JP4910500B2 - フィルタ装置 - Google Patents
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Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
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Description
12 基板
14 介在層
14c 島状部(隆起層)
14x 枠状部(支持層)
16 カバー
18 樹脂
20d 配線(端子間配線)
30 並列共振子
32 直列共振子
34 並列共振子
36 直列共振子
38 並列共振子
40 1ポート型共振子
42 第1の縦結合共振子型フィルタ
43b,43d 金属膜(導電部材)
44 第2の縦結合共振子型フィルタ
45b,45d 島状部(隆起層)
46 第3の縦結合共振子型フィルタ
47b,47d 金属膜(導電部材)
48 第4の縦結合共振子型フィルタ
49b,49d 島状部(隆起層)
50 1ポート型共振子
50k 島状部(隆起層)
51k 金属膜(導電部材)
52,54,56,58 縦結合共振子型フィルタ
60 1ポート型共振子
60k 島状部(隆起層)
61k 金属膜(導電部材)
62,64,66,68 縦結合共振子型フィルタ
70 1ポート型共振子
70k 島状部(隆起層)
71k 金属膜(導電部材)
72,74,76,78 縦結合共振子型フィルタ
100 フィルタ装置
101 並列共振子
102 直列共振子
103 並列共振子
104 直列共振子
105 並列共振子
114c 島状部(隆起層)
1235 金属膜(導電部材)
200 デュプレクサ
Claims (11)
- 基板と、
前記基板の一方主面に対向して配置される、カバーと、
前記基板の外縁に沿って延在し、前記基板と前記カバーとを間隔を設けて接合して、前記基板と前記カバーとの間に空間(以下、「振動空間」という。)を形成する、支持層と、
前記振動空間内において、前記基板の前記一方主面に支持又は形成された、複数の機能素子と、
前記振動空間内において、前記基板の前記一方主面に形成され、前記機能素子の複数の端子に電気的に接続された、端子間配線と、
前記振動空間内において、前記端子間配線上又は前記端子間配線に隣接して前記基板の前記一方主面上に形成され、前記カバーに向けて隆起する、隆起層と、
前記端子間配線上から前記隆起層上まで連続して形成され、前記隆起層上において前記カバーと前記隆起層との間に挟まれる部分を含む、導電部材と、
を備えたことを特徴とする、フィルタ装置。 - 前記基板は、圧電基板であり、
前記機能素子は、前記圧電基板上の弾性波伝搬方向に沿って配置された2つの反射器と、前記反射器の間に配置された1つ又は2つ以上のIDTとを含む、弾性波素子である、ことを特徴とする、請求項1に記載のフィルタ装置。 - 前記機能素子は、
前記基板に支持されかつ前記基板から音響的に分離されていて、対向する一対の電極の間に圧電薄膜が配置された薄膜部を含む圧電薄膜共振子であることを特徴とする、請求項1に記載のフィルタ装置。 - 前記弾性波素子は、2つの前記反射器の間に1つの前記IDTを有する1ポート型共振子であり、
前記1ポート型共振子は、ラダー型に接続された少なくとも2つの直列共振子と少なくとも1つの並列共振子とを含み、
少なくとも2つの前記直列共振子の間に少なくとも1つの前記並列共振子が配置され、
前記端子間配線は、少なくとも2つの前記直列共振子と少なくとも1つの前記並列共振子とのそれぞれの一方の端子に接続され、少なくとも1つの前記並列共振子に沿って延在することを特徴とする、請求項2に記載のフィルタ装置。 - 前記圧電薄膜共振子は、ラダー型に接続された少なくとも2つの直列共振子と少なくとも1つの並列共振子とを含み、
少なくとも2つの前記直列共振子の間に少なくとも1つの前記並列共振子が配置され、
前記端子間配線は、少なくとも2つの前記直列共振子と少なくとも1つの前記並列共振子とのそれぞれの一方の端子に接続され、少なくとも1つの前記並列共振子に沿って延在することを特徴とする、請求項3に記載のフィルタ装置。 - 前記弾性波素子は、
2つの前記反射器の間に1つの前記IDTを有する、少なくとも1つの1ポート型共振子と、
2つの前記反射器の間に3つの前記IDTを有する、少なくとも2つの縦結合共振子型フィルタと、
を含み、
前記端子間配線は、少なくとも1つの前記1ポート型共振子と少なくとも2つの前記縦結合共振子型フィルタとのそれぞれの一方の端子に接続されることを特徴とする、請求項2に記載のフィルタ装置。 - 前記弾性波素子は、
2つの前記反射器の間に1つの前記IDTを有する、少なくとも1つの1ポート型共振子と、
2つの前記反射器の間に3つの前記IDTを有する、第1〜第4の縦結合共振子型フィルタと、
を含み、
前記第1〜第4の縦結合共振子型フィルタのうち、1つの位相が他の3つの位相と180度異なり、
前記第1の縦結合共振子型フィルタの前記IDTの一方の端子と前記第2の縦結合共振子型フィルタの前記IDTの一方の端子とがそれぞれ接続され、
前記第3の縦結合共振子型フィルタの前記IDTの一方の端子と前記第4の縦結合共振子型フィルタの前記IDTの一方の端子とがそれぞれ接続され、
前記第1及び前記第3の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの他方の端子が、前記1ポート型共振子を介して、第1の外部端子に電気的に接続され、
前記第2の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの他方の端子が、第2の外部端子に電気的に接続され、
