JP5772256B2 - Elastic wave device - Google Patents
Elastic wave device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5772256B2 JP5772256B2 JP2011128093A JP2011128093A JP5772256B2 JP 5772256 B2 JP5772256 B2 JP 5772256B2 JP 2011128093 A JP2011128093 A JP 2011128093A JP 2011128093 A JP2011128093 A JP 2011128093A JP 5772256 B2 JP5772256 B2 JP 5772256B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cavity
- wave
- idt electrode
- plate
- plate wave
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 235000019687 Lamb Nutrition 0.000 description 21
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Description
本発明は、弾性波装置に関する。特に、本発明は、空洞部が形成された支持体と、支持体の上に空洞部と重なるように設けられている圧電基板と、圧電基板の上に空洞部と重なるように設けられているIDT電極とを備える弾性波装置に関する。 The present invention relates to an elastic wave device. In particular, the present invention is provided with a support in which a cavity is formed, a piezoelectric substrate provided on the support so as to overlap the cavity, and provided on the piezoelectric substrate so as to overlap with the cavity. The present invention relates to an elastic wave device including an IDT electrode.
従来、例えば携帯電話機などのRF回路等に使用されるフィルタ装置や共振子として、弾性表面波装置や弾性境界波装置が用いられている。 Conventionally, surface acoustic wave devices and boundary acoustic wave devices have been used as filter devices and resonators used in RF circuits such as cellular phones.
しかしながら、弾性表面波装置や弾性境界波装置では、共振周波数やフィルタ装置の通過帯域、阻止帯域などの周波数特性を十分に高周波化することは困難である。これに鑑み、例えば下記の特許文献1などにおいて、周波数特性を高周波化し得る弾性波装置として、ラム波を利用した弾性波装置が提案されている。
However, in the surface acoustic wave device and the boundary acoustic wave device, it is difficult to sufficiently increase the frequency characteristics such as the resonance frequency and the pass band and stop band of the filter device. In view of this, for example, the following
具体的には、特許文献1には、図19及び図20に示すような弾性波装置100が記載されている。弾性波装置100は、基板101を備えている。基板101には、空洞部101aが設けられている。基板101の上には、積層共振体102が設けられている。この積層共振体102は、空洞部101aを覆うように配されている。積層共振体102は、下部電極層103と、下部圧電層104と、IDT電極105と、上部圧電層106と、上部電極層107とを有する。
Specifically,
図20に示すように、積層共振体102のIDT電極105が設けられている部分は、空洞部101aの上に位置している。空洞部101aは、矩形状であり、空洞部101aの短辺の延びる方向と、IDT電極105の電極指の延びる方向yとは平行である。このため、空洞部101aの長辺の延びる方向は、IDT電極105によって励振される弾性波(ラム波)の伝搬方向xと平行である。
As shown in FIG. 20, the portion of the laminated
弾性波装置100では、不要波に起因するデバイス特性の劣化を十分に抑制することが困難であるため、十分に優れたデバイス特性を得ることが困難であるという問題がある。
The
本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、板波を利用した弾性波装置であって、優れたデバイス特性を有する弾性波装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such a point, and an object thereof is to provide an elastic wave device using plate waves and having excellent device characteristics.
本発明に係る第1の弾性波装置は、支持体と、圧電基板と、IDT電極とを備えている。支持体には、空洞部が形成されている。圧電基板は、支持体の上に空洞部と重なるように設けられている。IDT電極は、圧電基板の上に空洞部と重なるように設けられている。本発明に係る第1の弾性波装置では、IDT電極により板波が励振される。空洞部の端縁部は、IDT電極により励振される板波の伝搬方向と平行に延びる直線部を含まない。 A first acoustic wave device according to the present invention includes a support, a piezoelectric substrate, and an IDT electrode. A cavity is formed in the support. The piezoelectric substrate is provided on the support so as to overlap the cavity. The IDT electrode is provided on the piezoelectric substrate so as to overlap the cavity. In the first acoustic wave device according to the present invention, a plate wave is excited by the IDT electrode. The edge portion of the hollow portion does not include a straight portion extending in parallel with the propagation direction of the plate wave excited by the IDT electrode.
本発明に係る第1の弾性波装置のある特定の局面では、空洞部の端縁部は、板波の伝搬方向以外の方向において対向する一対の直線部を含まない。 In a specific aspect of the first acoustic wave device according to the present invention, the end edge portion of the cavity portion does not include a pair of straight portions facing each other in a direction other than the propagation direction of the plate wave.
本発明に係る第1の弾性波装置の他の特定の局面では、空洞部の板波の伝搬方向と垂直な交差幅方向における幅の最大値がIDT電極の電極指ピッチにより定められる波長の50倍以下である。 In another specific aspect of the first acoustic wave device according to the present invention, the maximum value of the width in the intersecting width direction perpendicular to the propagation direction of the plate wave in the cavity is 50 of the wavelength determined by the electrode finger pitch of the IDT electrode. Is less than double.
本発明に係る第1の弾性波装置の別の特定の局面では、IDT電極は、バスバーと、バスバーから板波の伝搬方向と垂直な交差幅方向に沿って延びる複数の電極指とを有し、互いに間挿し合っている一対のくし歯状電極を備えている。空洞部の辺縁の少なくとも一部がバスバーと重なるように設けられている。 In another specific aspect of the first acoustic wave device according to the present invention, the IDT electrode includes a bus bar and a plurality of electrode fingers extending from the bus bar along a cross width direction perpendicular to the propagation direction of the plate wave. And a pair of comb-like electrodes that are interleaved with each other. At least a part of the edge of the cavity is provided so as to overlap the bus bar.
本発明に係る第1の弾性波装置のさらに他の特定の局面では、空洞部は、複数の電極指が設けられた領域の少なくとも一部が空洞部の辺縁部と重なるように設けられている。 In still another specific aspect of the first acoustic wave device according to the present invention, the cavity is provided such that at least a part of the region where the plurality of electrode fingers are provided overlaps with the edge of the cavity. Yes.
本発明に係る第1の弾性波装置のさらに別の特定の局面では、空洞部の端縁部は、複数の凹凸を有する。 In still another specific aspect of the first acoustic wave device according to the present invention, the end edge of the cavity has a plurality of irregularities.
