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JP5798787B2 - Image photographing apparatus and image photographing method - Google Patents

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JP5798787B2 JP2011096825A JP2011096825A JP5798787B2 JP 5798787 B2 JP5798787 B2 JP 5798787B2 JP 2011096825 A JP2011096825 A JP 2011096825A JP 2011096825 A JP2011096825 A JP 2011096825A JP 5798787 B2 JP5798787 B2 JP 5798787B2
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Description

本発明は、画像撮影装置等における画像補正に関し、詳細には、欠陥素子を有する検出器からの出力信号の補正に関する。   The present invention relates to image correction in an image capturing apparatus and the like, and more particularly to correction of an output signal from a detector having a defective element.

X線CT装置は、複数の方向から撮影した被写体のX線透過像(以下、投影データと記す)からX線吸収係数を算出し、被写体の断層像(以下、再構成像と記す)を得る装置であり、医療や非破壊検査の分野で広く用いられている。特に近年は、医療の現場においてX線検出器の回転軸方向への多段化が進み、これにより1回転で広い範囲の撮影が可能となり、撮影時間を短縮できるようになってきている。一方で、X線検出器に配列される検出素子数が増加するため素子の故障が生じることも多くなってきている。そこで、従来は検出素子やそれを含む検出器を新しいものに交換したり、画像補正を行って欠陥素子の影響を取り除いていた。しかし、新しいものに交換する場合には、新規の検出器を用意するために費用を要するだけでなく、交換作業に時間を要していた。欠陥発生前から交換用検出器を準備する必要もあった。また対応に時間がかかるため、臨床現場では不都合となることがあった。一方、画像補正を行って欠陥素子の影響を取り除く場合には、安価に、早急に対応できるため、臨床現場では有効である。特に、臨床現場でディフェクト(欠陥)が生じた際にも装置のデッドタイム(使用できない期間)をほとんど生じることなく対応でき、有効である。画像補正の方法としては、例えば特許文献1に記載されるように、取得画像に対して周辺の正常素子の画素値を用いて欠陥素子の値を補間するような方法が採用されている。   The X-ray CT apparatus calculates an X-ray absorption coefficient from an X-ray transmission image (hereinafter referred to as projection data) of a subject taken from a plurality of directions, and obtains a tomographic image (hereinafter referred to as a reconstructed image) of the subject. It is a device and is widely used in the fields of medicine and nondestructive testing. In recent years, in particular, in the medical field, the number of X-ray detectors has increased in the direction of the rotation axis, and this has enabled imaging over a wide range with one rotation, thereby reducing imaging time. On the other hand, since the number of detection elements arranged in the X-ray detector is increased, the failure of the elements is increasing. Therefore, conventionally, the detection element and the detector including the same have been replaced with new ones, or image correction has been performed to remove the influence of defective elements. However, when replacing with a new one, not only is it expensive to prepare a new detector, but also the replacement work takes time. It was also necessary to prepare a replacement detector before the defect occurred. In addition, since it takes time to respond, it may be inconvenient in clinical practice. On the other hand, when image correction is performed to remove the influence of defective elements, it can be dealt with promptly at low cost, which is effective in clinical practice. In particular, when a defect (defect) occurs in the clinical field, it is possible to cope with almost no dead time (unusable period) of the apparatus, which is effective. As an image correction method, for example, as described in Patent Document 1, a method is used in which the values of defective elements are interpolated using pixel values of peripheral normal elements with respect to an acquired image.

ところで、検出器の素子の故障には様々な原因があるが、例えば、特許文献2の明細書段落[0004]等に記載されているように、欠陥素子から信号の一部が周辺の素子に流出し、欠陥のない周辺素子の出力も異常となる場合がある。これは例えば、検出器の読出回路に異常が生じたためにフォトダイオード等で生じたホールと電子を読み出せなくなった場合等に生じる。フォトダイオードで生じた電荷は素子の容量に保存されて一部は再結合していくが、読出回路の異常のため、電荷の読み出しが行われず、発生した電荷が蓄積され続け、蓄積容量を超えると、一部の電荷が欠陥周辺素子に流入することにより生じると考えられている。   By the way, there are various causes for the failure of the detector element. For example, as described in paragraph [0004] of the specification of Patent Document 2, a part of the signal is transferred from the defective element to the peripheral element. In some cases, the output of peripheral elements that are leaked out and have no defects also becomes abnormal. This occurs, for example, when holes and electrons generated in a photodiode or the like cannot be read due to an abnormality in the reading circuit of the detector. The charge generated in the photodiode is stored in the capacitance of the element and partly recombined. However, due to the abnormality of the readout circuit, the readout of the charge is not performed, and the generated charge continues to be accumulated and exceeds the accumulation capacity. It is considered that a part of the electric charge flows into the defective peripheral element.

特開2000−79109号公報JP 2000-79109 A 特開平8−75544号公報JP-A-8-75544

このように欠陥素子からの信号が流入した欠陥周辺素子の出力は真値からずれているため、そのまま画像を作成するとアーチファクトが生じるという問題があった。また、従来の画像補正と同様に近傍の素子の出力を用いて欠陥素子の出力を補間すると、真値からずれている欠陥周辺素子の出力を用いて補間することとなってしまうため、画像にアーチファクトが生じるという問題があった。また欠陥周辺素子も欠陥と同様に扱うと、その欠陥周辺素子の検出信号を全く使用せずに補正値を求めることとなり、より遠くの素子の信号しか使用できず補正精度が低下するという問題があった。   As described above, since the output of the defective peripheral element into which the signal from the defective element flows is deviated from the true value, there is a problem that an artifact is generated when an image is generated as it is. Also, if the output of the defective element is interpolated using the output of the nearby element as in the conventional image correction, the interpolation is performed using the output of the defective peripheral element that is deviated from the true value. There was a problem of artifacts. Also, if a defective peripheral element is handled in the same way as a defect, the correction value is obtained without using the detection signal of the defective peripheral element at all, and only a signal from a farther element can be used, resulting in a decrease in correction accuracy. there were.

本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、検出器の欠陥素子の影響が周辺の素子にも及ぶ場合にも高精度に画像補正を行って、アーチファクトの除去、抑制が可能な画像撮影装置を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and even when the influence of a defective element of a detector extends to surrounding elements, it is possible to remove and suppress artifacts by performing image correction with high accuracy. It aims at providing a simple image photographing device.

前述した目的を達成するために第1の発明は、光を検出して電荷に変換し、電荷量に応じた電気信号を出力する検出素子が複数配列された検出器と、前記検出器の各検出素子にて検出された電気信号を出力信号として収集する信号収集装置と、前記信号収集装置により収集した出力信号に対して所定の補正処理を行って画像データを生成する補正手段と、前記画像データに基づいて画像を生成する画像生成手段と、を備えた画像撮影装置であって、前記検出器に含まれる欠陥素子の周辺にある欠陥周辺素子が前記欠陥素子から受ける影響を示す影響量パラメータを予め記憶する記憶手段を備え、前記補正手段が行う補正処理には、前記信号収集装置により収集した出力信号のうち正常な検出素子から得られた出力信号に基づいて前記欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された前記欠陥素子の出力信号と前記記憶手段に記憶された影響量パラメータとに基づいて前記欠陥周辺素子から得られた出力信号を補正する欠陥素子補正処理が含まれ、前記欠陥素子補正処理は、更に、補正後の前記欠陥周辺素子の出力信号に基づいて前記欠陥素子の出力信号を推定する再推定処理を含むことを特徴とする画像撮影装置である。 In order to achieve the above-described object, the first invention provides a detector in which a plurality of detection elements that detect light and convert it into electric charges and output an electric signal corresponding to the amount of electric charges, and each of the detectors. A signal collection device that collects an electrical signal detected by the detection element as an output signal; a correction unit that performs predetermined correction processing on the output signal collected by the signal collection device to generate image data; and the image An image generation device including an image generation unit configured to generate an image based on data, wherein an influence amount parameter indicating an influence of a defective peripheral element around the defective element included in the detector from the defective element Is stored in advance, and the correction process performed by the correction unit includes the defective element based on an output signal obtained from a normal detection element among the output signals collected by the signal collection device. Includes a defect element correction process for estimating an output signal and correcting the output signal obtained from the defect peripheral element based on the estimated output signal of the defect element and the influence amount parameter stored in the storage means The defect element correction process further includes a re-estimation process for estimating an output signal of the defective element based on an output signal of the defective peripheral element after correction .

第2の発明は、光を検出して電荷に変換し、電荷量に応じた電気信号を出力する検出素子が複数配列された検出器と、前記検出器の各検出素子にて検出された電気信号を出力信号として収集する信号収集装置と、前記信号収集装置により収集した出力信号に対して所定の補正処理を行って画像データを生成する補正手段と、前記画像データに基づいて画像を生成する画像生成手段と、を備えた画像撮影装置による画像撮影方法であって、前記検出器に含まれる欠陥素子の周辺にある欠陥周辺素子が前記欠陥素子から受ける影響を示す影響量パラメータを予め記憶し、前記補正手段が行う補正処理には、前記信号収集装置により収集した出力信号のうち正常な検出素子から得られた出力信号に基づいて前記欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された前記欠陥素子の出力信号と前記記憶手段に記憶された影響量パラメータとに基づいて前記欠陥周辺素子から得られた出力信号を補正する欠陥素子補正処理が含まれ、前記欠陥素子補正処理は、更に、補正後の前記欠陥周辺素子の出力信号に基づいて前記欠陥素子の出力信号を推定する再推定処理を含むことを特徴とする画像撮影方法である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a detector in which a plurality of detection elements that detect and convert light into electric charges and output an electric signal corresponding to the amount of electric charges, and the electric current detected by each detection element of the detector. A signal collection device that collects signals as output signals, a correction unit that performs predetermined correction processing on the output signals collected by the signal collection device to generate image data, and an image based on the image data An image capturing method using an image capturing apparatus comprising: an image generating unit; and storing in advance an influence amount parameter indicating an influence of a defective peripheral element around the defective element included in the detector from the defective element. The correction processing performed by the correction means estimates the output signal of the defective element based on the output signal obtained from the normal detection element among the output signals collected by the signal collecting device. , Defective element correction process for correcting the output signal obtained from the defective peripheral device based on the stored amount of influence parameters on the output signal and said storage means estimated the defective element is included, the defective element correction The processing further includes a re-estimation process for estimating an output signal of the defective element based on the output signal of the defective peripheral element after correction .

本発明により、検出器の欠陥素子の影響が周辺の素子にも及ぶ場合にも高精度に画像補正を行って、アーチファクトの除去、抑制が可能な画像撮影装置等を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide an image capturing apparatus or the like that can perform image correction with high accuracy and remove and suppress artifacts even when the influence of a defective element of a detector extends to peripheral elements.

