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JP3173328B2 - Lead frame for semiconductor device - Google Patents

Lead frame for semiconductor device

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JP3173328B2
JP3173328B2 JP15024295A JP15024295A JP3173328B2 JP 3173328 B2 JP3173328 B2 JP 3173328B2 JP 15024295 A JP15024295 A JP 15024295A JP 15024295 A JP15024295 A JP 15024295A JP 3173328 B2 JP3173328 B2 JP 3173328B2
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lead frame
metal plate
adhesive
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peripheral portion
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達也 大高
隆治 米本
功 山岸
茂治 高萩
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Hitachi Cable Ltd
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はリードフレームに絶縁層
を介して金属板を貼り合わせた半導体装置用リードフレ
ームに係り、特に金属板とリードフレーム間のショート
事故をなくすようにしたものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame for a semiconductor device in which a metal plate is bonded to a lead frame via an insulating layer, and more particularly to a device for preventing a short circuit between the metal plate and the lead frame.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、素子の高密度化、高速化にともな
って、放熱性を高めた半導体装置用リードフレームの開
発が盛んになっている。放熱性を高めるためにヒートス
プレッダとして機能する金属板をリードフレームの厚さ
方向に積層するが、特に最近になって、予め接着剤を塗
布した金属板を用意し、これを金型で所定の形状に打抜
きながらリードフレームに貼り合わせる方法が注目され
るようになってきた。これによれば、金属板を低コスト
でリードフレームに貼り合わせることができるという利
点がある。
2. Description of the Related Art In recent years, as the density and speed of elements have been increased, the development of lead frames for semiconductor devices with improved heat dissipation has been active. A metal plate that functions as a heat spreader is laminated in the thickness direction of the lead frame in order to enhance heat radiation.In particular, recently, a metal plate coated with an adhesive in advance has been prepared, and it has a predetermined shape with a mold. Attention has been paid to a method of bonding to a lead frame while punching. According to this, there is an advantage that the metal plate can be bonded to the lead frame at low cost.

【0003】図3は、そのようにして貼り合された半導
体装置用リードフレーム構造の代表例を示したものであ
り、中央にデバイスホール5を有するリードフレーム1
のインナリード部1aに、デバイスホール5を塞ぐよう
に接着剤2を塗布した金属板3が貼り合わされている。
なお、半導体チップは金属板3上のデバイスホール5内
に接着される。
FIG. 3 shows a typical example of a lead frame structure for a semiconductor device bonded in such a manner. The lead frame 1 having a device hole 5 at the center is shown in FIG.
A metal plate 3 coated with an adhesive 2 so as to cover the device hole 5 is bonded to the inner lead portion 1a.
The semiconductor chip is bonded in the device hole 5 on the metal plate 3.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】リードフレームに放熱
用の金属板を貼り合わせた半導体装置用リードフレーム
で特に問題となるのは、金属板とリード間の電気的なシ
ョートである。図3のC部の拡大図である図4に示すよ
うに、リードフレーム1と接着剤付金属板3とが重なっ
た図中Aの部分については、介在させる接着剤2に電気
絶縁性の高い、たえば熱可塑性ポリイミド系接着剤を用
いることで問題を解決できる。
A particular problem in a lead frame for a semiconductor device in which a metal plate for heat dissipation is bonded to a lead frame is an electrical short between the metal plate and the lead. As shown in FIG. 4, which is an enlarged view of the portion C in FIG. 3, the portion A in the figure where the lead frame 1 and the metal plate 3 with adhesive overlap has a high electrical insulation property with respect to the adhesive 2 to be interposed. For example, the problem can be solved by using a thermoplastic polyimide adhesive.

【0005】しかし、金属板3の外周部3aがリードフ
レーム1に対向する図中Bの箇所では、その両者の絶縁
最短距離は必然的に接着剤2の厚みだけとなるが、接着
剤2の厚みは一般に20μm程度とかなり薄いため、次
のような問題が発生する。
However, at a point B in the figure where the outer peripheral portion 3a of the metal plate 3 faces the lead frame 1, the shortest insulating distance between the two is inevitably the thickness of the adhesive 2, but Since the thickness is generally as thin as about 20 μm, the following problems occur.

【0006】(1)接着剤付金属板を打抜き加工した場
合に発生する金属の打抜きばりが離脱するなどして発生
した導電性異物が、金属板外周部とリードフレーム間に
載る等して、金属板とリードフレーム間をショートさせ
る。
(1) Conductive foreign matter generated by punching out of a metal stamped metal plate generated by punching a metal plate with an adhesive is placed between the outer peripheral portion of the metal plate and the lead frame, and the like. Short between the metal plate and the lead frame.

【0007】(2)半導体装置用リードフレームは、半
導体チップを搭載後パッケージ化されるが、図中Bの箇
所では接着剤とパッケージレジンとの界面が構成され、
この界面でレジンに吸湿された水分が凝縮し、界面に沿
ってマイグレーションによるデンドライト(樹枝状晶)
が発生することが懸念される。デンドライトは、特にリ
ードフレームと金属板が共に銅で構成されている場合に
発生しやすく、リードフレーム側にかかる電位の関係
で、リードフレーム側から金属板側に向かって発生し
て、金属板とリード間をショートさせる。
(2) A lead frame for a semiconductor device is packaged after mounting a semiconductor chip. An interface between the adhesive and the package resin is formed at a position B in the drawing,
At this interface, the moisture absorbed by the resin condenses and migrates along the interface to dendrites (dendrites)
There is a concern that this will occur. Dendrites tend to occur particularly when both the lead frame and the metal plate are made of copper, and due to the potential applied to the lead frame side, they are generated from the lead frame side toward the metal plate side, Short between leads.

【0008】本発明の目的は、上述した従来技術の問題
点を解消して、金属板の外周部とリードフレーム間で起
こるショートを防止することが可能な半導体装置用リー
ドフレームを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a lead frame for a semiconductor device which can solve the above-mentioned problems of the prior art and can prevent a short circuit between an outer peripheral portion of a metal plate and a lead frame. is there.

【0009】[0009]

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】 第1発明は、リードフレ
ームと金属板とが共に銅で構成されており、絶縁層であ
接着剤を予め塗布した金属板を所定形状に打抜きなが
該接着剤を介してリードフレームに貼り合わせた半導
体装置用リードフレームであって、リードフレームに貼
り合わされた金属板の外周部に、前記接着剤とパッケー
ジレジンとの界面が存在するように形成された半導体装
置用リードフレームにおいて、前記金属板の外周部に、
リードフレームから離れる方向に折り曲げた折曲部を設
けて、金属板外周部とリードフレーム間の絶縁距離を増
大するようにしたものである。
Means for Solving the Problems A first invention is a lead frame.
Both the arm and the metal plate are made of copper, and
The adhesive precoated metal plate via the adhesive while punching into a predetermined shape to a lead frame for a semiconductor device was bonded to the lead frame, bonded to a lead frame that
The adhesive and the package are attached to the outer peripheral portion of the joined metal plate.
A semiconductor device formed to have an interface with a resin.
In the mounting lead frame, on the outer peripheral portion of the metal plate,
A bent portion bent in a direction away from the lead frame is provided to increase the insulation distance between the outer peripheral portion of the metal plate and the lead frame.

【0011】第発明は、第1発明において、上記折曲
部におけるエッジのリードフレームからの高さを20〜
500μmとしたものである。
In a second aspect based on the first aspect , the height of the edge of the bent portion from the lead frame is 20 to
The thickness was set to 500 μm.

【0012】[0012]

【作用】第1発明のように、金属板の外周部に折曲部を
設けると、折曲部を設けなかった場合に、それまで絶縁
層の厚さ分だけであった金属板外周部からリードフレー
ムへの絶縁距離が、折曲部の高さ分だけ増大する。した
がって、金属板とリードフレームとが導電性異物によっ
てショートする危険性が低減する。また、金属板の外周
部を折り曲げたことにより、接着剤とパッケージレジン
との界面が折曲部の長さ分だけ延びるので、ショート原
因となるデンドライトの発生が防止できる。
According to the first aspect of the present invention, when the bent portion is provided on the outer peripheral portion of the metal plate, when the bent portion is not provided, the outer peripheral portion of the metal plate which has been only the thickness of the insulating layer until then is provided. The insulation distance to the lead frame increases by the height of the bent portion. Therefore, the risk that the metal plate and the lead frame are short-circuited by the conductive foreign matter is reduced. Further, by bending the outer peripheral portion of the metal plate, the interface between the adhesive and the package resin extends by the length of the bent portion, so that it is possible to prevent the occurrence of dendrite which causes a short circuit.

【0013】また、第発明のように、接着剤付きの金
属板を打抜きながらリードフレームに貼り合わせる場
合、打抜き時に発生した打抜きばり等の導電性ばりが、
そのまま貼り合わせ時に持ち込まれるが、金属板外周部
に折曲部を設けてあるので、導電性ばりによる金属板と
リードフレーム間のショートを有効に回避できる。
In the case where a metal plate with an adhesive is punched and bonded to a lead frame as in the first invention, a conductive flash such as a punched flash generated at the time of punching is used.
Although it is brought in as it is at the time of bonding, a short circuit between the metal plate and the lead frame due to conductive burrs can be effectively avoided because the bent portion is provided on the outer peripheral portion of the metal plate.

【0014】ここで、第発明のように、折曲部のリー
ドフレームからの高さは20〜500μmとすることが
好ましい。20μmより小さいと導電性物質によるショ
ートや、デンドライトによるショートを有効に回避でき
ない場合が生じるからであり、500μmより大きいと
マイグレーションに起因したショートがほとんど起こら
なくなると共に、ダウンセット法による曲げ加工が難し
くなるからである。
Here, as in the second invention, the height of the bent portion from the lead frame is preferably 20 to 500 μm. If it is less than 20 μm, a short circuit due to a conductive substance or short circuit due to dendrite may not be effectively avoided. Because.

【0015】[0015]

【実施例】図1は、本発明の実施例による半導体装置用
リードフレームの金属板の貼り合わせ状況を示す断面図
である。これは、絶縁層である接着剤2を片面に予め塗
布した金属板3を用意する。接着剤2としては例えば電
気絶縁性の高い熱可塑性ポリイミド系接着剤を使用す
る。また、金属板3には熱伝導性の高い銅を用いる。こ
の金属板3を金型で打抜いて所定の形状の金属板3を形
成し、この打抜いて形成した金属板3を、そのまま連続
してリードフレーム1に貼り合わせたものである。金属
板3の貼り合わせ位置は、デバイスホール5に隣接した
インナリード部1aである。なお、リードフレーム1に
も金属板3の材料と同じ銅を用いる。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the state of bonding a metal plate of a lead frame for a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. For this, a metal plate 3 is prepared in which an adhesive 2 serving as an insulating layer is previously applied to one surface. As the adhesive 2, for example, a thermoplastic polyimide adhesive having high electric insulation is used. Further, copper having high thermal conductivity is used for the metal plate 3. The metal plate 3 is stamped out with a die to form a metal plate 3 having a predetermined shape, and the stamped and formed metal plate 3 is continuously bonded to the lead frame 1 as it is. The bonding position of the metal plate 3 is the inner lead portion 1a adjacent to the device hole 5. The same copper as the material of the metal plate 3 is used for the lead frame 1.

【0016】図示するように、リードフレーム1と貼り
合わされる金属板3の外周部3aに、リードフレーム1
と離れる方向に折り曲げた折曲部4を設けてある。この
折曲部4を設けることにより、リードフレーム1と金属
板3の外周部3aとの間に間隙7が形成され、金属板外
周部3aとリードフレーム1間の絶縁距離が増大する。
As shown in the figure, an outer peripheral portion 3a of a metal plate 3 bonded to the lead frame 1
A bent portion 4 bent in a direction away from the bent portion is provided. By providing the bent portion 4, a gap 7 is formed between the lead frame 1 and the outer peripheral portion 3a of the metal plate 3, and the insulation distance between the outer peripheral portion 3a of the metal plate and the lead frame 1 is increased.

【0017】本実施例では、金属板外周部3aの折曲部
4におけるエッジ3bのリードフレーム1からの高さを
h=100μmとする。この程度の高さにすれば、金属
板を打抜くときに通常発生する打抜きばりなどの導電性
ばりが、貼り合わせ時に、リードフレーム1と金属板3
の外周部3aとに接触してショートするのを有効に回避
することができる。また、折曲部4の傾斜角は、金属板
平面に対し約45°とする。この程度の傾斜角であれ
ば、従来より行われているダウンセット法による曲げ加
工を用いれば、折曲部4を容易に形成することができ
る。
In this embodiment, the height of the edge 3b of the bent portion 4 of the outer peripheral portion 3a of the metal plate from the lead frame 1 is h = 100 μm. With such a height, a conductive beam such as a punching beam which is usually generated when a metal plate is punched out may be attached to the lead frame 1 and the metal plate 3 at the time of bonding.
Short-circuiting due to contact with the outer peripheral portion 3a of the first embodiment can be effectively avoided. The angle of inclination of the bent portion 4 is set to about 45 ° with respect to the plane of the metal plate. With such an inclination angle, the bent portion 4 can be easily formed by using a bending process by a conventional downset method.

【0018】このように金属板3に折曲部4を設けるこ
とにより、接着剤2とレジン界面に沿ったリードフレー
ム1と金属板3間の絶縁距離6は、折曲部を持たない従
来の最短長さが接着剤2の厚みに対応した20μmであ
るのに対し、本実施例のものでは、 絶縁距離=接着剤の厚み20μm+折曲部の距離約 140μm(100/sin45°) = 160μm と大幅に増大する。
By providing the bent portion 4 on the metal plate 3 as described above, the insulation distance 6 between the lead frame 1 and the metal plate 3 along the interface between the adhesive 2 and the resin can be reduced by the conventional method having no bent portion. While the shortest length is 20 μm corresponding to the thickness of the adhesive 2, in the case of the present embodiment, the insulation distance = the thickness of the adhesive 20 μm + the distance of the bent portion is approximately 140 μm (100 / sin45 °) = 160 μm. Increase significantly.

【0019】本実施例のようにリードフレーム1と金属
板3とが共に銅で構成されている場合には、パッケージ
レジンの吸湿に起因してマイグレーションが発生しやす
くなるが、リードフレーム1から金属板外周部3aまで
の界面の絶縁距離6は約160μm以上もあるため、シ
ョートの原因になるマイグレーションによる銅のデンド
ライト析出はほぼ発生しないといえる。また、万一発生
しても、その距離が従来の約8倍、すなわち寿命が8倍
となることから実用上はほぼ問題のないものといえる。
When the lead frame 1 and the metal plate 3 are both made of copper as in this embodiment, migration is likely to occur due to the moisture absorption of the package resin. Since the insulation distance 6 at the interface to the outer peripheral portion 3a of the plate is about 160 μm or more, it can be said that copper dendrite precipitation due to migration which causes a short circuit hardly occurs. Even if it occurs, the distance is about eight times as long as the conventional one, that is, the life is eight times longer, so it can be said that there is almost no problem in practical use.

【0020】[0020]

【0021】ところで、金属板外周部の折曲部の加工
は、打抜き・貼合わせ時に使用するパンチの端面に折曲
部の形状とほぼ同寸法の面取り加工を施すことで、打抜
き・貼合わせ時に同時加工することができる。したがっ
て、通常のリードフレームを得る工程を全く変えずに、
金型のパンチ端面の変更のみで折曲部の加工が可能とな
るため、製作コストのアップはない。
By the way, the bent portion of the outer peripheral portion of the metal plate is formed by performing a chamfering process on the end face of a punch used at the time of punching and bonding, which has substantially the same size as the shape of the bent portion at the time of punching and bonding. Can be processed simultaneously. Therefore, without changing the process of obtaining a normal lead frame at all,
Since the bent portion can be processed only by changing the punch end surface of the mold, there is no increase in manufacturing cost.

【0022】図2に、折曲部8の先端を金属板3と並行
になるようにさらに折り曲げた変形例を示す。これは、
あらかじめ金属板3の一部を凹加工しておき、その外周
部3aを打ち抜きながら貼り合わせることによって得ら
れる構造である。これによれば、図1の実施例のものに
比して加工精度が得られやすいというメリットがある。
FIG. 2 shows a modification in which the tip of the bent portion 8 is further bent so as to be parallel to the metal plate 3. this is,
This is a structure obtained by forming a part of the metal plate 3 in advance and bonding it while punching the outer peripheral portion 3a. According to this, there is an advantage that machining accuracy can be easily obtained as compared with the embodiment of FIG.

【0023】[0023]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、金属板
外周部に折曲部を設けて、金属板外周部からリードフレ
ームへの絶縁距離を、絶縁層の厚さに加えて折曲部の高
さ分だけ増大するようにしたので、金属板とリードフレ
ームとがショートする危険性を低減できる。また、金属
板の外周部を折り曲げたことにより、接着剤とパッケー
ジレジンとの界面が延び、ショート原因となるデンドラ
イトの発生を防止できる。
According to the first aspect of the present invention, the bent portion is provided on the outer peripheral portion of the metal plate, and the insulation distance from the outer peripheral portion of the metal plate to the lead frame is added to the thickness of the insulating layer. Since the height is increased by the height of the curved portion, the risk of a short circuit between the metal plate and the lead frame can be reduced. Further, by bending the outer peripheral portion of the metal plate, the interface between the adhesive and the package resin is extended, so that the occurrence of dendrite which causes a short circuit can be prevented.

【0024】請求項に記載の発明によれば、接着剤付
金属板を打抜きながらリードフレームに貼り合わせる構
造のリードフレームに適用したので、打抜き時に発生し
て貼り合わせ時にそのまま持込まれる導電性異物による
金属板とリードフレーム間のショートを有効に回避する
ことができる。
According to the first aspect of the present invention, since the present invention is applied to a lead frame having a structure in which a metal plate with an adhesive is bonded to a lead frame while being punched, conductive foreign matter which is generated at the time of punching and carried as it is at the time of bonding. The short circuit between the metal plate and the lead frame can be effectively avoided.

【0025】請求項に記載の発明によれば、リードフ
レームからの金属板外周部の折曲部の高さを所定範囲に
規定したので、リードフレームと金属板間のショートを
より有効に回避でき、曲加工も容易に行うことができ
る。
According to the second aspect of the present invention, since the height of the bent portion of the outer peripheral portion of the metal plate from the lead frame is defined within a predetermined range, a short circuit between the lead frame and the metal plate is more effectively avoided. It can be easily processed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体装置用リードフレームの実施例
を説明するための接着剤付金属板の貼り合わせ状況を示
す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a bonding state of a metal plate with an adhesive for explaining an embodiment of a lead frame for a semiconductor device of the present invention.

【図2】変形例を説明するための接着剤付金属板の貼り
合わせ状況を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a bonding state of a metal plate with an adhesive for explaining a modified example.

【図3】従来例の半導体装置用リードフレームの接着剤
付金属板の貼り合わせ状況を示す断面図の断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a bonding state of an adhesive-attached metal plate of a conventional lead frame for a semiconductor device.

【図4】図3のC部拡大図。FIG. 4 is an enlarged view of a portion C in FIG. 3;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リードフレーム 2 接着剤(絶縁層) 3 金属板 3a 外周部 4 折曲部 6 絶縁距離 8 折曲部 h 高さ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lead frame 2 Adhesive (insulating layer) 3 Metal plate 3a Outer peripheral part 4 Bend part 6 Insulation distance 8 Bend part h Height

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高萩 茂治 茨城県土浦市木田余町3550番地 日立電 線株式会社システムマテリアル研究所内 (56)参考文献 特開 平3−161957(JP,A) 特開 平7−86458(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/50 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shigeharu Takahagi 3550 Kida Yomachi, Tsuchiura-shi, Ibaraki Hitachi Systems, Ltd. System Materials Research Laboratories (56) References JP-A-3-161957 (JP, A) JP Hei 7-86458 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 23/50

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】リードフレームと金属板とが共に銅で構成
されており、絶縁層である接着剤を予め塗布した金属板
を所定形状に打抜きながら該接着剤を介してリードフレ
ームに貼り合わせた半導体装置用リードフレームであっ
て、リードフレームに貼り合わされた金属板の外周部
に、前記接着剤とパッケージレジンとの界面が存在する
ように形成された半導体装置用リードフレームにおい
て、前記金属板の外周部に、リードフレームから離れる
方向に折り曲げた折曲部を設けて、金属板外周部とリー
ドフレーム間の絶縁距離を増大するようにしたことを特
徴とする半導体装置用リードフレーム。
1. A lead frame and a metal plate are both made of copper.
Metal plate that is pre-coated with an adhesive that is an insulating layer
The lead frame is punched through the adhesive while punching
Lead frame for semiconductor devices
The outer periphery of the metal plate bonded to the lead frame
Has an interface between the adhesive and the package resin.
-Formed lead frame for semiconductor device
A bending portion which is bent in a direction away from the lead frame on an outer peripheral portion of the metal plate to increase an insulation distance between the outer peripheral portion of the metal plate and the lead frame. Lead frame.
【請求項2】上記金属板外周部の折曲部におけるエッジ
のリードフレームからの高さを20〜500μmとした
請求項1に記載の半導体装置用リードフレーム。
2. An edge at a bent portion of an outer peripheral portion of the metal plate.
Height of the lead frame from 20 to 500 μm
A lead frame for a semiconductor device according to claim 1 .
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6323571B1 (en) 1993-11-08 2001-11-27 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Rotary motor and production method thereof, and laminated core and production method thereof
US6362553B1 (en) 1989-11-08 2002-03-26 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Rotary motor and production method thereof, and laminated core production method thereof

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5056429B2 (en) * 2008-01-16 2012-10-24 株式会社デンソー Manufacturing method of semiconductor device
JP5119981B2 (en) * 2008-03-04 2013-01-16 株式会社デンソー Mold package

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6362553B1 (en) 1989-11-08 2002-03-26 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Rotary motor and production method thereof, and laminated core production method thereof
US6323571B1 (en) 1993-11-08 2001-11-27 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Rotary motor and production method thereof, and laminated core and production method thereof

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