JP5956197B2 - Film for laminating transparent conductive film, method for producing the same, and transparent conductive film - Google Patents
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Description
本発明は、透明導電膜積層用フィルム、その製造方法、及び透明導電性フィルムに関する。さらに詳しくは、透過率が高く、透明導電膜のパターン形状が目立つことがなく、タッチパネル、特に静電容量方式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムを与える、透明導電膜積層用フィルム及びその効果的な製造方法に関するものである。 The present invention relates to a transparent conductive film laminating film, a method for producing the same, and a transparent conductive film. More specifically, the transparent conductive film laminating film that has high transmittance and does not stand out the pattern shape of the transparent conductive film, and gives a transparent conductive film used for a touch panel, particularly a capacitive touch panel, and its effective It relates to a manufacturing method.
画像表示部に直接触れることにより情報を入力できるタッチパネルは、光を透過する入力装置を各種ディスプレイ上に配置しているものであり、代表的な形式としては、透明電極基板２枚を透明電極層が向かい合うように隙間を設けて配置された抵抗膜式タッチパネルや、透明電極膜と指の間に生じる静電容量の変化を利用した静電容量式タイプが挙げられる。
上記のようなタッチパネルの透明導電膜には酸化錫をドープしたインジウム酸化物（ＩＴＯ）等が用いられ、これらがガラス基材やプラスチック基材等の透明基材上に積層された透明導電基板を有する。
A touch panel that can input information by directly touching an image display unit has an input device that transmits light arranged on various displays. As a typical form, two transparent electrode substrates are formed as a transparent electrode layer. There are a resistive touch panel arranged with a gap so as to face each other, and a capacitive type using a change in capacitance generated between the transparent electrode film and the finger.
As the transparent conductive film of the touch panel as described above, indium oxide doped with tin oxide (ITO) or the like is used, and a transparent conductive substrate in which these are laminated on a transparent substrate such as a glass substrate or a plastic substrate is used. Have.
透明導電膜としてＩＴＯ等の金属酸化物が積層された透明導電基板においては、可視光の短波長領域で透過率が低下するため黄味が強くなることが多い。この問題を解決するために透明基板と透明導電膜の間に屈折率の異なる光学積層体を設ける方法が提案されている（特許文献１）。これは透明基材の全面に透明導電膜が積層される抵抗膜式タッチパネルで有効な手法となる。
一方、静電容量式タッチパネルにおいては、指のタッチ位置を検知するために、ライン状にパターン化された透明導電膜を備えた透明導電性フィルム２枚が互いにクロスするように配置され、格子状のパターンが形成されている。このようにして得られる静電容量式タッチパネルは透明導電膜が有る場所と無い場所が存在し、透明導電膜の有無で反射率や透過率が異なるため、２枚の透明導電性フィルムにより形成される透明導電膜の格子状パターンが認識されてしまい、結果としてディスプレイとしての視認性を低下させてしまうという問題がある。すなわち、抵抗膜式タッチパネルでは全面に透明導電膜が積層されているため、全体として違和感の生じないレベルの着色の防止が図られていれば十分であった。これに対して、静電容量式タッチパネルでは透明導電膜そのものが認識されないレベルにするために、反射率及び透過率を透明導電膜のない部分と差のないものとする必要がある。前述の特許文献１の透明導電基板では透明導電膜により形成される格子状パターンを認識し難くするためには不十分である。
In a transparent conductive substrate in which a metal oxide such as ITO is laminated as a transparent conductive film, the yellowing is often strong because the transmittance decreases in the short wavelength region of visible light. In order to solve this problem, a method of providing an optical laminate having a different refractive index between a transparent substrate and a transparent conductive film has been proposed (Patent Document 1). This is an effective technique for a resistive film type touch panel in which a transparent conductive film is laminated on the entire surface of a transparent substrate.
On the other hand, in a capacitive touch panel, in order to detect the touch position of a finger, two transparent conductive films each having a transparent conductive film patterned in a line are arranged so as to cross each other, and are in a lattice shape. Pattern is formed. The capacitive touch panel thus obtained has a place where there is a transparent conductive film and a place where there is no transparent conductive film, and the reflectance and transmittance differ depending on the presence or absence of the transparent conductive film. There is a problem that the lattice pattern of the transparent conductive film is recognized, and as a result, the visibility as a display is lowered. That is, since the transparent conductive film is laminated on the entire surface of the resistive touch panel, it is sufficient to prevent coloring at a level that does not cause a sense of discomfort as a whole. On the other hand, in order to make the transparent conductive film itself unrecognizable in the capacitive touch panel, it is necessary that the reflectance and the transmittance are not different from those of the portion without the transparent conductive film. The above-described transparent conductive substrate of Patent Document 1 is insufficient to make it difficult to recognize the lattice pattern formed by the transparent conductive film.
前述したように、静電容量式タッチパネルにおいて、透明導電性フィルムにより形成される格子状パターンが認識されると、タッチパネルディスプレイの視認性が低下するなど、好ましくない事態を招来する。
本発明は、このような状況下になされたものであり、透過率が高く、透明導電膜の積層部分が目立つことがなく、タッチパネル、特に静電容量方式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルム、該透明導電性フィルムを与える透明導電膜積層用フィルム及びその効果的な製造方法を提供することを目的とするものである。
As described above, in a capacitive touch panel, when a lattice pattern formed by a transparent conductive film is recognized, an unfavorable situation such as a decrease in the visibility of the touch panel display is caused.
The present invention has been made under such circumstances, has a high transmittance, and the laminated portion of the transparent conductive film does not stand out, and the transparent conductive film used for a touch panel, particularly a capacitive touch panel, It aims at providing the film for transparent conductive film lamination which gives a transparent conductive film, and its effective manufacturing method.
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記の知見を得た。
透明基材の少なくとも片面に、低屈折率層、及び前記低屈折率層より、屈折率差がある値以上高い高屈折率層がこの順で積層されてなる透明導電膜積層用フィルムが、その目的に適合し得ること、そして当該透明導電膜積層用フィルムは、特定の工程を施すことにより、効果的に製造し得ること、さらに当該透明導電膜積層用フィルムにおける高屈折率層上に、透明導電膜を積層することにより、該透明導電膜の積層部分が目立つことがなく、タッチパネル、特に静電容量方式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムが得られることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have obtained the following knowledge.
A transparent conductive film laminating film in which a low refractive index layer and a high refractive index layer higher than a value having a refractive index difference from the low refractive index layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent substrate, The film for laminating the transparent conductive film can be effectively manufactured by applying a specific process, and can be transparent on the high refractive index layer in the film for laminating the transparent conductive film. It has been found that by laminating the conductive film, the laminated portion of the transparent conductive film does not stand out, and a transparent conductive film used for a touch panel, particularly a capacitive touch panel can be obtained.
The present invention has been completed based on such findings.
