JP5974580B2 - Manufacturing method of solar cell module - Google Patents
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Description
本発明は、太陽電池モジュールの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a solar cell module.
近年、エコロジーに対する人々の意識が高まり、クリーンなエネルギーである太陽電池に対する期待が益々大きくなっており、様々な種類の太陽電池の開発が進んでいる。これら太陽電池の中でも、導電性の基体上にシリコンを堆積し、その上に導電層を形成したアモルファスシリコン太陽電池などの薄膜太陽電池は、軽量でかつ柔軟性に優れており、使用性の良い薄膜太陽電池モジュールとしての応用が期待されている。 In recent years, people's awareness of ecology has increased, and expectations for solar cells, which are clean energy, have been increasing, and various types of solar cells have been developed. Among these solar cells, a thin-film solar cell such as an amorphous silicon solar cell in which silicon is deposited on a conductive substrate and a conductive layer is formed thereon is lightweight and excellent in flexibility and has good usability. Application as a thin film solar cell module is expected.
このような太陽電池モジュールとしては、例えば特許文献1には、裏面被覆材、充填材、充填材保持材、太陽電池素子、充填材保持材、充填材、表面被覆材の順に積層し、150℃で熱ラミネートすることにより製造された太陽電池モジュールが開示されている。 As such a solar cell module, for example, in Patent Document 1, a back coating material, a filler, a filler holding material, a solar cell element, a filler holding material, a filler, and a surface coating material are laminated in this order, and 150 ° C. A solar cell module manufactured by heat laminating is disclosed.
特許文献1では、裏面被覆材にはポリカーボネート(PC)などの耐侯性透明樹脂板を使用している。本発明者らが詳細に検討したところ、特許文献1の太陽電池モジュールは、太陽電池特性、特にフィルファクター(FF)が低下するという現象を見出した。また、この現象は、太陽電池素子に薄膜太陽電池素子を用いた場合に顕著であることも見出した。本発明は、このような課題を解決するものである。 In Patent Document 1, a weather-resistant transparent resin plate such as polycarbonate (PC) is used for the back surface covering material. When the present inventors examined in detail, the solar cell module of patent document 1 discovered the phenomenon that a solar cell characteristic, especially a fill factor (FF) fall. It has also been found that this phenomenon is remarkable when a thin film solar cell element is used as the solar cell element. The present invention solves such a problem.
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ね、熱ラミネートと裏面被覆材(樹脂基板)の関係に着目した。そして、太陽電池モジュールを製造する際の熱ラミネートにより樹脂基板が膨張し、その後の冷却によって樹脂基板が収縮する場合があり、この樹脂基板の収縮力が太陽電池素子にダメージを与え、結果として太陽電池としての性能を低下させるという知見を得た。また、太陽電池モジュールを熱ラミネートによって製造する際の熱により太陽電池モジュールを構成する層がそれぞれ膨張および収縮することに起因して、太陽電池モジュールの受光面側にシワが発生し、意匠性を低下させるという知見を得た。
この現象は、外部応力、特に圧縮応力に弱い薄膜太陽電池素子を用いた場合に顕著である。
The inventors of the present invention have made extensive studies to solve the above problems, and have focused on the relationship between the thermal laminate and the back coating material (resin substrate). Then, the resin substrate may expand due to thermal lamination when manufacturing the solar cell module, and the resin substrate may contract due to subsequent cooling, and the contraction force of the resin substrate damages the solar cell element, resulting in the sun. The knowledge that the performance as a battery is reduced was obtained. In addition, wrinkles occur on the light receiving surface side of the solar cell module due to the expansion and contraction of the layers constituting the solar cell module due to the heat at the time of manufacturing the solar cell module by thermal lamination, and the design property is improved. The knowledge that it reduces was obtained.
This phenomenon is remarkable when a thin-film solar cell element that is weak against external stress, particularly compressive stress, is used.
そこで本発明者らは、上記の知見に基づいて鋭意研究を重ね、太陽電池モジュールを製造する際の熱ラミネートを、樹脂基板のガラス転移温度Tgよりも低い温度で行うことにより、太陽電池性能の低下を防ぎ、更に表面保護層側の封止層をゲル化率が50%以上になるように熱ラミネートすることによりシワの発生も抑制できることに想到し、本発明を完成させた。本発明は、
樹脂基板、封止層、薄膜太陽電池素子、封止層、耐侯層をこの順に有する積層体を製造する工程において、前記積層体を熱ラミネートする工程、を含む太陽電池モジュールの製造方法であって、前記ラミネート工程は、前記樹脂基板のガラス転移温度Tgよりも低い温度で耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率が50%以上になるように行うこ
とを特徴とする、太陽電池モジュールの製造方法である。
Therefore, the present inventors have conducted extensive research based on the above findings, and by performing thermal lamination at the time of manufacturing a solar cell module at a temperature lower than the glass transition temperature Tg of the resin substrate, the solar cell performance can be improved. It was conceived that generation of wrinkles could be suppressed by thermally laminating the sealing layer on the surface protective layer side so that the gelation rate was 50% or more, and the present invention was completed. The present invention
In the step of manufacturing a laminate having a resin substrate, a sealing layer, a thin-film solar cell element, a sealing layer, and a weather resistant layer in this order, a method for manufacturing a solar cell module, comprising: thermally laminating the laminate The laminating step is performed at a temperature lower than the glass transition temperature Tg of the resin substrate so that the gelation rate of the sealing layer between the weather resistant layer and the thin film solar cell is 50% or more. A method for manufacturing a solar cell module.
また、前記樹脂基板は、25℃におけるヤング率が500MPa以上であることが好ましく、膜厚が100μm以上であることが好ましい態様である。 In addition, the resin substrate preferably has a Young's modulus at 25 ° C. of 500 MPa or more and a film thickness of 100 μm or more.
また、前記樹脂基板は、ポリカーボネート樹脂、またはアクリル樹脂であることが好ましい態様である。また、前記ラミネート工程は、前記樹脂基板のガラス転移温度Tgよりも5℃以上低い温度で行うことが好ましい態様である。 Moreover, it is preferable that the resin substrate is a polycarbonate resin or an acrylic resin. Moreover, it is a preferable aspect that the laminating step is performed at a temperature lower by 5 ° C. or more than the glass transition temperature Tg of the resin substrate.
また、前記封止層は、130℃で45分保持した場合におけるゲル化率が70%以上のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)であることが好ましい態様である。 Moreover, it is a preferable aspect that the sealing layer is an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) having a gelation rate of 70% or more when held at 130 ° C. for 45 minutes.
また、前記積層体製造工程は、裏面保護層、離型層、樹脂基板、封止層、薄膜太陽電池素子、封止層、耐侯層をこの順に積層することが好ましい態様である。 Moreover, it is a preferable aspect that the said laminated body manufacturing process laminates | stacks a back surface protective layer, a mold release layer, a resin substrate, a sealing layer, a thin film solar cell element, a sealing layer, and a weather resistant layer in this order.
また、本発明の別の態様は、裏面保護層、離型層、樹脂基板、封止層、薄膜太陽電池素子、封止層、耐侯層を含む太陽電池モジュールであり、該太陽電池モジュールにおいて、薄膜太陽電池素子と耐侯層との間の封止層のゲル化率が50%以上であることが好ましい。 Another aspect of the present invention is a solar cell module including a back surface protective layer, a release layer, a resin substrate, a sealing layer, a thin-film solar cell element, a sealing layer, and a weather resistant layer. It is preferable that the gelation rate of the sealing layer between the thin-film solar cell element and the weather resistant layer is 50% or more.
本発明の製造方法により、太陽電池性能、特にフィルファクター(FF)の低下を防止し、太陽電池モジュールの受光面側に発生するシワの発生を抑制した太陽電池モジュールを提供することができる。更には、熱ラミネートによる反りが抑制された太陽電池モジュールを提供することができる。 According to the manufacturing method of the present invention, it is possible to provide a solar cell module that prevents a decrease in solar cell performance, particularly a fill factor (FF), and suppresses generation of wrinkles generated on the light receiving surface side of the solar cell module. Furthermore, it is possible to provide a solar cell module in which warpage due to thermal lamination is suppressed.
本発明の太陽電池モジュールの製造方法は、樹脂基板、封止層、薄膜太陽電池素子、封止層、耐侯層をこの順に有する積層体を製造する工程において前記積層体を熱ラミネートする工程、を含む製造方法である。そして、ラミネート工程が樹脂基板のガラス転移温度(Tg)よりも低い温度で行われること、及び、薄膜太陽電池素子と耐候層との間の封止層のゲル化率が50%以上になるように熱ラミネートを行うことを特徴としている。 The method for producing a solar cell module of the present invention includes a step of thermally laminating the laminate in the step of producing a laminate having a resin substrate, a sealing layer, a thin film solar cell element, a sealing layer, and a weather resistant layer in this order. It is a manufacturing method including. Then, the laminating step is performed at a temperature lower than the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate, and the gelation rate of the sealing layer between the thin-film solar cell element and the weathering layer is 50% or more. It is characterized by heat lamination.
<ラミネート工程>
本発明の製造方法は、熱ラミネートにより太陽電池モジュールを製造する方法である。積層体を製造する工程で製造した積層体を熱ラミネートすることにより太陽電池モジュールを製造する方法が好ましい。熱ラミネートの方法には特段限定がなく、通常用いられるラミネート機を用いて行うことができる。
本発明のラミネート工程は、積層体に含まれる樹脂基板のガラス転移温度Tgよりも低い温度で、耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率が50%以上になるように行う。
樹脂基板のTgを超えた温度でラミネートした場合、樹脂基板は熱膨張する。そのため、熱膨張した状態の樹脂基板と、樹脂基板に積層している封止層や薄膜太陽電池素子がラミネートにより接着することとなる。ラミネートされた積層体はその後常温に冷却されるが、冷却することで膨張した樹脂基板が収縮してしまうものもある。熱膨張した樹脂基板が収縮しようとすると、その収縮しようとする力が積層する薄膜太陽電池素子にも伝わることとなり、薄膜太陽電池素子が変形を起こし、性能の低下、特にフィルファクターの低下につながることを本発明者らは見出した。
<Lamination process>
The production method of the present invention is a method for producing a solar cell module by thermal lamination. A method for producing a solar cell module by thermally laminating the laminate produced in the step of producing a laminate is preferred. There is no particular limitation on the method of thermal lamination, and it can be carried out using a laminating machine that is usually used.
In the laminating step of the present invention, the gelation rate of the sealing layer between the weather resistant layer and the thin-film solar cell is 50% or more at a temperature lower than the glass transition temperature Tg of the resin substrate included in the laminate. Do.
When laminating at a temperature exceeding the Tg of the resin substrate, the resin substrate thermally expands. Therefore, the resin substrate in a thermally expanded state and the sealing layer or thin film solar cell element laminated on the resin substrate are bonded together by lamination. The laminated body is then cooled to room temperature, but some resin substrates that have expanded due to cooling contract. When the thermally expanded resin substrate is contracted, the force to be contracted is also transmitted to the laminated thin film solar cell element, which causes the thin film solar cell element to be deformed, leading to a decrease in performance, particularly a decrease in fill factor. The present inventors have found that.