前記第4の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの他方の端子が、第3の外部端子に電気的に接続され、
前記隆起層と前記導電部材とは、前記基板の前記一方主面に形成され、1つの前記1ポート型共振子の一方の端子と前記第1及び第3の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの前記他方の端子とを接続する配線について形成されていることを特徴とする、請求項6に記載のフィルタ装置。 - 前記弾性波素子は、
2つの前記反射器の間に1つの前記IDTを有する、少なくとも1つの1ポート型共振子と、
2つの前記反射器の間に3つの前記IDTを有する、第1〜第4の縦結合共振子型フィルタと、
を含み、
前記第1〜第4の縦結合共振子型フィルタは、全て同じ位相であり、
前記第1の縦結合共振子型フィルタの前記IDTの一方の端子と前記第2の縦結合共振子型フィルタの前記IDTの一方の端子とがそれぞれ接続され、
前記第3の縦結合共振子型フィルタの前記IDTの一方の端子と前記第4の縦結合共振子型フィルタの前記IDTの一方の端子とがそれぞれ接続され、
前記第1及び前記第3の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの他方の端子が、前記1ポート型共振子を介して、第1の外部端子に電気的に接続され、
前記基板の前記一方主面に、前記第2及び第4の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの他方の端子とを接続する配線が形成され、該配線が第2の外部端子に電気的に接続され、
前記隆起層と前記導電部材とは、前記基板の前記一方主面に形成され、1つの前記1ポート型共振子の一方の端子と前記第1及び第3の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの前記他方の端子とを接続する配線と、前記第2及び第4の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの他方の端子とを接続する前記配線との少なくとも一方について形成されていることを特徴とする、請求項6に記載のフィルタ装置。 - 前記弾性波素子は、
2つの前記反射器の間に1つの前記IDTを有する、1つの1ポート型共振子と、
2つの前記反射器の間に3つの前記IDTを有する、第1〜第4の縦結合共振子型フィルタと、
を含み、
前記第1〜第4の縦結合共振子型フィルタは、全て同じ位相であり、
前記第1の縦結合共振子型フィルタの両外側の前記IDTの一方の端子と前記第2の縦結合共振子型フィルタの両外側の前記IDTの一方の端子とがそれぞれ接続され、
前記第3の縦結合共振子型フィルタの両外側の前記IDTの一方の端子と前記第4の縦結合共振子型フィルタの両外側の前記IDTの一方の端子とがそれぞれ接続され、
前記第1及び前記第3の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの他方の端子が、前記1ポート型共振子を介して、第1の外部端子に電気的に接続され、
前記第2及び前記第4の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの一方の端子が、第2の外部端子に電気的に接続され、
前記第2及び前記第4の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの他方の端子が、第3の外部端子に電気的に接続され、
前記隆起層と前記導電部材とは、前記基板の前記一方主面に形成され、1つの前記1ポート型共振子の一方の端子と前記第1及び第3の縦結合共振子型フィルタの中央の前記IDTの前記他方の端子とを接続する配線について形成されていることを特徴とする、請求項6に記載のフィルタ装置。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載のフィルタ装置を、送信側フィルタと受信側フィルタとのいずれか一方又は両方に用いたことを特徴とする、デュプレクサ。
- 複数の機能素子が支持又は形成された基板の一方主面に、前記基板の外縁に沿って延在する支持層を形成するとともに、前記基板の前記一方主面に形成され前記機能素子の複数の端子(以下、「内部接続端子」という。)にのみ電気的に接続された端子間配線上に、又は前記端子間配線に隣接して前記基板の前記一方主面上に、隆起層を形成する、第1の工程と、
前記機能素子の前記内部接続端子以外の端子(以下、「外部接続端子」という。)上、又は前記基板の前記一方主面に形成され前記外部接続端子に電気的に接続された基板配線上から前記支持層上まで連続する外部接続部材を形成するとともに、前記端子間配線上から前記隆起層上まで連続する導電部材を形成する第2の工程と、
前記基板の前記一方主面に対向してカバーを配置し、前記支持層により前記基板と前記カバーとを間隔を設けて接合して、前記基板と前記カバーとの間に空間(以下、「振動空間」という。)を形成して、前記振動空間内に前記機能素子を配置するとともに、前記導電部材の一部を前記カバーと前記隆起層との間に挟む、第3の工程と、
を備え、
前記第1の工程において、前記支持層と前記隆起層とを同時に形成し、
前記第2の工程において、前記外部接続部材と前記導電部材とを同時に形成することを特徴とする、フィルタ装置の製造方法。
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