すなわち、本発明は、
［１］透明基材の少なくとも片面に、（Ａ）低屈折率層、前記（Ａ）低屈折率層より屈折率差が０.２以上高い（Ｂ）高屈折率層がこの順に積層されてなり、
前記（Ａ）低屈折率層が活性エネルギー線硬化型化合物の硬化物であり、
前記（Ｂ）高屈折率層が活性エネルギー線硬化型化合物の硬化物であり、
前記（Ａ）低屈折率層の膜厚が１０ｎｍ以上１５０ｎｍ未満であることを特徴とする、透明導電膜積層用フィルム、
［２］（Ａ）低屈折率層の屈折率が１.３０以上１.６０未満、及び（Ｂ）高屈折率層の屈折率が１.６０以上２.００未満、膜厚が３０ｎｍ以上１３０ｎｍ未満である、上記[１]項に記載の透明導電膜積層用フィルム、
［３］上記[１]又は[２]項に記載の透明導電膜積層用フィルムにおける（Ｂ）高屈折率層上に、（Ｃ）透明導電膜が積層されてなる透明導電性フィルム、及び
［４］（ａ）透明基材の少なくとも片面に、低屈折率層用コート剤を塗布、乾燥後、活性エネルギー線を照射して硬化させ、（Ａ）低屈折率層を形成させる工程、（ｂ）前記（ａ）工程で形成された（Ａ）低屈折率層上に、高屈折率層用コート剤を塗布、乾燥後、活性エネルギー線を照射して硬化させ、（Ｂ）高屈折率層を形成させる工程、を有することを特徴とする、上記[１]又は[２]項に記載の透明導電膜積層用フィルムの製造方法、
を提供するものである。
That is, the present invention
[1] On at least one surface of the transparent substrate, (A) a low refractive index layer, (B) a high refractive index layer having a refractive index difference higher than that of the (A) low refractive index layer by 0.2 or more are laminated in this order. Do Ri,
The (A) low refractive index layer is a cured product of an active energy ray-curable compound,
The (B) high refractive index layer is a cured product of an active energy ray-curable compound,
(A) the thickness of the low refractive index layer and wherein the 150nm less der Rukoto than 10 nm, the transparent conductive film laminated films,
[2] (A) The refractive index of the low refractive index layer is 1.30 or more and less than 1.60 , and (B) The refractive index of the high refractive index layer is 1.60 or more and less than 2.00, and the film thickness is 30 nm or more and 130 nm. The film for laminating a transparent conductive film according to the above [1], which is less than
[3] A transparent conductive film obtained by laminating a transparent conductive film (C) on a high refractive index layer (B) in the transparent conductive film laminating film according to [1] or [2], and [ 4] (a) A step of applying a coating agent for a low refractive index layer on at least one surface of a transparent substrate, drying and then irradiating and curing an active energy ray, and (A) forming a low refractive index layer, (b) ) A coating agent for a high refractive index layer is applied on the low refractive index layer (A) formed in the step (a), dried, and then cured by irradiation with active energy rays, and (B) a high refractive index layer. A method for producing a film for laminating a transparent conductive film according to the above item [1] or [2], characterized by comprising:
Is to provide.
本発明によれば、透過率が高く、透明導電膜の積層部分が目立つことがなく、タッチパネル、特に静電容量方式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルム、該透明導電性フィルムを与える透明導電膜積層用フィルム及びその効果的な製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the transmittance | permeability is high and the lamination | stacking part of a transparent conductive film does not stand out, the transparent conductive film used for a touch panel, especially a capacitive touch panel, and the transparent conductive film lamination which provides this transparent conductive film Film and its effective manufacturing method can be provided.
まず、本発明の透明導電膜積層用フィルムについて説明する。
［透明導電膜積層用フィルム］
本発明の透明導電膜積層用フィルムは、透明基材の少なくとも片面に、（Ａ）低屈折率層、前記（Ａ）低屈折率層より、屈折率差が０.２以上高い（Ｂ）高屈折率層がこの順に積層されてなることを特徴とする。
First, the transparent conductive film laminating film of the present invention will be described.
[Transparent conductive film lamination film]
The transparent conductive film laminating film of the present invention has a refractive index difference of 0.2 or more higher than (A) the low refractive index layer and the (A) low refractive index layer on at least one side of the transparent substrate. The refractive index layer is laminated in this order.
（透明基材）
当該透明導電膜積層用フィルムにおいて用いられる透明基材としては、透明プラスチックフィルムが好ましい。この透明プラスチックフィルムとしては、特に制限はなく、従来の光学用基材として公知のプラスチックフィルムの中から透明性を有するものを適宜選択して用いることができる。このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等のプラスチックフィルムを好ましく挙げることができる。
これらの中でも、耐熱性の観点から、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等であることがさらに好ましく、フィルムが工程途中で裂けるといったようなハンドリング性をも考慮するとポリエステルフィルムであることが特に好ましい。
(Transparent substrate)
As a transparent base material used in the said transparent conductive film lamination film, a transparent plastic film is preferable. There is no restriction | limiting in particular as this transparent plastic film, The thing which has transparency from the well-known plastic film as a conventional optical base material can be selected suitably, and can be used. Examples of such plastic films include polyester films such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene films, polypropylene films, cellophane, diacetyl cellulose films, triacetyl cellulose films, and acetyl cellulose. Butyrate film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyether ether ketone film, polyether sulfone Film, polyetherimide film, polyimide film, Fluororesin film, a polyamide film, an acrylic resin film, norbornene resin film, can be exemplified preferably a plastic film such as a cycloolefin resin film.
Among these, from the viewpoint of heat resistance, a polyester film, a polycarbonate film, a polyimide film, a norbornene-based resin film, a cycloolefin resin film, and the like are more preferable, and handling properties such as film tearing during the process are also considered. In this case, a polyester film is particularly preferable.
これらの透明基材の厚さは特に制限はなく、状況に応じて適宜選定されるが、通常１５〜３００μｍ、好ましくは３０〜２５０μｍの範囲である。また、この透明基材は、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。また、プライマー処理を施すこともできる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが用いられ、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが用いられる。これらの表面処理法は透明基材の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。 The thickness of these transparent substrates is not particularly limited and is appropriately selected depending on the situation, but is usually in the range of 15 to 300 μm, preferably 30 to 250 μm. Moreover, this transparent base material can be surface-treated by an oxidation method, an uneven | corrugated method, etc. on one side or both surfaces as needed for the purpose of improving the adhesiveness with the layer provided in the surface. Moreover, primer treatment can also be performed. As the oxidation method, for example, corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, etc. are used, and as the unevenness method, for example, sand blast method, solvent treatment method, etc. are used. It is done. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of the transparent substrate, but in general, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability.
（（Ａ）低屈折率層）
当該透明導電膜積層用フィルムにおいて、（Ａ）層として用いられる低屈折率層は、低屈折率層を形成する材料については特に限定されず、例えば活性エネルギー線硬化型化合物を活性エネルギー線で硬化させた硬化物により形成される。また、屈折率を調整するために、活性エネルギー線硬化型化合物にシリカゾルや多孔質シリカ微粒子、中空シリカ微粒子などを混合させた硬化物により形成してもよい。低屈折率層の屈折率は１.３０以上１.６０未満であることが好ましい。該屈折率が１.３０未満の場合、使用できる材料等が限られるため基材密着性や透明性等の他の特性が悪化する場合がある。一方、屈折率が１.６０を超える場合、後述の高屈折率層との屈折率差が小さくなり透明導電膜の積層部分を目立たなくさせるという効果を十分に発揮できない場合がある。このような観点から、低屈折率層の屈折率は、１.３５〜１.５５がより好ましく、１.３８〜１.５０が特に好ましい。
また、低屈折率層の膜厚は１０ｎｍ以上１５０ｎｍ未満であることが好ましい。該膜厚が１０ｎｍ未満の場合、表面の平滑性が悪化して本発明の効果を得られない場合がある。一方、該膜厚が１５０ｎｍ以上の場合、透明導電膜の積層部分が目立たなくする効果を得ることができない場合がある。このような観点から、低屈折率層の膜厚は、１５〜１３０ｎｍであることがより好ましく、１７〜１１５ｎｍであることが特に好ましい。
((A) Low refractive index layer)
In the transparent conductive film laminating film, the low refractive index layer used as the layer (A) is not particularly limited as to the material forming the low refractive index layer. For example, an active energy ray-curable compound is cured with active energy rays. Formed by the cured product. Moreover, in order to adjust a refractive index, you may form with the hardened | cured material which mixed silica sol, porous silica microparticles | fine-particles, hollow silica microparticles | fine-particles, etc. in the active energy ray hardening-type compound. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.30 or more and less than 1.60. When the refractive index is less than 1.30, other materials such as substrate adhesion and transparency may be deteriorated because usable materials are limited. On the other hand, if the refractive index exceeds 1.60, the difference in refractive index from the high refractive index layer described later may be small, and the effect of making the laminated portion of the transparent conductive film inconspicuous may not be sufficiently exhibited. From such a viewpoint, the refractive index of the low refractive index layer is more preferably 1.35 to 1.55, and particularly preferably 1.38 to 1.50.