画像撮影装置(X線CT装置)1全体のハードウエアブロック図Hardware block diagram of the entire image photographing apparatus (X-ray CT apparatus) 1 中央処理装置20の内部構成を示すブロック図The block diagram which shows the internal structure of the central processing unit 20 画像撮影装置(X線CT装置)1における処理の流れを示すフローチャートA flowchart showing the flow of processing in the image capturing apparatus (X-ray CT apparatus) 1 欠陥素子補正処理の流れを示すフローチャートFlow chart showing the flow of defective element correction processing ディフェクトマップ206の一例を示す図The figure which shows an example of the defect map 206 欠陥素子補正処理において補間に利用する素子の例(対角配置)を示す図The figure which shows the example (diagonal arrangement) of the element utilized for interpolation in a defective element correction process 欠陥素子補正処理において補間に利用する素子の例(同列配置)を示す図The figure which shows the example (same line arrangement) of the element utilized for interpolation in a defect element correction process 本処理の事前に行われるディフェクトマップ作成処理の流れを示す図The figure which shows the flow of the defect map creation processing performed before this processing 検出器5の各素子の出力値の正常・異常を判別した段階のディフェクトマップ206Bの一例を示す図The figure which shows an example of the defect map 206B of the stage which discriminate | determined the normality / abnormality of the output value of each element of the detector 5 本処理の事前に行われる影響量パラメータ算出処理の流れを示す図The figure which shows the flow of influence amount parameter calculation processing performed in advance of this processing 各検出素子へのX線入射量の調節について説明する図The figure explaining adjustment of the amount of X-rays incident on each detection element 入射量調節時に得られる同スライス各チャネルの素子の出力値分布を示す図The figure which shows the output value distribution of the element of each channel of the same slice obtained at the time of incident amount adjustment 図12に示す各素子の出力値を、全素子正常とした場合に想定される出力値で規格した規格化後出力値のプロファイル41A normalized output value profile 41 in which the output values of the elements shown in FIG. 12 are standardized with the output values assumed when all the elements are normal. 各入力レベルでの信号流出の割合157(信号流出関数f(x))を示すプロファイル43Profile 43 showing the ratio 157 of signal outflow (signal outflow function f (x)) at each input level X線照射量調節の利用されるX線フィルタ111について説明する図The figure explaining the X-ray filter 111 utilized for X-ray irradiation amount adjustment 欠陥素子補正処理における欠陥素子の出力値の再推定処理について説明するフローチャートFlowchart explaining the re-estimation process of the output value of the defective element in the defective element correction process 第2の実施の形態の欠陥素子補正処理(2)の流れを説明するフローチャートThe flowchart explaining the flow of the defective element correction process (2) of the second embodiment.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
なお、以下の実施形態では、本発明に係る画像撮影装置の一例としてX線CT装置1について説明するが、これに限定されない。本発明は、X線診断装置、透視撮影装置、X線コーンビームCT装置等の様々な医用画像撮影装置や、手荷物検査や非破壊検査用のX線CT装置やX線画像撮影装置に適用できる。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
In the following embodiments, the X-ray CT apparatus 1 will be described as an example of an image capturing apparatus according to the present invention, but the present invention is not limited to this. The present invention can be applied to various medical imaging apparatuses such as an X-ray diagnostic apparatus, a fluoroscopic imaging apparatus, an X-ray cone beam CT apparatus, an X-ray CT apparatus and an X-ray imaging apparatus for baggage inspection and non-destructive inspection. .

[第1の実施の形態]
まず、図1を参照して、本発明に係るX線撮像装置の一実施の形態であるX線CT装置1の構成について説明する。
[First Embodiment]
First, a configuration of an X-ray CT apparatus 1 that is an embodiment of an X-ray imaging apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG.

図1に示すように、X線CT装置1は、X線管(X線源)2、コリメータ3、X線検出器5、回転体7、制御装置10、信号収集装置12、中央処理装置20、表示装置21、入力装置22、及び寝台30から構成される。尚、符号8は回転軸方向(スライス方向、体軸方向)、符号9は回転方向(チャネル方向)を示している。   As shown in FIG. 1, an X-ray CT apparatus 1 includes an X-ray tube (X-ray source) 2, a collimator 3, an X-ray detector 5, a rotating body 7, a control device 10, a signal collection device 12, and a central processing device 20. , A display device 21, an input device 22, and a bed 30. Reference numeral 8 denotes a rotation axis direction (slice direction, body axis direction), and reference numeral 9 denotes a rotation direction (channel direction).

X線管2はX線源であり、制御装置10により制御されて被検体33に対してX線を連続的または断続的に照射する。制御装置10は、中央処理装置20により決定されたX線管電圧及びX線管電流に従って、X線管2に印加または供給するX線管電圧及びX線管電流を制御する。   The X-ray tube 2 is an X-ray source, and is controlled by the control device 10 to irradiate the subject 33 with X-rays continuously or intermittently. The control device 10 controls the X-ray tube voltage and the X-ray tube current applied or supplied to the X-ray tube 2 according to the X-ray tube voltage and the X-ray tube current determined by the central processing unit 20.

コリメータ3は、X線管2から放射されたX線を、例えばコーンビーム(円錐形または角錐形ビーム)等のX線として被検体33に照射させるものであり、開口幅は制御装置10により制御される。被検体33を透過したX線はX線検出器5に入射する。   The collimator 3 irradiates the subject 33 with X-rays radiated from the X-ray tube 2 as X-rays such as cone beams (conical or pyramidal beams), for example, and the aperture width is controlled by the control device 10. Is done. X-rays transmitted through the subject 33 enter the X-ray detector 5.

X線検出器5は、例えばシンチレータとフォトダイオードの組み合わせによって構成されるX線検出素子群を回転方向(チャネル方向)9に例えば1000個程度、回転軸方向(スライス方向、体軸方向)8に例えば1〜320個程度配列したものであり、被検体33を介してX線管2に対向するように配置される。X線検出器5はX線管2から放射されて被検体33を透過したX線を検出し、検出した透過X線データを信号収集装置12に出力する。   The X-ray detector 5 includes, for example, about 1000 X-ray detection element groups configured by a combination of a scintillator and a photodiode in the rotation direction (channel direction) 9, and the rotation axis direction (slice direction, body axis direction) 8. For example, about 1 to 320 pieces are arranged and arranged so as to face the X-ray tube 2 with the subject 33 interposed therebetween. The X-ray detector 5 detects X-rays emitted from the X-ray tube 2 and transmitted through the subject 33, and outputs the detected transmitted X-ray data to the signal acquisition device 12.

信号収集装置12は、X線検出器5に接続され、X線検出器5の個々の検出素子で得た電荷を収集し、デジタル信号に変換し、ビュー単位にまとめてローデータを作成し、中央処理装置20へ出力する。   The signal collection device 12 is connected to the X-ray detector 5, collects the electric charges obtained by the individual detection elements of the X-ray detector 5, converts them into digital signals, and creates raw data collectively in view units. Output to the central processing unit 20.

中央処理装置20は、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)、記憶装置等を備え、制御装置10、信号収集装置12、寝台30、表示装置21、入力装置22を制御する。   The central processing unit 20 includes a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), a storage device, and the like, and includes a control device 10, a signal collecting device 12, a bed 30, a display device 21, and an input. The device 22 is controlled.

また、図2に示すように、中央処理装置20は、演算部201、記憶部202、画像再構成部203を備える。   As illustrated in FIG. 2, the central processing unit 20 includes a calculation unit 201, a storage unit 202, and an image reconstruction unit 203.

演算部201は、入力装置22から入力される撮影条件や指示、或いはROMに格納されているプログラムに従ってX線CT装置1の各部を制御し、X線照射、回転体駆動、寝台移動、信号収集等の各処理を行う。また、演算部201は、撮影条件、撮影データ、作成された画像を表示装置21に表示する。また、演算部201は、信号収集装置12が収集したローデータを取得し、ローデータに対して画像処理(図3に示す補正処理を含む)を施し、投影データ(画像データ)を生成し、画像再構成部203に出力する。   The calculation unit 201 controls each part of the X-ray CT apparatus 1 according to imaging conditions and instructions input from the input device 22 or a program stored in the ROM, and performs X-ray irradiation, rotation body driving, bed movement, signal collection. Etc. are performed. In addition, the calculation unit 201 displays shooting conditions, shooting data, and a created image on the display device 21. Further, the calculation unit 201 acquires raw data collected by the signal collecting device 12, performs image processing (including correction processing illustrated in FIG. 3) on the raw data, and generates projection data (image data). The image is output to the image reconstruction unit 203.

記憶部202には、信号収集装置12が収集したローデータの他、補正処理に使用する補正データ(感度・X線分布データ207、オフセットデータ208等)、X線検出器5の欠陥素子等の配置を示すディフェクトマップ206、後述する影響量パラメータ205等が記憶される。また、中央処理装置20の画像再構成部203によって再構成された画像等が記憶される。また、X線CT装置1の機能を実現するためのプログラム、データ等が記憶される。
画像再構成部203は、演算部201から取得した投影データに対して画像再構成処理を施し、被検体33のX線吸収係数分布を示す再構成像を作成し、表示装置21へ出力する。
In the storage unit 202, in addition to raw data collected by the signal collection device 12, correction data (sensitivity / X-ray distribution data 207, offset data 208, etc.) used for correction processing, defective elements of the X-ray detector 5, etc. A defect map 206 indicating the arrangement, an influence amount parameter 205 described later, and the like are stored. In addition, an image reconstructed by the image reconstruction unit 203 of the central processing unit 20 is stored. In addition, a program, data, and the like for realizing the functions of the X-ray CT apparatus 1 are stored.
The image reconstruction unit 203 performs an image reconstruction process on the projection data acquired from the calculation unit 201, creates a reconstruction image indicating the X-ray absorption coefficient distribution of the subject 33, and outputs it to the display device 21.

また、中央処理装置20の演算部201は、上述の補正処理において、X線検出器5に含まれる欠陥素子の出力値を推定する欠陥素子補正処理を行う(図3、図4参照)。
この欠陥素子補正処理において演算部201は、信号収集装置12が収集したX線検出器5の出力信号のうち正常な検出素子から得られた出力信号に基づいて欠陥素子の出力信号を推定する。また、推定された欠陥素子の出力信号と記憶部202に記憶された影響量パラメータ205とに基づいて、欠陥周辺素子から得られた出力信号を補正する。
このような欠陥素子補正処理を行うことによって、電荷が周辺の素子に流出し、故障や異常のない正常な周辺素子(欠陥周辺素子)に影響が及ぶ流出型欠陥のある素子の出力値を推定するだけなく、欠陥周辺素子の出力信号の誤りを補正することが可能となる。また、欠陥素子自体の出力信号は、欠陥周辺素子を除く周囲の正常素子の値を用いて推定するため高精度に補正できる。
Further, the arithmetic unit 201 of the central processing unit 20 performs a defective element correction process for estimating an output value of a defective element included in the X-ray detector 5 in the above correction process (see FIGS. 3 and 4).
In this defective element correction process, the calculation unit 201 estimates the output signal of the defective element based on the output signal obtained from the normal detection element among the output signals of the X-ray detector 5 collected by the signal collection device 12. Further, the output signal obtained from the defective peripheral element is corrected based on the estimated output signal of the defective element and the influence amount parameter 205 stored in the storage unit 202.
By performing such defective element correction processing, charge flows out to the peripheral elements, and the output value of the element with the outflow type defect that affects normal peripheral elements (defective peripheral elements) that have no faults or abnormalities is estimated. In addition, an error in the output signal of the defective peripheral element can be corrected. In addition, since the output signal of the defective element itself is estimated using the values of the surrounding normal elements excluding the defective peripheral elements, it can be corrected with high accuracy.

ここで、影響量パラメータ205について説明する。影響量パラメータ205とは、欠陥素子の周辺にある欠陥周辺素子が欠陥素子から受ける影響の程度を表すものであり、本実施の形態では、影響量パラメータ205の一例として欠陥素子からの信号流出の割合である信号流出関数f(x)146を求め、欠陥周辺素子の出力値の推定(補正)に用いる。
このように、影響量パラメータ205を用いて欠陥周辺素子の出力値を補正することにより欠陥周辺素子の計測値を利用しつつ、補正を行うことができ、補正精度を向上できる。
Here, the influence amount parameter 205 will be described. The influence amount parameter 205 represents the degree of influence that a defective peripheral element around the defective element receives from the defective element. In the present embodiment, as an example of the influence amount parameter 205, the signal outflow from the defective element A signal outflow function f (x) 146, which is a ratio, is obtained and used to estimate (correct) the output value of the defective peripheral element.
In this way, by correcting the output value of the defective peripheral element using the influence amount parameter 205, the correction can be performed while using the measured value of the defective peripheral element, and the correction accuracy can be improved.

また、中央処理装置20の演算部201は、欠陥素子補正処理の他に、X線検出器5のゼロレベルを修正するオフセット補正、X線の照射分布やX線検出器5の感度分布を補正するエア補正等を行う。補正処理及び欠陥素子補正処理の詳細は後述する。   In addition to the defective element correction process, the arithmetic unit 201 of the central processing unit 20 corrects offset correction for correcting the zero level of the X-ray detector 5, X-ray irradiation distribution, and sensitivity distribution of the X-ray detector 5. Perform air correction. Details of the correction process and the defective element correction process will be described later.

回転体7には、X線管2、コリメータ3、X線検出器5、信号収集装置12が搭載される。回転体7は、制御装置10によって制御される回転体駆動装置から、駆動伝達系を通じて伝達される駆動力によって回転する。   An X-ray tube 2, a collimator 3, an X-ray detector 5, and a signal collection device 12 are mounted on the rotating body 7. The rotating body 7 rotates by a driving force transmitted from the rotating body driving device controlled by the control device 10 through a drive transmission system.

表示装置21は、液晶パネル、CRTモニタ等のディスプレイ装置と、ディスプレイ装置と連携して表示処理を実行するための論理回路で構成され、中央処理装置20に接続される。表示装置21は中央処理装置20によって再構成された画像、設定される撮影条件、各種処理結果等を表示する。   The display device 21 includes a display device such as a liquid crystal panel and a CRT monitor, and a logic circuit for executing display processing in cooperation with the display device, and is connected to the central processing device 20. The display device 21 displays an image reconstructed by the central processing unit 20, imaging conditions to be set, various processing results, and the like.

