤー(NIRO社製、NIRO ATMIZER)に供して、入口温度240℃、出口温度55℃、噴霧速度1リットル/分の条件下で噴霧乾燥を行い、平均粒子径900nmの多孔質シリカ系粒子の噴霧乾燥粉体1Aを得た。
前記噴霧乾燥工程で得られた前記噴霧乾燥粉体1A240gに純水2160ccを加え、300rpmの回転速度で1時間攪拌して、固形分濃度10重量%の分散液(1)を調製した。
このようにして得られた多孔質シリカ系粒子2Aについて、平均粒子径、細孔径および細孔容積を上記の測定方法でそれぞれ測定した。その結果を表1に示す。
実施例2〜6用の多孔質シリカ系粒子の調製
表1に示す日揮触媒化成(株)製や日本アエロジル(株)製のシリカ系微粒子を含むシリカ系微粒子分散液や酸性珪酸水溶液(SiO2換算基準シリカ成分を5重量%含む)からなる噴霧用原料を用いて、調製例1に示す「実施例1用の多孔質シリカ系粒子の調製」の場合と同様に噴霧乾燥して、噴霧乾燥粉体1B〜1Fを得た。
次に、得られた噴霧乾燥粉体1A〜1Fを、表2に示す分級条件としたこと以外は、調製例1に示す「実施例1用の多孔質シリカ系粒子の調製」の場合と同様に分級操作を行い、多孔質シリカ系粒子2B〜2Fを得た。
シリカ系微粒子B:日揮触媒化成(株)製Cataloid SI−30
シリカ系微粒子C:日揮触媒化成(株)製スフェリカスラリー SS−160
シリカ系微粒子D:日本アエロジル(株)製AEROSIL 380
比較例1〜6用の多孔質シリカ系粒子の調製
表3に示す日揮触媒化成(株)製や日本アエロジル(株)製のシリカ系微粒子を含むシリカ系微粒子分散液や酸性珪酸水溶液(SiO2換算基準シリカ成分を5重量%含む)からなる噴霧用原料を用いると共に、必要に応じて一部の噴霧乾燥条件を変更して、調製例1に示す「実施例1用の多孔質シリカ系粒子の調製」の場合と同様に噴霧乾燥して、噴霧乾燥粉体1a〜1fを得た。
シリカ系微粒子D:日本アエロジル(株)製AEROSIL
シリカ系微粒子E:日揮触媒化成(株)製Cataloid SI−550
シリカ系微粒子F:日揮触媒化成(株)製スフェリカスラリー SS−550
シリカ系微粒子G:380日揮触媒化成(株)製Cataloid SNL
工程(1)
「実施例1用の多孔質シリカ系粒子の調製」で得られた多孔質シリカ系粒子2A100.0gをミキサーに投入し、これにTiO2として10重量%の濃度に調製した四塩化チタン水溶液30.0gを加えた後、20分間攪拌して、含浸処理粉体を得た。
前記工程(1)で得られた含浸処理粉体を、200℃の温度で1時間、加熱乾燥して、乾燥粉体を得た。
前記工程(2)で得られた乾燥粉体103gをミキサーに投入し、これにTiO2として10重量%の濃度に調製した四塩化チタン水溶液29.2gを加え、20分間攪拌した後、200℃の温度で1時間、加熱乾燥した。
前記工程(3)で得られた実施例焼成粉体3Aを1000℃の温度で3時間焼成した後、ミキサーにかけて凝集物を解砕して、実施例封止粉体4Aを得た。
このようにして得られた実施例焼成粉体4Aについて、TiO2含有量、比表面積、分光透過率、サンセットイエロー退色率および崩壊粒子の有無を上記の測定方法でそれぞれ測定した。その結果を表6に示す。
実施例1で使用した多孔質シリカ系粒子2Aの代わりに、表-1に示す多孔質シリカ系粒子を用いると共に、用いた多孔質シリカ系粒子の細孔容積に応じて、四塩化チタン水溶液の使用量を変更して、実施例1における工程(1)〜(3)の操作を行い、実施例焼成粉体3B〜3Fを得た。
このようにして得られた実施例焼成粉体4B〜4Fについて、実施例1の場合と同様に、TiO2含有量、比表面積、分光透過率、サンセットイエロー退色率および崩壊粒子の有無をそれぞれ測定した。その結果を表6に示す。
実施例1で使用した四塩化チタン水溶液の代わりに、表-1に示す金属含有混合溶液を用いて、実施例1における工程(1)〜(3)の操作を行い、実施例焼成粉体3G〜3Iを得た。
このようにして得られた実施例焼成粉体4G〜4Iについて、TiO2含有量、ZnO含有量、Fe2O3含有量、CeO2含有量、比表面積、分光透過率、サンセットイエロー退色率および崩壊粒子の有無を上記の測定方法でそれぞれ測定した。その結果を表8に示す。
