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JP3229235B2 - Wiring shaping method and apparatus, prohibited area radius determining method and apparatus - Google Patents

Wiring shaping method and apparatus, prohibited area radius determining method and apparatus

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JP3229235B2
JP3229235B2 JP01249897A JP1249897A JP3229235B2 JP 3229235 B2 JP3229235 B2 JP 3229235B2 JP 01249897 A JP01249897 A JP 01249897A JP 1249897 A JP1249897 A JP 1249897A JP 3229235 B2 JP3229235 B2 JP 3229235B2
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wiring
obstacle
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利行 濱
博明 江藤
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板等の
端子又は障害物に対する位相的な位置関係のみが決定さ
れている結線経路である、基板上の端子間の位相配線
を、基板上の物理的位置が決定されている配線である物
理配線に整形する方法に関し、より具体的には、物理配
線を行う際に配線幅を拡大したり、配線間隔を均等にす
る(均等割付という)方法に関連する。位相配線は上記
のように基板上での経路の物理的位置までは特定されて
おらず、端子又は障害物を越えずに経路を変更して一致
させることができる配線はすべて同一の位相配線であ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for connecting a phase wiring between terminals on a board, which is a connection path in which only a topological positional relationship with respect to a terminal or an obstacle on a printed circuit board or the like is determined. Regarding the method of shaping the physical wiring, which is the wiring whose target position has been determined, more specifically, the method of expanding the wiring width and equalizing the wiring interval when performing the physical wiring (referred to as equal allocation) Related. Phase wiring is not specified up to the physical position of the path on the board as described above, and all wiring that can be changed and matched without crossing terminals or obstacles is the same phase wiring is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】ユークリッド距離を測度とした円弧と線
分による配線である自由角度配線は、従来の90度や4
5度配線より配線領域を有効に活用することができる配
線方法である。特にプリント基板上にチップなどが高密
度実装される現在の状況を鑑みれば、自由角度配線が高
速且つ自動的に行われれば、大変有用である。しかし、
完全な自由角度配線の方法は、Shaodi Gao, Mark Jerru
m, Michael Kaufman, Kurt Mehlhorn, Wolfgang Ruelin
g, and Christoph Storb, "On continuous homotopic o
ne layer routing," In Proceedings of the 4th annua
l ACM Symposiumon Computational Geometry, pages 39
2-402, ACM, 1988などの論文に紹介されている程度で、
実際的な製品は存在していない。
2. Description of the Related Art A free-angle wiring, which is a wiring composed of an arc and a line segment having a measure of the Euclidean distance, is a conventional 90-degree or 4-degree wiring.
This is a wiring method in which the wiring area can be more effectively used than the fifth wiring. In particular, considering the current situation in which chips and the like are mounted on a printed circuit board at high density, it is very useful if free-angle wiring is performed at high speed and automatically. But,
Shaodi Gao, Mark Jerru
m, Michael Kaufman, Kurt Mehlhorn, Wolfgang Ruelin
g, and Christoph Storb, "On continuous homotopic o
ne layer routing, "In Proceedings of the 4th annua
l ACM Symposiumon Computational Geometry, pages 39
2-402, ACM, 1988, etc.
No practical product exists.

【0003】また、均等割付、配線幅拡大のための技術
は、プリント基板の他、PGA(Pin Grid Array)、B
GA(Ball Grid Array)、MCM(Multi-Chip Modul
e)等の非常に精細な配線で歩留りの向上、電気的性質
の安定を図るために重要である。PGAを対象とした均
等割付、配線幅拡大を自動的に実現する手法は、報告さ
れているが(Changsheng Ying and Jun Gu, "Automated
pin grid array package routing on multilayer cera
mic substarates," IEEE Transaction on Very Large S
cale Integration (VLSI) SYSTEMS, 1(4): pages 571-5
75, 1993)、自由角度配線とは言え、配線は線分だけで
構成されており、PGA特有の中心から放射状に走る配
線と、ピンの格子状の配列を利用しており、拡張性に欠
ける。当然、一般的な自由角度配線において、均等割
付、配線幅拡大を実施した製品はない。
[0003] In addition, techniques for equal allocation and wiring width enlargement include PGA (Pin Grid Array), B
GA (Ball Grid Array), MCM (Multi-Chip Modul
It is important to improve the yield and stabilize the electrical properties with very fine wiring such as e). A method for automatically realizing equal allocation and wiring width expansion for PGA has been reported (Changsheng Ying and Jun Gu, "Automated
pin grid array package routing on multilayer cera
mic substarates, "IEEE Transaction on Very Large S
cale Integration (VLSI) SYSTEMS, 1 (4): pages 571-5
75, 1993) Although it is a free-angle wiring, the wiring is composed of only line segments, and uses wiring that runs radially from the center of PGA and a grid-like arrangement of pins, and lacks expandability. . As a matter of course, there is no product in which the general free-angle wiring is equally allocated and the wiring width is increased.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】よって、本願発明の目
的は、配線領域を有効に使える自由角度配線を採用しつ
つ、余裕のある部分では配線間隔、配線幅を拡大する方
法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of enlarging a wiring interval and a wiring width in a marginal portion while employing a free-angle wiring which can effectively use a wiring area. Aim.

【0005】また、配線結果としてできたプリント基板
等の歩留り、電気特性を向上させることも目的とする。
Another object of the present invention is to improve the yield and electrical characteristics of a printed circuit board or the like formed as a result of wiring.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明では、位相配線は
既に決定されているものとする。この位相配線から自由
角度で物理配線への整形は、基本的には、(1)整形す
べき配線を選択し、(2)端子や端子以外の配線禁止領
域を含む障害物から円弧状の禁止領域を生成し、(3)
選択された配線に対し、生成された禁止領域を通過しな
いような最短経路を求めることにより実現される。この
生成された禁止領域の円弧の半径を拡大することによ
り、均等割付、配線幅拡大を実現する。
In the present invention, it is assumed that the phase wiring has already been determined. The shaping from the phase wiring to the physical wiring at a free angle is basically (1) selecting wiring to be shaped, and (2) arc-shaped prohibition from obstacles including wiring prohibition areas other than terminals and terminals. Generate a region, (3)
This is realized by finding the shortest route for the selected wiring so as not to pass through the generated prohibited area. By expanding the radius of the arc of the generated prohibited area, equal allocation and wiring width expansion are realized.

【0007】すなわち、基板上の端子間の位相配線を物
理配線に整形する場合、まず、整形すべき配線を位相配
線の中から選択する。そして、整形すべき配線を見通す
障害物を特定し、整形すべき配線と特定された障害物と
の間に最低限空けなければならない間隔の所定数倍とな
る間隔を半径とする円弧内を禁止領域として特定された
障害物に設定する。ここで、最小限空けなければならな
い間隔は、当該整形すべき配線と特定された障害物との
間に存在する配線とその配線間の間隔によって決められ
る。禁止領域を拡大する場合には、少なくとも、左右の
向かい合う禁止領域が重なり合わないようにすること、
禁止領域が配線の始点又は終点に重なり合わないように
することが必要である。また、所定数倍は、基板上に存
在する空き空間により決まるものである。最後に、禁止
領域内を通過しないような最短経路を検出し、当該最短
経路を用いて整形すべき配線の物理配線を決定する。こ
こで、配線幅を拡大する場合には、整形対象配線の左右
両方の境界を別々に最短経路として決定する。
That is, when shaping a phase wiring between terminals on a substrate into a physical wiring, first, a wiring to be shaped is selected from the phase wirings. Then, an obstacle that sees through the wiring to be shaped is specified, and the inside of a circular arc having a radius that is a predetermined multiple of the minimum spacing between the wiring to be shaped and the specified obstacle is prohibited. Set to an obstacle identified as an area. Here, the minimum spacing is determined by the wiring existing between the wiring to be shaped and the specified obstacle and the distance between the wirings. When expanding the prohibited area, at least make sure that the left and right opposite prohibited areas do not overlap,
It is necessary to prevent the prohibited area from overlapping the starting point or the ending point of the wiring. Further, the predetermined multiple is determined by an empty space existing on the substrate. Lastly, the shortest path that does not pass through the prohibited area is detected, and the physical wiring of the wiring to be shaped is determined using the shortest path. Here, when increasing the wiring width, both the left and right boundaries of the wiring to be shaped are separately determined as the shortest paths.

【0008】配線幅を拡大する場合に円弧状の禁止領域
を設定する処理は、整形すべき配線と特定された障害物
との間に存在する配線を特定する配線特定ステップと、
特定された障害物に設定された配線幅拡大率により、配
線特定ステップにより特定された配線の配線幅を拡大す
るステップと、拡大された配線幅を加算するステップと
により実施されることが考えられる。
The process of setting an arc-shaped forbidden area when enlarging the wiring width includes a wiring specifying step of specifying a wiring existing between the wiring to be shaped and the specified obstacle.
It is conceivable that the step of enlarging the wiring width of the wiring specified by the wiring specifying step and the step of adding the expanded wiring width are performed based on the wiring width expansion rate set for the specified obstacle. .

【0009】均等割付を実施する場合に円弧状の禁止領
域を設定する処理は、整形すべき配線と特定された障害
物との間に存在する配線を特定する配線特定ステップ
と、特定された障害物に設定された配線間隔拡大率によ
り、配線特定ステップにより特定された配線間の配線間
隔を拡大するステップと、拡大された配線間隔を加算す
るステップとにより実施されることが考えられる。
The process of setting an arc-shaped forbidden area when performing equal allocation includes a wiring specifying step for specifying a wiring existing between the wiring to be shaped and the specified obstacle, It is conceivable that the process is performed by a step of enlarging the wiring interval between the wirings specified in the wiring specifying step and a step of adding the expanded wiring interval based on the wiring interval enlarging rate set for the object.