The film thickness of the low refractive index layer is preferably 10 nm or more and less than 150 nm. When the film thickness is less than 10 nm, the smoothness of the surface is deteriorated and the effects of the present invention may not be obtained. On the other hand, when the film thickness is 150 nm or more, it may not be possible to obtain the effect of making the laminated portion of the transparent conductive film inconspicuous. From such a viewpoint, the film thickness of the low refractive index layer is more preferably 15 to 130 nm, and particularly preferably 17 to 115 nm.
＜活性エネルギー線硬化型化合物＞
本発明において、（Ａ）低屈折率層の形成に用いられる活性エネルギー線硬化型化合物とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線などを照射することにより、架橋、硬化する重合性化合物を指す。
このような活性エネルギー線硬化型化合物としては、例えば光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマーを挙げることができる。また、重合性不飽和基含有有機化合物が結合したシリカ微粒子も用いることができる。上記光重合性プレポリマーには、ラジカル重合型とカチオン重合型があり、ラジカル重合型の光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。ここで、ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
<Active energy ray-curable compound>
In the present invention, (A) the active energy ray-curable compound used for forming the low refractive index layer is an electromagnetic wave or a charged particle beam having energy quanta, that is, irradiating ultraviolet rays or electron beams. Refers to a polymerizable compound that crosslinks and cures.
Examples of such an active energy ray-curable compound include a photopolymerizable prepolymer and / or a photopolymerizable monomer. Silica fine particles to which a polymerizable unsaturated group-containing organic compound is bonded can also be used. The photopolymerizable prepolymer includes a radical polymerization type and a cationic polymerization type, and examples of the radical polymerization type photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyol acrylate, and the like. It is done. Here, as the polyester acrylate-based prepolymer, for example, by esterifying the hydroxyl group of a polyester oligomer having a hydroxyl group at both ends obtained by condensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol with (meth) acrylic acid, or It can be obtained by esterifying the terminal hydroxyl group of an oligomer obtained by adding an alkylene oxide to a polyvalent carboxylic acid with (meth) acrylic acid.
エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。さらに、ポリオールアクリレート系プレポリマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
一方、カチオン重合型の光重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂が通常使用される。このエポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール樹脂やノボラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられる。
The epoxy acrylate prepolymer can be obtained, for example, by reacting (meth) acrylic acid with an oxirane ring of a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy resin or novolak type epoxy resin and esterifying it. The urethane acrylate-based prepolymer can be obtained, for example, by esterifying a polyurethane oligomer obtained by reaction of polyether polyol or polyester polyol and polyisocyanate with (meth) acrylic acid. Furthermore, the polyol acrylate-based prepolymer can be obtained by esterifying the hydroxyl group of the polyether polyol with (meth) acrylic acid. These photopolymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more.
On the other hand, as a cationic polymerization type photopolymerizable prepolymer, an epoxy resin is usually used. Examples of the epoxy resins include compounds obtained by epoxidizing polyphenols such as bisphenol resins and novolac resins with epichlorohydrin, etc., and compounds obtained by oxidizing a linear olefin compound or a cyclic olefin compound with a peroxide or the like. Etc.
また、光重合性モノマーとしては、例えば１,４−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能アクリレートが挙げられる。これらの光重合性モノマーは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、前記光重合性プレポリマーと併用してもよい。 Examples of the photopolymerizable monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate. , Neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified diphosphate ( (Meth) acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipenta Erythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipenta Examples thereof include polyfunctional acrylates such as erythritol hexa (meth) acrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These photopolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more thereof, or may be used in combination with the photopolymerizable prepolymer.
さらに、重合性不飽和基含有有機化合物が結合したシリカ微粒子は、平均粒径０.００５〜１μｍ程度のシリカ微粒子表面のシラノール基に、該シラノール基と反応し得る官能基を有する重合性不飽和基含有有機化合物を反応させることにより、得ることができる。重合性不飽和基としては、例えばラジカル重合性のアクリロイル基やメタクリロイル基などが挙げられる。 Further, the silica fine particles to which the polymerizable unsaturated group-containing organic compound is bonded are polymerizable unsaturated unsaturated compounds having functional groups capable of reacting with the silanol groups on the silanol groups on the surface of the silica fine particles having an average particle size of about 0.005 to 1 μm. It can be obtained by reacting a group-containing organic compound. Examples of the polymerizable unsaturated group include a radical polymerizable acryloyl group and a methacryloyl group.
これらの重合性化合物は、所望により光重合開始剤を併用することができる。この光重合開始剤としては、ラジカル重合型の光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２,２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−(２−ヒドロキシエトキシ)フェニル−２(ヒドロキシ−２−プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４,４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２,４−ジメチルチオキサントン、２,４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。また、カチオン重合型の光重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、その配合量は、前記光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマー１００質量部に対して、通常０.２〜１０質量部の範囲で選ばれる。 These polymerizable compounds can be used in combination with a photopolymerization initiator as desired. As the photopolymerization initiator, for radical polymerization type photopolymerizable prepolymers and photopolymerizable monomers, for example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl are used. Ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy Cyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2 (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone P-phenylbenzophenone, 4,4′-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2 -Chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylamine benzoate and the like. Examples of the photopolymerization initiator for the cationic polymerization type photopolymerizable prepolymer include oniums such as aromatic sulfonium ions, aromatic oxosulfonium ions, aromatic iodonium ions, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoro The compound which consists of anions, such as antimonate and hexafluoroarsenate, is mentioned. These may be used singly or in combination of two or more, and the compounding amount is usually 0 with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable prepolymer and / or photopolymerizable monomer. It is selected in the range of 0.2 to 10 parts by mass.
＜シリカゾル＞
本発明において、（Ａ）低屈折率層の形成に用いられるシリカゾルとしては、平均粒径が０.００５〜１μｍ程度、好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍのシリカ微粒子が、アルコール系やセロソルブ系の有機溶剤中にコロイド状態で懸濁してなるコロイダルシリカを好適に用いることができる。なお、平均粒径は動的光散乱法により求めることができる。
<Silica sol>
In the present invention, (A) the silica sol used for forming the low refractive index layer is a silica fine particle having an average particle diameter of about 0.005 to 1 μm, preferably 10 nm to 100 nm, in an alcohol or cellosolve organic solvent. Colloidal silica suspended in a colloidal state can be suitably used. The average particle diameter can be determined by a dynamic light scattering method.
＜中空シリカ微粒子、多孔質シリカ微粒子＞
本発明において、（Ａ）低屈折率層の形成に用いられる空隙を有する中空シリカ微粒子や多孔質シリカ微粒子は、微細な空隙を開口した状態、或いは閉口した状態で有しており、気体、例えば、屈折率１の空気が充填されているので、該微粒子はそれ自身の屈折率が低い特徴がある。該微粒子を塗膜中に集合体を形成せずに均一に分散した場合には、塗膜の屈折率を低下させる効果が高く、同時に透明性に優れる。空隙を有しない、通常のコロイダルシリカ粒子（屈折率ｎ＝１.４６程度）に比べると、空隙を有する中空シリカ微粒子や多孔質シリカ微粒子の屈折率は１.２０〜１.４５と低い。
<Hollow silica fine particles, porous silica fine particles>
In the present invention, (A) hollow silica fine particles and porous silica fine particles having voids used for forming the low refractive index layer have fine voids in an open state or closed state, and gas, for example, Since the air having a refractive index of 1 is filled, the fine particles have a low refractive index. When the fine particles are uniformly dispersed without forming an aggregate in the coating film, the effect of lowering the refractive index of the coating film is high, and at the same time, the transparency is excellent. Compared to ordinary colloidal silica particles having no voids (refractive index n = 1.46), the refractive index of hollow silica fine particles and porous silica fine particles having voids is as low as 1.20 to 1.45.