本発明に係る第1の弾性波装置のまた他の特定の局面では、IDT電極は、バスバーと、バスバーから板波の伝搬方向と垂直な交差幅方向に沿って延びる複数の電極指とを有し、互いに間挿し合っている一対のくし歯状電極を備えている。バスバーは、板波の伝搬方向と傾斜した方向に延びる部分を有する。 In still another specific aspect of the first acoustic wave device according to the present invention, the IDT electrode includes a bus bar and a plurality of electrode fingers extending from the bus bar along a cross width direction perpendicular to the propagation direction of the plate wave. And a pair of comb-like electrodes that are interleaved with each other. The bus bar has a portion extending in a direction inclined with respect to the propagation direction of the plate wave.
本発明に係る第1の弾性波装置のまた別の特定の局面では、バスバーは、板波の伝搬方向と平行に延びる直線部を含まない。 In another specific aspect of the first acoustic wave device according to the present invention, the bus bar does not include a straight line portion extending in parallel with the propagation direction of the plate wave.
本発明に係る第1の弾性波装置のさらにまた他の特定の局面では、バスバーは、板波の伝搬方向以外の方向において対向する一対の直線部を有さない。 In still another specific aspect of the first acoustic wave device according to the present invention, the bus bar does not have a pair of straight portions facing each other in a direction other than the propagation direction of the plate wave.
本発明に係る第2の弾性波装置は、支持体と、圧電基板と、IDT電極とを備えている。支持体には、空洞部が形成されている。圧電基板は、支持体の上に空洞部と重なるように設けられている。IDT電極は、圧電基板の上に空洞部と重なるように設けられている。本発明に係る第2の弾性波装置では、IDT電極により板波が励振される。IDT電極は、バスバーと、バスバーから板波の伝搬方向と垂直な交差幅方向に沿って延びる複数の電極指とを有し、互いに間挿し合っている一対のくし歯状電極を備えている。バスバーは、板波の伝搬方向と傾斜した方向に延びる部分を有する。 The second acoustic wave device according to the present invention includes a support, a piezoelectric substrate, and an IDT electrode. A cavity is formed in the support. The piezoelectric substrate is provided on the support so as to overlap the cavity. The IDT electrode is provided on the piezoelectric substrate so as to overlap the cavity. In the second acoustic wave device according to the present invention, a plate wave is excited by the IDT electrode. The IDT electrode includes a bus bar and a plurality of electrode fingers extending from the bus bar along an intersecting width direction perpendicular to the plate wave propagation direction, and includes a pair of comb-like electrodes that are interleaved with each other. The bus bar has a portion extending in a direction inclined with respect to the propagation direction of the plate wave.
本発明に係る第2の弾性波装置のある特定の局面では、バスバーは、板波の伝搬方向と平行に延びる直線部を含まない。 In a specific aspect of the second acoustic wave device according to the present invention, the bus bar does not include a straight line portion extending in parallel with the propagation direction of the plate wave.
本発明に係る第2の弾性波装置の別の特定の局面では、バスバーは、板波の伝搬方向以外の方向において対向する一対の直線部を有さない。 In another specific aspect of the second elastic wave device according to the present invention, the bus bar does not have a pair of straight portions facing each other in a direction other than the propagation direction of the plate wave.
本発明によれば、板波を利用した弾性波装置であって、優れたデバイス特性を有する弾性波装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is an elastic wave apparatus using a plate wave, Comprising: The elastic wave apparatus which has the outstanding device characteristic can be provided.
以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。 Hereinafter, an example of the preferable form which implemented this invention is demonstrated. However, the following embodiment is merely an example. The present invention is not limited to the following embodiments.
また、実施形態等において参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものであり、図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率等が異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。 Moreover, in each drawing referred in embodiment etc., the member which has a substantially the same function shall be referred with the same code | symbol. The drawings referred to in the embodiments and the like are schematically described, and the ratio of the dimensions of the objects drawn in the drawings may be different from the ratio of the dimensions of the actual objects. The dimensional ratio of the object may be different between the drawings. The specific dimensional ratio of the object should be determined in consideration of the following description.
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る弾性波装置の部分切欠略図的斜視図である。図2は、図1の線II−IIにおける略図的断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a partially cutaway schematic perspective view of an acoustic wave device according to a first embodiment. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along line II-II in FIG.
図1及び図2に示すように、弾性波装置1は、支持体10を備えている。支持体10の構成材料は、特に限定されない。好ましく用いられる支持体10の構成材料の具体例としては、例えば、LiNbO3、LiTaO3、水晶、シリコン、ガラス、サファイア、アルミナ、セラミック等が挙げられる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
支持体10には、支持体10の主面10bに開口する空洞部10aが設けられている。支持体10の主面10bの上には、圧電基板11が設けられている。この圧電基板11は、z方向(積層方向)において、空洞部10aと重なるように設けられている。
The
空洞部10aの板波伝搬方向xに対して垂直な交差幅方向yにおける幅の最大値は、IDT電極12により定められる波長の50倍以下である。
The maximum value of the width in the intersecting width direction y perpendicular to the plate wave propagation direction x of the
圧電基板11は、適宜の圧電体により構成することができる。圧電基板11は、例えば、LiNbO3、LiTaO3、ZnO、AlN、水晶等により構成することができる。
The
圧電基板11の厚みtは、後に詳述する板波が好適に励振される程度である限りにおいて特に限定されない。例えば、オイラー角(0°,33°,0°)のLiTaO3膜を用いて後述するA1モードのラム波を励振する場合において、音速8400m/秒以上、電気機械結合係数k2を5.8%以上に設定するには、圧電基板11の厚みtは、IDT電極12により定められる波長の0.30倍以下であることが好ましい。
The thickness t of the
圧電基板11の上には、正規型のIDT電極12と、一対の反射器13,14が設けられている。一対の反射器13,14は、IDT電極12の板波伝搬方向xの両側に配置されている。本実施形態では、IDT電極12及び反射器13,14は、z方向において、空洞部10aと重なるように設けられている。
On the
IDT電極12及び反射器13,14は、適宜の導電材料により構成することができる。IDT電極12及び反射器13,14は、例えば、Al,Pt,Au,Ag,Cu,Ni,Ti,Cr及びPdからなる群から選ばれた金属、もしくは、Al,Pt,Au,Ag,Cu,Ni,Ti,Cr及びPdからなる群から選ばれた一種以上の金属を含む合金により構成することができる。また、IDT電極12及び反射器13,14は、上記金属や合金からなる複数の導電膜の積層体により構成することもできる。
The
IDT電極12は、一対のくし歯状電極12a、12bを有する。一対のくし歯状電極12a、12bは、互いに間挿し合っている。くし歯状電極12a、12bのそれぞれは、バスバー12a1,12b1と、複数の電極指12a2,12b2とを有する。複数の電極指12a2のそれぞれは、バスバー12a1から、y方向に沿ってバスバー12b1側に向かって延びている。複数の電極指12a2は、x方向に沿って相互に間隔をおいて配列されている。一方、複数の電極指12b2のそれぞれは、バスバー12b1から、y方向に沿ってバスバー12a1側に向かって延びている。複数の電極指12b2は、x方向に沿って相互に間隔をおいて配列されている。
The
本実施形態の弾性波装置1では、IDT電極12によって、板波が励振される。
In the
ここで、「板波」とは、2つの自由境界面に挟まれた媒質中を伝搬する弾性波である。 Here, the “plate wave” is an elastic wave propagating in a medium sandwiched between two free boundary surfaces.