入力装置22は、例えば、キーボード、マウス等のポインティングデバイス、テンキー、及び各種スイッチボタン等により構成され、操作者によって入力される各種の指示や情報を中央処理装置20に出力する。操作者は、表示装置21及び入力装置22を使用して対話的にX線CT装置1を操作する。   The input device 22 includes, for example, a keyboard, a pointing device such as a mouse, a numeric keypad, various switch buttons, and the like, and outputs various instructions and information input by the operator to the central processing unit 20. The operator interactively operates the X-ray CT apparatus 1 using the display device 21 and the input device 22.

寝台30は、被検体33が載置される天板、寝台制御装置、上下動装置、及び天板駆動装置から構成され、図示しない寝台制御装置の制御によって、上下動装置を制御して寝台30の高さを適切なものにする。また、天板駆動装置を制御して天板を体軸方向に前後動したり、体軸と垂直方向であって、かつ天板に平行な方向(左右方向)に移動したりする。これにより、被検体33がX線照射空間に搬入及び搬出される。   The bed 30 includes a top plate on which the subject 33 is placed, a bed control device, a vertical movement device, and a top plate drive device. The bed 30 is controlled by the control of the bed control device (not shown) to control the vertical movement device. Make the height of the appropriate. Further, the top plate driving device is controlled to move the top plate back and forth in the body axis direction, or to move in the direction perpendicular to the body axis and parallel to the top plate (left and right direction). Thereby, the subject 33 is carried into and out of the X-ray irradiation space.

次に、図3〜図8を参照して、X線CT装置1の動作について説明する。   Next, the operation of the X-ray CT apparatus 1 will be described with reference to FIGS.

本実施の形態のX線CT装置1の中央処理装置20は、図3に示す処理を実行する。なお、図3に示す処理は、プログラムとして記憶部202に記憶され、中央処理装置20の演算部201によって記憶部202から読みだされ、実行されるものとしてもよいし、処理回路として実装されるようにしてもよい。   The central processing unit 20 of the X-ray CT apparatus 1 of the present embodiment executes the process shown in FIG. 3 may be stored in the storage unit 202 as a program, read from the storage unit 202 by the arithmetic unit 201 of the central processing unit 20, and executed, or implemented as a processing circuit. You may do it.

まず、入力装置22から実撮影の開始が入力されると、中央処理装置20は制御装置10を制御して、X線源2からX線を照射する。X線はコリメータ3によって照射野が限定されて、寝台30に載置された被検体33に向けて照射され、被検体33を透過して、X線検出器5にて検出される。この撮影を、被検体33の体軸を中心として回転板7を周回させることによりX線照射角度を変化させながら繰り返し行い、360度分の計測データを取得する。撮影は、例えば0.4度毎に行われる。更に、この間もX線焦点の位置制御が行われる。信号収集装置6は、X線検出器5で得た電荷を収集し、デジタル信号に変換し、ビュー単位にまとめてローデータを作成し、中央処理装置20へ出力する。   First, when the start of actual imaging is input from the input device 22, the central processing unit 20 controls the control device 10 to emit X-rays from the X-ray source 2. The X-ray is irradiated to the subject 33 placed on the bed 30 with an irradiation field limited by the collimator 3, passes through the subject 33, and is detected by the X-ray detector 5. This imaging is repeated while changing the X-ray irradiation angle by rotating the rotating plate 7 around the body axis of the subject 33, and measurement data for 360 degrees is acquired. Photographing is performed, for example, every 0.4 degrees. Further, the position control of the X-ray focal point is performed during this time. The signal collection device 6 collects the electric charge obtained by the X-ray detector 5, converts it into a digital signal, creates raw data collectively for each view unit, and outputs it to the central processing unit 20.

中央処理装置20の演算部201は、信号収集装置12からローデータを取得すると(ステップS1)、ローデータに対して補正処理を施して、投影データを作成し、画像再構成部203へ出力する(ステップS2)。次に、画像再構成部203は、複数ビューの投影データを用いて画像再構成処理を行い、被検体33のX線吸収係数分布の再構成像を作成し(ステップS3)、再構成像を表示装置21に表示させる(ステップS4)。   When the arithmetic unit 201 of the central processing unit 20 acquires raw data from the signal collecting device 12 (step S1), the arithmetic unit 201 performs correction processing on the raw data, creates projection data, and outputs the projection data to the image reconstruction unit 203. (Step S2). Next, the image reconstruction unit 203 performs an image reconstruction process using projection data of a plurality of views, creates a reconstructed image of the X-ray absorption coefficient distribution of the subject 33 (step S3), and creates a reconstructed image. It is displayed on the display device 21 (step S4).

ステップS2の補正処理について説明する。
補正処理において、演算部201は、X線検出器5のゼロレベルを修正するオフセット補正(ステップS21)、LOG変換(ステップS22)、X線検出器5の感度分布やX線の照射分布を補正するエア補正(ステップS23)、欠陥素子の出力値を推定する欠陥素子補正(ステップS24)を行う。ここで図3の補正処理の流れは一例であり、本発明はこれに限定されない。例えば、ステップS21〜ステップS24の各処理の順序はこれに限定されず、異なる順序としてもよい。また他の補正を加えてもよい。また、オフセット補正やエア補正が無い場合等も有り得る。
The correction process in step S2 will be described.
In the correction processing, the calculation unit 201 corrects offset correction (step S21), LOG conversion (step S22), sensitivity distribution of the X-ray detector 5, and X-ray irradiation distribution that corrects the zero level of the X-ray detector 5. Air correction (step S23) to be performed and defective element correction (step S24) to estimate the output value of the defective element are performed. Here, the flow of the correction process in FIG. 3 is an example, and the present invention is not limited to this. For example, the order of each process of step S21 to step S24 is not limited to this, and may be a different order. Other corrections may be added. There may also be cases where there is no offset correction or air correction.

図3の例では、演算部201は、まずローデータに対してオフセット補正を行う。
オフセット補正(S21)において、演算部201は、本撮影の事前に作成され記憶部202に保存されているオフセットデータ208を取得し、ローデータから差分する。オフセットデータ208はゼロレベルのデータであり、例えば、X線を照射せずに撮影を行ってローデータを取得し、ビューに対して加算平均処理を行うことにより作成される。
次に、演算部201はLOG変換を行う。LOG変換(S22)では、次式(1)に示す変換処理を行う。
In the example of FIG. 3, the arithmetic unit 201 first performs offset correction on the raw data.
In the offset correction (S21), the calculation unit 201 acquires the offset data 208 created in advance of the main shooting and saved in the storage unit 202, and makes a difference from the raw data. The offset data 208 is zero-level data, and is created, for example, by performing imaging without irradiating X-rays to obtain raw data and performing an averaging process on the view.
Next, the arithmetic unit 201 performs LOG conversion. In the LOG conversion (S22), the conversion process shown in the following equation (1) is performed.

Y=aLOG(X)+b ・・・(1)   Y = aLOG (X) + b (1)

ここで、Xは、変換前の値、Yは、変換後の値、a、bは定数の係数である。   Here, X is a value before conversion, Y is a value after conversion, and a and b are constant coefficients.

次に演算部201は、エア補正を行う。エア補正(S23)では、例えば、本撮影の事前に作成され記憶部202に保存されている感度・X線分布データ207を、LOG変換後のローデータから差分する。感度・X線分布データ207は、例えば被検体33を設けずに、X線管2からX線を照射した際に取得したローデータに対してオフセット補正、ビューに対する加算平均処理、及びLOG変換を行うことで作成される。   Next, the calculation unit 201 performs air correction. In the air correction (S23), for example, the sensitivity / X-ray distribution data 207 created in advance of main imaging and stored in the storage unit 202 is subtracted from the raw data after LOG conversion. Sensitivity / X-ray distribution data 207 includes, for example, subjecting the raw data acquired when X-rays are irradiated from the X-ray tube 2 without providing the subject 33 to offset correction, view averaging processing, and LOG conversion. Created by doing.

次に演算部201は、欠陥素子補正を行う。
欠陥素子補正(S24)では、演算部201は、本撮影の事前に予め作成されているディフェクトマップ206を参照する(図8の事前処理A;ディフェクトマップ作成処理)。ディフェクトマップ206とは、X線検出器5の各素子の配置と、欠陥であるか否か及び欠陥である場合は欠陥の種類を表したものである。図5に示すように、X線検出器5の全素子の並びと対応した配列に、素子の種類を例えば、「0;出力値正常」、「1;出力値異常(欠陥素子)」、「2(出力値異常;欠陥周辺素子)」のように表す。図5のディフェクトマップ206は、8×8素子からなるX線検出器5についてのディフェクトマップ206を例示しているが、素子数はこれに限定されない。
Next, the calculation unit 201 performs defect element correction.
In the defective element correction (S24), the calculation unit 201 refers to the defect map 206 created in advance before the actual photographing (pre-processing A in FIG. 8; defect map creation processing). The defect map 206 represents the arrangement of each element of the X-ray detector 5, whether or not it is a defect, and the type of defect if it is a defect. As shown in FIG. 5, in the arrangement corresponding to the arrangement of all elements of the X-ray detector 5, the types of elements are, for example, “0: normal output value”, “1: abnormal output value (defective element)”, “ 2 (abnormal output value; defective peripheral element) ”. The defect map 206 in FIG. 5 illustrates the defect map 206 for the X-ray detector 5 composed of 8 × 8 elements, but the number of elements is not limited to this.

また、本撮影の事前に、影響量パラメータ205を求め、記憶部202に保存しておく必要がある(図10の事前処理B;影響量パラメータ算出処理)。影響量パラメータとは、欠陥素子が欠陥周辺素子に対して及ぼす影響量を示すパラメータであり、例えば後述する信号流出関数f(x)等である。   Further, it is necessary to obtain the influence amount parameter 205 and store it in the storage unit 202 in advance of the main photographing (pre-processing B in FIG. 10; influence amount parameter calculation processing). The influence amount parameter is a parameter indicating an influence amount that a defective element exerts on a defect peripheral element, and is, for example, a signal outflow function f (x) described later.

ディフェクトマップ206及び影響量パラメータ205が既に記憶部202に保存されているものとし、ステップS24の欠陥素子補正処理について図4を参照して説明する。   It is assumed that the defect map 206 and the influence amount parameter 205 are already stored in the storage unit 202, and the defective element correction process in step S24 will be described with reference to FIG.

欠陥素子補正処理において、まず、中央処理装置20の演算部201は記憶部202に記憶されているディフェクトマップ206を参照する(ステップS241)。
本実施の形態では、図5に示すディフェクトマップ206の(3,3)の画素が流出型欠陥素子に該当し、隣接する(3,2)、(2,3)、(4,3)、(3,4)の画素にその影響が及ぶ例について説明する。流出型欠陥とは、X線検出器5の読出回路に欠陥があるために、フォトダイオードが開放状態にあり、更にそのフォトダイオードで生じた電荷が読み出されることなく隣接する素子(周辺素子)へ流入して、隣接画素(周辺画素)にも出力異常が発生する欠陥である。すなわち、(3,2)、(2,3)、(4,3)、(3,4)にある素子には故障はなく、周辺の欠陥素子(流出型欠陥素子)からの影響によって出力値に異常が生じている。また、欠陥のある(3,3)の画素に該当する素子からは、発生した電荷が読み出せないため、出力値に異常が発生する。
なお、図5のディフェクトマップ206では、流出型欠陥素子のスライス方向及びチャネル方向に隣接する素子のみに電荷が流出している例を示しているが、電荷の流出範囲は隣接素子に限らず、より遠くの素子に及ぶことも考えられるため、「欠陥周辺素子」には、流出型欠陥素子から電荷流出の影響を受けたすべての素子が含まれる。
In the defective element correction process, first, the arithmetic unit 201 of the central processing unit 20 refers to the defect map 206 stored in the storage unit 202 (step S241).
In the present embodiment, the pixel (3, 3) in the defect map 206 shown in FIG. 5 corresponds to the outflow type defective element, and the adjacent (3, 2), (2, 3), (4, 3), An example in which the influence is exerted on the pixel (3, 4) will be described. The outflow type defect is that the readout circuit of the X-ray detector 5 has a defect, so that the photodiode is in an open state, and further, the charge generated in the photodiode is not read out to the adjacent element (peripheral element). This is a defect in which an output abnormality occurs also in adjacent pixels (peripheral pixels). That is, there is no failure in the elements in (3, 2), (2, 3), (4, 3), and (3, 4), and the output value is influenced by the influence from peripheral defective elements (outflow type defective elements). An abnormality has occurred. Further, since the generated charge cannot be read from the element corresponding to the defective (3, 3) pixel, an abnormality occurs in the output value.
Note that the defect map 206 in FIG. 5 shows an example in which the charge flows out only to the element adjacent to the slice direction and the channel direction of the outflow type defective element, but the charge outflow range is not limited to the adjacent element, Since it is possible to extend to a farther element, the “defect peripheral element” includes all elements affected by the outflow of charge from the outflow type defect element.

