JP2633572B2 - Magneto-optical recording medium - Google Patents
Magneto-optical recording mediumInfo
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- JP2633572B2 JP2633572B2 JP62198713A JP19871387A JP2633572B2 JP 2633572 B2 JP2633572 B2 JP 2633572B2 JP 62198713 A JP62198713 A JP 62198713A JP 19871387 A JP19871387 A JP 19871387A JP 2633572 B2 JP2633572 B2 JP 2633572B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気記録特性を長期間に亘って安定に保
持し続けることのできるプラスチック基板製の光磁気記
録体に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording body made of a plastic substrate, which can maintain stable magneto-optical recording characteristics for a long period of time.
基板上に保護層を介して光磁気記録層を設けた光磁気
記録体は公知である。すなわち、特開昭60−201546号公
報には、基板上に硫化カドミウム(CdS)からなる保護
層を介して記録層を設けた光磁気記録体が記載されてい
る。また、特開昭61−202351号公報には、基板上にセレ
ン化亜鉛(ZnSe)等のセレン化合物からなる保護層を介
して記録層を設けた光磁気記録体が記載されている。A magneto-optical recording medium in which a magneto-optical recording layer is provided on a substrate via a protective layer is known. That is, JP-A-60-201546 describes a magneto-optical recording medium in which a recording layer is provided on a substrate via a protective layer made of cadmium sulfide (CdS). JP-A-61-202351 describes a magneto-optical recording medium in which a recording layer is provided on a substrate via a protective layer made of a selenium compound such as zinc selenide (ZnSe).
これらの公知文献に代表される保護層を有する光磁気
記録体のうち、基板として透明プラスチックを使用した
従来のものは、保護層を有しない光磁気記録体に比べれ
ば、記録層の酸化劣化が押さえられて比較的長期間に亘
り光磁気記録特性が保持できる。しかし、光磁気記録体
の目的からいって、その記録特性の保持期間は出来る限
り長いほうがよく、この点からいってガラス基板や金属
基板に比べて光磁気記録特性保持性能の劣るプラスチッ
ク基板は、まだ改善の余地がある。Among the magneto-optical recording media having a protective layer represented by these known documents, the conventional magneto-optical recording media using a transparent plastic as a substrate has a lower oxidation degradation of the recording layer than the magneto-optical recording media having no protective layer. As a result, the magneto-optical recording characteristics can be maintained for a relatively long time. However, for the purpose of the magneto-optical recording medium, it is better that the recording characteristic retention period is as long as possible. There is still room for improvement.
事実、特開昭60−201546号公報には、磁性層の酸化劣
化をCdS層が防止し、長期に亘って安定した光磁気記録
性を維持できると一般記載があるものの、プラスチック
基板を使用したものの光磁気記録体特性の経時データは
ない。特開昭61−202351号公報にも、ガラス基板を使用
した光磁気特性の経時データがあるものの、プラスチッ
ク基板を使用したものについてはない。In fact, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-201546 generally states that the CdS layer prevents oxidative deterioration of the magnetic layer and can maintain stable magneto-optical recording properties over a long period of time, but a plastic substrate was used. However, there is no time-dependent data on the characteristics of the magneto-optical recording medium. Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-202351 also has time-lapse data of magneto-optical characteristics using a glass substrate, but does not include data using a plastic substrate.
このように、従来のプラスチック基板製の光磁気特性
が長期間に亘って安定に維持できないのは、従来使用さ
れているプラスチック基板が、ポリメチルメタクリレー
ト(PMMA)やポリカーボネート(PC)であるため、プラ
スチック自体の吸水性が高く、記録層の酸化速度を進め
ているためと考えられる。As described above, the magneto-optical characteristics of the conventional plastic substrate cannot be stably maintained over a long period of time because the conventionally used plastic substrate is polymethyl methacrylate (PMMA) or polycarbonate (PC). This is probably because the water absorption of the plastic itself is high, and the oxidation rate of the recording layer is increased.
