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JP5841739B2 - Magnetic sheet transfer system, carrier and magnetic sheet transfer method - Google Patents

Magnetic sheet transfer system, carrier and magnetic sheet transfer method Download PDF

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JP5841739B2 JP2011087086A JP2011087086A JP5841739B2 JP 5841739 B2 JP5841739 B2 JP 5841739B2 JP 2011087086 A JP2011087086 A JP 2011087086A JP 2011087086 A JP2011087086 A JP 2011087086A JP 5841739 B2 JP5841739 B2 JP 5841739B2
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Description

本発明は、磁性シートの移載システム、磁性シートを支持するためのキャリア及び磁性シートの移載方法に関する。   The present invention relates to a magnetic sheet transfer system, a carrier for supporting a magnetic sheet, and a magnetic sheet transfer method.

従来より、真空処理によって薄膜が形成される基板として、シリコン基板、ガラス基板、金属基板、絶縁体基板等が知られているが、磁性体基板も採用されることがある。例えば特許文献1には、トレイに嵌め込まれた磁性体基板について、その真空処理時に磁石によって基板を保持固定できる成膜装置が記載されている。   Conventionally, a silicon substrate, a glass substrate, a metal substrate, an insulator substrate, and the like are known as substrates on which a thin film is formed by vacuum processing, but a magnetic substrate may also be employed. For example, Patent Document 1 describes a film forming apparatus that can hold and fix a substrate with a magnet during vacuum processing of a magnetic substrate fitted in a tray.

真空処理装置を用いて基板に成膜等の真空処理をする際、典型的には、未処理の基板は大気室から処理室へ搬送されて所定の真空処理を施され、処理後の基板は再び大気室に搬送されて、カセット等に移載される。基板の特性によっては、特許文献1のように、その形態を維持するためにトレイ等によって支持された状態で一連の工程が行われる場合もある。   When vacuum processing such as film formation is performed on a substrate using a vacuum processing apparatus, an unprocessed substrate is typically transferred from an atmospheric chamber to a processing chamber and subjected to a predetermined vacuum processing, and the processed substrate is It is again transported to the atmosphere chamber and transferred to a cassette or the like. Depending on the characteristics of the substrate, as in Patent Document 1, a series of steps may be performed while being supported by a tray or the like in order to maintain the form.

特開平9−324273号公報JP 9-324273 A

磁石の磁力でトレイ上に基板を保持する真空処理方法においては、当該磁力による影響でトレイからカセット等へ基板を円滑に移載することが困難な場合が多い。特に基板がシート状あるいはフィルム状である場合、移載時に基板に皺や変形が生じたり、基板がトレイやカセットから脱落したりするおそれがある。   In a vacuum processing method in which a substrate is held on a tray by the magnetic force of a magnet, it is often difficult to smoothly transfer the substrate from the tray to a cassette or the like due to the influence of the magnetic force. In particular, when the substrate is in the form of a sheet or film, the substrate may be wrinkled or deformed during transfer, or the substrate may fall out of the tray or cassette.

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、磁性シートを円滑に移載することができる磁性シートの移載システム、磁性シートを支持するためのキャリア及び磁性シートの移載方法を提供することにある。   In view of the circumstances as described above, an object of the present invention is to provide a magnetic sheet transfer system capable of smoothly transferring a magnetic sheet, a carrier for supporting the magnetic sheet, and a magnetic sheet transfer method. There is.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る磁性シートの移載システムは、キャリアと、移動機構とを具備する。
上記キャリアは、第1の非磁性基板と、第2の非磁性基板と、磁石とを有する。上記第1の非磁性基板は、上記磁性シートを支持することが可能な第1の面と、上記第1の面とは反対側の第2の面とを有する。上記第2の非磁性基板は、上記第2の面に対向する第3の面と、上記第3の面とは反対側の第4の面とを有する。上記磁石は、上記第2の非磁性基板に固定され、上記第1の面に磁場を形成する。
上記移動機構は、上記第1の非磁性基板を支持可能な支持体と、駆動部とを有する。上記駆動部は、上記第1の非磁性基板が上記第2の非磁性基板と近接した第1の支持位置と、上記第1の非磁性基板が上記第2の非磁性基板から離間した第2の支持位置との間で上記支持体を移動させる。
In order to achieve the above object, a magnetic sheet transfer system according to an embodiment of the present invention includes a carrier and a moving mechanism.
The carrier includes a first nonmagnetic substrate, a second nonmagnetic substrate, and a magnet. The first non-magnetic substrate has a first surface capable of supporting the magnetic sheet, and a second surface opposite to the first surface. The second nonmagnetic substrate has a third surface facing the second surface, and a fourth surface opposite to the third surface. The magnet is fixed to the second nonmagnetic substrate and forms a magnetic field on the first surface.
The moving mechanism includes a support capable of supporting the first nonmagnetic substrate and a driving unit. The driving unit includes a first support position where the first nonmagnetic substrate is close to the second nonmagnetic substrate, and a second position where the first nonmagnetic substrate is separated from the second nonmagnetic substrate. The support is moved between the support positions.

本発明の一形態に係るキャリアは、磁性シートを支持するためのキャリアであって、第1の非磁性基板と、第2の非磁性基板と、磁石とを具備する。
上記第1の非磁性基板は、上記磁性シートを支持することが可能な第1の面と、上記第1の面と反対側の第2の面とを有する。
上記第2の非磁性基板は、上記第2の面に対向する。
上記磁石は、上記第2の非磁性基板に固定され、上記第1の面に磁場を形成する。
A carrier according to an embodiment of the present invention is a carrier for supporting a magnetic sheet, and includes a first nonmagnetic substrate, a second nonmagnetic substrate, and a magnet.
The first nonmagnetic substrate has a first surface capable of supporting the magnetic sheet, and a second surface opposite to the first surface.
The second non-magnetic substrate faces the second surface.
The magnet is fixed to the second nonmagnetic substrate and forms a magnetic field on the first surface.

