JP5565613B2 - 計測方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
露光された前記物体を露光することと;を含むデバイス製造方法が、提供される。
I2=A(1+cos(φ+π/2)) …(1b)
I3=A(1+cos(φ+π)) …(1c)
I4=A(1+cos(φ+3π/2)) …(1d)
ここで、φは、計測ビームLB1,LB2(それらに由来する出力ビームLB3のS,P偏光成分)の間の位相差である。
I42=I4−I2=2Asin(φ) …(2b)
なお、差I13,I42は、光学回路(又は電気回路)を光検出器内に導入し、それを用いて光学的(又は電気的)に求めても良い。
ここで、pはスケール39Y1が有する回折格子のピッチ、nは回折次数(例えばn=1)、φ0は境界条件(例えば変位ΔYの基準位置の定義など)より定まる定位相である。
ここで、定位相φ0を位相オフセット(ただし、0≦φ0<2πと定義する)とし、変位ΔYの基準位置での位相φ(ΔY=0)を保持することとする。
Claims (25)
- 周期パターンの位置情報を計測する計測方法であって、
移動体と該移動体の外部との一方に配置された周期パターンの周期方向に関する位置情報を、前記移動体を前記周期パターンの周期方向に駆動しつつ、前記周期方向に関する前記移動体の位置を計測する位置計測系の出力と、前記移動体と該移動体の外部との他方に少なくともその一部が設けられ、前記周期パターンを検出する検出系の出力とに基づいて計測する工程を含み、
前記計測する工程では、前記計測中、前記周期パターンのピッチが、前記位置計測系の周期誤差が前記周期パターンの位置の計測誤差の要因とならない前記位置計測系の計測周期に対する所定の関係を満たし、
前記所定の関係は、前記周期パターンのピッチが、前記計測周期の自然数m倍とはならない関係である計測方法。 - 前記所定の関係は、nを2以上の自然数として、前記周期パターンのピッチが、前記計測周期の(m+1/n)倍に等しくなる関係である請求項1に記載の計測方法。
- 前記計測する工程では、前記移動体の外部に配置された前記周期パターンを照明光で照明し、前記周期パターン及び光学系を介した前記照明光を前記移動体に少なくともその一部が設けられた前記検出系で受光する請求項1又は2に記載の計測方法。
- 前記計測する工程では、前記周期パターンのピッチと前記位置計測系の計測周期とが、前記所定の関係を満たすように、前記移動体とともに、前記周期パターンを前記周期方向に駆動する請求項3に記載の計測方法。
- 前記計測する工程では、mを自然数、nを2以上の自然数として、前記移動体の駆動速度の1/(1+mn)倍の速度で前記周期パターンを駆動する請求項4に記載の計測方法。
- 前記計測する工程では、前記周期方向に関する前記周期パターンの位置を計測する別の位置計測系の出力にさらに基づいて、前記周期パターンの周期方向に関する位置情報を計測する請求項4又は5に記載の計測方法。
- 前記nは、4の倍数である請求項2、5、6のいずれか一項に記載の計測方法。
- 前記周期パターンは、前記周期方向に配列された前記nの倍数である数のパターンを含む請求項2、5〜7のいずれか一項に記載の計測方法。
- 前記計測する工程では、前記移動体と該移動体の外部との一方に設けられ、他方に設けられた計測面に計測光を照射し、前記計測面からの光を受光するヘッドを有し、該ヘッドの出力に基づいて前記移動体の位置情報を計測する位置計測系が用いられる請求項1〜8のいずれか一項に記載の計測方法。
- 前記計測面には、少なくとも前記周期パターンの周期方向を周期方向とするグレーティングが配置され、
前記計測周期は、前記グレーティングのピッチより定まる請求項9に記載の計測方法。 - 前記計測周期は、前記計測光の波長より定まる請求項9に記載の計測方法。
- エネルギビームにより物体を露光して前記物体上にパターンを形成する露光方法であって、
請求項1〜11のいずれか一項に記載の計測方法により前記周期パターンの位置情報を計測することと;
前記周期パターンの位置情報の計測結果に基づいて前記物体を保持する移動体を駆動し、前記エネルギビームにより前記物体を露光することと;