そして本発明者らは、用いる樹脂基板のガラス転移温度Tgよりも低い温度でラミネート工程を行うことで、樹脂基板の膨張、収縮、変形を抑え、太陽電池素子の性能の低下を防止することができることに想到した。ラミネート温度は、樹脂基板の膨張をより抑制する観点から、樹脂基板のガラス転移温度Tgよりも5℃以上低い温度で行うことが好ましく、10℃以上低い温度で行うことがより好ましく、13℃以上低い温度で行うことさらに好ましく、20℃以上低い温度で行うことが特に好ましい。一方、ラミネート温度の下限値は熱ラミネートが可能な温度であれば特段限定されないが、通常80℃以上であり、110℃以上であることがより好ましい。 The present inventors can suppress the expansion, contraction, and deformation of the resin substrate and prevent the performance of the solar cell element from being deteriorated by performing the laminating process at a temperature lower than the glass transition temperature Tg of the resin substrate to be used. I came up with what I can do. The lamination temperature is preferably 5 ° C. or more lower than the glass transition temperature Tg of the resin substrate, more preferably 10 ° C. or more, more preferably 13 ° C. or more from the viewpoint of further suppressing expansion of the resin substrate. It is more preferable to carry out at a low temperature, and it is particularly preferable to carry out at a temperature lower by 20 ° C. or more. On the other hand, the lower limit of the laminating temperature is not particularly limited as long as it is a temperature at which heat laminating is possible, but is usually 80 ° C. or higher, and more preferably 110 ° C. or higher.
更に、用いる樹脂基板のガラス転移温度Tgよりも低い温度でラミネート工程を行った場合でも、耐候層と薄膜太陽電池素子との間の封止層のゲル化率が50%未満であると、ラミネート工程における熱により積層体を構成する各層が熱膨張及び収縮することで太陽電池モジュールにシワが発生しやすいことを本発明者らは見出した。
そして本発明者らは、耐候層と薄膜太陽電池素子との間の封止層のゲル化率が50%以上になるようにラミネート工程を行うことで太陽電池モジュールのシワの発生を抑制することに想到した。耐候層と薄膜太陽電池素子との間の封止層のゲル化率は、好ましくは55%以上、より好ましくは60%以上、更に好ましくは70%以上、最も好ましくは80%以上である。
本発明の製造方法では、耐候層と薄膜太陽電池素子との間の封止層のゲル化率を上記範囲にすることにより、太陽電池モジュールの受光面側のシワの発生を抑制できる。
熱ラミネート時に太陽電池モジュールに発生するシワは、太陽電池モジュールを構成する各層および層間において生じうるものである。具体的には例えば、耐候層がラミネート後の冷却時に収縮することによるシワ、封止層の膨張・収縮に起因するシワ、隣接する層の熱膨張・収縮の差が大きい場合に隣接する一方または両方の層で発生するシワなどが挙げられる。
封止層は、薄膜太陽電池素子を封止する機能のみならず、本発明の太陽電池モジュールの構成において、樹脂基板と薄膜太陽電池素子との間、および薄膜太陽電池素子と耐侯層との間に位置し、太陽電池モジュールを構成する各層を接着することで、熱ラミネートによる各層の膨張および収縮を抑制する機能を有し、封止層のゲル化率を本発明の範囲にすることで、シワの発生を抑制することができる。シワは特に太陽電池素子の受光面側に発生すると意匠性を悪化させるばかりか、その量が多い場合には透過率が低下して太陽電池モジュールの発電効率を低下させる。本発明によれば、これらの問題を解決することができる。
封止層のゲル化率は、後述する封止材の組成および熱ラミネート条件により調整することができるが、熱ラミネート条件でゲル化率を調整するためには、熱ラミネートの温度を上記の温度範囲において可能な範囲で高くし、ラミネート時間を長くすればよい。なお、ここでいう熱ラミネートの時間は、耐候層と薄膜太陽電池素子との間の封止層が熱ラミネートに供された時間の積算をいう。
Furthermore, even when the laminating step is performed at a temperature lower than the glass transition temperature Tg of the resin substrate to be used, if the gelation rate of the sealing layer between the weather resistant layer and the thin film solar cell element is less than 50%, the laminate The present inventors have found that wrinkles are likely to occur in the solar cell module due to thermal expansion and contraction of each layer constituting the laminate by heat in the process.
And the present inventors suppress generation | occurrence | production of the wrinkle of a solar cell module by performing a lamination process so that the gelatinization rate of the sealing layer between a weather resistance layer and a thin film solar cell element may be 50% or more. I came up with it. The gelation rate of the sealing layer between the weather resistant layer and the thin film solar cell element is preferably 55% or more, more preferably 60% or more, still more preferably 70% or more, and most preferably 80% or more.
In the manufacturing method of this invention, generation | occurrence | production of the wrinkle by the side of the light-receiving surface of a solar cell module can be suppressed by making the gelatinization rate of the sealing layer between a weather resistant layer and a thin film solar cell element into the said range.
The wrinkles generated in the solar cell module at the time of thermal lamination can occur between the layers and layers constituting the solar cell module. Specifically, for example, wrinkles due to shrinkage of the weather-resistant layer upon cooling after lamination, wrinkles due to expansion / contraction of the sealing layer, one adjacent when there is a large difference in thermal expansion / contraction between adjacent layers, or Examples include wrinkles that occur in both layers.
The sealing layer not only functions to seal the thin film solar cell element, but also in the configuration of the solar cell module of the present invention, between the resin substrate and the thin film solar cell element, and between the thin film solar cell element and the weather resistant layer. By adhering each layer constituting the solar cell module, it has a function of suppressing expansion and contraction of each layer due to thermal lamination, and by making the gelation rate of the sealing layer within the scope of the present invention, Generation of wrinkles can be suppressed. In particular, when wrinkles are generated on the light receiving surface side of the solar cell element, not only the design is deteriorated, but when the amount is large, the transmittance is lowered and the power generation efficiency of the solar cell module is lowered. According to the present invention, these problems can be solved.
The gelation rate of the sealing layer can be adjusted by the composition of the sealing material described later and the thermal lamination conditions. In order to adjust the gelation rate under the thermal lamination conditions, the temperature of the thermal lamination is set to the above temperature. What is necessary is just to raise as much as possible in the range, and to lengthen the lamination time. In addition, the time of thermal lamination here means the integration | accumulation of the time when the sealing layer between a weather-resistant layer and a thin film solar cell element was provided to thermal lamination.
本発明のラミネート工程は、用いる樹脂基板のガラス転移温度Tgよりも低い温度でラミネートし、かつ耐候層と薄膜太陽電池素子との間の封止層のゲル化率を上記範囲になるようにする以外は特に限定されないが、ラミネート工程は真空条件で行うことが好ましい。通常真空度が30Pa以上、好ましくは50Pa以上、より好ましくは70Pa以上である。一方上限は、通常150Pa以下、好ましくは120Pa以下、より好ましくは100Pa以下である。上記範囲とすることで、モジュール内の各層において気泡の発生を抑制することができ、生産性も向上するため好ましい。
真空時間としては、通常20秒以上、好ましくは30秒以上、より好ましくは1分以上
である。一方上限は、通常15分以下、好ましくは12分以下、さらに好ましくは10分以下である。真空時間を上記範囲とすることで、熱ラミネート後の太陽電池モジュールの外観が良好となり、またモジュール内の各層において気泡の発生を抑制することができるため好ましい。
In the laminating step of the present invention, laminating is performed at a temperature lower than the glass transition temperature Tg of the resin substrate used, and the gelation rate of the sealing layer between the weather resistant layer and the thin film solar cell element is in the above range. Other than the above, there is no particular limitation, but the laminating step is preferably performed under vacuum conditions. Usually, the degree of vacuum is 30 Pa or more, preferably 50 Pa or more, more preferably 70 Pa or more. On the other hand, the upper limit is usually 150 Pa or less, preferably 120 Pa or less, more preferably 100 Pa or less. By setting it as the said range, since generation | occurrence | production of a bubble can be suppressed in each layer in a module and productivity is also improved, it is preferable.
The vacuum time is usually 20 seconds or longer, preferably 30 seconds or longer, more preferably 1 minute or longer. On the other hand, the upper limit is usually 15 minutes or less, preferably 12 minutes or less, more preferably 10 minutes or less. Setting the vacuum time in the above range is preferable because the appearance of the solar cell module after heat lamination becomes good and the generation of bubbles in each layer in the module can be suppressed.
熱ラミネートの加圧条件は、通常圧力が50kPa以上、好ましくは70kPa以上、より好ましくは90kPa以上である。一方上限値は、通常150kPa以下、好ましくは110kPa以下であることが好ましい。上記範囲の加圧条件とすることで、太陽電池モジュールを損傷することなく、また適度な接着性を得ることができるため、耐久性の観点からも好ましい。
上記圧力の保持時間は、通常1分以上、好ましくは3分以上、より好ましくは5分以上である。一方上限は、通常2時間以下、好ましくは90分以下、より好ましくは60分以下である。上記保持時間とすることで、封止層のゲル化率を適正とすることができるため、封止層の薄膜太陽電池素子を保護する機能を十分に発揮することができ、また十分な接着強度を得ることができる。
The pressurizing condition of the thermal laminate is usually a pressure of 50 kPa or more, preferably 70 kPa or more, more preferably 90 kPa or more. On the other hand, the upper limit is usually 150 kPa or less, preferably 110 kPa or less. By setting it as the pressurization conditions of the said range, since moderate adhesiveness can be acquired, without damaging a solar cell module, it is preferable also from a durable viewpoint.
The holding time of the pressure is usually 1 minute or longer, preferably 3 minutes or longer, more preferably 5 minutes or longer. On the other hand, the upper limit is usually 2 hours or less, preferably 90 minutes or less, more preferably 60 minutes or less. By setting the above holding time, the gelation rate of the sealing layer can be made appropriate, so that the function of protecting the thin film solar cell element of the sealing layer can be sufficiently exhibited, and sufficient adhesive strength Can be obtained.
熱ラミネートの加熱時間は、通常10分以上、好ましくは12分以上、より好ましくは15分以上である。一方上限は2時間以下、好ましくは90分以下、より好ましくは60分以下である。上記加熱時間とすることで、封止層の架橋が適度に行われるため耐久性能が向上し、適度な柔軟性を有することができるため、好ましい。
熱ラミネートの加圧と加熱は、同時に行っても良い。又、加圧後に加圧を保持したまま加熱しても構わない。
The heating time of the thermal laminate is usually 10 minutes or longer, preferably 12 minutes or longer, more preferably 15 minutes or longer. On the other hand, the upper limit is 2 hours or less, preferably 90 minutes or less, more preferably 60 minutes or less. By setting it as the said heating time, since a sealing layer is bridge | crosslinked moderately, durability performance improves and it can have moderate softness | flexibility, and is preferable.
The pressurization and heating of the heat laminate may be performed simultaneously. Further, heating may be performed while maintaining the pressure after pressing.