本発明の一形態に係る磁性シートの移載方法は、第1の非磁性基板と、前記第1の非磁性基板に対向する第2の非磁性基板と、前記第2の非磁性基板に固定された磁石とを有するキャリアを用いた磁性シートの移載方法である。
上記磁性シートは、上記磁石の磁力で上記第1の非磁性基板の表面で保持される。
上記キャリア上の上記磁性シートは、真空処理室内で真空処理される。
上記第1の非磁性基板は、上記第2の非磁性基板から離間させられる。
上記磁性シートは、上記第1の非磁性基板と上記第2の非磁性基板との間に配置された載台に、上記第1の非磁性層とともに移載される。
A magnetic sheet transfer method according to an aspect of the present invention includes a first nonmagnetic substrate, a second nonmagnetic substrate facing the first nonmagnetic substrate, and a fixing to the second nonmagnetic substrate This is a method for transferring a magnetic sheet using a carrier having a magnet formed thereon.
The magnetic sheet is held on the surface of the first nonmagnetic substrate by the magnetic force of the magnet.
The magnetic sheet on the carrier is vacuum processed in a vacuum processing chamber.
The first nonmagnetic substrate is separated from the second nonmagnetic substrate.
The magnetic sheet is transferred together with the first nonmagnetic layer onto a mounting table disposed between the first nonmagnetic substrate and the second nonmagnetic substrate.

本発明の一実施形態に係る移載システムを備えた真空処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the vacuum processing apparatus provided with the transfer system which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るキャリアを示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the carrier which concerns on one Embodiment of this invention. 図2における[A]−[A]方向の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the [A]-[A] direction in FIG. 本発明の移動機構の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the moving mechanism of this invention. 磁性シートの移載時におけるキャリアとリフターピンとの態様を示した概略断面図であり、(A)は、第1の支持位置での態様を示し、(B)は、第2の支持位置での態様を示す。It is the schematic sectional drawing which showed the aspect of the carrier and lifter pin at the time of transfer of a magnetic sheet, (A) shows the aspect in a 1st support position, (B) is in the 2nd support position. An aspect is shown. ウェーハカセットへ磁性シートを移載する際の移載システムとウェーハカセットとの関係を示した概略図であり、(A)は磁性シートと第1の基板とがリフターピンに支持されている態様を示し、(B)は磁性シートと第1の基板とがウェーハカセットに収容されている態様を示す。It is the schematic which showed the relationship between the transfer system at the time of transferring a magnetic sheet to a wafer cassette, and a wafer cassette, (A) shows the aspect by which a magnetic sheet and a 1st board | substrate are supported by the lifter pin. (B) shows a mode in which the magnetic sheet and the first substrate are accommodated in the wafer cassette. 本発明の一実施形態に係るキャリアを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the carrier which concerns on one Embodiment of this invention.

本発明の一実施形態に係る磁性シートの移載システムは、キャリアと、移動機構とを具備する。
上記キャリアは、第1の非磁性基板と、第2の非磁性基板と、磁石とを有する。上記第1の非磁性基板は、上記磁性シートを支持することが可能な第1の面と、上記第1の面とは反対側の第2の面とを有する。上記第2の非磁性基板は、上記第2の面に対向する第3の面と、上記第3の面とは反対側の第4の面とを有する。上記磁石は、上記第2の非磁性基板に固定され、上記第1の面に磁場を形成する。
上記移動機構は、上記第1の非磁性基板を支持可能な支持体と、駆動部とを有する。上記駆動部は、上記第1の非磁性基板が上記第2の非磁性基板と近接した第1の支持位置と、上記第1の非磁性基板が上記第2の非磁性基板から離間した第2の支持位置との間で上記支持体を移動させる。
A magnetic sheet transfer system according to an embodiment of the present invention includes a carrier and a moving mechanism.
The carrier includes a first nonmagnetic substrate, a second nonmagnetic substrate, and a magnet. The first non-magnetic substrate has a first surface capable of supporting the magnetic sheet, and a second surface opposite to the first surface. The second nonmagnetic substrate has a third surface facing the second surface, and a fourth surface opposite to the third surface. The magnet is fixed to the second nonmagnetic substrate and forms a magnetic field on the first surface.
The moving mechanism includes a support capable of supporting the first nonmagnetic substrate and a driving unit. The driving unit includes a first support position where the first nonmagnetic substrate is close to the second nonmagnetic substrate, and a second position where the first nonmagnetic substrate is separated from the second nonmagnetic substrate. The support is moved between the support positions.

上記移載システムにおいて、第1の非磁性基板は、移動機構によって上記第1の支持位置と上記第2の支持位置との間を移動することができる。第1の支持位置では、磁性シートは、第1の面上に形成された磁石の磁場により保持される。これにより、例えば真空チャンバ内で基板を搬送する際、磁性シートが第1の面上に吸着固定され、形状を維持することができる。さらに、例えば処理室内で縦型の成膜装置等を採用する際、キャリアを垂直に立てても磁性シートが保持され、その形状を維持することができる。   In the transfer system, the first nonmagnetic substrate can be moved between the first support position and the second support position by a moving mechanism. In the first support position, the magnetic sheet is held by the magnetic field of the magnet formed on the first surface. Thus, for example, when the substrate is transported in a vacuum chamber, the magnetic sheet is attracted and fixed onto the first surface, and the shape can be maintained. Further, for example, when a vertical film forming apparatus or the like is employed in the processing chamber, the magnetic sheet can be held and the shape thereof can be maintained even if the carrier is set up vertically.

一方、第2の支持位置では、磁性シートと第1の非磁性基板とが磁石及び第2の非磁性基板から離間している。第2の支持位置において第1の面上に形成される磁石の磁場は、上記第1の支持位置におけるよりも低下するため、磁性シートは、移載システムとカセット等の載台との間で容易に移載される。また磁性シートは、第2の支持位置で磁力による保持力が低下しても、第1の非磁性基板上の第1の面に支持されていることから、その形状の変化が抑制される。   On the other hand, in the second support position, the magnetic sheet and the first nonmagnetic substrate are separated from the magnet and the second nonmagnetic substrate. Since the magnetic field of the magnet formed on the first surface at the second support position is lower than that at the first support position, the magnetic sheet is placed between the transfer system and a platform such as a cassette. Easy to transfer. Moreover, even if the holding force by magnetic force falls in the 2nd support position, since the magnetic sheet is supported by the 1st surface on a 1st nonmagnetic board | substrate, the change of the shape is suppressed.

上記移載システムにおいて、上記磁石は、上記第2の非磁性基板の第3の面に固定されてもよい。また、上記磁石は、上記第3の面とは反対側の第4の面に固定されてもよい。   In the transfer system, the magnet may be fixed to a third surface of the second nonmagnetic substrate. The magnet may be fixed to a fourth surface opposite to the third surface.

上記第2の非磁性基板は、複数の貫通孔を有し、上記支持体は、上記複数の貫通孔に対応して配置された複数本の軸部材を有してもよい。この場合、上記駆動部は、上記複数本の軸部材の各々をその軸方向に昇降させる。   The second nonmagnetic substrate may have a plurality of through holes, and the support may have a plurality of shaft members disposed corresponding to the plurality of through holes. In this case, the drive unit raises and lowers each of the plurality of shaft members in the axial direction.