図5のディフェクトマップ206では、欠陥素子(流出型欠陥素子)に「1」が付与される。また、(3,2)、(2,3)、(4,3)、(3,4)の画素のように流出型欠陥素子からの信号流出によって異常出力と判断された素子を欠陥周辺素子とする。ディフェクトマップ206には「2」が付与される。その他、出力値が正常な素子は正常素子とし、ディフェクトマップ206に「0」が付与される。   In the defect map 206 of FIG. 5, “1” is given to the defective element (outflow type defective element). In addition, an element that is determined to be abnormal output due to a signal outflow from the outflow type defective element, such as the pixels of (3, 2), (2, 3), (4, 3), and (3, 4). And “2” is assigned to the defect map 206. In addition, an element with a normal output value is a normal element, and “0” is assigned to the defect map 206.

このディフェクトマップ206を参照して、演算部201は、欠陥素子(図5の値「1」)の出力値を推定する(ステップS242)。演算部201は、欠陥素子の出力値を、正常素子の出力値を用いて補間により推定する。
補間に用いる素子は、例えば、図6の斜線部に示すように、欠陥素子(3,3)を中心として対角に位置し(スライス方向及びチャネル方向を二分する方向に位置し)、かつ欠陥周辺素子でない素子(2,2)、(2,4)、(4,2)、(4,4)の出力値を用いることができる。補間演算に用いる数式はどのようなものでもよく、例えば、素子(2,2)、(2,4)、(4,2)、(4,4)の出力値の平均値等によって求めることができる。
Referring to this defect map 206, operation unit 201 estimates the output value of the defective element (value “1” in FIG. 5) (step S242). The calculation unit 201 estimates the output value of the defective element by interpolation using the output value of the normal element.
The elements used for the interpolation are located diagonally with the defective element (3, 3) as the center (positioned in a direction that bisects the slice direction and the channel direction), as shown by the hatched portion in FIG. The output values of the elements (2, 2), (2, 4), (4, 2), (4, 4) that are not peripheral elements can be used. Any mathematical expression may be used for the interpolation calculation, for example, it may be obtained from an average value of output values of the elements (2, 2), (2, 4), (4, 2), (4, 4). it can.

このように欠陥素子の近傍に位置し、かつ欠陥周辺素子ではない正常素子からの出力信号を用いて欠陥素子の出力値を推定するので、相関の強い、信頼性の高い補間を行える。また欠陥素子から信号が流入している素子(欠陥周辺素子「2」)の信号を用いずに補正を行うため、高精度に補正できる。   As described above, since the output value of the defective element is estimated using the output signal from the normal element that is located in the vicinity of the defective element and is not the defective peripheral element, highly correlated and highly reliable interpolation can be performed. Further, since the correction is performed without using the signal of the element (defect peripheral element “2”) in which a signal flows from the defective element, the correction can be performed with high accuracy.

なお、上述の説明では、流出型欠陥素子(3,3)を中心として対角に位置する4つの正常素子を用いて流出型欠陥素子の補正値を算出する例(図6)を示したが、図6の斜線部に示す正常素子(2,2)、(2,4)、(4,2)、(4,4)のうち幾つかの素子の出力を用いて補正値を算出するようにしてもよい。特に流出型欠陥素子がX線検出器5の端部にある場合、端部側には正常素子が存在しないため、流出型欠陥素子(3,3)から斜め方向に位置する正常素子のうち幾つかを用いて補間することが有効である。例えば(2,1)に流出型欠陥素子がある場合、(1,2)、(3,2)の素子の出力を用いて補間すればよい。また正常素子の出力値の平均を補正値としたが、これに限定されず、更に重み付けの異なる加算平均を用いてもよいし、関数を用いて推定するようにしてもよい。   In the above description, an example (FIG. 6) in which the correction value of the outflow defect element is calculated using four normal elements diagonally centered on the outflow defect element (3, 3). The correction values are calculated using the outputs of some of the normal elements (2, 2), (2, 4), (4, 2), and (4, 4) indicated by the hatched portion in FIG. It may be. In particular, when the outflow type defective element is located at the end of the X-ray detector 5, there is no normal element on the end side, so some of the normal elements located obliquely from the outflow type defective element (3, 3). It is effective to interpolate using. For example, when there is an outflow type defective element in (2, 1), interpolation may be performed using the output of the elements (1, 2) and (3, 2). The average of the output values of the normal elements is used as the correction value. However, the present invention is not limited to this, and an addition average with different weights may be used, or estimation may be performed using a function.

また、流出型欠陥素子と同列(同一チャネルや同一スライス)にあり、欠陥周辺素子でない素子の出力値を用いて流出型欠陥素子の出力値を補間してもよい。例えば図7の斜線部に示すように、欠陥素子(3,3)のチャネル方向またはスライス方向のいずれか一方向にあり、欠陥周辺素子でない素子(1,3)及び(5,3)(または(3,1)及び(3,5))の出力値を用い、線形補間により出力値を推定するようにしてもよい。このように流出型欠陥素子及び欠陥周辺素子を挟み、同列にある正常素子の出力値を用いて補間すれば、1スライスや2スライスの撮影においても適用できる。また、X線検出器5の各素子が1列に配置された1次元検出器の場合にも適用できる。更に補間に用いる素子は2点に限定する必要はなく、より多くの同一チャネルまたは同一スライスのデータを用いて補間してもよい。例えば(3,1)、(3,5)、及び(3,6)の素子の値を用いて、(3,3)の流出型欠陥素子の値を求めてもよい。この場合は更に欠陥素子からの距離に応じた重み付け加算を行ってもよいし、なんらかの関数を用いて推定するようにしてもよい。   Alternatively, the output value of the outflow type defective element may be interpolated using the output value of the element that is in the same row (same channel or same slice) as the outflow type defective element and is not a defective peripheral element. For example, as indicated by the hatched portion in FIG. 7, the elements (1, 3) and (5, 3) (or the non-defective peripheral elements that are in one of the channel direction and the slice direction of the defective element (3, 3) (or The output value may be estimated by linear interpolation using the output values (3, 1) and (3, 5). As described above, if the outflow-type defect element and the defect peripheral element are sandwiched and the interpolation is performed using the output value of the normal element in the same row, the present invention can be applied to imaging of one slice or two slices. The present invention can also be applied to a one-dimensional detector in which the elements of the X-ray detector 5 are arranged in one row. Furthermore, the elements used for interpolation need not be limited to two points, and may be interpolated using data of a larger number of the same channel or the same slice. For example, the values of the outflow defect elements of (3, 3) may be obtained using the values of the elements of (3, 1), (3, 5), and (3, 6). In this case, weighted addition according to the distance from the defective element may be performed, or estimation may be performed using some function.

図4の説明に戻る。
次に、中央処理装置20の演算部201は欠陥周辺素子(3,2)、(2,3)、(4,3)、(3,4)の信号を、ステップS242で求めた欠陥素子(3,3)の推定値及び記憶部202に記憶されている影響量パラメータ205を用いて補正する(ステップS243)。影響量パラメータ205としては、信号流出関数f(x)146を用いる。信号流出関数f(x)146とは、欠陥素子が仮に正常に出力した場合の欠陥周辺素子の出力値に対する欠陥周辺素子への電荷の流出量の割合を表したものである。
Returning to the description of FIG.
Next, the calculation unit 201 of the central processing unit 20 uses the defective element (3, 2), (2, 3), (4, 3), (3,4) as the defective element (step S242) obtained in step S242. 3 and 3) and the influence amount parameter 205 stored in the storage unit 202 are used for correction (step S243). As the influence amount parameter 205, a signal outflow function f (x) 146 is used. The signal outflow function f (x) 146 represents the ratio of the amount of charge outflow to the defective peripheral element with respect to the output value of the defective peripheral element when the defective element normally outputs.

本実施の形態では、説明の簡略のために周囲4つの欠陥周辺素子に対して共通の信号流出関数f(x)を適用するものとして説明するが、個々の欠陥周辺素子に対して流出量が異なる場合もあり得るため、各欠陥周辺素子に個別の信号流出関数f(x)を適用してもよい。なお、信号流出関数f(x)の決定方法については後に詳しく説明する(図10参照)。   In the present embodiment, for simplicity of explanation, a common signal outflow function f (x) is applied to four peripheral peripheral elements. However, the outflow amount is small for each peripheral peripheral element. Since it may be different, an individual signal outflow function f (x) may be applied to each defective peripheral element. A method for determining the signal outflow function f (x) will be described in detail later (see FIG. 10).

ステップS242で算出した欠陥素子(3,3)の推定値zは欠陥素子が仮に正常に出力した場合の出力値xとほぼ等しいと考えられるので、欠陥素子(3,3)から欠陥周辺素子(3,2)、(2,3)、(4,3)、(3,4)へは、z・f(z)だけ信号が流入していることとなる。各欠陥周辺素子の補正後の出力値は、計測値(補正前)からこの流入分を引いた値(計測値‐z・f(z))となる(ステップS243)。   Since the estimated value z of the defective element (3, 3) calculated in step S242 is considered to be substantially equal to the output value x when the defective element normally outputs, it is assumed that the defective peripheral element (3 3, 2), (2, 3), (4, 3), and (3,4), a signal flows in by z · f (z). The corrected output value of each defective peripheral element is a value (measurement value−z · f (z)) obtained by subtracting this inflow from the measurement value (before correction) (step S243).

このように、計測により得た欠陥周辺素子の出力値を利用して欠陥周辺素子の補正値を求めることで、欠陥周辺素子に入射したX線の信号を利用することができるため、単に隣接する素子から内挿や外挿で推定を行うよりも、高精度な補正が実現できる。   In this way, by obtaining the correction value of the defect peripheral element using the output value of the defect peripheral element obtained by the measurement, the X-ray signal incident on the defect peripheral element can be used. More accurate correction can be realized than when estimation is performed by interpolation or extrapolation from an element.

次に、ディフェクトマップ作成処理について、図8、図9を参照して説明する。
ディフェクトマップ作成処理において、演算部201は、補正データとして保持している感度・X線分布データ207を用いて異常出力素子を決定する。すなわち、演算部201は、記憶部202から感度・X線分布データ207を読み出し(ステップS51)、感度・X線分布データ207に基づいて異常素子と判定する出力値範囲を決定し(ステップS52)、その出力値範囲に該当する出力値を示す素子を異常素子と判定する(ステップS53)。
例えば、所定強度のX線照射時における感度・X線分布データ207を用いて全素子の出力値の平均値及び標準偏差を算出し、平均値から標準偏差の例えば5倍以上離れた出力値範囲を異常出力範囲とする。そして、各素子について異常出力範囲であるか否かを判定し、異常出力範囲であれば「1」、異常出力範囲でなければ「0」をディフェクトマップ206の該当する画素位置に付与する。図9は、異常出力範囲であるか否かを示した状態のディフェクトマップ206Bを示している。画素(3,2)、(2,3)、(3,3)、(4,3)、(3,4)が出力値異常であり、その他の画素は出力値正常と判定されている。
Next, the defect map creation process will be described with reference to FIGS.
In the defect map creation process, the arithmetic unit 201 determines an abnormal output element using the sensitivity / X-ray distribution data 207 held as correction data. That is, the calculation unit 201 reads the sensitivity / X-ray distribution data 207 from the storage unit 202 (step S51), and determines an output value range for determining an abnormal element based on the sensitivity / X-ray distribution data 207 (step S52). The element showing the output value corresponding to the output value range is determined as an abnormal element (step S53).
For example, the average value and the standard deviation of the output values of all elements are calculated using the sensitivity / X-ray distribution data 207 at the time of X-ray irradiation of a predetermined intensity, and the output value range separated from the average value by, for example, 5 times the standard deviation Is the abnormal output range. Then, it is determined whether or not each element is in the abnormal output range, and “1” is given to the corresponding pixel position in the defect map 206 if it is the abnormal output range and “0” if it is not the abnormal output range. FIG. 9 shows a defect map 206B in a state indicating whether or not the output range is an abnormal output range. Pixels (3, 2), (2, 3), (3, 3), (4, 3), and (3, 4) are abnormal output values, and the other pixels are determined to have normal output values.