本発明の太陽電池モジュールの製造方法においては、上記積層体を製造する工程は、樹脂基板、封止層、薄膜太陽電池素子、封止層、耐侯層をこの順に有する積層体、好ましくは、裏面保護層、離型層、樹脂基板、封止層、薄膜太陽電池素子、封止層、耐侯層をこの順に有する積層体を製造できる限りどのような方法により積層体を製造しても良い。その方法は特段限定されず、全ての層を同時に積層しても、段階的に積層してもよい。中でも樹脂基板(好ましい態様においては裏面保護層、離型層および樹脂基板)以外の層を予め積層して予備積層体を製造する工程、具体的には熱ラミネートにより予備積層体である上部モジュールを製造する予備ラミネート工程、を含むことが好ましい。上部モジュールは少なくとも封止層、薄膜太陽電池素子および封止層を含み、好ましくは耐候層、封止層、薄膜太陽電池素子及び封止層を含む。上記予備ラミネート工程により上部モジュールを製造後、該上部モジュールと樹脂基板を積層し、積層体を得ることができる。予備ラミネート工程を含むことにより、樹脂基盤の種類の変更に対して製造工程の管理が容易になる。 In the method for producing a solar cell module of the present invention, the step of producing the laminate is a laminate having a resin substrate, a sealing layer, a thin film solar cell element, a sealing layer, and a weather resistant layer in this order, preferably the back surface. The laminate may be manufactured by any method as long as a laminate having a protective layer, a release layer, a resin substrate, a sealing layer, a thin film solar cell element, a sealing layer, and a weather resistant layer can be manufactured in this order. The method is not particularly limited, and all the layers may be laminated simultaneously or stepwise. Above all, a step of producing a pre-laminated body by previously laminating layers other than a resin substrate (in a preferred embodiment, a back surface protective layer, a release layer and a resin substrate), specifically, an upper module which is a pre-laminated body by thermal lamination It is preferable to include a preliminary laminating step for manufacturing. The upper module includes at least a sealing layer, a thin film solar cell element, and a sealing layer, and preferably includes a weather resistant layer, a sealing layer, a thin film solar cell element, and a sealing layer. After the upper module is manufactured by the preliminary laminating step, the upper module and the resin substrate can be laminated to obtain a laminate. By including the preliminary laminating step, the manufacturing process can be easily managed with respect to the change in the type of the resin substrate.
上記予備ラミネート工程は、樹脂基板を積層していない状態でラミネートするため、温度、圧力、真空時間、ラミネート時間などの諸条件は、一般的なラミネートを行う場合に準じて適宜設定すれば良い。
本発明の方法を採用することで、太陽電池モジュールの性能(特にフィルファクター)を良好にすることができ、更には太陽電池モジュールの受光面のシワの抑制ができるため好ましい。
Since the preliminary laminating step is performed in a state where the resin substrate is not laminated, various conditions such as temperature, pressure, vacuum time, and laminating time may be appropriately set according to general lamination.
By adopting the method of the present invention, it is preferable because the performance (particularly the fill factor) of the solar cell module can be improved and wrinkles on the light receiving surface of the solar cell module can be suppressed.
<樹脂基板>
本発明の積層体製造工程に用いる樹脂基板は、広く汎用されている樹脂を用いることができる。具体的な樹脂の種類としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ナイロン、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フッ素系樹脂等のプラスチックが例示できる。
<Resin substrate>
As the resin substrate used in the laminate manufacturing process of the present invention, a widely used resin can be used. Specific types of resin include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), nylon, polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), polyethylene (PE), polypropylene (PP), acrylic resin, urethane Examples thereof include plastics such as resins and fluororesins.
樹脂基板に用いる樹脂は、ガラス転移温度Tgが150℃以下であることが好ましく、140℃以下であることがより好ましい。また、樹脂のTgが70℃以上であることが好ましく、80℃以上であることが好ましい。Tgが上記範囲にある場合には、太陽電池モジュールのラミネート時に適度な柔軟性を有し、加工性に優れる。なお、ガラス転移点TgはDSC測定により測定する。 The resin used for the resin substrate preferably has a glass transition temperature Tg of 150 ° C. or lower, and more preferably 140 ° C. or lower. Moreover, it is preferable that Tg of resin is 70 degreeC or more, and it is preferable that it is 80 degreeC or more. When Tg is in the above range, the solar cell module has an appropriate flexibility during lamination and excellent workability. The glass transition point Tg is measured by DSC measurement.
また、樹脂基板に用いる樹脂は、通常、重量平均分子量(Mw)が10000以上である。上限は限定されないが、70000以下が好ましく、20000以下であることがより好ましい。本発明における重量平均分子量はSEC(サイズ排除クロマトグラフィー)測定により決定される。SEC測定では高分子量成分ほど溶出時間が短く、低分子量成分ほど溶出時間が長くなるが、分子量既知のポリスチレン(標準試料)の溶出時間から算出した校正曲線を用いて、サンプルの溶出時間を分子量に換算することによって、重量平均分子量が算出される。 The resin used for the resin substrate usually has a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 or more. Although an upper limit is not limited, 70000 or less are preferable and it is more preferable that it is 20000 or less. The weight average molecular weight in the present invention is determined by SEC (size exclusion chromatography) measurement. In SEC measurement, the elution time is shorter for higher molecular weight components and the elution time is longer for lower molecular weight components, but using the calibration curve calculated from the elution time of polystyrene (standard sample) with a known molecular weight, the elution time of the sample is changed to the molecular weight. The weight average molecular weight is calculated by conversion.
加えて、樹脂基板に用いる樹脂は、25℃におけるヤング率が500MPa以上であることが好ましい。本発明においては、樹脂のTg以下の温度でラミネートを行うことで樹脂の膨張を極力防ぐことが可能となり、太陽電池素子の性能低下を防止することができるが、樹脂基板の25℃におけるヤング率が500MPa以上であるような、冷却時に大きな収縮力が発生する樹脂基板を用いた場合には、Tg以上の温度で熱ラミネートした場合の薄膜太陽電池素子の性能低下が著しいため、本発明の効果が特に顕著である。好ましくは、25℃におけるヤング率が2000MPa以上である。一方、樹脂基板のヤング率の上限は特段限定はされないが、通常25℃におけるヤング率が4000MPa以下であり、好ましくは、25℃におけるヤング率が2400MPa以下である。 In addition, the resin used for the resin substrate preferably has a Young's modulus at 25 ° C. of 500 MPa or more. In the present invention, it is possible to prevent the resin from expanding as much as possible by laminating at a temperature equal to or lower than the Tg of the resin, and it is possible to prevent the performance degradation of the solar cell element. When using a resin substrate that generates a large shrinkage force during cooling, such as is less than 500 MPa, the performance of the thin-film solar cell element is significantly deteriorated when thermally laminated at a temperature of Tg or higher. Is particularly prominent. Preferably, the Young's modulus at 25 ° C. is 2000 MPa or more. On the other hand, the upper limit of the Young's modulus of the resin substrate is not particularly limited, but the Young's modulus at 25 ° C. is usually 4000 MPa or less, and preferably the Young's modulus at 25 ° C. is 2400 MPa or less.
さらに、樹脂基板の膜厚は100μm以上であることが好ましく、1000μm以上であることがより好ましい。膜厚が厚い場合にも、膨張した樹脂基板が収縮する力がより強くなり、太陽電池素子の性能低下が表れやすい。そのため、樹脂基板の膜厚が1800μm以上であるような、冷却時に大きな収縮力が発生する樹脂基板を用いた場合に、本発明の効果が顕著である。一方、本発明は薄膜太陽電池であり、通常膜厚の上限は5000μm以下であり、好ましくは3000μm以下である。 Furthermore, the film thickness of the resin substrate is preferably 100 μm or more, and more preferably 1000 μm or more. Even when the film thickness is thick, the force that the expanded resin substrate contracts becomes stronger, and the performance of the solar cell element is likely to deteriorate. Therefore, the effect of the present invention is remarkable when a resin substrate that generates a large shrinkage force during cooling, such as a film thickness of the resin substrate of 1800 μm or more, is used. On the other hand, the present invention is a thin film solar cell, and the upper limit of the film thickness is usually 5000 μm or less, preferably 3000 μm or less.
本発明の製造方法において好ましく用いられる樹脂基板の具体例としては、ポリカーボネート樹脂、またはアクリル樹脂が挙げられる。 Specific examples of the resin substrate preferably used in the production method of the present invention include polycarbonate resin and acrylic resin.
上記ヤング率は、JIS−K7161引張試験に準じて測定した値である。測定にはエーアンドデイ社製シングルコラム型引張圧縮試験機を用いた。 The Young's modulus is a value measured according to a JIS-K7161 tensile test. For the measurement, a single column type tensile compression tester manufactured by A & D was used.
<封止層>
本発明の積層体製造工程に用いる封止層は、薄膜太陽電池素子を封止すること等を目的として、太陽電池モジュールのうち、太陽電池素子を覆うように設けられる。この封止層としては、日射透過率が比較的高い樹脂材料、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、プロピレン・エチレン・α−オレフィン共重合体などのポリオレフィン樹脂、ブチラール樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、合成ゴム等を使用することができ、これらの1種以上の混合体、若しくは共重合体を使用できる。中でも、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)が好ましい。
<Sealing layer>
The sealing layer used for the laminated body manufacturing process of this invention is provided so that a solar cell element may be covered among solar cell modules for the purpose of sealing a thin film solar cell element. As this sealing layer, resin materials having relatively high solar transmittance, such as polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer Polyolefin resin such as coalescence, propylene / ethylene / α-olefin copolymer, butyral resin, styrene resin, epoxy resin, (meth) acrylic resin, urethane resin, silicone resin, synthetic rubber, etc. can be used. One or more mixtures or copolymers can be used. Of these, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) is preferable.
封止層の厚さは、100μm以上であることが好ましく、200μm以上であることがより好ましく、300μm以上であることが更に好ましい。一方、1000μm以下であ
ることが好ましく、800μm以下であることがより好ましく、500μm以下であることが更に好ましい。封止層の厚さを上記範囲とすることで、適度な耐衝撃性を得ることができると共に、コストおよび重量の観点からも好ましく、発電特性も十分に発揮することができる。
The thickness of the sealing layer is preferably 100 μm or more, more preferably 200 μm or more, and further preferably 300 μm or more. On the other hand, it is preferably 1000 μm or less, more preferably 800 μm or less, and even more preferably 500 μm or less. By setting the thickness of the sealing layer within the above range, moderate impact resistance can be obtained, and it is preferable from the viewpoint of cost and weight, and power generation characteristics can be sufficiently exhibited.