上記磁石は、永久磁石でもよいし、電磁石でもよい。上記磁石は、複数の永久磁石片で構成されてもよいし、単一の磁石で構成されてもよい。永久磁石材料は特に限定されず、例えばサマリウムコバルト系磁石やネオジム系磁石等で構成される。このような素材の磁石を用いることによって十分な磁力で磁性シートを保持できるが、特にサマリウムコバルト系磁石においては、真空処理時に高温となっても磁力の低下が少なく、磁性シートを安定的に保持することができる。さらに、複数の磁石を用いることによって、磁性シートの形態安定性を向上させることができる。   The magnet may be a permanent magnet or an electromagnet. The magnet may be composed of a plurality of permanent magnet pieces or a single magnet. The permanent magnet material is not particularly limited, and is composed of, for example, a samarium cobalt magnet or a neodymium magnet. By using a magnet made of such a material, the magnetic sheet can be held with a sufficient magnetic force, but in particular for samarium-cobalt magnets, there is little decrease in magnetic force even at high temperatures during vacuum processing, and the magnetic sheet can be held stably. can do. Furthermore, by using a plurality of magnets, the form stability of the magnetic sheet can be improved.

本発明の一実施形態に係るキャリアは、磁性シートを支持するためのキャリアであって、第1の非磁性基板と、第2の非磁性基板と、磁石とを具備する。
上記第1の非磁性基板は、上記磁性シートを支持することが可能な第1の面と、上記第1の面と反対側の第2の面とを有する。
上記第2の非磁性基板は、上記第2の面に対向する。
上記磁石は、上記第2の非磁性基板に固定され、上記第1の面に磁場を形成する。
A carrier according to an embodiment of the present invention is a carrier for supporting a magnetic sheet, and includes a first nonmagnetic substrate, a second nonmagnetic substrate, and a magnet.
The first nonmagnetic substrate has a first surface capable of supporting the magnetic sheet, and a second surface opposite to the first surface.
The second non-magnetic substrate faces the second surface.
The magnet is fixed to the second nonmagnetic substrate and forms a magnetic field on the first surface.

本発明の一実施形態に係る移載方法は、第1の非磁性基板と、前記第1の非磁性基板に対向する第2の非磁性基板と、前記第2の非磁性基板に固定された磁石とを有するキャリアを用いた磁性シートの移載方法である。
上記磁性シートは、上記磁石の磁力で上記第1の非磁性基板の表面で保持される。
上記キャリア上の上記磁性シートは、真空処理室内で真空処理される。
上記第1の非磁性基板は、上記第2の非磁性基板から離間させられる。
上記磁性シートは、上記第1の非磁性基板と上記第2の非磁性基板との間に配置された載台に、上記第1の非磁性層とともに移載される。
A transfer method according to an embodiment of the present invention is fixed to a first nonmagnetic substrate, a second nonmagnetic substrate facing the first nonmagnetic substrate, and the second nonmagnetic substrate. It is the transfer method of the magnetic sheet using the carrier which has a magnet.
The magnetic sheet is held on the surface of the first nonmagnetic substrate by the magnetic force of the magnet.
The magnetic sheet on the carrier is vacuum processed in a vacuum processing chamber.
The first nonmagnetic substrate is separated from the second nonmagnetic substrate.
The magnetic sheet is transferred together with the first nonmagnetic layer onto a mounting table disposed between the first nonmagnetic substrate and the second nonmagnetic substrate.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

[真空処理装置の構成]
図1は、本実施形態に係る移載システムを備えた真空処理装置1の概略構成図である。本実施形態では、真空処理装置1がマルチチャンバ方式の真空処理装置であるとする。なお、ここでは一般的な基板を真空処理するとして真空処理装置1の構成を説明する。
[Configuration of vacuum processing equipment]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a vacuum processing apparatus 1 including a transfer system according to the present embodiment. In the present embodiment, it is assumed that the vacuum processing apparatus 1 is a multi-chamber vacuum processing apparatus. Here, the configuration of the vacuum processing apparatus 1 will be described assuming that a general substrate is subjected to vacuum processing.

真空処理装置1は、移載室6と、ロードロック室2A,2Bと、処理室3A,3Bと、コア室(搬送室)4とを備えている。なお、ロードロック室2A,2B、処理室3A,3B及びコア室4は、図示しない排気システムがそれぞれ接続されており、真空排気可能な真空チャンバを構成している。   The vacuum processing apparatus 1 includes a transfer chamber 6, load lock chambers 2 </ b> A and 2 </ b> B, processing chambers 3 </ b> A and 3 </ b> B, and a core chamber (transfer chamber) 4. The load lock chambers 2A and 2B, the processing chambers 3A and 3B, and the core chamber 4 are connected to an exhaust system (not shown) to constitute a vacuum chamber that can be evacuated.

移載室6は、大気圧であって、内部にウェーハカセット7と基板搬送ロボット6aが設置されている。基板搬送ロボット6aは後述する移動機構20を有しており、当該移動機構によって、基板搬送ロボット6aとウェーハカセット7との間で未処理あるいは処理済の基板を相互に移載することができる。さらに基板搬送ロボット6aは、ロードロック室2A,2Bとウェーハカセット7との間で未処理あるいは処理済の基板を搬送する。移載室6はドア5A,5Bを介してロードロック室2A,2Bに連絡している。   The transfer chamber 6 is at atmospheric pressure, and a wafer cassette 7 and a substrate transfer robot 6a are installed therein. The substrate transfer robot 6a has a moving mechanism 20 which will be described later, and by this moving mechanism, unprocessed or processed substrates can be transferred between the substrate transfer robot 6a and the wafer cassette 7. Further, the substrate transfer robot 6a transfers unprocessed or processed substrates between the load lock chambers 2A and 2B and the wafer cassette 7. The transfer chamber 6 communicates with the load lock chambers 2A and 2B through doors 5A and 5B.

ロードロック室2A,2Bはそれぞれ同一の構成を有しており、内部に所定枚数の基板を収容できるストッカが設置されている。ロードロック室2A,2Bは図示の例のように複数設置される場合に限らず、単数であってもよい。   The load lock chambers 2A and 2B have the same configuration, and a stocker capable of accommodating a predetermined number of substrates is installed therein. The load lock chambers 2 </ b> A and 2 </ b> B are not limited to being installed in a plural number as in the illustrated example, but may be a single one.