空隙を有する中空シリカ微粒子や多孔質シリカ微粒子は、平均粒径５ｎｍ〜３００ｎｍ程度、好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍ、特に好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍの微粒子であり、空隙の平均孔径が１０ｎｍ〜１００ｎｍ程度であり、空気を含有する独立した、及び／又は連続した孔を有する多孔質シリカ微粒子や中空シリカ微粒子である。微粒子全体としての屈折率が１.２０〜１.４５程度である。本発明に使用する中空シリカ微粒子や多孔質シリカ微粒子を活性エネルギー線硬化型化合物に添加して塗布組成物を構成することにより、活性エネルギー線硬化型化合物の硬化物の屈折率が１.４５以上であっても、全体として屈折率を低下させることができる。また、本発明において用いる空隙を有するシリカ微粒子は、平均粒径が５ｎｍ〜３００ｎｍ程度、好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍ、特に好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍであり、硬化塗膜中に分散されているため、硬化塗膜の透明性が優れる。なお、平均粒径は動的光散乱法により求めることができる。
また、前記のシリカゾル、中空シリカ微粒子及び多孔質シリカ微粒子の活性エネルギー線硬化型化合物に対する配合割合は、形成される（Ａ）低屈折率層の屈折率が、前記した範囲になるように選択される。例えば、活性エネルギー線硬化型化合物１００質量部に対して、５０〜５００質量部程度であることが好ましく、８０〜３００質量部であることがさらに好ましく、１００〜２５０質量部であることが特に好ましい。
The hollow silica fine particles and porous silica fine particles having voids are fine particles having an average particle diameter of about 5 nm to 300 nm, preferably 5 nm to 200 nm, particularly preferably 10 nm to 100 nm, and the average pore diameter of the voids is about 10 nm to 100 nm. These are porous silica fine particles and hollow silica fine particles having independent and / or continuous pores containing air. The refractive index of the fine particles as a whole is about 1.20 to 1.45. By forming the coating composition by adding the hollow silica fine particles and the porous silica fine particles used in the present invention to the active energy ray curable compound, the refractive index of the cured product of the active energy ray curable compound is 1.45 or more. Even so, the refractive index can be lowered as a whole. The fine silica particles having voids used in the present invention have an average particle size of about 5 nm to 300 nm, preferably 5 nm to 200 nm, particularly preferably 10 nm to 100 nm, and are dispersed in the cured coating film. Excellent film transparency. The average particle diameter can be determined by a dynamic light scattering method.
Further, the blending ratio of the silica sol, hollow silica fine particles and porous silica fine particles to the active energy ray-curable compound is selected so that the refractive index of the (A) low refractive index layer to be formed is in the above-mentioned range. The For example, the amount is preferably about 50 to 500 parts by weight, more preferably 80 to 300 parts by weight, and particularly preferably 100 to 250 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable compound. .
（（Ｂ）高屈折率層）
当該透明導電膜積層用フィルムにおいて、（Ｂ）層として用いられる高屈折率層は、前述した（Ａ）低屈折率層より、屈折率差が０.２以上高い層であることを特徴とする。屈折率差が０.２未満の場合、（Ａ）層及び（Ｂ）層での光の干渉作用を有効に利用することができず、透明導電膜の積層部分を目立たなくするという本発明の効果を十分に発揮できない場合がある。
また、この高屈折率層を形成する材料については特に限定されず、例えば活性エネルギー線硬化型化合物と金属酸化物を混合させた硬化物により形成される。この高屈折率層の屈折率は１.６０以上２.００未満であることが好ましい。該屈折率が１.６０未満の場合、（Ａ）低屈折率層との屈折率差を十分にとることができず、透明導電膜の積層部分を目立たなくする効果を十分に発揮できない場合がある。一方、該屈折率が２.００以上である場合、選択できる材料等の関係から低屈折率層等との密着性や透明性などの他の物性を悪化させる場合がある。このような観点から、（Ｂ）高屈折率層の屈折率は、１.６０〜１.９０であることが好ましく、１.６５〜１.８９であることが特に好ましい。
また、高屈折率層の膜厚は３０ｎｍ以上１３０ｎｍ未満であることが好ましい。該膜厚が３０ｎｍ未満の場合、表面の平滑性が不十分となり本発明の効果を得ることができない場合がある。一方、該膜厚が１３０ｎｍ以上の場合、透明導電膜の積層部分を目立たなくする効果を得ることができない場合がある。このような観点から、（Ｂ）高屈折率層の膜厚は、３５〜１２０ｎｍであることがさらに好ましく、４０〜１１０ｎｍであることが特に好ましい。
((B) High refractive index layer)
In the transparent conductive film laminating film, the high refractive index layer used as the (B) layer is a layer having a refractive index difference higher by 0.2 or more than the above-described (A) low refractive index layer. . When the refractive index difference is less than 0.2, the interference of light in the (A) layer and the (B) layer cannot be used effectively, and the laminated portion of the transparent conductive film is made inconspicuous. The effect may not be fully demonstrated.
In addition, the material for forming the high refractive index layer is not particularly limited. For example, the high refractive index layer is formed of a cured product obtained by mixing an active energy ray-curable compound and a metal oxide. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.60 or more and less than 2.00. When the refractive index is less than 1.60, (A) the difference in refractive index from the low refractive index layer cannot be sufficiently taken, and the effect of making the laminated portion of the transparent conductive film inconspicuous cannot be fully exhibited. is there. On the other hand, when the refractive index is 2.00 or more, other physical properties such as adhesion to a low refractive index layer and transparency may be deteriorated due to the relationship of materials that can be selected. From such a viewpoint, the refractive index of the (B) high refractive index layer is preferably 1.60 to 1.90, and particularly preferably 1.65 to 1.89.
The film thickness of the high refractive index layer is preferably 30 nm or more and less than 130 nm. When the film thickness is less than 30 nm, the smoothness of the surface is insufficient and the effects of the present invention may not be obtained. On the other hand, when the film thickness is 130 nm or more, the effect of making the laminated portion of the transparent conductive film inconspicuous may not be obtained. From such a viewpoint, the film thickness of the (B) high refractive index layer is more preferably 35 to 120 nm, and particularly preferably 40 to 110 nm.
（Ｂ）高屈折率層の形成に用いられる活性エネルギー線硬化型化合物は、前述の（Ａ）低屈折率層の説明において示した活性エネルギー線硬化型化合物と同様である。 (B) The active energy ray-curable compound used for forming the high refractive index layer is the same as the active energy ray curable compound shown in the description of the above (A) low refractive index layer.
＜金属酸化物＞
本発明において、（Ｂ）高屈折率層の形成に用いられる金属酸化物は特に限定されず、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化ニオブ、インジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）などが挙げられる。
これらの金属酸化物は１種用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、活性エネルギー線硬化型化合物に対する配合割合は、形成される（Ｂ）高屈折率層の屈折率が前述した範囲になるように選択される。
なお、（Ａ）低屈折率層と（Ｂ）高屈折率層との屈折率差の上限は、０.７程度である。０.７を超えると、透明導電膜と（Ｂ）高屈折率層の屈折率が過度に近接し、（Ｂ）高屈折率層による光の干渉作用を十分に発揮できなくなり、本発明の効果である、透明導電膜の積層部分が目立たないという効果が損なわれる場合がある。
<Metal oxide>
In the present invention, (B) the metal oxide used for the formation of the high refractive index layer is not particularly limited, and titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, hafnium oxide, cerium oxide, tin oxide, oxidation Examples include niobium, indium-doped tin oxide (ITO), and antimony-doped tin oxide (ATO).
These metal oxides may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the mixture ratio with respect to an active energy ray hardening-type compound is selected so that the refractive index of the (B) high refractive index layer formed may be in the range mentioned above.
The upper limit of the refractive index difference between (A) the low refractive index layer and (B) the high refractive index layer is about 0.7. If it exceeds 0.7, the refractive index of the transparent conductive film and (B) the high refractive index layer is excessively close, and (B) the light interference action by the high refractive index layer cannot be fully exhibited, and the effect of the present invention. The effect that the laminated part of the transparent conductive film is inconspicuous may be impaired.