封止層としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)を用いることが好ましく、さらに、130℃で45分保持した場合におけるゲル化率が70%以上のEVAを用いることがより好ましい。より好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。又、通常99%以下であり、好ましくは98%以下、より好ましくは96%以下である。
本発明の製造方法では、熱ラミネートが樹脂基板のTgよりも低温で行われることを特徴としている。そのため、比較的低温で熱ラミネートすることとなるが、低温でラミネートする場合には、EVAが十分に架橋されず、封止層としての保護機能を十分に発揮できない場合がある。そのため、130℃で45分保持した場合におけるゲル化率が70%以上のEVAを用いることで、低温のラミネートでもEVAの架橋が十分に進むため好ましい。
また、本発明においては、耐候層と薄膜太陽電池素子との間の封止層のゲル化率が50%以上となるように熱ラミネートするが、封止層のゲル化率を調整するためには、封止層に用いられる樹脂材料に架橋剤、過酸化物、シランカップリング剤などを混合する方法が挙げられる。架橋剤、過酸化物、シランカップリング剤は、樹脂材料のゲル化を促進するものであれば特に限定されず、公知の化合物から適宜選択すればよい。混合する量は限定されないが、通常、混合する架橋剤の量は樹脂材料に対して0.01〜5重量%、過酸化物の量は樹脂材料に対して0.01〜5重量%、シランカップリング剤の量は樹脂材料に対して通常0.01〜5重量%であり、これらの総和が樹脂材料に対して通常0.01〜10重量%の範囲で調整する。
130℃で45分保持した場合におけるゲル化率が70%以上のEVAも同様の方法で製造することができる。
なお、本発明におけるEVAのゲル化率は、EVAを130℃で45分保持した後、60℃のトルエンに4時間浸漬後、ろ過・乾燥して重量を測定し、浸漬前の重量で除した値をいう。
本発明における封止層のゲル比率は、ラミネート工程後の封止層を60℃のトルエンに4時間浸漬後、ろ過・乾燥して重量を測定し、浸漬前の重量で除した値をいう。
As the sealing layer, it is preferable to use an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), and it is more preferable to use EVA having a gelation rate of 70% or more when held at 130 ° C. for 45 minutes. More preferably, it is 80% or more, More preferably, it is 90% or more. Further, it is usually 99% or less, preferably 98% or less, more preferably 96% or less.
The manufacturing method of the present invention is characterized in that the thermal lamination is performed at a temperature lower than the Tg of the resin substrate. Therefore, although heat lamination is performed at a relatively low temperature, when the lamination is performed at a low temperature, EVA is not sufficiently crosslinked, and the protective function as a sealing layer may not be sufficiently exhibited. Therefore, it is preferable to use EVA having a gelation rate of 70% or more when held at 130 ° C. for 45 minutes, because EVA cross-linking proceeds sufficiently even at a low temperature laminate.
In the present invention, the sealing layer between the weathering layer and the thin-film solar cell element is thermally laminated so that the gelation rate of the sealing layer is 50% or more. In order to adjust the gelation rate of the sealing layer, The method of mixing a crosslinking agent, a peroxide, a silane coupling agent, etc. with the resin material used for a sealing layer is mentioned. The crosslinking agent, peroxide, and silane coupling agent are not particularly limited as long as they promote the gelation of the resin material, and may be appropriately selected from known compounds. The amount to be mixed is not limited. Usually, the amount of the crosslinking agent to be mixed is 0.01 to 5% by weight with respect to the resin material, the amount of the peroxide is 0.01 to 5% by weight with respect to the resin material, and silane. The amount of the coupling agent is usually 0.01 to 5% by weight with respect to the resin material, and the sum of these is adjusted in the range of usually 0.01 to 10% by weight with respect to the resin material.
EVA having a gelation rate of 70% or more when held at 130 ° C. for 45 minutes can be produced by the same method.
The gelation rate of EVA in the present invention was determined by holding EVA at 45 ° C for 45 minutes, immersing it in toluene at 60 ° C for 4 hours, filtering and drying, and dividing the weight by the weight before immersion. Value.
The gel ratio of the sealing layer in the present invention refers to a value obtained by immersing the sealing layer after the lamination step in toluene at 60 ° C. for 4 hours, filtering and drying, measuring the weight, and dividing by the weight before the immersion.
<薄膜太陽電池素子>
本発明で用いる薄膜太陽電池素子は、太陽光を電気に変換する発電素子と、発電素子の形状変化を抑制するための発電素子基材から構成されている。その他、必要に応じて、ガスバリア層、波長変換層、UV吸収層を積層してもよい。
<Thin film solar cell element>
The thin film solar cell element used in the present invention is composed of a power generation element that converts sunlight into electricity and a power generation element base material for suppressing a change in shape of the power generation element. In addition, a gas barrier layer, a wavelength conversion layer, and a UV absorption layer may be laminated as necessary.
(発電素子)
上記発電素子は、耐候層側から入射される太陽光に基づき発電を行う素子である。この発電素子は、光エネルギーを電気エネルギーに変換することができ、変換によって得られた電気エネルギーを外部に取り出せるものである。
(Power generation element)
The power generation element is an element that generates power based on sunlight incident from the weathering layer side. This power generation element can convert light energy into electric energy, and can extract the electric energy obtained by the conversion to the outside.
発電素子としては、一対の電極で発電層(光電変換層、光吸収層)を挟んだもの、一対の電極で発電層と他層(バッファ層等)との積層体を挟んだもの、そのようなものを複数個、直列接続したものを用いることができる。
発電層としては様々なものを採用することができるが、アモルファスシリコン、有機半導体材料を用いることで、発電効率が比較的高く、薄い(軽量な)発電素子を実現できる。
As a power generation element, a power generation layer (photoelectric conversion layer, light absorption layer) is sandwiched between a pair of electrodes, a stack of a power generation layer and another layer (buffer layer, etc.) is sandwiched between a pair of electrodes, and so on. A plurality of such things connected in series can be used.
Various power generation layers can be employed, but by using amorphous silicon or an organic semiconductor material, a thin (light) power generation element with relatively high power generation efficiency can be realized.
発電素子をアモルファスシリコン層とした場合、可視域での光学吸収係数が大きく、厚
さ1μm程度の薄膜でも太陽光を十分に吸収できる太陽電池素子を実現できる。しかも、アモルファスシリコンは、非結晶質の材料であるが故に、変形にも耐性を有している。そのため、発電層をアモルファスシリコン層とした場合、特に軽量な、変形に対してもある程度の耐性を有する太陽電池モジュールを実現できる。
When the power generation element is an amorphous silicon layer, a solar cell element that has a large optical absorption coefficient in the visible region and can sufficiently absorb sunlight even with a thin film having a thickness of about 1 μm can be realized. Moreover, since amorphous silicon is an amorphous material, it is resistant to deformation. Therefore, when the power generation layer is an amorphous silicon layer, a particularly lightweight solar cell module having a certain degree of resistance to deformation can be realized.
また、有機半導体層の具体的な構成例としては、p型半導体とn型半導体が層内で相分離した層(i層)を有するバルクヘテロ接合型、それぞれp型半導体を含む層(p層)とn型半導体を含む層(n層)を積層した積層型(ヘテロpn接合型)、ショットキー型およびそれらの組み合わせを挙げることができる。 Further, as a specific configuration example of the organic semiconductor layer, a bulk heterojunction type having a layer (i layer) in which a p-type semiconductor and an n-type semiconductor are phase-separated in the layer, and a layer (p layer) each including a p-type semiconductor. And a layered type (hetero pn junction type) in which layers containing an n-type semiconductor (n layer) are stacked, a Schottky type, and a combination thereof.
発電素子の各電極は、導電性を有する任意の材料を1種又は2種以上用いて形成することができる。電極材料(電極の構成材料)としては、例えば、白金、金、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル、銅、チタン、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ナトリウム等の金属、あるいはそれらの合金;酸化インジウムや酸化錫等の金属酸化物、あるいはその合金(ITO:酸化スズインジウム);ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアセチレン等の導電性高分子;そのような導電性高分子に、塩酸、硫酸、スルホン酸等の酸、FeCl3等のルイス酸、ヨウ素等のハロゲン原子、ナトリウム、カリウム等の金属原子などのドーパントを含有させたもの;金属粒子、カーボンブラック、フラーレン、カーボンナノチューブ等の導電性粒子をポリマーバインダー等のマトリクスに分散した導電性の複合材料などが挙げられる。 Each electrode of the power generation element can be formed using one or more arbitrary materials having conductivity. Examples of the electrode material (electrode constituent material) include metals such as platinum, gold, silver, aluminum, chromium, nickel, copper, titanium, magnesium, calcium, barium, sodium, and alloys thereof; indium oxide and tin oxide Metal oxides such as, or alloys thereof (ITO: indium tin oxide); conductive polymers such as polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polyacetylene; acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, sulfonic acid, A material containing a dopant such as a Lewis acid such as FeCl 3 , a halogen atom such as iodine, or a metal atom such as sodium or potassium; conductive particles such as metal particles, carbon black, fullerene, or carbon nanotubes, and a matrix such as a polymer binder And conductive composite materials dispersed in the material.
電極材料は、正孔又は電子を捕集するのに適した材料としておくことが好ましい。なお、正孔の捕集に適した電極材料(つまり、高い仕事関数を有する材料)としては、金、ITO等を例示できる。また、電子の捕集に適した電極材料(つまり、低い仕事関数を有する材料)としては、銀、アルミニウムを例示できる。 The electrode material is preferably a material suitable for collecting holes or electrons. Examples of the electrode material suitable for collecting holes (that is, a material having a high work function) include gold and ITO. Examples of the electrode material suitable for collecting electrons (that is, a material having a low work function) include silver and aluminum.
発電素子の各電極は、発電層とほぼ同サイズのものであっても、発電層よりも小さなものであっても良い。ただし、発電素子の,受光面側(耐候性層側)の電極を、比較的に大きなもの(その面積が、発電層面積に比して十分に小さくないもの)とする場合には、当該電極を、透明な(透光性を有する)電極、特に、発電層が効率良く電気エネルギーに変換できる波長の光の透過率が比較的に高い(例えば、50%以上)電極、としておくべきである。なお、透明な電極材料としては、ITO、IZO(酸化インジウム−亜鉛酸化物)等の酸化物;金属薄膜などを、例示できる。 Each electrode of the power generation element may be substantially the same size as the power generation layer or may be smaller than the power generation layer. However, if the electrode on the light receiving surface side (weatherproof layer side) of the power generation element is relatively large (the area is not sufficiently small compared to the area of the power generation layer), the electrode Should be a transparent (translucent) electrode, particularly an electrode having a relatively high transmittance (for example, 50% or more) of light having a wavelength that allows the power generation layer to efficiently convert it into electrical energy. . Examples of transparent electrode materials include oxides such as ITO and IZO (indium oxide-zinc oxide); metal thin films, and the like.
発電素子の各電極の厚さ及び発電層の厚さは、必要とされる出力等に基づき、決定することが出来る。
さらに電極に接するように補助電極を設置してもよい。特に、ITOなど導電性のやや低い電極を用いる場合には効果的である。補助電極材料としては、導電性が良好ならば上記金属材料と同じ材料を用いることができるが、銀、アルミニウム、銅が例示される。
The thickness of each electrode of the power generation element and the thickness of the power generation layer can be determined based on the required output and the like.
Further, an auxiliary electrode may be provided so as to be in contact with the electrode. In particular, it is effective when using a slightly conductive electrode such as ITO. As the auxiliary electrode material, the same material as the above metal material can be used as long as the conductivity is good, but silver, aluminum, and copper are exemplified.