次に演算部201は、異常出力を示す素子が、流出型欠陥素子であるか、欠陥周辺素子であるかを分別する(ステップS54)。分別の方法は、例えば、異常出力を示す素子の配列の仕方から判断する。具体的には、例えば、異常素子が隣接して群を成しており、かつ複数の異常素子に挟まれる素子を流出型欠陥素子(図5の値「1」)と分別する。また、流出型欠陥素子以外の異常素子を欠陥周辺素子(図5の値「2」)と分別する。演算部201は、上述の手順で作成したディフェクトマップ206を記憶部202に保存する。   Next, the calculation unit 201 classifies whether an element indicating an abnormal output is an outflow type defective element or a defective peripheral element (step S54). The classification method is determined, for example, from the arrangement of elements that show abnormal output. Specifically, for example, the elements in which the abnormal elements are adjacent to each other and are sandwiched between the plurality of abnormal elements are classified as outflow-type defect elements (value “1” in FIG. 5). Also, abnormal elements other than outflow type defective elements are separated from defective peripheral elements (value “2” in FIG. 5). The calculation unit 201 stores the defect map 206 created in the above-described procedure in the storage unit 202.

なお、上述のディフェクトマップ作成処理は一例であり、別の方法を採用してもよい。例えばステップS53の異常素子判別ステップにて異常素子を判断するために感度・X線分布データ207を用いずに、別途画像を取得するようにしてもよい。例えば、X線を用いてエア画像を得たり、ファントムを用いて複数種類の画像を取得し、異常素子の判断に用いるようにしてもよい。更に、他の補正のために取得した画像を用いて異常素子を判断してもよい。またX線検出器5に光を照射する機能を更に備え、その光を照射した際に得た画像から欠陥素子を抽出してもよい。また、実撮影の事前に異常素子の判断を行っておくのではなく、実撮影の投影データを用いて再構成像からアーチファクトを抽出し、そのアーチファクトの発生位置に基づいて出力値異常であるか否かを判断するようにしてもよい。また、ステップS52の異常出力範囲決定ステップでは、平均値と標準偏差とを用いて異常出力範囲を求めたがこれに限定するものではなく、所定の閾値により決定してもよい。   The above-described defect map creation process is an example, and another method may be adopted. For example, a separate image may be acquired without using the sensitivity / X-ray distribution data 207 in order to determine an abnormal element in the abnormal element determination step of step S53. For example, an air image may be obtained using X-rays, or a plurality of types of images may be obtained using a phantom, and used for determination of abnormal elements. Furthermore, an abnormal element may be determined using an image acquired for other correction. Moreover, the function which irradiates light to the X-ray detector 5 may further be provided, and a defective element may be extracted from an image obtained when the light is irradiated. Also, instead of determining abnormal elements in advance of actual shooting, whether artifacts are extracted from the reconstructed image using the actual shooting projection data, and the output value is abnormal based on the position where the artifact is generated It may be determined whether or not. In the abnormal output range determination step in step S52, the abnormal output range is obtained using the average value and the standard deviation. However, the present invention is not limited to this, and it may be determined by a predetermined threshold value.

またステップS54の欠陥素子判定ステップでは、流出型欠陥素子と欠陥周辺素子の両方を異常素子として検出したが、流出型欠陥素子のみ検出するようにしてもよい。流出型欠陥素子はX線(光)を照射しても出力に変化が無いことが多いため、X線画像等から比較的容易に検出できる。この場合はその流出型欠陥素子に隣接する素子を欠陥周辺素子と判断するようにするとよい。ただし、予め流出型欠陥素子と非流出型欠陥素子との分別を行っておくことが望ましい。
更に、ステップS54の欠陥素子分別ステップでは、異常出力を示す素子がチャネル方向及びスライス方向に挟まれる素子を流出型欠陥素子と判別したが、このような分別方法に限定されず、例えば、異常素子にチャネル方向またはスライス方向の一方向のみに挟まれる素子を流出型欠陥素子と判別し、これに隣接する素子を欠陥周辺素子と判別してもよい。また出力値に基づいて欠陥素子、欠陥周辺素子を判別してもよい。この場合、例えば、流出型欠陥素子はフォトダイオードが開放状態にあり、欠陥周辺素子はその信号の一部が流入して増加しているので、感度・X線分布データのようなX線画像を用いて、一定レベル以下の出力の画素を流出型欠陥素子とし、一定レベル以上の出力の素子を欠陥周辺素子と判断するようにしてもよい。
In the defective element determination step in step S54, both the outflow type defective element and the defective peripheral element are detected as abnormal elements, but only the outflow type defective element may be detected. In many cases, the outflow-type defect element has no change in output even when irradiated with X-rays (light), and can be detected relatively easily from an X-ray image or the like. In this case, an element adjacent to the outflow type defective element may be determined as a defective peripheral element. However, it is desirable to separate the outflow type defect element and the non-outflow type defect element in advance.
Furthermore, in the defective element classification step of step S54, an element in which an element showing an abnormal output is sandwiched in the channel direction and the slice direction is determined as an outflow type defective element. However, the present invention is not limited to such a classification method. Alternatively, an element sandwiched only in one direction of the channel direction or the slice direction may be determined as an outflow-type defective element, and an element adjacent to the element may be determined as a defective peripheral element. Further, the defective element and the defective peripheral element may be determined based on the output value. In this case, for example, since the photodiode is in an open state in the outflow type defective element and the defect peripheral element is increased by a part of the signal flowing in, the X-ray image such as sensitivity / X-ray distribution data is obtained. It is also possible to use a pixel having an output of a certain level or less as an outflow-type defective element and determine an element having an output of a certain level or more as a defective peripheral element.

次に、影響量パラメータ算出処理について、図10〜図15を参照して説明する。
影響量パラメータ算出処理は、本撮影の事前処理として行われる。
影響量パラメータ算出処理では、X線検出器5の前面にX線遮蔽物を設け、欠陥周辺素子に入射するX線量を調節(遮蔽)した状態で撮影を行い、ローデータを取得する(ステップS61,S62)。X線遮蔽物としては、例えば鉛板やタングステン板を用いる。X線遮蔽物は、欠陥周辺素子(図11の素子152)に対する入射X線を遮蔽し、流出型欠陥素子(図11の素子151)にはX線が入射するように配置される。
このように、欠陥周辺素子に入射するX線量を調整(遮蔽)した状態で、演算部201は信号収集装置6からローデータを取得し、このローデータに対して図3のフローチャートに示した補正処理のうち、欠陥素子補正処理とLOG変換を除く補正処理を行って投影データを作成する(ステップS63)。すなわち、オフセット補正(S631)、エア補正(S633)を行って、投影データを作成する。
Next, the influence amount parameter calculation processing will be described with reference to FIGS.
The influence amount parameter calculation process is performed as a preliminary process for the main photographing.
In the influence amount parameter calculation processing, an X-ray shield is provided on the front surface of the X-ray detector 5 and imaging is performed with the X-ray dose incident on the defect peripheral element adjusted (shielded) to obtain raw data (step S61). , S62). For example, a lead plate or a tungsten plate is used as the X-ray shield. The X-ray shield shields incident X-rays on the defect peripheral element (element 152 in FIG. 11), and is arranged so that X-rays are incident on the outflow-type defect element (element 151 in FIG. 11).
Thus, in a state where the X-ray dose incident on the defect peripheral element is adjusted (shielded), the calculation unit 201 acquires raw data from the signal collection device 6, and corrects the raw data with the correction shown in the flowchart of FIG. Among the processes, a defective element correction process and a correction process excluding LOG conversion are performed to create projection data (step S63). That is, offset correction (S631) and air correction (S633) are performed to create projection data.

ここで、得られた投影データのうち、あるスライスのチャネル方向の出力分布の一例を図12に示す。
図12において、点線155はX線遮蔽物の端部位置を表す。また、実線の丸は流出型欠陥素子151が含まれる3スライス目の出力を表す。また、点線の丸は流出型欠陥素子も欠陥周辺素子もない、例えば5スライス目の出力を表している。点線の丸153等は、曲線154上にある。
図12に示す151、152、153の符号は、図11の同一符号の素子の出力値を表すものとする。
Here, FIG. 12 shows an example of the output distribution in the channel direction of a certain slice among the obtained projection data.
In FIG. 12, a dotted line 155 represents the end position of the X-ray shield. The solid circle represents the output of the third slice in which the outflow defect element 151 is included. Also, the dotted circle represents the output of, for example, the fifth slice with no outflow type defective element and defective peripheral element. A dotted circle 153 or the like is on the curve 154.
Reference numerals 151, 152, and 153 shown in FIG. 12 represent output values of elements having the same reference numerals in FIG.

図12に示す出力分布を用い、演算部201は、欠陥素子を含む3スライス目の出力(実線の丸)を、欠陥素子を含まないスライス(例えば、5スライス目)の出力(点線の丸)で規格化する。すると、図13に示すプロファイル41が得られる。流出型欠陥素子151及び欠陥周辺素子152以外の正常素子では、3スライス目と5スライス目の出力値がほぼ等しいため、規格化後出力値は、直線156上にのる。すなわち、正常素子の規格化後出力値は約「1」となる。
一方、欠陥周辺素子152については、3スライス目と5スライス目とで異なる出力値を示すため、規格化後出力値は直線156(正常素子の規格化後出力値「1」)からずれ量157だけずれる。このずれ量157が、流出型欠陥素子151から欠陥周辺素子152への電荷の流入量である。欠陥周辺素子152が遮蔽されていなければ、X線の入力量は隣の素子153と同程度と考えられるため、遮蔽されない状態かつ正常素子であれば、図12に示す出力値158と同程度の出力を生じたと予想される。従って、上述のずれ量(電荷流入量)157と、欠陥周辺素子152が正常であった場合の出力値158とから、欠陥周辺素子152への信号流出の割合を求めることができる。
Using the output distribution shown in FIG. 12, the calculation unit 201 outputs the output of the third slice including the defective element (solid line circle) to the output of the slice not including the defective element (for example, the fifth slice) (dotted line circle). Standardize with. Then, the profile 41 shown in FIG. 13 is obtained. In normal elements other than the outflow-type defect element 151 and the defect peripheral element 152, the output values of the third slice and the fifth slice are substantially equal, and thus the normalized output value is on the straight line 156. That is, the normalized output value of the normal element is about “1”.
On the other hand, since the defect peripheral element 152 shows different output values in the third slice and the fifth slice, the output value after normalization is a deviation 157 from the straight line 156 (normal element output value “1” after normal element). Just shift. This shift amount 157 is the amount of charge flowing from the outflow defect element 151 into the defect peripheral element 152. If the defective peripheral element 152 is not shielded, the input amount of X-rays is considered to be approximately the same as that of the adjacent element 153. Therefore, if the defective peripheral element 152 is not shielded and is a normal element, it is approximately equal to the output value 158 shown in FIG. Expected to produce output. Therefore, the ratio of the signal outflow to the defective peripheral element 152 can be obtained from the above-described deviation amount (charge inflow amount) 157 and the output value 158 when the defective peripheral element 152 is normal.

図14は、各入力X線量レベルでの信号流出の割合を示すプロファイル43である。この結果にフィッティングを行うことで、信号流出を表す関数が決定でき、これからLOG変換後における信号流出の割合を表す信号流出関数f(x)146を決定できる。   FIG. 14 is a profile 43 showing the rate of signal outflow at each input X-ray dose level. By fitting the result, a function representing signal outflow can be determined, and from this, a signal outflow function f (x) 146 representing the ratio of signal outflow after LOG conversion can be determined.