本発明は、プラスチック基板を使用した光磁気記録体
の長期光磁気特性維持の改良を目的としたものであり、
しかも基板と保護層との密着性も良好なプラスチック製
光磁気記録体に関する。The present invention is intended to improve long-term magneto-optical characteristics of a magneto-optical recording medium using a plastic substrate,
Moreover, the present invention relates to a plastic magneto-optical recording medium having good adhesion between a substrate and a protective layer.
(問題点を解決するための手段) すなわち、本発明は、透明プラスチック基板上に少な
くとも保護層を介して光磁気記録層とが積層されてなる
光磁気記録体において、基板を構成する透明プラスチッ
クは構成モノマーが少なくともエチレンと式(1)で示
される環状オレフインとからなる共重合体であり、か
つ、共重合体中で式(1)のモノマー単位は式(2)で
示される構造を採る実質的に非晶質の共重合体であっ
て、保護層はSi3N4、AIN、ZnSe、ZnS、SiまたはCdSから
なることを特徴とする光磁気記録体である。(Means for Solving the Problems) That is, the present invention relates to a magneto-optical recording medium in which a transparent plastic substrate is laminated with a magneto-optical recording layer via at least a protective layer via a protective layer. The constituent monomer is a copolymer comprising at least ethylene and a cyclic olefin represented by the formula (1), and the monomer unit of the formula (1) in the copolymer has a structure having the structure represented by the formula (2) This is a magneto-optical recording medium characterized by being a substantially amorphous copolymer, wherein the protective layer is made of Si 3 N 4 , AIN, ZnSe, ZnS, Si or CdS.
(式中、R1〜R12は水素、アルキル基又はハロゲンであ
って各同一又は異なっていてもよく、更にR9又はR10とR
11又はR12は互いに環を形成していてもよい。nは0又
は1以上の正数であって、R5〜R8が複数回繰り返される
場合にはこれらは各同一又は異なっていてもよい。) 〔作用〕 基板を構成する透明プラスチックは、前記に示したよ
うに、少なくともエチレンと式(1)のモノマーとの共
重合体である。式(1)で示されるモノマーとしては種
々存在するが、光磁気記録時におけるレーザー光加熱に
対する耐熱性、モノマー成分の合成のし易さ、入手のし
易さ、あるいは経済性等の面から、式(1)においてn
=1のモノマーが好ましく、さらには、R1〜R12が水素
であるものが好ましい。 (Wherein, R 1 to R 12 are hydrogen, an alkyl group, or halogen, which may be the same or different, and further, R 9 or R 10 and R
11 or R 12 may form a ring with each other. n is 0 or a positive number of 1 or more, and when R 5 to R 8 are repeated a plurality of times, they may be the same or different. [Operation] The transparent plastic constituting the substrate is a copolymer of at least ethylene and the monomer of the formula (1) as described above. There are various types of monomers represented by the formula (1). However, from the viewpoints of heat resistance to laser beam heating during magneto-optical recording, ease of synthesis of monomer components, availability, and economy, etc. In equation (1), n
= 1 is preferred, and those in which R 1 to R 12 are hydrogen are preferred.
また、エチレン含量としては、エチレンと式(1)の
モノマーとの合計モル数を100としたときに、約50〜80
モル%とくに55〜70モル%のエチレン含量のものが好ま
しく使用される。The ethylene content is about 50 to 80 when the total number of moles of ethylene and the monomer of the formula (1) is 100.
Those having an ethylene content of from 55 to 70 mol% are preferably used.
上述のモノマー成分を製造するには、たとえば米国特
許3557072号公報(特公昭46−14910号公報)や特開昭57
−154133号公報の方法を適用することができる。To produce the above-mentioned monomer component, for example, US Pat. No. 3,557,072 (Japanese Patent Publication No. 46-14910) or
No. 154133 can be applied.