(発電素子基材)
薄膜太陽電池素子に用いる発電素子基材は、その一方の面上に、発電素子が形成される部材である。そのため発電素子基材は、機械的強度が比較的に高く、耐候性、耐熱性、耐薬品性等に優れ、且つ軽量なものであることが望まれる。また、発電素子基材は、変形に対して或る程度の耐性を有するものであることも望まれる。そのため、発電素子基材としては、金属箔や、融点が85〜350℃の樹脂フィルム、幾つかの金属箔/樹脂フィルムの積層体を採用することが好ましい。
(Power generation element substrate)
The power generation element substrate used for the thin film solar cell element is a member on which one of the power generation elements is formed. Therefore, the power generating element base material is desired to have a relatively high mechanical strength, excellent weather resistance, heat resistance, chemical resistance, and the like, and lightweight. It is also desirable that the power generating element substrate has a certain degree of resistance against deformation. Therefore, it is preferable to employ a metal foil, a resin film having a melting point of 85 to 350 ° C., and some metal foil / resin film laminates as the power generation element substrate.
発電素子基材(又は、その構成要素)として使用し得る金属箔としては、アルミニウム、ステンレス、金、銀、銅、チタン、ニッケル、鉄、それらの合金からなる箔を、例示できる。また、融点が85〜350℃の樹脂フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアセタール、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ABS樹脂、ACS樹脂、AES樹脂、ASA樹脂、これらの共重合体、PVDF、PVFなどのフッ素樹脂、シリコーン樹脂、セルロース、ニトリル樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、アイオノマー、ポリブタジエン、ポリブチレン、ポリメチルペンテン、ポリビニルアルコール、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホンなどからなるフィルムを、例示できる。なお、発電素子基材として使用する樹脂フィルムは、上記のような樹脂中に、ガラス繊維、有機繊維、炭素繊維等を分散させたフィルムであってもよい。 Examples of the metal foil that can be used as the power generation element substrate (or its constituent elements) include foils made of aluminum, stainless steel, gold, silver, copper, titanium, nickel, iron, and alloys thereof. The resin film having a melting point of 85 to 350 ° C includes polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyacetal, acrylic resin, polyamide resin, ABS resin, ACS resin. , AES resin, ASA resin, copolymers thereof, fluorine resin such as PVDF, PVF, silicone resin, cellulose, nitrile resin, phenol resin, polyurethane, ionomer, polybutadiene, polybutylene, polymethylpentene, polyvinyl alcohol, polyarylate, Examples thereof include films made of polyetheretherketone, polyetherketone, polyethersulfone and the like. The resin film used as the power generation element substrate may be a film in which glass fiber, organic fiber, carbon fiber, or the like is dispersed in the resin as described above.
また、発電素子基材として、前述した封止層よりも薄いものを採用しておくと、太陽電池モジュールを曲げた場合に、封止層に亀裂が生じ易くなることが各種実験結果から判明している。そのため、発電素子基材としては、封止層よりも薄いものを採用しておくべきであり、その厚さが、封止層の厚さの0.83(=“1/1.2”)倍以下となっているものを採用しておくことが好ましく、0.67(=1/1.5)倍以下となっているものを採用しておくことがさらに好ましく、0.5倍以下となっているものを採用しておくことが特に好ましい。 In addition, it has been found from various experimental results that when the solar cell module is bent as the power generation element substrate, cracks are easily generated when the solar cell module is bent. ing. Therefore, the power generation element base material should be thinner than the sealing layer, and its thickness is 0.83 (= “1 / 1.2”) of the thickness of the sealing layer. It is preferable to adopt one that is less than or equal to double, more preferably to adopt one that is 0.67 (= 1 / 1.5) or less, and 0.5 times or less. It is particularly preferable to adopt what has been formed.
<耐侯層>
本発明で用いる耐侯層は、太陽電池モジュールに、機械的強度、耐候性、耐スクラッチ性、耐薬品性、ガスバリア性などを付与するための層である。この耐候層は、発電素子の光吸収を妨げないもの、すなわち、発電素子が効率良く電気エネルギーに変換できる波長の光を透過させるものであることが好ましく、例えば、日射透過率が80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましい。
<Ankle layer>
The weather resistant layer used in the present invention is a layer for imparting mechanical strength, weather resistance, scratch resistance, chemical resistance, gas barrier properties and the like to the solar cell module. This weather-resistant layer is preferably one that does not interfere with light absorption of the power generation element, that is, one that transmits light having a wavelength that allows the power generation element to efficiently convert into electric energy. For example, the solar radiation transmittance is 80% or more. It is preferable that it is 85% or more.
また、太陽電池モジュールは、太陽光により熱せられるものであるため、耐候層は、耐熱性を有することが好ましい。従って、耐候層の構成材料は、融点が、100℃以上であることが好ましく、120℃以上であることがより好ましい。一方融点の上限は320℃以下であることが好ましい。 Moreover, since a solar cell module is heated by sunlight, it is preferable that a weather resistant layer has heat resistance. Therefore, the constituent material of the weather resistant layer preferably has a melting point of 100 ° C. or higher, and more preferably 120 ° C. or higher. On the other hand, the upper limit of the melting point is preferably 320 ° C. or lower.
耐候層の構成材料は、これら特性を考慮して選ぶことができ、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、AS(アクリロニトリル−スチレン)樹脂、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン)樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、フッ素系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ポリアクリル系樹脂、(水添)エポキシ樹脂、各種ナイロン等のポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド−イミド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂などを、耐候層の構成材料とすることが出来る。中でも耐候性の観点から、ETFE(テトラフルオロエチレンとエチレンの共重合体)などのフッ素系樹脂を用いることが好ましい。
耐候層は、2種以上の材料からなるものであっても良い。また、耐候層は、単層であっても、2層以上からなる積層体であっても良い。更に、必要に応じて、積層面にコロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、UV照射、電子線照射、火炎処理などの表面処理を施してもよい。
The material for the weathering layer can be selected in consideration of these characteristics. For example, polyethylene resin, polypropylene resin, cyclic polyolefin resin, AS (acrylonitrile-styrene) resin, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) resin, polychlorinated Vinyl resins, fluorine resins, polyethylene resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, phenol resins, polyacrylic resins, (hydrogenated) epoxy resins, polyamide resins such as various nylons, polyimide resins, polyamide-imide resins, polyurethane resins Cellulose resins, silicone resins, polycarbonate resins, and the like can be used as the constituent material of the weather resistant layer. Among these, from the viewpoint of weather resistance, it is preferable to use a fluorine-based resin such as ETFE (tetrafluoroethylene and ethylene copolymer).
The weather resistant layer may be composed of two or more materials. The weather resistant layer may be a single layer or a laminate composed of two or more layers. Further, if necessary, the laminated surface may be subjected to surface treatment such as corona treatment, plasma treatment, ozone treatment, UV irradiation, electron beam irradiation, or flame treatment.
耐候層の厚みは特に規定されないが、厚みを厚くすることで機械的強度が高まる傾向にあり、薄くすることで柔軟性が高まる傾向にある。そのため、耐候層の厚みは、通常10μm以上、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上であり、また、通常200μm以下、好ましくは180μm以下、より好ましくは150μm以下である。要するに、耐候層としては、耐候性、耐熱性等を有する材料からなる、さまざまな厚みの層を採用することが出来る。 The thickness of the weathering layer is not particularly defined, but the mechanical strength tends to increase by increasing the thickness, and the flexibility tends to increase by decreasing the thickness. Therefore, the thickness of the weather resistant layer is usually 10 μm or more, preferably 15 μm or more, more preferably 20 μm or more, and usually 200 μm or less, preferably 180 μm or less, more preferably 150 μm or less. In short, as the weather resistant layer, various thickness layers made of materials having weather resistance, heat resistance and the like can be adopted.
<離型層>
本発明の製造方法に用いる積層体は、樹脂基板の薄膜太陽電池素子側と反対の面、すなわち樹脂基板の裏面に、離型層および裏面保護層を設けることが好ましい。
本発明で用いられる離型層は、太陽電池モジュールにおける樹脂基板の裏面側に積層し、熱ラミネートにより落下しない程度の接着力で樹脂基板に接着し、施工時には樹脂基板から容易に剥がすことができるものである。したがって、樹脂基板と完全に溶着せず、かつ自重で剥がれない程度の、一定の力で樹脂基板に接着することが必要である。このような離型層を後述する裏面保護層と積層して設けることにより、熱ラミネートによる太陽電池モジュールの反りを抑制できる。また、太陽電池モジュールの製造時から施工時までの間、樹脂基板の裏面に傷がつくことを防止することができる。
<Release layer>
In the laminate used in the production method of the present invention, a release layer and a back surface protective layer are preferably provided on the surface of the resin substrate opposite to the thin film solar cell side, that is, on the back surface of the resin substrate.
The release layer used in the present invention is laminated on the back side of the resin substrate in the solar cell module, adhered to the resin substrate with an adhesive force that does not drop by thermal lamination, and can be easily peeled off from the resin substrate during construction. Is. Therefore, it is necessary to adhere to the resin substrate with a certain force that does not completely weld to the resin substrate and does not peel off due to its own weight. By providing such a release layer by laminating with a back surface protective layer described later, warpage of the solar cell module due to thermal lamination can be suppressed. In addition, it is possible to prevent the back surface of the resin substrate from being damaged from the time of manufacture of the solar cell module to the time of construction.
離型層に用いる樹脂は、樹脂基板との関係では熱ラミネートによって溶解し樹脂基板と一体化せず、適度な接着力で樹脂基板に接着するものであり、後述する裏面保護層との関係では熱ラミネートによって裏面保護層と一体化するものを選択する。このような性質の樹脂は、オレフィン樹脂、アクリル樹脂およびシリコーン樹脂などから適宜選択することができる。
離型層の厚みは特に限定されないが、通常1μm以上、好ましくは3μm以上、より好ましくは5μm以上、更に好ましくは10μm以上であり、通常100μm以下、好ましくは80μm以下、より好ましくは50μm以下である。
The resin used for the release layer is melted by thermal lamination in relation to the resin substrate and is not integrated with the resin substrate, and is bonded to the resin substrate with an appropriate adhesive force. Select one that integrates with the backside protective layer by thermal lamination. The resin having such properties can be appropriately selected from olefin resin, acrylic resin, silicone resin, and the like.
The thickness of the release layer is not particularly limited, but is usually 1 μm or more, preferably 3 μm or more, more preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and usually 100 μm or less, preferably 80 μm or less, more preferably 50 μm or less. .
また、太陽電池モジュールにおける受光側積層部分、すなわち樹脂基板より太陽光側に位置する耐侯層、封止層、薄膜太陽電池素子、及び封止層においてヤング率の高い樹脂が用いられている場合には、離型層に用いる樹脂のヤング率を高くすることが好ましい。このような態様とすることで、製造した太陽電池モジュールの反りを防止することができる。
離型層の適切なヤング率は耐候層、封止層、薄膜太陽電池素子の種類により異なるが、具体的には100MPa以上が好ましく、200MPa以上がより好ましく、400MPa以上が更に好ましい。また、3000MPa以下が好ましく、2000MPa以下がより好ましく、1000MPa以下が更に好ましい。
Moreover, when a resin having a high Young's modulus is used in the light-receiving side laminated portion in the solar cell module, that is, the rust-proof layer, the sealing layer, the thin-film solar cell element, and the sealing layer that are located on the solar side from the resin substrate It is preferable to increase the Young's modulus of the resin used for the release layer. By setting it as such an aspect, the curvature of the manufactured solar cell module can be prevented.
