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JP4969260B2 - Magnetic disk glass substrate manufacturing method, magnetic disk manufacturing method, and magnetic disk glass substrate manufacturing system - Google Patents

Magnetic disk glass substrate manufacturing method, magnetic disk manufacturing method, and magnetic disk glass substrate manufacturing system Download PDF

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JP4969260B2 JP2007022420A JP2007022420A JP4969260B2 JP 4969260 B2 JP4969260 B2 JP 4969260B2 JP 2007022420 A JP2007022420 A JP 2007022420A JP 2007022420 A JP2007022420 A JP 2007022420A JP 4969260 B2 JP4969260 B2 JP 4969260B2
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Description

本発明は、ガラス基板の一部をイオン交換して化学強化を行う化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および磁気ディスク用ガラス基板の製造システムに関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk including a chemical strengthening process a portion of the glass substrate by ion exchange performing chemical strengthening, a method of manufacturing a magnetic disk, relates to a glass substrate manufacturing system for a contact and a magnetic disk.

近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。このような磁気記録媒体のひとつであるHDD(ハードディスクドライブ)等の磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた。しかし、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板の需要が高まっている。   In recent years, with the advancement of information technology, information recording technology, particularly magnetic recording technology, has made remarkable progress. As a substrate for a magnetic recording medium such as an HDD (Hard Disk Drive) which is one of such magnetic recording media, an aluminum substrate has been widely used. However, with the miniaturization, thinning, and high-density recording of magnetic disks, there is an increasing demand for glass substrates that have superior substrate surface flatness and substrate strength compared to aluminum substrates.

また、磁気記録媒体の高密度化に伴い、磁気ヘッドも薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)、大型磁気抵抗型ヘッド(GMRヘッド)へと推移してきており、磁気ヘッドの基板からの浮上量が小さくなってきている。このような磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドには固有の障害としてサーマルアスペリティ障害を引き起こす場合がある。サーマルアスペリティ障害は、磁気ディスク面上の微小な凸或いは凹形状上を磁気ヘッドが浮上飛行しながら通過するときに、空気の断熱圧縮または接触により磁気抵抗効果型素子が加熱され、読み出しエラーが生じる障害である。   In addition, as the recording density of magnetic recording media is increased, the magnetic head has been changed from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a large magnetoresistive head (GMR head). The flying height is getting smaller. A magnetic head equipped with such a magnetoresistive element may cause a thermal asperity failure as an inherent failure. In thermal asperity failure, when the magnetic head passes over a minute convex or concave shape on the magnetic disk surface while flying, the magnetoresistive element is heated by adiabatic compression or contact of air, and a read error occurs. It is an obstacle.

従って、磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドに対しては、磁気ディスク表面は極めて高度な平滑度および平坦度が求められる。また塵埃や異物が付着したまま磁性層を形成すると凸部が形成されてしまうため、ガラス基板には、塵埃や異物を完全に除去する高度な洗浄も求められている。   Therefore, for a magnetic head equipped with a magnetoresistive element, the surface of the magnetic disk is required to have extremely high smoothness and flatness. Further, if the magnetic layer is formed with dust and foreign matters attached, convex portions are formed. Therefore, the glass substrate is also required to be highly cleaned to completely remove dust and foreign matters.

また、磁気ディスク表面の平滑度および平坦度と共に、磁気ディスク中央に設けられた円孔における内径寸法誤差も厳しい精度管理が求められている。これは磁気ディスクの内周端面の寸法誤差が、磁気ディスクをHDDのスピンドルモータに嵌設する際の設置精度に直接影響するからである。また、内径寸法誤差が大きいと、HDD等の磁気ディスク装置に磁気ディスクが組み付けられる前に実施されるスタッキングサーボ(サーボ情報の磁気ディスクへの書き込み)における機械的な誤差を誘発する可能性や、ディスクスタッキング時のスピンドルとの嵌め合い不具合を誘発する可能性が生じる。磁気ディスクの内周端面は主表面に対して表面積が小さく、内径寸法誤差により磁気ディスクの回転中心がずれた場合には、HDDのヘッドをHDD上の正しい位置に配置することが困難となり、データの記録/再生ができなくなってしまう。   In addition to the smoothness and flatness of the magnetic disk surface, strict accuracy control is required for the inner diameter dimensional error in the circular hole provided in the center of the magnetic disk. This is because the dimensional error of the inner peripheral end surface of the magnetic disk directly affects the installation accuracy when the magnetic disk is fitted to the HDD spindle motor. In addition, if the inner diameter dimensional error is large, there is a possibility of inducing a mechanical error in stacking servo (writing servo information to the magnetic disk) performed before the magnetic disk is assembled in a magnetic disk device such as an HDD, There is a possibility of causing a mating failure with the spindle during disk stacking. The inner peripheral end surface of the magnetic disk has a smaller surface area than the main surface, and if the rotation center of the magnetic disk is displaced due to an inner diameter dimensional error, it becomes difficult to position the HDD head at the correct position on the HDD. Will not be able to record / play.

また、磁気ディスクは高速に回転しながらデータの読み書きが行われるため、その高速回転においても磁気ディスク上のデータがぶれないようにする必要がある。従って、磁気ディスク用基板の内径寸法誤差の精度管理が特に重要となる。   Further, since data is read and written while the magnetic disk rotates at a high speed, it is necessary to prevent data on the magnetic disk from being blurred even at the high speed rotation. Accordingly, it is particularly important to manage the accuracy of the inner diameter error of the magnetic disk substrate.

さらに、HDDのデータのアクセスに着目すると、HDDに組み込まれた磁気ディスクのデータを正確に記憶/再生するために、当該磁気ディスクには位置決めの指標となるサーボパターンが予め書き込まれる。このサーボパターンの書き込みは、サーボライターと呼ばれる装置に磁気ディスクを嵌設して実行される。そして、サーボパターンが書き込まれた磁気ディスクは、一旦サーボライターから離脱され、製品としてHDDのスピンドルモータに嵌設される。   Further, paying attention to the data access of the HDD, in order to accurately store / reproduce the data of the magnetic disk incorporated in the HDD, a servo pattern serving as a positioning index is written in advance on the magnetic disk. The servo pattern is written by inserting a magnetic disk in a device called a servo writer. Then, the magnetic disk on which the servo pattern is written is once detached from the servo writer, and is inserted into the HDD spindle motor as a product.

磁気ディスクの内径寸法誤差が大きい場合には、磁気ディスクをHDDに組み込む際にサーボパターンと、製品としてのHDDの記録/再生ヘッドとの位置がずれてしまうので、やはりデータの記録/再生が正常に行われないことになる。かかる位置関係を補正するためアライメントを調整する技術は開示されているが(例えば、特許文献1)、内径寸法誤差を抑制する抜本的な解決がなされるわけではない。   If the inner diameter error of the magnetic disk is large, the position of the servo pattern and the recording / reproducing head of the HDD as a product will be shifted when the magnetic disk is incorporated into the HDD, so that data recording / reproducing is still normal. Will not be done. Although a technique for adjusting alignment to correct such a positional relationship has been disclosed (for example, Patent Document 1), a fundamental solution for suppressing an inner diameter dimensional error has not been made.

このように、磁気ディスクの高記録密度化の要求は近年さらに高まりつつあり、磁気ディスク用のガラス基板に対する従来よりも一層厳しい内径寸法誤差の管理が求められている。
特開2004−199841号公報
As described above, the demand for higher recording density of magnetic disks is increasing further in recent years, and management of inner diameter dimensional errors that are more severe than those of conventional glass substrates for magnetic disks is required.
JP 2004-199841 A

このような磁気ディスク用のガラス基板は、複数の工程を経由して形成される。まず、1枚のウェハを円盤状に切削し、さらに内孔を開けてガラス基板の形を形成する。その後、切削したガラス基板の外周端面および内周端面の面取りを行い、両端面を研磨する。続いて、ガラス基板の主表面も研磨され、最後に研磨が完了したガラス基板に化学強化処理を施す。かかる化学強化処理は、ガラス基板の耐衝撃性や耐振動性を向上させることができ、衝撃や振動によってガラス基板が破損するのを防止できる。   Such a glass substrate for a magnetic disk is formed through a plurality of processes. First, a single wafer is cut into a disk shape, and an inner hole is formed to form a glass substrate. Thereafter, the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the cut glass substrate are chamfered, and both end surfaces are polished. Subsequently, the main surface of the glass substrate is also polished, and finally the glass substrate that has been polished is subjected to a chemical strengthening treatment. Such chemical strengthening treatment can improve the impact resistance and vibration resistance of the glass substrate, and can prevent the glass substrate from being damaged by the impact and vibration.

この化学強化処理を施す化学強化工程は、例えば、アルカリ塩の溶融塩を加熱溶融し、処理対象のガラス基板をガラス基板ホルダに収納した状態で上記溶融塩(化学強化処理液)中に浸漬し、ガラス基板と溶融塩とをイオン交換させることによって行われる。   The chemical strengthening step for performing this chemical strengthening treatment is performed by, for example, heating and melting a molten salt of an alkali salt and immersing it in the molten salt (chemical strengthening treatment liquid) in a state where the glass substrate to be treated is stored in a glass substrate holder. The ion exchange is performed between the glass substrate and the molten salt.

このとき、化学強化工程の前後においてガラス基板の内径が変化する、即ち、ガラス基板が内径中心方向に膨張することで内径が変化する現象が生じる。これは、ガラス基板に化学強化処理を施すと、ガラス基板の表面に圧縮応力が生じ、この圧縮応力によって、ガラス基板の寸法が変化するからである。   At this time, a phenomenon occurs in which the inner diameter of the glass substrate changes before and after the chemical strengthening step, that is, the inner diameter changes as the glass substrate expands toward the center of the inner diameter. This is because when the glass substrate is subjected to a chemical strengthening treatment, a compressive stress is generated on the surface of the glass substrate, and the dimensions of the glass substrate change due to the compressive stress.

また、化学強化処理液は、経時変化によってその組成が変わってしまう。具体的には、化学強化処理において、化学強化処理液に含まれているイオンと、ガラス基板に含まれているイオンとがイオン交換されるため、化学強化処理が進行するに連れて、当該化学強化処理液には、イオン交換されたガラス基板に含まれていたイオンが増大することになる。この組成の変化は、化学強化においてガラス基板の内径寸法を変化させる一因となる。この内径寸法の変化量は、一段と厳しい要求がされているガラス基板の内径寸法誤差に対して無視できるものではないので、ガラス基板には、この化学強化処理における内径の変化量も含めた高い内径寸法精度が求められている。   Further, the composition of the chemical strengthening treatment liquid changes with time. Specifically, in the chemical strengthening treatment, the ions contained in the chemical strengthening treatment liquid and the ions contained in the glass substrate are ion-exchanged, so that the chemical strengthening treatment proceeds as the chemical strengthening treatment proceeds. In the strengthening treatment liquid, ions contained in the ion-exchanged glass substrate increase. This change in composition contributes to changing the inner diameter of the glass substrate during chemical strengthening. The amount of change in the inner diameter is not negligible with respect to the inner diameter error of the glass substrate, which is more strictly demanded. Therefore, the glass substrate has a high inner diameter including the amount of change in the inner diameter in the chemical strengthening process. Dimensional accuracy is required.

さらに、ガラス基板を大量生産する場合においては、複数のラインそれぞれに化学強化処理槽が設けられ、それぞれ独立して化学強化処理液を収容しているので、その組成も経時により異なってくる。高度な内径寸法精度を得るためには、このような複数の化学強化処理槽を個別に制御する必要があった。しかし、複数の化学強化処理槽におけるそれぞれの化学強化処理液の状態を等しくすることは困難である。化学強化処理液の状態が異なると等しい化学強化処理条件下であっても、化学強化処理により生じるガラス基板の内径の変化量が異なることとなる。   Further, in the case of mass production of glass substrates, a chemical strengthening treatment tank is provided in each of the plurality of lines and each contains a chemical strengthening treatment solution independently. In order to obtain a high degree of inner diameter dimensional accuracy, it was necessary to individually control a plurality of such chemical strengthening treatment tanks. However, it is difficult to equalize the state of each chemical strengthening treatment liquid in a plurality of chemical strengthening treatment tanks. When the state of the chemical strengthening treatment liquid is different, the amount of change in the inner diameter of the glass substrate caused by the chemical strengthening treatment is different even under the same chemical strengthening treatment condition.

本願発明者らは、上記の課題について鋭意検討した結果、化学強化工程前のガラス基板にはそれぞれの内径にバラツキがあり、さらに、化学強化工程を遂行する化学強化処理槽毎に内径の変化量にバラツキがあることを逆手にとって、最終的に得られるガラス基板の内径寸法誤差を少なくするためには、化学強化処理を施す前のガラス基板の内径と化学強化処理による変化量との組合せを調整し、化学強化に最適な化学強化処理槽を選択することで、内径寸法誤差を小さくすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies on the above problems, the inventors of the present application have variations in the inner diameter of each glass substrate before the chemical strengthening process, and further, the amount of change in the inner diameter for each chemical strengthening treatment tank that performs the chemical strengthening process. In order to reduce the error in the inner diameter of the glass substrate that is finally obtained, the combination of the inner diameter of the glass substrate before chemical strengthening and the amount of change caused by the chemical strengthening is adjusted. And it discovered that an internal-diameter dimension error could be made small by selecting the chemical strengthening processing tank optimal for chemical strengthening, and came to complete this invention.

本発明は、従来のガラス基板が有する上記問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、磁気ディスク用ガラス基板の内径寸法誤差を小さくすることが可能な、新規かつ改良された磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを提供することである。 The present invention has been made in view of the above-described problems of conventional glass substrates, and the object of the present invention is new and improved, which can reduce the inner diameter dimensional error of the glass substrate for magnetic disks. method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, a method of manufacturing a magnetic disk is to provide a glass substrate manufacturing system for you and a magnetic disk.