を含む露光方法。 - 請求項12に記載の露光方法により物体を露光することと;
露光された前記物体を現像することと;
を含むデバイス製造方法。 - エネルギビームにより物体を露光して前記物体上にデバイスパターンを形成する露光装置であって、
前記物体を保持して移動する移動体と;
前記移動体の位置を計測する位置計測系と;
前記移動体と該移動体の外部との一方に少なくともその一部が設けられ、パターン又はパターン像を検出する検出系と;
前記移動体と該移動体の外部との他方に配置された周期パターンの周期方向に前記移動体を駆動しつつ、前記位置計測系で計測される前記移動体の位置の計測情報と、前記周期パターン又はその像を検出する前記検出系の出力とに基づいて、前記周期パターンの周期方向に関する位置情報を計測する制御装置と;を備え、
前記計測中、前記周期パターンのピッチが、前記位置計測系の周期誤差が前記周期パターンの位置の計測誤差の要因とならない前記位置計測系の計測周期に対する所定の関係を満たし、
前記所定の関係は、前記周期パターンのピッチが、前記計測周期の自然数m倍とはならない関係である露光装置。 - 前記所定の関係は、nを2以上の自然数として、前記周期パターンのピッチが、前記計測周期の(m+1/n)倍に等しくなる関係である請求項14に記載の露光装置。
- 前記デバイスパターンが形成されたマスクが載置されるマスク保持部材と;
前記マスク保持部材上に存在するパターンを介した前記エネルギビームを前記移動体に向けて射出する光学系と;をさらに備え、
前記検出系は、前記移動体に少なくともその一部が設けられ、
前記制御装置は、前記周期パターンの周期方向に関する位置情報の計測に際し、前記マスク保持部材上に存在する前記周期パターン及び前記光学系を介して前記検出系で受光する請求項14又は15に記載の露光装置。 - 前記マスク保持部材は、少なくとも前記周期方向に移動可能であり、
前記制御装置は、前記周期パターンのピッチと前記位置計測系の計測周期とが、前記所定の関係を満たすように、前記移動体とともに、前記マスク保持部材を前記周期方向に駆動する請求項16に記載の露光装置。 - 前記制御装置は、mを自然数、nを2以上の自然数として、前記移動体の駆動速度の1/(1+mn)倍の速度で前記マスク保持部材を駆動する請求項17に記載の露光装置。
- 前記マスク保持部材の位置を計測する別の位置計測系をさらに備え、
前記制御装置は、前記別の位置計測系で計測される前記マスク保持部材の位置の計測情報にさらに基づいて、前記周期パターンの周期方向に関する位置情報を計測する請求項17又は18に記載の露光装置。 - 前記nは、4の倍数である請求項15、18、19のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記周期パターンは、前記周期方向に配列された前記nの倍数である数のパターンを含む請求項15、18〜20のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記位置計測系は、前記移動体と該移動体の外部との一方に設けられ、他方に設けられた計測面に計測光を照射し、前記計測面からの光を受光するヘッドを有し、該ヘッドの出力に基づいて前記移動体の位置情報を計測する請求項14〜21のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記計測面には、少なくとも前記周期パターンの周期方向を周期方向とするグレーティングが配置され、
前記計測周期は、前記グレーティングのピッチより定まる請求項22に記載の露光装置。 - 前記計測周期は、前記計測光の波長より定まる請求項22に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記周期パターンの位置情報の計測結果に基づいて前記物体を保持する移動体を駆動し、前記エネルギビームにより前記物体を露光する請求項14〜24のいずれか一項に記載の露光装置。
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