The appropriate Young's modulus of the release layer varies depending on the types of the weathering layer, the sealing layer, and the thin-film solar cell element. Specifically, it is preferably 100 MPa or more, more preferably 200 MPa or more, and still more preferably 400 MPa or more. Moreover, 3000 MPa or less is preferable, 2000 MPa or less is more preferable, and 1000 MPa or less is still more preferable.
離型層と樹脂基板との剥離強度は、自重で剥がれず、施工時に容易に剥がすことができる程度であればよく、具体的には5N/25mm以上、25N/25mm以下であることが好ましく、20N/25mm以下であることがより好ましい。 The peel strength between the release layer and the resin substrate may be such that it does not peel off due to its own weight and can be easily peeled off at the time of construction. Specifically, it is preferably 5N / 25mm or more and 25N / 25mm or less, More preferably, it is 20 N / 25 mm or less.
<裏面保護層>
本発明の裏面保護層は、太陽電池モジュールの樹脂基板の裏面に傷がつくことを防止するものであり、機械的強度、耐スクラッチ性、耐薬品性、ガスバリア性、耐光性などを付与するための層である。
裏面保護層としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、AS(アクリロニトリル−スチレン)樹脂、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン)樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、フッ素系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ポリアクリル系樹脂、(水添)エポキシ樹脂、各種ナイロン等のポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド−イミド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂などを、裏面保護層の構成材料とすることが出来る。また、裏面保護層は、2種以上の材料からなるものであっても良い。
裏面保護層としては、着色した不透明な層であることが好ましい。着色した不透明な層であることにより耐光性が高まり、太陽電池モジュールを設置するまでの保存時の劣化が
少なくなる。
<Back side protective layer>
The back surface protective layer of the present invention prevents scratches on the back surface of the resin substrate of the solar cell module, and imparts mechanical strength, scratch resistance, chemical resistance, gas barrier properties, light resistance, and the like. Of layers.
As the back surface protective layer, polyethylene resin, polypropylene resin, cyclic polyolefin resin, AS (acrylonitrile-styrene) resin, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) resin, polyvinyl chloride resin, fluorine resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc. Polyester resins, phenol resins, polyacrylic resins, (hydrogenated) epoxy resins, polyamide resins such as various nylons, polyimide resins, polyamide-imide resins, polyurethane resins, cellulose resins, silicone resins, polycarbonate resins, etc. It can be used as a constituent material of the back surface protective layer. The back surface protective layer may be made of two or more materials.
The back protective layer is preferably a colored opaque layer. By being a colored opaque layer, the light resistance is improved, and deterioration during storage until the solar cell module is installed is reduced.
裏面保護層の厚みは特に規定されないが、厚みを厚くすることで機械的強度が高まる傾向にあり、薄くすることで柔軟性が高まる傾向にある。そのため、離型層と併せて通常10μm以上、好ましくは20μm以上、より好ましくは30μm以上であり、また、通常1000μm以下、好ましくは500μm以下、より好ましくは100μm以下である。
ただし、先に述べたように、太陽電池モジュールにおける受光側積層部分の膜厚が大きい場合には、表面保護層の厚みも大きくする必要が生じる場合がある。しかしながら、離型層及び裏面保護層は施工時に捨てることから、あまり膜厚を大きくすることはコスト的に好ましくない。
The thickness of the back surface protective layer is not particularly defined, but the mechanical strength tends to increase by increasing the thickness, and the flexibility tends to increase by decreasing the thickness. Therefore, in combination with the release layer, it is usually 10 μm or more, preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, and usually 1000 μm or less, preferably 500 μm or less, more preferably 100 μm or less.
However, as described above, when the film thickness of the light receiving side laminated portion in the solar cell module is large, it may be necessary to increase the thickness of the surface protective layer. However, since the release layer and the back surface protective layer are discarded during construction, it is not preferable in terms of cost to make the film thickness too large.
太陽電池モジュールにおける受光側積層部分においてヤング率の高い樹脂が用いられている場合には、裏面保護層に用いる樹脂のヤング率を高くすることが好ましい。このような態様とすることで、製造した太陽電池モジュールの反りを防止することができる。
裏面保護層の適切なヤング率は耐候層、封止層、薄膜太陽電池素子の種類により異なるが、具体的には100MPa以上が好ましく、200MPa以上がより好ましく、400MPa以上が更に好ましい。また、3000MPa以下が好ましく、2000MPa以下がより好ましく、1000MPa以下が更に好ましい。
なお、裏面保護層に用いる樹脂のヤング率が低い場合であっても、前述の離型層に用いる樹脂にヤング率が高いものを採用すればよい。離型層および裏面保護層の厚みおよび/またはヤング率を適宜調整することにより、反りの程度を調整することができる。
また、裏面保護層に用いる樹脂は、ガラス転移点が熱ラミネート温度以上であることが好ましい。そのような樹脂を用いることで、熱ラミネートにより離型層と適切に一体化することができるためである。
When a resin having a high Young's modulus is used in the light receiving side laminated portion of the solar cell module, it is preferable to increase the Young's modulus of the resin used for the back surface protective layer. By setting it as such an aspect, the curvature of the manufactured solar cell module can be prevented.
The appropriate Young's modulus of the back surface protective layer varies depending on the types of the weathering layer, the sealing layer, and the thin-film solar cell element, but is specifically preferably 100 MPa or more, more preferably 200 MPa or more, and still more preferably 400 MPa or more. Moreover, 3000 MPa or less is preferable, 2000 MPa or less is more preferable, and 1000 MPa or less is still more preferable.
Even when the Young's modulus of the resin used for the back surface protective layer is low, a resin having a high Young's modulus may be adopted as the resin used for the release layer. The degree of warpage can be adjusted by appropriately adjusting the thickness and / or Young's modulus of the release layer and the back surface protective layer.
Moreover, it is preferable that resin used for a back surface protective layer has a glass transition point that is equal to or higher than the thermal lamination temperature. This is because by using such a resin, it can be appropriately integrated with the release layer by thermal lamination.
以下、本発明の太陽電池モジュールについて図面を参照して説明するが、本発明はこのような実施態様のみに限定されるわけではない。 Hereinafter, although the solar cell module of this invention is demonstrated with reference to drawings, this invention is not necessarily limited only to such an embodiment.
図1は、本発明の太陽電池モジュールの一実施態様に係る、概略図である。本発明の太陽電池モジュールは、ポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂などの樹脂基板5上、すなわち樹脂基板5の太陽光1入射光側に、封止層3、薄膜太陽電池素子4、封止層3、及び耐候層2をこの順に積層したものである。
これらの積層体を樹脂基板5のTgよりも低い温度で熱ラミネートすることで、本発明の太陽電池モジュールは製造される。
FIG. 1 is a schematic view according to one embodiment of the solar cell module of the present invention. The solar cell module of the present invention includes a sealing layer 3, a thin-film solar cell element 4, a sealing layer 3, and a resin substrate 5 such as a polycarbonate resin or an acrylic resin, that is, on the sunlight 1 incident light side of the resin substrate 5. The weathering layer 2 is laminated in this order.
The solar cell module of the present invention is manufactured by thermally laminating these laminates at a temperature lower than the Tg of the resin substrate 5.
熱ラミネートの方法は、樹脂基板5のTgよりも低い温度で行う限り、特段限定されないが、樹脂基板5以外の部分(耐侯層2、封止層3、及び薄膜太陽電池素子4、以下上部モジュール部分ともいう)について先に熱ラミネートを行い、その後、樹脂基板5と上部モジュール部分を熱ラミネートする態様も好ましい。このような製造方法を行うことで、太陽電池モジュールの性能(特にフィルファクター)を良好にすることができる。なお、上部モジュール部分のラミネートについては、樹脂基板のTg以下の温度で熱ラミネートする必要はない。 The method of thermal laminating is not particularly limited as long as it is performed at a temperature lower than the Tg of the resin substrate 5, but portions other than the resin substrate 5 (an anti-glare layer 2, a sealing layer 3, and a thin film solar cell element 4, hereinafter the upper module) It is also preferable that the heat lamination is performed first for the part), and then the resin substrate 5 and the upper module part are heat laminated. By performing such a manufacturing method, the performance (particularly the fill factor) of the solar cell module can be improved. In addition, about the lamination | stacking of an upper module part, it is not necessary to thermally laminate at the temperature below Tg of a resin substrate.
また、図2は本発明の好ましい実施態様に係る概略図である。樹脂基板5の入射光側と反対側に、離型層6及び裏面保護層7をこの順に積層した太陽電池モジュールである。このような態様とすることで、離型層6及び裏面保護層7により、樹脂基板5の裏面に傷がつくことを防止できる。また、樹脂基板5を中心として、封止層3、薄膜太陽電池素子4、封止層3、及び耐候層2を含む受光面側積層部分8と、離型層6及び裏面保護層7を含む裏面側積層部分9に分けられるため、熱ラミネート後の冷却による樹脂の収縮の力を調整することができる。そのため、太陽電池モジュールの反りを防ぐことができる。なお、図1乃至2に示されていない層を用途に応じて適宜設けることが可能であることはいうまでもない。 FIG. 2 is a schematic view according to a preferred embodiment of the present invention. In this solar cell module, a release layer 6 and a back surface protective layer 7 are laminated in this order on the side opposite to the incident light side of the resin substrate 5. By setting it as such an aspect, it can prevent that the back surface of the resin substrate 5 is damaged by the release layer 6 and the back surface protective layer 7. Further, with the resin substrate 5 as the center, the light receiving surface side laminated portion 8 including the sealing layer 3, the thin-film solar cell element 4, the sealing layer 3, and the weathering layer 2, the release layer 6 and the back surface protective layer 7 are included. Since it is divided into the back-side laminated portion 9, the shrinkage force of the resin due to cooling after heat lamination can be adjusted. Therefore, the curvature of a solar cell module can be prevented. Needless to say, layers not shown in FIGS. 1 and 2 can be appropriately provided depending on the application.
以下、実施例により本発明の太陽電池モジュールの製造方法について更に詳細に説明するが、本発明は実施例の態様のみに限定されるものではない。
なお、実施例においてフィルファクター(Fill Factor)、ゲル化率、シワの有無、および反りは、以下の方法により評価した。
(Fill Factor)
セリック社製ソーラーシミュレータを用い、太陽電池モジュールのFill Factorを評価した。
(ゲル化率の評価)
ナスフラスコ中にトルエンを所定量入れ、その中に熱ラミネート後の封止層を投入した。
60℃に加熱した温水が入っているウォータバス中に、前記ナスフラスコを浸し、4時間攪拌した。攪拌後、ナスフラスコ中に残留した封止層成分をろ過し、重量を測定した。測定した重量から、処理前後の残留封止層成分の分率を算出し、ゲル化率とした。
(シワの有無の評価)
作製した太陽電池モジュールにおける、発電領域と発電領域外のシワの有無を受光面側から目視観察し、以下の基準で評価を行った。
○:最大のシワの長さが3mm未満あるいはシワが存在しない。
△:最大のシワの長さが3mm以上10mm未満であり、3mm以上10mm未満のシワが3個以上
×:最大のシワの長さが10mm以上であり、10mm以上のシワが3個以上
(反り)
太陽電池モジュールを常温にて耐候層を上として平板に置き、太陽電池モジュールの面の中心と太陽電池モジュールの四辺の高さの差の最大値を測定した。
EXAMPLES Hereinafter, although the Example demonstrates the manufacturing method of the solar cell module of this invention further in detail, this invention is not limited only to the aspect of an Example.