次に、本実施形態にかかる透明導電膜積層用フィルムの製造方法について説明する。
［透明導電膜積層用フィルムの製造方法］
透明導電膜積層用フィルムの製造方法は、（ａ）透明基材の少なくとも片面に、低屈折率層用コート剤を塗布、乾燥後、活性エネルギー線を照射して硬化させ、（Ａ）低屈折率層を形成させる工程、（ｂ）前記（ａ）工程で形成された（Ａ）低屈折率層上に、高屈折率層用コート剤を塗布、乾燥後、活性エネルギー線を照射して硬化させ、（Ｂ）高屈折率層を形成させる工程、を有することを特徴とする。
以下、これまでの内容と重複する部分は省略し、異なる部分のみを詳述する。
（（Ａ）低屈折率層を形成させる工程）
前記透明基材の少なくとも片面に、低屈折率層を形成する前記材料を、所定の溶媒を用いて所定の濃度に希釈溶解した後、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、低屈折率層が形成される。
前記溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。溶媒は、1種類のみを使用しても良いし、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合、例えば、常温における蒸気圧の異なる溶媒を２種類併用することにより乾燥速度と表面平滑性の両立を向上させることができる。例えば、２０℃における蒸気圧が１.５ｋＰａ以上の溶媒と１.０ｋＰａ未満の溶媒を併用することが好ましく挙げられる。使用割合としては、質量比にして３０：７０〜７０：３０であることが好ましく、４０：６０〜６０：４０であることが特に好ましい。前記溶媒の組み合わせの具体例としては、メチルイソブチルケトン（２０℃蒸気圧２.１ｋＰａ）とシクロヘキサノン（２０℃蒸気圧０.７ｋＰａ）が好ましく挙げられる。
希釈濃度としては、コーティング可能な程度の粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜調整することができる。例えば、得られる低屈折率層の膜厚を前記の範囲に調節する観点から固形分濃度０.０５〜１０質量％にすることが好ましく、０.１〜８質量％とすることが特に好ましい。
また、前記乾燥は、６０〜１５０℃で１０秒〜１０分程度行われることが好ましい。
さらに、活性エネルギー線としては、例えば紫外線や電子線などが挙げられる。上記紫外線は、高圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプなどで得られ、照射量は、通常１００〜５００ｍＪ／ｃｍ2であり、一方電子線は、電子線加速器などによって得られ、照射量は、通常１５０〜３５０ｋＶである。この活性エネルギー線の中では、特に紫外線が好適である。なお、電子線を使用する場合は、光重合開始剤を添加することなく、低屈折率層を得ることができる。
（（Ｂ）高屈折率層を形成させる工程）
前記工程において形成された低屈折率層上に、高屈折率層を形成する前記材料を、所定の溶媒を用いて所定の濃度に希釈溶解した後、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、高屈折率層が形成される。
溶媒による希釈条件、乾燥条件、及び活性エネルギー線照射条件は、いずれも低屈折率層を形成させる工程と同様である。
以上の工程により、前述の透明導電膜積層用フィルムを好適に作製することができる。
Next, the manufacturing method of the film for transparent conductive film lamination concerning this embodiment is demonstrated.
[Method for producing film for laminating transparent conductive film]
The method for producing a transparent conductive film laminating film comprises: (a) applying a coating agent for a low refractive index layer on at least one surface of a transparent substrate, drying and then curing by irradiating active energy rays; (A) low refractive index A step of forming a refractive index layer, (b) a coating agent for a high refractive index layer is applied on the (A) low refractive index layer formed in the step (a), dried, and then cured by irradiation with active energy rays. And (B) forming a high refractive index layer.
In the following, portions that overlap with the contents so far are omitted, and only different portions are described in detail.
((A) Step of forming a low refractive index layer)
The material for forming the low refractive index layer on at least one surface of the transparent base material is diluted and dissolved at a predetermined concentration using a predetermined solvent, and then a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll The coating method, blade coating method, die coating method, gravure coating method, etc. are used for coating to form a coating film, and after drying, this is irradiated with active energy rays to cure the coating film, resulting in low refraction. A rate layer is formed.
Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, methanol, ethanol, propanol, butanol, and propylene glycol monomethyl ether. And alcohols such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as 2-pentanone, isophorone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and cellosolv solvents such as ethyl cellosolve. Only one type of solvent may be used, or two or more types may be used in combination. When two or more types are used in combination, for example, by combining two types of solvents having different vapor pressures at room temperature, it is possible to improve both the drying speed and the surface smoothness. For example, it is preferable to use a solvent having a vapor pressure at 20 ° C. of 1.5 kPa or more and a solvent having a vapor pressure of less than 1.0 kPa. The use ratio is preferably 30:70 to 70:30 in terms of mass ratio, and particularly preferably 40:60 to 60:40. Preferable examples of the solvent combination include methyl isobutyl ketone (20 ° C. vapor pressure 2.1 kPa) and cyclohexanone (20 ° C. vapor pressure 0.7 kPa).
The dilution concentration is not particularly limited as long as the viscosity is such that it can be coated, and can be appropriately adjusted according to the situation. For example, from the viewpoint of adjusting the film thickness of the obtained low refractive index layer to the above range, the solid content concentration is preferably 0.05 to 10% by mass, and particularly preferably 0.1 to 8% by mass.
The drying is preferably performed at 60 to 150 ° C. for about 10 seconds to 10 minutes.
Furthermore, examples of the active energy rays include ultraviolet rays and electron beams. The ultraviolet rays are obtained with a high-pressure mercury lamp, an electrodeless lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp or the like, and the irradiation amount is usually 100 to 500 mJ / cm 2 , while the electron beam is obtained with an electron beam accelerator or the like. The amount is usually 150 to 350 kV. Among these active energy rays, ultraviolet rays are particularly preferable. In addition, when using an electron beam, a low refractive index layer can be obtained, without adding a photoinitiator.
((B) Step of forming a high refractive index layer)
After the material for forming the high refractive index layer is diluted and dissolved to a predetermined concentration using a predetermined solvent on the low refractive index layer formed in the above step, a conventionally known method such as a bar coating method or a knife Using a coating method, roll coating method, blade coating method, die coating method, gravure coating method, etc., a coating film is formed by coating, and after drying, the coating film is irradiated with active energy rays to cure the coating film. Thus, a high refractive index layer is formed.
Dilution conditions with a solvent, drying conditions, and active energy ray irradiation conditions are all the same as in the step of forming the low refractive index layer.
Through the above steps, the above-mentioned transparent conductive film laminating film can be suitably produced.
次に、本発明の透明導電性フィルムについて説明する。
［透明導電性フィルム］
本発明の透明導電性フィルムは、前述した透明導電膜積層用フィルムにおける（Ｂ）高屈折率層上に、（Ｃ）透明導電膜が積層されてなることを特徴とする。
Next, the transparent conductive film of the present invention will be described.
[Transparent conductive film]
The transparent conductive film of the present invention is characterized in that (C) a transparent conductive film is laminated on the (B) high refractive index layer in the transparent conductive film laminating film described above.
図１は、本発明の透明導電性フィルムにおける構成の一例を示す断面模式図であって、透明導電性フィルム１０は、透明基材１の一方の面に、低屈折率層２及び高屈折率層３が順次積層されてなる透明導電膜積層用フィルム５における高屈折率層３上に、透明導電膜４が積層された構成を有している。
高屈折率の透明導電膜４と高屈折率層３を接するように積層することにより、エッチング処理等により透明導電膜４がパターンニングされた場合、むき出しとなる高屈折率層３の部分と透明導電膜４の積層部分のそれぞれの屈折率を比較的近い状態に保つことができる。そのため、両者の反射特性が一致し、透明導電膜の積層部分が目立たなくなるという効果を奏する。
さらに、このような構成の透明導電性フィルム１０において、低屈折率層２と、高屈折率層３との屈折率差及びそれぞれの膜厚を、前述した所定の範囲に制御することにより、透明導電膜４への入射光の各界面での反射光を低減させると共に干渉させ、また、透明導電膜４が除去されてむき出しとなった高屈折率層３への入射光の各界面での反射光も低減させるとともに干渉させ、結果として、透明導電膜４への入射光に起因する透明導電性フィルム１０からの反射光と、高屈折率層３への入射光に起因する透明導電性フィルム１０からの反射光のそれぞれの強度を抑えるとともに、その可視光領域の反射率を一致させることができる。そのため、当該透明導電性フィルム１０は、透過率が高く、かつ透明導電膜４の積層部分が目立たなくなり、例えばタッチパネル、特に静電容量方式タッチパネルなどに好適に用いられる。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of the transparent conductive film of the present invention. The transparent
By laminating the high refractive index transparent conductive film 4 and the high refractive index layer 3 so as to be in contact, when the transparent conductive film 4 is patterned by etching or the like, the exposed portion of the high refractive index layer 3 is transparent. The refractive indexes of the stacked portions of the conductive film 4 can be kept relatively close to each other. Therefore, there is an effect that the reflection characteristics of the both coincide with each other and the laminated portion of the transparent conductive film becomes inconspicuous.