処理室3A,3Bは、基板に対して所定の真空処理を行い、エッチング室、加熱室、成膜室(スパッタ室、CVD室)等で構成されているが、本実施形態ではいずれも成膜室とされている。処理室3A,3Bには、真空処理中に基板を支持するプラテン機構(図示せず)が設置され、その周囲に、例えば、高周波電力を投入可能なカソード(図示せず)を備えている。なお、図示せずとも各処理室3A,3Bには、プロセスに応じた所定の成膜ガス(反応ガス、原料ガス、不活性ガス等)のガス源が接続されている。   The processing chambers 3A and 3B perform predetermined vacuum processing on the substrate, and are composed of an etching chamber, a heating chamber, a film forming chamber (sputtering chamber, CVD chamber), and the like. It is a room. In the processing chambers 3A and 3B, a platen mechanism (not shown) for supporting the substrate during vacuum processing is installed, and a cathode (not shown) capable of supplying high frequency power is provided around the mechanism. Although not shown, each processing chamber 3A, 3B is connected to a gas source of a predetermined film forming gas (reaction gas, source gas, inert gas, etc.) corresponding to the process.

コア室4では、ロードロック室2A,2Bと処理室3A,3Bとの間における基板の受け渡しを行う。コア室4は、図示せずとも内部に基板搬送ロボットを有しており、ロードロック室2A,2Bと処理室3A,3Bとの間、あるいは処理室3Aと処理室3Bとの間において、基板の受け渡しを行うように構成されている。   In the core chamber 4, the substrate is transferred between the load lock chambers 2A and 2B and the processing chambers 3A and 3B. Although not shown, the core chamber 4 has a substrate transfer robot inside, and the substrate is placed between the load lock chambers 2A and 2B and the processing chambers 3A and 3B, or between the processing chamber 3A and the processing chamber 3B. It is comprised so that delivery may be performed.

真空処理装置1を用いて基板を真空処理する際には、まず移載室6内でウェーハカセット7から移動機構20(基板搬送ロボット6a)に基板が移載され、基板搬送ロボット6aによってロードロック室2A,2Bへと搬送される。さらに、コア室4の基板搬送ロボットによって処理室3A,3Bへと搬送され、所定の真空処理が行われる。真空処理後の基板は、処理前とは逆の工程を経て移載室6へ搬送され、移動機構20によってウェーハカセット7へ移載される。   When the substrate is vacuum processed using the vacuum processing apparatus 1, the substrate is first transferred from the wafer cassette 7 to the moving mechanism 20 (substrate transfer robot 6a) in the transfer chamber 6, and is load-locked by the substrate transfer robot 6a. It is conveyed to the chambers 2A and 2B. Further, the substrate is transferred to the processing chambers 3A and 3B by the substrate transfer robot in the core chamber 4, and predetermined vacuum processing is performed. The substrate after the vacuum processing is transferred to the transfer chamber 6 through a process reverse to that before the processing, and transferred to the wafer cassette 7 by the moving mechanism 20.

真空処理装置1における真空排気系及び基板搬送系の駆動、ドアバルブの開閉、移載室6における基板搬送ロボット6a(移動機構20)の駆動等は、図示しないコントローラによって制御される。   Driving of the vacuum exhaust system and the substrate transport system in the vacuum processing apparatus 1, opening and closing of the door valve, driving of the substrate transport robot 6a (the moving mechanism 20) in the transfer chamber 6 are controlled by a controller (not shown).

以上のように構成された真空処理装置1は、移載室6において本発明に係る移載システムを採用している。上記移載システムは、キャリア10と、移動機構20とを具備する。以下、キャリア10、移動機構20の構成についてそれぞれ説明する。   The vacuum processing apparatus 1 configured as described above employs the transfer system according to the present invention in the transfer chamber 6. The transfer system includes a carrier 10 and a moving mechanism 20. Hereinafter, the configurations of the carrier 10 and the moving mechanism 20 will be described.

[キャリアの構成]
図2は、本発明の一実施形態に係る磁性シートのキャリア10を示す概略平面図であり、図3は、図2における[A]−[A]方向の概略断面図である。キャリア10は、第1の基板(第1の非磁性基板)11と、第2の基板(第2の非磁性基板)12と、磁石13とを具備する。
[Composition of career]
FIG. 2 is a schematic plan view showing the carrier 10 of the magnetic sheet according to one embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view in the [A]-[A] direction in FIG. The carrier 10 includes a first substrate (first nonmagnetic substrate) 11, a second substrate (second nonmagnetic substrate) 12, and a magnet 13.

第1の基板11は、第2の基板12の上に載置される。第1の基板11は、例えばガラス基板等であり、磁性シートMを支持可能な第1の面11aとその反対側の第2の面11bとを有する。第1の基板11を構成する材料は、非磁性であればよく、導体でも絶縁体でもよい。第1の基板11の厚みは、第2の基板12の上に載置された状態で、磁石13の磁力によって第1の面11a上に磁性シートMを保持できる均一な厚さで形成され、例えば0.3mm以上1.2mm以下の厚みを有する。また、第1の面11aの大きさは特に制限されず、本実施形態では磁性シートMより大きく形成される。   The first substrate 11 is placed on the second substrate 12. The first substrate 11 is a glass substrate, for example, and has a first surface 11a capable of supporting the magnetic sheet M and a second surface 11b on the opposite side. The material constituting the first substrate 11 may be nonmagnetic and may be a conductor or an insulator. The thickness of the first substrate 11 is formed with a uniform thickness that can hold the magnetic sheet M on the first surface 11a by the magnetic force of the magnet 13 while being placed on the second substrate 12. For example, it has a thickness of 0.3 mm or more and 1.2 mm or less. The size of the first surface 11a is not particularly limited, and is larger than the magnetic sheet M in this embodiment.

第2の基板12は、第1の基板11の第2の面11bに対向する第3の面12aと、その反対側の第4の面12bとを有する。第2の基板12を構成する材料は、例えばガラス基板等であるが、非磁性であればよく、導体でも絶縁体でもよい。第2の基板12の厚みはほぼ均一に形成される。第2のガラス基板12の大きさは特に制限されないが、本実施形態では第1の基板11とほぼ同じ大きさで形成される。   The second substrate 12 has a third surface 12a facing the second surface 11b of the first substrate 11 and a fourth surface 12b opposite to the third surface 12a. The material constituting the second substrate 12 is, for example, a glass substrate, but may be nonmagnetic and may be a conductor or an insulator. The second substrate 12 is formed with a substantially uniform thickness. The size of the second glass substrate 12 is not particularly limited, but in the present embodiment, the second glass substrate 12 is formed to have almost the same size as the first substrate 11.