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、中心に円孔が形成された円板状のガラス基板を複数の化学強化処理槽のいずれかの化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板中に含まれる一部のイオンを化学強化処理液中のイオンに置換してガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程前のガラス基板の内径を測定する内径測定工程と、化学強化工程によって生じるガラス基板の内径の変化量を複数の化学強化処理槽毎に把握する把握工程と、変化量に基づいて、内径が測定されたガラス基板の化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽を決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、化学強化工程では、決定された化学強化処理槽でガラス基板を化学強化することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が提供される。   In order to solve the above problems, according to one aspect of the present invention, a disk-shaped glass substrate having a circular hole formed in the center is brought into contact with any one of a plurality of chemical strengthening treatment baths. The method for producing a glass substrate for a magnetic disk including a chemical strengthening step of chemically strengthening the glass substrate by replacing some ions contained in the glass substrate with ions in the chemical strengthening treatment liquid, An inner diameter measurement process that measures the inner diameter of the previous glass substrate, a grasping process that grasps the amount of change in the inner diameter of the glass substrate caused by the chemical strengthening process for each of the multiple chemical strengthening treatment tanks, and the inner diameter is measured based on the amount of change. And a combination determining step for determining a chemical strengthening treatment tank for performing chemical strengthening so that the inner diameter after the chemical strengthening step of the glass substrate is a desired value. In the chemical strengthening step, Characterized by chemically strengthening the glass substrate by strengthening treatment bath, method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk is provided.

本発明では、ガラス基板の内径が測定され、最終的に所望する内径との差分が導出される。そして、導出された差分に近い変化量となる化学強化処理槽が選択される。従って、ガラス基板の内径が変化する場合においても、その都度、化学強化工程後のガラス基板が所望の内径になるように適切な化学強化処理槽が選択されるので、結果的に内径(ID)寸法誤差の小さい磁気ディスク用ガラス基板を製造することが可能となる。   In the present invention, the inner diameter of the glass substrate is measured, and finally the difference from the desired inner diameter is derived. And the chemical strengthening processing tank used as the variation | change_quantity close | similar to the derived | led-out difference is selected. Accordingly, even when the inner diameter of the glass substrate changes, an appropriate chemical strengthening treatment tank is selected so that the glass substrate after the chemical strengthening step has a desired inner diameter each time. It becomes possible to manufacture a glass substrate for a magnetic disk with a small dimensional error.

上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、中心に円孔が形成された円板状の複数のガラス基板のいずれかを化学強化処理槽の化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板中に含まれる一部のイオンを化学強化処理液中のイオンに置換してガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、それぞれの内径にバラツキがある化学強化工程前の複数のガラス基板毎に、その内径を測定する内径測定工程と、化学強化工程によって生じるガラス基板の内径の変化量を把握する把握工程と、変化量に基づいて、化学強化工程後の内径が所望する値になるように、内径を測定した複数のガラス基板の中から化学強化工程を実行するガラス基板を決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、化学強化工程では、決定されたガラス基板を化学強化処理槽で化学強化することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が提供される。 In order to solve the above problems, according to another aspect of the present invention, any one of a plurality of disk-shaped glass substrates each having a circular hole at the center is brought into contact with a chemical strengthening treatment liquid in a chemical strengthening treatment tank. A method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising a chemical strengthening step of chemically strengthening the glass substrate by replacing some ions contained in the glass substrate with ions in the chemical strengthening treatment liquid , is the chemical strengthening process each of a plurality of glass substrates before in variations in the inner diameter, the inner diameter measuring step of measuring the inner diameter thereof, and grasping step of grasping a variation of the inner diameter of the glass substrate caused by a chemical strengthening process, the amount of change in based on, as the inner diameter after the chemical strengthening process is desired value, the combination determining step of determining the glass substrate to perform chemical strengthening process from a plurality of glass substrates was measured inner diameter, further including In the chemical strengthening process, the glass substrate is determined, characterized in that chemical strengthening by chemical strengthening treatment bath, method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk is provided.

本発明では、特定の化学強化処理槽の変化量が計算され、複数のガラス基板のうち、その化学強化処理槽に浸漬すべき最適のガラス基板が選択される。従って、化学強化処理槽内の化学強化処理液の化学強化処理条件が経時によって変化する場合においても、その都度、所定の内径になるように適切なガラス基板が選択されるので、結果的に内径(ID)寸法誤差の小さい磁気ディスク用ガラス基板を製造することが可能となる。   In the present invention, the amount of change in a specific chemical strengthening treatment tank is calculated, and an optimum glass substrate to be immersed in the chemical strengthening treatment tank is selected from the plurality of glass substrates. Therefore, even when the chemical strengthening treatment conditions of the chemical strengthening treatment liquid in the chemical strengthening treatment tank change with time, an appropriate glass substrate is selected so as to have a predetermined inner diameter each time. (ID) It is possible to manufacture a glass substrate for a magnetic disk with a small dimensional error.

上記課題を解決するために、本発明のさらに別の観点によれば、中心に円孔が形成された円板状の複数のガラス基板のそれぞれを、複数の化学強化処理槽のいずれかの化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板中に含まれる一部のイオンを化学強化処理液中のイオンに置換してガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程前の複数のガラス基板毎の内径を測定する内径測定工程と、化学強化工程によって生じるガラス基板の内径の変化量を複数の化学強化処理槽毎に把握する把握工程と、変化量に基づいて、内径が測定された複数のガラス基板の化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽をそれぞれ決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、化学強化工程では、複数のガラス基板を決定されたそれぞれの化学強化処理槽で化学強化することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が提供される。   In order to solve the above-described problem, according to still another aspect of the present invention, each of a plurality of disk-shaped glass substrates each having a circular hole formed in the center thereof is treated with any one of a plurality of chemical strengthening treatment tanks. A method for producing a glass substrate for a magnetic disk, comprising a chemical strengthening step of chemically strengthening the glass substrate by replacing some ions contained in the glass substrate with ions in the chemical strengthening treatment liquid by contacting with the strengthening treatment liquid An inner diameter measuring step for measuring the inner diameter of each of the plurality of glass substrates before the chemical strengthening step, and a grasping step for grasping the change amount of the inner diameter of the glass substrate caused by the chemical strengthening step for each of the plurality of chemical strengthening treatment tanks. A combination determining step for determining a chemical strengthening treatment tank for performing chemical strengthening so that the inner diameter after the chemical strengthening step of the plurality of glass substrates whose inner diameters have been measured becomes a desired value based on the change amount; Further comprising a, in the chemical strengthening process, characterized by chemically reinforced with respective chemical strengthening treatment bath to the determined plurality of glass substrates, the manufacturing method of the magnetic disk glass substrate is provided.

本発明では、複数のガラス基板の内径と、複数の化学強化処理槽の変化量とが計算され、最終的に所望する内径のガラス基板を得るため、複数のガラス基板それぞれに最適な化学強化処理槽が選択される。従って、ガラス基板の内径が変化する場合においても、また、化学強化処理槽内の化学強化処理液の化学強化処理条件が経時によって変化する場合においても、その都度、所定の内径になるように適切なガラス基板と化学強化処理槽との組合せが選択されるので、結果的に内径(ID)寸法誤差の小さい磁気ディスク用ガラス基板を製造することが可能となる。   In the present invention, the inner diameters of a plurality of glass substrates and the amount of change in a plurality of chemical strengthening treatment tanks are calculated, and finally a glass substrate having a desired inner diameter is obtained. A tank is selected. Therefore, even when the inner diameter of the glass substrate changes, and when the chemical strengthening treatment conditions of the chemical strengthening treatment liquid in the chemical strengthening treatment tank change over time, it is appropriate to have a predetermined inner diameter each time. Since a combination of a glass substrate and a chemical strengthening treatment tank is selected, it is possible to manufacture a magnetic disk glass substrate having a small inner diameter (ID) dimensional error as a result.

組合せ決定工程は、ガラス基板と化学強化処理槽とを仮に組合せた場合の各組合せの最終予想内径と、内径の所望の値との差分の2乗和が最小になるように、化学強化を行う化学強化処理槽をそれぞれ決定してもよい。   In the combination determination step, chemical strengthening is performed so that the sum of squares of the difference between the final expected inner diameter of each combination and the desired value of the inner diameter when the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank are temporarily combined is minimized. You may determine each chemical strengthening processing tank.

ガラス基板と化学強化処理槽との一つの組合せがよかったとしても、その他の組合せを含む全体的な組合せが最適であるとは限らない。従って、最小2乗法を利用する上記の構成により、全体的な内径寸法誤差を小さくすることが可能となる。   Even if one combination of the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank is good, the overall combination including the other combinations is not always optimal. Therefore, the above-described configuration using the least square method can reduce the overall inner diameter dimension error.

把握工程は、化学強化工程の前後におけるガラス基板の内径の差分から変化量を把握してもよい。   The grasping step may grasp the amount of change from the difference in the inner diameter of the glass substrate before and after the chemical strengthening step.

把握工程における変化量の把握方法としては、(1)ガラス基板の内径の変化量を実際に測定する方法と、(2)化学強化処理液の状態から変化量を推測する方法とが存在する。本発明は、化学強化工程の前後におけるガラス基板の内径を実測し、その内径の差分を計算することで変化量を把握する。かかる構成により、現実の変化量を実測に基づいて正確に把握することができ、それに伴って正確な加工量をフィードバックすることが可能となる。   As a grasping method of the change amount in the grasping process, there are (1) a method of actually measuring the change amount of the inner diameter of the glass substrate and (2) a method of estimating the change amount from the state of the chemical strengthening treatment liquid. The present invention measures the inner diameter of the glass substrate before and after the chemical strengthening step, and grasps the amount of change by calculating the difference between the inner diameters. With this configuration, an actual change amount can be accurately grasped based on actual measurement, and accordingly, an accurate machining amount can be fed back.

把握工程は、化学強化処理液に含まれる特定の成分の濃度、化学強化処理液を用いて化学強化処理を実行し終えたガラス基板の累積枚数、化学強化処理液を用いて化学強化処理を実行し終えたガラス基板の累積時間、のいずれかまたは複数に基づいて変化量を把握してもよい。   The grasping process includes the concentration of specific components contained in the chemical strengthening treatment liquid, the cumulative number of glass substrates that have been subjected to the chemical strengthening treatment using the chemical strengthening treatment liquid, and the chemical strengthening treatment performed using the chemical strengthening treatment liquid. You may grasp | ascertain the variation | change_quantity based on one or more of the accumulated time of the glass substrate which finished.

変化量の把握方法の(2)化学強化処理液の状態から変化量を推測する方法は、さらに同一浸漬時間、同一温度の下で、(a)特定の成分の濃度、(b)ガラス基板の処理済み累積枚数、(c)ガラス基板の処理済み累積時間によって変化量を推測することが可能である。かかる構成により、変化量を容易に把握することが可能となり、特に(b)、(c)に至ってはガラス基板や化学強化処理液への直接の測定を必要とせず、間接的に累積枚数または累積時間を測定するだけで、変化量を推測することができる。従って、特別な測定機器を用いなくとも、ガラス基板の変化量を把握することができ、コスト削減および製造工程の効率化を図りつつ、磁気ディスク用ガラス基板の内径寸法誤差を小さくすることが可能となる。   (2) The method of estimating the amount of change from the state of the chemical strengthening treatment solution is as follows: (a) the concentration of a specific component, (b) the glass substrate The amount of change can be estimated based on the accumulated number of processed sheets and (c) the accumulated processing time of the glass substrate. With such a configuration, it becomes possible to easily grasp the amount of change, and in particular (b) and (c), it is not necessary to directly measure the glass substrate or the chemical strengthening treatment liquid. By measuring the accumulated time, the amount of change can be estimated. Therefore, it is possible to grasp the amount of change in the glass substrate without using a special measuring instrument, and it is possible to reduce the inner diameter dimensional error of the glass substrate for magnetic disk while reducing the cost and improving the efficiency of the manufacturing process. It becomes.

また、(a)特定の成分の濃度について、ガラス基板が、Liイオンを含むアルミノシリケートガラスで形成されている場合に、特定の成分をLiイオンとすることができる。   Moreover, (a) About the density | concentration of a specific component, when a glass substrate is formed with the aluminosilicate glass containing Li ion, a specific component can be made into Li ion.

把握工程では、特定の成分の濃度と変化量とが対応付けられた変化量テーブルを用いて変化量を把握することができる。   In the grasping step, the change amount can be grasped by using a change amount table in which the concentration of the specific component and the change amount are associated with each other.

かかる構成により、特定の成分の濃度と変化量との多次元の関係式をリアルタイムに計算しなくても、予め準備された変化量テーブルを参照するだけで、濃度から変化量を容易に導出することができる。従って、処理負荷を低減することができ、さらに多次元の関数を導出する際の丸め誤差による変化量のずれを回避することが可能となる。   With this configuration, it is possible to easily derive the amount of change from the concentration by simply referring to a previously prepared change amount table without calculating a multidimensional relational expression between the concentration and change amount of a specific component in real time. be able to. Therefore, it is possible to reduce the processing load and to avoid a shift in the amount of change due to a rounding error when deriving a multidimensional function.

また、上記の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を遂行する磁気ディスク用ガラス基板の製造システム、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に少なくとも磁性層を形成する工程を含む磁気ディスクの製造方法も提供される。 In addition, the method includes a step of forming at least a magnetic layer on the surface of a glass substrate obtained by the method for manufacturing a glass substrate for magnetic disk, the system for manufacturing the glass substrate for magnetic disk, and the method for manufacturing the glass substrate for magnetic disk. producing how the magnetic disk is also provided.