【0010】設定された禁止領域の円弧のエッジが、整
形すべき配線の片側に存在する他の禁止領域からはみ出
している場合、最短経路が必要以上に迂回することもあ
るので、はみ出している場合には、上記の処理に加え、
当該はみ出している禁止領域の円弧の半径を、エッジが
はみ出さないように縮小する処理が必要となる。
When the edge of the arc of the set prohibited area protrudes from the other prohibited area existing on one side of the wiring to be shaped, the shortest path may detour more than necessary. In addition to the above processing,
It is necessary to reduce the radius of the arc of the protruding prohibition area so that the edge does not protrude.

【0011】整形対象配線の配線幅を拡大する場合に禁
止領域を設定する処理は、整形対象配線の1の側の境界
を決定するための禁止領域を設定するステップと、整形
対象配線の他の側の境界を決定するための禁止領域を設
定するステップとを含むようにする。このようにする
と、整形対象配線の両側の境界を、2つの禁止領域の各
々に対する最短経路により決定することができる。
The process of setting the prohibited area when the wiring width of the wiring to be shaped is enlarged includes the steps of setting a prohibited area for determining the boundary on the one side of the wiring to be shaped and the other steps of setting the prohibited area. Setting a prohibited area for determining a side boundary. In this way, the boundaries on both sides of the shaping target wiring can be determined by the shortest paths for each of the two prohibited areas.

【0012】障害物に設定される配線幅拡大率は、特定
された障害物と他の1の障害物の間のクリティカルカッ
トを横切る配線を考慮し、当該他の1の障害物に対する
配線幅拡大率の上限を決定するステップと、特定された
障害物からクリティカルカットが存在する障害物に対す
る配線幅拡大率の上限のうち最低のものを、特定された
障害物の配線幅拡大率として格納するステップとを実行
することにより決定されるようにすることも考えられ
る。
The wiring width enlargement rate set for the obstacle is determined by considering the wiring crossing the critical cut between the specified obstacle and the other one obstacle, and considering the wiring width expansion for the other one obstacle. Determining the upper limit of the rate, and storing the lowest of the upper limits of the wiring width expansion rate for the obstacle where the critical cut exists from the specified obstacle as the wiring width expansion rate of the specified obstacle May be determined by executing the following.

【0013】障害物に設定される配線間隔拡大率は、特
定された障害物と他の1の障害物との間のクリティカル
カットを横切る配線を考慮し、当該他の1の障害物に対
する配線間隔拡大率の上限を決定するステップと、特定
された障害物からクリティカルカットが存在する障害物
に対する配線間隔拡大率の上限のうち最低のものを、特
定された障害物の配線間隔拡大率として格納するステッ
プとを実行することにより決定されるようにすることも
考えられる。
The wiring interval enlargement factor set for an obstacle is determined by taking into account the wiring that crosses the critical cut between the specified obstacle and another one obstacle, and taking the wiring interval for the other one obstacle into consideration. Determining the upper limit of the enlargement ratio, and storing the lowest of the upper limit of the wiring interval expansion ratio for the obstacle having the critical cut from the specified obstacle as the wiring interval expansion ratio of the specified obstacle. It is also conceivable to make the determination by executing the steps.

【0014】本発明には、基板上の端子間の配線の均等
割付及び配線幅拡大のため、ある配線に対して障害物に
設定される円弧状の禁止領域の拡大された半径を決定す
る方法という他の態様も存在する。本方法は、まず、基
板の余剰空間を、配線幅の拡大に割り当てる割合と、配
線間隔の拡大に割り当てる割合とを指定し、1の障害物
と他の1の障害物との間のクリティカルカットを横切る
配線及びその配線間隔を考慮し、配線幅の拡大に割り当
てる割合で許される範囲において、当該他の1の障害物
に対する配線幅拡大率の上限と、配線間隔の拡大に割り
当てる割合で許される範囲において、当該他の1の障害
物に対する配線間隔拡大率の上限とを決定する。そし
て、1の障害物からクリティカルカットが存在する障害
物に対する配線幅拡大率の上限のうち最低のものを1の
障害物の配線幅拡大率として、また配線間隔拡大率の上
限のうち最低のものを1の障害物の配線間隔拡大率とし
て、格納する。また、ある配線と1の障害物との間に存
在する配線を特定し、1の障害物に設定された配線幅拡
大率により、特定された配線の幅を拡大する。さらに、
1の障害物に設定された配線間隔拡大率により、配線特
定ステップにより特定された配線間の間隔を拡大する。
最後に、特定された配線について、拡大された配線幅及
び拡大された配線間隔を加算し、1の障害物の禁止領域
の半径を決定する。配線幅を拡大する場合に、最後の加
算については、選択された障害物から整形対象配線に隣
接する配線間隔と、特定された配線の配線幅とを加算す
る第1ステップと、第1ステップの結果に整形対象配線
の拡大された配線幅を加算する第2ステップとを実施す
ると、整形対象配線の両側の境界を求めるのが簡単にな
る。
According to the present invention, there is provided a method for determining an enlarged radius of an arc-shaped forbidden area set as an obstacle for a certain wiring in order to uniformly allocate wiring between terminals on a substrate and to increase the wiring width. There exist other aspects. In this method, first, a ratio of allocating a surplus space of a substrate to an increase in wiring width and a ratio of allocating to an increase in wiring interval are specified, and a critical cut between one obstacle and another one obstacle is specified. In consideration of the wiring crossing and the wiring interval, the upper limit of the wiring width expansion ratio for the other one obstacle and the ratio allocated to the expansion of the wiring interval are allowed within a range allowed by the ratio allocated to the expansion of the wiring width. Within the range, the upper limit of the wiring interval enlargement ratio for the other obstacle is determined. Then, the lowest one of the upper limits of the wiring width expansion ratios for obstacles having a critical cut from one obstacle is defined as the wiring width expansion ratio of one obstacle, and the lowest one of the upper limits of the wiring interval expansion ratios. Is stored as the wiring interval enlargement ratio of one obstacle. Further, a wiring existing between a certain wiring and one obstacle is specified, and the width of the specified wiring is expanded by a wiring width expansion rate set for the one obstacle. further,
The interval between the wirings specified in the wiring specifying step is expanded by the wiring space expansion rate set for the one obstacle.
Finally, for the specified wiring, the enlarged wiring width and the enlarged wiring interval are added to determine the radius of the prohibited area of one obstacle. When enlarging the wiring width, for the last addition, a first step of adding a wiring interval adjacent to the shaping target wiring from the selected obstacle and a wiring width of the specified wiring, and By performing the second step of adding the enlarged wiring width of the wiring to be shaped to the result, it is easy to obtain the boundaries on both sides of the wiring to be shaped.

【0015】以上の処理を実施する装置や、以上の処理
をコンピュータに実行させるプログラムを作成すること
は、以下の説明を理解した当業者には容易に実施できる
事項である。また、以上の処理をコンピュータに実行さ
せるプログラムを記録媒体に格納するという事項も当業
者には自明である。
Creating an apparatus for performing the above-described processing and a program for causing a computer to execute the above-described processing can be easily performed by those skilled in the art who have understood the following description. Also, it is obvious to those skilled in the art that a program for causing a computer to execute the above processing is stored in a recording medium.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】基本的な処理フローを図1を用い
て説明する。先に述べたように位相配線は既に決定され
ているものとする。この位相配線を決定する方法を述べ
た文献には、W.Dai, T.Dayan,D.Staepelaere,"Topologi
cal Raiting in SURF: Generating aRuber-Band Skect
h," 28th DAC 1991, pp39-44などがある。位相配線の例
を図2に示す。まず、位相配線から物理配線へ整形すべ
き配線を1本選択する(ステップ12)。そして、この
整形対象配線を見通す障害物を特定する(ステップ1
4)。この「見通す」とは、障害物から整形対象配線が
他の端子等に遮蔽されず直接見えるということであり、
平面走査等の方法にて検出する。障害物によっては、整
形対象配線を1方向だけでなく、2以上の方向にて見通
すことのできる場合もある。このような場合には、見通
す方向により、整形対象配線と障害物の間に存在する配
線が異なる場合もあるので、見通す方向が異なれば異な
った障害物として扱う。なお、障害物には基板上の端子
及び端子以外の配線が禁止されている領域をも含む。こ
のステップ14にて特定された障害物のうち1つを選択
し、この障害物から処理を行う(ステップ16)。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A basic processing flow will be described with reference to FIG. It is assumed that the phase wiring has already been determined as described above. References describing how to determine this phase wiring include W. Dai, T. Dayan, D. Staepelelaere, "Topologi
cal Raiting in SURF: Generating aRuber-Band Skect
h, "28th DAC 1991, pp39-44, etc. An example of the phase wiring is shown in FIG. 2. First, one wiring to be shaped from the phase wiring to the physical wiring is selected (step 12). Identify obstacles that see through the target wiring (Step 1
4). This “see through” means that the wiring to be shaped is directly visible from the obstacle without being shielded by other terminals, etc.
It is detected by a method such as plane scanning. Depending on the obstacle, the shaping target wiring can be seen not only in one direction but also in two or more directions. In such a case, the wiring existing between the shaping target wiring and the obstacle may be different depending on the viewing direction. Therefore, the different viewing directions are treated as different obstacles. Note that the obstacle includes a terminal on the board and a region where wiring other than the terminal is prohibited. One of the obstacles specified in step 14 is selected, and processing is performed from this obstacle (step 16).