In the examples, the fill factor, gelation rate, presence or absence of wrinkles, and warpage were evaluated by the following methods.
(Fill Factor)
Fill factor of the solar cell module was evaluated using a solar simulator manufactured by Celic.
(Evaluation of gelation rate)
A predetermined amount of toluene was put into an eggplant flask, and a sealing layer after heat lamination was put therein.
The eggplant flask was immersed in a water bath containing warm water heated to 60 ° C. and stirred for 4 hours. After stirring, the sealing layer component remaining in the eggplant flask was filtered and the weight was measured. From the measured weight, the fraction of the residual sealing layer component before and after the treatment was calculated and used as the gelation rate.
(Evaluation of wrinkles)
In the produced solar cell module, the power generation region and the presence or absence of wrinkles outside the power generation region were visually observed from the light receiving surface side, and evaluated according to the following criteria.
○: The maximum wrinkle length is less than 3 mm or no wrinkle exists.
Δ: The maximum wrinkle length is 3 mm or more and less than 10 mm, 3 or more and less than 10 mm wrinkles ×: The maximum wrinkle length is 10 mm or more and 10 mm or more wrinkles (3 or more warps) )
The solar cell module was placed on a flat plate with the weather resistant layer on top at room temperature, and the maximum value of the height difference between the center of the surface of the solar cell module and the four sides of the solar cell module was measured.
<実施例1>
図1に示す太陽電池モジュールを製造した。具体的には、
・耐候層:厚さ50μmのETFEフィルム(50HK−DCS、旭硝子株式会社製)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(FIRST社製F806、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・厚さ50μmの薄膜太陽電池素子(厚さ50μmのPEN(25℃におけるヤング率:1000MPa)を発電素子基板とし、アモルファスシリコン層を堆積させたもの)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(FIRST社製F806、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・封止層:厚さ50μmのETFEフィルム(50HK−DCS、旭硝子株式会社製)
これらを重ね合わせ積層体とし、NPC社製真空ラミネータを使用し、150℃で熱ラミネート(真空度:80Pa、真空時間:5分、加圧:100kPa、加熱保持時間:15分)して上部モジュールを作製した(予備ラミネート工程)。
次に、
・上部モジュール
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(FIRST社製F806、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・樹脂基板:厚さ2mmのポリカーボネート基板(三菱樹脂製、25℃におけるヤング率:2300MPa、Tg:137℃、500mm×500mm、150℃、15分で乾燥済み)
これらを重ね合わせ、NPC社製真空ラミネータを使用し、130℃で再度、熱ラミネート(真空度:80Pa、真空時間:5分、加圧:100kPa、加熱保持時間:15分)
して太陽電池モジュール1を作製した。
<Example 1>
The solar cell module shown in FIG. 1 was manufactured. In particular,
-Weatherproof layer: ETFE film with a thickness of 50 μm (50HK-DCS, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (FIRST F806, 130 ° C. 45 minutes retention gelation rate: 75%)
・ Thin film solar cell element with a thickness of 50 μm (PEN with a thickness of 50 μm (Young's modulus at 25 ° C .: 1000 MPa) is used as a power generation element substrate and an amorphous silicon layer is deposited)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (FIRST F806, 130 ° C. 45 minutes retention gelation rate: 75%)
Sealing layer: ETFE film with a thickness of 50 μm (50HK-DCS, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
These are made into a laminated laminate, and an upper module is manufactured by using an NPC vacuum laminator and thermally laminating at 150 ° C. (vacuum degree: 80 Pa, vacuum time: 5 minutes, pressure: 100 kPa, heating and holding time: 15 minutes). (Preliminary laminating step).
next,
Upper module Sealing layer: 300 μm thick EVA film (FIRST F806, 130 ° C. 45 minutes retention gelation rate: 75%)
Resin substrate: 2 mm thick polycarbonate substrate (Mitsubishi Resin, Young's modulus at 25 ° C .: 2300 MPa, Tg: 137 ° C., 500 mm × 500 mm, 150 ° C., dried in 15 minutes)
These are superposed, and heat lamination is performed again at 130 ° C. using a vacuum laminator manufactured by NPC (degree of vacuum: 80 Pa, vacuum time: 5 minutes, pressure: 100 kPa, heating and holding time: 15 minutes)
Thus, a solar cell module 1 was produced.
<実施例2>
2度目の熱ラミネート条件のうち、保持時間を20分にした以外は実施例1と同様にして、太陽電池モジュール2を製造した。
<Example 2>
A solar cell module 2 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the holding time was 20 minutes in the second thermal lamination condition.
<実施例3>
2度目の熱ラミネート条件のうち、ラミネート温度を135℃にした以外は実施例1と同様にして、太陽電池モジュール3を製造した。
<Example 3>
The solar cell module 3 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the lamination temperature was 135 ° C. among the second thermal lamination conditions.
<実施例4>
2度目の熱ラミネート条件のうち、保持時間を20分にした以外は実施例3と同様にして、太陽電池モジュール4を製造した。
<Example 4>
The solar cell module 4 was manufactured in the same manner as in Example 3 except that the holding time was 20 minutes in the second thermal lamination condition.
<比較例1>
2度目の熱ラミネート条件ののうち、ラミネート温度を150℃、保持時間を10分にした以外は実施例1と同様にして、太陽電池モジュール5を製造した。
太陽電池モジュール1乃至5の耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率、及びフィルファクターを測定した結果、並びにシワの有無、及び反りの評価結果を表1に示す。結果、ラミネート温度が135℃を超えるとフィルファクターが50%を下回り著しく性能が低下する。また、発電領域、及び発電領域外の両方で10mm以上の大きなシワが多数確認された。
<Comparative Example 1>
Solar cell module 5 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the lamination temperature was 150 ° C. and the holding time was 10 minutes among the second thermal lamination conditions.
Table 1 shows the results of measuring the gelation rate and fill factor of the sealing layer between the weather-resistant layer of the solar cell modules 1 to 5 and the thin-film solar cell, and the evaluation results of the presence or absence of wrinkles and warpage. As a result, when the lamination temperature exceeds 135 ° C., the fill factor is less than 50%, and the performance is remarkably deteriorated. Many large wrinkles of 10 mm or more were confirmed both in the power generation area and outside the power generation area.
<実施例5>
図1に示す太陽電池モジュールを製造した。具体的には、
・耐候層:厚さ50μmのETFEフィルム(50HK−DCS、旭硝子株式会社製)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(FIRST社製F806、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・厚さ50μmの薄膜太陽電池素子(厚さ50μmのPEN(25℃におけるヤング率:1000MPa)を発電素子基板とし、アモルファスシリコン層を堆積させたもの)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(FIRST社製F806、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・封止層:厚さ50μmのETFEフィルム(50HK−DCS、旭硝子株式会社製)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(FIRST社製F806、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・樹脂基板:厚さ2mmのポリカーボネート基板(三菱樹脂製、25℃におけるヤング率:2300MPa、Tg:137℃、500mm×500mm、150℃、15分で乾燥済み)
これらを重ね合わせ、NPC社製真空ラミネータを使用し、130℃で熱ラミネート(真空度80Pa、真空時間5分、加圧時間5分、保持10分)して太陽電池モジュール6を作製した。太陽電池モジュール6の耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率、及びフィルファクターを測定した結果、並びにシワの有無、及び反りの評価結果を表1に示す。太陽電池モジュール6を目視したところ、製品としては問題とならない小さなしわが存在した。
<Example 5>
The solar cell module shown in FIG. 1 was manufactured. In particular,
-Weatherproof layer: ETFE film with a thickness of 50 μm (50HK-DCS, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (FIRST F806, 130 ° C. 45 minutes retention gelation rate: 75%)
・ Thin film solar cell element with a thickness of 50 μm (PEN with a thickness of 50 μm (Young's modulus at 25 ° C .: 1000 MPa) is used as a power generation element substrate and an amorphous silicon layer is deposited)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (FIRST F806, 130 ° C. 45 minutes retention gelation rate: 75%)
Sealing layer: ETFE film with a thickness of 50 μm (50HK-DCS, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (FIRST F806, 130 ° C. 45 minutes retention gelation rate: 75%)
Resin substrate: 2 mm thick polycarbonate substrate (Mitsubishi Resin, Young's modulus at 25 ° C .: 2300 MPa, Tg: 137 ° C., 500 mm × 500 mm, 150 ° C., dried in 15 minutes)
The solar cell module 6 was produced by superimposing these and using a vacuum laminator manufactured by NPC, and heat laminating at 130 ° C. (vacuum degree 80 Pa, vacuum time 5 minutes, pressurization time 5 minutes, holding 10 minutes). Table 1 shows the results of measuring the gelation rate and fill factor of the sealing layer between the weather resistant layer of the solar cell module 6 and the thin film solar cell, and the evaluation results of the presence or absence of wrinkles and warpage. When the solar cell module 6 was visually observed, there was a small wrinkle that was not a problem as a product.
<比較例2>
熱ラミネート温度を150℃とした以外は実施例5と同様にして、太陽電池モジュール7を製造した。
太陽電池モジュール7の耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率、及びフィルファクターを測定した結果、並びにシワの有無、及び反りの評価結果を表1に示す。太陽
電池モジュール7を目視したところ10mm以上の大きなしわが多数存在し、製品としての意匠性の問題が生じた。
<Comparative example 2>
A solar cell module 7 was produced in the same manner as in Example 5 except that the heat lamination temperature was 150 ° C.
Table 1 shows the results of measuring the gelation rate and fill factor of the sealing layer between the weather-resistant layer of the solar cell module 7 and the thin film solar cell, and the evaluation results of the presence or absence of wrinkles and warpage. When the solar cell module 7 was observed, many large wrinkles of 10 mm or more existed, and the problem of the design property as a product arose.