かかる磁気記録媒体は、磁気ディスク平面に対して記録層が垂直方向に磁化された垂直磁気記録媒体であってもよい。垂直磁気記録媒体は、水平(面内)磁気記録媒体に対して記録密度が一層高められているため、水平磁気記録媒体で許容された内径寸法誤差も垂直磁気記録媒体では許容できなくなっている。従って、内径寸法誤差を小さくできる本発明による磁気記録媒体は垂直磁気記録媒体においても有効である。   Such a magnetic recording medium may be a perpendicular magnetic recording medium in which a recording layer is magnetized in a direction perpendicular to the plane of the magnetic disk. Since the perpendicular magnetic recording medium has a higher recording density than the horizontal (in-plane) magnetic recording medium, the inner diameter dimensional error allowed in the horizontal magnetic recording medium cannot be allowed in the perpendicular magnetic recording medium. Therefore, the magnetic recording medium according to the present invention capable of reducing the inner diameter dimensional error is also effective in the perpendicular magnetic recording medium.

以上説明したように本発明によれば、ガラス基板と化学強化処理槽とを所望する内径となるように組合せることで、磁気ディスク用ガラス基板の内径寸法誤差を小さくすることが可能となる。   As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the inner diameter dimensional error of the magnetic disk glass substrate by combining the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank so as to have a desired inner diameter.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

(ガラス基板と化学強化処理槽との組合せ調整)
磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、ガラス基板内周端面の高度な平滑度および平坦度が求められる。本実施形態では、ガラス基板の内周端面、特に、化学強化工程における変化量に着目し、ガラス基板の最終的な内径(ID)寸法誤差を小さくすることを目的としている。以下、化学強化工程を含む一連の工程を実行可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造システム300を説明する。
(Adjustment of combination of glass substrate and chemical strengthening tank)
With the miniaturization, thinning, and high-density recording of magnetic disks, high smoothness and flatness of the inner peripheral surface of the glass substrate are required. The present embodiment focuses on the inner peripheral end surface of the glass substrate, particularly the amount of change in the chemical strengthening process, and aims to reduce the final inner diameter (ID) dimensional error of the glass substrate. Hereinafter, a glass substrate manufacturing system 300 capable of performing a series of steps including a chemical strengthening step will be described.

図1は、本実施形態による磁気ディスク用ガラス基板の製造システム300を示した機能ブロック図である。ここで太線の矢印はガラス基板102の処理の流れを、細線の矢印は情報の流れを示している。かかる図1の磁気ディスク用ガラス基板の製造システム300は、内周端面研削装置110と、内周端面研磨装置120と、化学強化処理槽130と、把握装置140と、メモリ150と、内径測定装置210と、組合せ決定装置310と、を含んで構成されている。ここでは、理解を容易にするため、特にガラス基板102の内周端面に関する製造工程を挙げて当該磁気ディスク用ガラス基板の製造システム300を説明しているが、実際の工程でガラス基板102の表面や外周端面の製造工程をも含んでいるのは言うまでもない。   FIG. 1 is a functional block diagram showing a glass disk substrate manufacturing system 300 according to the present embodiment. Here, a thick arrow indicates a processing flow of the glass substrate 102, and a thin arrow indicates a flow of information. 1 includes an inner peripheral end surface grinding device 110, an inner peripheral end surface polishing device 120, a chemical strengthening treatment tank 130, a grasping device 140, a memory 150, and an inner diameter measuring device. 210 and the combination determination apparatus 310 are comprised. Here, in order to facilitate understanding, the manufacturing system 300 for the magnetic disk glass substrate has been described with reference to the manufacturing process relating to the inner peripheral end surface of the glass substrate 102 in particular. It goes without saying that the manufacturing process of the outer peripheral end face is also included.

上記内周端面研削装置110は、内周加工装置として機能し、例えば多成分系ガラスからなる円盤状のガラス基板102の中心に形成された円孔における内周端面を、研削量分だけ研削加工する。かかる内周端面研削装置110は、ガラス基板102の内周端面を研削できれば、様々な形態で構成することができ、例えば、内周端面の面取りと同時に内周端面を研削する面取り(チャンファ:chamfer)装置によっても構成することが可能である。また、上記研削量は、研削工程における所望する研削量に、後述する研削量決定装置160が決定した研削量を追加した値となる。   The inner peripheral end surface grinding device 110 functions as an inner peripheral processing device, and, for example, the inner peripheral end surface in a circular hole formed at the center of a disk-shaped glass substrate 102 made of multicomponent glass is ground by a grinding amount. To do. The inner peripheral end surface grinding device 110 can be configured in various forms as long as the inner peripheral end surface of the glass substrate 102 can be ground. For example, the inner peripheral end surface is chamfered (chamfer: chamfer). It is also possible to configure with a device. Further, the grinding amount is a value obtained by adding a grinding amount determined by a grinding amount determination device 160 described later to a desired grinding amount in the grinding process.

図2は、内周端面研削装置110の研削工程を説明するための説明図である。ここでは、図2の(a)に示すように円盤状のガラス基板102の円孔112により形成される内周端面114の研削および面取り加工がなされる。   FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining a grinding process of the inner peripheral end surface grinding apparatus 110. Here, as shown in FIG. 2A, the inner peripheral end surface 114 formed by the circular holes 112 of the disk-shaped glass substrate 102 is ground and chamfered.

内周端面研削装置110では、図2(b)に示すように、円孔112に研削用の内径研削砥石116が挿通される。また、円筒状に積層した複数のガラス基板102は、挟持部材によって上下2つの底面が狭持されている。内径研削砥石116は、プーリー状の回転砥石であって外周が研削面となっている。   In the inner peripheral end surface grinding apparatus 110, as shown in FIG. 2B, an inner diameter grinding wheel 116 for grinding is inserted into the circular hole 112. The plurality of glass substrates 102 stacked in a cylindrical shape are sandwiched between two upper and lower bottom surfaces by a sandwiching member. The inner diameter grinding wheel 116 is a pulley-like rotary grinding wheel, and its outer periphery is a grinding surface.

ガラス基板102と内径研削砥石116とはそれぞれが固定された駆動手段(図示せず)によって回転駆動され、この円筒状のガラス基板102の内周端面114に内径研削砥石116を当接して各ガラス基板102に均一な内径加工を施している。その回転方向はそれぞれの接触点で相対する方向となるように設定される。このような内周端面の研削工程により図2(c)に示すような内周端面114および面取り114aが形成される。また、内周端面114の研削と同時に、外周端面も研削することも可能である。   The glass substrate 102 and the inner diameter grinding wheel 116 are rotationally driven by a fixed driving means (not shown), and the inner diameter grinding wheel 116 is brought into contact with the inner peripheral end surface 114 of the cylindrical glass substrate 102 so that each glass is brought into contact with each other. The substrate 102 is subjected to uniform inner diameter processing. The rotation direction is set so as to be the opposite direction at each contact point. The inner peripheral end face 114 and the chamfer 114a as shown in FIG. 2C are formed by the grinding process of the inner peripheral end face. In addition, the outer peripheral end face can be ground simultaneously with the grinding of the inner peripheral end face 114.

上記内周端面研磨装置120は、内周端面研削装置110同様内周加工装置として機能し、内周端面研削装置110によって研削されたガラス基板102の内周端面114をさらに研磨量分だけ研磨加工する。この研磨量は、研磨工程において所望する研磨値に、後述する研磨量決定装置170が決定した研磨量を追加した値となる。   The inner peripheral end surface polishing apparatus 120 functions as an inner peripheral processing apparatus like the inner peripheral end surface grinding apparatus 110, and further polishes the inner peripheral end face 114 of the glass substrate 102 ground by the inner peripheral end surface grinding apparatus 110 by a polishing amount. To do. This polishing amount is a value obtained by adding a polishing amount determined by a polishing amount determination device 170 described later to a polishing value desired in the polishing step.

図3は、内周端面研磨装置120の構成を説明するための縦断面図である。円筒状に積層された複数のガラス基板102は、当該内周端面研磨装置120の固定部122に固定される。かかるガラス基板102は、ガラス基板102の円盤中心軸を回転中心として、ガラス基板102とガラス基板102の円孔に挿入された研磨体124とが相対的に摩擦するように、いずれか一方もしくは両方を回動することで、ガラス基板102の内周端面を研磨する。   FIG. 3 is a longitudinal sectional view for explaining the configuration of the inner peripheral end surface polishing apparatus 120. The plurality of glass substrates 102 stacked in a cylindrical shape are fixed to the fixing portion 122 of the inner peripheral end surface polishing apparatus 120. One or both of the glass substrates 102 is arranged so that the glass substrate 102 and the polishing body 124 inserted into the circular hole of the glass substrate 102 are relatively rubbed with the center axis of the disk of the glass substrate 102 as the center of rotation. Is rotated to polish the inner peripheral end surface of the glass substrate 102.

かかる研磨体124は、スウェード、ベロアを素材とする軟質ポリシャや、硬質ベロア、発泡樹脂、ピッチ含浸スウェード等の硬質ポリシャ等で形成される研磨布126を円筒形状の一部をなすように配してもよい。また、研磨体124は、ガラス基板102に対して、円孔内で回転軸方向に低速揺動(ストローク運動)してガラス基板102の内周端面114全体を研磨してもよい。   In the polishing body 124, a polishing cloth 126 formed of a soft polisher made of suede or velor, or a hard polisher such as hard velor, foam resin, or pitch-impregnated suede is arranged to form a part of a cylindrical shape. May be. Further, the polishing body 124 may polish the entire inner peripheral end surface 114 of the glass substrate 102 by swinging slowly (stroke) in the direction of the rotation axis within the circular hole with respect to the glass substrate 102.

また、内周端面研磨装置120のノズル128は、研磨体124とガラス基板102との間に研磨砥粒を含む研磨液を供給する。この研磨砥粒としては、目標とする端面の形状にもよるが、例えば、アルミナや酸化セリウム、コロイダルシリカ等の通常の研磨砥粒を用いることができる。また、研磨砥粒を分散させている分散媒としては、特に限定されるものではなく、コストの面からは水が好ましいが、通常の研磨に使用されている分散媒であれば好適に使用することができる。   Further, the nozzle 128 of the inner peripheral surface polishing apparatus 120 supplies a polishing liquid containing polishing abrasive grains between the polishing body 124 and the glass substrate 102. As this abrasive grain, although depending on the shape of the target end face, for example, normal abrasive grains such as alumina, cerium oxide, colloidal silica, etc. can be used. Further, the dispersion medium in which the abrasive grains are dispersed is not particularly limited, and water is preferable from the viewpoint of cost, but any dispersion medium used for normal polishing is preferably used. be able to.

上記化学強化処理槽130は、化学強化処理液を収容する処理槽と、その制御部とを含んで構成される。化学強化処理槽130は、化学強化工程において、化学強化塩を加熱溶解した化学強化処理液にガラス基板102を浸漬し、ガラス基板(Liイオンを含むアルミノシリケートガラス)の一部のイオン、例えば、LiイオンおよびNaイオン等の一価の金属イオンを化学強化処理液中の上記イオンより大きなイオン径を有する一価のイオン、例えば、Naイオン、Kイオンに置換する。かかるイオン交換法によりガラス基板表面には圧縮応力層が形成され、割れやクラックが生じにくい大きな機械的強度を得ることができる。   The chemical strengthening treatment tank 130 includes a treatment tank containing a chemical strengthening treatment liquid and a control unit thereof. In the chemical strengthening process, the chemical strengthening treatment bath 130 immerses the glass substrate 102 in a chemical strengthening treatment liquid in which a chemically strengthened salt is dissolved by heating, and some ions of the glass substrate (aluminosilicate glass containing Li ions), for example, Monovalent metal ions such as Li ions and Na ions are replaced with monovalent ions having a larger ion diameter than the above ions in the chemical strengthening treatment liquid, for example, Na ions and K ions. By such an ion exchange method, a compressive stress layer is formed on the surface of the glass substrate, and it is possible to obtain a large mechanical strength in which cracks and cracks are hardly generated.

このようなNaイオン、Kイオンを含む上記化学強化処理液(処理溶融塩)としては、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸リチウムおよびその混合溶融塩を用いるのが好ましいが、硝酸塩に限定されるものではなく、硫酸塩、重硫酸塩、炭酸塩、ハロゲン化物などを用いてもよい。   As the chemical strengthening treatment liquid (treated molten salt) containing Na ions and K ions, sodium nitrate, potassium nitrate, lithium nitrate and mixed molten salts thereof are preferably used, but are not limited to nitrates. , Sulfate, bisulfate, carbonate, halide and the like may be used.

図4は、ガラス基板102の化学強化処理液への浸漬を説明するための説明図である。ここでは、金属材料からなるガラス基板ホルダ132と、化学強化処理液が収容された処理槽134とが示されている。ガラス基板ホルダ132には、板状の薄板を湾曲させ、膨出側の表面には突部が長手方向に波状に複数形成された保持部136が設けられ、その保持部136の膨出側の突部間に形成されたV字溝部にはそれぞれ1枚ずつガラス基板102が保持される。そして、1回の化学強化で処理すべき全てのガラス基板102が配置された後、そのガラス基板ホルダ132と共にガラス基板102が処理槽134に所定時間浸漬される。   FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining the immersion of the glass substrate 102 in the chemical strengthening treatment liquid. Here, a glass substrate holder 132 made of a metal material and a treatment tank 134 containing a chemical strengthening treatment liquid are shown. The glass substrate holder 132 is provided with a holding portion 136 in which a plate-like thin plate is curved, and a plurality of protrusions are formed in a wave shape in the longitudinal direction on the surface on the bulging side. One glass substrate 102 is held in each V-shaped groove formed between the protrusions. And after all the glass substrates 102 which should be processed by one chemical strengthening are arrange | positioned, the glass substrate 102 is immersed in the processing tank 134 with the glass substrate holder 132 for a predetermined time.