板波には、ラム波とSH波とが含まれる。ラム波は、板波伝搬方向xの成分(P成分)と、圧電基板11の厚み方向の成分(SV成分)とを主とする弾性波である。一方、SH波は、板波伝搬方向に垂直で伝搬面に水平な方向yの成分(SH成分)を主とする弾性波である。 The plate wave includes a Lamb wave and an SH wave. The Lamb wave is an elastic wave mainly composed of a component in the plate wave propagation direction x (P component) and a component in the thickness direction of the piezoelectric substrate 11 (SV component). On the other hand, the SH wave is an elastic wave mainly composed of a component (SH component) in a direction y perpendicular to the plate wave propagation direction and horizontal to the propagation surface.
ラム波には、対称モード(Sモード)のラム波と、非対称モード(Aモード)のラム波とが含まれる。Sモードのラム波には、厚み方向の節の数が0である図3に示すS0モードのラム波と、厚み方向の節の数が1である図4に示すS1モードのラム波とが含まれる。Aモードのラム波には、厚み方向の節の数が0である図5に示すA0モードのラム波と、厚み方向の節の数が1である図6に示すA1モードのラム波とが含まれる。さらに節の数が多い高次のラム波も含まれる。 The Lamb wave includes a Lamb wave in a symmetric mode (S mode) and a Lamb wave in an asymmetric mode (A mode). The S-mode Lamb waves include the S 0- mode Lamb wave shown in FIG. 3 in which the number of nodes in the thickness direction is 0, and the S 1- mode Lamb wave in FIG. And are included. The A-mode Lamb wave includes an A 0- mode Lamb wave shown in FIG. 5 in which the number of nodes in the thickness direction is 0, and an A 1- mode Lamb wave shown in FIG. 6 in which the number of nodes in the thickness direction is 1. And are included. It also includes higher-order Lamb waves with a large number of nodes.
SH波には、厚み方向の節の数が0である図7に示すSH0モードのSH波と、厚み方向の節の数が1である図8に示すSH1モードのSH波とが含まれる。 The SH wave includes an SH wave in the SH 0 mode shown in FIG. 7 in which the number of nodes in the thickness direction is 0 and an SH wave in the SH 1 mode shown in FIG. 8 in which the number of nodes in the thickness direction is 1. It is.
さらに、LiTaO3やLiNbO3などの圧電体は、結晶方位により弾性定数や圧電定数が異なるため弾性的に異方性を示し、異方性のある結晶を伝搬する板波は、P成分、SV成分、SH成分が結合しながら伝搬する。P成分とSV成分の振動変位が大きく、SH成分の振動変位が小さい板波もラム波に含み、P成分とSV成分の振動変位が小さく、SH成分の振動変位が大きい板波もSH波に含む。 Furthermore, piezoelectric materials such as LiTaO 3 and LiNbO 3 exhibit elastic anisotropy because the elastic constants and piezoelectric constants differ depending on the crystal orientation, and the plate wave propagating through the anisotropic crystal has a P component, SV The component and the SH component propagate while being combined. A plate wave having a large vibration displacement of the P component and the SV component and a small vibration displacement of the SH component is also included in the Lamb wave, and a plate wave having a small vibration displacement of the P component and the SV component and a large vibration displacement of the SH component is also converted into the SH wave. Including.