図10のフローチャートに示すように、中央処理装置20の演算部201は、S63の補正処理後の投影データを用いて欠陥素子から欠陥周辺素子への電荷の流入量を求め(図10のステップS64)、信号流出の割合を求める(ステップS65)。更に、ステップS61〜S65の処理を入力X線量を変えながら繰り返し、各X線量レベルでの信号流出の割合を求め、これらの入力X線量と信号流出の割合との関係から信号流出関数f(x)146を求め、影響量パラメータ205として記憶部202に記憶する(ステップS66)。   As shown in the flowchart of FIG. 10, the arithmetic unit 201 of the central processing unit 20 obtains the amount of charge flowing from the defective element to the defective peripheral element using the projection data after the correction process of S63 (step S64 of FIG. 10). ) And the ratio of signal outflow is obtained (step S65). Further, the processing of steps S61 to S65 is repeated while changing the input X-ray dose, the ratio of the signal outflow at each X-ray dose level is obtained, and the signal outflow function f (x 146 is obtained and stored in the storage unit 202 as the influence amount parameter 205 (step S66).

なお、X線遮蔽物によってチャネル方向に入力X線量を調節し、流出型欠陥素子のチャネル方向への影響(信号流出関数f(x))を求めたが、これは一例であり、スライス方向についても入力X線量を調整し、流出型欠陥素子によるスライス方向への影響(信号流出関数)を求めることもできる。例えば、X線遮蔽物によってスライス方向に入力X線量を調整し、素子152の場合と同様に、信号流出関数f(x)146を決定しても良い。更にチャネル方向、スライス方向の両方向に同時に入力X線量を調整し、信号流出関数f(x)146を決定するようにしてもよい。   The input X-ray dose is adjusted in the channel direction by the X-ray shield, and the influence (signal outflow function f (x)) of the outflow defect element on the channel direction is obtained. This is an example, and the slice direction is In addition, the input X-ray dose can be adjusted to determine the influence (signal outflow function) on the slice direction by the outflow type defect element. For example, the input X-ray dose may be adjusted in the slice direction using an X-ray shield, and the signal outflow function f (x) 146 may be determined in the same manner as in the case of the element 152. Furthermore, the input X-ray dose may be adjusted simultaneously in both the channel direction and the slice direction, and the signal outflow function f (x) 146 may be determined.

更に、X線フィルタ111を用いてX線照射分布に傾斜を設け、このときのエア画像(被検体のない状態で撮影された画像)を用いて信号流出関数f(x)146を決定してもよい。図15にX線フィルタ111の一例を示す。
図15は、図1のX線CT装置1についての回転軸(スライス)方向断面の概略図である。
Further, the X-ray filter 111 is used to provide an inclination in the X-ray irradiation distribution, and the signal outflow function f (x) 146 is determined using the air image at this time (image taken without the subject). Also good. FIG. 15 shows an example of the X-ray filter 111.
FIG. 15 is a schematic view of a cross section in the rotation axis (slice) direction of the X-ray CT apparatus 1 of FIG.

X線CT装置1は、X線管2から出たX線がX線コリメータ3で照射野を限定されてX線検出器5に至る構造を成すが、更に、X線フィルタ111を挿入可能な構造を付加することにより、X線照射分布に傾斜を設けるようにする。
X線フィルタ111は、図15に示すように、X線管2とコリメータ3の間に挿入される。材質は、X線を完全に遮蔽せず、多少透過するものが好ましい。例えば、アルミニウム等の材質が用いられる。またX線フィルタ111の形状は、所望のX線照射分布に応じた形状をなし、例えば、スライス方向に照射分布の傾斜を設ける場合はスライス方向に厚みが変化するものとし、チャネル方向に照射分布の傾斜を設ける場合はチャネル方向に厚みが変化するものとする。図15では、スライス方向に傾斜を有する三角柱の形状を有するX線フィルタ111を例示している。X線フィルタ111は、X線フィルタ移動機構112にて、図15の矢印106方向に移動されて挿入される。X線フィルタ移動機構112は、駆動装置を備え、制御装置10により動作が制御される。
The X-ray CT apparatus 1 has a structure in which the X-ray emitted from the X-ray tube 2 is limited to the irradiation field by the X-ray collimator 3 and reaches the X-ray detector 5. Further, an X-ray filter 111 can be inserted. By adding a structure, the X-ray irradiation distribution is inclined.
As shown in FIG. 15, the X-ray filter 111 is inserted between the X-ray tube 2 and the collimator 3. The material is preferably a material that does not completely shield X-rays and is somewhat transparent. For example, a material such as aluminum is used. The X-ray filter 111 has a shape corresponding to a desired X-ray irradiation distribution. For example, when an inclination of the irradiation distribution is provided in the slice direction, the thickness changes in the slice direction, and the irradiation distribution in the channel direction. When the slope is provided, the thickness changes in the channel direction. FIG. 15 illustrates an X-ray filter 111 having a triangular prism shape having an inclination in the slice direction. The X-ray filter 111 is moved and inserted by the X-ray filter moving mechanism 112 in the direction of arrow 106 in FIG. The X-ray filter moving mechanism 112 includes a driving device, and the operation is controlled by the control device 10.

回転軸方向(スライス方向)に厚みの変化するX線フィルタ111がX線管2とX線コリメータ3の間に挿入されると、X線照射分布は、回転軸方向(スライス方向)に傾斜した分布となって、X線検出器5に入力される。この分布の変化を利用すれば、図11に示すようにX線遮蔽物を用いた場合と同様にスライス方向への信号流出関数f(x)146を決定することができる。
すなわち、X線フィルタ111とX線フィルタ移動機構112を更に備え、X線フィルタ移動機構112によってX線フィルタ111の位置を移動させながら、様々な照射量(X線検出器への入力量)でのローデータを取得すれば、信号流出関数f(x)146を容易かつ短時間に算出することができる。これにより、経時的に流出型欠陥素子が生じてしまい、予め信号流出関数f(x)146(影響量パラメータ)を記憶していない場合でも信号流出関数f(x)146(影響量パラメータ)を決定でき、欠陥素子補正処理を含む補正処理を迅速に行うことができる。
When the X-ray filter 111 whose thickness changes in the rotation axis direction (slice direction) is inserted between the X-ray tube 2 and the X-ray collimator 3, the X-ray irradiation distribution is inclined in the rotation axis direction (slice direction). The distribution is input to the X-ray detector 5. If this change in distribution is used, the signal outflow function f (x) 146 in the slice direction can be determined as in the case of using an X-ray shield as shown in FIG.
In other words, the X-ray filter 111 and the X-ray filter moving mechanism 112 are further provided, and the X-ray filter moving mechanism 112 moves the position of the X-ray filter 111 with various irradiation amounts (input amounts to the X-ray detector). Thus, the signal outflow function f (x) 146 can be calculated easily and in a short time. As a result, an outflow-type defective element occurs over time, and the signal outflow function f (x) 146 (influence amount parameter) is obtained even when the signal outflow function f (x) 146 (influence amount parameter) is not stored in advance. The correction process including the defect element correction process can be quickly performed.

なお、X線フィルタ111によってスライス方向にX線照射分布に傾斜を設ける場合を記したが、これは一例であり、チャネル方向に傾斜を設ける場合や両方向に設ける場合も有り得る。また、上述の説明では、信号流出関数f(x)がすべての欠陥周辺素子に対して共通の場合を記したが、これは一例であり、チャネル方向とスライス方向でそれぞれ異なる関数としてもよい。また、端部に位置する欠陥周辺素子については、他の素子と異なる信号流出関数f(x)を用いるようにしてもよい。また信号流出関数f(x)は、一定値に限定されず、比例関数、一次関数、多項式関数等、様々な関数により表現されてもよい。例えば、信号流出関数f(x)は、正や負のべきを有するべき関数、その和からなる多項式関数、指数関数、対数関数などが考えられる。また、例えば、信号流出関数f(x)は、入力範囲に応じたステップ関数や、入力範囲で関数を切り替えて表現されるようなものであっても良く、更に、関数の四則演算によって得られる様々な関数が考えられる。また信号流出関数f(x)は、シミュレーションによって決定しても良い。   Note that the case where the X-ray filter 111 is provided with an inclination in the X-ray irradiation distribution in the slice direction has been described as an example, and an inclination may be provided in the channel direction or in both directions. In the above description, the case where the signal outflow function f (x) is common to all the defective peripheral elements is described, but this is an example, and different functions may be used in the channel direction and the slice direction. Further, for the defective peripheral element located at the end, a signal outflow function f (x) different from that of other elements may be used. The signal outflow function f (x) is not limited to a constant value, and may be expressed by various functions such as a proportional function, a linear function, and a polynomial function. For example, the signal outflow function f (x) may be a function that should have positive or negative power, a polynomial function that consists of the sum, an exponential function, a logarithmic function, or the like. Further, for example, the signal outflow function f (x) may be expressed by a step function corresponding to the input range or by switching the function in the input range, and further obtained by four arithmetic operations of the function. Various functions are possible. The signal outflow function f (x) may be determined by simulation.

以上説明したように、本第1の実施の形態のX線CT装置1によれば、中央処理装置20の演算部201は、異常出力を示す検出素子をその欠陥の種類に応じて分別し、ディフェクトマップ206を作成し、記憶部202に保持しておく。また、電荷が隣接する素子(或いは周辺の素子)に流出してしまう流出型欠陥素子については欠陥周辺素子への信号流出の割合を表した信号流出関数f(x)146を影響量パラメータ205として記憶部202に保持しておく。そして、補正処理として、一般的に行われるオフセット補正やエア補正等の他に、欠陥素子補正処理を行って、正常な検出素子から得られた出力信号に基づいて流出型欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された流出型欠陥素子の出力信号と上述の影響量パラメータとに基づいて欠陥周辺素子の出力信号を補正する。
これにより、正常素子からの出力信号を用いて欠陥素子の出力値を補間により推定するため、相関のある素子の信号を用いた信頼性の高い補正を行える。また欠陥素子から信号が流入している素子(欠陥周辺素子「2」)の信号を用いないため、補間の精度を向上できる。更に、欠陥周辺素子の出力値の補正については、計測により得た欠陥周辺素子の出力値から、欠陥素子による影響を取り除くようにして補正値を求めるので、欠陥周辺素子に実際に入射したX線の検出信号(計測値)を利用することができる。そのため、単に隣接する素子から内挿や外挿で推定を行うよりも、高精度な補正が実現できる。
As described above, according to the X-ray CT apparatus 1 of the first embodiment, the calculation unit 201 of the central processing unit 20 classifies detection elements that indicate abnormal output according to the type of defect, A defect map 206 is created and stored in the storage unit 202. For an outflow type defective element in which charge flows out to an adjacent element (or a peripheral element), a signal outflow function f (x) 146 representing a ratio of signal outflow to the defective peripheral element is used as the influence amount parameter 205. Stored in the storage unit 202. Then, as a correction process, in addition to the commonly performed offset correction, air correction, etc., the defect element correction process is performed, and the output signal of the outflow type defect element is obtained based on the output signal obtained from the normal detection element. In addition to the estimation, the output signal of the defective peripheral element is corrected based on the estimated output signal of the outflow type defective element and the above-described influence amount parameter.
Accordingly, since the output value of the defective element is estimated by interpolation using the output signal from the normal element, highly reliable correction using the signal of the correlated element can be performed. Further, since the signal of the element (defect peripheral element “2”) into which a signal flows from the defective element is not used, the interpolation accuracy can be improved. Further, for the correction of the output value of the defective peripheral element, the correction value is obtained by removing the influence of the defective element from the output value of the defective peripheral element obtained by measurement. The detection signal (measured value) can be used. Therefore, it is possible to realize correction with higher accuracy than simply performing estimation from adjacent elements by interpolation or extrapolation.

なお、欠陥素子補正処理において、更に流出型欠陥素子の値を、補正後の欠陥周辺素子の値を用いて再推定してもよい。
すなわち、図16に示すように、演算部201は、ステップS241〜S243によって欠陥素子及び欠陥周辺素子の補正値を求めた後に、更に、欠陥周辺素子の補正値を用いて流出型欠陥素子の補正値を算出し直す(ステップS244)。
再推定処理(S244)では、流出型欠陥素子の値を推定する際に、隣接する欠陥周辺素子の値を用いる。すなわち、ステップS242で利用した正常素子の値よりも距離の近い欠陥周辺素子の補正値を用いて補間する。補間は、例えば4つの欠陥周辺素子の補正値の平均値を算出すればよい。更に流出型欠陥素子の再推定の際に、補正後の欠陥周辺素子の値と、周囲の正常素子の値とを合わせて補間を行ってもよい。また例えば、同一チャネルの欠陥周辺素子と隣接する正常素子の値を用いて推定しても構わない。この場合は、例えば、図6の(3,3)の欠陥素子の値を、(1,3)の出力値、(2,3)の補正値、(4,3)の補正値、(5,3)の出力値を用いて算出する。同様に、同一スライスで再推定を行ってもよいし、更に、距離に応じた重みを付けて算出するようにしてもよい。
再推定処理を行うことにより、より近傍の素子の値を用いて欠陥素子の出力値を推定できるため、高精度な補正が実現できる。
In the defect element correction process, the outflow type defect element value may be re-estimated using the corrected defect peripheral element value.
That is, as shown in FIG. 16, the calculation unit 201 calculates correction values for defective elements and defective peripheral elements in steps S241 to S243, and further corrects outflow-type defective elements using the correction values for defective peripheral elements. The value is recalculated (step S244).
In the re-estimation process (S244), when estimating the value of the outflow-type defect element, the value of the adjacent defect peripheral element is used. That is, the interpolation is performed using the correction value of the defective peripheral element that is closer than the normal element value used in step S242. For the interpolation, for example, an average value of correction values of four defective peripheral elements may be calculated. Further, at the time of re-estimation of the outflow type defective element, interpolation may be performed by combining the value of the defect peripheral element after correction and the value of the surrounding normal element. Further, for example, it may be estimated using the values of normal elements adjacent to defective peripheral elements of the same channel. In this case, for example, the value of the defective element of (3, 3) in FIG. 6 is changed to the output value of (1, 3), the correction value of (2, 3), the correction value of (4, 3), (5 , 3) is used for calculation. Similarly, re-estimation may be performed with the same slice, or the weight may be calculated according to the distance.
By performing the re-estimation process, it is possible to estimate the output value of the defective element by using the value of a nearby element, so that highly accurate correction can be realized.

[第2の実施の形態]
次に、本発明の第2の実施の形態の画像撮影装置(X線CT装置)1について説明する。なお、第2の実施の形態の画像撮影装置(X線CT装置)1において、第1の実施の形態のX線CT装置1と同一の各部については同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, an image capturing apparatus (X-ray CT apparatus) 1 according to a second embodiment of the present invention will be described. In the imaging apparatus (X-ray CT apparatus) 1 according to the second embodiment, the same components as those in the X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and redundant description is given. Omitted.

第1の実施の形態では、生じた電荷が読み出されずに、その信号の一部が周辺の素子に流入する流出型欠陥素子がある場合の信号値の補正について説明したが、第2の実施の形態では、他の原因による欠陥を含む場合の補正について説明する。   In the first embodiment, the correction of the signal value in the case where there is an outflow type defective element in which a generated charge is not read and a part of the signal flows into the peripheral element has been described. In the embodiment, correction when a defect due to another cause is included will be described.

他の原因の欠陥としては、例えば、X線検出器5から信号が読み出された後の回路(アナログ−デジタル変換器等)で故障が生じる場合や、フォトダイオードからのアナログ読出回路にて、フォトダイオード同士が短絡している場合等もある。このように、フォトダイオードで生じた電荷は読み出されるが出力値に異常が生じる素子を、非流出型欠陥素子とよぶこととする。   For example, when a failure occurs in a circuit (analog-digital converter or the like) after a signal is read out from the X-ray detector 5, or in an analog reading circuit from a photodiode, In some cases, the photodiodes are short-circuited. An element in which charges generated in a photodiode are read out but an output value is abnormal is referred to as a non-outflow type defective element.

第2の実施の形態では、補正処理を行う際に非流出型欠陥素子と流出型欠陥素子を分別し、分別結果に応じた補正処理を行うものとする。
図17は、第2の実施の形態における欠陥素子補正処理(2)の流れを示すフローチャートである。
図17の欠陥素子補正処理(2)において、まず演算部201は、信号収集装置6からローデータを取得し(ステップS71)、各素子について出力値が正常であるか異常であるかを判定する(ステップS72)。出力値が正常であれば(ステップS72;Yes)、補正処理を行わず処理を終了し、次の素子について出力値が正常であるか否かを判定する。出力値が正常でない場合(ステップS72;No)、演算部201は、隣接素子への信号流入量を計測する(ステップS73)。信号流入量の計測は、図10のステップS64と同様に行うことができる。そして、流入量が所定の閾値より小さい場合は(ステップS74;Yes)、非流出型欠陥素子と判断し、ステップS75の補正処理へ移行する。
一方、流入量が上述の閾値以上である場合は(ステップS74;No)、流出型欠陥素子と判断し、第1の実施の形態と同様の補正処理(欠陥素子補正処理(1);図4)を行う(ステップS76)。
In the second embodiment, when the correction process is performed, the non-outflow type defect element and the outflow type defect element are classified, and the correction process according to the classification result is performed.
FIG. 17 is a flowchart showing the flow of the defective element correction process (2) in the second embodiment.
In the defective element correction process (2) of FIG. 17, the calculation unit 201 first acquires raw data from the signal collection device 6 (step S71), and determines whether the output value is normal or abnormal for each element. (Step S72). If the output value is normal (step S72; Yes), the process is terminated without performing the correction process, and it is determined whether or not the output value is normal for the next element. When the output value is not normal (step S72; No), the calculation unit 201 measures the signal inflow amount to the adjacent element (step S73). The measurement of the signal inflow amount can be performed in the same manner as in step S64 in FIG. If the inflow amount is smaller than the predetermined threshold (step S74; Yes), it is determined as a non-outflow defect element, and the process proceeds to the correction process in step S75.
On the other hand, when the inflow amount is equal to or greater than the above-described threshold value (step S74; No), it is determined as an outflow type defective element, and correction processing similar to that in the first embodiment (defective element correction processing (1); FIG. 4). (Step S76).

ステップS75において、非流出型欠陥素子と判定された素子については、隣接する素子が正常素子であれば、隣接素子の出力値を用いて補間演算を行い、出力値を補正する。例えば、(3,3)の素子が非流出型欠陥素子と判定された場合は、周辺の最も近傍に位置する(3,2)、(2,3)、(2,4)、(3,4)の出力値を用いて補間する。非流出型欠陥素子では,フォトダイオードで生じた電荷は読み出されているために、その周辺の素子への信号の流出は無いため、補間に利用しても差し支えない。
このように、欠陥の原因によって異なる補正処理を行えば、非流出型欠陥素子については周囲への電荷の流出がないため最も隣接する素子の出力値を用いた補間ができ、信頼性の高い補正を行える。
In step S75, for an element determined as a non-outflow type defective element, if the adjacent element is a normal element, an interpolation operation is performed using the output value of the adjacent element to correct the output value. For example, when the element (3, 3) is determined to be a non-outflow type defect element, (3, 2), (2, 3), (2, 4), (3, Interpolate using the output value of 4). In the non-outflow type defective element, since the electric charge generated in the photodiode is read out, there is no outflow of a signal to the peripheral elements, and therefore it can be used for interpolation.
In this way, if different correction processes are performed depending on the cause of the defect, since there is no outflow of charge to the surroundings for non-outflow type defective elements, interpolation using the output value of the most adjacent element is possible, and highly reliable correction Can be done.

以上説明したように、本発明の画像撮影装置1は、検出器5に含まれる欠陥素子の周辺にある欠陥周辺素子が欠陥素子から受ける影響を示す影響量パラメータ205を予め記憶部202に記憶しておき、補正処理として、信号収集装置6により収集した出力信号のうち正常な検出素子から得られた出力信号に基づいて欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された欠陥素子の出力信号と記憶部201に記憶された影響量パラメータ205とに基づいて欠陥周辺素子から得られた出力信号を補正する欠陥素子補正処理を含む信号値の補正を行う。
すなわち、欠陥素子補正処理では、欠陥素子の近くに位置する正常素子からの出力信号を用いて欠陥素子の出力値を補間により求めるため、相関のある信号を得やすく、信頼性の高い補正を行える。また欠陥素子から信号が流入している素子(欠陥周辺素子)の信号を用いないため、補間の精度を向上できる。更に、欠陥周辺素子の出力値の補正については、計測により得た欠陥周辺素子の出力値から、欠陥素子による影響を取り除くようにして補正値を求めるので、欠陥周辺素子に実際に入射したX線の検出信号(計測値)を利用することができるため、単に隣接する素子から内挿や外挿で推定を行うよりも、高精度な補正が実現できる。これにより流出型欠陥素子と欠陥周辺素子に起因するアーチファクトの発生を除去、抑制できる。
As described above, the image capturing apparatus 1 of the present invention stores in the storage unit 202 in advance the influence amount parameter 205 that indicates the influence of the defective peripheral element around the defective element included in the detector 5 from the defective element. As the correction process, the output signal of the defective element is estimated based on the output signal obtained from the normal detection element among the output signals collected by the signal collecting device 6, and the estimated output signal of the defective element is Based on the influence amount parameter 205 stored in the storage unit 201, the signal value including the defective element correction process for correcting the output signal obtained from the defective peripheral element is corrected.
That is, in the defective element correction process, the output value of the defective element is obtained by interpolation using an output signal from a normal element located near the defective element, so that a correlated signal can be easily obtained and highly reliable correction can be performed. . Further, since the signal of an element (defect peripheral element) into which a signal flows from the defective element is not used, the interpolation accuracy can be improved. Further, for the correction of the output value of the defective peripheral element, the correction value is obtained by removing the influence of the defective element from the output value of the defective peripheral element obtained by measurement. Since the detection signal (measured value) of the above can be used, it is possible to realize correction with higher precision than simply performing estimation by interpolation or extrapolation from adjacent elements. As a result, the generation of artifacts due to the outflow type defect element and the defect peripheral element can be removed and suppressed.

また、欠陥素子補正処理は、更に、補正後の欠陥周辺素子の出力信号に基づいて欠陥素子の出力信号を推定する再推定処理を含むようにしてもよい。
再推定処理によって、より近接し、相関の大きい配置にある欠陥周辺素子のデータを推定演算に利用できるため、高精度に補正できる。
The defective element correction process may further include a re-estimation process for estimating the output signal of the defective element based on the corrected output signal of the defective peripheral element.
By the re-estimation process, data of defective peripheral elements closer to each other and having a high correlation can be used for the estimation calculation, so that correction can be performed with high accuracy.

また、信号収集装置により収集した出力信号に基づいて、欠陥素子が、周辺の素子に影響を及ぼす流出型欠陥素子であるか、周辺の素子に影響を及ぼさない非流出型欠陥素子であるかを判別し、その判別結果に応じた補正処理を行うことが望ましい。特に、欠陥素子が、周辺の素子に影響を及ぼす流出型欠陥素子である場合は、上述の欠陥素子補正処理を行うものとする。
このように、欠陥の種類に応じた補正処理を行うことにより、より高精度な補正を行える。
Also, based on the output signal collected by the signal collecting device, whether the defective element is an outflow type defective element that affects peripheral elements or a non-outflow type defective element that does not affect peripheral elements. It is desirable to make a determination and perform a correction process according to the determination result. In particular, when the defective element is an outflow type defective element that affects peripheral elements, the above-described defective element correction process is performed.
In this way, more accurate correction can be performed by performing correction processing according to the type of defect.

また、欠陥素子と欠陥周辺素子とで光の入射量を遮蔽板やX線フィルタ等(調節手段)によって調節し、光の入射量が調節された状態で各素子の出力信号を取得し、取得した出力信号に基づいて、欠陥素子から欠陥周辺素子への信号流出の割合を算出し、この信号流出の割合を影響量パラメータとして、欠陥周辺素子の補正値を算出することが望ましい。
このように、欠陥素子から欠陥周辺素子への信号流出の割合を求め、補正に用いることで欠陥周辺素子の出力信号を高精度の補正できる。
In addition, the amount of light incident between the defective element and the defective peripheral element is adjusted by a shielding plate, an X-ray filter, etc. (adjustment means), and the output signal of each element is acquired and acquired with the light incident amount adjusted. It is desirable to calculate a signal outflow ratio from the defective element to the defect peripheral element based on the output signal, and to calculate a correction value for the defect peripheral element using the signal outflow ratio as an influence amount parameter.
Thus, the ratio of the signal outflow from the defective element to the defective peripheral element is obtained and used for correction, whereby the output signal of the defective peripheral element can be corrected with high accuracy.