Further, in the transparent
（透明導電膜）
本発明の透明導電性フィルムにおいて、高屈折率層上に積層される透明導電膜としては、透明性と、導電性を併せ持つ材料であれば特に制限なく使用できるが、代表的なものとしては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫、インジウム−錫複合酸化物、錫−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物などの薄膜が例示される。これらの化合物薄膜は、適当な造膜条件を採用することで透明性と導電性を兼ね備えた透明導電膜になることが知られている。
(Transparent conductive film)
In the transparent conductive film of the present invention, the transparent conductive film laminated on the high refractive index layer can be used without particular limitation as long as the material has both transparency and conductivity. Examples of such thin films include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimony composite oxide, zinc-aluminum composite oxide, and indium-zinc composite oxide. It is known that these compound thin films become transparent conductive films having both transparency and conductivity by adopting appropriate film forming conditions.
透明導電膜の膜厚は、好ましくは４ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上、特に好ましくは１０ｎｍ以上で、好ましくは８００ｎｍ以下、より好ましくは５００ｎｍ以下、特に好ましくは１００ｎｍ以下である。該膜厚が４ｎｍ未満の場合は、連続した薄膜になり難くて安定した導電性が得られない場合があり、逆に８００ｎｍを超えて過度に厚くなると透明性が低下する場合がある。 The film thickness of the transparent conductive film is preferably 4 nm or more, more preferably 5 nm or more, particularly preferably 10 nm or more, preferably 800 nm or less, more preferably 500 nm or less, particularly preferably 100 nm or less. If the film thickness is less than 4 nm, it may be difficult to form a continuous thin film and stable conductivity may not be obtained. Conversely, if the film thickness exceeds 800 nm, the transparency may decrease.
透明導電膜の形成法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法、ゾル−ゲル法などの公知の方法を、上記材料の種類や必要膜厚に応じて適宜選択して採用すればよい。 As a method for forming the transparent conductive film, a known method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, a spray method, or a sol-gel method is appropriately selected depending on the type of the material and the required film thickness. Select and adopt.
上記スパッタリング法の場合、化合物を用いた通常のスパッタリング法、あるいは金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法などを採用できる。この際、反応性ガスとして酸素、窒素、水蒸気などを導入したり、オゾン添加やイオンアシスト等を併用することも有効である。
なお、当該透明導電膜は、上記のようにして製膜後、フォトリソグラフィー法により、所定パターンのレジストマスクを形成し、公知の方法により、エッチング処理を施し、例えばライン形状などを形成してもよい。
また、透明導電性フィルムは、（Ｃ）透明導電膜の積層部分と非積層部分での透過率差の絶対値が、波長４５０〜６５０ｎｍの範囲において、５ポイント以下であることが好ましい。なお、「ポイント」とは、「％」で表される２つの数値の差を表す単位を示す。
透明導電膜とプラスチックフィルムは、材質が大きく異なることから、可視光領域での屈折率の波長分散特性が異なるのが一般的である。そのため、可視光領域内の波長分散特性の異なる領域に起因して、得られる透明導電性フィルムが着色する現象が見られる。本発明においては、前記透明導電膜積層用フィルムの構成を選択することにより、（Ｃ）透明導電膜の積層前後での透過率差の絶対値を、波長４５０〜６５０ｎｍの範囲において、５ポイント以下とすることが可能となる。これにより、透明導電膜に起因する着色を有効に防止することができる。
In the case of the sputtering method, a normal sputtering method using a compound or a reactive sputtering method using a metal target can be employed. At this time, it is also effective to introduce oxygen, nitrogen, water vapor or the like as a reactive gas, or to use ozone addition or ion assist together.
The transparent conductive film may be formed as described above, a resist mask having a predetermined pattern is formed by a photolithography method, and an etching process is performed by a known method to form, for example, a line shape. Good.
Further, in the transparent conductive film, the absolute value of the transmittance difference between the laminated portion and the non-laminated portion of the transparent conductive film (C) is preferably 5 points or less in the wavelength range of 450 to 650 nm. “Point” indicates a unit representing a difference between two numerical values represented by “%”.
Since the transparent conductive film and the plastic film are greatly different in material, the wavelength dispersion characteristics of the refractive index in the visible light region are generally different. Therefore, a phenomenon in which the transparent conductive film obtained is colored due to regions having different wavelength dispersion characteristics in the visible light region is observed. In the present invention, by selecting the configuration of the transparent conductive film laminating film, (C) the absolute value of the transmittance difference before and after lamination of the transparent conductive film is 5 points or less in the wavelength range of 450 to 650 nm. It becomes possible. Thereby, the coloring resulting from a transparent conductive film can be prevented effectively.
本発明の透明導電性フィルムは、前記図１で示すように極めて簡単な構成の透明導電膜積層用フィルムにおける高屈折率層上に、例えばライン形状などを有する透明導電膜を積層してなるものであって、透過率が高く、かつ該透明導電膜の積層部分が認識されることがなく、タッチパネル、特に静電容量方式タッチパネル用として好適に用いられる。 The transparent conductive film of the present invention is obtained by laminating a transparent conductive film having, for example, a line shape on a high refractive index layer in a transparent conductive film laminating film having a very simple structure as shown in FIG. In addition, the transmittance is high and the laminated portion of the transparent conductive film is not recognized, so that it is suitably used for a touch panel, particularly a capacitive touch panel.
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、屈折率は、ＪＩＳ Ｋ ７１４２：２００８に準拠してアタゴ社製屈折率計を用いて測定を行った。また、低屈折率層及び高屈折率層の膜厚はエリプソメーターを用いて測定を行った。
また、各例で得られた導電性フィルムについて、下記の評価を行った。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.
The refractive index was measured using an Atago refractometer based on JIS K7142: 2008. Moreover, the film thickness of the low refractive index layer and the high refractive index layer was measured using an ellipsometer.
Moreover, the following evaluation was performed about the electroconductive film obtained in each case.
（１）透過率差
作製した透明導電性フィルムの透明導電膜の積層部分及び非積層部分で透過スペクトルを測定し、波長４５０〜６５０ｎｍの範囲における透過率差の絶対値の最大値を求めた。
透過率測定機器としては、(株)島津製作所製、機種名「ＵＶ−３６００」を用いた。
（２）目視評価
各例に従い、縦横９０ｍｍ×９０ｍｍの透明導電膜積層用フィルムを得て、その中央に縦横６０ｍｍ×６０ｍｍの透明導電膜が積層された透明導電性フィルムを得た。このフィルムについて、目視にて、１）反射光下、及び２）透過光下、それぞれ透明導電膜の有無で、色目に変化があるかどうかを、以下の判定基準で評価した。
（評価条件）
１）反射光下での評価：透明導電性フィルムを白色蛍光灯から１ｍの距離に設置し、透明導電性フィルムに白色蛍光灯を映り込ませ、透明導電性フィルムに対して白色蛍光灯と同じ側から、透明導電性フィルムから３０ｃｍ離した位置から透明導電膜の有無について評価した。
２）透過光下での評価：透明導電性フィルムを白色蛍光灯から１ｍの距離に設置し、透明導電性フィルムに対して白色蛍光灯と反対側から、透明導電性フィルム越しに白色蛍光灯が見えるように、透明導電性フィルムから３０ｃｍ離した位置から透明導電膜の有無について評価した。
（評価基準）
◎：１）反射光下及び２）透過光下のいずれでも、透明導電膜の着色も境界も認識できない。
○：１）反射光下あるいは２）透過光下のいずれかで、透明導電膜部分の着色が認識できる。
×：１）反射光下及び２）透過光下のいずれでも、透明導電膜の境界が認識できる。
（３）光線透過率
各例で得られた透明導電性フィルムの透明導電膜積層部分について、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して波長５５０ｎｍの光線透過率を測定した。なお、得られた結果は、８６％以上である場合、○と評価し、８６％未満を×とした。
(1) Transmittance difference The transmission spectrum was measured at the laminated portion and the non-laminated portion of the transparent conductive film of the produced transparent conductive film, and the maximum absolute value of the difference in transmittance in the wavelength range of 450 to 650 nm was determined.