【0017】次に、整形対象配線と選択された障害物と
の間に最低限空けなければならない間隔の所定数倍とな
る間隔を半径とする円弧内を禁止領域として、選択され
た障害物に設定する(ステップ18)。最低限空けなけ
ればならない間隔は、整形対象配線と選択された障害物
との間にある配線により決定される。すなわち、整形対
象配線と選択された障害物の間にある配線の幅(配線
幅)と、その配線間の間隔(配線間隔)とを全て加算す
ることにより決定される。そして、本発明の一実施例と
しては、禁止領域を設定する障害物ごとに、配線幅拡大
率、又は配線間隔拡大率、又はそれら両方を設定してお
く。もし、配線幅だけ拡大するのであれば、配線幅拡大
率のみ設定すればよいし、配線間隔拡大率のみ拡大する
のであれば、配線間隔拡大率のみ設定すればよい。一般
的には両方設定する。配線間隔拡大率のみ設定されてい
る場合には、整形対象配線から選択された障害物の間に
ある全ての配線間隔を配線間隔拡大率により拡大し、拡
大された配線間隔を加算する。次に、設計ルールにて定
められる、整形対象配線から選択された障害物の間にあ
る全ての配線の配線幅を加算し、さらに整形対象配線の
配線幅の半分を加算する。そして、拡大された配線間隔
の加算されたものと、配線の加算されたものをさらに
加算したものが、ステップ18における所定数倍となる
間隔である。なお、整形対象配線の配線幅の半分を加算
するのは、後のステップにて求められる最短距離の経路
、整形対象配線の中心線とするためである。一方、配
線幅を拡大するためには、2種類の禁止領域の半径を計
算する必要がある。これは、配線の両側の境界を決定す
るためである。以下、配線幅及び配線間隔の拡大の場合
に必要な処理を説明する。なお、配線幅のみ拡大する場
合は、配線間隔を拡大しなければよい(配線間隔拡大率
を1とする)。
Next, a prohibited area is set within a circular arc having a radius that is a predetermined multiple of the minimum interval between the wiring to be shaped and the selected obstacle as a forbidden area. It is set (step 18). The minimum spacing required is determined by the wiring between the wiring to be shaped and the selected obstacle. That is, it is determined by adding all the widths (wiring widths) of the wirings between the shaping target wirings and the selected obstacle, and the intervals between the wirings (wiring intervals). Then, as an embodiment of the present invention, a wiring width expansion rate, a wiring interval expansion rate, or both are set for each obstacle for which a prohibited area is set. If only the wiring width is enlarged, only the wiring width enlargement ratio may be set. If only the wiring interval expansion ratio is enlarged, only the wiring interval enlargement ratio may be set. Generally, set both. If only the wiring interval enlargement ratio is set, all the wiring intervals between obstacles selected from the shaping target wiring are enlarged by the wiring interval enlargement ratio, and the enlarged wiring intervals are added. Next, the wiring widths of all the wirings between obstacles selected from the shaping target wirings determined by the design rule are added, and half of the wiring widths of the shaping target wirings are further added. The sum obtained by adding the expanded wiring interval and the added wiring width is a predetermined multiple of the interval in step 18. Note that the half of the wiring width of the shaping target wiring is added because the shortest distance route obtained in a later step is added.
Is set as the center line of the wiring to be shaped. On the other hand, in order to increase the wiring width, it is necessary to calculate the radii of two types of prohibited areas. This is to determine boundaries on both sides of the wiring. Hereinafter, processing required in the case of increasing the wiring width and the wiring interval will be described. When only the wiring width is increased, the wiring interval need not be increased (the wiring interval expansion rate is set to 1).

【0018】まず、図3に示すように、整形対象配線と
選択された障害物との間に存在する配線を特定し(ステ
ップ32)、選択された障害物に設定された配線幅拡大
率と配線間隔拡大率を検査する(ステップ34)。整形
対象配線と選択された障害物との間に存在する配線を特
定する方法は、先に述べた平面走査等の方法にて実施で
きる。そして、特定された配線の配線幅を配線幅拡大率
に従って拡大する(ステップ36)。また、特定された
配線の配線間隔を配線間隔拡大率に従って拡大する(ス
テップ38)。ここで、配線間隔には整形対象配線に隣
接する配線間隔も含む。ステップ36とステップ38は
順番の入れ替えは可能である。そして、最初に、拡大さ
れた全ての配線の配線幅と、拡大された拡大された配線
間隔を加算する(ステップ40)。これを半径1とす
る。これには、選択された障害物内部の所定の点(クリ
ティカルカットの始点又は終点となる点:障害物が円形
であれば円の中心)から障害物外部との境界との距離を
含む。また、このステップは、配線幅をまとめて加算
し、又配線間隔をまとめて加算した後、それらを加算す
るようにしてもよいし、選択された障害物から整形対象
配線の間に配置される配線の順に、間隔、配線幅、間
隔、配線幅、間隔と言ったように加算してもよい。そし
て、半径1に整形対象配線の配線幅を加算する(ステッ
プ42)。この整形対象配線の配線幅も先に検査された
配線幅拡大率によって拡大された配線幅である。これを
半径2とする。そして、半径1及び半径2を円弧状の禁
止領域の半径として用いる(ステップ44)。半径1
は、整形対象配線の、選択された障害物寄りの境界を表
わし、半径2は、その反対側の境界を表わす。
First, as shown in FIG. 3, a wiring existing between the wiring to be shaped and the selected obstacle is specified (step 32), and the wiring width expansion rate set for the selected obstacle is determined. The wiring interval enlargement ratio is inspected (step 34). The method of specifying the wiring existing between the shaping target wiring and the selected obstacle can be performed by the above-described method such as the plane scanning. Then, the wiring width of the specified wiring is enlarged according to the wiring width enlargement ratio (step 36). Further, the wiring interval of the specified wiring is enlarged according to the wiring interval enlargement ratio (step 38). Here, the wiring interval includes a wiring interval adjacent to the shaping target wiring. Steps 36 and 38 can be interchanged. Then, first, the wiring widths of all the enlarged wirings and the enlarged wiring intervals are added (step 40). This is defined as radius 1. This includes a distance from a predetermined point inside the selected obstacle (a point serving as a start point or an end point of the critical cut: the center of a circle if the obstacle is circular) to the boundary with the outside of the obstacle. In this step, the wiring widths may be added together, and the wiring intervals may be added together, and then added, or they may be arranged between the selected obstacle and the shaping target wiring. In the order of the wiring, the addition may be performed as in the following: interval, wiring width, interval, wiring width, interval. Then, the wiring width of the wiring to be shaped is added to the radius 1 (step 42). The wiring width of the wiring to be shaped is also the wiring width enlarged by the wiring width enlargement rate inspected earlier. This is radius 2. Then, the radius 1 and the radius 2 are used as the radius of the arc-shaped forbidden area (step 44). Radius 1
Represents the boundary of the wiring to be shaped near the selected obstacle, and the radius 2 represents the boundary on the opposite side.

【0019】以上のような処理をすれば、拡大された禁
止領域を、整形対象配線を見通す障害物に設定すること
ができる。しかし、適切な配線幅拡大率、配線間隔拡大
率でなければ、配線そのものが不可能になったり、不必
要に配線が迂回する場合も生じる。すなわち、図4
(a)のように、整形対象配線の左右の向かい合う禁止
領域が重なってしまうと、配線できなくなる。同様に、
図4(b)のように、禁止領域が配線の始点、終点に重
なっても、配線できなくなる。また、図4(c)のよう
に、設定した禁止領域の円弧のエッジが、整形対象配線
の1の側に存在する他の禁止領域からはみ出している場
合には、後のステップにおいて決定される端子間の最短
距離が必要以上に迂回してしまう場合がある。このよう
な問題が生じないように、配線幅拡大率、配線間隔拡大
率を設定すべきである。この配線幅拡大率、配線間隔拡
大率の決定方法については、以下に一例を詳述する。
By performing the above-described processing, the enlarged prohibited area can be set as an obstacle that can see through the shaping target wiring. However, unless the wiring width expansion rate and the wiring interval expansion rate are appropriate, the wiring itself may become impossible or the wiring may be unnecessarily bypassed. That is, FIG.
As shown in (a), if the right and left prohibited areas of the shaping target wiring overlap each other, wiring cannot be performed. Similarly,
As shown in FIG. 4B, even if the prohibited area overlaps the start point and the end point of the wiring, the wiring cannot be performed. Also, as shown in FIG. 4C, when the edge of the arc of the set prohibited area protrudes from another prohibited area existing on one side of the shaping target wiring, it is determined in a later step. The shortest distance between terminals may detour more than necessary. The wiring width enlargement ratio and the wiring interval enlargement ratio should be set so that such a problem does not occur. An example of the method of determining the wiring width expansion rate and the wiring interval expansion rate will be described in detail below.