IDT電極12により励振された板波は、板波伝搬方向xに沿って伝搬する。
The plate wave excited by the
IDT電極12の電極指12a2,12b2に電位を印加すると、圧電基板11に機械的歪みが生じて電極指12a2,12b2の各所で板波が励振される。これらの板波は、点波源で励起された要素波と考えられる。ホイヘンスの原理によれば、板波の要素波は、円弧上に放射され、周囲の要素波と重ね合わさり、交差幅方向yと平行な波面を形成する。
When a potential is applied to the electrode fingers 12a2 and 12b2 of the
IDT電極12の電極指12a2,12b2の長さは有限であるため、電極指12a2,12b2の端部より外側に板波の一部が漏洩する。漏洩した板波は、音響インピーダンスが不整合となる箇所で少なくとも一部が反射する。音響インピーダンスが不整合となる箇所としては、例えば、バスバーの端やメンブレンを構成する空洞の端縁部が挙げられる。特に、板波の場合は、空洞部10aの外側には板波は存在できないので、空洞部10aの端縁部で大きな反射を生じる。
Since the length of the electrode fingers 12a2 and 12b2 of the
例えば、図19及び図20に示す従来の弾性波装置100では、空洞部101aが矩形であり、空洞部101aの長辺側の端縁部101a1,101a2が板波伝搬方向xと平行である。IDT電極105で励振され漏洩した板波は、端縁部101a1,101a2で入射角と同じ反射角で反射するため、平行な反射面で反射した場合、IDT電極105から漏洩したときと同じ角度で再入射したのちにIDT電極105で受信される。すなわち、空洞部101aの端縁部101a1,101a2において反射した板波の位相がメインモードと整合する。よって、反射波により弾性波装置100の周波数特性が劣化する。
For example, in the conventional
さらに、端縁部101a1と端縁部101a2とは平行であるため、端縁部101a1と端縁部101a2との間で板波が繰り返し反射され共振し、端縁部101a1と端縁部101a2との間に定在波が生じる。この定在波がメインモードに干渉し、弾性波装置100の周波数特性が大きく劣化する。弾性波装置100の動作周波数によりIDT電極105から漏洩する板波の波長が変動するため、定在波の波長も変わり、メインモードで重ねあわされることによりメインモード付近で多数のスプリアス応答やリップル応答を生じる。
Further, since the edge portion 101a1 and the edge portion 101a2 are parallel, the plate wave is repeatedly reflected and resonated between the edge portion 101a1 and the edge portion 101a2, and the edge portion 101a1 and the edge portion 101a2 are resonated. A standing wave is generated between the two. This standing wave interferes with the main mode, and the frequency characteristics of the
これに対し、本実施形態では、図9に示すように、空洞部10aの端縁部は、IDT電極12により励振される板波の伝搬方向xと平行に延びる直線部を有さない。このため、空洞部10aの端縁部における反射波の位相が、メインモードの位相と整合しにくい。よって、空洞部10aの端縁部において板波が反射したとしても、弾性波装置1の周波数特性は劣化し難い。すなわち、優れたデバイス特性を有する弾性波装置1を実現することができる。
On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 9, the edge portion of the
なお、空洞部をIDT電極に対して十分に大きくすれば、反射波の位相が整合した場合であっても、相対的に駆動域の面積が小さくなるため、IDT電極からの漏洩波を励振源とする定在波の振幅は小さくなり、反射波による周波数特性の劣化を抑制することができる。しかしながら、空洞部を大きくするためには支持体を大きくする必要があったり、各構成部材間の間隔を大きくする必要があったりするため、弾性波装置が大型化してしまう。 Note that if the cavity is made sufficiently large with respect to the IDT electrode, the area of the drive area becomes relatively small even when the phases of the reflected waves are matched, so that the leakage wave from the IDT electrode is used as the excitation source. The amplitude of the standing wave becomes smaller, and the deterioration of the frequency characteristics due to the reflected wave can be suppressed. However, in order to enlarge the hollow portion, it is necessary to enlarge the support, or it is necessary to increase the interval between the constituent members, so that the elastic wave device is increased in size.
それに対して本実施形態のように、空洞部10aの端縁部の形状を所定の形状にすることによって、反射波に起因する周波数特性の劣化を抑制する場合は、必ずしも空洞部10aを大きくする必要がない。従って、優れたデバイス特性を有し、且つ小型である弾性波装置1を実現することができる。
On the other hand, when the shape of the edge of the
特に、空洞部10aの交差幅方向yにおける幅の最大値が、IDT電極12により定められる波長の50倍以下である場合に、反射波に起因する周波数特性の劣化が生じやすい。このため、本実施形態の技術は、空洞部10aの交差幅方向yにおける幅の最大値が、IDT電極12により定められる波長の50倍以下である、小型の弾性波装置に特に有用である。
In particular, when the maximum value of the width in the intersecting width direction y of the
また、本実施形態では、IDT電極12を正規型のIDT電極により構成できるため、例えばアポダイズ重み付けを施したIDT電極を用いる場合と比較して、Q値の劣化を抑制することができる。
Moreover, in this embodiment, since the
具体的には、本実施形態では、空洞部10aの端縁部は、交差幅方向yに沿って延びる一対の端縁部10a1,10a2と、板波伝搬方向xと交差幅方向yとのそれぞれに対して傾斜した方向に延びる端縁部10a3〜10a6とを有する。ここで、端縁部10a3と端縁部10a5とは、板波伝搬方向xにおいて同じ位置に設けられている。そして、端縁部10a3と端縁部10a5とは、非平行である。すなわち、端縁部10a3と端縁部10a5とは、対向していない。また、端縁部10a4と端縁部10a6とは、板波伝搬方向xにおいて同じ位置に設けられている。そして、端縁部10a4と端縁部10a6とは、非平行である。すなわち、端縁部10a4と端縁部10a6とは、対向していない。また、端縁部10a3と端縁部10a6とは、平行であるが、板波伝搬方向xにおける位置が異なるため対向していない。同様に、端縁部10a4と端縁部10a5とは、平行であるが、板波伝搬方向xにおける位置が異なるため対向していない。よって、本実施形態では、空洞部10aの交差幅方向yに沿った幅が、板波伝搬方向xにおいて一定ではない。
Specifically, in the present embodiment, the edge portion of the
このように本実施形態では、空洞部10aの端縁部は、板波伝搬方向x以外の方向において、対向する一対の直線部を有さない。このため、空洞部10aの端縁部10a3〜10a6で反射された板波は、振幅の強い共振を起こしにくい。従って、弾性波装置1の周波数特性の劣化をより効果的に抑制することができる。
Thus, in this embodiment, the edge part of the
以下、本発明の好ましい実施形態の他の例について説明する。以下の説明において、上記第1の実施形態と実質的に共通の機能を有する部材を共通の符号で参照し、説明を省略する。 Hereinafter, other examples of preferred embodiments of the present invention will be described. In the following description, members having substantially the same functions as those of the first embodiment are referred to by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
(第2の実施形態)
図10は、第2の実施形態における空洞部とIDT電極との模式的平面図である。なお、図10及び下記の図11〜図15において、電極指12a2,12b2は描画を省略している。
(Second Embodiment)
FIG. 10 is a schematic plan view of the cavity and the IDT electrode in the second embodiment. In FIG. 10 and FIGS. 11 to 15 below, the electrode fingers 12a2 and 12b2 are not drawn.
第2及の実施形態に係る弾性波装置は、空洞部10aの形状が異なる点を除いて、上記第1の実施形態と実質的に同様の構成を有する。
The elastic wave device according to the second and second embodiments has a configuration substantially similar to that of the first embodiment except that the shape of the
図10に示すように、第2の実施形態では、空洞部10aが、長手方向が板波伝搬方向xに沿った楕円形状に形成されている。このため、本実施形態においても、空洞部10aの端縁部は、板波伝搬方向xと平行に延びる直線部を含まない。また、空洞部10aの端縁部は、板波伝搬方向x以外の方向において対向する一対の直線部を含まない。よって、上記第1の実施形態と同様に、本実施形態においても、優れたデバイス特性を有し、且つ小型である弾性波装置を実現することができる。
As shown in FIG. 10, in the second embodiment, the
(第3の実施形態)
図11は、第3の実施形態における空洞部とIDT電極との模式的平面図である。
(Third embodiment)
FIG. 11 is a schematic plan view of the cavity and the IDT electrode in the third embodiment.