As a transmittance measuring instrument, Shimadzu Corporation model name “UV-3600” was used.
(2) Visual evaluation According to each example, a film for laminating a transparent conductive film of 90 mm in length and width was obtained, and a transparent conductive film in which a transparent conductive film of 60 mm in length and width was laminated in the center was obtained. The film was visually evaluated according to the following criteria to determine whether there was a change in color in the presence or absence of a transparent conductive film under 1) reflected light and 2) transmitted light.
(Evaluation conditions)
1) Evaluation under reflected light: A transparent conductive film is placed at a distance of 1 m from the white fluorescent lamp, and the white fluorescent lamp is reflected on the transparent conductive film, and is the same as the white fluorescent lamp with respect to the transparent conductive film. From the side, the presence or absence of the transparent conductive film was evaluated from a position 30 cm away from the transparent conductive film.
2) Evaluation under transmitted light: A transparent conductive film is placed at a distance of 1 m from the white fluorescent lamp, and the white fluorescent lamp is passed through the transparent conductive film from the opposite side of the transparent conductive film. As can be seen, the presence or absence of the transparent conductive film was evaluated from a position 30 cm away from the transparent conductive film.
(Evaluation criteria)
A: Neither the coloration nor the boundary of the transparent conductive film can be recognized either under reflected light or under transmitted light.
○: The coloration of the transparent conductive film portion can be recognized either under reflected light or under transmitted light.
X: The boundary of the transparent conductive film can be recognized both under reflected light and 2) under transmitted light.
(3) Light transmittance The light transmittance at a wavelength of 550 nm was measured in accordance with JIS K 7105 for the transparent conductive film laminated portion of the transparent conductive film obtained in each example. In addition, when the obtained result was 86% or more, it evaluated as (circle) and made less than 86% x.
調製例Ｌ−１ 低屈折率層用コート剤１
活性エネルギー線硬化型化合物として、ハードコート剤［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分濃度１００質量％、多官能アクリレートを含有する活性エネルギー線硬化型化合物９５質量％、光重合開始剤５質量％］１００質量部、及びシリカゾル［日産化学(株)製、商品名「ＰＧＭ−ＳＴ」、平均粒径１５ｎｍのシリカ微粒子３０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル７０質量％］６６０質量部、光重合開始剤［ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア９０７」、固形分濃度１００質量％］０.３質量部、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトンを２６００質量部、シクロヘキサノンを２６００質量部加えて均一に混合し、固形分約５.０質量％である低屈折率層用コート剤Ｌ−１を作製した。
Preparation Example L-1 Low Refractive Index Layer Coating Agent 1
As an active energy ray-curable compound, a hard coating agent [manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., trade name “SEICA BEAM XF-01L (NS)”, solid content concentration 100 mass%, active energy ray curing containing polyfunctional acrylate Type compound 95 mass%,
調製例Ｌ−２ 低屈折率層用コート剤２
活性エネルギー線硬化型化合物として、ハードコート剤［荒川化学工業(株)製、商品名「ビームセット５７５ＣＢ」、固形分濃度１００質量％、ウレタンアクリレートを含有する活性エネルギー線硬化型化合物９５質量％、光重合開始剤５質量％］１０質量部、及び中空シリカゾル［日揮触媒化成(株)製、商品名「スルーリア４３２０」、平均粒径６０ｎｍの中空シリカ微粒子２０質量％、メチルイソブチルケトン８０質量％］５０質量部、光重合開始剤［ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア９０７」、固形分濃度１００質量％］０.０３質量部、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトンを５０００質量部、シクロヘキサノンを５０００質量部加えて均一に混合し、固形分約０.２質量％である低屈折率層用コート剤Ｌ−２を作製した。
Preparation Example L-2 Low Refractive Index Layer Coating Agent 2
As an active energy ray-curable compound, a hard coat agent [produced by Arakawa Chemical Industries, Ltd., trade name “Beam Set 575CB”, solid content concentration 100% by mass, active energy ray-curable compound 95% by mass containing urethane acrylate,
調製例Ｌ−３ 低屈折率層用コート剤３
希釈溶剤としてメチルイソブチルケトンを４０００質量部、シクロヘキサノンを４０００質量部用いた以外は調製例Ｌ−１と同様に調製し、固形分約３.４質量％である低屈折率層用コート剤Ｌ−３を作製した。
Preparation Example L-3 Low Refractive Index Layer Coating Agent 3
Prepared in the same manner as in Preparation Example L-1 except that 4000 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 4000 parts by mass of cyclohexanone were used as the diluent solvent, and the coating agent L- for the low refractive index layer having a solid content of about 3.4% by mass 3 was produced.
調製例Ｌ−４ 低屈折率層用コート剤４
シリカゾル［日産化学(株)製、商品名「ＰＧＭ−ＳＴ」、平均粒径１５ｎｍのシリカ微粒子３０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル７０質量％］３３０質量部、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトンを４７５０質量部、シクロヘキサノンを４７５０質量部用いた以外は調製例Ｌ−１と同様に調製し、固形分約２.０質量％である低屈折率層用コート剤Ｌ−４を作製した。
Preparation Example L-4 Low Refractive Index Layer Coating Agent 4
330 parts by mass of silica sol [manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., trade name “PGM-ST”, 30% by mass of silica fine particles having an average particle size of 15 nm, 70% by mass of propylene glycol monomethyl ether], 4750 parts by mass of methyl isobutyl ketone as a diluent solvent A low refractive index layer coating agent L-4 having a solid content of about 2.0% by mass was prepared in the same manner as in Preparation Example L-1, except that 4750 parts by mass of cyclohexanone was used.
調製例Ｈ−１ 高屈折率層用コート剤１
活性エネルギー線硬化型化合物として、酸化ジルコニウムを含有する高屈折率コート剤［アトミクス(株)製、商品名「アトムコンポブリッドＨＵＶ ＳＲＺ１００」、固形分濃度３０質量％］１００質量部、及び光重合開始剤［ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア９０７」、固形分濃度１００質量％］０.９質量部、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトンを４５０質量部、シクロヘキサノンを４５０質量部加えて均一に混合し、固形分約３.１質量％である高屈折率層用コート剤Ｈ−１を作製した。
Preparation Example H-1 High Refractive Index Layer Coating Agent 1
As active energy ray-curable compound, high refractive index coating agent containing zirconium oxide [manufactured by Atomics Co., Ltd., trade name “Atom Compound HUV SRZ100”, solid content concentration 30% by mass] 100 parts by mass, and photopolymerization start [BASF, trade name “Irgacure 907”, solid content concentration: 100% by mass] 0.9 parts by mass, 450 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 450 parts by mass of cyclohexanone as a diluting solvent were added and mixed uniformly. A coating agent H-1 for a high refractive index layer having a content of about 3.1% by mass was produced.