【0020】図1に戻って、ステップ20に進むと、ス
テップ14において特定された全ての障害物を処理した
か判断する。この場合、本当に全ての障害物を処理して
もよいが、処理の高速化のために、整形対象配線から一
定の距離離れている場合にはその障害物を無視し、処理
すべき障害物を選別し、処理すべき障害物についてのみ
ステップ18を実行するようにすることもできる。選別
はステップ14にて行うこともできる。処理が終了して
いない場合には、ステップ16に戻る。処理が終了して
いれば、ステップ22に移行し、禁止領域を通過しない
ような最短経路を用いて整形対象配線の物理配線を決定
する。すなわち、配線間隔のみを拡大する場合には最短
経路が物理配線の中心線であり、配線幅を拡大する場合
には、図3にて求めた半径1についての最短経路と半径
2についての最短経路とにより、整形対象配線の物理配
線が決定される。例えば、図5のような禁止領域が設定
された場合(図5には本段落において述べた禁止領域を
設定し障害物も含む)、図2で示されたaという配線
を物理配線に整形するには、図6のように最短経路にて
端子間を結べばよい(図は配線間隔のみ拡大の場合)。
Returning to FIG. 1, when the process proceeds to step 20, it is determined whether all the obstacles specified in step 14 have been processed. In this case, all obstacles may be processed, but in order to speed up the processing, if a certain distance is left from the wiring to be shaped, the obstacle is ignored and the obstacle to be processed is ignored. Step 18 may be performed only for obstacles to be sorted and processed. Sorting can also be performed in step 14. If the processing has not been completed, the process returns to step S16. If the processing has been completed, the process proceeds to step 22, and the physical wiring of the wiring to be shaped is determined using the shortest path that does not pass through the prohibited area. That is, the shortest path is the center line of the physical wiring when only the wiring interval is increased, and the shortest path for radius 1 and the shortest path for radius 2 obtained in FIG. Thus, the physical wiring of the wiring to be shaped is determined. For example, when a prohibited area as shown in FIG. 5 is set (FIG. 5 includes an obstacle with the prohibited area described in this paragraph), the wiring a shown in FIG. 2 is shaped into a physical wiring. In this case, the terminals may be connected by the shortest route as shown in FIG.

【0021】そして、全ての配線を処理したか判断し
(ステップ24)、まだ処理すべき配線が残っている場
合には、ステップ12に戻る。処理すべき配線がないな
らば、処理を終了する(ステップ26)。このようにす
れば、位相配線が決定している場合、その位相配線を物
理配線に整形することができる。図2のような位相配線
を整形すると図7のようになる。図8は、禁止領域を拡
大する前に最短経路を結んだ場合を示す。図8と図7を
比較すると、均等割付が実施されていることが分かる
(もともと配線幅拡大は実施されていない)。
Then, it is determined whether or not all the wires have been processed (step 24). If there are wires to be processed, the process returns to step 12. If there is no wiring to be processed, the process ends (step 26). In this way, when the phase wiring is determined, the phase wiring can be shaped into the physical wiring. When the phase wiring as shown in FIG. 2 is shaped, it becomes as shown in FIG. FIG. 8 shows a case where the shortest route is connected before the prohibited area is enlarged. 8 and FIG. 7, it can be seen that the equal allocation is performed (the wiring width is not originally expanded).

【0022】では、配線幅拡大率及び配線間隔拡大率を
各障害物に設定する方法にて説明する。本実施例では図
1のステップ12の前に以下の処理を行うことにより各
障害物に設定する。ここでは均等割付、配線幅拡大を同
時に実行する場合を示すが、配線幅拡大又は均等割付の
みを行う場合には後に説明するパラメータを適切に設定
することで実施可能である。まず、配線間隔拡大率を
α、配線幅拡大率をβとする。αβそれぞれに障害物の
番号による添字を付ける。また、基板上の余分な空間を
配線間隔と配線幅にどのように割り振るかを示す変数を
c,Dw(但し、Dc+Dw≦1)とする。
In the following, a method of setting the wiring width expansion rate and the wiring interval expansion rate for each obstacle will be described. In this embodiment, each obstacle is set by performing the following processing before step 12 in FIG. Here, a case is shown in which the uniform allocation and the wiring width enlargement are performed simultaneously. However, when only the wiring width enlargement or the uniform allocation is performed, this can be performed by appropriately setting parameters described later. First, the wiring interval enlargement ratio is α, and the wiring width enlargement ratio is β. Each of αβ is given a subscript by the number of the obstacle. Variables indicating how to allocate an extra space on the substrate to the wiring interval and the wiring width are D c and D w (where D c + D w ≦ 1).

【0023】そして、図9のような処理を実施する。最
初に、先に述べた変数を決定する(ステップ52)。す
なわち、Dc,DwをDc+Dw≦1を満たすようにユーザ
に入力させる。ユーザは、配線間隔のみを拡大させる場
合にはDwを0に設定し、Dcを1以下の数字に設定すれ
ばよい。また、配線幅のみを拡大させる場合にはDc
0に設定し、Dwを1以下の数字に設定すればよい。1
以下とあるのは、基板上の余分な空間を全て、配線幅及
び配線間隔、配線間隔、又は配線幅に割り当てる必要は
ないからである。次に、各拡大率を設定する障害物iを
選択する(ステップ54)。そして、この障害物iとの
間にクリティカルカットの存在する障害物jを選択する
(ステップ56)。クリティカルカットとは、2つの物
体間を最短距離で結ぶ線分を言う。この処理は、障害物
iから平面走査を実施すれば、相手方の障害物jを見つ
けることができる。そして、障害物jとの関係で上限と
なるαi,βiを計算する(ステップ58)。このαi
βiの計算は以下に詳述する。
Then, a process as shown in FIG. 9 is performed. First, the variables described above are determined (step 52). That is, the user is made to input D c and D w so as to satisfy D c + D w ≦ 1. The user, in the case of only an enlarged wire spacing sets the D w 0 may be set D c to less than one digit. Also, the D c in the case of expanding only the wire width is set to 0, may be set D w to less than one digit. 1
This is because it is not necessary to allocate all the extra space on the substrate to the wiring width and the wiring interval, the wiring interval, or the wiring width. Next, an obstacle i for setting each enlargement factor is selected (step 54). Then, an obstacle j having a critical cut between the obstacle j and the obstacle i is selected (step 56). The critical cut is a line segment connecting the two objects at the shortest distance. In this process, if a plane scan is performed from the obstacle i, the obstacle j of the other party can be found. Then, α i and β i that are the upper limits in relation to the obstacle j are calculated (step 58). This α i ,
The calculation of β i is described in detail below.

【0024】クリティカルカットが決まると、そのクリ
ティカルカットを通過する配線を特定することができ
る。この配線を特定する処理は、障害物と整形対象配線
の間の配線を特定する処理と同様の方法にて実施でき
る。このように配線を特定すると、配線幅の総和と配線
間隔の総和が導き出され、それぞれWij,Cijとする。
また、障害物が端子とするとそれぞれの半径をRi,Rj
とし(障害物内の所定の点(クリティカルカットの始点
又は終点)から、障害物外部の境界とクリティカルカッ
トとの交差する点までの長さ)、障害物iと障害物jの
間のクリティカルカットCCijの長さをlength(CCij)
とすると、クリティカルカットに関する余分な長さ(間
隔)SSijは、以下のとおりになる。 SSij=length(CCij)−Ri−Rj−Wij−Cij このSSijを先に設定したDc,Dwの割合で配線間隔と
配線幅に分配すると、αi,βiの上限は次のようにな
る。 αi=(Dc * SSij +Cij)/Cij βi=(Dw * SSij +Wij)/Wij
When a critical cut is determined, a wiring passing through the critical cut can be specified. The processing for specifying the wiring can be performed by the same method as the processing for specifying the wiring between the obstacle and the wiring to be shaped. When the wiring is specified in this manner, the total of the wiring width and the total of the wiring intervals are derived, and are respectively referred to as Wij and Cij.
If the obstacle is a terminal, the respective radii are Ri, Rj.
(A length from a predetermined point in the obstacle (a start point or an end point of the critical cut) to a point where the boundary outside the obstacle and the critical cut intersect), and a critical cut between the obstacle i and the obstacle j Length of CCij is length (CCij)
Then, the extra length (interval) SSij related to the critical cut is as follows. SSij = length (CCij) -Ri- Rj-Wij-Cij D c set this SSij earlier, when distributed to the wiring width and the wiring interval in a ratio of D w, alpha i, the upper limit of the beta i are as follows Become. α i = (D c * SS ij + C ij) / C ij β i = (D w * SS ij + W ij) / W ij

【0025】このような計算によって求められたαi
βiは、障害物jとの関係においては図4(a)のよう
な状況を生じないような拡大率である。また、障害物j
が端子でそこから配線(配線幅がwj)が出ている場合
に、図4(b)のような状況を生じないような拡大率に
するには、以下のような計算が必要がある。すなわち余
分な間隔SS'ijは、 SS'ij=length(CCij)−Ri−wj/2−Wij−Cij となり、αi,βiの上限は以下のとおりである。αi
(Dc * SS'ij +Cij)/Cij βi=(Dw * SS'ij +Wij+wj/2)/(Wij+w
j/2)
[0027] α i ,
β i is an enlargement factor that does not cause the situation shown in FIG. 4A in relation to the obstacle j. Also, obstacle j
Is a terminal, and a wiring (with a wiring width of wj) comes out from the terminal, the following calculation is required to obtain an enlargement factor that does not cause the situation as shown in FIG. 4B. That is, the extra interval SS'ij is as follows: SS'ij = length (CCij) -Ri-wj / 2-Wij-Cij, and the upper limits of α i and β i are as follows. α i =
(D c * SS'ij + Cij) / Cij β i = (D w * SS'ij + Wij + wj / 2) / (Wij + w
j / 2)

【0026】図4(b)の場合、端子の中心からwj/
2だけ禁止領域が小さければ障害物jから配線1本は引
く事ができるため、上述のようなSS'ijになる。すな
わち、障害物jから配線1本引くことができるような幅
を必要最小限度の間隔として確保すればよい。
In the case of FIG. 4B, wj /
If the forbidden area is small by two, one wire can be drawn from the obstacle j, so that SS′ij is as described above. That is, it is sufficient to secure a width that allows one wire to be drawn from the obstacle j as the minimum necessary interval.

【0027】以上のような場合分けをし、障害物jに対
する障害物iのαi,βiの上限を計算する。そして、こ
の計算結果がこれ以前に計算した障害物iのαi,βi
り小さければ、この計算結果を保持し、そうでなけれ
ば、現在保持している値を保持し続ける(ステップ6
0)。すべての障害物jについてのαi,βiを保持して
おき、後にその中から最小の値を用いてもよいが、計算
するごとに更新する方が記憶容量が小さくて済む。ま
た、最小の値を用いるのは、それ以上の値を用いると図
4(a)又は(b)のような状態をどこかで生じてしま
うかもしれないからである。
By dividing the cases as described above, the upper limits of α i and β i of the obstacle i with respect to the obstacle j are calculated. Then, alpha i of the obstacle i, the calculation result is previously calculated this, smaller than beta i, holds the calculation result, otherwise, it continues to hold the value currently held (Step 6
0). Although α i and β i for all obstacles j may be held and the minimum value may be used later, updating the calculation every time the calculation is performed requires a smaller storage capacity. The reason why the minimum value is used is that if a value higher than the minimum value is used, a state as shown in FIG. 4A or 4B may occur somewhere.

【0028】ここまでの処理が済むと、障害物iからの
クリティカルカットをすべて処理したか判断する(ステ
ップ62)。処理していなければ、ステップ56に戻
る。処理していれば、保持しているαi,βiを障害物i
の配線間隔拡大率及び配線幅拡大率として用いる(ステ
ップ64)。そして、以上の処理を全ての障害物iにつ
いて実施する(ステップ66、68)。
After the above processing is completed, it is determined whether all the critical cuts from the obstacle i have been processed (step 62). If not, the process returns to step 56. If it has been processed, the stored α i and β i are replaced with the obstacle i
(Step 64). Then, the above processing is performed for all obstacles i (steps 66 and 68).

【0029】以上のような処理にて、各障害物には配線
間隔拡大率及び配線幅拡大率が設定される。なお、上述
した式より、配線幅のみ拡大する場合には配線間隔拡大
率は1となり、均等割付のみ行う場合には配線幅拡大率
は1となる。
In the above-described processing, the wiring space expansion ratio and the wiring width expansion ratio are set for each obstacle. From the above equation, when only the wiring width is enlarged, the wiring interval enlargement ratio is 1, and when only the equal allocation is performed, the wiring width expansion ratio is 1.

【0030】図9の処理を実施すると、図4に示した禁
止領域の拡大において不都合が生じる(a)(b)の場
合については対応することができた。しかし、(c)の
場合については図9の処理では対応できない。よって、
図1のステップ20を実施する前に、整形対象配線の各
片側について、禁止領域の円弧のエッジが他の禁止領域
からはみ出していないか検査する。そして、はみ出して
いる禁止領域については、他の禁止領域の円弧に合わせ
て当該禁止領域の半径を縮小する。そうすると、図4
(c)のような事態を生じなくなる。
When the processing of FIG. 9 is performed, it is possible to cope with the cases (a) and (b) where inconvenience occurs in enlarging the prohibited area shown in FIG. However, the case of (c) cannot be handled by the processing of FIG. Therefore,
Before performing step 20 in FIG. 1, it is checked whether the edge of the arc of the prohibited area does not protrude from the other prohibited area on each side of the wiring to be shaped. Then, for the protruding prohibited area, the radius of the prohibited area is reduced in accordance with the arc of another prohibited area. Then, FIG.
The situation as shown in (c) does not occur.

【0031】なお、この検査の方法としては、配線され
る2つの端子のうち1つの端子側からもう1つの端子
へ、他の禁止領域からはみ出しているような円弧のエッ
ジを探し、もう1つの端子側に到達したならば、もう1
つの端子側から1つの端子側へ同様に探索する方法が考
えられる。図4(c)で説明すると、整形対象配線の左
側の下側から上側に探索する時、網掛けされた禁止領域
の円弧の右エッジ(円弧の中心から見た場合)がはみ出
しているのが分かる。そして、上側から下側に探索し
て、はみ出している円弧のエッジを検査する。この場
合、網掛けされた禁止領域の円弧のエッジは片側だけし
かはみ出していないので、上側から下側の探索でははみ
出している円弧のエッジは見つからない。次に整形対象
配線の右側の下側から上側、上側から下側に探索する。
この場合には何も見つからない。
As a method of this inspection, an edge of a circular arc protruding from another prohibited area is searched for from one terminal side to another terminal of the two terminals to be wired. If you reach the terminal side,
A method of similarly searching from one terminal side to one terminal side can be considered. Explaining with reference to FIG. 4C, when searching from the lower left side to the upper side of the shaping target wiring, the right edge (when viewed from the center of the arc) of the arc of the shaded prohibited area is protruding. I understand. Then, the search is performed from the upper side to the lower side, and the edge of the protruding arc is inspected. In this case, since the edge of the arc of the shaded prohibited area protrudes only on one side, the protruding arc edge cannot be found in the search from the upper side to the lower side. Next, a search is performed from the lower right side of the shaping target wiring to the upper side and from the upper side to the lower side.
In this case nothing is found.

【0032】以上本発明の一実施例を説明したが、本発
明はこれに限定されるものではない。例えば、上の説明
では全障害物に対し配線間隔拡大率及び配線幅拡大率を
設定し、全配線について均等割付、配線幅拡大を実施す
るようにしているが、特定の1の配線に関係する障害物
にのみ拡大された禁止領域を設定することも可能であ
る。また、図9の処理は図1のステップ12の前に実施
することになっているが、ステップ18の前に実施して
も同様である。
Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this. For example, in the above description, the wiring interval expansion ratio and the wiring width expansion ratio are set for all the obstacles, and the equal allocation and the wiring width expansion are performed for all the wirings. It is also possible to set a prohibited area enlarged only for obstacles. Further, the processing in FIG. 9 is to be performed before step 12 in FIG. 1, but the same applies to the processing before step 18.

【0033】本発明は、以上述べた処理を実行する装置
や、コンピュータに以上述べた各ステップを実行させる
プログラムにて実現可能である。例えば、コンピュータ
には図10に示したようなものが考えられる。バス94
にはメインメモリ80、中央演算装置CPU82、マウ
スやキーボードを含む入力装置84、モデムなどを含む
通信装置86、ハードディスク・ドライブHDD88、
CRTや液晶表示装置を含む表示装置90、プリンタ9
2等が接続されている。光磁気ディスク(MO)やフロ
ッピーディスク・ドライブFDD等の補助記憶装置を接
続してもよい。このようなコンピュータにて上述の各ス
テップを実行するようなプログラムはHDD88に格納
されており、端子位置、位相配線の経路等の基板上の情
報も同様である。また、プログラム及び基板上の情報は
メインメモリ80にロードされ、CPU82にて実行さ
れる。Dc,Dw等のパラメータは入力装置84にて指定
される。実行の結果は表示装置90に表示されたり、プ
リンタ92に出力される。実行結果はHDD88にも格
納し、後に必要な時に取り出すことができようにする。
通信装置86は、基板上の情報や、プログラム自体を図
10のコンピュータに遠隔地より入力したり、実行結果
を実行を命じた遠隔地等に出力するために用いる。以上
の構成は一例であり、特に通信装置86は任意であり、
このような装置が存在していなくとも問題はない。ま
た、本発明の前提は位相配線が決定されていることであ
ったので示していないが、基板上の端子位置やどの端子
間を接続するのか等の情報から、位相配線を決定するよ
うなプログラムをHDD88に格納し、そのプログラム
をCPU82にて実行し、その実行結果をHDD88に
格納するようにすることも可能である。
The present invention can be realized by an apparatus that executes the above-described processing and a program that causes a computer to execute the above-described steps. For example, the computer shown in FIG. 10 can be used. Bus 94
A main memory 80, a central processing unit CPU 82, an input device 84 including a mouse and a keyboard, a communication device 86 including a modem, a hard disk drive HDD 88,
Display device 90 including CRT and liquid crystal display device, printer 9
2 etc. are connected. An auxiliary storage device such as a magneto-optical disk (MO) or a floppy disk drive FDD may be connected. A program for executing each of the above-described steps by such a computer is stored in the HDD 88, and the same applies to information on the board such as a terminal position and a phase wiring path. The program and the information on the board are loaded into the main memory 80 and executed by the CPU 82. D c, parameters such as D w is designated by the input device 84. The result of the execution is displayed on the display device 90 or output to the printer 92. The execution result is also stored in the HDD 88 so that it can be retrieved later when necessary.
The communication device 86 is used for inputting information on the board and the program itself from a remote location to the computer shown in FIG. 10 and outputting an execution result to a remote location where execution has been ordered. The above configuration is an example, and especially the communication device 86 is optional.
There is no problem even if such a device does not exist. Although not shown because the premise of the present invention is that the phase wiring has been determined, a program that determines the phase wiring from information such as terminal positions on the board and which terminals are to be connected is described. May be stored in the HDD 88, the program may be executed by the CPU 82, and the execution result may be stored in the HDD 88.

【0034】また、以上述べた処理を実行する装置の一
例は図11に示している。端子などの障害物位置及び大
きさ、位相配線の経路等の基板上の情報を記憶する基板
情報格納装置100は、各障害物に設定する配線幅拡大
率及び配線間隔拡大率を計算する拡大率設定プロセッサ
110と、設定された拡大率により禁止領域領域を設定
する禁止領域設定プロセッサ120とに接続されてい
る。そして、禁止領域設定プロセッサ120は最短経路
決定デバイス130に接続されている。この拡大率設定
プロセッサ110は、予め基板情報格納装置100に記
憶された基板情報を用いて各障害物に設定する配線幅拡
大率及び配線間隔拡大率を計算し、その結果を基板情報
格納装置100に格納する。そして、禁止領域設定プロ
セッサ120は、配線セレクタ122にて処理する配線
を選択し、障害物検出器124にて処理する配線を見通
す障害物を検出する。その後、禁止領域設定器126
が、障害物に、障害物と配線との間に最低限明けなけれ
ばならない間隔の所定数倍となる半径を有する円弧状の
禁止領域を設定する。この処理には、拡大率設定プロセ
ッサによって各障害物に設定された配線間隔拡大率及び
配線幅拡大率を用いて行う。また、段落番号0030及
び0031に記載の処理も行う。このような禁止領域が
設定されると、最短経路決定デバイス130にて禁止領
域を通過しないような最短経路を検出し、それを用いて
物理配線を決定する。最短経路決定デバイス130は、
図4(c)に対応するような上述の処理も実行する。
FIG. 11 shows an example of an apparatus for executing the above-described processing. The board information storage device 100 that stores information on the board such as the position and size of an obstacle such as a terminal, the path of a phase wiring, and the like, calculates a wiring width expansion rate and a wiring interval expansion rate set for each obstacle. It is connected to a setting processor 110 and a prohibited area setting processor 120 that sets a prohibited area area based on the set enlargement ratio. The prohibited area setting processor 120 is connected to the shortest path determining device 130. The enlargement ratio setting processor 110 calculates the wiring width enlargement ratio and the wiring interval enlargement ratio to be set for each obstacle using the board information stored in the board information storage device 100 in advance, and stores the calculation result in the board information storage device 100. To be stored. Then, the prohibited area setting processor 120 selects a wiring to be processed by the wiring selector 122 and detects an obstacle that sees through the wiring to be processed by the obstacle detector 124. Thereafter, the prohibited area setting device 126
Sets an arc-shaped forbidden area having a radius that is a predetermined number of times a minimum distance between the obstacle and the wiring. This process is performed using the wiring interval expansion rate and the wiring width expansion rate set for each obstacle by the expansion rate setting processor. Further, the processing described in paragraph numbers 0030 and 0031 is also performed. When such a prohibited area is set, the shortest path determining device 130 detects the shortest path that does not pass through the prohibited area, and uses it to determine the physical wiring. The shortest path determination device 130
The processing described above corresponding to FIG. 4C is also performed.

【0035】図11は、本発明を装置にした場合の一例
であって、他の構成も可能である。例えば、処理の要素
として図示したものが必要であるが、接続関係、処理の
ブロック分け等は図11に限定されなくとも目的の処理
は実行可能である。また、本発明の前提は位相配線が決
定されていることであったので、基板情報格納装置10
0に当該情報が格納されていることにしたが、基板上の
端子の位置やどの端子間を接続するなどの情報から位相
配線を決定するための処理装置を設けることも可能であ
る。
FIG. 11 shows an example in which the present invention is applied to an apparatus, and other configurations are possible. For example, what is illustrated is necessary as a processing element, but the target processing can be executed even if the connection relation, the block division of the processing, and the like are not limited to FIG. Further, since the premise of the present invention is that the phase wiring is determined, the board information storage device 10
Although the information is stored in 0, it is also possible to provide a processing device for determining the phase wiring from information such as the positions of the terminals on the board and which terminals are connected.

【0036】[0036]

【効果】以上述べたように、配線領域を有効に使える自
由角度配線を採用しつつ、余裕のある部分では配線間
隔、配線幅を拡大する方法を提供することができた。
As described above, it is possible to provide a method of increasing the wiring interval and the wiring width in a portion where there is room while using the free-angle wiring which can effectively use the wiring area.

【0037】また、配線結果としてできたプリント基板
等の歩留り、電気特性を向上させることもできる。
Further, the yield and electric characteristics of a printed circuit board or the like formed as a result of wiring can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の処理のフローを示した図である。FIG. 1 is a diagram showing a processing flow of the present invention.

【図2】位相配線の例を示した図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a phase wiring.

【図3】図1ステップ18の詳細な処理のフローを示し
た図である。
FIG. 3 is a diagram showing a detailed processing flow of step 18 in FIG. 1;

【図4】禁止領域拡大で問題が生ずる例を示した図であ
る。
FIG. 4 is a diagram illustrating an example in which a problem occurs when a prohibited area is enlarged.

【図5】図2の場合に、禁止領域を設定した場合を示す
図である。
FIG. 5 is a diagram showing a case where a prohibited area is set in the case of FIG. 2;

【図6】図5の禁止領域に応じて1本物理配線を実施し
た場合を示す図である。
6 is a diagram illustrating a case where one physical wiring is implemented according to a prohibited area in FIG. 5;

【図7】図2の全配線を物理配線に整形した後の図であ
る。
FIG. 7 is a diagram after all wirings of FIG. 2 have been shaped into physical wirings.

【図8】図2の全配線を、禁止領域の拡大を行わずに物
理配線に整形した後の図である。
FIG. 8 is a diagram after all wirings of FIG. 2 have been shaped into physical wirings without enlarging a prohibited area.

【図9】配線幅拡大率及び配線間隔拡大率計算の一例を
示す図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of calculation of a wiring width enlargement ratio and a wiring interval enlargement ratio.

【図10】コンピュータの構成の一例を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an example of a configuration of a computer.

【図11】本発明を実行する装置の一例を示す図であ
る。
FIG. 11 is a diagram illustrating an example of an apparatus that executes the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 基板情報格納装置 110 拡大率設定プ
ロセッサ 120 禁止領域設定プロセッサ 122 配線セレクタ 124 障害物検出器 126 禁止領域設定器 130 最短経路決定デバイス
REFERENCE SIGNS LIST 100 board information storage device 110 enlargement ratio setting processor 120 prohibited area setting processor 122 wiring selector 124 obstacle detector 126 prohibited area setting unit 130 shortest path determination device

フロントページの続き (72)発明者 江藤 博明 神奈川県大和市下鶴間1623番地14 日本 アイ・ビー・エム株式会社 東京基礎研 究所内 (56)参考文献 特開 平10−198722(JP,A) 特開 平10−63697(JP,A) 特開 平9−153083(JP,A) 特開 平5−40808(JP,A) 特開 昭61−94395(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/82 G06F 17/50 658 Continuation of front page (72) Inventor Hiroaki Eto 1623-14 Shimotsuruma, Yamato-shi, Kanagawa Prefecture IBM Japan, Ltd. Tokyo Research Laboratory (56) References JP-A-10-198722 (JP, A) JP-A-10-63697 (JP, A) JP-A-9-153083 (JP, A) JP-A-5-40808 (JP, A) JP-A-61-94395 (JP, A) (58) Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/82 G06F 17/50 658