純水1300g、エタノール1100gおよび29重量%のアンモニア水400gを加えた混合溶液に、実施例4における工程(3)で得られた実施例焼成粉体3D20gを分散させ、分散液の濃度を35℃に維持しながら、これに有機珪素化合物としてテトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製、エチルシリケートA、SiO2濃度28重量%)14gを14分間で添加した。
実施例1で使用した多孔質シリカ系粒子2Aの代わりに、表10に示す多孔質シリカ系粒子を用いると共に、用いた多孔質シリカ系粒子の細孔容積に応じて、四塩化チタン水溶液の使用量を変更して、実施例1における工程(1)〜(3)の操作を行い、比較例焼成粉体3a〜3fを得た。
実施例1の工程(1)で得られた含浸処理粉体を、1000℃で3時間焼成して、比較例焼成粉体3gを得た。
実施例1で得られた実施例焼成粉体3Aを、1200℃で3時間焼成したところ、シリカ系粒子同士の焼結が生じて粗大なブロック状の塊となり、ミキサーを用いても解砕することができず、本発明のシリカ系粒子を得ることができなかった。
実施例1で使用した四塩化チタンの濃度を、TiO2として1重量%の濃度に変更して、実施例1における工程(1)〜(3)の操作を行い、比較例焼成粉体3hを得た。
なお、ここで得られた比較例焼成粉体3hは、含浸操作と乾燥・焼成操作を10回行っても、TiO2含有量が低く、紫外線遮蔽効果が得られなかった。
実施例1で使用した四塩化チタンの濃度を、TiO2として42重量%の濃度に変更して、実施例1における工程(1)〜(3)の操作を行い、比較例焼成粉体3iを得た。
市販の二酸化チタン系微粒子粉体(テイカ(株)製MT−100SA)について、TiO2含有量、比表面積、分光透過率およびサンセットイエロー退色率を上記の測定方法でそれぞれ測定した。その結果を表13に示す。
実施例1で得られた実施例封止粉体4Aをハイドロゲンジメチコン(信越化学(株)製KF−9901)で表面処理(ハイドロゲンジメチコン3重量%処理品)したものを用いて、表14に示す組成(重量%)からなるサンスクリーン剤を調製した。
(a)下記成分(8)〜(11)の成分を十分に撹拌混合した。
(b)下記成分(1)〜(7)の成分をホモミキサーを用いて混合し、2000rpmの回転速度で10分間、撹拌して、これに含まれる固形分を分散させた。
(c)前記(a)で得られた混合物を、前記(b)のホモミキサーの中に入れて混合し、2000rpmの回転速度で3分間、撹拌して乳化させた。
(d)前記(c)で得られた乳化物を真空容器中に入れて脱泡した。
実施例1で得られた実施例封止粉体4Aを用いて、表15に示す組成(重量%)からなるパウダーファンデーションを調製した。
なお、前記パウダーファンデーションの調製は、以下のように行った。
(a)下記成分(1)〜(9)の成分をミキサーに入れて撹拌し、均一に混合した。
(b)下記成分(10)〜(12)の成分をミキサーに入れて撹拌し、さらに均一に混合した。
(c)前記(b)で得られた混合物を、解砕処理した後、その中から約12gを取り出し、46mm×54mm×4mmの角金皿に入れてプレス成型した。
実施例1で得られた実施例封止粉体4Aを用いて、表16に示す組成(重量%)からなるO/Wクリームを調製した。
なお、前記O/Wクリームの調製は、以下のように行った。
(a)下記成分(9)〜(15)の成分をホモミキサーを用いて混合し、2000rpmの回転速度で10分間撹拌して、これに含まれる固形分を分散させた。(b)下記成分(1)〜(8)の成分を80℃の温度に加熱し、ホモミキサーを用いて混合し、2000rpmの回転速度で10分間攪拌した。
(c)前記(a)で得られた混合物を、前記(b)のホモミキサーの中に入れて混合し、2000rpmの回転速度で3分間、撹拌して乳化させた。
(d)前記(c)で得られた乳化物を真空容器中に入れて脱泡した。
得られたO/Wクリームは、紫外線遮蔽効果を有しており、塗布膜の透明感も高いものであった。
Claims (14)
- 紫外線遮蔽効果を有する、粒子径が100〜1000nmのシリカ系粒子の製造方法であって、
(1)粒子内に細孔径が2〜100nmの範囲にある細孔群を有し、さらにその細孔容積が0.05〜2.0ml/gの範囲にあり、しかも粒子径が100〜1000nmの範囲にある多孔質シリカ系粒子に、チタニウム、亜鉛、セリウムおよび鉄から選ばれた1種または2種以上の金属元素を含む金属含有溶液を粒子内の毛管作用により含浸させ、次いで
(2)前記(1)に記載の含浸操作で得られたシリカ系粒子を100〜800℃の温度で加熱して前記金属元素の水酸化物または酸化物を細孔内に沈着・固定化させ、さらに
(3)前記(2)に記載の加熱操作で得られたシリカ系粒子を、再び前記(1)に記載の含浸操作と前記(2)に記載の加熱操作に供して前記金属元素の水酸化物および/または酸化物を前記細孔内に沈着・固定化させる
ことを特徴とするシリカ系粒子の製造方法。 - 前記(3)に記載の含浸操作および加熱操作を、前記金属元素の水酸化物および/または酸化物が前記細孔内に所定量、沈着・固定化するまで繰り返し行うことを特徴とする請求項1に記載のシリカ系粒子の製造方法。
- 前記(3)に記載の含浸操作および加熱操作から得られたシリカ系粒子を、さらに900〜1100℃の温度で焼成して粒子表面に存在するシリカ成分を焼結させることにより該粒子の表面を封止することを特徴とする請求項1または2に記載のシリカ系粒子の製造方法。
- 前記多孔質シリカ系粒子が、平均粒子径が5〜300nmのシリカ系微粒子(一次粒子)を含む水分散ゾル、または該シリカ系微粒子(一次粒子)を含む水分散ゾルと酸性珪酸液との混合物を噴霧乾燥し、さらに得られた粒子群を分級してその粒子径を100〜1000nmの範囲としたものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のシリカ系粒子の製造方法。
- 前記多孔質シリカ系粒子内に存在する細孔群が、請求項5に記載のシリカ系微粒子(一次粒子)の粒子間に形成される粒界ボイドであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のシリカ系粒子の製造方法。
- 前記金属含有溶液が、前記金属元素の塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩、オキシ硫酸塩、ペルオキソ化合物、アルコキシド化合物および/または有機金属錯体から選ばれる1種または2種以上の溶解性金属化合物を含む溶液であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のシリカ系粒子の製造方法。
- 前記金属含有溶液中に含まれる金属塩の濃度が、5〜40重量%の範囲にあることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のシリカ系粒子の製造方法。
- 前記含浸操作を、前記多孔質シリカ系粒子群を前記金属含有溶液中に浸漬することなく、該多孔質シリカ系粒子群に前記金属含有溶液を、該多孔質シリカ系粒子群の細孔容積に対して過不足ない量だけ散布しながら行うことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のシリカ系粒子の製造方法。
- 粒子内に細孔径が2〜100nmの範囲にある細孔群を有し、さらにその細孔容積が0.05〜2.0ml/gの範囲にあり、しかも粒子径が100〜1000nmの範囲にある多孔質シリカ系粒子の細孔内部に、チタニウム、亜鉛、セリウムおよび鉄から選ばれた少なくとも1種からなる金属元素の水酸化物および/または酸化物を沈着・固定化してなる、紫外線遮蔽効果を有する、粒子径が100〜1000nmのシリカ系粒子。
- 前記シリカ系粒子が、粒子表面に存在するシリカ成分を焼結させて該粒子の表面を封止したものであることを特徴とする請求項10に記載のシリカ系粒子。
- 前記シリカ系粒子の表面がシリカ成分で被覆されたことを特徴とする請求項10に記載のシリカ系粒子。
- 請求項10〜12のいずれかに記載のシリカ系粒子を配合してなる化粧料。
- 前記化粧料が、サンスクリーン化粧料、メークアップ化粧料またはスキンケア化粧料であることを特徴とする請求項13に記載の化粧料。
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