また、欠陥素子補正処理において、欠陥素子と同列にある正常素子の出力信号を用いて欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された欠陥素子の出力信号と記憶部202に記憶された影響量パラメータ(信号流出関数)とに基づいて欠陥周辺素子の出力信号を補正することが望ましい。これにより、1次元配列の検出器や、1スライスまたは2スライスのみの撮影を行う場合にも本発明の欠陥素子補正処理を適用でき、実用的である。   Further, in the defective element correction processing, the output signal of the defective element is estimated using the output signal of the normal element in the same row as the defective element, and the estimated output signal of the defective element and the influence amount stored in the storage unit 202 It is desirable to correct the output signal of the defective peripheral element based on the parameter (signal outflow function). As a result, the defective element correction processing of the present invention can be applied to a detector having a one-dimensional array or imaging of only one slice or two slices, which is practical.

また、欠陥素子補正処理において、欠陥素子を中心として対角に位置する正常素子の出力信号を用いて欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された欠陥素子の出力信号と記憶部202に記憶された影響量パラメータ(信号流出関数)とに基づいて欠陥周辺素子の出力信号を補正するようにしてもよい。これにより、より近接し、相関の大きい配置にある正常素子の出力信号を用いて補正できるため、信頼性の高い補正を行うことが可能となる。2次元配列の検出器を用いた多スライスを行う際に有効である。   In the defective element correction process, the output signal of the defective element is estimated using the output signal of the normal element located diagonally with the defective element as the center, and the estimated output signal of the defective element is stored in the storage unit 202. The output signal of the defective peripheral element may be corrected based on the effect amount parameter (signal outflow function). As a result, correction can be performed using the output signals of normal elements that are located closer to each other and have a high correlation, so that highly reliable correction can be performed. This is effective when performing multi-slice using a two-dimensional array detector.

なお、上述の実施の形態では、X線検出器5は素子が2次元配列である例を示したが、1次元配列の検出器について本発明を適用することも可能である。また、X線検出器5として、シンチレータとフォトダイオードからなる間接型の検出器について説明したが、これは一例であり、その他の種類の検出器であってもよい。例えば、X線を直接電気信号に変換する直接変換型の検出器であってもよい。また、図1にはX線検出器5と中央処理装置20とが一体となっているX線CT装置1を例示したがこれに限定されず、例えば、欠陥素子補正処理を行う演算装置を別装置として設けてもよい。すなわち外部のX線CT装置で得られた画像データを取得し、取得した画像データに基づいて本実施の形態で示した補正処理(欠陥素子補正処理を含む)を実施してもよい。更に、本発明は、X線検出器に限らず、例えば、可視光、赤外線、紫外線などの様々な波長の光を検出する検出器や、例えば、ガンマ線を検出する放射線検出器にも適用し得る。その他、当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   In the above-described embodiment, the X-ray detector 5 has an example in which the elements are two-dimensionally arranged. However, the present invention can also be applied to a one-dimensionally arranged detector. Moreover, although the indirect type detector which consists of a scintillator and a photodiode was demonstrated as the X-ray detector 5, this is an example and another kind of detector may be sufficient. For example, it may be a direct conversion type detector that converts X-rays directly into an electrical signal. FIG. 1 illustrates the X-ray CT apparatus 1 in which the X-ray detector 5 and the central processing unit 20 are integrated. However, the present invention is not limited to this. You may provide as an apparatus. That is, image data obtained by an external X-ray CT apparatus may be acquired, and the correction processing (including defective element correction processing) described in this embodiment may be performed based on the acquired image data. Furthermore, the present invention is not limited to an X-ray detector, and can be applied to, for example, a detector that detects light of various wavelengths such as visible light, infrared light, and ultraviolet light, and a radiation detector that detects gamma rays, for example. . In addition, it is obvious that those skilled in the art can come up with various changes and modifications within the scope of the technical idea disclosed in the present application, and these naturally belong to the technical scope of the present invention. It is understood.

1・・・・・X線CT装置(画像撮影装置)
2・・・・・X線管
3・・・・・コリメータ
5・・・・・X線検出器
7・・・・・回転体
8・・・・・回転軸方向(スライス方向、体軸方向)
9・・・・・回転方向(チャネル方向)
10・・・・・制御装置
12・・・・・信号収集装置
20・・・・・中央処理装置
201・・・・演算部
202・・・・記憶部
203・・・・画像再構成部
21・・・・・表示装置
22・・・・・入力装置
30・・・・・寝台
33・・・・・被検体
202・・・・記憶部
205・・・・・影響量パラメータ
146・・・・・信号流出関数f(x)
206・・・・・ディフェクトマップ
1. X-ray CT system (imaging system)
2 ... X-ray tube 3 ... Collimator 5 ... X-ray detector 7 ... Rotating body 8 ... Rotating axis direction (slice direction, body axis direction) )
9 ... Direction of rotation (channel direction)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Control apparatus 12 ... Signal collection device 20 ... Central processing unit 201 ... Calculation part 202 ... Storage part 203 ... Image reconstruction part 21 ... display device 22 ... input device 30 ... bed 33 ... subject 202 ... storage unit 205 ... influence parameter 146 ... ..Signal outflow function f (x)
206 ... Defect map

Claims (7)

光を検出して電荷に変換し、電荷量に応じた電気信号を出力する検出素子が複数配列された検出器と、前記検出器の各検出素子にて検出された電気信号を出力信号として収集する信号収集装置と、前記信号収集装置により収集した出力信号に対して所定の補正処理を行って画像データを生成する補正手段と、前記画像データに基づいて画像を生成する画像生成手段と、を備えた画像撮影装置であって、
前記検出器に含まれる欠陥素子の周辺にある欠陥周辺素子が前記欠陥素子から受ける影響を示す影響量パラメータを予め記憶する記憶手段を備え、
前記補正手段が行う補正処理には、
前記信号収集装置により収集した出力信号のうち正常な検出素子から得られた出力信号に基づいて前記欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された前記欠陥素子の出力信号と前記記憶手段に記憶された影響量パラメータとに基づいて前記欠陥周辺素子から得られた出力信号を補正する欠陥素子補正処理が含まれ
前記欠陥素子補正処理は、更に、
補正後の前記欠陥周辺素子の出力信号に基づいて前記欠陥素子の出力信号を推定する再推定処理を含むことを特徴とする画像撮影装置。
A detector in which a plurality of detection elements that detect light, convert it into electric charges, and output an electric signal corresponding to the amount of electric charges are arranged, and electric signals detected by the respective detection elements of the detector are collected as output signals A signal collecting device that performs a predetermined correction process on the output signal collected by the signal collecting device to generate image data, and an image generating unit that generates an image based on the image data. An image photographing apparatus provided,
A storage means for storing in advance an influence amount parameter indicating an influence of a defective peripheral element around the defective element included in the detector;
The correction process performed by the correction means includes
Estimating an output signal of the defective element based on an output signal obtained from a normal detection element among output signals collected by the signal collecting device, and storing the estimated output signal of the defective element and the storage means A defect element correction process for correcting the output signal obtained from the defect peripheral element based on the influence amount parameter that has been performed ,
The defective element correction process further includes:
An image photographing apparatus comprising: a re-estimation process for estimating an output signal of the defective element based on an output signal of the defective peripheral element after correction .
前記補正手段は、
前記信号収集装置により収集した出力信号に基づいて、前記欠陥素子が、周辺の素子に影響を及ぼす流出型欠陥素子であるか、周辺の素子に影響を及ぼさない非流出型欠陥素子であるかを判別する欠陥素子判別手段を更に備え、
前記欠陥素子判別手段によって流出型欠陥素子と判別された場合に、前記欠陥素子補正処理を行うことを特徴とする請求項1に記載の画像撮影装置。
The correction means includes
Based on the output signal collected by the signal collection device, whether the defective element is an outflow type defective element that affects peripheral elements or a non-outflow type defective element that does not affect peripheral elements. It further comprises a defective element discriminating means for discriminating,
Imaging device according to claim 1, when it is determined that the outflow-type defective elements by said defective elements determining means, and performing the defect element correction process.
検出器の各素子について、欠陥素子、前記欠陥素子の影響を受けた欠陥周辺素子、正常素子のいずれに該当するかを分別し、分別結果を素子の配置データとともに表すディフェクトマップを生成するディフェクトマップ生成手段を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の画像撮影装置。   For each element of the detector, a defect map that classifies whether it is a defective element, a defective peripheral element affected by the defective element, or a normal element and generates a defect map that represents the classification result together with element arrangement data The image photographing apparatus according to claim 1, further comprising a generation unit. 前記欠陥素子と前記欠陥周辺素子とで光の入射量を調節する調節手段と、
前記調節手段により光の入射量が調節された状態で各素子の出力信号を取得し、取得した出力信号に基づいて、欠陥素子から前記欠陥周辺素子への信号流出の割合を算出し、前記影響量パラメータとして利用する影響量パラメータ算出手段と、
を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の画像撮影装置。
Adjusting means for adjusting the amount of incident light between the defective element and the defective peripheral element;
The output signal of each element is acquired in a state where the amount of incident light is adjusted by the adjusting means, and the ratio of signal outflow from the defective element to the defective peripheral element is calculated based on the acquired output signal, and the influence An influence amount parameter calculation means used as an amount parameter;
The image photographing device according to claim 1, further comprising:
前記欠陥素子補正処理において、前記欠陥素子と同列にある正常素子の出力信号を用いて前記欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された前記欠陥素子の出力信号と前記記憶手段に記憶された影響量パラメータとに基づいて前記欠陥周辺素子の出力信号を補正することを特徴とする請求項1に記載の画像撮影装置。   In the defective element correction process, the output signal of the defective element is estimated using the output signal of the normal element in the same row as the defective element, and the estimated output signal of the defective element is stored in the storage means The image capturing apparatus according to claim 1, wherein an output signal of the defective peripheral element is corrected based on an influence amount parameter. 前記検出素子は2次元的に配列され、前記欠陥素子補正処理において、前記欠陥素子を中心として対角に位置する正常素子の出力信号を用いて前記欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された前記欠陥素子の出力信号と前記記憶手段に記憶された影響量パラメータとに基づいて前記欠陥周辺素子の出力信号を補正することを特徴とする請求項1に記載の画像撮影装置。   The detection elements are two-dimensionally arranged, and in the defect element correction process, an output signal of the defect element is estimated and estimated using an output signal of a normal element located diagonally with the defect element as a center. 2. The image photographing apparatus according to claim 1, wherein the output signal of the defective peripheral element is corrected based on the output signal of the defective element and the influence amount parameter stored in the storage means. 光を検出して電荷に変換し、電荷量に応じた電気信号を出力する検出素子が複数配列された検出器と、前記検出器の各検出素子にて検出された電気信号を出力信号として収集する信号収集装置と、前記信号収集装置により収集した出力信号に対して所定の補正処理を行って画像データを生成する補正手段と、前記画像データに基づいて画像を生成する画像生成手段と、を備えた画像撮影装置による画像撮影方法であって、
前記検出器に含まれる欠陥素子の周辺にある欠陥周辺素子が前記欠陥素子から受ける影響を示す影響量パラメータを予め記憶し、
前記補正手段が行う補正処理には、
前記信号収集装置により収集した出力信号のうち正常な検出素子から得られた出力信号に基づいて前記欠陥素子の出力信号を推定するとともに、推定された前記欠陥素子の出力信号と前記記憶手段に記憶された影響量パラメータとに基づいて前記欠陥周辺素子から得られた出力信号を補正する欠陥素子補正処理が含まれ
前記欠陥素子補正処理は、更に、
補正後の前記欠陥周辺素子の出力信号に基づいて前記欠陥素子の出力信号を推定する再推定処理を含むことを特徴とする画像撮影方法。
A detector in which a plurality of detection elements that detect light, convert it into electric charges, and output an electric signal corresponding to the amount of electric charges are arranged, and electric signals detected by the respective detection elements of the detector are collected as output signals A signal collecting device that performs a predetermined correction process on the output signal collected by the signal collecting device to generate image data, and an image generating unit that generates an image based on the image data. An image photographing method using the provided image photographing device,
Preliminarily storing an influence amount parameter indicating an influence of a defective peripheral element around the defective element included in the detector, which is affected by the defective element;
The correction process performed by the correction means includes
Estimating an output signal of the defective element based on an output signal obtained from a normal detection element among output signals collected by the signal collecting device, and storing the estimated output signal of the defective element and the storage means A defect element correction process for correcting the output signal obtained from the defect peripheral element based on the influence amount parameter that has been performed ,
The defective element correction process further includes:
An image photographing method comprising: a re-estimation process for estimating an output signal of the defective element based on an output signal of the defective peripheral element after correction .
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