かかる化学強化処理液の温度は、ガラス基板102の材質の歪点よりも好ましくは50〜150°C程度低く設定し、より好ましくは化学強化処理液自体の温度が350〜400°C程度に設定される。これは、ガラス基板102の材質の歪点よりも150°Cより低く設定すると、化学強化処理が十分に行われず、50°Cより高く設定すると、化学強化処理においてガラス基板に歪みが生じやすくなるからである。   The temperature of the chemical strengthening treatment liquid is preferably set to be about 50 to 150 ° C. lower than the strain point of the material of the glass substrate 102, and more preferably the temperature of the chemical strengthening treatment liquid itself is set to about 350 to 400 ° C. Is done. This is because when the temperature is set lower than 150 ° C. than the strain point of the material of the glass substrate 102, the chemical strengthening process is not sufficiently performed, and when set higher than 50 ° C., the glass substrate is likely to be distorted in the chemical strengthening process. Because.

このような化学強化処理によってガラス基板102の表面および端面には圧縮応力層が形成される。端面、特に内周端面に形成される圧縮応力層が本実施形態における内周端面の変形を招き、その膨張(伸び)量が変化量として把握される。この圧縮応力層の厚みは、その化学強化の化学強化処理条件を調整して20〜150μmとするのが好ましい。これは、20μm未満では、ガラス基板102の強度が低下する恐れがあり、150μmを超える場合、その製造効率が不必要に悪くなるからである。   By such chemical strengthening treatment, a compressive stress layer is formed on the surface and the end face of the glass substrate 102. The compressive stress layer formed on the end face, particularly the inner peripheral end face, causes deformation of the inner peripheral end face in the present embodiment, and the amount of expansion (elongation) is grasped as the amount of change. The thickness of the compressive stress layer is preferably 20 to 150 μm by adjusting the chemical strengthening treatment conditions for the chemical strengthening. This is because if it is less than 20 μm, the strength of the glass substrate 102 may be reduced, and if it exceeds 150 μm, its production efficiency is unnecessarily deteriorated.

図5は、化学強化処理による内径寸法誤差の変化例を示した説明図である。内周端面研磨装置120による内周端面研磨工程を終えたガラス基板102は、図5(a)に示すように円孔112の内径、即ち円孔112の中心を挟んで対向する内周端面114の距離dは、研磨体124の直径および研磨液の濃度、研磨時間によって所定範囲内の内径寸法誤差に仕上がっている。しかし、当該化学強化工程においては、図5(b)に示すように、圧縮応力層118が形成され、ガラス基板102の内周端面114が内径を小さくする方向に膨張変化し、内径寸法誤差に影響を及ぼす。従って、内径はdからdに小さくなる。 FIG. 5 is an explanatory view showing an example of a change in the inner diameter dimensional error due to the chemical strengthening process. The glass substrate 102 that has finished the inner peripheral end surface polishing step by the inner peripheral end surface polishing apparatus 120 has an inner peripheral end surface 114 that faces the inner diameter of the circular hole 112, that is, the center of the circular hole 112, as shown in FIG. This distance d 1 is finished to an inner diameter dimensional error within a predetermined range depending on the diameter of the polishing body 124, the concentration of the polishing liquid, and the polishing time. However, in the chemical strengthening step, as shown in FIG. 5B, a compressive stress layer 118 is formed, and the inner peripheral end surface 114 of the glass substrate 102 changes in the direction of decreasing the inner diameter, resulting in an inner diameter dimensional error. affect. Accordingly, the inner diameter decreases from d 1 to d 2 .

ガラス基板102を大量生産する場合においては、複数のラインそれぞれに上述したような化学強化処理槽130が設けられ、それぞれ独立して化学強化処理液を収容している。このような複数の化学強化処理槽130におけるそれぞれの化学強化処理液の状態を等しくすることは困難なので、化学強化処理液の状態が異なると同じ化学強化処理条件であっても、化学強化処理により生じるガラス基板102の内径の変化量が異なることとなる。   When the glass substrate 102 is mass-produced, the chemical strengthening treatment tank 130 as described above is provided in each of the plurality of lines, and each contains the chemical strengthening treatment liquid independently. Since it is difficult to equalize the states of the chemical strengthening treatment liquids in the plurality of chemical strengthening treatment tanks 130, even if the chemical strengthening treatment conditions are the same, the chemical strengthening treatment liquid is different due to the chemical strengthening treatment. The amount of change in the inner diameter of the resulting glass substrate 102 will be different.

そこで、本願発明者らは、化学強化工程前のガラス基板102にはそれぞれの内径のバラツキと、化学強化工程を遂行する化学強化処理槽130毎の内径の変化量のバラツキとを逆手にとり、最終的に得られるガラス基板102の内径寸法誤差を少なくするために、化学強化処理を施す前のガラス基板102の内径と化学強化処理による変化量との組合せを調整し、化学強化に最適な化学強化処理槽130を選択することで、内径寸法誤差を小さくすることができることを見出した。   Therefore, the inventors of the present invention take the variation of the inner diameter of the glass substrate 102 before the chemical strengthening step and the variation of the inner diameter variation for each chemical strengthening treatment tank 130 performing the chemical strengthening step, and finally In order to reduce the inner diameter dimensional error of the glass substrate 102 obtained in an effective manner, the combination of the inner diameter of the glass substrate 102 before the chemical strengthening treatment and the amount of change due to the chemical strengthening treatment is adjusted, so It has been found that the inner diameter dimension error can be reduced by selecting the treatment tank 130.

上記把握装置140は、化学強化処理槽130の化学強化工程により変形するガラス基板102の内径の変化量を把握(計算、算出)する。把握装置140は、(1)ガラス基板102の内径の変化量を実際に測定する方法、または(2)化学強化処理液の状態から変化量を推測する方法によって変化量を把握する。   The grasping device 140 grasps (calculates) the amount of change in the inner diameter of the glass substrate 102 that is deformed by the chemical strengthening process of the chemical strengthening treatment tank 130. The grasping device 140 grasps the amount of change by (1) a method of actually measuring the amount of change in the inner diameter of the glass substrate 102 or (2) a method of estimating the amount of change from the state of the chemical strengthening treatment liquid.

図6は、把握装置140が(1)ガラス基板102の内径の変化量を実際に測定する方法によって変化量を把握する場合の概略を示した機能ブロック図である。把握装置140は、化学強化工程の前段階でガラス基板102の内径を測定し、さらに、化学強化工程の後段階における同一のガラス基板102の内径を測定する。そして、その内径の差分を求めることで変化量を導出している。かかる構成により、現実の変化量を正確に把握することができ、それに伴って正確なフィードバック値(研削量または研磨量)を設定することが可能となる。   FIG. 6 is a functional block diagram showing an outline when the grasping device 140 grasps the amount of change by (1) a method of actually measuring the amount of change in the inner diameter of the glass substrate 102. The grasping device 140 measures the inner diameter of the glass substrate 102 before the chemical strengthening process, and further measures the inner diameter of the same glass substrate 102 after the chemical strengthening process. And the variation | change_quantity is derived | led-out by calculating | requiring the difference of the internal diameter. With this configuration, the actual change amount can be accurately grasped, and accordingly, an accurate feedback value (grinding amount or polishing amount) can be set.

変化量の把握方法の(2)化学強化処理液の状態から変化量を推測する方法は、化学強化処理液の状態と変化量とが相関関係を有していることに基づいている。例えば、同一浸漬時間、同一温度における、(a)特定の成分の濃度、(b)ガラス基板102の処理済み累積枚数、(c)ガラス基板102の処理済み累積時間と、変化量とは、一定の相関関係を有するので、上述した(a)、(b)、(c)のいずれかまたは複数の化学強化処理液の状態によって変化量を把握または推測することが可能である。   The method (2) of estimating the amount of change from the state of the chemical strengthening treatment liquid is based on the fact that the state of the chemical strengthening treatment liquid and the amount of change have a correlation. For example, at the same immersion time and the same temperature, (a) the concentration of a specific component, (b) the processed cumulative number of glass substrates 102, (c) the processed cumulative time of glass substrates 102, and the amount of change are constant. Therefore, it is possible to grasp or estimate the amount of change depending on the state of any one of (a), (b), and (c) described above or a plurality of chemical strengthening treatment liquids.

また、当該磁気ディスク用ガラス基板の製造システム100の初回遂行時には、内周端面研削装置110や内周端面研磨装置120の最初の研削量および研磨量を定めなくてはならないので、その前段階で上記把握装置140による変化量の推測が行われる。   Further, when the magnetic disk glass substrate manufacturing system 100 is performed for the first time, the initial grinding amount and polishing amount of the inner peripheral end surface grinding device 110 and the inner peripheral end surface polishing device 120 must be determined. The amount of change is estimated by the grasping device 140.

図7は、(a)Liイオンの濃度(ppm)と変化量(μm)との相関を示した相関図である。このような相関を例えば、多次元の関係式に表すことにより、Liイオンの濃度を測定することのみによって変化量を推測することが可能となる。   FIG. 7 is a correlation diagram showing the correlation between (a) Li ion concentration (ppm) and variation (μm). By expressing such a correlation in, for example, a multidimensional relational expression, it is possible to estimate the amount of change only by measuring the Li ion concentration.

このような関係式は、化学強化処理の回数を重ねると、溶融塩中のLiイオン濃度が増大するため、化学強化処理能力が落ち、同一浸漬時間、同一温度では、変化量が減少することに起因する。即ち、化学強化処理において、Liイオンの濃度が低いときには、イオン交換の速度も高く、それに伴って変化量も大きくなるが、化学強化処理の時間および回数が経過するに連れガラス基板102からのLiイオンが溶融塩中に蓄積されるのでLiイオンの濃度が増大し、イオン交換の速度が低下すると共に変化量が小さくなる。   In such a relational expression, if the number of times of chemical strengthening treatment is repeated, the concentration of Li ions in the molten salt increases, so that the chemical strengthening treatment capability decreases, and the amount of change decreases at the same immersion time and the same temperature. to cause. That is, in the chemical strengthening process, when the concentration of Li ions is low, the rate of ion exchange is high and the amount of change increases accordingly, but as the time and number of times of the chemical strengthening process elapses, the Li from the glass substrate 102 increases. Since ions are accumulated in the molten salt, the concentration of Li ions increases, the rate of ion exchange decreases and the amount of change decreases.

また、(b)累積枚数、(c)累積時間に至ってはガラス基板102や化学強化処理液への直接の測定を必要とせず、間接的に累積枚数または累積時間を測定(計数、計時)するだけで、変化量を推測している。従って、特別な測定機器を用いなくとも、ガラス基板102の変化量を把握することができ、コスト削減および製造工程の効率化を図りつつ、磁気ディスク用ガラス基板の内径寸法誤差を小さくすることが可能となる。   In addition, (b) the cumulative number of sheets and (c) the cumulative time does not require direct measurement to the glass substrate 102 or the chemical strengthening treatment liquid, but indirectly measures (counts, counts) the cumulative number of sheets or the cumulative time. Just guess the amount of change. Therefore, the amount of change in the glass substrate 102 can be grasped without using a special measuring instrument, and the error in the inner diameter of the magnetic disk glass substrate can be reduced while reducing the cost and increasing the efficiency of the manufacturing process. It becomes possible.

把握装置140は、(a)濃度、(b)累積枚数、(c)累計時間等の参照値と変化量との関係式により変化量を把握してもよいが、1対1に対応付けられた変化量テーブルを用いて変化量を把握してもよい。尚、変化量テーブルに記載された数値間の補間は、線形補間を用いてもよい。   The grasping device 140 may grasp the change amount by a relational expression between the reference value and the change amount such as (a) density, (b) accumulated number of sheets, (c) accumulated time, etc., but is associated with one to one. The change amount may be grasped using the change amount table. Note that linear interpolation may be used for interpolation between numerical values described in the change amount table.

図8は、図7のLiイオンの濃度(ppm)と変化量(μm)との相関をテーブル化した変化量テーブルの例を示した説明図である。ここでは、Liイオンの濃度と変化量との図7に示すような多次元の関係式をリアルタイムに計算しなくても、図8のような予め準備された変化量テーブルを参照するだけで、Liイオンの濃度から変化量を導出することができる。かかる構成により、処理負荷を低減することができ、さらに多次元の関数を導出する際の丸め誤差による変化量のずれを回避することが可能となる。   FIG. 8 is an explanatory diagram showing an example of a change amount table in which the correlation between the Li ion concentration (ppm) and the change amount (μm) in FIG. 7 is tabulated. Here, it is only necessary to refer to a change amount table prepared in advance as shown in FIG. 8 without calculating a multidimensional relational expression as shown in FIG. 7 between the concentration and change amount of Li ions in real time. The amount of change can be derived from the concentration of Li ions. With such a configuration, it is possible to reduce the processing load and to avoid a shift in the amount of change due to a rounding error when deriving a multidimensional function.

上記メモリ150は、このような変化量テーブルや後述する加工量テーブル、強化条件テーブル等を記憶し、把握装置140等の要求に応じて変化量テーブル等の内容を参照させる。   The memory 150 stores such a change amount table, a machining amount table, a strengthening condition table, and the like, which will be described later, and refers to the contents of the change amount table and the like in response to a request from the grasping device 140 and the like.

上記内径測定装置210は、化学強化処理槽130で化学強化を行う前のガラス基板102の内径を測定する。ガラス基板102の内径は、ここでは実測によって求められているが、例えば内周端面研磨工程における内径設定値(内径予測値)であってもよい。   The inner diameter measuring device 210 measures the inner diameter of the glass substrate 102 before chemical strengthening in the chemical strengthening treatment tank 130. The inner diameter of the glass substrate 102 is obtained by actual measurement here, but may be, for example, an inner diameter set value (inner diameter predicted value) in the inner peripheral end surface polishing step.