さらに、第2の基板12は、後述する複数のリフターピン210に対応する複数の貫通孔210aを有している。貫通孔210aはリフターピン210を各々貫通可能に構成されている。   Further, the second substrate 12 has a plurality of through holes 210a corresponding to a plurality of lifter pins 210 described later. The through holes 210a are configured to be able to pass through the lifter pins 210, respectively.

磁石13は、第1の基板11を介して第1の面11aに磁場を形成する複数個の永久磁石片で構成される。本実施形態では、各磁石13は、第2の基板12の第3の面12aに固定されている。磁石13の配置は、磁性シートMの形状、磁石13の磁気特性や形状、磁性シートMとの距離等を考慮して、磁性シートMの形状を保持できるよう設定される。例えば、図2のように磁性シートMが矩形である場合には、例えば四隅と中央部に対応する第2の面12a上に配置される。また各々の磁石13は、貫通孔210aが形成されない位置に配置される。   The magnet 13 is composed of a plurality of permanent magnet pieces that form a magnetic field on the first surface 11 a via the first substrate 11. In the present embodiment, each magnet 13 is fixed to the third surface 12 a of the second substrate 12. The arrangement of the magnet 13 is set so that the shape of the magnetic sheet M can be maintained in consideration of the shape of the magnetic sheet M, the magnetic characteristics and shape of the magnet 13, the distance from the magnetic sheet M, and the like. For example, when the magnetic sheet M is rectangular as shown in FIG. 2, it is disposed on the second surface 12a corresponding to, for example, the four corners and the central portion. Moreover, each magnet 13 is arrange | positioned in the position where the through-hole 210a is not formed.

第3の面12a上への磁石13の固定には、例えば接着剤が用いられる。この種の接着剤としては、磁性シートMとの間に磁力が作用している状態で第1の基板11と第2の基板12を離間させたとしても、磁石13が第3の面12a上から剥離せず、かつ真空処理時の温度、圧力で接着性が低下しない接着剤が用いられる。このような接着剤としては、耐熱性無機接着剤を用いることができ、さらに具体的には、例えば東亞合成社製の「アロンセラミック」(商品名)が挙げられる。   For example, an adhesive is used to fix the magnet 13 on the third surface 12a. As this type of adhesive, even if the first substrate 11 and the second substrate 12 are separated with a magnetic force acting between the magnetic sheet M, the magnet 13 remains on the third surface 12a. Adhesives that do not peel off from the substrate and whose adhesiveness does not deteriorate due to temperature and pressure during vacuum processing are used. As such an adhesive, a heat-resistant inorganic adhesive can be used, and more specifically, for example, “Aron Ceramic” (trade name) manufactured by Toagosei Co., Ltd. can be mentioned.

また、磁石13の形状は、第1の基板11を挟んで磁性シートMを保持できれば特に制限されず、角型でも丸型でも、第3の面12a全体を覆う1枚の板状あるいはシート状でもあってもよい。この場合、板状あるいはシート状の磁石は貫通孔210aを塞がないように、その貫通孔210aに対応する部分が穿孔される。   Further, the shape of the magnet 13 is not particularly limited as long as the magnetic sheet M can be held with the first substrate 11 interposed therebetween, and it is a single plate shape or a sheet shape that covers the entire third surface 12a regardless of a square shape or a round shape. But it may be. In this case, a plate-like or sheet-like magnet is perforated at a portion corresponding to the through hole 210a so as not to block the through hole 210a.

磁石13を構成する材料は、第1の基板11を挟んで第1の面11aに磁性シートMを保持できる磁力を有し、かつ真空処理時の温度、圧力で磁性が低下しないものであればよく、このような材料として、例えばサマリウムコバルト系磁石やネオジム系磁石等の永久磁石が挙げられる。   If the material which comprises the magnet 13 has the magnetic force which can hold | maintain the magnetic sheet M to the 1st surface 11a on both sides of the 1st board | substrate 11, and magnetism does not fall with the temperature and pressure at the time of vacuum processing Often, such materials include permanent magnets such as samarium cobalt magnets and neodymium magnets.

サマリウムコバルト系の磁石は希土類磁石の一つであり、強力な永久磁石として知られている。また、キュリー点が高いため真空処理時の高温下(150℃〜300℃)であっても磁力を十分維持することができる。このため、サマリウムコバルト系磁石片で構成された磁石13を用いることによって、真空処理に係る一連の工程を経ても磁石13の変性や磁力の低下が少なく、磁性シートMに対する保持力を安定に維持することができる。   A samarium-cobalt magnet is one of rare earth magnets and is known as a powerful permanent magnet. Further, since the Curie point is high, the magnetic force can be sufficiently maintained even at high temperatures (150 ° C. to 300 ° C.) during vacuum processing. For this reason, by using the magnet 13 composed of the samarium-cobalt-based magnet piece, the magnet 13 is hardly denatured and the magnetic force is reduced even after a series of steps related to vacuum processing, and the holding force for the magnetic sheet M is stably maintained. can do.

一方、ネオジム系の磁石も希土類磁石の一つであり、非常に強力な永久磁石として知られている。例えば真空処理装置1内で高温下での処理工程が含まれない場合に、磁石13としてネオジム系磁石片を用いることができる。その他の永久磁石片についても、その磁性と真空処理装置1内での処理条件とを鑑みて、磁性シートMを安定的に保持することが可能であれば、磁石13として用いることができる。   On the other hand, neodymium magnets are also rare earth magnets, and are known as very strong permanent magnets. For example, a neodymium-based magnet piece can be used as the magnet 13 when a processing step under high temperature is not included in the vacuum processing apparatus 1. Other permanent magnet pieces can also be used as the magnet 13 if the magnetic sheet M can be stably held in view of the magnetism and processing conditions in the vacuum processing apparatus 1.

磁性シートMは、外部磁場により磁化される軟磁気特性を有する強磁性材料で形成されたシートあるいは箔で構成される。また、磁性シートMとしては、プラスチックフィルムや紙等の表面に上記強磁性層が形成された複合シートであってもよい。強磁性材料は特に限定されず、典型的には、Fe、Co、Ni等が挙げられるが、これ以外にも、Fe−Al系、Fe−Ni系等の合金材料であってもよい。   The magnetic sheet M is composed of a sheet or foil formed of a ferromagnetic material having a soft magnetic property that is magnetized by an external magnetic field. Further, the magnetic sheet M may be a composite sheet in which the ferromagnetic layer is formed on the surface of a plastic film or paper. The ferromagnetic material is not particularly limited and typically includes Fe, Co, Ni, and the like, but other than this, an alloy material such as Fe—Al-based or Fe—Ni-based may be used.

