Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP5991337B2 - 端子板付き電子部品の製造方法及び端子板付き電子部品 - Google Patents

端子板付き電子部品の製造方法及び端子板付き電子部品 Download PDF

Info

Publication number
JP5991337B2
JP5991337B2 JP2014057416A JP2014057416A JP5991337B2 JP 5991337 B2 JP5991337 B2 JP 5991337B2 JP 2014057416 A JP2014057416 A JP 2014057416A JP 2014057416 A JP2014057416 A JP 2014057416A JP 5991337 B2 JP5991337 B2 JP 5991337B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
terminal
electronic component
terminal plate
terminal electrode
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014057416A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015062214A (ja
Inventor
信道 木村
信道 木村
益義 宝田
益義 宝田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2014057416A priority Critical patent/JP5991337B2/ja
Priority to US14/331,585 priority patent/US9527150B2/en
Priority to KR1020140090631A priority patent/KR101577317B1/ko
Priority to CN201410369417.5A priority patent/CN104425137B/zh
Publication of JP2015062214A publication Critical patent/JP2015062214A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5991337B2 publication Critical patent/JP5991337B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/0008Soldering, e.g. brazing, or unsoldering specially adapted for particular articles or work
    • B23K1/0016Brazing of electronic components
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/008Soldering within a furnace
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/02Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating by means of a press ; Diffusion bonding
    • B23K20/023Thermo-compression bonding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/16Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating with interposition of special material to facilitate connection of the parts, e.g. material for absorbing or producing gas
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K3/00Tools, devices, or special appurtenances for soldering, e.g. brazing, or unsoldering, not specially adapted for particular methods
    • B23K3/06Solder feeding devices; Solder melting pans
    • B23K3/0607Solder feeding devices
    • B23K3/0638Solder feeding devices for viscous material feeding, e.g. solder paste feeding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/228Terminals
    • H01G4/232Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices
    • B23K2101/42Printed circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • H01G4/08Inorganic dielectrics
    • H01G4/12Ceramic dielectrics

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)