本実施形態では、化学強化工程を行う上での大きく3つの状況を想定する。即ち、(ア)ガラス基板1枚を化学強化するのに最適な化学強化処理槽130を複数の化学強化処理槽130から選択する状況、(イ)一つの化学強化処理槽130で化学強化工程を行うのに最適なガラス基板102を複数のガラス基板102から選択する状況、(ウ)複数のガラス基板102と複数の化学強化処理槽130とを組合せる状況である。ここで示すガラス基板1枚は、同時に化学強化される同一のガラス基板ホルダに収容される複数のガラス基板の概念を含む。従って、複数のガラス基板102は、同時に化学強化される複数枚のガラス基板のグループがさらに複数のラインに配されている状態を示している。   In the present embodiment, three main situations for performing the chemical strengthening step are assumed. That is, (a) a situation in which the optimal chemical strengthening treatment tank 130 for chemically strengthening one glass substrate is selected from a plurality of chemical strengthening treatment tanks 130; This is a situation in which the most suitable glass substrate 102 is selected from the plurality of glass substrates 102, and (c) a situation in which the plurality of glass substrates 102 and the plurality of chemical strengthening treatment tanks 130 are combined. One glass substrate shown here includes the concept of a plurality of glass substrates housed in the same glass substrate holder that is chemically strengthened simultaneously. Therefore, the plurality of glass substrates 102 shows a state in which groups of a plurality of glass substrates that are chemically strengthened at the same time are further arranged in a plurality of lines.

上記組合せ決定装置310は、(ア)の状況において、把握装置140によって把握された変化量に基づいて、内径測定装置210で内径が測定されたガラス基板102の化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽130を決定する。また、(イ)の状況においては、変化量に基づいて、化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化工程を実行するガラス基板102を決定し、(ウ)の状況において、変化量に基づいて、内径が測定された複数のガラス基板102の化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽130をそれぞれ決定する。   In the situation of (a), the combination determination device 310 desires the inner diameter after the chemical strengthening step of the glass substrate 102 whose inner diameter is measured by the inner diameter measuring device 210 based on the change amount grasped by the grasping device 140. The chemical strengthening treatment tank 130 for performing chemical strengthening is determined so as to have a value. In the situation (a), the glass substrate 102 to be subjected to the chemical strengthening process is determined based on the amount of change so that the inner diameter after the chemical strengthening process becomes a desired value. Based on the amount of change, the chemical strengthening treatment tank 130 for performing chemical strengthening is determined so that the inner diameters after the chemical strengthening process of the plurality of glass substrates 102 whose inner diameters have been measured have desired values.

いずれの状況においても、最終的に所望する内径のガラス基板102を得るため、ガラス基板102と化学強化処理槽130との最適な組合せが選択される。従って、化学強化工程前におけるガラス基板102の内径が変化する場合においても、また、化学強化処理槽130内の化学強化処理液の化学強化処理条件が経時によって変化する場合においても、結果的に内径(ID)寸法誤差の小さい磁気ディスク用ガラス基板を製造することが可能となる。   In any situation, an optimal combination of the glass substrate 102 and the chemical strengthening treatment tank 130 is selected in order to finally obtain the glass substrate 102 having a desired inner diameter. Therefore, even when the inner diameter of the glass substrate 102 changes before the chemical strengthening step, and when the chemical strengthening treatment condition of the chemical strengthening treatment liquid in the chemical strengthening treatment bath 130 changes with time, the inner diameter is consequently changed. (ID) It is possible to manufacture a glass substrate for a magnetic disk with a small dimensional error.

また、このような組合せにおいて、組合せ決定装置310は、ガラス基板102と化学強化処理槽130とを仮に組合せた場合の各組合せの最終予想内径と、内径の所望の値との差分の2乗和が最小になるように、化学強化を行う化学強化処理槽130をそれぞれ決定してもよい。測定された内径と変化量との各組合せと、内径の所望の値との差分の2乗和が最小になるように、化学強化を行う化学強化処理槽130をそれぞれ決定してもよい。   Further, in such a combination, the combination determining apparatus 310 calculates the sum of squares of the difference between the final predicted inner diameter of each combination and the desired value of the inner diameter when the glass substrate 102 and the chemical strengthening treatment tank 130 are temporarily combined. Each of the chemical strengthening treatment tanks 130 for performing chemical strengthening may be determined so as to minimize the above. The chemical strengthening treatment tank 130 for performing chemical strengthening may be determined so that the square sum of the difference between each combination of the measured inner diameter and the amount of change and the desired value of the inner diameter is minimized.

図9は、組合せ決定装置310による組合せ決定工程を説明するための説明図である。例えば、内径測定装置210が3つのラインにおける3枚のガラス基板A、B、Cの内径を測定し、その内径がそれぞれ20.003mm、20.006mm、20.009mmであった場合に、把握装置140が3つの化学強化処理槽D、E、Fの変化量を10μm、7μm、3μmと推測したとする。最終的な内径の所望値が20.000mmの場合だと、ガラス基板と化学強化処理槽との組合せをA−F、B−E、C−Dとすると、差分の2乗和は最小値の2μmとなる。 FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining a combination determining step by the combination determining apparatus 310. For example, when the inner diameter measuring device 210 measures the inner diameters of three glass substrates A, B, and C in three lines and the inner diameters are 20.000 mm, 20.006 mm, and 20.09 mm, respectively, the grasping device Suppose that 140 estimates that the amount of change in the three chemical strengthening treatment tanks D, E, and F is 10 μm, 7 μm, and 3 μm. If the desired value of the final inner diameter is 20.000 mm, and the combination of the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank is AF, BE, and CD, the sum of squares of the difference is the minimum value. 2 μm 2 .

かかるガラス基板102と化学強化処理槽130との組合せは、一つの組合せがよかったとしても、その他の組合せを含む全体的な組合せが最適であるとは限らない。従って、最小2乗法を利用する上記の構成により、全体的な内径寸法誤差を小さくすることが可能となる。   Even if such a combination of the glass substrate 102 and the chemical strengthening treatment tank 130 is good, an overall combination including the other combinations is not always optimal. Therefore, the above-described configuration using the least square method can reduce the overall inner diameter dimension error.

また、上述した変化量テーブルは、磁気ディスク用ガラス基板の製造システム100のフィードバックを切り、開ループ制御における参照値((a)濃度、(b)累積枚数、(c)累計時間等)と変化量との相関を導出することで求めることができる。   Further, the change amount table described above turns off the feedback of the magnetic disk glass substrate manufacturing system 100 and changes with reference values ((a) concentration, (b) cumulative number, (c) cumulative time, etc.) in open loop control. It can be obtained by deriving the correlation with the quantity.

即ち、Liイオンの濃度と変化量との変化量テーブルを作成する場合、化学強化工程の前後段階における内径と、化学処理工程中のLiイオンの濃度とを同タイミングで測定し、内径の差分を変化量として、Liイオンの濃度に対応付ける。このような対応処理をLiイオンの複数の濃度で測定することで、Liイオン濃度と変化量との関係式や変化量テーブルが例えば、図7や図8の如く導出される。   That is, when creating a change amount table of Li ion concentration and change amount, the inner diameter before and after the chemical strengthening process and the Li ion concentration during the chemical treatment process are measured at the same timing, and the difference in inner diameter is calculated. The amount of change is associated with the concentration of Li ions. By measuring such correspondence processing at a plurality of concentrations of Li ions, a relational expression between the Li ion concentration and the change amount and a change amount table are derived, for example, as shown in FIGS.

他の参照値である(b)累積枚数、(c)累計時間も上記同様、化学強化工程の前後段階における内径と同タイミングで測定し、その対応付けによって関係式が導出される。このとき、Liイオンの濃度以外の例えば、浸漬時間や温度といった他の化学強化処理条件は測定中および実際の製造工程中等しくするのが望ましい。   Other reference values (b) cumulative number of sheets and (c) cumulative time are also measured at the same timing as the inner diameters before and after the chemical strengthening process, and the relational expression is derived by the correspondence. At this time, it is desirable that other chemical strengthening treatment conditions such as immersion time and temperature other than the concentration of Li ions are equal during measurement and actual manufacturing process.

(磁気ディスク用ガラス基板の製造方法)
また、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造システム300を用いて磁気ディスク用ガラス基板の製造方法も提供される。かかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、中心に円孔が形成された円板状の複数のガラス基板102のそれぞれを、複数の化学強化処理槽130のいずれかの化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板102中に含まれる一部のイオンを化学強化処理液中のイオンに置換してガラス基板102を化学強化する化学強化工程を含み、その前段に、化学強化工程前の複数のガラス基板102毎の内径を測定する内径測定工程と、化学強化工程によって生じるガラス基板102の内径の変化量を複数の化学強化処理槽130毎に把握する把握工程と、変化量に基づいて、内径が測定された複数のガラス基板102の化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽130をそれぞれ決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、化学強化工程では、複数のガラス基板102を決定されたそれぞれの化学強化処理槽130で化学強化する。
(Method for producing glass substrate for magnetic disk)
In addition, a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk is provided using the above-described system 300 for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk. In this method of manufacturing a magnetic disk glass substrate, each of the plurality of disk-shaped glass substrates 102 having a circular hole formed in the center is brought into contact with any one of the plurality of chemical strengthening treatment baths 130. Thus, a chemical strengthening step of chemically strengthening the glass substrate 102 by substituting some ions contained in the glass substrate 102 with ions in the chemical strengthening treatment liquid, and a plurality of pre-chemical strengthening steps before the chemical strengthening step is included. An inner diameter measuring step for measuring the inner diameter of each glass substrate 102, a grasping step for grasping the change amount of the inner diameter of the glass substrate 102 caused by the chemical strengthening step for each of the plurality of chemical strengthening treatment tanks 130, and the inner diameter based on the change amount. Combinations for respectively determining chemical strengthening treatment baths 130 for performing chemical strengthening so that the inner diameters after the chemical strengthening process of the plurality of glass substrates 102 for which the chemical strength is measured become a desired value. Further comprising a constant step, and the chemical strengthening process, chemically reinforced with respective chemical strengthening treatment bath 130 to the determined plurality of glass substrates 102.

ここでは、ガラス基板102と化学強化処理槽130とを所定の内径となるように組合せることで、磁気ディスク用ガラス基板の内径寸法誤差を小さくすることが可能となる。   Here, by combining the glass substrate 102 and the chemical strengthening treatment tank 130 so as to have a predetermined inner diameter, it becomes possible to reduce the inner diameter dimensional error of the magnetic disk glass substrate.

以上のように、ガラス基板と化学強化処理槽との組合せを調整し磁気ディスク用ガラス基板の内径寸法誤差を小さくした。かかる工程を踏まえることで十分な加工精度を得ることができるが、このような化学強化処理条件の調整工程に、以下に示す(A)化学強化工程における化学強化処理条件の調整、(B)内周加工工程の加工量の調整、といった工程を加えることで、ガラス基板および化学強化処理槽自体の誤差をある程度小さくすることができ、最終的な内径寸法誤差を小さくすることが可能となる。以下、このような調整工程を加えた実施形態を説明する。   As described above, the combination of the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank was adjusted to reduce the inner diameter error of the magnetic disk glass substrate. Sufficient machining accuracy can be obtained by taking this process into consideration, but the adjustment process of such chemical strengthening process conditions includes the following (A) adjustment of chemical strengthening process conditions in the chemical strengthening process, (B) By adding a process such as adjustment of the processing amount of the circumferential processing process, the error of the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank itself can be reduced to some extent, and the final inner diameter dimension error can be reduced. Hereinafter, an embodiment in which such an adjustment process is added will be described.

((A)化学強化工程における化学強化処理条件の調整)
図10は、化学強化工程における化学強化処理条件の調整を示す磁気ディスク用ガラス基板の製造システム100を示した機能ブロック図である。ここでは、理解を容易にするため、既に詳細に説明したガラス基板と化学強化処理槽との組合せ調整を省略し、化学強化工程における化学強化処理条件の調整のみに着目して説明する。図10の磁気ディスク用ガラス基板102の製造システム100は、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造システム200にさらに、研削量決定装置160と、研磨量決定装置170と、を含んで構成されている。また、上述した内周端面研削装置110と、内周端面研磨装置120と、化学強化処理槽130と、把握装置140と、メモリ150と、実質的に機能が同一なので重複説明を省略し、ここでは、構成が相違する研削量決定装置160と、研磨量決定装置170とを主に説明する。
((A) Adjustment of chemical strengthening treatment conditions in chemical strengthening process)
FIG. 10 is a functional block diagram showing a magnetic disk glass substrate manufacturing system 100 showing adjustment of chemical strengthening treatment conditions in the chemical strengthening step. Here, for easy understanding, the adjustment of the combination of the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank already described in detail is omitted, and only the adjustment of the chemical strengthening treatment conditions in the chemical strengthening process will be described. The manufacturing system 100 of the magnetic disk glass substrate 102 of FIG. 10 is configured to further include a grinding amount determining device 160 and a polishing amount determining device 170 in addition to the above-described magnetic disk glass substrate manufacturing system 200. . In addition, since the inner peripheral end surface grinding device 110, the inner peripheral end surface polishing device 120, the chemical strengthening treatment tank 130, the grasping device 140, and the memory 150 described above have substantially the same functions, redundant description is omitted. Now, the grinding amount determination device 160 and the polishing amount determination device 170 having different configurations will be mainly described.

上記研削量決定装置160および研磨量決定装置170は、加工量決定装置として機能し、把握された変化量に基づいて、次回の化学強化工程後のガラス基板102の内径が所望する値になるように、内周端面研削工程の研削量および内周端面研磨工程の研磨量を決定する。そして、次回から、設定された研削量および研磨量をそれまでの研削量および研磨量に反映(追加)してガラス基板102を加工する。即ち、内周端面研削工程、内周端面研磨工程のいずれか一方または両方で、変化量分だけ内径をフィードバックすることとなる。かかるフィードバックは1バッチ毎に行ってもよいし、1日毎に行うとしてもよい。これにより、大量に磁気ディスク用ガラス基板を製造した場合においても、複数のガラス基板102間の内径寸法誤差を従来と比べて少なくすることができる。   The grinding amount determination device 160 and the polishing amount determination device 170 function as a processing amount determination device so that the inner diameter of the glass substrate 102 after the next chemical strengthening step becomes a desired value based on the grasped change amount. Next, the grinding amount in the inner peripheral end face grinding step and the polishing amount in the inner peripheral end face polishing step are determined. From the next time, the glass substrate 102 is processed by reflecting (adding) the set grinding amount and polishing amount to the grinding amount and polishing amount so far. That is, the inner diameter is fed back by the amount of change in either one or both of the inner peripheral end surface grinding step and the inner peripheral end surface polishing step. Such feedback may be performed every batch or every day. Thereby, even when a large number of glass substrates for magnetic disks are manufactured, an inner diameter dimensional error between the plurality of glass substrates 102 can be reduced as compared with the conventional case.

