JP4753181B2 - Ovd検査方法及び検査装置 - Google Patents
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Description
特許文献2:特許第3095215号公報
特許文献3:特開2002−181718号公報
照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVDを含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDの基準画像データ、又は前記基準画像データ及び前記標準となるOVDの基準位置を示す基準データを予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、二値化処理された前記画像データと前記基準画像データとを比較し、あるいは二値化処理された前記画像データと前記基準画像データ及び前記基準データとを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの形状、面積及び位置の少なくともいずれか1つの良否を判定することを特徴とする。
照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVDを含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDの輪郭を示す輪郭データを予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの輪郭データを抽出して前記標準となるOVDの輪郭データと比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの形状の良否を判定することを特徴とする。
照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVDを含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDの面積値を示す基準データを予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの面積値を算出して前記標準となるOVDの基準データが示す面積値と比較し、その比較結果に基づいてOVDの付与状態の良否を判定することを特徴とする。
照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVDを含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標を予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの位置及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標を算出し、前記基材に付与されたOVDの位置及びこのOVDの位置検出のための基準位置と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標とを比較し、その比較結果に基づいてOVDの位置の良否を判定することを特徴とする。
照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVD及びこのOVDの位置検出のための基準マークを含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準マークを代表する座標とを予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVD及び基準マークのそれぞれの位置を代表する座標を算出し、前記基材に付与されたOVD及び基準マークのそれぞれの位置を代表する座標と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVD及びこのOVDの位置検出のための基準マークを代表する座標とを比較し、その比較結果に基づいてOVDの位置の良否を判定することを特徴とする。
照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVD及び前記基材の位置を代表する箇所を含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及び前記基材を代表する座標を予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDを代表する座標及び前記基材を代表する座標をそれぞれ算出し、前記基材に付与されたOVDを代表する座標及び前記基材を代表する座標と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及び前記基材を代表する座標とを比較し、その比較結果に基づいてOVDの位置の良否を判定することを特徴とする。
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDの基準画像データ、または前記基準画像データ及び前記標準となるOVDの基準位置を示す基準データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行ってこの画像データと前記基準画像データとを比較し、あるいは二値化処理された前記画像データと前記基準画像データ及び前記基準データとを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの形状、面積及び位置の少なくとも1つの良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とする。
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDの輪郭を示す輪郭データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの輪郭データを抽出して前記基準となるOVDの輪郭データと比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの形状の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とする。
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDの面積を示す面積データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの面積データを抽出して前記基準となるOVDの面積データと比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの付与状態の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とする。
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標を示す座標データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの位置及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標を算出し、前記基材に付与されたOVDの位置及びこのOVDの位置検出のための基準位置と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標とを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの位置の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とする。
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準マークの位置を代表する座標を示す座標データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの位置を代表する座標及び前記基準マークの位置の座標を算出し、前記基材に付与されたOVDの位置を代表する座標及び前記基準マークの位置を代表する座標と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDを代表する位置の座標及びこのOVDの位置検出のための基準マークの位置を代表する座標とを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの位置の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とする。
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及前記基材の位置を代表する座標を示す座標データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの位置を代表する座標及び前記基材を代表する位置の座標を算出し、前記基材に付与されたOVDの位置を代表する座標及び前記基材を代表する位置の座標と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDを代表する位置の座標及びこの基材を代表する位置の座標とを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの位置の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とする。
前記照明手段と前記撮像手段との間の角度φと、
前記照明手段から照射された光の波長λ[nm]と、
OVD1[mm]当たりの溝本数N(Nは1以上の数)本の間に、sinφ<Nλ[nm]×10−6なる関係が前記基材に付与されたOVDの領域に対して成立するように、前記照明手段と前記撮像手段とが配置されていてもよい。
前記照明手段と前記撮像手段との間の角度φと、
前記照明手段から照射された光の波長λ[nm]と、
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2 光源
3 印刷物
4 OVD
5、12 画像入力手段
6、13 画像処理手段
6a 演算部
6b 判定部
7 可視光カット赤外線透過フィルタ付きCCDラインセンサカメラ
8 ライン型光源
9 検査胴
10、20 入力部
14 基準マーク
15 印刷物の表面の模様
21 出力手段
22 記憶手段
本実施の形態によるOVD検査方法及び検査装置は、例えば図2(a)に示されたように、印刷物3において基材1上に付与されたパッチタイプのOVD4a、図2(b)に示されたようなストライプタイプのOVD4b、図2(c)に示されたようなスレッドタイプのOVD4c等、いずれも検査対象とすることができる。
sinφ<Nλ[nm]×10−6 (1)
OVDを付与した印刷物を静止状態において、オフラインでOVDの付与状態等の品質を検査する際には、図3に示すような構成を備えたOVD検査装置を用いる。
本発明の実施例2によるOVD検査方法及び検査装置は、製造ライン上におけるオンラインでの検査に適用される。
Claims (14)