前記式(1)のモノマー成分とエチレンとの共重合体
には、その性質を損なわない範囲で他のモノマー成分を
共重合させてもかまわない。具体的にはα−オレフィン
や環状オレフィンなどがあり、その具体的には炭素原子
数3〜20、好適には3〜10のα−オレフィンであって、
たとえばプロピレン、1−ブテン、3−メチル−1−ブ
テン、1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテン、4−
メチル−1−ペンテン、1−ヘキサン、1−オクタン、
1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘ
キサデカン、1−エイコセン、などを例示できる。環状
オレフィンは、架橋のないシクロオレフィンやスチレン
類があり、たとえばシクロペンテン、シクロヘキセン、
3,4−ジメチルシクロペンテン、3−メチルシクロヘキ
セン、2−(2−メチルブチル)−1−シクロヘキセ
ン、スチレン、α−メチルスチレンなどを例示できる。
ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニ
ルノルボルネン、といったポリエンも同様に共重合可能
である。また、(無水)マレイン酸等の不飽和カルボン
酸類も共重合可能である。The copolymer of the monomer component of the formula (1) and ethylene may be copolymerized with another monomer component as long as its properties are not impaired. Specific examples include α-olefins and cyclic olefins, and specific examples thereof include α-olefins having 3 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 10 carbon atoms,
For example, propylene, 1-butene, 3-methyl-1-butene, 1-pentene, 3-methyl-1-pentene, 4-
Methyl-1-pentene, 1-hexane, 1-octane,
Examples thereof include 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecane, and 1-eicosene. Cyclic olefins include non-crosslinked cycloolefins and styrenes, such as cyclopentene, cyclohexene,
Examples thereof include 3,4-dimethylcyclopentene, 3-methylcyclohexene, 2- (2-methylbutyl) -1-cyclohexene, styrene, and α-methylstyrene.
Polyenes such as dicyclopentadiene, ethylidene norbornene and vinyl norbornene can be copolymerized as well. Unsaturated carboxylic acids such as (anhydride) maleic acid can also be copolymerized.
共重合体は、周知のチーグラー触媒とくにバナジウム
系のチーグラー触媒を使用して重合することにより製造
される。より詳しくは、出願人による先行特許出願(た
とえば特開昭60−168708号)に開示されている。共重合
体の特徴は、式(1)のモノマー成分が共重合体中にお
いて主として式(2)で示される構造をとっていること
であり、これにより共重合体の沃素価は通常5以下、多
くが1以下である。また、この構成をとることは13C−N
MRによっても裏付けられる。The copolymer is produced by polymerization using a well-known Ziegler catalyst, particularly a vanadium-based Ziegler catalyst. More specifically, it is disclosed in a prior patent application filed by the applicant (for example, JP-A-60-168708). A characteristic of the copolymer is that the monomer component of the formula (1) has a structure mainly represented by the formula (2) in the copolymer, whereby the iodine value of the copolymer is usually 5 or less, Many are less than one. In addition, this configuration is equivalent to 13 C-N
Supported by MR.
そして本構成をとることにより、共重合体は化学的に
安定であって、耐水性及びアルカリや酸などの耐薬品性
に優れ、更に耐溶剤性、耐熱性、耐候性にも優れてい
る。また極めて低含水率である。By adopting this configuration, the copolymer is chemically stable, excellent in water resistance and chemical resistance such as alkali and acid, and also excellent in solvent resistance, heat resistance and weather resistance. Also, it has an extremely low water content.
また、別には共重合体は実質的に非晶質であって、よ
って透明性や寸法安定性にも優れる。さらに、複屈折も
プラスチック中では、PMMAなみに小さいうえ、光線の入
射角度の変化による複屈折値の変化はほとんどなく、ほ
ぼ一定であるという従来のプラスチックにはない特性を
も示す。In addition, the copolymer is substantially amorphous, and thus has excellent transparency and dimensional stability. Further, the birefringence in plastics is as small as that of PMMA, and the birefringence value is hardly changed due to the change in the incident angle of light rays, which is almost constant.
保護層として使用される化合物は、Si3N4、AIN、ZnS
e、ZnS、SiおよびCdSから選ばれる化合物であり、これ
らは前述した特開昭60−201546号公報や特開昭61−2023
51号公報に示されているように、スパッタリングや蒸着
等の公知手段で基板上に形成可能である。Compounds used as protective layers include Si 3 N 4 , AIN, ZnS
e, ZnS, a compound selected from Si and CdS, which are described in JP-A-60-201546 and JP-A-61-2023 described above.