図11は、変化量を内周端面研削工程および内周端面研磨工程の両工程に分担してフィードバックする場合の加工量(研削量と研磨量)を示したテーブルである。例えば、把握装置140が変化量は15.00μmであると把握した場合、内径を所望の値にするための加工量の総計が15.00μmとなる。従って、図11の加工量テーブルを参照して、研削量決定装置160は、研削量を13.00μm分追加し(+13.00μm)、研磨量決定装置170は研磨量を2.00μm分追加(+2.00μm)する。そして、内周端面研削装置110および内周端面研磨装置120はそれぞれ、設定された研削量および研磨量を反映(追加)して加工を行う。   FIG. 11 is a table showing processing amounts (grinding amount and polishing amount) when the change amount is shared and fed back to both the inner peripheral end surface grinding step and the inner peripheral end surface polishing step. For example, when the grasping device 140 grasps that the amount of change is 15.00 μm, the total amount of processing for setting the inner diameter to a desired value is 15.00 μm. Accordingly, referring to the processing amount table of FIG. 11, the grinding amount determination device 160 adds the grinding amount by 13.00 μm (+13.000 μm), and the polishing amount determination device 170 adds the polishing amount by 2.00 μm ( +2.00 μm). Then, the inner peripheral end surface grinding device 110 and the inner peripheral end surface polishing device 120 perform processing by reflecting (adding) the set grinding amount and polishing amount, respectively.

また、当該内周端面研削工程は、後述する内周端面研磨工程と比較して取代を大きくとることができ、単位時間当たりの切削量も大きいため制御し易く内周端面研磨工程と比較したさらなる製造工程の効率化を図ることが可能となる。   In addition, the inner peripheral end surface grinding step can take a large machining allowance compared to the inner peripheral end surface polishing step described later, and the amount of cutting per unit time is large, so that it is easy to control and further compared with the inner peripheral end surface polishing step. It becomes possible to improve the efficiency of the manufacturing process.

また、変化量は内周端面研削工程および内周端面研磨工程のいずれか一方のみでフィードバックすることもできる。   The amount of change can also be fed back only in either the inner peripheral end face grinding step or the inner peripheral end face polishing step.

図12は、変化量を内周端面研削工程の研削量のみでフィードバックする場合の加工量テーブルである。ここでは、内周端面研磨工程の追加研磨が行われないので、研削量のみによって変化量との調整が遂行される。従って、化学強化工程後に所望する内径の値が一定であれば、研削量は変化量に比例した値となる。内周端面研磨工程のみでフィードバックする場合も同様の加工量テーブルを用いることができる。   FIG. 12 is a processing amount table when the change amount is fed back only by the grinding amount in the inner peripheral end surface grinding step. Here, since the additional polishing in the inner peripheral end face polishing step is not performed, adjustment with the change amount is performed only by the grinding amount. Therefore, if the desired inner diameter value is constant after the chemical strengthening step, the grinding amount becomes a value proportional to the amount of change. The same processing amount table can be used when feedback is performed only by the inner peripheral end face polishing step.

図13は、変化量テーブルと加工量テーブルを合わせたテーブルである。かかるテーブルを参照すると、計算の基礎となる参照値、ここでは、Liイオンの濃度から直接研削量や研磨量を導き出すことができ、処理負担を軽減することが可能となる。   FIG. 13 is a table in which the change amount table and the processing amount table are combined. By referring to such a table, it is possible to derive the grinding amount and polishing amount directly from the reference value that is the basis of calculation, here, the concentration of Li ions, and the processing burden can be reduced.

変化量を把握し、内周加工工程に加工量をフィードバックする上記閉ループ構成により、化学強化工程における内径寸法誤差を前段の工程で吸収することが可能となり、化学強化処理条件の煩雑な調整を行うことなく、結果的にさらに内径寸法誤差の小さい磁気ディスク用ガラス基板を製造することが可能となる。   The above closed loop configuration, which grasps the amount of change and feeds back the machining amount to the inner circumferential machining process, makes it possible to absorb the inner diameter dimension error in the chemical strengthening process in the previous process and make complicated adjustment of the chemical strengthening process conditions. As a result, it is possible to manufacture a glass substrate for a magnetic disk having a smaller inner diameter dimensional error.

(磁気ディスク用ガラス基板の製造方法)
また、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを用いて磁気ディスク用ガラス基板の製造方法も提供される。かかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、上述した化学強化工程における化学強化処理条件を調整する工程に、把握工程の把握結果に基づいて、次の化学強化工程後のガラス基板102の内径が所望の値となるように、ガラス基板102の内径の加工量を決定する加工量決定工程をさらに含み、内周加工工程では、加工量に基づいてガラス基板102の内周端面を加工する。
(Method for producing glass substrate for magnetic disk)
A method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk is also provided using the above-described system for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk. In this method of manufacturing a glass substrate for magnetic disk, the inner diameter of the glass substrate 102 after the next chemical strengthening step is desired based on the grasping result of the grasping step in the step of adjusting the chemical strengthening treatment conditions in the above-described chemical strengthening step. The processing amount determination step of determining the processing amount of the inner diameter of the glass substrate 102 is further included so that the inner peripheral end surface of the glass substrate 102 is processed based on the processing amount.

以上説明した、内周加工工程の加工量の調整をガラス基板と化学強化処理槽との組合せの調整に加えると、変化量を把握し、その変化量を内周端面研削工程や内周端面研磨工程の研削量または研磨量としてフィードバックする上記閉ループ構成により、化学強化工程による変化量を見越した研削量を設定し、化学強化工程の多数のパラメータに基づく内径寸法誤差の変化を内周端面研削工程で吸収することができ、結果的にさらに内径寸法誤差の小さい磁気ディスク用ガラス基板を製造することが可能となる。   When the adjustment of the processing amount in the inner peripheral processing step described above is added to the adjustment of the combination of the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank, the change amount is grasped, and the change amount is determined by the inner peripheral end surface grinding process or the inner peripheral end surface polishing. With the above closed loop configuration that feeds back as the grinding amount or polishing amount of the process, the grinding amount is set in anticipation of the amount of change due to the chemical strengthening process, and the change in the inner diameter dimensional error based on the numerous parameters of the chemical strengthening process is determined. As a result, it is possible to manufacture a glass substrate for a magnetic disk with a smaller inner diameter dimensional error.

((B)化学強化工程における化学強化処理条件の調整)
図14は、化学強化工程における化学強化処理条件の調整を示す磁気ディスク用ガラス基板の製造システム200を示した機能ブロック図である。ここでは、理解を容易にするため、既に詳細に説明したガラス基板と化学強化処理槽との組合せの調整を省略し、化学強化処理条件の調整のみに着目して説明する。かかる図14の磁気ディスク用ガラス基板の製造システム200は、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造システム300にさらに、強化条件決定装置220を含んで構成されている。また、上述した内周端面研削装置110と、内周端面研磨装置120と、化学強化処理槽130と、メモリ150と、内径測定装置210とは、実質的に機能が同一なので重複説明を省略し、ここでは、構成が相違する強化条件決定装置220とを主に説明する。
((B) Adjustment of chemical strengthening treatment conditions in chemical strengthening process)
FIG. 14 is a functional block diagram showing a magnetic disk glass substrate manufacturing system 200 showing adjustment of chemical strengthening treatment conditions in the chemical strengthening step. Here, in order to facilitate understanding, the adjustment of the combination of the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank already described in detail will be omitted, and only the adjustment of the chemical strengthening treatment conditions will be described. The magnetic disk glass substrate manufacturing system 200 shown in FIG. 14 includes a strengthening condition determining device 220 in addition to the magnetic disk glass substrate manufacturing system 300 described above. Further, since the inner peripheral end surface grinding device 110, the inner peripheral end surface polishing device 120, the chemical strengthening treatment tank 130, the memory 150, and the inner diameter measuring device 210 described above have substantially the same functions, redundant description is omitted. Here, the reinforcement condition determination device 220 having a different configuration will be mainly described.

上記強化条件決定装置220は、内径測定装置210が測定した内径と化学強化工程後に所望する内径との差分に基づいて、化学強化処理槽130における化学強化処理条件を決定する。ここでは、まず、内径測定装置210によってガラス基板102の内径が測定され、最終的に所望する内径との差分が導出される。そして、その後の化学強化工程における変化量が導出された差分に追従するように化学強化処理条件が決定される。かかる構成により、化学強化処理前のガラス基板102の内径が予め決められている設計値よりもずれていたとしても、変化量を調整することで最終的なガラス基板102の内径を所望の値に形成でき、内径寸法誤差の小さい磁気ディスク用ガラス基板を製造することが可能となる。   The strengthening condition determining device 220 determines the chemical strengthening treatment condition in the chemical strengthening treatment tank 130 based on the difference between the inner diameter measured by the inner diameter measuring device 210 and the desired inner diameter after the chemical strengthening step. Here, first, the inner diameter of the glass substrate 102 is measured by the inner diameter measuring device 210, and finally a difference from the desired inner diameter is derived. Then, the chemical strengthening process condition is determined so as to follow the difference from which the amount of change in the subsequent chemical strengthening step is derived. With such a configuration, even if the inner diameter of the glass substrate 102 before the chemical strengthening process deviates from a predetermined design value, the final inner diameter of the glass substrate 102 is set to a desired value by adjusting the amount of change. A glass substrate for a magnetic disk that can be formed and has a small inner diameter dimensional error can be manufactured.

ここで、化学強化処理条件は、(a)化学強化処理液に含まれる特定の成分の濃度、(b)化学強化処理液へのガラス基板102の浸漬時間、(c)化学強化処理液の温度、の群から選択された1または2以上の条件であってもよい。   Here, the chemical strengthening treatment conditions are (a) the concentration of a specific component contained in the chemical strengthening treatment liquid, (b) the immersion time of the glass substrate 102 in the chemical strengthening treatment liquid, and (c) the temperature of the chemical strengthening treatment liquid. One or two or more conditions selected from the group may be used.

化学強化処理槽130による化学強化工程では、主として(a)化学強化処理液に含まれる特定の成分の濃度、(b)化学強化処理液へのガラス基板102の浸漬時間、(c)化学強化処理液の温度と、ガラス基板102の内径の変化量とが相関関係を有する。従ってかかる化学強化処理条件の1または2以上を固定して化学強化工程を行ったとしても、他の1または2以上の化学強化処理条件を変えることで変化量を調整することができ、化学強化工程におけるガラス基板102の最終的な内径寸法誤差をさらに小さくすることができる。   In the chemical strengthening process by the chemical strengthening treatment tank 130, mainly (a) the concentration of a specific component contained in the chemical strengthening treatment liquid, (b) the immersion time of the glass substrate 102 in the chemical strengthening treatment liquid, and (c) the chemical strengthening treatment. There is a correlation between the temperature of the liquid and the amount of change in the inner diameter of the glass substrate 102. Therefore, even if one or more of these chemical strengthening treatment conditions are fixed and the chemical strengthening process is performed, the amount of change can be adjusted by changing the other one or more chemical strengthening treatment conditions. The final inner diameter error of the glass substrate 102 in the process can be further reduced.

また、(a)特定の成分の濃度について、ガラス基板102がLiイオンを含むアルミノシリケートガラスで形成されている場合に、特定の成分をLiイオンとすることができる。   Moreover, (a) About the density | concentration of a specific component, when the glass substrate 102 is formed with the aluminosilicate glass containing Li ion, a specific component can be made into Li ion.

強化条件決定装置220は、例えば、化学強化処理条件としてのLiイオンの濃度を、化学強化処理塩の寿命に影響を与えたくないことを理由に、調整したくない、もしくはできないとき、浸漬時間または温度のいずれか一方または両方を調整することで、ガラス基板102の内径を所望の値にすることができる。   For example, the strengthening condition determination apparatus 220 may not adjust or cannot adjust the concentration of Li ions as the chemical strengthening treatment condition because it does not want to affect the lifetime of the chemical strengthening treatment salt. By adjusting either one or both of the temperatures, the inner diameter of the glass substrate 102 can be set to a desired value.

同様に、複数の化学強化処理槽130を用いて化学強化処理を行う場合に1つの化学強化処理槽130の加熱時間を変えることで他の化学強化処理槽との仕上がり時間が変わることになり、製造現場全体の時間コントロールが複雑化する等の理由により浸漬時間を調整したくない、もしくはできないときには、濃度または温度のいずれか一方または両方を調整する。また、加熱温度を例えば予め決められている温度よりも高温にした場合、化学強化処理槽130が過剰に過熱され、FeやSUS等のパーティクルの発生の原因となる等の理由により、温度を調整したくない、もしくはできないときには、濃度または浸漬時間のいずれか一方または両方を調整する。   Similarly, when performing chemical strengthening treatment using a plurality of chemical strengthening treatment tanks 130, changing the heating time of one chemical strengthening treatment tank 130 will change the finishing time with other chemical strengthening treatment tanks, When it is not desired or possible to adjust the immersion time because the time control of the entire manufacturing site is complicated, the concentration and / or the temperature are adjusted. In addition, when the heating temperature is set higher than a predetermined temperature, for example, the chemical strengthening treatment tank 130 is excessively heated, and the temperature is adjusted for the reason that particles such as Fe and SUS are generated. If you don't want or can't, adjust either or both the concentration and / or immersion time.