- 照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVDを含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDの基準画像データ、又は前記基準画像データ及び前記標準となるOVDの基準位置を示す基準データを予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、二値化処理された前記画像データと前記基準画像データとを比較し、あるいは二値化処理された前記画像データと前記基準画像データ及び前記基準データとを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの形状、面積及び位置の少なくともいずれか1つの良否を判定することを特徴とするOVD検査方法。 - 照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVDを含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDの輪郭を示す輪郭データを予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの輪郭データを抽出して前記標準となるOVDの輪郭データと比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの形状の良否を判定することを特徴とするOVD検査方法。 - 照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVDを含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDの面積値を示す基準データを予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの面積値を算出して前記標準となるOVDの基準データが示す面積値と比較し、その比較結果に基づいてOVDの付与状態の良否を判定することを特徴とするOVD検査方法。 - 照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVDを含む領域に対し、650nm以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標を予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの位置及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標を算出し、前記基材に付与されたOVDの位置及びこのOVDの位置検出のための基準位置と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標とを比較し、その比較結果に基づいてOVDの位置の良否を判定することを特徴とするOVD検査方法。 - 照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVD及びこのOVDの位置検出のための基準マークを含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準マークを代表する座標とを予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVD及び基準マークのそれぞれの位置を代表する座標を算出し、前記基材に付与されたOVD及び基準マークのそれぞれの位置を代表する座標と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVD及びこのOVDの位置検出のための基準マークを代表する座標とを比較し、その比較結果に基づいてOVDの位置の良否を判定することを特徴とするOVD検査方法。 - 照明手段と、撮像手段を含む画像入力手段と、記憶手段と、画像処理手段とを備える検査装置を用いて、基材に付与されたOVDを検査する方法であって、
前記撮像手段と前記照明手段とを、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置にそれぞれ配置し、
前記照明手段から前記基材の表面に赤外線又は赤外線を含む光を照射し、
前記画像入力手段により、前記基材に付与されたOVD及び前記基材の位置を代表する箇所を含む領域に対し、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力し、
前記記憶手段により、標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及び前記基材を代表する座標を予め記憶し、
前記画像処理手段により、前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDを代表する座標及び前記基材を代表する座標をそれぞれ算出し、前記基材に付与されたOVDを代表する座標及び前記基材を代表する座標と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及び前記基材を代表する座標とを比較し、その比較結果に基づいてOVDの位置の良否を判定することを特徴とするOVD検査方法。 - 基材に付与されたOVDの検査装置であって、
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDの基準画像データ、または前記基準画像データ及び前記標準となるOVDの基準位置を示す基準データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行ってこの画像データと前記基準画像データとを比較し、あるいは二値化処理された前記画像データと前記基準画像データ及び前記基準データとを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの形状、面積及び位置の少なくとも1つの良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とするOVD検査装置。 - 基材に付与されたOVDの検査装置であって、
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDの輪郭を示す輪郭データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの輪郭データを抽出して前記基準となるOVDの輪郭データと比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの形状の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とするOVD検査装置。 - 基材に付与されたOVDの検査装置であって、
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDの面積を示す面積データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの面積データを抽出して前記基準となるOVDの面積データと比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの付与状態の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とするOVD検査装置。 - 基材に付与されたOVDの検査装置であって、
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標を示す座標データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの位置及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標を算出し、前記基材に付与されたOVDの位置及びこのOVDの位置検出のための基準位置と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準位置を示す座標とを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの位置の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とするOVD検査装置。 - 基材に付与されたOVDの検査装置であって、
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及びこのOVDの位置検出のための基準マークの位置を代表する座標を示す座標データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの位置を代表する座標及び前記基準マークの位置の座標を算出し、前記基材に付与されたOVDの位置を代表する座標及び前記基準マークの位置を代表する座標と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDを代表する位置の座標及びこのOVDの位置検出のための基準マークの位置を代表する座標とを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの位置の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とするOVD検査装置。 - 基材に付与されたOVDの検査装置であって、
OVDを付与した基材に、赤外線を含む光を照射する光源を持つ照明手段と、
前記照明手段に対し、前記OVDの領域からの650[nm]以上の波長領域の鏡面反射光及び回折光が前記画像処理手段において二値化処理をする際の閾値以下となるような位置に撮像手段が配置されており、前記照明手段により、赤外線を含む光が照射された前記基材に付与されたOVDを含む領域から、650[nm]以上の波長領域を含む画像データを入力する、前記撮像手段を含む画像入力手段と、
標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDの位置を代表する座標及前記基材の位置を代表する座標を示す座標データを予め記憶する記憶手段と、
前記入力した画像データに前記二値化処理を行って、この画像データから前記基材に付与されたOVDの位置を代表する座標及び前記基材を代表する位置の座標を算出し、前記基材に付与されたOVDの位置を代表する座標及び前記基材を代表する位置の座標と、前記標準となるOVDを基材に付与したときのこのOVDを代表する位置の座標及びこの基材を代表する位置の座標とを比較し、その比較結果に基づいて前記基材に付与されたOVDの位置の良否を判定する画像処理手段とを備えたことを特徴とするOVD検査装置。 - 前記照明手段と前記撮像手段との間の角度φと、
前記照明手段から照射された光の波長λ[nm]と、
OVD1[mm]当たりの溝本数N(Nは1以上の数)本の間に、sinφ<Nλ[nm]×10−6なる関係が前記基材に付与されたOVDの領域に対して成立するように、前記照明手段と前記撮像手段とが配置されていることを特徴とする請求項1乃至6記載のOVD検査方法。 - 前記照明手段と前記撮像手段との間の角度φと、
前記照明手段から照射された光の波長λ[nm]と、
OVD1[mm]当たりの溝本数N(Nは1以上の数)本の間に、sinφ<Nλ[nm]×10−6なる関係が前記基材に付与されたOVDの領域に対して成立するように、前記照明手段と前記撮像手段とが配置されていることを特徴とする請求項7乃至12記載のOVD検査装置。
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