As shown in JP-A-51-51, it can be formed on a substrate by a known means such as sputtering or vapor deposition.
本発明のように基板として前記の如き特定の共重合体
を使用し、保護層としてこれらの化合物を基板上に形成
すると、従来のPMMAやPCの基板上に形成する場合に比べ
て、非常に高い密着性を示し、高温高湿下に長時間に亘
って放置されたとしても基板と保護層とが部分的に剥離
したりすることがない。When the specific copolymer as described above is used as the substrate as in the present invention, and these compounds are formed on the substrate as the protective layer, it is extremely different from the case where the compound is formed on a conventional PMMA or PC substrate. It exhibits high adhesiveness, and does not partially peel off the substrate and the protective layer even when left for a long time under high temperature and high humidity.
また、屈折率nの保護層の形成にあたって、その膜厚
dを再生に使用するレーザー光波長λ(nm)に対してd
=λ/4nの関係を満たすように形成すると、エンハンス
効果が生じてカー回転角が大きくなり、読取り信号強度
が大きくなりS/N比を大幅に向上させることができる。In forming a protective layer having a refractive index of n, the thickness d of the protective layer is determined by the following formula:
= Λ / 4n, the enhancement effect occurs, the Kerr rotation angle increases, the read signal intensity increases, and the S / N ratio can be greatly improved.
通常保護層の膜厚は、均一平滑性の面から100Å以上
の厚みで形成される。Normally, the protective layer is formed with a thickness of 100 mm or more from the viewpoint of uniform smoothness.
保護層上に形成される光磁気記録層は、光磁気効果を
生じる磁性層であればよく、たとえばFe,Co等の遷移金
属とGd、Tb、Dy等の希土元素とからなる、膜面に垂直な
磁化容易軸を有した非晶質垂直磁化膜が例示できる。ま
た、PtやPdといった貴金属成分、Tiといった難腐食性成
分を遷移金属や希土類元素の一部と置換したものでもよ
い。これら光磁気記録層の形成も公知の方法で達成で
き、たとえばスパッタリング等で形成される。The magneto-optical recording layer formed on the protective layer may be a magnetic layer that produces a magneto-optical effect, for example, a film surface made of a transition metal such as Fe or Co and a rare earth element such as Gd, Tb, or Dy. An amorphous perpendicular magnetization film having an easy axis of magnetization perpendicular to the film can be exemplified. Also, a noble metal component such as Pt or Pd, or a hardly corrosive component such as Ti may be substituted with a part of a transition metal or a rare earth element. The formation of these magneto-optical recording layers can also be achieved by a known method, for example, by sputtering or the like.
本発明においては、そのほか光磁気記録層上にさらに
保護層を形成してもよい。In the present invention, a protective layer may be further formed on the magneto-optical recording layer.
本発明は、基板を構成するプラスチックとして上記の
ような特定の共重合体を選択すると共に、保護層も上記
のような特定の6種類の化合物を選び、両者を組み合わ
せることによって、プラスチック基板製の光磁気記録体
として飛躍的な磁気記録特性の長期安定性を達成するこ
とができる。The present invention selects a specific copolymer as described above as a plastic constituting a substrate, and also selects a specific six kinds of compounds as described above for a protective layer, and combines both to form a plastic substrate. As a magneto-optical recording medium, remarkable long-term stability of magnetic recording characteristics can be achieved.
以下、本発明の内容を好適な例でもって説明するが、
本発明は特にことわりのない限り何らこれらの実施例に
制限されるものではない。Hereinafter, the content of the present invention will be described with a preferred example,
The present invention is not limited to these Examples unless otherwise specified.
また、以下の実施例で行った試験方法は次のとおりで
ある。The test methods performed in the following examples are as follows.