Description

本発明は、チップ型電子部品への端子板の接合方法に関し、特に電子部品の端子電極に端子板をはんだ付けする方法の改良に関するものである。
例えば、セラミックコンデンサのようなチップ型電子部品を配線基板に実装する場合、電子部品の端子電極を配線基板のランド上に直接はんだ付けする表面実装方式が一般的である。 しかしながら、配線基板と電子部品との熱膨張係数差によって生じる応力や、配線基板の撓みによって生じる応力などにより、電子部品にクラックが発生したり、端子電極が電子部品本体から剥離するといった問題が発生する可能性があった。
このような問題を解決するため、電子部品の端子電極に弾性を有する金属板からなる端子板を両側から対向させた状態で接合し、端子板を配線基板上に実装することによって、電子部品への応力を緩和するという方法が採用されている。
上述した端子板を端子電極に接合する方法として、端子板を端子電極にはんだ付けする方法(例えば特許文献1)や、多数の端子板を連結形成したリードフレームを準備し、その端子板間に電子部品を保持した状態でリフロー炉の中を通してはんだ付けする方法(特許文献2)、端子電極と端子板とを接触させた状態で加熱、通電を用いて端子電極と端子板とを直接拡散接合させる方法(特許文献3)などが提案されている。
特開2002−280274号公報 特開2008−205455号公報 特開2010−016326号公報
特許文献1は、一対の押さえ部材によって端子板を電子部品の端子電極に向かって押さえながら、はんだを溶融させてはんだ付けするものである。この場合には、端子板と端子電極とが押圧された状態ではんだ付けされるので、良好な接合強度が得られる。しかし、多数個の電子部品に端子板を接合しようとすれば、個々の電子部品に対して一対の押さえ部材によって端子板を押圧した状態で加熱炉内に挿入しなければならない。そのため、加熱炉内で電子部品と端子板とを押圧保持しておく設備が必要になり、コスト上昇を招くと共に、生産性が悪い。また、押さえ部材を含む熱容量が大きくなり、熱損失が大きくなるという問題もある。
特許文献2は、多数の端子板をリードフレームに連結状態で形成し、各端子板の間に電子部品をはんだを介して保持し、それを加熱炉に挿入することにより端子板と電子部品とをはんだ付けし、しかる後に端子板からリードフレームを切除するものである。この場合には、個々の電子部品を押さえ部材によって押圧する必要がないので、特許文献1に比べて設備コストは低減できる。しかし、リードフレームのばね弾性のみで電子部品が保持された状態ではんだ付けされるので、端子板と端子電極とが強く圧着せず、信頼性の高いはんだ付け状態が得られない可能性がある。さらに、多数の端子板を形成したリードフレームを準備しなければならず、加工コストがかかると共に、はんだ付け後のリードフレームは切除されて再利用できないので、無駄が多い。
特許文献3は、はんだを使用せずに端子電極と端子板とを拡散接合する方法であり、はんだ付けに付随する問題点を解消できる。しかしながら、所望の固着強度をもつ拡散接合を得るために、通電時間が300〜1000msec、加圧力が30〜50N、接合部の最高温度が700〜900℃程度必要になるとされている(段落0047)。このような高温、高圧で圧着すると、電子部品に対するダメージが大きく、セラミック電子部品の場合、クラック等の発生率が増大するという問題がある。また、電子部品へのダメージを抑制しながら、端子板中の金属を端子電極中に十分に拡散させようとすれば、1sec以上の比較的長い接合時間を必要とし、生産性が低下する可能性がある。
そこで、本発明の目的は、上述のような種々の接合方法における問題点を解決できる端子板付き電子部品の製造方法及び端子板付き電子部品を提供することにある。
本発明は、従来の接合方法における問題点を解消するため、発熱体を用いた熱圧着による仮固定と、加熱炉を用いたはんだ溶融による本接合との2段階の接合ステップを用いることにより、生産性及び接合信頼性の向上と、電子部品へのダメージ軽減とを達成できることを見いだしたものである。
すなわち、端子板付き電子部品の製造方法であって、相対する両端面に端子電極が形成されたチップ型電子部品を準備する第1の工程と、金属板からなる一対の端子板を準備する第2の工程と、前記端子電極の外側面又は前記端子板の内側面にクリームはんだを塗布する第3の工程と、前記端子板の間に前記チップ型電子部品を挿入し、前記端子板を前記端子電極に向かって一対の発熱体によって押圧することにより前記端子板を前記端子電極に熱圧着させ、前記端子板を仮固定した電子部品を得る第4の工程と、前記端子板を仮固定した電子部品を加熱炉の中で加熱することにより、前記クリームはんだを溶融させて本接合し、端子板付き電子部品を得る第5の工程と、を含む。
まず最初に、チップ型電子部品と一対の端子板とを準備する。次に、クリームはんだ(又ははんだペースト)を端子電極の外側面又は端子板の内側面の一方又は両方に塗布する。塗布作業には、周知のようにディスペンサを使用してもよいし、他の方法を用いても良い。クリームはんだの大部分は仮固定の際に熱圧着部の周囲へ押し出されるので、はんだ塗布量は通常のはんだ付けに比べて少量でよい。次に、一対の端子板の間に電子部品を挿入する。このとき、端子電極の外側面又は端子板の内側面に塗布されたクリームはんだがかき取られないように、端子電極と端子板との間には所定の隙間をあけておくのがよい。次に、端子板を端子電極に向かって一対の発熱体によって押圧することにより、端子板を端子電極に熱圧着させる。
本発明でいう熱圧着とは、端子板を構成する金属(例えば金属母材とその表面に形成されためっき膜とを含む)が端子電極を構成する金属(例えば焼結金属とその表面に形成されためっき膜とを含む)中に拡散することにより、二つの金属表面を金属学的に接合することを言う。なお、熱圧着は、端子板と端子電極との対向面全面である必要はなく、一部のみでもよい。熱圧着によって電子部品と端子板との間に介在するクリームはんだが外側へ押しのけられ、電子部品と端子板とが仮固定される。このとき、クリームはんだの一部が溶融する可能性はあるが、熱圧着は短時間で完了するので、全体が溶融することはない。
本発明における仮固定は、端子板を端子電極に向かって一対の発熱体によって押圧することにより、端子板を端子電極に熱圧着させるものであるから、発熱体の熱と圧力とが端子板を介して端子電極に直接的に伝わり、しかも熱圧着は端子板と端子電極との対向面の一部のみでよいので、短時間で終了する。はんだ全体が溶融する時間及び熱量が必要ではなく、かつ特許文献3の拡散接合のように、端子板と端子電極とが十分に固着するまでの時間も必要でない。電子部品の大きさや端子板の厚み、接合面積にもよるが、通常は300msec以下でよい。さらに、熱圧着の加圧力も特許文献3のように高い圧力は必要でない。なぜなら、熱圧着による接合強度は、本接合までの搬送中や本接合時での電子部品と端子板とのずれを防止できる強度があればよいからである。その結果、仮固定時の電子部品に対するダメージが小さく、クラックの発生率を減らすことができる。