第3の実施形態に係る弾性波装置は、空洞部10aの形状が異なる点を除いて、上記第1の実施形態と実質的に同様の構成を有する。
The elastic wave device according to the third embodiment has substantially the same configuration as that of the first embodiment except that the shape of the
図11に示すように、第3の実施形態では、空洞部10aが、長手方向が板波伝搬方向xと傾斜した方向に延びる矩形状に形成されている。このため、本実施形態においても、空洞部10aの端縁部は、板波伝搬方向xと平行に延びる直線部を含まない。また、空洞部10aの端縁部は、板波伝搬方向x以外の方向において対向する一対の直線部を含まない。よって、上記第1の実施形態と同様に、本実施形態においても、優れたデバイス特性を有し、且つ小型である弾性波装置を実現することができる。
As shown in FIG. 11, in the third embodiment, the
(第4及び第5の実施形態)
図12は、第4の実施形態における空洞部とIDT電極との模式的平面図である。図13は、第5の実施形態における空洞部とIDT電極との模式的平面図である。
(Fourth and fifth embodiments)
FIG. 12 is a schematic plan view of the cavity and the IDT electrode in the fourth embodiment. FIG. 13 is a schematic plan view of the cavity and the IDT electrode in the fifth embodiment.
第4の実施形態に係る弾性波装置と第5の実施形態に係る弾性波装置とのそれぞれは、空洞部10aの形状が異なる点を除いて、上記第1の実施形態と実質的に同様の構成を有する。
Each of the elastic wave device according to the fourth embodiment and the elastic wave device according to the fifth embodiment is substantially the same as the first embodiment except that the shape of the
第4及び第5の実施形態では、第1の実施形態よりも、IDT電極12に対する空洞部10aの大きさが小さい。具体的には、第4の実施形態では、空洞部10aは、バスバー12a1,12b1の少なくとも一部が空洞部10aの縁端部10a3、10a4、10a5,10a6と重なるように設けられている。このため、バスバー12a1,12b1の交差幅方向y外側の端縁部における板波の反射を抑制することができる。従って、より優れたデバイス特性を実現することができる。
In the fourth and fifth embodiments, the size of the
第5の実施形態では、空洞部10aは、複数の電極指12a2,12b2が設けられた領域が空洞部10aの縁端部10a3、10a4、10a5,10a6の少なくとも一部と重なるように設けられている。このため、バスバー12a1,12b1の交差幅方向yの外側の端縁部における板波の反射と共に、バスバー12a1,12b1の交差幅方向yの内側の電極指領域内における板波の反射も抑制することができる。従って、さらに優れたデバイス特性を実現することができる。
In the fifth embodiment, the
また、第4及び第5の実施形態では、空洞部10aをより小さくできるため、弾性波装置のさらなる小型化を図ることができる。
In the fourth and fifth embodiments, since the
(第6の実施形態)
図14は、第6の実施形態における空洞部とIDT電極との模式的平面図である。
(Sixth embodiment)
FIG. 14 is a schematic plan view of the cavity and the IDT electrode in the sixth embodiment.
第6の実施形態は、IDT電極12及び反射器13,14の形状が異なる点を除いて、上記第1の実施形態と実質的に同様の構成を有する。
The sixth embodiment has substantially the same configuration as the first embodiment except that the shapes of the
本実施形態では、IDT電極12には、アポダイズ重み付けが施されている。このため、IDT電極12のバスバー12a1,12b1は、板波伝搬方向xと傾斜した方向に延びる部分を有する。具体的には、バスバー12a1,12b1の全体が板波伝搬方向xと傾斜した方向に延びている。バスバー12a1,12b1は、板波伝搬方向xと平行に延びる直線部を有さない。よって、バスバー12a1,12b1における反射波の位相が、メインモードの位相と整合しにくい。従って、バスバー12a1,12b1において板波が反射したとしても、弾性波装置の周波数特性は劣化し難い。すなわち、より優れたデバイス特性を実現することができる。
In this embodiment, the
また、本実施形態では、バスバー12a1,12b1は、板波伝搬方向x以外の方向において対向する一対の直線部を有さない。このため、さらに優れたデバイス特性を実現することができる。バスバー12a1,12b1において反射された板波は、振幅の強い共振を起こしにくい。従って、優れたデバイス特性を実現することができる。 Further, in the present embodiment, the bus bars 12a1 and 12b1 do not have a pair of straight portions facing each other in a direction other than the plate wave propagation direction x. Therefore, further excellent device characteristics can be realized. The plate waves reflected by the bus bars 12a1 and 12b1 are less likely to cause resonance with a strong amplitude. Therefore, excellent device characteristics can be realized.
(第7の実施形態)
図15は、第7の実施形態における空洞部とIDT電極との模式的平面図である。なお、第7の実施形態においては、図1及び図2を第1の実施形態と共通に参照する。
(Seventh embodiment)
FIG. 15 is a schematic plan view of the cavity and the IDT electrode in the seventh embodiment. In the seventh embodiment, FIGS. 1 and 2 are referred to in common with the first embodiment.