[移動機構の構成]
図4は、本実施形態に係る移動機構20の構成を示す斜視図である。移動機構20は、支持体としての複数本のリフターピン(軸部材)210と、駆動部22とを有する。
[Configuration of moving mechanism]
FIG. 4 is a perspective view showing the configuration of the moving mechanism 20 according to the present embodiment. The moving mechanism 20 includes a plurality of lifter pins (shaft members) 210 as a support and a drive unit 22.

リフターピン210及び駆動部22は、ハンド211に設けられている。ハンド211は、基板搬送ロボット6aの多関節アームの先端に取り付けられており、ハンド211の上面は、キャリア10が載置可能なステージ面211aを構成している。   The lifter pin 210 and the drive unit 22 are provided in the hand 211. The hand 211 is attached to the tip of the articulated arm of the substrate transfer robot 6a, and the upper surface of the hand 211 constitutes a stage surface 211a on which the carrier 10 can be placed.

各リフターピン210は、ハンド211のステージ面211aに対して垂直に配置されており、駆動部22によってリフターピン210の軸方向に昇降可能に構成されている。リフターピン210は、磁性シートMの移載時以外においてハンド211の内部に退避しており、移載時にはステージ面211aから上方へ突出するよう構成されている。なお、リフターピン210の本数及び配置は、後述するように第1の基板11を支持できれば特に制限されない。   Each lifter pin 210 is arranged perpendicular to the stage surface 211 a of the hand 211, and is configured to be lifted and lowered in the axial direction of the lifter pin 210 by the drive unit 22. The lifter pin 210 is retracted inside the hand 211 except when the magnetic sheet M is transferred, and is configured to protrude upward from the stage surface 211a during transfer. The number and arrangement of the lifter pins 210 are not particularly limited as long as the first substrate 11 can be supported as will be described later.

駆動部22は、ハンド211内に設置されており、複数本のリフターピン210を軸方向に同時に昇降させる。なお駆動部22は、典型的にはエアシリンダあるいはステッピングモータであるが、リフターピン210を昇降可能であれば特に制限されない。駆動部22の駆動は上記コントローラによって制御される。   The drive unit 22 is installed in the hand 211 and lifts and lowers the plurality of lifter pins 210 simultaneously in the axial direction. The drive unit 22 is typically an air cylinder or a stepping motor, but is not particularly limited as long as the lifter pin 210 can be raised and lowered. The driving of the driving unit 22 is controlled by the controller.

次に、図面を参照しながら、本実施形態に係る移載システムを用いた磁性シートMの移載方法について説明する。   Next, a method for transferring the magnetic sheet M using the transfer system according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.

[磁性シートの移載方法]
図5は、磁性シートの移載時におけるキャリア10とリフターピン210との態様を示した概略断面図である。(A)は、第1の基板11と第2の基板12とが相互に近接した第1の支持位置での態様を示し、(B)は、第1の基板11と第2の基板12とが相互に離間した第2の支持位置での態様を示す。なお、ハンド211は図示を省略している。
[Method of transferring magnetic sheet]
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing aspects of the carrier 10 and the lifter pin 210 when the magnetic sheet is transferred. (A) shows the mode at the first support position where the first substrate 11 and the second substrate 12 are close to each other, and (B) shows the first substrate 11 and the second substrate 12. Shows a mode at a second support position spaced apart from each other. The hand 211 is not shown.

磁性シートMを真空処理装置1によって真空処理する際、キャリア10は、ロードロック室2A,2B、処理室3A,3B、コア室4内における工程の間、常に、図5(A)に示す態様にあり、磁性シートMは、キャリア10の第1の面11aに磁石13の磁力によって保持されている。すなわち、磁性シートMは、キャリア10と一体的に処理室3A,3Bに搬送され、処理室3A,3B内にて成膜等の所定の真空処理が行われる。   When the magnetic sheet M is vacuum processed by the vacuum processing apparatus 1, the carrier 10 is always in the mode shown in FIG. 5A during the processes in the load lock chambers 2 A and 2 B, the processing chambers 3 A and 3 B, and the core chamber 4. The magnetic sheet M is held by the magnetic force of the magnet 13 on the first surface 11 a of the carrier 10. That is, the magnetic sheet M is conveyed to the processing chambers 3A and 3B integrally with the carrier 10, and predetermined vacuum processing such as film formation is performed in the processing chambers 3A and 3B.

第1の支持位置では、磁性シートMが磁石13によって第1の面11a上に保持されており、磁性シートMとキャリア10が一体化している。よって、真空処理装置1内でこれらを搬送する際、磁性シートMが第1の面11a上で形状を維持することができる。さらに、例えば処理室3A,B内で縦型の成膜装置等を採用する際、キャリア10を垂直に立てても磁性シートMが第1の面11a上に保持され、その形状を維持することができる。   In the first support position, the magnetic sheet M is held on the first surface 11a by the magnet 13, and the magnetic sheet M and the carrier 10 are integrated. Therefore, when these are conveyed in the vacuum processing apparatus 1, the magnetic sheet M can maintain the shape on the first surface 11a. Further, for example, when a vertical film forming apparatus or the like is employed in the processing chambers 3A and 3B, the magnetic sheet M is held on the first surface 11a even when the carrier 10 is set up vertically, and the shape is maintained. Can do.

また、磁石13は、キュリー点が比較的高いサマリウムコバルト系の磁石片であるため、真空処理時の高温下(150℃〜300℃)であっても磁力を十分維持することができる。よって、真空処理に係る一連の工程を経ても磁石13の変性や磁力の低下が少なく、磁性シートMに対する保持力を安定に維持することができる。   Moreover, since the magnet 13 is a samarium-cobalt magnet piece having a relatively high Curie point, it can sufficiently maintain the magnetic force even at high temperatures (150 ° C. to 300 ° C.) during vacuum processing. Therefore, even if it goes through a series of processes concerning vacuum processing, the modification of magnet 13 and the fall of magnetic force are few, and the retention power to magnetic sheet M can be maintained stably.