仮固定された電子部品と端子板は加熱炉の中で熱処理され、クリームはんだが溶融する。溶融したはんだの毛細管現象と金属表面のはんだ濡れ性とにより、はんだが端子電極と端子板との隙間を満たし、端子電極と端子板とが本接合される。電子部品と端子板とが仮固定されているので、仮固定から本接合までの搬送中及び本接合中、電子部品と端子板とを治具等で保持しておく必要がない。つまり、はんだの溶融時(本接合時)に電子部品を保持することなく加熱できるので、整列作業が不要となり、大量の電子部品を一度に熱処理することができるので、生産効率が格段に向上する。端子板の形状がシンプルであり、リードフレームのような複雑な加工を必要としないので、大幅なコスト低減が可能である。個々の電子部品を押圧保持したり、整列させるための治具やリードフレームが不要になるので、設備が簡易になると共に、低コストになる。電子部品が小型化すればするほど、その効果が顕著になる。本接合に当たって、電子部品を保持する治具が不要であるから、加熱炉を小型化できると共に、熱容量を小さくでき、加熱時間も短縮できる。なお、本発明の加熱炉とは、密閉した空間を持つ炉である必要はなく、仮固定された電子部品に対してはんだが完全に溶融できる時間と温度とを保持できればよい。
このように、本発明方法により接合された電子部品と端子板は、第1段階で熱圧着により仮固定され、第2段階ではんだの溶融による本接合がされているので、はんだ付けのみによって接合された電子部品と端子板との接合構造に比べて固着強度が高く、接合信頼性が高い。さらに、熱圧着によって電子部品の端子電極又は端子板に残留応力が発生しても、その残留応力をはんだ溶融時の熱で緩和することが可能であるため、最終的な製品の残留応力を軽減できるという効果もある。
第5の工程は、端子板を仮固定した電子部品を複数個同時に熱処理するのがよい。本発明では、端子板と電子部品とが仮固定されているので、本接合にあたって電子部品を整列したり、一定位置に保持したりする必要もない。複数個同時に熱処理することで、電子部品1個当りの熱処理時間を短くでき、生産性が向上する。電子部品の整列用治具が不要になるので、熱容量が小さくなり、熱処理時間を短縮できる。なお、加熱炉はバッチ炉でもよいし、連続炉でもよい。
第4工程における熱圧着時の最高温度は、第5の工程における加熱時(例えばリフロー時)の最高温度より高いことが好ましい。熱圧着時の最高温度とは、例えば発熱体の温度であってもよいし、端子板と端子電極との熱圧着部分の最高温度であってもよい。熱圧着時の最高温度をリフロー時の最高温度より高くすることにより、短時間で熱圧着を完了できる。熱圧着時間を短くできるので、第4工程でクリームはんだ全体が溶融するのを回避できる。また、熱圧着時の最高温度をリフロー時の最高温度より高くすることにより、リフロー時に熱圧着部が外れるのを抑制できる。
端子電極と端子板との対向面の少なくとも一方の表面には、種類の異なる複数の金属の多層構造からなるめっき膜が形成され、熱圧着により、はんだを介さずに複数のめっき膜が合金化することで仮固定してもよい。下層めっき膜はバリアメタル層として機能する層、上層めっき膜ははんだ濡れ性に優れた層がよい。この合金化は、特許文献3のように端子板の金属母材の金属を端子電極中に拡散させる場合に比べて、短時間ですむため、仮固定を短時間で終了できると共に、所定の固着強度を確保できる。
端子電極と端子板との表面の最上層には、同一種類の金属からなるめっき膜がそれぞれ形成され、熱圧着により、最上層のめっき膜同士が金属接合されると共に、下層のめっき膜と合金化されるようにしてもよい。同一種類のめっき膜同士が先に接合するため、短時間で熱圧着でき、かつ合金化も促進される。
端子電極の表面と端子板の表面には、下層のNiめっき膜と、上層のSnめっき膜とがそれぞれ形成され、熱圧着により、端子電極の表面のSnめっき膜と端子板の表面のSnめっき膜とが接合してSn−Ni合金を形成するのがよい。Niめっき膜はバリアメタル層としても機能する。Snははんだ濡れ性に優れ、比較的低融点の金属であるから、短時間の熱圧着で接合し、合金化できる。
熱圧着は、端子板のめっき膜と端子電極のめっき膜とが短時間に合金化できる温度で、かつ10〜30Nで加圧するのが望ましい。仮固定のための熱圧着は、その温度が低い場合や加圧力が低い場合には、短時間で端子板と端子電極とが熱圧着せず、本接合までの搬送中や本接合時に外れる可能性がある。端子板のめっき膜と端子電極のめっき膜とが合金化できる温度で、かつ10〜30Nで加圧すると、端子板と端子電極とが短時間で熱圧着し、本接合までの搬送中や本接合時での電子部品と端子板との位置ずれを抑制でき、しかも、はんだ溶融接合後の強度が高い。過大な加圧力が電子部品に作用しないので、電子部品のダメージを軽減できる。特許文献3のように、端子板の金属母材の金属が端子電極の金属中へ拡散する必要がないので、例えば300msec以下の短時間で仮固定を完了できる。
端子板と対向する端子電極の表面は凸曲面状に形成されており、凸曲面状の表面の頂部において熱圧着が行われるのがよい。一般にチップ部品の端子電極はチップ部品の端面に電極ペーストを塗布し、焼き付けすることにより形成される。その際、電極ペーストが表面張力により端子電極の中央部に集まりやすく、中央部が凸曲面状になりやすい。本発明による熱圧着を行う際、端子板の内側表面が端子電極の凸曲面状の中央部に最初に接触するので、この凸曲面状の中央部において熱圧着が行われる。熱エネルギー及び加圧力が中央部に集中するので、短時間で熱圧着が終了する。端子電極が凸曲面状であるから、熱圧着時に端子板と端子電極との間に介在するクリームはんだは速やかに外周側へ押し退けられ、端子板と端子電極との隙間に形成されるポケット部に留まる。そのため、クリームはんだが端子板外へはみ出ることがない。
第3の工程は、端子電極の外側面にクリームはんだを塗布する工程であり、第3の工程と第4の工程との間に、電子部品及びクリームはんだを予熱する工程を設けてもよい。はんだを予熱することで、はんだの濡れ性が向上すると共に、電子部品を予熱することで、熱圧着時における電子部品への熱衝撃を緩和できる。予熱温度としては、熱圧着時の接合部の最高温度より低ければよい。
第4の工程を、非酸化性雰囲気中で実施してもよい。この場合は、熱圧着時におけるはんだの酸化やめっき膜(もし形成されておれば)の酸化が予防されるので、はんだの濡れ性が向上すると共に、熱圧着時のめっき膜の接合が良好になり、仮固定時間のさらなる短縮が可能である。非酸化性雰囲気とは、還元性ガス雰囲気や不活性ガス雰囲気などであり、例えばN2雰囲気でもよい。