本実施形態の弾性波装置は、支持体10を備えている。支持体10の構成材料は、特に限定されない。好ましく用いられる支持体10の構成材料の具体例としては、例えば、LiNbO3、LiTaO3、水晶、シリコン、ガラス、セラミック等が挙げられる。
The elastic wave device of this embodiment includes a
支持体10には、支持体10の主面10bに開口する空洞部10aが設けられている。支持体10の主面10bの上には、圧電基板11が設けられている。この圧電基板11は、z方向(積層方向)において、空洞部10aと重なるように設けられている。
The
空洞部10aの形状は特に限定されない。本実施形態では、空洞部10aは、長手方向が板波伝搬方向xに沿った矩形状とである。
The shape of the
空洞部10aの板波伝搬方向xに対して垂直な交差幅方向yにおける幅の最大値は、IDT電極12により定められる波長の50倍以下である。
The maximum value of the width in the intersecting width direction y perpendicular to the plate wave propagation direction x of the
圧電基板11は、適宜の圧電体により構成することができる。圧電基板11は、例えば、LiNbO3、LiTaO3、ZnO、AlN、水晶等により構成することができる。
The
圧電基板11の厚みは、後に詳述する板波が好適に励振される程度である限りにおいて特に限定されない。例えば、オイラー角(0°,33°,0°)のLiTaO3膜を用いて後述するA1モードのラム波を励振する場合において、音速8400m/秒以上、電気機械結合係数k2を5.8%以上に設定するには、圧電基板11の厚みtは、IDT電極12により定められる波長の0.30倍以下であることが好ましい。
The thickness of the
圧電基板11の上には、アポダイズ重み付けを施したIDT電極12と、一対の反射器13,14が設けられている。本実施形態では、IDT電極12及び反射器13,14は、z方向において、空洞部10aと重なるように設けられている。
On the
IDT電極12及び反射器13,14は、適宜の導電材料により構成することができる。IDT電極12及び反射器13,14は、例えば、Al,Pt,Au,Ag,Cu,Ni,Ti,Cr及びPdからなる群から選ばれた金属、もしくは、Al,Pt,Au,Ag,Cu,Ni,Ti,Cr及びPdからなる群から選ばれた一種以上の金属を含む合金により構成することができる。また、IDT電極12及び反射器13,14は、上記金属や合金からなる複数の導電膜の積層体により構成することもできる。
The
IDT電極12は、一対のくし歯状電極12a、12bを有する。一対のくし歯状電極12a、12bは、互いに間挿し合っている。くし歯状電極12a、12bのそれぞれは、バスバー12a1,12b1と、複数の電極指12a2,12b2とを有する。複数の電極指12a2のそれぞれは、バスバー12a1から、y方向に沿ってバスバー12b1側に向かって延びている。複数の電極指12a2は、x方向に沿って相互に間隔をおいて配列されている。一方、複数の電極指12b2のそれぞれは、バスバー12b1から、y方向に沿ってバスバー12a1側に向かって延びている。複数の電極指12b2は、x方向に沿って相互に間隔をおいて配列されている。
The
本実施形態の弾性波装置では、IDT電極12によって、板波が励振される。IDT電極12により励振された板波は、板波伝搬方向xに沿って伝搬する。
In the elastic wave device of this embodiment, a plate wave is excited by the
IDT電極12の電極指12a2,12b2に電位を印加すると、圧電基板11に機械的歪みが生じて電極指12a2,12b2の各所で板波が励振される。これらの板波は、点波源で励起された要素波と考えられる。ホイヘンスの原理によれば、板波の要素波は、円弧上に放射され、周囲の要素波と重ね合わさり、交差幅方向yと平行な波面を形成する。
When a potential is applied to the electrode fingers 12a2 and 12b2 of the
IDT電極12の電極指12a2,12b2の長さは有限であるため、電極指12a2,12b2の端部より外側に板波の一部が漏洩する。漏洩した板波は、音響インピーダンスが不整合となる箇所で少なくとも一部が反射する。音響インピーダンスが不整合となる箇所としては、例えば、バスバーの端やメンブレンを構成する空洞の端縁部が挙げられる。
Since the length of the electrode fingers 12a2 and 12b2 of the
例えば、図19及び図20に示す従来の弾性波装置100では、IDT電極105のバスバー105a、105bが板波伝搬方向xと平行である。このため、バスバー105a、105bにおいて反射した板波の位相がメインモードと整合する。よって、反射波により弾性波装置100の周波数特性が劣化する。
For example, in the conventional
さらに、バスバー105aとバスバー105bとは平行であるため、バスバー105aとバスバー105bとの間で板波が繰り返し反射され共振するため、反射波により弾性波装置100の周波数特性が大きく劣化する。
Further, since the
これに対し、本実施形態では、図15に示すように、IDT電極12には、アポダイズ重み付けが施されている。このため、IDT電極12のバスバー12a1,12b1は、板波伝搬方向xと傾斜した方向に延びる部分を有する。具体的には、バスバー12a1,12b1の全体が板波伝搬方向xと傾斜した方向に延びている。バスバー12a1,12b1は、板波伝搬方向xと平行に延びる直線部を有さない。よって、バスバー12a1,12b1における反射波の位相が、メインモードの位相と整合しにくい。従って、バスバー12a1,12b1において板波が反射したとしても、弾性波装置の周波数特性は劣化し難い。すなわち、優れたデバイス特性を実現することができる。
On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 15, apodization weighting is applied to the
また、本実施形態では、バスバー12a1,12b1は、板波伝搬方向x以外の方向において対向する一対の直線部を有さない。このため、さらに優れたデバイス特性を実現することができる。バスバー12a1,12b1において反射された板波は、振幅の強い共振を起こしにくい。従って、さらに優れたデバイス特性を実現することができる。 Further, in the present embodiment, the bus bars 12a1 and 12b1 do not have a pair of straight portions facing each other in a direction other than the plate wave propagation direction x. Therefore, further excellent device characteristics can be realized. The plate waves reflected by the bus bars 12a1 and 12b1 are less likely to cause resonance with a strong amplitude. Therefore, further excellent device characteristics can be realized.
(第1〜第3の変形例)
図16は、第1の変形例における空洞部の一部分を表す模式的断面図である。図17は、第2の変形例における空洞部の一部分を表す模式的断面図である。図18は、第3の変形例における空洞部の一部分を表す模式的断面図である。具体的には、図16〜図18は、図9のA部分に対応する部分の模式的断面図である。第1〜第3の変形例は、上記第1〜第7の実施形態のいずれにも適用可能なものである。
(First to third modifications)
FIG. 16 is a schematic cross-sectional view showing a part of the cavity in the first modification. FIG. 17 is a schematic cross-sectional view showing a part of the cavity in the second modification. FIG. 18 is a schematic cross-sectional view showing a part of the cavity in the third modification. Specifically, FIGS. 16 to 18 are schematic cross-sectional views of a portion corresponding to the portion A of FIG. The first to third modifications can be applied to any of the first to seventh embodiments.