真空処理された磁性シートMは、移載室6に搬送され、基板搬送ロボット6aによってウェーハカセット7へ移載される。図6は、ウェーハカセット7へ磁性シートMを移載する際の移載システムとウェーハカセット7との関係を示した概略図であり、(A)は磁性シートMと第1の基板11がリフターピン210に支持されている態様を示し、(B)は磁性シートMと第1の基板11がウェーハカセット7に収容されている態様を示す。ウェーハカセット7は、図6に示すように、典型的には基板の対向する2辺を支持する基板支持台(載台)7aを有する。   The vacuum-processed magnetic sheet M is transferred to the transfer chamber 6 and transferred to the wafer cassette 7 by the substrate transfer robot 6a. FIG. 6 is a schematic diagram showing the relationship between the transfer system and the wafer cassette 7 when the magnetic sheet M is transferred to the wafer cassette 7. FIG. 6A shows the lift of the magnetic sheet M and the first substrate 11. The mode supported by the pins 210 is shown, and (B) shows the mode in which the magnetic sheet M and the first substrate 11 are accommodated in the wafer cassette 7. As shown in FIG. 6, the wafer cassette 7 typically has a substrate support table (mounting table) 7 a that supports two opposite sides of the substrate.

ロードロック室2A,2Bから移載室6へ搬送された磁性シートMとキャリア10は、ハンド211のステージ面211a上に支持されている。磁性シートMを移載する際は、ハンド211内部に退避していたリフターピン210が軸方向に上昇し、第2の基板12の貫通孔210aを各々貫通する。第1の基板11に当接したリフターピン210は、さらに上昇し、磁性シートMと第1の基板11とが一体化して持ち上げられる(図5(B))。このとき、第1の基板11は第2の基板12から離間しており、第2の支持位置にある。   The magnetic sheet M and the carrier 10 conveyed from the load lock chambers 2 </ b> A and 2 </ b> B to the transfer chamber 6 are supported on the stage surface 211 a of the hand 211. When the magnetic sheet M is transferred, the lifter pins 210 that have been retracted inside the hand 211 are lifted in the axial direction and pass through the through holes 210a of the second substrate 12, respectively. The lifter pins 210 that are in contact with the first substrate 11 are further lifted, and the magnetic sheet M and the first substrate 11 are integrally lifted (FIG. 5B). At this time, the first substrate 11 is separated from the second substrate 12 and is in the second support position.

複数本のリフターピン210によって支持された第1の基板11と磁性シートMは、ウェーハカセット7の所定の基板支持台7a上に配置される(図6(A))。このとき、ウェーハカセット7の基板支持台7aは、第1の基板11と第2の基板12との間に位置する。そして、複数のリフターピン210は同時に下降し、磁性シートMと第1の基板11がウェーハカセット7へ移載される(図6(B))。   The first substrate 11 and the magnetic sheet M supported by the plurality of lifter pins 210 are disposed on a predetermined substrate support 7a of the wafer cassette 7 (FIG. 6A). At this time, the substrate support 7 a of the wafer cassette 7 is located between the first substrate 11 and the second substrate 12. The plurality of lifter pins 210 are simultaneously lowered, and the magnetic sheet M and the first substrate 11 are transferred to the wafer cassette 7 (FIG. 6B).

以上のように、キャリア10は、移動機構20によって第1の支持位置と第2の支持位置との間を移動することができる。第2の支持位置では、磁性シートMと第1の基板11が磁石13とは離間しており、磁石13による保持力は低下している。このため、磁性シートMが、ウェーハカセット7の基板支持台7aへ容易に移載される。また磁性シートMは、第2の支持位置で磁力による保持力が低下しても、第1の基板11上の第1の面11aに支持されていることから、その形状の変化を抑制することができる。   As described above, the carrier 10 can be moved between the first support position and the second support position by the moving mechanism 20. In the second support position, the magnetic sheet M and the first substrate 11 are separated from the magnet 13, and the holding force by the magnet 13 is reduced. For this reason, the magnetic sheet M is easily transferred to the substrate support 7 a of the wafer cassette 7. The magnetic sheet M is supported by the first surface 11a on the first substrate 11 even if the holding force due to the magnetic force is reduced at the second support position, so that the change in the shape of the magnetic sheet M is suppressed. Can do.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。   The embodiment of the present invention has been described above. Of course, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made based on the technical idea of the present invention.

例えば以上の実施形態では、キャリア10について、磁石13が第3の面12aに固定されたが、図7のように、磁石13は第3の面12aとは反対側の第4の面12bに固定されてよい。この実施形態において、第1の基板11と第2の基板12の厚さは、それぞれ均一で、かつ磁石13が第1の基板11と第2の基板12を挟んで磁性シートMを保持できる厚さで形成される。この場合、第1の基板11は第2の基板12よりも薄くてもよい。   For example, in the above embodiment, the magnet 13 is fixed to the third surface 12a of the carrier 10, but the magnet 13 is attached to the fourth surface 12b opposite to the third surface 12a as shown in FIG. May be fixed. In this embodiment, the thicknesses of the first substrate 11 and the second substrate 12 are uniform, and the magnet 13 can hold the magnetic sheet M with the first substrate 11 and the second substrate 12 interposed therebetween. Is formed. In this case, the first substrate 11 may be thinner than the second substrate 12.

また、以上の実施形態では、磁性シートMを移載する載台がウェーハカセット7であるとして説明したが、これに限らず、例えば別の搬送ロボットのハンド等でもよい。   In the above embodiment, the stage on which the magnetic sheet M is transferred has been described as the wafer cassette 7. However, the present invention is not limited to this. For example, a hand of another transfer robot may be used.

また、以上の実施形態では、移動機構20について、支持体21は昇降可能なリフターピン210を有していると説明したが、これに代えて、第1の基板11の下面を支持し、昇降させるハンド等を有するロボットで構成されていてもよい。この実施形態では、第2の基板12に貫通孔210aを形成する必要はないが、第1の基板11または第2の基板12に、ハンド等の差し込みが可能な溝等を形成してもよい。また、第1の基板を側方から把持可能に構成されたロボットが上記移動機構として採用されてもよい。   In the above embodiment, the moving mechanism 20 has been described with the support 21 having the lifter pins 210 that can be raised and lowered, but instead, the lower surface of the first substrate 11 is supported and raised and lowered. You may be comprised with the robot which has a hand etc. to make. In this embodiment, it is not necessary to form the through hole 210a in the second substrate 12, but a groove or the like into which a hand or the like can be inserted may be formed in the first substrate 11 or the second substrate 12. . A robot configured to be able to grip the first substrate from the side may be employed as the moving mechanism.

なお、一実施形態としてマルチチャンバ型の真空処理装置1について説明したが、これに限らず、例えばインライン型の真空処理装置にも適用可能である。さらに、移載室6において、基板搬送ロボット6aの一部に移動機構20が構成されているとしたが、別のロボットとしてもよい。   Although the multi-chamber type vacuum processing apparatus 1 has been described as an embodiment, the present invention is not limited to this, and is applicable to, for example, an in-line type vacuum processing apparatus. Further, in the transfer chamber 6, the movement mechanism 20 is configured as a part of the substrate transfer robot 6a, but another robot may be used.