以上のように、本発明によれば、チップ型電子部品の端子電極に端子板を接合する際に、発熱体を用いた熱圧着による仮固定と、加熱炉を用いたはんだ溶融による本接合との2段階の接合ステップを用いることにより、生産性及び接合信頼性の向上と電子部品のダメージ改善との両立を達成できる。
本発明に係る端子板付き電子部品の一例の斜視図である。 図1に示す端子板付き電子部品の正面図である。 第1の端子電極と第1の端子板との接合状態の一例を表す模式的断面図である。 本発明に係る端子板接合方法を実施するための装置の一例の正面図である。 図4に示す装置の各工程における動作を説明するための図である。 端子板供給用インデックスを周方向からみた正面図(a)及びVI−VI線断面図(b)である。 本発明に係る端子板付き電子部品を製造する工程を示す図である。
以下に、本発明にかかる一実施形態を図面を参照しながら具体的に説明する。
図1及び図2に示すように、本発明の一実施例である端子板付き電子部品1は、チップ型電子部品2と、一対の端子板16,17とを備えている。電子部品2は、略直方体状のセラミック素体10を備えている。セラミック素体10は、例えば積層された複数のセラミック層と、そのセラミック層の間に配置された複数の内部電極10a、10bとを備えたものであり、セラミック層や内部電極の構造及び材料は公知であるため、説明を省略する。なお、チップ型電子部品2としては、両端面に端子電極が形成されたチップ部品であればよく、例えば積層型セラミックコンデンサ、チップインダクタ、チップサーミスタなど、種類は問わない。
図3に示すように、内部電極10a、10bは実装面と平行に形成されている。一方の内部電極10aは、セラミック素体10の一方の端面に引き出され、その端面に形成された第1の端子電極14と電気的に接続されている。なお、第1の端子電極14は、一方の端面だけでなく、その端面に隣接するセラミック素体10の4つの側面の一部まで覆うように形成されている。同様に、他方の内部電極10bは、セラミック素体10の他方の端面に引き出され、その端面に形成された第2の端子電極15と電気的に接続されている。第2の端子電極15も、他方の端面だけでなく、その端面に隣接する4つの側面の一部まで覆うように形成されている。
本実施形態の第1及び第2の端子電極14,15のそれぞれは、図3(第1の端子電極14側のみ示す)に示すように、Cu、Ag、Pd等の金属からなる焼結金属14a(ガラスを含んでも良い)と、焼結金属14a上に形成されたNiなどのバリアメタル層としての下層めっき膜14bと、下層めっき膜14b上に形成されたSnなどのはんだ濡れ性の良好な上層めっき膜14cとを含む。なお、焼結金属14a、下層めっき膜14b、上層めっき膜14cは、それぞれ単一の金属に限るものではなく、その金属を主成分として含む合金であってもよい。端子電極14の表面は、中央部が凸曲面状に突出するように形成されている。焼結金属14aが凸曲面状であるため、その上にほぼ均等な厚みで形成された下層めっき膜14b及び上層めっき膜14cの表面も凸曲面状となる。なお、図3には図示していないが、端子電極15の構造も端子電極14と同様である。
図1及び図2に示すように、第1の端子電極14には第1の端子板16が接合され、第2の端子電極15には第2の端子板17が接合されている。第1及び第2の端子板16、17は、それぞれL字状に形成されている。第1及び第2の端子板16、17は、端子電極14、15に接合される接合部161、171と、図示しない配線基板などに実装される実装部162、172とを備えている。この例では、実装部162、172は内側に直角に折り曲げられている。図1において、電子部品1の長さL、端子板の高さT、端子板の幅W、実装部から電子部品の下面までの高さHとすると、例えばL=2.2mm、T=1.75mm、W=1.25mm、H=0.5mmとされている。
第1及び第2の端子板16,17のそれぞれは、図3に示すように金属母材16aの表面に下層めっき膜16bと上層めっき膜16cとを形成したものである。なお、めっき膜16b、16cは、後述する熱圧着及びはんだ接合のために少なくとも端子電極14、15と対向する内側面に形成されておればよいが、端子板16、17を配線基板等に実装する場合を考慮して実装部162,172を含む全面にめっき膜が形成されていてもよい。金属母材16aは端子板としての機械的強度や弾性、耐熱性などを考慮して選択され、例えば、板厚0.05〜0.5mmのFe−18Cr、Fe−42Niなどの金属板が使用されてもよい。下層めっき膜16bはバリアメタル層として機能する膜であり、例えばNi又はNiを主成分として含む合金で形成するのが望ましく、その厚みは0.5〜2μmとしてもよい。上層めっき膜16cは、後述する熱圧着性及びはんだ濡れ性の良好な、例えばSn又はSnを主成分として含む合金で形成するのが望ましく、その厚みは2〜4μmとしてもよい。下層及び上層めっき膜は、それぞれ複数のめっき膜により構成されていてもよい。
図3に示すように、端子電極14と端子板16とは、端子電極14の凸曲面状の中央部で熱圧着により固着され、その周囲がはんだ18によって固着されている。端子電極14と端子板16とが熱圧着している熱圧着部19では、端子電極14と端子板16との上層めっき膜14c、16c同士が、少なくとも一部においてはんだ18を介さずに接合し、しかも下層めっき膜14b、16bと合金化している。具体的には、端子板16と端子電極14の上層めっき膜14c、16c(例えばSn)同士が接合一体化し、同時に下層めっき膜14b、16bの金属(例えばNi)が上層めっき膜14c、16c中に拡散することにより、合金化している。なお、図3には図示していないが、端子電極15と端子板17との接合構造も端子電極14と端子板16との接合構造と同様である。
はんだ18としては、例えばSn−Sb系はんだ、Sn−Ag−Cu系はんだ、Sn−Cu系はんだ、Sn−Zn−Al系はんだなど、配線基板への実装に用いるはんだより高融点のはんだであれば、任意に選択できる。熱圧着部19は、端子電極14と端子板16との対向面のほぼ中心に位置しており、はんだ18は、熱圧着部19の周囲であって、端子電極14と端子板16との隙間に形成されたポケット部20に溜められ、熱圧着部19を除く端子電極14と端子板16との対向面のほぼ全域に濡れ拡がっている。なお、図3では、はんだ18と上層めっき膜14c、16cとが別の層として描かれているが、実際には一体の合金層を構成している。
次に、本発明にかかる端子板接合方法の一例について、図4、図5を参照しながら説明する。図4は接合装置100の正面図を示し、図5は接合装置100の各部の動作を示す。図4、図5はあくまで動作原理を理解するための概略図であり、実際の装置を必ずしも示すものではない。
接合装置100の上部には電子部品2を供給するための円盤状インデックス120が配置され、下部には端子板16、17を供給するための円盤状インデックス140が配置されている。インデックス120、140は共に、水平な回転軸121、141を備え、これらの回転軸を中心として互いに逆方向に一定ピッチずつ同期回転する。