図16〜図18に示すように、第1〜第3の変形例では、空洞部10aの端縁部は、複数の凹凸を有する。このため、板波は、空洞部10aの端縁部において乱反射される。よって、反射波は、定在波とならず、より共振しにくくなる。従って、より優れたデバイス特性を実現することができる。
As shown in FIGS. 16-18, in the 1st-3rd modification, the edge part of the
なお、端縁部の凹凸は、図16や図17に示すように周期的な構造であってもよいし、図18に示すように非周期的な構造であってもよい。具体的には、図16に示す第1の変形例では、端縁部がのこぎり歯状とされている。図17に示す第2の変形例では、端縁部に、半円状の凸部が複数形成されている。 In addition, the unevenness | corrugation of an edge part may have a periodic structure as shown in FIG.16 and FIG.17, and may have an aperiodic structure as shown in FIG. Specifically, in the first modified example shown in FIG. 16, the end edge portion has a sawtooth shape. In the second modified example shown in FIG. 17, a plurality of semicircular convex portions are formed on the edge portion.
また、本発明で図示した図9から図15の構造は、IDT電極の中心に対して点対称や線対称とならないようにすることで、端縁部からの反射波の位相をずらして定在波の応答を小さくすることができ、スプリアスを抑制しやすくなる。従って、IDT電極は、点対称や線対称でないことが望ましい。 In addition, the structures shown in FIGS. 9 to 15 illustrated in the present invention do not become point symmetric or line symmetric with respect to the center of the IDT electrode, so that the phase of the reflected wave from the edge portion is shifted and fixed. The response of the wave can be reduced, and spurious can be easily suppressed. Therefore, it is desirable that the IDT electrode is not point-symmetric or line-symmetric.
また、空洞部は、支持基板を掘削することにより形成した窪みの上に圧電体を配して形成してもよいし、圧電体を掘削することにより形成した窪みの下に支持基板を配して形成してもよいし、基板上にSiO2やSiNなどからなる薄膜で枠を形成した支持基板を形成し、枠上に圧電体を配して形成してもよいし、圧電体上にSiO2やSiNなどからなる薄膜で枠を形成した圧電基板を形成し、枠下に支持基板を配して形成してもよい。 The hollow portion may be formed by arranging a piezoelectric body on a depression formed by excavating the support substrate, or by arranging a support substrate under the depression formed by excavating the piezoelectric body. It may be formed by forming a support substrate in which a frame is formed of a thin film made of SiO 2 or SiN on the substrate, and a piezoelectric body may be disposed on the frame, or on the piezoelectric body. forming a piezoelectric substrate formed with the frame a thin film made of SiO 2 or SiN, it may be formed by disposing a supporting substrate under the frame.
特に、薄膜で枠を形成する方法は、フォトリソグラフィ技術を用いて簡易に行えるため、図9〜15に示すような矩形以外の複雑な形状や、図16〜図18に示すような形状を容易に、且つ、高精度に加工できるので望ましい。 In particular, the method of forming a frame with a thin film can be easily performed by using a photolithography technique, so that a complicated shape other than a rectangle as shown in FIGS. 9 to 15 or a shape as shown in FIGS. In addition, it is desirable because it can be processed with high accuracy.
1…弾性波装置
10…支持体
10a…空洞部
10a1〜10a6…端縁部
10b…主面
11…圧電基板
12…IDT電極
12a、12b…くし歯状電極
12a1,12b1…バスバー
12a2,12b2…電極指
13,14…反射器
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記支持体の上に前記空洞部と重なるように設けられている圧電基板と、
前記圧電基板の上に前記空洞部と重なるように設けられているIDT電極と、
を備え、
前記IDT電極により板波が励振される弾性波装置であって、
前記空洞部の端縁部は、前記IDT電極により励振される板波の伝搬方向と平行に延びる直線部を含まない、弾性波装置。 A support formed with a cavity,
A piezoelectric substrate provided on the support so as to overlap the cavity,
An IDT electrode provided on the piezoelectric substrate so as to overlap the cavity,
With
An elastic wave device in which a plate wave is excited by the IDT electrode,
The edge part of the said cavity part is an elastic wave apparatus which does not contain the linear part extended in parallel with the propagation direction of the plate wave excited by the said IDT electrode.
前記空洞部の辺縁の少なくとも一部が前記バスバーと重なるように設けられている、請求項1または2に記載の弾性波装置。 The IDT electrode includes a bus bar and a plurality of electrode fingers extending from the bus bar along an intersecting width direction perpendicular to the propagation direction of the plate wave, and includes a pair of comb-like electrodes that are interleaved with each other. ,
At least a part is provided so as to overlap the bus bar, the elastic wave device according to claim 1 or 2 edge of the cavity.