強化条件決定装置220では、内径測定装置210が測定した内径と化学強化工程後に所望する内径との差分と、化学強化処理条件とが対応付けられた強化条件テーブルを用いて化学強化処理条件を決定してもよい。   The strengthening condition determination device 220 determines the chemical strengthening process condition using a strengthening condition table in which the difference between the inner diameter measured by the inner diameter measuring device 210 and the desired inner diameter after the chemical strengthening process is associated with the chemical strengthening process condition. May be.

図15は、差分(μm)とLiイオンの濃度(ppm)との相関をテーブル化した強化条件テーブルの例を示した説明図である。かかる図15の強化条件テーブルでは、浸漬時間が180min、温度が350℃と一定であり、変更可能な化学強化処理条件がLiイオンの濃度(ppm)のみとなる。従って、内径測定装置210によって測定された内径に基づき所望の内径に達するために必要な差分を導出し、かかる差分だけ内径を変化させるためLi濃度を調整する。例えば、所望の内径に5μm足りない場合、Li濃度を150ppmに変更することで、後の化学強化工程において内径寸法誤差の小さいガラス基板を得ることができる。かかるLi濃度の変更は、化学強化処理液の所定量の廃棄と、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸リチウムまたはその混合溶融塩の継ぎ足しによって実行される。   FIG. 15 is an explanatory diagram showing an example of a strengthening condition table in which the correlation between the difference (μm) and the Li ion concentration (ppm) is tabulated. In the strengthening condition table of FIG. 15, the immersion time is constant at 180 minutes and the temperature is 350 ° C., and the only chemical strengthening treatment condition that can be changed is the Li ion concentration (ppm). Therefore, a difference required to reach a desired inner diameter is derived based on the inner diameter measured by the inner diameter measuring device 210, and the Li concentration is adjusted to change the inner diameter by the difference. For example, when the desired inner diameter is less than 5 μm, by changing the Li concentration to 150 ppm, a glass substrate with a small inner diameter dimensional error can be obtained in the subsequent chemical strengthening step. Such a change in the Li concentration is performed by discarding a predetermined amount of the chemical strengthening treatment liquid and adding sodium nitrate, potassium nitrate, lithium nitrate or a mixed molten salt thereof.

かかる強化条件テーブルを用いることにより、差分と化学強化処理条件との複雑な関係式をリアルタイムに計算しなくても、予め準備された強化条件テーブルを参照するだけで、差分から化学強化処理条件を容易に導出することができる。従って、処理負荷を低減することができ、さらに多次元の関数を導出する際の丸め誤差による化学強化処理条件のずれを回避することが可能となる。   By using such a strengthening condition table, the chemical strengthening process condition can be calculated from the difference only by referring to the strengthening condition table prepared in advance without calculating a complicated relational expression between the difference and the chemical strengthening process condition in real time. It can be easily derived. Therefore, it is possible to reduce the processing load and to avoid a shift in chemical strengthening processing conditions due to a rounding error when deriving a multidimensional function.

このような強化条件テーブルは、磁気ディスク用ガラス基板の製造システム200のフィードバックを切り、開ループ制御におけるLiイオン濃度、浸漬時間、および温度と、その化学強化処理条件における変化量との相関を導出することで求めることができる。かかる変化量は、化学強化工程の前後における内径の差分を測定して得ることができる。   Such a strengthening condition table turns off the feedback of the glass substrate manufacturing system 200 for magnetic disks, and derives the correlation between the Li ion concentration, the immersion time, and the temperature in the open loop control and the amount of change in the chemical strengthening treatment conditions. You can ask for it. Such a change amount can be obtained by measuring a difference in inner diameter before and after the chemical strengthening step.

図16は、Liイオン濃度、浸漬時間、温度と、その化学強化処理条件における変化量との相関関係を示した説明図である。最終的な強化条件テーブルを生成するため、Liイオン濃度、浸漬時間、温度を許容範囲内でシフトさせて可能な限り多くのサンプルをとることで、より精度の高い強化条件テーブルを生成できる。そして、強化条件テーブルとして利用するときには、まず、化学強化処理条件で一定のものを挙げ(図15においては浸漬時間と温度)、その化学強化処理条件に対応付けられたデータのみを抽出する。例えば、図16において浸漬時間180min、温度350℃の化学強化処理条件のみを抽出すると、図15の強化条件テーブルが生成される。他の化学強化処理条件を調整する場合も相関関係を示す図16のテーブルから同様の抽出処理によって強化条件テーブルを生成できる。   FIG. 16 is an explanatory diagram showing the correlation between the Li ion concentration, the immersion time, the temperature, and the amount of change in the chemical strengthening treatment conditions. In order to generate a final strengthening condition table, a more accurate strengthening condition table can be generated by taking as many samples as possible by shifting the Li ion concentration, the immersion time, and the temperature within an allowable range. And when using as a reinforcement | strengthening condition table, a certain thing is first mentioned as a chemical strengthening process condition (in FIG. 15, immersion time and temperature), and only the data matched with the chemical strengthening process condition are extracted. For example, when only the chemical strengthening treatment conditions with an immersion time of 180 min and a temperature of 350 ° C. are extracted in FIG. 16, the strengthening condition table of FIG. 15 is generated. When other chemical strengthening process conditions are adjusted, the strengthening condition table can be generated by the same extraction process from the table of FIG. 16 showing the correlation.

(磁気ディスク用ガラス基板の製造方法)
また、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを用いて磁気ディスク用ガラス基板の製造方法も提供される。かかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、上述したガラス基板と化学強化処理槽との組合せを調整する工程に、測定された内径と化学強化工程後に所望する内径との差分に基づいて、化学強化工程の化学強化処理条件を決定する化学強化処理条件決定工程をさらに含み、化学強化工程では、決定された化学強化処理条件に基づいてガラス基板102を化学強化する。
(Method for producing glass substrate for magnetic disk)
A method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk is also provided using the above-described system for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk. Such a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk includes the step of adjusting the combination of the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank described above, based on the difference between the measured inner diameter and the desired inner diameter after the chemical strengthening step. It further includes a chemical strengthening process condition determining step for determining the chemical strengthening process condition of the process, and in the chemical strengthening process, the glass substrate 102 is chemically strengthened based on the determined chemical strengthening process condition.

以上説明した、化学強化工程における化学強化処理条件の調整をガラス基板と化学強化処理槽との組合せの調整に加えると、化学強化処理前のガラス基板102の内径が予め決められている設計値よりもずれていたとしても、変化量を調整することで最終的なガラス基板102の内径を所望の値に形成でき、さらに内径寸法誤差の小さい磁気ディスク用ガラス基板を製造することが可能となる。   When the adjustment of the chemical strengthening treatment condition in the chemical strengthening step described above is added to the adjustment of the combination of the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank, the inner diameter of the glass substrate 102 before the chemical strengthening treatment is determined from a predetermined design value. Even if there is a deviation, by adjusting the amount of change, the final inner diameter of the glass substrate 102 can be formed to a desired value, and a glass substrate for a magnetic disk with a smaller inner diameter dimensional error can be manufactured.

以下、上述した実施形態の具体的な実施例を説明する。本実施例においては、以下の工程を経て、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを製造した。   Hereinafter, specific examples of the above-described embodiment will be described. In this example, a glass substrate for magnetic disk and a magnetic disk were manufactured through the following steps.

(1)形状加工工程及び第1ラッピング工程
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。ダイレクトプレス以外に、フュージョン法、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状の磁気ディスク用ガラス基板を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO:58〜75重量%、Al:5〜23重量%、LiO:3〜10重量%、NaO:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。また、上記アルミノシリケートガラス以外にもソーダライムガラス等を用いることもできる。
(1) Shape processing step and first lapping step First, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper die, a lower die, and a barrel die to obtain an amorphous plate glass. In addition, the glass for chemical strengthening was used as aluminosilicate glass. In addition to direct pressing, a disk-shaped glass substrate for a magnetic disk may be obtained by cutting with a grinding wheel from sheet glass formed by a fusion method, a downdraw method, or a float method. As the aluminosilicate glass, SiO 2: 58 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5~23 wt%, Li 2 O: 3 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 13 principal component weight% Chemically strengthened glass contained as In addition to the aluminosilicate glass, soda lime glass or the like can also be used.

次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。   Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. This lapping process was performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed on both sides of the plate glass from above and below, the grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relative to each other for lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained.

(2)切り出し工程(コアリング、フォーミング)
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から、円盤状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に円孔を形成し、ドーナツ状のガラス基板とした(コアリング)。
(2) Cutting process (coring, forming)
Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a disk-shaped glass substrate was cut out from the glass base material. Next, using a cylindrical diamond drill, a circular hole was formed in the center of the glass substrate to obtain a donut-shaped glass substrate (coring).

(3)端面研削工程
そして内周端面および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング)。
(3) End surface grinding process And the inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface were ground with a diamond grindstone, and predetermined chamfering was performed (forming).

(4)第2ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
(4) Second Lapping Step Next, a second lapping process was performed on both main surfaces of the obtained glass substrate in the same manner as in the first lapping step. By performing this second lapping step, it is possible to remove in advance the fine unevenness formed on the main surface in the cutting step and end surface polishing step, which are the previous steps, and shorten the subsequent polishing step on the main surface. Will be able to be completed in time.

(5)端面研磨工程
次に、ガラス基板の端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。
(5) End surface polishing process Next, the end surface of the glass substrate was mirror-polished by a brush polishing method. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used. By this end surface polishing step, the end surface of the glass substrate was processed into a mirror surface state capable of preventing generation of particles and the like.

(6)主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨液としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
(6) Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. This first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the polishing liquid, cerium oxide abrasive grains were used.

この第1研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。   The glass substrate which finished this 1st grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) one by one, and was wash | cleaned.

次に、主表面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨液としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。   Next, a second polishing step was performed as the main surface polishing step. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface was performed using a soft foamed resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the polishing liquid, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.

この第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。   The glass substrate which finished this 2nd grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) sequentially, and was wash | cleaned. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(7)化学強化工程および冷却工程
次に、前述のラッピング工程及び研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化工程を行うことにより、磁気ディスク基板の表層部に高い圧縮応力を生じさせることができ、耐衝撃性を向上させることができる。
(7) Chemical strengthening process and cooling process Next, the glass substrate which finished the above-mentioned lapping process and polishing process was chemically strengthened. By performing the chemical strengthening step, a high compressive stress can be generated in the surface layer portion of the magnetic disk substrate, and the impact resistance can be improved.

化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を準備し、この化学強化溶液を400°Cに加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を300°Cに予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。   For chemical strengthening, a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and the chemically strengthened solution is heated to 400 ° C. and the cleaned glass substrate is heated to 300 ° C. The sample was preheated and immersed in a chemical strengthening solution for about 3 hours.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のLiイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。このときのガラス基板の内径における圧縮応力層の厚さは、約100μm〜200μmであり、変化量は15μm以下であった。実施形態に記載した技術を当該実施例に採用して歩留まりを大きく向上することができた。   Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, Li ions and sodium ions in the surface layer of the glass substrate are respectively replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, and the glass substrate is strengthened. At this time, the thickness of the compressive stress layer at the inner diameter of the glass substrate was about 100 μm to 200 μm, and the amount of change was 15 μm or less. The technique described in the embodiment was adopted in the example, and the yield could be greatly improved.

[実施例]
ガラス基板と化学強化処理槽とのマッチングをとると、マッチングをとらない場合と比較して、以下のような結果を得ることができた。ただし、ガラス基板のサンプル数は10,000枚であり、表中の目標値は、内径20.0±0.05mmである。

Figure 0004969260
以上のように、歩留まりが著しく向上することが理解できる。 [Example]
When matching between the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank was performed, the following results were obtained as compared with the case where matching was not performed. However, the number of samples of the glass substrate is 10,000, and the target value in the table is an inner diameter of 20.0 ± 0.05 mm.
Figure 0004969260
As described above, it can be understood that the yield is remarkably improved.

続いて、化学強化工程を終えたガラス基板を、20°Cの水槽に浸漬して冷却し、約10分間維持した。そして、冷却を終えたガラス基板を、約40°Cに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。   Then, the glass substrate which finished the chemical strengthening process was immersed in a 20 degreeC water tank, cooled, and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate which finished cooling was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Further, the glass substrate that had been washed with sulfuric acid was washed by sequentially immersing it in each washing tank of pure water and IPA (isopropyl alcohol). In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

上記の如く、第1ラッピング工程、切り出し工程、第2ラッピング工程、端面研磨工程、主表面研磨工程、化学強化工程、冷却工程を施すことにより、平坦、かつ、平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板を得た。   As described above, by applying the first lapping step, the cutting step, the second lapping step, the end surface polishing step, the main surface polishing step, the chemical strengthening step, and the cooling step, a flat and smooth, high-rigidity magnetic disk is used. A glass substrate was obtained.

(8)精密洗浄工程
次に、テクスチャーを形成した磁気ディスク用ガラス基板の精密洗浄を行った。これはヘッドクラッシュやサーマルアスペリティ障害の原因となる研磨剤残渣や外来の鉄系コンタミなどを除去し、表面が平滑で清浄なガラス基板を得るためのものである。精密洗浄工程としては、アルカリ性水溶液による洗浄の後に、水リンス洗浄、IPA洗浄工程を行った。
(8) Precision cleaning step Next, the glass substrate for magnetic disk on which the texture was formed was precisely cleaned. This is to remove abrasive residues and foreign iron-based contaminants that cause head crush and thermal asperity failure, and to obtain a glass substrate with a smooth surface and a clean surface. As a precision cleaning process, a water rinse cleaning and an IPA cleaning process were performed after cleaning with an alkaline aqueous solution.