電子部品供給用インデックス120の外周部には、周方向に一定角度おきに複数個(図4では8個)の凹部122が形成されており、各凹部122の底面にはそれぞれ吸引孔123が形成されている。凹部122の奥行き寸法(インデックス120の外周部の厚み)は、凹部122から電子部品2の両端部が突出する寸法に設定されている。
端子板供給用インデックス140の外周部には、周方向に一定角度おきに複数個(図4では8個)の保持溝142が形成され、各保持溝142の平坦な底面142aにそれぞれ吸引孔143が形成されている。この実施例の保持溝142は、図6に示すように、回転方向後側に後壁面142bを持つL形断面形状を有しており、軸方向両側に側壁面142cを有している。吸引孔143は図6に示すように左右一対設けられ、各吸引孔143にそれぞれ端子板16、17の底面(実装部の底面)が吸引保持される。端子板16、17の背面が保持溝142の軸方向両側壁面142cに当接することで、端子板16、17が対向方向に位置決めされ、端子板16、17の一方の側縁が保持溝142の後壁面142bに当接することで、端子板16、17が周方向に位置決めされる。なお、保持溝142の形状は実施例のようなL型断面形状に限らず、端子板16、17の実装部底面を安定に吸着保持できるものであれば、任意である。
この実施例の吸引孔143は、図6に示すように、端子板16、17の底面よりも内側に拡張されており、端子板16、17の実装部に対して吸引孔143が少し開いた状態にある。そのため、端子板に対する吸着力が強過ぎず、後述する熱圧着工程において発熱体152の押圧中心c1が端子板16,17の重心位置より上方位置にあっても、端子板16、17の傾きを抑制できる。但し、吸引孔143が端子板16、17の底面によって完全に閉じられる形状であってもよい。
電子部品供給用インデックス120の最上部には、電子部品2の供給部S1が設けられ、ここで凹部122に対して電子部品2が供給され、各凹部122の中心部に1個ずつ電子部品2が保持される。この状態が図5の(a)である。電子部品2の凹部122への供給方向は、図4のように周方向から供給してもよいし、図4の紙面と垂直方向から供給してもよい。
電子部品2を保持したインデックス120は図4の矢印方向に回転し、供給位置S1から例えば約90°回転した位置S2で、クリームはんだ18aが電子部品1の両端面に供給される。すなわち、図5の(b)のように、電子部品2の両側から一対のディスペンスノズル150が接近し、その先端からクリームはんだ18aを吐出して電子部品2の端子電極14、15のほぼ中央部に所定量だけ塗布する。はんだ塗布量は、端子電極14、16と端子板16、17との隙間に形成されるポケット部20を満たせる程度でよいため、従来のはんだ付け方法(例えば特許文献1、2参照)における塗布量に比べて少量でよい。
なお、クリームはんだ18aを塗布した電子部品2が最下位置(熱圧着工程)S3に到達する前に、電子部品2の両端に塗布されたクリームはんだ18aの塗布状態を検査する検査装置(図示せず)を設けてもよい。
一方、端子板供給用インデックス140の最下部には、端子板16、17の供給部F1が設けられている。インデックス140に対して下方から端子板16、17をプッシャ151により押し上げ、端子板16、17の実装部162,172をインデックス140の保持溝142の底面に押し当てた後、プッシャ151が後退することで、端子板16、17はインデックス140に乗り移る。この段階では、図5の(c)に示すように、端子板16、17の背面は保持溝142の側壁面142cに当接した位置で吸着保持される。そのため、両端子板16、17の接合部161,171の間隔は、後述するクリームはんだ18aを塗布した電子部品1の全長よりも広く設定されている。端子板16、17を保持したインデックス140はインデックス120とは逆方向に回転し、上方へ搬送される。
電子部品1の両端面にクリームはんだ18aが供給された後、電子部品供給用インデックス120はさらに例えば約90°回転して、電子部品2が最下位置S3に到達すると同時に、端子板供給用インデックス140に保持された端子板16、17も最上位置F2に到達する。この両インデックス120、140が最も接近した位置に、熱圧着工程S3(F2)が設けられている。この段階で、図5の(d)のように、電子部品2は端子板16、17の中心位置に正確に挿入される。端子板16、17は、端子電極14、15に塗布されたクリームはんだ18aと接触しない間隔をあけて対峙している。端子板16、17の外側には、熱圧着用の一対の発熱体152が待機している。発熱体152の先端の押圧面152aの形状は四角形、円形、楕円形など任意であるが、少なくとも端子電極14、15の凸曲面状の頂部を含む領域を押圧できる面積を有するのがよい。発熱体152は、その押圧面152aが熱圧着に適した温度になるよう加熱されている。加熱方法は、抵抗加熱、誘導加熱など任意である。押圧面152aの温度は、上層めっき膜が短時間で接合・合金化できる温度が望ましく、上層めっき膜の材料にもよるが、例えば300〜450℃程度がよい。熱圧着時の最高温度は、後述するリフロー時の最高温度よりも高いことが好ましい。
熱圧着工程S3(F2)において、電子部品2が端子板16、17の間に挿入された直後に、左右の発熱体152が同時に対向方向に作動され、端子板16、17を電子部品2に向かって加圧する(図5の(e)参照)。このとき、端子板16、17はインデックス140の保持溝142の底面にそって対向方向に平行移動し、端子板16、17の平坦な内側面が電子部品2の両端面(端子電極)に圧接する。上述のように端子電極14、15は凸曲面状に湾曲しているので、凸曲面状の頂部が端子板16、17に強く圧接し、上層めっき膜同士が接合すると共に、下層めっき膜と合金化して熱圧着19される。熱圧着時間は300msec以下の短時間でよい。発熱体152の加圧により、端子電極14、15と端子板16、17との間に挟まれたクリームはんだ18aは、熱圧着部19の周囲へ押し退けられ、端子電極14、15と端子板16、17との隙間に形成されるポケット部20に留まる。なお、この段階では、一部のクリームはんだ18aが溶融する可能性はあるが、全部が溶融することはない。両方の発熱体152の加圧力は同じでもよいが、一方の発熱体152の加圧力を大きく設定しておき、それを基準にして他方の発熱体152の加圧力を調整してもよい。