<実施例6>
図1に示す太陽電池モジュールを製造した。具体的には、
・耐候層:厚さ50μmのETFEフィルム(50HK−DCS、旭硝子株式会社製)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(シーアイ化成社製FHCE、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・厚さ50μmの薄膜太陽電池素子(厚さ50μmのPEN(25℃におけるヤング率:1000MPa)を発電素子基板とし、アモルファスシリコン層を堆積させたもの)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(シーアイ化成社製FHCE、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・樹脂基板:厚さ2mmのポリカーボネート基板(三菱樹脂製、25℃におけるヤング率:2300MPa、Tg:137℃、500mm×500mm、150℃、15分で乾燥済み)
これらを重ね合わせ、NPC社製真空ラミネータを使用し、130℃で熱ラミネート(真空度80Pa、真空時間5分、加圧時間5分、保持10分)して太陽電池モジュール8を作製した。このときの耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率は58%であった。
太陽電池モジュール8を目視したところ、製品としては問題とならない小さなしわが存在した。このときのFill Factorは、66%であった。太陽電池モジュール8の耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率、及びフィルファクターを測定した結果、並びにシワの有無、及び反りの評価結果を表1に示す。
<Example 6>
The solar cell module shown in FIG. 1 was manufactured. In particular,
-Weatherproof layer: ETFE film with a thickness of 50 μm (50HK-DCS, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (FHCE manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 130 ° C. for 45 minutes, gelation rate: 75%)
・ Thin film solar cell element with a thickness of 50 μm (PEN with a thickness of 50 μm (Young's modulus at 25 ° C .: 1000 MPa) is used as a power generation element substrate and an amorphous silicon layer is deposited)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (FHCE manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 130 ° C. for 45 minutes, gelation rate: 75%)
Resin substrate: 2 mm thick polycarbonate substrate (Mitsubishi Resin, Young's modulus at 25 ° C .: 2300 MPa, Tg: 137 ° C., 500 mm × 500 mm, 150 ° C., dried in 15 minutes)
The solar cell module 8 was produced by superimposing these and using a vacuum laminator manufactured by NPC, and heat laminating at 130 ° C. (vacuum degree 80 Pa, vacuum time 5 minutes, pressurization time 5 minutes, holding 10 minutes). The gelation rate of the sealing layer between the weather resistant layer and the thin film solar cell at this time was 58%.
When the solar cell module 8 was visually observed, there was a small wrinkle that was not a problem as a product. The fill factor at this time was 66%. Table 1 shows the results of measuring the gelation rate and fill factor of the sealing layer between the weather-resistant layer of the solar cell module 8 and the thin-film solar cell, the presence or absence of wrinkles, and the evaluation results of warpage.
<実施例7>
図2に示す太陽電池モジュールを製造した。
具体的には、まず、
・樹脂基板:厚さ2mmのポリカーボネート基板(三菱樹脂製、25℃におけるヤング率:2300MPa、Tg:137℃、500mm×500mm、150℃、15分で乾燥済み)に厚み5μmの離型層(シリコーン系樹脂)及び厚さ50μmの裏面保護層(PET)を積層した。
次に、以下の層
・耐候層:厚さ50μmのETFEフィルム(50HK−DCS、旭硝子株式会社製)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(シーアイ化成社製低温架橋EVA、130℃45分保持ゲル化率:90%)
・厚さ50μmの薄膜太陽電池素子(厚さ50μmのPEN(25℃におけるヤング率:1000MPa)を発電素子基板とし、アモルファスシリコン層を堆積させたもの)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(シーアイ化成社製低温架橋EVA、130℃45分保持ゲル化率:90%)
・上記の、離型材及び離型フィルムを積層した厚さ2mmのポリカーボネート基板(離型フィルムを積層した面とは反対側の面に太陽電池を積層する)
これらを重ね合わせ、NPC社製真空ラミネータを使用し、125℃で熱ラミネート(真空度80Pa、真空時間5分、加圧時間5分、保持25分)して太陽電池モジュール9を作製した。このときの耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率は77%であった。
太陽電池モジュール9を目視したところ、製品としては問題とならない小さなしわが存在した。このときのFill Factorは、66%であった。
さらに、太陽電池モジュール9は反りがなく、極めて平面性が高く、また離型フィルムによりモジュールの裏面を保護しているため、外観上も傷がないモジュールが得られた。太陽電池モジュール9の耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率、及びフィルフ
ァクターを測定した結果、並びにシワの有無、及び反りの評価結果を表1に示す。
厚い樹脂基板(ポリカーボネート)に対して発電部分と保護フィルム部分とを異なる面に配することで、熱ラミネート工程においても容易にモジュールの平面性を維持することができる。
<Example 7>
The solar cell module shown in FIG. 2 was manufactured.
Specifically, first,
Resin substrate: 2 mm thick polycarbonate substrate (Mitsubishi Resin, Young's modulus at 25 ° C .: 2300 MPa, Tg: 137 ° C., 500 mm × 500 mm, 150 ° C., dried in 15 minutes) 5 μm thick release layer (silicone System resin) and a back surface protective layer (PET) having a thickness of 50 μm.
Next, the following layers and weathering layers: ETFE film having a thickness of 50 μm (50HK-DCS, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (low-temperature crosslinked EVA manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 130 ° C. and 45 minutes retention gelation rate: 90%)
・ Thin film solar cell element with a thickness of 50 μm (PEN with a thickness of 50 μm (Young's modulus at 25 ° C .: 1000 MPa) is used as a power generation element substrate and an amorphous silicon layer is deposited)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (low-temperature crosslinked EVA manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 130 ° C. and 45 minutes retention gelation rate: 90%)
・ A polycarbonate substrate having a thickness of 2 mm on which the release material and release film are laminated (a solar cell is laminated on the surface opposite to the surface on which the release film is laminated).
The solar cell module 9 was fabricated by superimposing these and using a vacuum laminator manufactured by NPC and thermally laminating at 125 ° C. (vacuum degree 80 Pa, vacuum time 5 minutes, pressurization time 5 minutes, holding 25 minutes). The gelation rate of the sealing layer between the weather resistant layer and the thin film solar cell at this time was 77%.
When the solar cell module 9 was visually observed, there was a small wrinkle that was not a problem as a product. The fill factor at this time was 66%.
Furthermore, the solar cell module 9 has no warpage, has extremely high flatness, and the back surface of the module is protected by a release film, so that a module that is not damaged in appearance is obtained. Table 1 shows the results of measuring the gelation rate and fill factor of the sealing layer between the weather-resistant layer of the solar cell module 9 and the thin-film solar cell, and the evaluation results of wrinkles and warpage.
By arranging the power generation portion and the protective film portion on different surfaces with respect to the thick resin substrate (polycarbonate), the flatness of the module can be easily maintained even in the heat laminating process.
<比較例3>
図1に示す太陽電池モジュールを製造した。具体的には、
・耐候層:厚さ50μmのETFEフィルム(50HK−DCS、旭硝子株式会社製)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(シーアイ化成社製FHCE、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・厚さ50μmの薄膜太陽電池素子(厚さ50μmのPEN(25℃におけるヤング率:1000MPa)を発電素子基板とし、アモルファスシリコン層を堆積させたもの)
・封止層:厚さ300μmのEVAフィルム(シーアイ化成社製FHCE、130℃45分保持ゲル化率:75%)
・樹脂基板:厚さ2mmのポリカーボネート基板(三菱樹脂製、25℃におけるヤング率:2300MPa、Tg:137℃、500mm×500mm、150℃、15分で乾燥済み)
これらを重ね合わせ、NPC社製真空ラミネータを使用し、130℃で熱ラミネート(真空度80Pa、真空時間5分、加圧時間5分)して太陽電池モジュール10を作製した。このときの耐候層と薄膜太陽電池との間の止層のゲル化率は45%であった。
太陽電池モジュール10を目視したところ大きなしわが多数存在し、製品としての意匠性の問題が生じた。これは、加熱時間(加圧時間及び真空時間)が短いため、ラミネート時に封止層が発電素子基板界面に馴染むことができず、架橋してしまうため、界面には局所的な空間(気泡)が残り易く、加熱時間が短いことで、封止層に隣接する層(ETFEや発電素子)が十分に暖められずに、封止層と隣接する層との熱膨張に差が生じ、剥離の原因となっている。また、ゲル分率が低いと、−40℃〜85℃のような寒暖差のある環境下に長期間さらされる状況下において封止層の膨張と収縮が激しいため、封止層の収縮応力によってセルにダメージが生じる。
太陽電池モジュール10の耐候層と薄膜太陽電池との間の封止層のゲル化率、及びフィルファクターを測定した結果、並びにシワの有無、及び反りの評価結果を表1に示す。
<Comparative Example 3>
The solar cell module shown in FIG. 1 was manufactured. In particular,
-Weatherproof layer: ETFE film with a thickness of 50 μm (50HK-DCS, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (FHCE manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 130 ° C. for 45 minutes, gelation rate: 75%)
・ Thin film solar cell element with a thickness of 50 μm (PEN with a thickness of 50 μm (Young's modulus at 25 ° C .: 1000 MPa) is used as a power generation element substrate and an amorphous silicon layer is deposited)
Sealing layer: EVA film having a thickness of 300 μm (FHCE manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 130 ° C. for 45 minutes, gelation rate: 75%)
Resin substrate: 2 mm thick polycarbonate substrate (Mitsubishi Resin, Young's modulus at 25 ° C .: 2300 MPa, Tg: 137 ° C., 500 mm × 500 mm, 150 ° C., dried in 15 minutes)
The solar cell module 10 was produced by superimposing them and using a vacuum laminator manufactured by NPC, and heat laminating at 130 ° C. (vacuum degree 80 Pa, vacuum time 5 minutes, pressurization time 5 minutes). The gelation rate of the stop layer between the weather resistant layer and the thin film solar cell at this time was 45%.
When the solar cell module 10 was visually observed, a large number of large wrinkles existed, resulting in a problem of design as a product. This is because the heating time (pressurization time and vacuum time) is short, and the sealing layer cannot be adapted to the power generation device substrate interface at the time of lamination and crosslinks. Since the heating time is short and the layer adjacent to the sealing layer (ETFE or power generation element) is not sufficiently heated, a difference in thermal expansion occurs between the sealing layer and the adjacent layer. It is the cause. In addition, when the gel fraction is low, the expansion and contraction of the sealing layer is severe under the condition of being exposed to an environment with a temperature difference of −40 ° C. to 85 ° C. for a long time. Damage to the cell.
Table 1 shows the results of measuring the gelation rate and fill factor of the sealing layer between the weather-resistant layer of the solar cell module 10 and the thin-film solar cell, the presence or absence of wrinkles, and the evaluation results of warpage.
1 太陽光
2 耐候層
3 封止材
4 薄膜太陽電池素子
5 樹脂基板
6 離型層
7 裏面保護層
8 受光面側積層部
9 裏面側積層部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sunlight 2 Weatherproof layer 3 Sealing material 4 Thin film solar cell element 5 Resin substrate 6 Release layer 7 Back surface protective layer 8 Light-receiving surface side laminated part 9 Back surface side laminated part
Claims (11)
前記ラミネート工程は、前記樹脂基板のガラス転移温度(Tg)よりも低い温度で、耐候層と薄膜太陽電池素子との間の封止層のゲル化率が50%以上になるように行うことを特徴とする、太陽電池モジュールの製造方法。 In the process of manufacturing a laminate having a resin substrate, a sealing layer, a thin-film solar cell element, a sealing layer, and a weather resistant layer in this order, a laminate process for thermally laminating the laminate is a method for manufacturing a solar cell module. And
The laminating step is performed at a temperature lower than the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate so that the gelation rate of the sealing layer between the weather resistant layer and the thin film solar cell element is 50% or more. A method for producing a solar cell module, which is characterized.
れか1項に記載の太陽電池モジュールの製造方法。 The said resin substrate is a manufacturing method of the solar cell module of any one of Claims 1-7 whose glass transition temperature (Tg) is 150 degrees C or less.
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