(1)光弾性定数の測定 プレス成形によって成形した10×10×0.5mmの大きさ
の試験片に対して、無荷重時あるいは50g、100g、200g
の分銅をそれぞれつり下げて応力のかかった状態時での
試験片の複屈折度を、波長632.8mmのヘリウム−ネオン
レーザー光源の透過型エリプソメータを用いて測定し、
複屈折度と応力の関係から光弾性定数を求めた。(1) Measurement of photoelastic constant For a test piece of 10 × 10 × 0.5mm formed by press molding, at no load or 50g, 100g, 200g
The birefringence of the test piece in a state where stress was applied by suspending the weight of each was measured using a transmission ellipsometer of a helium-neon laser light source with a wavelength of 632.8 mm,
The photoelastic constant was determined from the relationship between the birefringence and the stress.
(2)レターゼーション(ダブルパス) (無荷重時の複屈折度×試験片の厚み)×2で求めた。(2) Retension (double pass) It was determined by (birefringence under no load × thickness of test piece) × 2.
<参考実施例1> エチレン含有率60モル%のエチレンとテトラシクロド
デゼン の共重合体(13C−NMRによって共重合体中においてテト
ラシクロドデセンは の構造を採っていることが確認された)と、従来の光デ
ィスクの原料ポリマーであるポリメチルメタクリレート
(協和ガス化学工業、T10−10)、ポリカーボネート
(帝人化成、AD−5503)の光弾性定数を測定した。Reference Example 1 Ethylene having an ethylene content of 60 mol% and tetracyclododecene ( 13 C-NMR reveals that tetracyclododecene in the copolymer is And the photoelastic constants of polymethyl methacrylate (T10-10, Kyowa Gas Chemical Industry Co., Ltd.) and polycarbonate (Teijin Kasei, AD-5503), which are the raw materials for conventional optical discs. It was measured.
また、レーザーの照射角度を鉛直方向を0度とし、斜
めに10度ずつ変化させていった時のレターゼーション
(ダブルパス)を円形に成形された試験片の中心から半
径r mmの距離において測定した。結果を第1表に示す。Also, the laser irradiation angle was set to 0 degree in the vertical direction, and the retension (double pass) was measured at a distance of radius r mm from the center of the circularly shaped test piece when the angle was changed by 10 degrees diagonally. . The results are shown in Table 1.
この結果を見ても判るとおり、本発明に使用する共重
合体は光弾性定数が小さいので、射出成形のように残留
応力が発生するような成形条件で基板を成形しても光学
的影響をほとんど示さないことが予測できる。一方、ポ
リカーボネートは光弾性定数が大きいので射出成形で大
直径の基板成形を行うと残留応力により光学的歪が生
じ、光ディスクとして使用できないことが判る。さら
に、光弾性定数がほぼ同一のポリメチルメタクリレート
は、レーザの入射角度の変化による複屈折の変化がある
ことも判る。一方、本発明で使用する共重合体は入射角
度が変化しても複屈折が一定である。故にレーザで書き
込みや読み出しを行うためにディスク中でレーザを絞り
込む光ディスク用途においてポリメチルメタクリレート
は本願発明で使用するポリマーよりも性能が劣ることが
判る。 As can be seen from the results, since the copolymer used in the present invention has a small photoelastic constant, the optical effect is not affected even if the substrate is molded under molding conditions that cause residual stress as in injection molding. It can be expected that it hardly shows. On the other hand, since polycarbonate has a large photoelastic constant, when a large-diameter substrate is formed by injection molding, optical distortion occurs due to residual stress, and it can be seen that polycarbonate cannot be used as an optical disk. Furthermore, it is also found that polymethyl methacrylate having almost the same photoelastic constant has a change in birefringence due to a change in the incident angle of the laser. On the other hand, the copolymer used in the present invention has a constant birefringence even when the incident angle changes. Therefore, it can be seen that polymethyl methacrylate is inferior in performance to the polymer used in the present invention in optical disc applications where the laser is narrowed down in the disc in order to perform writing and reading with the laser.