図5の(e)に示すように、発熱体152の押圧中心c1は、電子部品2の中心軸c2よりも実装部側(下方)へオフセットしている方がよい。その理由は、端子板16、17はインデックス140によってその底面が吸着保持されているので、発熱体152の中心c1が電子部品2の中心軸c2と同じ位置を押圧すると、端子板16、17が傾いた状態で端子電極14、15と熱圧着される可能性があるからである。上述のようにオフセットを設けることで、端子板16、17の傾きを抑制できる。なお、発熱体152の押圧面152aが端子電極14、15の凸曲面状の頂部を含む領域を常に押圧できるように、オフセットを設定しておくのがよい。押圧中心c1は、端子板16、17の重心位置より上方でもよいが、同じ位置でもよい。
熱圧着工程直前において、電子部品2及びクリームはんだ18aを予熱する予熱工程を設けてもよい。予熱温度は、はんだ濡れ性を向上させ、かつ熱圧着時の電子部品2への熱衝撃を緩和できる温度とするのがよい。さらに、インデックス120、140を不活性雰囲気ガス(N2など)を封入した部屋の中に配置してもよい。この場合には、クリームはんだ18a、電子部品2の端子電極表面及び端子板表面のめっき膜の酸化を抑制できる。
熱圧着が終了した後、電子部品2に仮固定された端子板16、17はインデックス120に乗り移る。その際、端子板16、17の底面はインデックス140の吸引孔143から外れているので(図5の(e)参照)、端子板16、17がインデックス140に残留することがない。熱圧着工程からインデックス120が例えば約90°回転した排出位置S4で、吸引孔123の真空吸引が圧空吐出に切り換わることで、端子板16、17を仮固定した電子部品2はインデックス120から排出される(図5の(f)参照)。なお、吸引孔123とは別のエアー吐出孔をインデックス120に設けたり、又はインデックス120に対して直交方向からエアーブローを行う吹き出し装置を設けることで、凹部122に保持された電子部品2を取り出すようにしてもよい。また、熱圧着位置S3から排出位置S4までの間に良否判定部を設けると共に、排出部を良品排出部と不良品排出部の2箇所に分けて設け、良否判定部の判定結果に基づいて良品だけを良品排出部から排出してもよい。
電子部品供給用インデックス120の排出位置S4の近傍には、加熱炉153が設けられている。インデックス120から排出された(端子板を仮固定した)電子部品2は加熱炉153へ投入され、そこでクリームはんだ18aが溶融する温度でリフローされる。なお、排出位置S4と加熱炉153との間にシュータやベルトコンベアなどの搬送手段を設けてもよい。加熱炉153はリフロー炉でも、オーブンでもよい。加熱炉153までの移動途中、又は加熱炉153内でのリフロー途中において、電子部品2及び端子板16、17に多少の力が作用しても、両者は熱圧着によって仮固定されているので、端子板16、17が電子部品2から外れることがない。したがって、加熱炉153における熱処理の間、電子部品2及び端子板16、17を整列保持しておく必要がなく、かつ(端子板を仮固定した)電子部品2を多数個まとめてはんだ付けすることができる。そのため、熱処理が簡易化され、従来に比べて生産性が大幅に向上する。
リフロー後の電子部品1を図5の(g)に示す。リフローにより溶融したはんだ18は、毛細管現象と金属表面のはんだ濡れ性とにより、端子電極14、16と端子板16、17との間のポケット部20を隙間なく満たし、両者を強固に固定できる。
図7は、本発明に係る端子板付き電子部品を製造する工程の一例を示す。まず最初に電子部品2をインデックス120に供給し(ステップS1)、この電子部品2の端子電極にクリームはんだ18aを塗布する(ステップS2)。なお、クリームはんだ18aを塗布した後、その塗布状態を検査したり(ステップS2a)、クリームはんだを予熱してもよい(ステップS2b)。一方、電子部品2とは別に、端子板16、17をインデックス140に供給する(ステップF1)。そして、電子部品2と端子板16、17とを熱圧着工程へ搬送し、熱圧着させる(ステップS3(F2))。熱圧着後に、仮接合状態の良否を判定してもよい(ステップS3a)。次に、端子板仮固定済み電子部品をインデックス120から排出し(ステップS4)、この仮固定済み電子部品を加熱炉に通し(ステップS5)、クリームはんだを加熱溶融させて本接合することにより、端子板付き電子部品を完成する(ステップS6)。
表1は、従来方法(リードフレームを使用)と本発明方法(熱圧着あり)とを用いて接合した、端子板付き電子部品の接合強度を比較したものである。接合強度は、図2の矢印Fで示すように、端子板付き電子部品の上に重り(荷重)を載せてピーク温度270℃でリフロー炉の中を流した際の、電子部品と端子板とのズレ(回転)で比較した。使用した電子部品は、2.0mm×1.25mm×1.25mmのセラミックコンデンサである。
本発明方法(熱圧着あり)により接合した製品は、荷重が33mgから265mgに増加しても端子がズレ(回転)することはないが、従来方法によりはんだのみで接合した「加圧なし」品の場合は、荷重265mgをかけたときに約20%の製品でズレが発生した。このことから、本発明の仮固定+本接合工法の接合強度は従来方法に比べて高いと言える。
Figure 0005991337
前記実施例の説明は、本発明の1つの態様を示したに過ぎず、他の変形例も可能であることは言うまでもない。例えば、前記実施例では電子部品の端子電極の表面が凸曲面状に湾曲しており、その頂部において端子板と熱圧着される例を示したが、端子電極の表面がほぼ平坦である場合には、端子板を予め内側に向かって湾曲形成しておくか、又は発熱体の押圧面を凸湾曲状とすることで、熱圧着時の熱と圧力とが一箇所に集中するようにしてもよい。この場合も、熱圧着部の周囲にポケット部を形成できる。
また、前記実施例では、端子電極の外側面にクリームはんだをディスペンサにより塗布する例を示したが、端子板の内側面に塗布してもよい。その場合、端子板をインデックス140に供給する前にクリームはんだを端子板に塗布しておいてもよい。塗布方法は、ディスペンサに限らない。
前記実施例では、端子板及び端子電極の表面に同じ組成の上層めっき膜(Sn)を形成したが、両者のめっき膜が相違していてもよいし、端子板および端子電極の一方の表面にはめっき膜が形成されていなくてもよい。前者の場合には、相違しためっき膜同士が合金化することで熱圧着される。後者の場合には、一方のめっき膜が他方の金属母材と合金化することで熱圧着される。
端子板付き電子部品の構造は、図1、図2に示すものに限らず、例えば一対の端子板の間に複数個の電子部品を並列に固定したものでもよい。その場合も、1回の熱圧着で複数の電子部品を端子板に同時に仮固定できる。
1 端子板付き電子部品
2 電子部品
14、15 端子電極
14b 下層めっき膜
14c 上層めっき膜
16、17 端子板
16b 下層めっき膜
16c 上層めっき膜
18 はんだ
18a クリームはんだ
19 熱圧着部
20 ポケット部
100 接合装置
120 電子部品供給用インデックス
140 端子板供給用インデックス
150 ディスペンスノズル
152 発熱体
153 加熱炉

Claims (11)

  1. 端子板付き電子部品の製造方法であって、
    相対する両端面に端子電極が形成されたチップ型電子部品を準備する第1の工程と、
    金属板からなる一対の端子板を準備する第2の工程と、
    前記端子電極の外側面又は前記端子板の内側面にクリームはんだを塗布する第3の工程と、
    前記端子板の間に前記チップ型電子部品を挿入し、前記端子板を前記端子電極に向かって一対の発熱体によって押圧することにより前記端子板を前記端子電極に熱圧着させ、前記端子板を仮固定した電子部品を得る第4の工程と、
    前記端子板を仮固定した電子部品を加熱炉の中で加熱することにより、前記クリームはんだを溶融させて本接合し、端子板付き電子部品を得る第5の工程と、
    を含む端子板付き電子部品の製造方法。
  2. 前記第5の工程は、前記端子板を仮固定した電子部品を複数個同時に熱処理することを特徴とする、請求項1に記載の端子板付き電子部品の製造方法。
  3. 前記第4工程における熱圧着時の最高温度は、前記第5の工程における加熱時の最高温度より高いことを特徴とする、請求項1又は2に記載の端子板付き電子部品の製造方法。
  4. 前記端子電極と前記端子板との対向面の少なくとも一方の表面には、種類の異なる複数の金属の多層構造からなるめっき膜が形成され、
    前記熱圧着により、前記端子電極と前記端子板との対向面の少なくとも一部において前記複数のめっき膜が合金化することを特徴とする、請求項1ないし3のいずれかに記載の端子板付き電子部品の製造方法。
  5. 前記端子電極と前記端子板との表面の最上層には、同一種類の金属からなるめっき膜がそれぞれ形成され、
    前記熱圧着により、前記最上層のめっき膜同士が互いに金属接合されると共に、下層のめっき膜と合金化されることを特徴とする、請求項4に記載の端子板付き電子部品の製造方法。
  6. 前記端子電極の表面と前記端子板の表面には、下層のNiめっき膜と、上層のSnめっき膜とがそれぞれ形成され、
    前記熱圧着により、前記端子電極の表面のSnめっき膜と前記端子板の表面のSnめっき膜とが接合してSn−Ni合金を形成することを特徴とする、請求項4又は5に記載の端子板付き電子部品の製造方法。
  7. 前記端子板と対向する前記端子電極の表面は凸曲面状に形成されており、
    前記凸曲面状の表面の頂部において前記熱圧着が行われることを特徴とする、請求項1ないし6のいずれかに記載の端子板付き電子部品の製造方法。
  8. 前記第3の工程は、前記端子電極の外側面にクリームはんだを塗布する工程であり、
    前記第3の工程と第4の工程との間に、前記電子部品及びクリームはんだを予熱する工程を有する、請求項1ないし7のいずれかに記載の端子板付き電子部品の製造方法。
  9. 前記第4の工程を非酸化性雰囲気中で実施することを特徴とする、請求項1ないし8のいずれかに記載の端子板付き電子部品の製造方法。
  10. チップ型電子部品の相対する両端面に形成された端子電極に、金属板からなる一対の端子板をはんだにより接合してなる端子板付き電子部品であって、
    前記端子電極の中央部において、前記端子電極の外側面と前記端子板の内側面とが熱圧着されており、
    前記熱圧着部の周囲において、前記端子電極の外側面と前記端子板の内側面とが前記はんだを介して接合されている、端子板付き電子部品。
  11. 前記端子板と対向する前記端子電極の表面は凸曲面状に形成されており、
    前記凸曲面状の表面の頂部において前記端子板と前記端子電極とが熱圧着されており、
    前記熱圧着部の周囲であって、前記端子板と前記端子電極との隙間にポケット部が形成され、
    このポケット部にはんだが満たされていることを特徴とする、請求項10に記載の端子板付き電子部品。
JP2014057416A 2013-08-20 2014-03-20 端子板付き電子部品の製造方法及び端子板付き電子部品 Active JP5991337B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014057416A JP5991337B2 (ja) 2013-08-20 2014-03-20 端子板付き電子部品の製造方法及び端子板付き電子部品
US14/331,585 US9527150B2 (en) 2013-08-20 2014-07-15 Method for manufacturing terminal-strip-equipped electronic component and terminal-strip-equipped electronic component
KR1020140090631A KR101577317B1 (ko) 2013-08-20 2014-07-17 단자판 부착 전자부품의 제조 방법 및 단자판 부착 전자부품
CN201410369417.5A CN104425137B (zh) 2013-08-20 2014-07-30 安装有端子板的电子元器件的制造方法及安装有端子板的电子元器件

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013170086 2013-08-20
JP2013170086 2013-08-20
JP2014057416A JP5991337B2 (ja) 2013-08-20 2014-03-20 端子板付き電子部品の製造方法及び端子板付き電子部品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015062214A JP2015062214A (ja) 2015-04-02
JP5991337B2 true JP5991337B2 (ja) 2016-09-14

Family

ID=52480180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014057416A Active JP5991337B2 (ja) 2013-08-20 2014-03-20 端子板付き電子部品の製造方法及び端子板付き電子部品

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9527150B2 (ja)
JP (1) JP5991337B2 (ja)
KR (1) KR101577317B1 (ja)
CN (1) CN104425137B (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105269111B (zh) * 2015-10-22 2018-10-09 中国电子科技集团公司第四十一研究所 一种微波信号传输端子精密定位焊接夹具及焊接方法
JP6405327B2 (ja) * 2016-02-26 2018-10-17 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサ
JP6838346B2 (ja) * 2016-10-19 2021-03-03 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品の製造方法およびそれに用いる組立て冶具
TWI652131B (zh) * 2017-02-10 2019-03-01 信昌電子陶瓷股份有限公司 以熱脈衝壓合組裝疊層電容器的方法
JP7025687B2 (ja) * 2017-09-11 2022-02-25 Tdk株式会社 電子部品の製造方法および電子部品
JP6907907B2 (ja) * 2017-11-30 2021-07-21 Tdk株式会社 セラミック電子部品
DE102019110374A1 (de) 2019-04-18 2020-10-22 Tdk Electronics Ag Bauelement
KR102620522B1 (ko) * 2019-07-25 2024-01-03 삼성전기주식회사 전자 부품 및 그 실장 기판
JP7408975B2 (ja) * 2019-09-19 2024-01-09 Tdk株式会社 セラミック電子部品
JP7188356B2 (ja) * 2019-10-25 2022-12-13 株式会社村田製作所 セラミック電子部品およびセラミック電子部品の製造方法
JP7396042B2 (ja) * 2019-12-27 2023-12-12 Tdk株式会社 電子部品装置
JP7405019B2 (ja) * 2020-06-26 2023-12-26 Tdk株式会社 金属端子付き電子部品の製造方法
WO2024090392A1 (ja) * 2022-10-26 2024-05-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 電解コンデンサおよびその製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6062145A (ja) * 1983-09-16 1985-04-10 Mitsubishi Electric Corp 混成集積回路の製造方法
JPS6132508A (ja) * 1984-07-25 1986-02-15 松下電器産業株式会社 フイルムコンデンサ
JPH0414919Y2 (ja) * 1986-04-07 1992-04-03
JPH01144608A (ja) * 1987-11-30 1989-06-06 Marcon Electron Co Ltd 積層セラミックコンデンサの製造方法
US5394608A (en) * 1992-04-08 1995-03-07 Hitachi Maxwell, Ltd. Laminated semiconductor device and fabricating method thereof
JPH0817679A (ja) * 1994-06-30 1996-01-19 Kyocera Corp 複合セラミックコンデンサ
JP2002141644A (ja) 2000-11-06 2002-05-17 Tdk Corp 熱圧着方法及び装置
JP2002198254A (ja) 2000-12-26 2002-07-12 Tdk Corp セラミックコンデンサ
JP3606215B2 (ja) 2001-03-22 2005-01-05 株式会社村田製作所 電子部品への端子板部材の取付方法
JP3476800B2 (ja) * 2001-08-22 2003-12-10 Tdk株式会社 ラジアルリード型積層セラミック電子部品
US6704189B2 (en) 2002-04-09 2004-03-09 Tdk Corporation Electronic device with external terminals and method of production of the same
US7832618B2 (en) 2007-01-31 2010-11-16 Avx Corporation Termination bonding
US20080239621A1 (en) * 2007-03-29 2008-10-02 Azizuddin Tajuddin Clip-on leadframe
JP4978307B2 (ja) * 2007-05-24 2012-07-18 株式会社村田製作所 リード線付き電子部品、及び該リード線付き電子部品の製造方法
WO2009001842A1 (ja) * 2007-06-27 2008-12-31 Murata Manufacturing Co., Ltd. 積層セラミック電子部品及びその実装構造
JP5176775B2 (ja) 2008-06-02 2013-04-03 株式会社村田製作所 セラミック電子部品及びその製造方法
JP5045649B2 (ja) * 2008-11-17 2012-10-10 株式会社村田製作所 セラミックコンデンサ及びそれを備えた電子部品
JP5857847B2 (ja) * 2011-06-22 2016-02-10 株式会社村田製作所 セラミック電子部品

Also Published As

Publication number Publication date
CN104425137A (zh) 2015-03-18
CN104425137B (zh) 2017-08-04
JP2015062214A (ja) 2015-04-02
KR20150021449A (ko) 2015-03-02
US9527150B2 (en) 2016-12-27
KR101577317B1 (ko) 2015-12-14
US20150055274A1 (en) 2015-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5991337B2 (ja) 端子板付き電子部品の製造方法及び端子板付き電子部品
US11227719B2 (en) Leadless multi-layered ceramic capacitor stack
US10984955B2 (en) Electronic component structures with reduced microphonic noise
JP5176775B2 (ja) セラミック電子部品及びその製造方法
US20150054388A1 (en) Ceramic electronic component
KR20160089540A (ko) 세라믹기판 및 그 제조방법
WO2014081666A1 (en) Leadless multi-layered ceramic capacitor stacks
US20140041930A1 (en) Electronic component
TWI604572B (zh) 陶瓷封裝體、電子零件裝置及其製造方法
JP5353839B2 (ja) 電子部品
JP7334285B2 (ja) マルチコンポーネントからなるリードレススタック
TWI436389B (zh) Electronic Parts
JP4590783B2 (ja) はんだボールの形成方法
CN114145080A (zh) 芯片部件、芯片部件的制造方法以及电子设备的制造方法
JPH0737753A (ja) チップ型部品
CN110546759A (zh) 用于扩散焊接的焊料成型件、制造焊料成型件的方法和装配焊料成型件的方法
US11396164B2 (en) Electronic component and method of manufacturing electronic component
JP2005340699A (ja) 表面実装型電子部品、電子部品の実装構造及び実装方法
JP3715137B2 (ja) 配線基板の製造方法
JP7073701B2 (ja) Au-Sn合金はんだペースト、及びAu-Sn合金はんだペーストを用いた接合方法
JP3606215B2 (ja) 電子部品への端子板部材の取付方法
JP2022011188A (ja) ソルダーペースト
JP4524731B2 (ja) チップ型電子部品
JP2005197528A (ja) 端子取り付け用治具およびそれを用いた電子部品素子への端子取り付け方法
JP2018160603A (ja) はんだ接合体およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151007

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160630

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160719

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160801

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5991337

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150