(9)磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
(9) Magnetic disk manufacturing process On both surfaces of the glass substrate obtained through the above-described processes, an adhesion layer made of a Cr alloy, a soft magnetic layer made of a CoTaZr-based alloy, an underlayer made of Ru, and a CoCrPt group on the surface of the glass substrate A perpendicular magnetic recording disk was manufactured by sequentially forming a perpendicular magnetic recording layer made of an alloy, a protective layer made of hydrogenated carbon, and a lubricating layer made of perfluoropolyether. Although this configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic disk, a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane magnetic disk.

得られた磁気ディスクについて異物により磁性層等の膜に欠陥が発生していないことを確認した。また、グライドテストを実施したところ、ヒット(ヘッドが磁気ディスク表面の突起にかすること)やクラッシュ(ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること)は認められなかった。さらに、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を行ったところ、サーマルアスペリティによる再生の誤動作は認められなかった。   The obtained magnetic disk was confirmed to be free from defects in the film such as the magnetic layer due to foreign matter. In addition, when the glide test was performed, no hit (the head bited against the protrusion on the surface of the magnetic disk) or crash (the head collided with the protrusion on the surface of the magnetic disk) was not recognized. Furthermore, when a reproduction test was conducted with a magnetoresistive head, no malfunction of reproduction due to thermal asperity was found.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the example which concerns. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

本発明は、ガラス基板の一部をイオン交換して化学強化を行う化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および磁気ディスク用ガラス基板の製造システムに利用可能である。
The present invention utilizes a portion of the glass substrate manufacturing method of a glass substrate for a magnetic disk including a chemical strengthening step of performing chemical strengthening by ion exchange, a method of manufacturing a magnetic disk, a glass substrate manufacturing system for you and a magnetic disk Is possible.

磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを示した機能ブロック図である。It is the functional block diagram which showed the manufacturing system of the glass substrate for magnetic discs. 内周端面研削装置の研削工程を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the grinding process of an internal peripheral end surface grinding apparatus. 内周端面研磨装置の構成を説明するための縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view for demonstrating the structure of an inner peripheral end surface grinding | polishing apparatus. ガラス基板の化学強化処理液への浸漬を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the immersion to the chemical strengthening process liquid of a glass substrate. 化学強化処理による内径寸法誤差の変化例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of a change of the internal diameter dimension error by a chemical strengthening process. 把握装置がガラス基板の内径の変化量を実際に測定する方法によって変化量を把握する場合の概略を示した機能ブロック図である。It is the functional block diagram which showed the outline in case a grasping | ascertainment device grasps | ascertains the variation | change_quantity by the method of actually measuring the variation | change_quantity of the internal diameter of a glass substrate. Liイオンの濃度(ppm)と変化量(μm)との相関を示した相関図である。It is the correlation figure which showed the correlation with the density | concentration (ppm) of Li ion, and variation | change_quantity (micrometer). 図7のLiイオンの濃度(ppm)と変化量(μm)との相関をテーブル化した変化量テーブルの例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the variation | change_quantity table which tabulated the correlation of the density | concentration (ppm) of Li ion of FIG. 7, and variation | change_quantity (micrometer). 組合せ決定装置による組合せ決定工程を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the combination determination process by a combination determination apparatus. 磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを示した機能ブロック図である。It is the functional block diagram which showed the manufacturing system of the glass substrate for magnetic discs. 変化量を内周端面研削工程および内周端面研磨工程の両工程に分担してフィードバックする場合の加工量(研削量と研磨量)を示したテーブルである。It is the table which showed the processing amount (grinding amount and polishing amount) in the case of sharing and feeding back a variation | change_quantity to both processes of an inner peripheral end surface grinding process and an inner peripheral end surface grinding | polishing process. 変化量を内周端面研削工程の研削量のみでフィードバックする場合の加工量テーブルである。It is a processing amount table when the amount of change is fed back only by the grinding amount in the inner peripheral end face grinding process. 変化量テーブルと加工量テーブルを合わせたテーブルである。This table is a combination of a change amount table and a machining amount table. 磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを示した機能ブロック図であるIt is the functional block diagram which showed the manufacturing system of the glass substrate for magnetic discs 差分(μm)とLiイオンの濃度(ppm)との相関をテーブル化した強化条件テーブルの例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the reinforcement | strengthening condition table which tabulated the correlation with a difference (micrometer) and the density | concentration (ppm) of Li ion. Liイオン濃度、浸漬時間、温度と、その化学強化処理条件における変化量との相関関係を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed correlation with Li ion concentration, immersion time, temperature, and the variation | change_quantity in the chemical strengthening process conditions.

符号の説明Explanation of symbols

100、200、300 磁気ディスク用ガラス基板の製造システム
102 ガラス基板
110 内周端面研削装置
112 円孔
114 内周端面
120 内周端面研磨装置
130 化学強化処理槽
140 把握装置
160 研削量決定装置
170 研磨量決定装置
210 内径測定装置
220 強化条件決定装置
310 組合せ決定装置
100, 200, 300 Glass disk substrate manufacturing system for magnetic disk 102 Glass substrate 110 Inner peripheral end surface grinding device 112 Circular hole 114 Inner peripheral end surface 120 Inner peripheral end surface polishing device 130 Chemical strengthening treatment tank 140 Grasping device 160 Grinding amount determining device 170 Polishing Quantity determining device 210 Inner diameter measuring device 220 Strengthening condition determining device 310 Combination determining device

Claims (10)

中心に円孔が形成された円板状のガラス基板を複数の化学強化処理槽のいずれかの化学強化処理液に接触させることにより、該ガラス基板中に含まれる一部のイオンを該化学強化処理液中のイオンに置換して該ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記化学強化工程前の前記ガラス基板の内径を測定する内径測定工程と、
前記化学強化工程によって生じるガラス基板の内径の変化量を前記複数の化学強化処理槽毎に把握する把握工程と、
前記変化量に基づいて、内径が測定されたガラス基板の前記化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽を決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、
前記化学強化工程では、前記決定された化学強化処理槽で前記ガラス基板を化学強化することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
By bringing a disc-shaped glass substrate having a circular hole in the center into contact with a chemical strengthening treatment solution in any of a plurality of chemical strengthening treatment tanks, some ions contained in the glass substrate are chemically strengthened. A method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising a chemical strengthening step of chemically strengthening the glass substrate by substituting with ions in a treatment liquid,
An inner diameter measuring step for measuring an inner diameter of the glass substrate before the chemical strengthening step;
A grasping step for grasping the amount of change in the inner diameter of the glass substrate generated by the chemical strengthening step for each of the plurality of chemical strengthening treatment tanks;
And a combination determining step of determining a chemical strengthening treatment tank for performing chemical strengthening so that the inner diameter after the chemical strengthening step of the glass substrate whose inner diameter is measured becomes a desired value based on the amount of change. ,
In the chemical strengthening step, the glass substrate is chemically strengthened in the determined chemical strengthening treatment tank.
中心に円孔が形成された円板状の複数のガラス基板のいずれかを化学強化処理槽の化学強化処理液に接触させることにより、該ガラス基板中に含まれる一部のイオンを該化学強化処理液中のイオンに置換して該ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
それぞれの内径にバラツキがある前記化学強化工程前の前記複数のガラス基板毎に、その内径を測定する内径測定工程と、
前記化学強化工程によって生じるガラス基板の内径の変化量を把握する把握工程と、
前記変化量に基づいて、前記化学強化工程後の内径が所望する値になるように、前記内径を測定した複数のガラス基板の中から該化学強化工程を実行するガラス基板を決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、
前記化学強化工程では、前記決定されたガラス基板を前記化学強化処理槽で化学強化することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
By contacting one of a plurality of disk-shaped glass substrates having a circular hole in the center with a chemical strengthening treatment liquid in a chemical strengthening treatment tank, some ions contained in the glass substrate are chemically strengthened. A method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising a chemical strengthening step of chemically strengthening the glass substrate by substituting with ions in a treatment liquid,
Wherein the chemical strengthening process each of the plurality of glass substrate before there is variation in each of the inner diameter, the inner diameter measuring step of measuring the inner diameter thereof,
A grasping step for grasping the amount of change in the inner diameter of the glass substrate caused by the chemical strengthening step;
A combination determining step of determining a glass substrate for executing the chemical strengthening step from a plurality of glass substrates whose inner diameters are measured based on the change amount so that the inner diameter after the chemical strengthening step becomes a desired value. And further including
In the chemical strengthening step, the glass substrate thus determined is chemically strengthened in the chemical strengthening treatment tank.
中心に円孔が形成された円板状の複数のガラス基板のそれぞれを、複数の化学強化処理槽のいずれかの化学強化処理液に接触させることにより、該ガラス基板中に含まれる一部のイオンを該化学強化処理液中のイオンに置換して該ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記化学強化工程前の前記複数のガラス基板毎の内径を測定する内径測定工程と、
前記化学強化工程によって生じるガラス基板の内径の変化量を前記複数の化学強化処理槽毎に把握する把握工程と、
前記変化量に基づいて、内径が測定された複数のガラス基板の前記化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽をそれぞれ決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、
前記化学強化工程では、前記複数のガラス基板を前記決定されたそれぞれの化学強化処理槽で化学強化することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
Each of the plurality of disk-shaped glass substrates having a circular hole formed in the center is brought into contact with any one of the chemical strengthening treatment liquids of the plurality of chemical strengthening treatment tanks, thereby including a part of the glass substrate. A method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising a chemical strengthening step of chemically strengthening the glass substrate by substituting ions in the chemical strengthening treatment liquid,
An inner diameter measuring step for measuring an inner diameter of each of the plurality of glass substrates before the chemical strengthening step;
A grasping step for grasping the amount of change in the inner diameter of the glass substrate generated by the chemical strengthening step for each of the plurality of chemical strengthening treatment tanks;
Based on the amount of change, a combination determination step of determining a chemical strengthening treatment tank for performing chemical strengthening so that the inner diameter after the chemical strengthening step of the plurality of glass substrates whose inner diameters are measured becomes a desired value; Further including
In the chemical strengthening step, the plurality of glass substrates are chemically strengthened in each of the determined chemical strengthening treatment tanks.
前記組合せ決定工程は、前記ガラス基板と化学強化処理槽とを仮に組合せた場合の各組合せの最終予想内径と、内径の所望の値との差分の2乗和が最小になるように、化学強化を行う化学強化処理槽をそれぞれ決定することを特徴とする、請求項3に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。   In the combination determination step, the chemical strengthening is performed so that the sum of squares of the difference between the final expected inner diameter of each combination and the desired value of the inner diameter when the glass substrate and the chemical strengthening treatment tank are temporarily combined is minimized. The method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 3, wherein the chemical strengthening treatment tank for performing the step is determined. 前記把握工程は、前記化学強化工程の前後における前記ガラス基板の内径の差分から変化量を把握することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。   5. The method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the grasping step grasps a change amount from a difference in inner diameter of the glass substrate before and after the chemical strengthening step. . 前記把握工程は、前記化学強化処理液に含まれる特定の成分の濃度に基づいて変化量を把握することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。   The said grasping process grasps | ascertains the variation | change_quantity based on the density | concentration of the specific component contained in the said chemical strengthening process liquid, The manufacture of the glass substrate for magnetic discs in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. Method. 前記ガラス基板は、Liイオンを含むアルミノシリケートガラスで形成され、
前記特定の成分は、Liイオンであることを特徴とする、請求項6に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
The glass substrate is formed of aluminosilicate glass containing Li ions,
The method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 6, wherein the specific component is Li ion.
前記把握工程では、前記特定の成分の濃度と前記変化量とが対応付けられた変化量テーブルを用いて変化量を把握することを特徴とする、請求項6または7に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。   8. The magnetic disk glass according to claim 6, wherein in the grasping step, the amount of change is grasped using a change amount table in which the concentration of the specific component and the amount of change are associated with each other. A method for manufacturing a substrate. 当該磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成する工程を含むことを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の磁気ディスクの製造方法。   The method for producing a magnetic disk according to claim 1, comprising a step of forming at least a magnetic layer on the surface of the glass substrate obtained by the method for producing a glass substrate for a magnetic disk. . 中心に円孔が形成された円板状の複数のガラス基板のいずれかを、化学強化処理液に接触させることにより、該ガラス基板中に含まれる一部のイオンを該化学強化処理液中のイオンに置換し該ガラス基板を化学強化する複数の化学強化処理槽を備える磁気ディスク用ガラス基板の製造システムであって、  By contacting one of a plurality of disk-shaped glass substrates having a circular hole in the center with the chemical strengthening treatment liquid, some ions contained in the glass substrate are contained in the chemical strengthening treatment liquid. A system for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk comprising a plurality of chemical strengthening treatment tanks that replace ions and chemically strengthen the glass substrate,
前記化学強化処理槽が化学強化を行う前に前記複数のガラス基板毎の内径を測定する内径測定装置と、  An inner diameter measuring device that measures inner diameters of the plurality of glass substrates before the chemical strengthening treatment tank performs chemical strengthening,
前記化学強化処理槽によって生じるガラス基板の内径の変化量を前記複数の化学強化処理槽毎に把握する把握装置と、  A grasping device for grasping the amount of change in the inner diameter of the glass substrate generated by the chemical strengthening treatment tank for each of the plurality of chemical strengthening treatment tanks,
前記変化量に基づいて、内径が測定された複数のガラス基板の前記化学強化処理槽の化学強化後における内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽をそれぞれ決定する組合せ決定装置と、をさらに備え、  Based on the amount of change, a combination of determining a chemical strengthening treatment tank for performing chemical strengthening so that the inner diameter after chemical strengthening of the chemical strengthening treatment tank of the plurality of glass substrates whose inner diameters are measured becomes a desired value. And a determination device,
前記複数のガラス基板は、前記決定されたそれぞれの化学強化処理槽で化学強化されることを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造システム。  The system for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, wherein the plurality of glass substrates are chemically strengthened in each of the determined chemical strengthening treatment tanks.
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