前記バスバーは、前記板波の伝搬方向と傾斜した方向に延びる部分を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の弾性波装置。 The IDT electrode includes a bus bar and a plurality of electrode fingers extending from the bus bar along an intersecting width direction perpendicular to the propagation direction of the plate wave, and includes a pair of comb-like electrodes that are interleaved with each other. ,
The said bus-bar is an elastic wave apparatus as described in any one of Claims 1-5 which has a part extended in the direction inclined with respect to the propagation direction of the said plate wave.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011128093A JP5772256B2 (en) | 2011-06-08 | 2011-06-08 | Elastic wave device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011128093A JP5772256B2 (en) | 2011-06-08 | 2011-06-08 | Elastic wave device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012257019A JP2012257019A (en) | 2012-12-27 |
JP5772256B2 true JP5772256B2 (en) | 2015-09-02 |
Family
ID=47528168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011128093A Active JP5772256B2 (en) | 2011-06-08 | 2011-06-08 | Elastic wave device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5772256B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109818136A (en) * | 2019-01-24 | 2019-05-28 | 西安维国电子科技有限公司 | The moveable Bounded-wave Simulator antenna of inflatable and Bounded-wave Simulator |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2015137089A1 (en) | 2014-03-14 | 2017-04-06 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device |
WO2016052129A1 (en) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | 株式会社村田製作所 | Acoustic wave device and method for manufacturing same |
WO2016098526A1 (en) | 2014-12-18 | 2016-06-23 | 株式会社村田製作所 | Acoustic wave device and manufacturing method therefor |
JP2019165332A (en) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 株式会社リコー | Electronic device and atomic oscillator |
CN114424458A (en) | 2019-09-27 | 2022-04-29 | 株式会社村田制作所 | Elastic wave device |
JPWO2021060521A1 (en) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | ||
JP7318746B2 (en) * | 2020-01-20 | 2023-08-01 | 株式会社村田製作所 | Acoustic wave device |
WO2021187397A1 (en) | 2020-03-16 | 2021-09-23 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device |
WO2021222433A1 (en) * | 2020-04-29 | 2021-11-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device and ladder filter |
CN115428330B (en) * | 2020-04-29 | 2023-09-12 | 株式会社村田制作所 | elastic wave device |
WO2022045307A1 (en) * | 2020-08-28 | 2022-03-03 | 京セラ株式会社 | Elastic wave element and communication device |
CN116076021A (en) | 2020-09-16 | 2023-05-05 | 株式会社村田制作所 | Elastic wave device |
DE112021005011T5 (en) | 2020-10-23 | 2023-07-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | ACOUSTIC WAVE COMPONENT |
CN112702037A (en) * | 2020-12-18 | 2021-04-23 | 广东广纳芯科技有限公司 | Lamb wave resonator with POI structure |
WO2022211087A1 (en) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device |
WO2022210694A1 (en) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device |
KR20230147700A (en) | 2021-03-31 | 2023-10-23 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | elastic wave device |
WO2022210923A1 (en) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device |
CN113193845A (en) * | 2021-04-07 | 2021-07-30 | 武汉大学 | Radio frequency resonator with special supporting substrate and preparation method thereof |
WO2022224972A1 (en) * | 2021-04-19 | 2022-10-27 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device and method for manufacturing elastic wave device |
WO2023282264A1 (en) * | 2021-07-08 | 2023-01-12 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device |
CN117678159A (en) * | 2021-07-20 | 2024-03-08 | 株式会社村田制作所 | Elastic wave device and method for manufacturing same |
WO2023058715A1 (en) * | 2021-10-07 | 2023-04-13 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device |
WO2023140331A1 (en) * | 2022-01-24 | 2023-07-27 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device |
WO2023204250A1 (en) * | 2022-04-20 | 2023-10-26 | 株式会社村田製作所 | Elastic wave device |
WO2023210762A1 (en) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 株式会社村田製作所 | Acoustic wave element |
WO2023234383A1 (en) * | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 京セラ株式会社 | Elastic wave device and communication device |
WO2024225181A1 (en) * | 2023-04-25 | 2024-10-31 | 京セラ株式会社 | Elastic wave resonator and communication device |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2983252B2 (en) * | 1990-05-14 | 1999-11-29 | 株式会社東芝 | Piezoelectric thin film device |
JPH09116378A (en) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Toyo Commun Equip Co Ltd | Idt excitation device |
JP4245103B2 (en) * | 1998-12-14 | 2009-03-25 | パナソニック株式会社 | Surface acoustic wave device |
JP3950611B2 (en) * | 1999-01-27 | 2007-08-01 | 株式会社日立製作所 | Surface acoustic wave resonator |
US6215375B1 (en) * | 1999-03-30 | 2001-04-10 | Agilent Technologies, Inc. | Bulk acoustic wave resonator with improved lateral mode suppression |
US6714102B2 (en) * | 2001-03-01 | 2004-03-30 | Agilent Technologies, Inc. | Method of fabricating thin film bulk acoustic resonator (FBAR) and FBAR structure embodying the method |
JP2002368576A (en) * | 2001-06-05 | 2002-12-20 | Fujitsu Media Device Kk | Surface acoustic wave element |
JP4024741B2 (en) * | 2003-10-20 | 2007-12-19 | 富士通メディアデバイス株式会社 | Piezoelectric thin film resonator and filter |
JP4315174B2 (en) * | 2006-02-16 | 2009-08-19 | セイコーエプソン株式会社 | Manufacturing method of lamb wave type high frequency device |
JP2007312164A (en) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Hitachi Ltd | Piezoelectric thin film resonator, and high frequency filter and high frequency module using the same |
JP5047660B2 (en) * | 2007-03-27 | 2012-10-10 | 日本碍子株式会社 | Piezoelectric thin film device |
-
2011
- 2011-06-08 JP JP2011128093A patent/JP5772256B2/en active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109818136A (en) * | 2019-01-24 | 2019-05-28 | 西安维国电子科技有限公司 | The moveable Bounded-wave Simulator antenna of inflatable and Bounded-wave Simulator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012257019A (en) | 2012-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5772256B2 (en) | Elastic wave device | |
JP6564096B2 (en) | Transversely coupled bulk acoustic wave filter with improved passband characteristics | |
CN109075763B (en) | Elastic wave element and communication device | |
KR102290079B1 (en) | seismic device | |
JP7178881B2 (en) | surface acoustic wave element | |
JP5648695B2 (en) | Elastic wave device and manufacturing method thereof | |
KR20190110020A (en) | Elastic wave device | |
JP7499624B2 (en) | Surface acoustic wave element | |
WO2006109591A1 (en) | Elastic wave element | |
JP2010220163A (en) | Lamb-wave resonator and oscillator | |
JP2015073207A (en) | Acoustic wave resonator | |
JPWO2015137054A1 (en) | Elastic wave device | |
JP2010010874A (en) | Surface acoustic wave filter | |
KR102448414B1 (en) | seismic device | |
JP2010166148A (en) | Elastic wave device | |
WO2018079574A1 (en) | Acoustic wave element | |
JP4450173B2 (en) | Piezoelectric vibrator | |
JP5716050B2 (en) | Elastic wave element | |
JP5872196B2 (en) | Elastic wave device and elastic wave device using the same | |
JP5377259B2 (en) | Surface acoustic wave resonator | |
WO2010125940A1 (en) | Elastic wave device | |
JP2011041082A (en) | One-port type elastic wave resonator and elastic wave filter device | |
JP6725404B2 (en) | Elastic wave element and elastic wave device | |
KR20120038889A (en) | Elastic surface wave apparatus | |
JP2008103954A (en) | Surface acoustic wave element chip |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140306 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150602 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150615 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5772256 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |