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JP2765542B2 - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置

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JP2765542B2
JP2765542B2 JP7331667A JP33166795A JP2765542B2 JP 2765542 B2 JP2765542 B2 JP 2765542B2 JP 7331667 A JP7331667 A JP 7331667A JP 33166795 A JP33166795 A JP 33166795A JP 2765542 B2 JP2765542 B2 JP 2765542B2
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JP
Japan
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wire
resin
chip
lead frame
semiconductor device
Prior art date
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Application number
JP7331667A
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English (en)
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JPH09172130A (ja
Inventor
健仁 稲葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Priority to US08/770,164 priority patent/US5757067A/en
Priority to KR1019960069232A priority patent/KR100257912B1/ko
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂封止型半導体
装置に関し、特に、樹脂封止工程での流入樹脂によるボ
ンディングワイヤの変形による隣接ワイヤ間の接触、短
絡事故を防止する技術に関わるものである。
【０００２】
【従来の技術】樹脂封止型半導体装置に用いられるリー
ドフレームの、従来の技術によるものについて、図８を
用いて説明する。図８は、従来のリードフレームにチッ
プを搭載し、ワイヤボンディングを行った後の状態を示
す平面図である。図８を参照して、この種のリードフレ
ーム１Ａは、基本的に、リボン状の金属製薄板にエッチ
ングやプレスなどの工法により加工を施し、アイランド
６と複数のリードとそれらを支持するための部分とを残
して、他の部分を抜き取った構造となっている。アイラ
ンド６は、チップ５を搭載するための部分である。リー
ドは、チップ５と外部の回路とを電気的に接続するため
のものである。チップ５上の接続用電極（ボンディング
パッド。図示せず）と一対一に対応してワイヤボンディ
ングで互いに接続されるインナリード２Ａと、そのイン
ナリード２Ａに連結する部分であって、外部の回路に対
するリード端子となるアウタリード３とからなる。金属
材料としては、４２合金やＣｕなどが多く用いられる。
リードフレーム１Ａには、通常、この外にタイバー４及
び吊りピン８が欠かせない。タイバー４は、後に述べる
樹脂封止工程でインナリード２Ａ，ボンディングワイヤ
１３，アイランド６及びチップ５を含む所定部分を樹脂
により封止するとき、樹脂がアウタリード３へ流出する
ことを防止するためのものである。吊りピン８は、アイ
ランド６をリードフレームの支持枠に連結し支持する。
尚、リードフレームは、通常、リボン状をなし、上記の
各部分で造る一組のパターンが単位となって、その単位
のパターンが複数、金属製リボンの長手方向（図８の紙
面左右方向）に繰り返し形成されているが、図８には、
その内の一パターン分のみを示す。リードフレームの支
持枠に設けられた位置決め穴７は、製造工程中で、上記
構造のリボン状リードフレームを、一パターンずつ送っ
て行くときの、送りと位置決めに用いられるものであ
る。
【０００３】本発明との関連において従来のリードフレ
ーム１Ａに特徴的なのは、複数のインナリード先端の並
びが造る平面形状（以下、キャビティ形状と記す）９Ａ
が、アイランド６の形状に倣って、四角形であることで
ある。その結果、チップのコーナー部から張られたワイ
ヤ１０Ａのワイヤ長が最長ワイヤ長となり、一方、チッ
プ辺の中央部から張られたワイヤ１１Ａのワイヤ長が最
短ワイヤ長となっている。
【０００４】以下に、樹脂封止型半導体装置の製造工程
について、図９に示す工程フロー図を用いて、説明す
る。図９を参照して、先ず、上述の図８に示すリードフ
レーム１Ａを、準備する（図９（ａ））。
【０００５】次に、リードフレーム１Ａのアイランド６
に銀ペーストのような導電性接着剤１２などを用いて、
チップ５をマウントした（図９（ｂ））後、ワイヤ１３
を用いて、チップ５上のパッドとインナリード２Ａとを
ワイヤボンディングする（図９（ｃ））。このとき、吊
りピン８にディンプル加工を行うと、チップ５とボンデ
ィングワイヤ１３とのエッジタッチを防止できる。それ
と同時に、ループ形状のコントロールを容易にすること
ができる。
【０００６】次いで、封止樹脂１８により所定の個所を
封止する（図９（ｄ））。この樹脂封止工程では、ボン
ディング済みのリードフレームを封止用下金型および上
金型で作られるキャビティ内にセットし、溶融させた樹
脂をランナからゲートを通して、キャビティ内に充填す
る。樹脂封止工程のこの部分の詳細については、後述す
る。上記の樹脂封止完了後、上金型，下金型より封止済
みの半導体装置を取り出した後、ランナ及びゲートに形
成された樹脂を除去して封止が完了する。
【０００７】続いて、タイバーを切断して除去した後、
アウタリード３にメッキ２５を施し（図９（ｅ））、更
にアウタリード３をリードフレームから切断し分離した
（図９（ｆ））後、アウタリード３を所望形状に成形し
て（図９（ｇ））、樹脂封止型半導体装置２６Ａを完成
する。
【０００８】ここで、上記の工程中の樹脂封止工程（図
９（ｄ））について、図１０を用いて説明する。図１０
は、封止用金型内にワイヤボンディグ済みのリードフレ
ーム１Ａをセットした状態での断面を示す図である。図
１０を参照して、所定温度に加熱された封止用下金型１
６に設けられたポット１７中に、樹脂１８が溶融状態で
保持されている。又、チップ５がマウントされボンディ
ングが済んだリードフレーム１Ａが、下金型１６の凹み
にアイランドが浮くようにして、セットされている。
【０００９】この状態で、下金型１６が上昇し上金型１
５との間でリードフレーム１Ａを挟持すると共に、樹脂
１８の底面側に位置しているプランジャ２９が上昇す
る。続いて、樹脂１８が、図中に丸で囲った数字の順
に、矢印で示す樹脂流動方向１９に流れて行く。すなわ
ち、ランナ２０及びゲート２１をそれぞれ，の順に
流れた後、下金型１６に設けた金型キャビティ部２２内
に流れ込む。樹脂１８は金型キャビティ部２２内に流れ
込んだ後、順路に従って、金型キャビティ部２２内の
下金型１６の側を流れて行く。それと同時に、リードと
吊りピンとの隙間及びリードとリードとの隙間を通り、
順路に従って、上金型１５の側に分岐して流れて行
く。順路，に従って分岐して流れた樹脂は、それぞ
れ順路，に沿って、金型キャビティ部を満しつつ下
金型１６及び上金型１５に設けたベント２３に向って流
れ、最終的にチップ５を封止する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のリード
フレームを用いた樹脂封止型半導体装置には、樹脂封止
工程で、隣接するワイヤどうしの接触による短絡事故が
発生し易いという問題があった。以下にその説明を行
う。
【００１１】既に述べたように、従来のリードフレーム
では、インナリード２Ａの先端の並びにより形成される
キャビティ形状が、アイランド６の形状に倣って、四角
形である。その結果、チップの４つのコーナー部から張
られたワイヤ１０Ａ（図８参照）が最長ワイヤ長のワイ
ヤとなり、一方、チップ辺の中央部から張られたワイヤ
１１Ａ（同）が、最小ワイヤ長のワイヤとなっている。
【００１２】ここで、製造工程中の樹脂封止工程（図９
（ｄ））における樹脂の流れ（図１０参照）の過程をパ
ッケージ上面から見た図を、図１１に示す、図１１を参
照して、樹脂封止工程において、ゲートから金型キャビ
ティ内に圧入された溶融樹脂が、図１１中に矢印で示す
樹脂流動方向１９に沿って、金型キャビィ内に充満して
行くのであるが、このとき、チップの４つのコーナー部
から張られたワイヤのうちゲートに対しほぼ垂直に張ら
れたワイヤ２４A1，２４A2が、樹脂からの力を最も大き
く受ける。ところが、従来のリードフレームではこのワ
イヤ２４A1，２４A2のワイヤ長が最長となっている。す
なわち、流動樹脂からの圧力を最大に受けるワイヤが、
最長の長さであることになる。その結果、このチップの
コーナー部からのワイヤ２４A1，２４A2のワイヤの変形
（流れ）が大きくなり、隣接するワイヤＷ1 ，Ｂ3 どう
しの間および、ワイヤＷ2 ，Ｂ4 どうしの間でワイヤ流
れによる短絡事故が発生する。
【００１３】上記の原因に基づく短絡事故の防止には、
ワイヤ長を短くすることが有効である。ところで、全て
のワイヤについてワイヤ長を短くするためには、全イン
ナリードの先端位置をこれまで以上にアイランド側へ近
付けなければならず、このことは、インナリード先端の
ピッチを従来以上に狭くしなければならないことを意味
する。並べるべきインナリードの本数とその先端のピッ
チとが決まれば、所定本数のインナリードを並べるのに
必要な距離（つまり、キャビティ形状の一辺の長さ）が
決り、結果として、チップとインナリード先端との間の
間隔が決まる、換言すれば、インナリード先端をチップ
に近付けることはキャビティ形状の一辺の長さが短くな
ることであり、必然的に、インナリード先端のピッチを
狭くしなければならないことになるからである。ところ
が、近年、リードフレームのインナリード先端のピッチ
は加工限界まで狭くなっており、これ以上狭くすること
は実際上、困難である。一方で、チップの方は、近年、
小型化の要請に応じて面積の縮小が著しく、それにつれ
てボンディングパッドは、ピッチを狭くされると同時に
パッド位置がパッケージ中心へ移動する傾向にある。
【００１４】すなわち、インナリード先端をアイランド
へ近づけることが困難であるのに対し、チップ側のボン
ディングパッドは従来以上にインナリードから離れる傾
向にある。その結果、ワイヤ長はどんどん長くなり、ワ
イヤ流れも大きくなってきている。このような理由によ
り、近年、図１１に示すワイヤＷ1 ーＷ3 間およびワイ
ヤＷ2 ーＷ4 間のワイヤ接触が発生し易くなり、良品率
の低下や信頼性の低下が問題となってきている。
【００１５】これに対し特開平１ー２９８７５７号公報
には、図１２に示すような、インナリード２Ａ先端とア
イランド６との間の距離は従来のままにしておいて、チ
ップ５のコーナー部に対するインナリード３０Ａの先端
を、アイランド６のコーナーの形状に合せて、Ｙ字形に
拡げたリードフレームが開示されている。このようにす
ると、チップコーナー部のワイヤ１０Ａをチップ５の辺
に直角に近い角度を選んでボンディングできるので、チ
ップコーナー部からのワイヤ長を従来より短くできる。
上記公報記載の発明は、樹脂封止工程での樹脂の流入圧
力による隣接ワイヤどうしの短絡事故発生防止を直接の
目的とするものではなく、ワイヤの長尺化に伴うボンデ
ィング時の横方向へのたるみを防止して、アイランド６
とコーナー部のワイヤ１０Ａとの接触による短絡を防止
することを目的とするものであるが、チップコーナー部
でのワイヤ長を短縮できるので、ワイヤどうしの短絡防
止にも有効であろうと推測される。
【００１６】しかしながら、前述したように、リードフ
レームは従来、インナリード先端のピッチを加工限界ま
で詰められているので、リード先端をＹ字形状とするた
めのスペースを確保できない。従って、上記公報記載の
リードフレームは、高度に集積化され多ピン化、狭ピッ
チ化の進んだ半導体集積回路には、実際上は、適用不能
であると言える。
【００１７】したがって本発明は、インナリード先端の
ピッチを従来のリードフレームから変えることなく、樹
脂封止工程での流入樹脂の圧力による隣接ワイヤどうし
の接触に起因する短絡事故を防止することを目的とする
ものである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明の樹脂封止型半導
体装置は、リードフレームのアイランドにチップを搭載
し、そのチップ上に設けられている接続用電極と前記リ
ードフレームのインナリードとを金属製ワイヤを用いた
ワイヤボンディングで接続し、樹脂で封止した構造の樹
脂封止型半導体装置において、前記インナリードのう
ち、前記チップのコーナー部からのワイヤを接続すべき
インナリードの先端を前記アイランドに近付けることに
より、前記チップのコーナー部からのワイヤのワイヤ長
を他のワイヤのワイヤ長よりも相対的に短くするため
に、各々のインナリードの先端の並びで造られる平面形
状であるキャビティ形状を、４ｎ角形（ｎは、３以上の
整数）としたことを特徴とする。
【００１９】又、本発明の樹脂封止型半導体装置は、前
記チップの一対角線上に位置する二つのコーナー部から
の各々のワイヤを最短ワイヤ長のワイヤとし、前記チッ
プの前記一対角線と交差する対角線上に位置する一つの
コーナー部からのワイヤを最長ワイヤ長のワイヤとした
ことを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】次に、本発明の幾つかの実施の形
態について、図面を参照して説明する。本発明の作用原
理の理解を容易にするため、始めに、本発明の参考例に
ついて説明する。図１は、本発明の第１の参考例（参考
例１）による樹脂封止型半導体装置用リードフレームに
チップを搭載し、ワイヤボンディングを施した後の状態
を示す平面図である。
【００２１】図１と図８とを比較すると、本参考例によ
るリードフレーム１Ｂは、インナリード２Ｂの並びによ
って形作られるキャビテイ形状９Ｂが、八角形である点
に大きな特徴がある。キャビティ形状が造る八角形の８
つの頂点は、四角形のチップ５の対角線の延長線上と、
チップの各対辺の中点を結ぶ線の延長線上に位置してい
る。このようにすると、チップ５のコーナー部から張ら
れたワイヤ１０Ｂのワイヤ長が最短となり、チップ５の
辺の中央部から張られたワイヤ１１Ｂが最長ワイヤ長の
ワイヤとなる。
【００２２】すなわち、四角形のキャビティ形状と、八
角形のキャビティ形状とを上述のような位置関係になる
ようにして示す図２（ａ）を参照して、いま、議論を簡
潔にして理解を容易にするために、各キャビティ形状は
正四角形および正八角形で、中心が一致しているものと
する。正四角形の一辺の長さをＢ4 、中心から頂点迄の
距離をＬ4 とする。又、正八角形の一辺の長さをＢ8 、
中心から頂点迄の距離をＬ8 とする。正四角形のキャビ
ティ形状の一辺の長さＢ4 は、その一辺を見込む頂角が
９０度であるから、 Ｂ4 ＝２・Ｓｉｎ（９０°／２）・Ｌ4 である。同様にして、正八角形の一辺の長さＢ8 は、 Ｂ8 ＝２・Ｓｉｎ（４５°／２）・Ｌ8 である。
【００２３】ここで、両方のキャビティ形状に対し、イ
ンナリードを同一本数，同一ピッチで並べるためには、 Ｂ4 ＝２・Ｂ8 でなければならない。従って、 ２・Ｓｉｎ（９０°／２）・Ｌ4 ＝２・２・Ｓｉｎ（４
５°／２）・Ｌ8 より、 Ｌ8 ＝（１／２）・（Ｓｉｎ４５°／Ｓｉｎ２２．５°）・Ｌ4 ≒０．９２４Ｌ4 となる。
【００２４】すなわち、インナリードを同一本数，同一
ピッチで並べる場合、本参考例による正八角形のキャビ
ティ形状を持つリードフレームの方が、従来の、キャビ
ティ形状が正四角形のリードフレームよりも、チップコ
ーナー部からのワイヤ１０Ｂの長さを短くできる。
【００２５】以上は、キャビティ形状が正四角形の場合
と正八角形の場合とで比較した例であるが、次に、図２
（ｂ）に、従来の四角形のキャビティ形状が（正方形で
はなく）長方形である場合について、その一つのコーナ
ー部を拡大して示す。この場合も、八角形のキャビティ
形状の方が、コーナー部のワイヤ長を短くできる。すな
わち、チップ中心から四角形のキャビティ形状の一辺の
中心までの距離Ｄ4 に対し、八角形の頂点迄の距離Ｄ8
の方を大きく（Ｄ8 ＞Ｄ4 ）する。
【００２６】このようにすると、八角形の一辺Ｂ8 およ
び四角形の一辺の半分辺Ｈ4 はそれぞれ、二つの部分を
合成したものになり、 Ｂ8 ＝Ｂ81＋Ｂ82 Ｈ4 ＝Ｈ41＋Ｈ42 である。ここで、それぞれの部分どうしを比較すると、 Ｂ81＞Ｈ41 である。従って、インナリードを並ベる距離を等しくす
る、つまり、 Ｂ8 ＝Ｈ4 とするには、 Ｂ82＜Ｈ42 で済む。すなわち、八角形の頂点の方が四角形の頂点よ
りも、必ずチップの中心寄りに位置するのである。
【００２７】図３は、本参考例のリードフレームを用い
た場合の樹脂封止工程における樹脂の流れの過程を、パ
ッケージ上面から見た図である。図３に示すように、流
入してくる樹脂から最も大きな圧力を受けるのは、ゲー
トに対して垂直に張られたワイヤ２４B1，２４B2なので
あるが、本参考例においては、このワイヤ２４B1，２４
B2のワイヤ長が最小で、従来のリードフレームにおける
よりも短かい。従って、ワイヤ流れは殆ど生じない。
【００２８】実際に、本参考例を２０８ピンのＬＳＩに
適用した場合、表１に示すように、チップコーナー部か
らのワイヤ長を、従来４．９ｍｍであったものを４．１
ｍｍに短縮することができ、これにより、ワイヤ流れを
３７８μｍから１８５μｍに減じることができた。その
結果、従来約２８％であった隣接ワイヤ間のショート発
生率を、０％にすることができた。
【００２９】
【表１】
【００３０】次に、本発明の第２の参考例（参考例２）
について、説明する。図４は、本発明の第２の参考例に
よる樹脂封止型半導体装置用リードフレームにチップを
搭載し、ワイヤボンディングを施した後の状態を示す平
面図である。図４を参照して、本参考例のリードフレー
ム１Ｂは、インナリード２Ｂの先端の並びで造るキャビ
ティ形状が円形である点に、大きな特徴を持つ。
【００３１】いま、円形キャビティ形状の半径をＲとす
ると、全円周の１／４の弧の長さＡは、 Ａ＝（１／４）・２πＲ である。この１／４の弧の長さＡが、従来の正四角形の
キャビティ形状の一辺の 長さＢ4 ＝２・Ｓｉｎ（９０°／２）・Ｌ4 に等しいと
すると、 Ｒ＝４・（１／π）・Ｓｉｎ４５°・Ｌ4 ≒０．９００・Ｌ4 となって、チップコーナー部からのワイヤ長を、参考例
１におけるよりも更に短かくできる。
【００３２】次に、本発明の第１の実施の形態につい
て、説明する。図５は、本発明の第１の実施の形態によ
る樹脂封止型半導体装置用リードフレームにチップを搭
載し、ワイヤボンディングを施した後の状態を示す平面
図である。図５を参照して、本実施の形態のリードフレ
ーム１Ｃは、インナリード２Ｃの先端の並びで造るキャ
ビティ形状が、十二角形である点に特徴を持つ。
【００３３】本発明の場合、キャビティ形状は多角形の
辺の数が大きければ大きいほど、チップコーナー部のワ
イヤ長短縮に関しては効果的であり、好ましくは、極限
の多角形である円形であることが望ましい。例えば、キ
ャビティ形状が円形の場合と１６角形の場合とで、チッ
プ中心から多角形の頂点迄の距離を比較すると、１６角
形の場合は、その距離Ｌ16は、 Ｌ16＝（１／４）・｛Ｓｉｎ４５°／（Ｓｉｎ４５°／４）｝・Ｌ4 ≒０．９０６・Ｌ4 であるのに対し、円形の場合は、前述のように、 Ｒ≒０．９００・Ｌ4 である。すなわち、円形のキャビティ形状の方が、チッ
プコーナー部のワイヤ長を短くできる。
【００３４】しかしながら、参考例１あるいは第１の実
施の形態のような多角形の形状は、円形の形状に比べリ
ードフレームの製造を容易にすることができるという利
点を持つ。リードフレーム製造に当って、インナリード
の先端は、通常、先端カット金型により切断する。その
場合、キャビティ形状に曲面を用いると、先端カット金
型のダイ及びパンチとも曲面で構成しなければならな
い。しかるに、金型を曲面加工することは非常に困難で
ある。第１の実施の形態によれば、キャビティ形状を十
二角形として曲面に近ずけながら、しかも先端カット金
型のダイ及びパンチを共に直線で構成することが可能で
あるので、金型製作が容易でしかもワイヤ長短縮効果が
比較的大きい。尚、キャビティ形状に採用する多角形と
しては、４の倍数である８角形、１２角形、１６角形な
どがインナリードの設計あるいは金型の設計、製作が容
易で好適である。
【００３５】次に、本発明の第２の実施の形態につい
て、説明する。図６は、本発明の第２の実施の形態によ
る樹脂封止型半導体装置用リードフレームにチップを搭
載し、ワイヤボンディングを施した後の状態を示す平面
図である。図６を参照して、本実施の形態によるリード
フレームのキャビティ形状は、ゲートに対して垂直なチ
ップの対角線を境にして、ゲート側では八角形であるの
に対し、ゲートと反対側では、ゲートに垂直な対角線上
のコーナー部（図中、左上のコーナー部及び右下のコー
ナー部）からゲートの対角に位置するコーナー部（図
中、右上のコーナー部）に掛けてのキャビティ形状が、
アイランドから離れる方向に単調に傾斜する形状となっ
ている。この実施の形態では、ゲートの対角に位置する
コーナー部に張られたワイヤ２７E1，２７E2を最長ワイ
ヤ長のワイヤとし、ゲートに対して垂直に張られたワイ
ヤのうち、ゲートから見て吊りピンの次に張られたワイ
ヤ２８E1，２８E2を最小ワイヤ長のワイヤとしている。
これにより、最小ワイヤ長を、これまでの参考例１，２
や第１の実施の形態におけるよりも、更に短くしてい
る。
【００３６】本実施の形態によるリードフレームを用い
ると、図７に示すように、樹脂封止工程で流入してきた
樹脂の流動方向１９に沿って、ワイヤ長が順次、単調に
増大して行く。従って、ワイヤ流れも、樹脂流動方向１
９に沿って大きくなる。その結果、ゲートの対角に位置
するチップコーナー部から張られたワイヤ２７E1，２７
E2が流れても、ワイヤ間隔を十分広く保つことが可能で
ある。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、リード
フレームのアイランドにチップを搭載し、そのチップ上
に設けられている接続用電極とリードフレームのインナ
リードとを金属製ワイヤを用いたワイヤボンディングで
接続し、樹脂で封止した構造の樹脂封止型半導体装置に
対し、インナリードのうち、チップのコーナー部からの
ワイヤを接続すべきインナリードの先端をアイランドに
近付けて、チップのコーナー部からのワイヤのワイヤ長
を他のワイヤのワイヤ長よりも相対的に短くしている。
【００３８】これにより本発明によれば、樹脂封止工程
で流入樹脂から最も大きい力を受けるワイヤの長さを従
来より短くすることができるので、樹脂封止時の隣接ワ
イヤ間の接触による短絡事故発生を防止し、良品率が良
く信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を提供できる。し
かも、インナリード先端のピッチを変える必要がないの
で、現状のリードフレームの加工技術で十分実現可能で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の参考例１によるリードフレームにチッ
プを搭載し、ワイヤボンディングを施した後の状態を示
す平面図である。
【図２】チップコーナー部に張られたワイヤの長さを、
従来の技術によるリードフレームと参考例１によるリー
ドフレームとで比較して示す図である。
【図３】参考例１における樹脂の流動状態を示す平面図
である。
【図４】本発明の参考例２によるリードフレームにチッ
プを搭載し、ワイヤボンディングを施した後の状態を示
す平面図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態によるリードフレー
ムにチップを搭載し、ワイヤボンディングを施した後の
状態を示す平面図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態によるリードフレー
ムにチップを搭載し、ワイヤボンディングを施した後の
状態を示す平面図である。
【図７】第２の実施の形態における、樹脂の流動状態を
示す平面図である。
【図８】従来の技術によるによるリードフレームにチッ
プを搭載し、ワイヤボンディングを施した後の状態を示
す平面図である。
【図９】樹脂封止型半導体装置の製造工程を示す工程フ
ロー図である。
【図１０】樹脂封止工程での樹脂の流れの状態を示す断
面図である。
【図１１】従来のリードフレーム用いた場合の、樹脂封
止工程での樹脂の流動状態を示す平面図である。
【図１２】従来のリードフレームの他の例の平面図であ
る。
【符号の説明】
１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅ リードフレーム ２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ，２Ｅ インナリード ３ アウタリード ４ タイバー ５ チップ ６ アイランド ７ 位置決め穴 ８ 吊りピン ９Ａ，９Ｂ，９Ｃ，９Ｄ，９Ｅ キャビティ形状 １０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ ワイヤ １１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ，１１Ｄ，１１Ｅ ワイヤ １２ 銀ペースト １３ ボンディングワイヤ １５ 上金型 １６ 下金型 １７ ポット １８ 封止樹脂 １９ 樹脂流動方向 ２０ ランナ ２１ ゲート ２２ 金型キャビティ部 ２３ ベント ２４A1，２４A2，２４B1，２４B2 ワイヤ ２５ めっき ２６ 半導体装置 ２７E1，２７E2，２８E1，２８E2 ワイヤ ２９ プランジャ ３０Ａ インナリード

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 リードフレームのアイランドにチップを
    搭載し、そのチップ上に設けられている接続用電極と前
    記リードフレームのインナリードとを金属製ワイヤを用
    いたワイヤボンディングで接続し、樹脂で封止した構造
    の樹脂封止型半導体装置において、 前記インナリードのうち、前記チップのコーナー部から
    のワイヤを接続すべきインナリードの先端を前記アイラ
    ンドに近付けることにより、前記チップのコーナー部か
    らのワイヤのワイヤ長を他のワイヤのワイヤ長よりも相
    対的に短くするために、各々のインナリードの先端の並
    びで造られる平面形状であるキャビティ形状を、４ｎ角
    形（ｎは、３以上の整数）としたことを特徴とする樹脂
    封止型半導体装置。
  2. 【請求項２】 リードフレームのアイランドにチップを
    搭載し、そのチップ上に設けられている接続用電極と前
    記リードフレームのインナリードとを金属製ワイヤを用
    いたワイヤボンディングで接続し、樹脂で封止した構造
    の樹脂封止型半導体装置において、 前記チップの一対角線上に位置する二つのコーナー部か
    らの各々のワイヤを最短ワイヤ長のワイヤとし、前記チ
    ップの前記一対角線と交差する対角線上に位置する一つ
    のコーナー部からのワイヤを最長ワイヤ長のワイヤとし
    たことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  3. 【請求項３】 請求項２記載の樹脂封止型半導体装置に
    おいて、 各々のインナリードの先端を、前記最長ワイヤ長のワイ
    ヤが張られる一コーナー部に対置するコーナー部から前
    記最短ワイヤ長のワイヤが張られる二つのコーナー部に
    かけては、八角形の一頂点を挟む二辺などのような、中
    膨らみの形状となるように並べ、前記最短ワイヤ長のワ
    イヤが張られる二つのコーナー部から前記最長ワイヤ長
    のワイヤが張られる一つのコーナー部にかけては、アイ
    ランドから単調に順次離れて行くように並べたことを特
    徴とする樹脂封止型半導体装置。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5923077A (en) * 1998-02-11 1999-07-13 Bourns, Inc. Passive component integrated circuit chip
MY133357A (en) * 1999-06-30 2007-11-30 Hitachi Ltd A semiconductor device and a method of manufacturing the same
US6225685B1 (en) * 2000-04-05 2001-05-01 Advanced Micro Devices, Inc. Lead frame design for reduced wire sweep having a defined gap between tie bars and lead pins
IT1317559B1 (it) * 2000-05-23 2003-07-09 St Microelectronics Srl Telaio di supporto per chip avente interconnessioni a bassa resistenza.
US6969918B1 (en) * 2001-08-30 2005-11-29 Micron Technology, Inc. System for fabricating semiconductor components using mold cavities having runners configured to minimize venting
JP4738675B2 (ja) * 2001-09-14 2011-08-03 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US20070096269A1 (en) * 2005-10-31 2007-05-03 Mediatek Inc. Leadframe for semiconductor packages
US8754513B1 (en) 2008-07-10 2014-06-17 Marvell International Ltd. Lead frame apparatus and method for improved wire bonding
JP2010153466A (ja) * 2008-12-24 2010-07-08 Elpida Memory Inc 配線基板
JP2015092635A (ja) * 2015-02-05 2015-05-14 大日本印刷株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60171734A (ja) * 1984-02-17 1985-09-05 Hitachi Ltd 半導体装置
JPS61292928A (ja) * 1985-06-21 1986-12-23 Hitachi Ltd 半導体装置
JPH01298757A (ja) * 1988-05-27 1989-12-01 Hitachi Ltd リードフレーム
US5466967A (en) * 1988-10-10 1995-11-14 Lsi Logic Products Gmbh Lead frame for a multiplicity of terminals
JPH04164357A (ja) * 1990-10-29 1992-06-10 Nec Corp 半導体装置用リードフレーム
JPH05226564A (ja) * 1992-02-14 1993-09-03 Rohm Co Ltd 半導体装置
JP2834990B2 (ja) * 1993-11-02 1998-12-14 ローム株式会社 クワッド型半導体装置用リードフレームの構造
KR950015736A (ko) * 1993-11-20 1995-06-17 김광호 반도체 장치용 리드프레임

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