調製例Ｈ−２ 高屈折率層用コート剤２
活性エネルギー線硬化型化合物として、ハードコート剤［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分濃度１００質量％、多官能アクリレートを含有する活性エネルギー線硬化型化合物９５質量％、光重合開始剤５質量％］１００質量部、及び酸化チタンスラリー［テイカ(株)製、平均粒径１０ｎｍの酸化チタン微粒子３３質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル６７質量％］４５５質量部、光重合開始剤［ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア９０７」、固形分濃度１００質量％］０.３質量部、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトンを３０００質量部、シクロヘキサノンを３０００質量部加えて均一に混合し、固形分約３.８質量％である高屈折率層用コート剤Ｈ−２を作製した。
Preparation Example H-2 High Refractive Index Layer Coating Agent 2
As an active energy ray-curable compound, a hard coating agent [manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., trade name “SEICA BEAM XF-01L (NS)”, solid content concentration 100 mass%, active energy ray curing containing polyfunctional acrylate Type compound 95% by mass,
実施例１
厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム［東洋紡績(株)製、「コスモシャインＡ４３００」］の表面に、調製例Ｌ−１で調製した上記低屈折率層用コート剤１をマイヤーバー＃４で塗工した。７０℃のオーブンで１分間乾燥させた後、窒素雰囲気下にて高圧水銀ランプで２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し低屈折率層処理ＰＥＴを得た。さらに低屈折率層上に調製例Ｈ−１で調製した上記高屈折率層用コート剤１をマイヤーバー＃６で塗工した。７０℃のオーブンで１分間乾燥させた後、窒素雰囲気下にて高圧水銀ランプで２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射することで透明導電膜積層用フィルムを得た。得られた透明導電膜積層用フィルムにＩＴＯターゲット（酸化錫１０質量％）を用いてスパッタリングを行い、高屈折率層上に厚さ３０ｎｍの透明導電膜を形成し、透明導電性フィルムを作製した。
この透明導電性フィルムの性能を第１表に示す。
Example 1
On the surface of a 125 μm thick PET film [Toyobo Co., Ltd., “Cosmo Shine A4300”], the above coating agent for low refractive index layer 1 prepared in Preparation Example L-1 was applied with Meyer bar # 4. . After drying in an oven at 70 ° C. for 1 minute, a low-refractive index layer-treated PET was obtained by irradiating 200 mJ / cm 2 of ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere. Further, the coating agent 1 for a high refractive index layer prepared in Preparation Example H-1 was applied on a low refractive index layer with a Mayer bar # 6. After drying in an oven at 70 ° C. for 1 minute, a transparent conductive film laminating film was obtained by irradiating UV light of 200 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere. Sputtering was performed on the obtained transparent conductive film lamination film using an ITO target (
The performance of this transparent conductive film is shown in Table 1.
実施例２
調製例Ｌ−２で調製した上記低屈折率層用コート剤２を用いて低屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様の操作を行ない透明導電性フィルムを作製した。
この透明導電性フィルムの性能を第１表に示す。
Example 2
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer was formed using the coating agent 2 for low refractive index layer prepared in Preparation Example L-2.
The performance of this transparent conductive film is shown in Table 1.
実施例３
調製例Ｈ−２で調製した上記高屈折率層用コート剤２を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例２と同様の操作を行ない透明導電性フィルムを作製した。
この透明導電性フィルムの性能を第１表に示す。
Example 3
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 2 except that the high refractive index layer was formed using the coating agent 2 for high refractive index layer prepared in Preparation Example H-2.
The performance of this transparent conductive film is shown in Table 1.
比較例１
厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム［東洋紡績(株)製、「コスモシャインＡ４３００」］の表面に、調製例Ｈ−１で調製した上記高屈折率層用コート剤１をマイヤーバー＃６で塗工した。７０℃のオーブンで１分間乾燥させた後、窒素雰囲気下にて高圧水銀ランプで２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し高屈折率層処理ＰＥＴを得た。さらに高屈折率層上に調製例Ｌ−３で調製した上記低屈折率層用コート剤３をマイヤーバー＃４で塗工した。７０℃のオーブンで１分間乾燥させた後、窒素雰囲気下にて高圧水銀ランプで２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射することで透明導電膜積層用フィルムを得た。得られた透明導電膜積層用フィルムにＩＴＯターゲット（酸化錫１０質量％）を用いてスパッタリングを行い、低屈折率層上に厚さ３０ｎｍの透明導電膜を形成し、透明導電性フィルムを作製した。
この透明導電性フィルムの性能を第１表に示す。
Comparative Example 1
On the surface of a 125 μm thick PET film [Toyobo Co., Ltd., “Cosmo Shine A4300”], the above coating agent 1 for a high refractive index layer prepared in Preparation Example H-1 was applied with Meyer bar # 6. . After drying in an oven at 70 ° C. for 1 minute, UV irradiation of 200 mJ / cm 2 was irradiated with a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere to obtain a high refractive index layer-treated PET. Furthermore, the coating agent 3 for a low refractive index layer prepared in Preparation Example L-3 was applied on a high refractive index layer with a Mayer bar # 4. After drying in an oven at 70 ° C. for 1 minute, a transparent conductive film laminating film was obtained by irradiating UV light of 200 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere. Sputtering was performed on the obtained transparent conductive film lamination film using an ITO target (
The performance of this transparent conductive film is shown in Table 1.
比較例２
厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム［東洋紡績(株)製、「コスモシャインＡ４３００」］の表面に、調製例Ｈ−１で調製した上記高屈折率層用コート剤１をマイヤーバー＃６で塗工した。７０℃のオーブンで１分間乾燥させた後、窒素雰囲気下にて高圧水銀ランプで２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し高屈折率層処理ＰＥＴを得た。得られた高屈折率層処理ＰＥＴにＩＴＯターゲット（酸化錫１０質量％）を用いてスパッタリングを行い、高屈折率層上に厚さ３０ｎｍの透明導電膜を形成し、透明導電性フィルムを作製した。
この透明導電性フィルムの性能を第１表に示す。
Comparative Example 2
On the surface of a 125 μm thick PET film [Toyobo Co., Ltd., “Cosmo Shine A4300”], the above coating agent 1 for a high refractive index layer prepared in Preparation Example H-1 was applied with Meyer bar # 6. . After drying in an oven at 70 ° C. for 1 minute, UV irradiation of 200 mJ / cm 2 was irradiated with a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere to obtain a high refractive index layer-treated PET. Sputtering was performed on the obtained high refractive index layer-treated PET using an ITO target (10% by mass of tin oxide), a transparent conductive film having a thickness of 30 nm was formed on the high refractive index layer, and a transparent conductive film was produced. .
The performance of this transparent conductive film is shown in Table 1.
比較例３
調製例Ｌ−４で調製した上記低屈折率層用コート剤４を用いて低屈折率層を形成した以外は、実施例３と同様の操作を行ない透明導電性フィルムを作製した。
この透明導電性フィルムの性能を第１表に示す。
Comparative Example 3
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 3 except that the low refractive index layer was formed using the coating agent 4 for low refractive index layer prepared in Preparation Example L-4.
The performance of this transparent conductive film is shown in Table 1.
本発明の透明導電性フィルムは、極めて簡単な構成の透明導電膜積層用フィルムにおける高屈折率層上に、例えばライン形状などを有する透明導電膜を積層してなるものであって、透過率が高く、かつ該透明導電膜により形成されるパターン形状が認識されることがなく、タッチパネル、特に静電容量方式タッチパネル用として好適に用いられる。 The transparent conductive film of the present invention is formed by laminating a transparent conductive film having, for example, a line shape on a high refractive index layer in a transparent conductive film laminating film having a very simple configuration, and has a transmittance. The pattern shape formed by the transparent conductive film is not recognized and is suitably used for a touch panel, particularly a capacitive touch panel.
１ 透明基材
２ 低屈折率層
３ 高屈折率層
４ 透明導電膜
５ 透明導電膜積層用フィルム
１０ 透明導電性フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base material 2 Low refractive index layer 3 High refractive index layer 4 Transparent
Claims (4)
前記（Ａ）低屈折率層が活性エネルギー線硬化型化合物の硬化物であり、
前記（Ｂ）高屈折率層が活性エネルギー線硬化型化合物の硬化物であり、
前記（Ａ）低屈折率層の膜厚が１０ｎｍ以上１５０ｎｍ未満であることを特徴とする、透明導電膜積層用フィルム。 On at least one surface of a transparent substrate, (A) a low refractive index layer, Ri (A) the refractive index difference from a low refractive index layer is higher than 0.2 (B) a high refractive index layer name are laminated in this order,
The (A) low refractive index layer is a cured product of an active energy ray-curable compound,
The (B) high refractive index layer is a cured product of an active energy ray-curable compound,
(A) the thickness of the low refractive index layer and wherein the 150nm less der Rukoto than 10 nm, a transparent conductive film laminating film.
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