1・・・真空処理装置
2A,2B・・・ロードロック室
3A,3B・・・処理室
4・・・コア室
6・・・移載室
7・・・ウェーハカセット
M・・・磁性シート
10・・・キャリア
11・・・第1の基板
12・・・第2の基板
13・・・磁石
20・・・移動機構
22・・・駆動部
210・・・リフターピン
211・・・ハンド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Vacuum processing apparatus 2A, 2B ... Load lock chamber 3A, 3B ... Processing chamber 4 ... Core chamber 6 ... Transfer chamber 7 ... Wafer cassette M ... Magnetic sheet 10 ... Carrier 11 ... First substrate 12 ... Second substrate 13 ... Magnet 20 ... Moving mechanism 22 ... Drive unit 210 ... Lifter pin 211 ... Hand

Claims (7)

搬送機構によって搬送された磁性シートを移載する磁性シートの移載システムであって、
前記磁性シートを支持することが可能な第1の面と前記第1の面とは反対側の第2の面とを有する第1の非磁性基板と、前記第2の面に対向する第3の面と前記第3の面とは反対側の面であって前記搬送機構に支持されることが可能な第4の面とを有する第2の非磁性基板と、前記第2の非磁性基板に固定され前記第1の面に磁場を形成する磁石とを有し、前記磁性シートを一体に搬送するためのキャリアと、
前記第1の非磁性基板を支持可能な支持体と、前記第1の非磁性基板が前記第2の非磁性基板と近接した第1の支持位置と前記第1の非磁性基板が前記第2の非磁性基板から離間した第2の支持位置との間で前記支持体を移動させる駆動部とを有する移動機構と
を具備する磁性シートの移載システム。
A magnetic sheet transfer system for transferring a magnetic sheet conveyed by a conveyance mechanism ,
A first non-magnetic substrate having a first surface capable of supporting the magnetic sheet and a second surface opposite to the first surface; and a third facing the second surface. And a second nonmagnetic substrate having a fourth surface that is opposite to the third surface and can be supported by the transport mechanism, and the second nonmagnetic substrate a carrier for have a magnet that forms a magnetic field, to convey the magnetic sheet integrally with the first surface is fixed to,
A support capable of supporting the first non-magnetic substrate; a first support position where the first non-magnetic substrate is close to the second non-magnetic substrate; and the first non-magnetic substrate being the second A magnetic sheet transfer system comprising: a moving mechanism having a drive unit that moves the support body to and from a second support position spaced from the nonmagnetic substrate.
請求項1に記載の磁性シートの移載システムであって、
前記磁石は、前記第3の面に固定される
磁性シートの移載システム。
A magnetic sheet transfer system according to claim 1,
The magnet is fixed to the third surface. A magnetic sheet transfer system.
請求項1に記載の磁性シートの移載システムであって、
前記磁石は、前記第4の面に固定される
磁性シートの移載システム。
A magnetic sheet transfer system according to claim 1,
The magnet is fixed to the fourth surface. A magnetic sheet transfer system.
請求項1から3のいずれかに記載の磁性シートの移載システムであって、
前記第2の非磁性基板は、複数の貫通孔を有し、
前記支持体は、前記複数の貫通孔に対応して配置された複数本の軸部材を有し、
前記駆動部は、前記複数本の軸部材の各々をその軸方向に昇降させる
磁性シートの移載システム。
A magnetic sheet transfer system according to any one of claims 1 to 3,
The second nonmagnetic substrate has a plurality of through holes,
The support has a plurality of shaft members arranged corresponding to the plurality of through holes,
The drive unit moves up and down each of the plurality of shaft members in the axial direction thereof.
請求項1から4のいずれかに記載の磁性シートの移載システムであって、
前記磁石は、複数の永久磁石片で構成される
磁性シートの移載システム。
A magnetic sheet transfer system according to any one of claims 1 to 4,
The magnet is composed of a plurality of permanent magnet pieces.
磁性シートを支持し、搬送機構によって前記磁性シートを一体に搬送するためのキャリアであって、
前記磁性シートを支持することが可能な第1の面と、前記第1の面とは反対側の第2の面とを有する第1の非磁性基板と、
前記第2の面に対向する第3の面と、前記第3の面とは反対側の面であって前記搬送機構に支持されることが可能な第4の面とを有する第2の非磁性基板と、
前記第2の非磁性基板に固定され、前記第1の面に磁場を形成する磁石と
を具備するキャリア。
A carrier for supporting a magnetic sheet and conveying the magnetic sheet integrally by a conveying mechanism ,
A first nonmagnetic substrate having a first surface capable of supporting the magnetic sheet and a second surface opposite to the first surface;
A second non-surface having a third surface facing the second surface and a fourth surface opposite to the third surface and capable of being supported by the transport mechanism. A magnetic substrate;
A carrier fixed to the second non-magnetic substrate and forming a magnetic field on the first surface.
第1の非磁性基板と、前記第1の非磁性基板に対向する第2の非磁性基板と、前記第2の非磁性基板に固定された磁石とを有するキャリアを用いた磁性シートの移載方法であって、
前記磁石の磁力で前記磁性シートを前記第1の非磁性基板の表面で保持し、
前記キャリア上の前記磁性シートを真空処理室内で真空処理し、
前記真空処理された磁性シートを搬送機構によって前記キャリアと一体に搬送し、
搬送後、前記第1の非磁性基板を前記第2の非磁性基板から離間させ、
前記第1の非磁性基板と前記第2の非磁性基板との間に配置された載台に、前記磁性シートを前記第1の非磁性基板とともに移載する
磁性シートの移載方法。
Transfer of a magnetic sheet using a carrier having a first non-magnetic substrate, a second non-magnetic substrate facing the first non-magnetic substrate, and a magnet fixed to the second non-magnetic substrate A method,
Holding the magnetic sheet on the surface of the first non-magnetic substrate by the magnetic force of the magnet,
The magnetic sheet on the carrier is vacuum processed in a vacuum processing chamber,
The vacuum-processed magnetic sheet is transported integrally with the carrier by a transport mechanism,
After transporting, the first nonmagnetic substrate is separated from the second nonmagnetic substrate,
A method for transferring a magnetic sheet, wherein the magnetic sheet is transferred together with the first nonmagnetic substrate onto a mounting table disposed between the first nonmagnetic substrate and the second nonmagnetic substrate.
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