Claims (16)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】端子又は障害物に対する位相的な位置関係
のみが決定されている結線経路である、基板上の端子間
の位相配線を、前記基板上の物理的位置が決定されてい
る配線である物理配線に整形する配線整形方法であっ
て、 整形すべき配線を選択するステップと、 前記整形すべき配線を見通す障害物を特定するステップ
と、 前記整形すべき配線と特定された前記障害物との間に最
低限空けなければならない間隔の所定数倍となる間隔を
半径とする円弧内を禁止領域として前記特定された障害
物に設定する禁止領域設定ステップと、 前記禁止領域内を通過しないような最短経路を検出し、
当該最短経路を用いて前記整形すべき配線の物理配線を
決定するステップとを含む配線整形方法。
1. A phase wiring between terminals on a board, which is a connection path for which only a topological positional relationship with respect to a terminal or an obstacle is determined, is a wiring whose physical position on the board is determined. A wiring shaping method for shaping into a certain physical wiring, wherein a step of selecting a wiring to be shaped, a step of specifying an obstacle that sees through the wiring to be shaped, and the obstacle specified as the wiring to be shaped A prohibited area setting step of setting the specified obstacle as a prohibited area within an arc having a radius that is a predetermined number of times as long as the minimum distance that must be left between the prohibited area, and not passing through the prohibited area. Detect the shortest path such as
Determining a physical wiring of the wiring to be shaped using the shortest path.
【請求項2】前記禁止領域設定ステップが、 前記整形すべき配線と前記特定された障害物との間に存
在する配線を特定する配線特定ステップと、 前記特定された障害物に設定された配線幅拡大率によ
り、前記配線特定ステップにより特定された配線の配線
幅を拡大するステップと、 拡大された配線幅を加算するステップとを含む請求項1
記載の配線整形方法。
2. The prohibited area setting step includes: a wiring specifying step of specifying a wiring existing between the wiring to be shaped and the specified obstacle; and a wiring set to the specified obstacle. 2. The method according to claim 1, further comprising: a step of enlarging a wiring width of the wiring specified in the wiring specifying step based on a width expansion rate; and a step of adding the expanded wiring width.
The wiring shaping method described.
【請求項3】前記禁止領域設定ステップが、 前記整形すべき配線と前記特定された障害物との間に存
在する配線を特定する配線特定ステップと、 前記特定された障害物に設定された配線間隔拡大率によ
り、前記配線特定ステップにより特定された配線間の配
線間隔を拡大するステップと、 拡大された配線間隔を加算するステップとを含む請求項
1記載の配線整形方法。
3. The prohibited area setting step includes: a wiring specifying step of specifying a wiring existing between the wiring to be shaped and the specified obstacle; and a wiring set to the specified obstacle. 2. The wiring shaping method according to claim 1, further comprising: increasing a wiring interval between the wirings specified in the wiring specifying step based on an interval expansion rate; and adding the expanded wiring interval. 3.
【請求項4】前記禁止領域設定ステップにより設定され
た禁止領域の円弧のエッジが、前記整形すべき配線の片
側に存在する他の禁止領域からはみ出していないか検査
するステップと、 はみ出している場合には、当該はみ出している禁止領域
の円弧の半径を、前記エッジがはみ出さないように縮小
するステップとをさらに含む請求項1記載の配線整形方
法。
4. A step of inspecting whether or not the edge of the arc of the prohibited area set in the prohibited area setting step does not protrude from another prohibited area existing on one side of the wiring to be shaped. 2. The wiring shaping method according to claim 1, further comprising: reducing the radius of the arc of the protruding prohibition region so that the edge does not protrude.
【請求項5】前記整形対象配線の配線幅を拡大する場合
には、前記禁止領域設定ステップが、 前記整形対象配線の1の側の境界を決定するための禁止
領域を設定するステップと、 前記整形対象配線の他の側の境界を決定するための禁止
領域を設定するステップとを含む請求項1記載の配線整
形方法。
5. When the wiring width of the wiring to be shaped is increased, the prohibited area setting step sets a prohibited area for determining a boundary on one side of the wiring to be shaped; Setting a prohibited area for determining a boundary on the other side of the wiring to be shaped.
【請求項6】前記配線幅拡大率は、 前記特定された障害物と他の1の障害物の間のクリティ
カルカットを横切る配線を考慮し、当該他の1の障害物
に対する配線幅拡大率の上限を決定するステップと、 前記特定された障害物からクリティカルカットが存在す
る障害物に対する前記配線幅拡大率の上限のうち最低の
ものを、前記特定された障害物の配線幅拡大率として格
納するステップとを実行することにより決定されること
を特徴とする請求項2記載の配線整形方法。
6. The wiring width enlarging ratio is determined by taking into account wiring crossing a critical cut between the identified obstacle and another one obstacle, and calculating the wiring width enlarging ratio for the other one obstacle. Determining an upper limit, and storing, as the wiring width expansion rate of the specified obstacle, the lowest one of the upper limits of the wiring width expansion rate for the obstacle having the critical cut from the specified obstacle. 3. The wiring shaping method according to claim 2, wherein the wiring shaping method is determined by executing the following steps.
【請求項7】前記配線間隔拡大率は、 前記特定された障害物と他の1の障害物との間のクリテ
ィカルカットを横切る配線を考慮し、当該他の1の障害
物に対する配線間隔拡大率の上限を決定するステップ
と、 前記特定された障害物からクリティカルカットが存在す
る障害物に対する前記配線間隔拡大率の上限のうち最低
のものを、前記特定された障害物の配線間隔拡大率とし
て格納するステップとを実行することにより決定される
ことを特徴とする請求項3記載の配線整形方法。
7. The wiring interval enlarging ratio for the other one obstacle in consideration of wiring crossing a critical cut between the identified obstacle and another one of the obstacles. Determining the upper limit of, and storing, as the wiring interval expansion rate of the specified obstacle, the lowest one of the upper limits of the wiring interval expansion rate for the obstacle having the critical cut from the specified obstacle. 4. The wiring shaping method according to claim 3, wherein the determination is made by performing the following steps.
【請求項8】基板上の端子間の配線の均等割付及び配線
幅拡大のため、ある配線に対して障害物に設定される円
弧状の禁止領域の拡大された半径を決定する禁止領域半
径決定方法であって、 前記基板の余剰空間を、配線幅の拡大に割り当てる割合
と、配線間隔の拡大に割り当てる割合とを指定するステ
ップと、 1の障害物と他の1の障害物との間のクリティカルカッ
トを横切る配線及びその配線間隔を考慮し、前記配線幅
の拡大に割り当てる割合で許される範囲において、当該
他の1の障害物に対する配線幅拡大率の上限と、前記配
線間隔の拡大に割り当てる割合で許される範囲におい
て、当該他の1の障害物に対する配線間隔拡大率の上限
とを決定するステップと、 前記1の障害物からクリティカルカットが存在する障害
物に対する前記配線幅拡大率の上限のうち最低のものを
前記1の障害物の配線幅拡大率として、また前記配線間
隔拡大率の上限のうち最低のものを前記1の障害物の配
線間隔拡大率として、格納するステップと、 ある配線と前記1の障害物との間に存在する配線を特定
する配線特定ステップと、 前記1の障害物に設定された前記配線幅拡大率により、
前記配線特定ステップにより特定された配線の幅を拡大
するステップと、 前記1の障害物に設定された前記配線間隔拡大率によ
り、前記配線特定ステップにより特定された配線間の間
隔を拡大するステップと、 前記配線特定ステップにより特定された配線について、
拡大された配線幅及び拡大された配線間隔を加算し、前
記1の障害物の禁止領域の半径を決定するステップとを
含む禁止領域半径決定方法。
8. A forbidden area radius determination for determining an enlarged radius of an arc-shaped forbidden area set as an obstacle for a certain wiring in order to equally allocate wiring between terminals on a substrate and to increase wiring width. A method of designating a ratio of allocating a surplus space of the substrate to an increase in wiring width and a ratio of allocating to an increase in wiring interval, the method comprising: specifying a ratio between one obstacle and another obstacle. In consideration of the wiring crossing the critical cut and the wiring interval, the upper limit of the wiring width expansion ratio for the other obstacle and the expansion of the wiring interval are allocated within a range allowed by the ratio allocated to the expansion of the wiring width. Determining an upper limit of the wiring interval enlargement ratio for the other one of the obstacles within a range allowed by the ratio; and determining the upper limit of the obstacle for which a critical cut exists from the one of the obstacles. The lowest one of the upper limits of the line width expansion rate is the wiring width expansion rate of the one obstacle, and the lowest one of the upper limits of the wiring interval expansion rate is the wiring interval expansion rate of the one obstacle. Storing the wiring, a wiring specifying step of specifying a wiring existing between a certain wiring and the one obstacle, and the wiring width expansion rate set to the one obstacle,
Enlarging the width of the wiring specified by the wiring specifying step; and enlarging an interval between the wirings specified by the wiring specifying step by the wiring interval expansion rate set to the one obstacle. The wiring specified in the wiring specifying step,
Adding the expanded wiring width and the expanded wiring interval to determine the radius of the prohibited area of the one obstacle.
【請求項9】端子又は障害物に対する位相的な位置関係
のみが決定されている結線経路である、基板上の端子間
の位相配線を、前記基板上の物理的位置が決定されてい
る配線である物理配線に整形する配線整形装置であっ
て、 整形すべき配線を選択するセレクタと、 前記整形すべき配線を見通す障害物を特定する検出器
と、 前記整形すべき配線と特定された前記障害物との間に最
低限空けなければならない間隔の所定数倍となる間隔を
半径とする円弧内を禁止領域として前記特定された障害
物に設定する禁止領域設定処理デバイスと、 前記禁止領域内を通過しないような最短経路を検出し、
当該最短経路を用いて前記整形すべき配線の物理配線を
決定する物理配線決定デバイスとを含む配線整形装置。
9. A phase wiring between terminals on a board, which is a connection path in which only a topological positional relationship with respect to a terminal or an obstacle is determined, is a wiring whose physical position on the board is determined. What is claimed is: 1. A wiring shaping device for shaping into a certain physical wiring, comprising: a selector for selecting a wiring to be shaped; a detector for identifying an obstacle that sees through the wiring to be shaped; and the obstacle identified as the wiring to be shaped. A prohibited area setting processing device for setting the specified obstacle as an prohibited area within an arc having a radius that is a predetermined number of times as long as a predetermined interval of a minimum distance between the object and the prohibited area; Detect the shortest path that does not pass,
And a physical wiring determination device that determines a physical wiring of the wiring to be shaped using the shortest path.
【請求項10】前記禁止領域設定処理デバイスが、 前記整形すべき配線と前記特定された障害物との間に存
在する配線を特定する配線特定手段と、 前記特定された障害物に設定された配線幅拡大率によ
り、前記配線特定手段により特定された配線の配線幅を
拡大する手段と、 拡大された配線幅を加算する手段とを含む請求項9記載
の配線整形装置。
10. A prohibited area setting processing device, comprising: wiring specifying means for specifying wiring existing between the wiring to be shaped and the specified obstacle; and setting the wiring to the specified obstacle. 10. The wiring shaping apparatus according to claim 9, further comprising: means for expanding the wiring width of the wiring specified by the wiring specifying means by a wiring width expansion rate; and means for adding the expanded wiring width.
【請求項11】前記禁止領域設定処理デバイスが、 前記整形すべき配線と前記特定された障害物との間に存
在する配線を特定する配線特定手段と、 前記特定された障害物に設定された配線間隔拡大率によ
り、前記配線特定手段により特定された配線間の配線間
隔を拡大する手段と、 拡大された配線間隔を加算する手段とを含む請求項9記
載の配線整形装置。
11. A prohibited area setting processing device, comprising: wiring specifying means for specifying a wiring existing between the wiring to be shaped and the specified obstacle; and setting the wiring to the specified obstacle. 10. The wiring shaping apparatus according to claim 9, further comprising: means for expanding a wiring interval between the wirings specified by the wiring specifying means, and means for adding the expanded wiring interval based on a wiring interval expansion rate.
【請求項12】前記禁止領域設定処理デバイスにより設
定された禁止領域の円弧のエッジが、前記整形すべき配
線の1の側に存在する他の禁止領域からはみ出していな
いか検査する検出器と、 はみ出している場合には、当該はみ出している禁止領域
の円弧の半径を、前記エッジがはみ出さないように縮小
する処理デバイスとをさらに含む請求項9記載の配線整
形装置。
12. A detector for inspecting whether the edge of the arc of the prohibited area set by the prohibited area setting processing device does not protrude from another prohibited area existing on one side of the wiring to be shaped, The wiring shaping apparatus according to claim 9, further comprising: a processing device that reduces the radius of the arc of the protruding prohibited area so that the edge does not protrude when the protruding area protrudes.
【請求項13】前記禁止領域設定処理デバイスは、前記
整形対象配線の配線幅を拡大する場合には、前記整形対
象配線の1の側の境界を決定するための禁止領域を設定
し、前記整形対象配線の他の側の境界を決定するための
禁止領域を設定することを特徴とするを含む請求項9記
載の配線整形装置。
13. The prohibition area setting processing device sets a prohibition area for determining a boundary on one side of the shaping target wiring when expanding the wiring width of the shaping target wiring, and 10. The wiring shaping apparatus according to claim 9, further comprising setting a prohibited area for determining a boundary on the other side of the target wiring.
【請求項14】基板上の端子間の配線の均等割付及び配
線幅拡大のため、ある配線に対して障害物に設定される
円弧状の禁止領域の拡大された半径を決定する禁止領域
半径決定装置であって、 前記基板の余剰空間を、配線幅の拡大に割り当てる割合
と、配線間隔の拡大に割り当てる割合とを指定する入力
デバイスと、 1の障害物と他の1の障害物との間のクリティカルカッ
トを横切る配線及びその配線間隔を考慮し、前記配線幅
の拡大に割り当てる割合で許される範囲において、当該
他の1の障害物に対する配線幅拡大率の上限と、前記配
線間隔の拡大に割り当てる割合で許される範囲におい
て、当該他の1の障害物に対する配線間隔拡大率の上限
とを決定する第1プロセッサと、 前記1の障害物からクリティカルカットが存在する障害
物に対する前記配線幅拡大率の上限のうち最低のものを
前記1の障害物の配線幅拡大率として、また前記配線間
隔拡大率の上限のうち最低のものを前記1の障害物の配
線間隔拡大率として、格納する第2プロセッサと、 ある配線と前記1の障害物との間に存在する配線を特定
する配線特定デバイスと、 前記1の障害物に設定された前記配線幅拡大率により、
前記配線特定デバイスにより特定された配線の幅を拡大
する第3プロセッサと、 前記1の障害物に設定された前記配線間隔拡大率によ
り、前記配線特定デバイスにより特定された配線間の間
隔を拡大する第4プロセッサと、 前記配線特定デバイスにより特定された配線について、
拡大された配線幅及び拡大された配線間隔を加算し、前
記1の障害物の禁止領域の半径を決定する第5プロセッ
サとを含む禁止領域半径決定装置。
14. A forbidden area radius determination for determining an enlarged radius of an arc-shaped forbidden area set as an obstacle for a certain wiring in order to uniformly allocate wiring between terminals on a substrate and to increase wiring width. An apparatus, comprising: an input device for specifying a ratio of allocating a surplus space of the board to an increase in a wiring width and a ratio of a surplus space to an increase in a wiring interval, between an obstacle and one other obstacle. In consideration of the wiring crossing the critical cut and the wiring interval, the upper limit of the wiring width expansion ratio for the other obstacle and the expansion of the wiring interval are set within a range allowed by the ratio allocated to the expansion of the wiring width. A first processor that determines an upper limit of the wiring interval enlargement ratio for the other one obstacle within a range allowed by the allocation ratio, and an obstacle for which a critical cut exists from the one obstacle The minimum of the upper limit of the wiring width enlargement ratio is the wiring width expansion ratio of the one obstacle, and the lowest of the upper limit of the wiring interval expansion ratio is the wiring interval expansion ratio of the one obstacle. As a second processor to store, a wiring specifying device for specifying a wiring existing between a certain wiring and the one obstacle, and the wiring width expansion rate set for the one obstacle,
A third processor for expanding the width of the wiring specified by the wiring specifying device; and expanding the distance between the wirings specified by the wiring specifying device by the wiring interval expansion rate set for the first obstacle. A fourth processor, and a wiring specified by the wiring specifying device;
A forbidden area radius determining apparatus, comprising: a fifth processor that adds the enlarged wiring width and the enlarged wiring interval to determine a radius of the forbidden area of the one obstacle.
【請求項15】端子又は障害物に対する位相的な位置関
係のみが決定されている結線経路である、基板上の端子
間の位相配線を、コンピュータに、前記基板上の物理的
位置が決定されている配線である物理配線に整形させる
プログラムを格納した記録媒体であって、 前記プログラムが、コンピュータに、 整形すべき配線を選択させるステップと、 前記整形すべき配線を見通す障害物を特定させるステッ
プと、 前記整形すべき配線と特定された前記障害物との間に最
低限空けなければならない間隔の所定数倍となる間隔を
半径とする円弧内を禁止領域として前記特定された障害
物に設定させる禁止領域設定ステップと、 前記禁止領域内を通過しないような最短経路を検出さ
せ、当該最短経路を用いて前記整形すべき配線の物理配
線を決定するステップとを実行させることを特徴とする
記録媒体。
15. A computer is provided with a phase wiring between terminals on a board, which is a connection path for which only a topological positional relation with respect to a terminal or an obstacle is determined, and a physical position on the board is determined by the computer. A program that causes a computer to select a wiring to be shaped; and a step of causing a computer to specify an obstacle that sees through the wiring to be shaped. The specified obstacle is set as a prohibited area within an arc having a radius that is a predetermined number of times as long as a minimum interval between the wiring to be shaped and the specified obstacle. Prohibiting area setting step, detecting a shortest path that does not pass through the prohibited area, and determining a physical wiring of the wiring to be shaped using the shortest path. Recording medium, characterized in that to perform the steps.
【請求項16】基板上の端子間の配線の均等割付及び配
線幅拡大のため、コンピュータに、ある配線に対して障
害物に設定される円弧状の禁止領域の拡大された半径を
決定させるプログラムを格納した記録媒体であって、 前記プログラムは、コンピュータに、 前記基板の余剰空間を、配線幅の拡大に割り当てる割合
と、配線間隔の拡大に割り当てる割合とを指定させるス
テップと、 1の障害物と他の1の障害物との間のクリティカルカッ
トを横切る配線及びその配線間隔を考慮し、前記配線幅
の拡大に割り当てる割合で許される範囲において、当該
他の1の障害物に対する配線幅拡大率の上限と、前記配
線間隔の拡大に割り当てる割合で許される範囲におい
て、当該他の1の障害物に対する配線間隔拡大率の上限
とを決定させるステップと、 前記1の障害物からクリティカルカットが存在する全て
の障害物に対する前記配線幅拡大率の上限のうち最低の
ものを前記1の障害物の配線幅拡大率として、また前記
配線間隔拡大率の上限のうち最低のものを前記1の障害
物の配線間隔拡大率として、格納させるステップと、 ある配線と前記1の障害物との間に存在する配線を特定
させる配線特定ステップと、 前記1の障害物に設定された前記配線幅拡大率により、
前記配線特定ステップにより特定された配線の幅を拡大
させるステップと、 前記1の障害物に設定された前記配線間隔拡大率によ
り、前記配線特定ステップにより特定された配線間の間
隔を拡大させるステップと、 前記配線特定ステップにより特定された配線について、
拡大された配線幅及び拡大された配線間隔を加算させ、
前記1の障害物の禁止領域の半径を決定させるステップ
とを実行させることを特徴とする記録媒体。
16. A program for causing a computer to determine an enlarged radius of an arc-shaped forbidden area set as an obstacle for a certain wiring in order to evenly allocate wiring between terminals on a substrate and increase the wiring width. Wherein the program causes the computer to specify a ratio of allocating a surplus space of the substrate to an increase in wiring width and a ratio of allocating to an increase in wiring interval. In consideration of the wiring crossing the critical cut between the other obstacle and the other wiring and the wiring interval, the wiring width expansion ratio for the other one obstacle is within a range allowed by the ratio allocated to the wiring width expansion. And determining an upper limit of the wiring interval expansion rate for the other one of the obstacles in a range allowed by a ratio allocated to the expansion of the wiring interval. The minimum of the upper limit of the wiring width expansion rate for all obstacles having a critical cut from the one obstacle is defined as the wiring width expansion rate of the one obstacle and the upper limit of the wiring interval expansion rate. Storing the lowest one as the wiring interval enlargement factor of the one obstacle; a wiring specifying step of specifying a wiring existing between a certain wiring and the one obstacle; According to the wiring width expansion rate set in
Enlarging the width of the wiring specified by the wiring specifying step; and enlarging an interval between the wirings specified by the wiring specifying step based on the wiring interval expansion rate set for the one obstacle. The wiring specified in the wiring specifying step,
Add the expanded wiring width and the expanded wiring interval,
Determining the radius of the forbidden area of the one obstacle.
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