<参考実施例2> 参考実施例1のエチレン・テトラシクロドデセン共重
合体上に本発明の保護層として使用する化合物を含む種
々の化合物の膜をスパッタリング(50W,1分)で形成
し、その製膜速度を第2表に示した。Reference Example 2 Films of various compounds including the compound used as the protective layer of the present invention were formed on the ethylene / tetracyclododecene copolymer of Reference Example 1 by sputtering (50 W, 1 minute), Table 2 shows the film forming speed.
この結果を見ても判るとおり、ZnSeとCdSの製膜速度
が著しく大きくて、生産性の面からは両化合物がとくに
優れることが判る。 As can be seen from these results, the film formation rates of ZnSe and CdS are remarkably high, and both compounds are particularly excellent in terms of productivity.
この結果を見ても判るとおり、ZnSeとCdSの製膜速度
が著しく大きくて、生産性の面からは両化合物がとくに
優れることが判る。As can be seen from these results, the film formation rates of ZnSe and CdS are remarkably high, and both compounds are particularly excellent in terms of productivity.
<実施例1〜6および比較例1〜10> 参考実施例1で使用したエチレン・テトラシクロドデ
セン共重合体(PO)、PMMA、PCを用いて直径130mmのデ
ィスク基板を成形し、この基板上に第3表に示すような
化合物を保護層(中間層)として500Åの厚みでスパッ
タリングで形成、さらにその上にTbFeからなる光磁気記
録層をスパッタリングで1000Åの厚みで形成し、さらに
その上に500Åの厚みの保護層をスパッタリングで形成
した。<Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 10> A disk substrate having a diameter of 130 mm was formed using the ethylene / tetracyclododecene copolymer (PO), PMMA, and PC used in Reference Example 1, and this substrate was formed. A compound as shown in Table 3 above is formed as a protective layer (intermediate layer) by sputtering at a thickness of 500 °, and a magneto-optical recording layer made of TbFe is further formed thereon by sputtering at a thickness of 1000 °, and Then, a protective layer having a thickness of 500 mm was formed by sputtering.
このようにして得られた光磁気記録体を、70℃、85%
RHの条件下に7日間放置および−20℃を2時間、+60℃
を2時間交互に放置するヒートサイクルテストを7日間
続けた後のそれぞれの保磁力(Hc)を測定した。結果を
3表に示す。The magneto-optical recording medium thus obtained was subjected to a temperature of 70 ° C. and 85%
Leave under RH condition for 7 days and -20 ℃ for 2 hours at + 60 ℃
Were alternately left for 2 hours, and after a heat cycle test was continued for 7 days, the respective coercive forces (Hc) were measured. The results are shown in Table 3.
この結果を見ても判るとおり、本発明の光磁気記録体
は初期保磁力を極めて安定に維持しているのに対し、た
とえ基板が本発明と同一であっても保護層が異なるもの
は保磁力が大幅に低下する。また、保護層が本発明と同
一であっても、基板がPMMAやPCでは保磁力が低下するこ
とも判る。 As can be seen from the results, the magneto-optical recording medium of the present invention maintains the initial coercive force extremely stably, while those having a different protective layer are preserved even if the substrate is the same as the present invention. Magnetic force is greatly reduced. Also, it can be seen that even if the protective layer is the same as that of the present invention, the coercive force decreases when the substrate is PMMA or PC.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−292601(JP,A) 特開 昭61−243977(JP,A) 特開 昭61−243976(JP,A) 特開 昭61−237243(JP,A) 特開 昭57−169996(JP,A) 特開 昭60−201546(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-61-292601 (JP, A) JP-A-61-243977 (JP, A) JP-A-61-243976 (JP, A) JP-A-61-43976 237243 (JP, A) JP-A-57-169996 (JP, A) JP-A-60-201546 (JP, A)
Claims (1)
層を介して光磁気記録体層が積層されて成る光磁気記録
体において、基板を構成する透明プラスチックは構成モ
ノマーが少なくともエチレンと式(1)で示される環状
オレフィンとからなる共重合体であり、かつ、共重合体
中で式(1)のモノマー単位は式(2)で示される構造
を採る実質的に非晶質の共重合体であって、保護層はSi
3N4、AIN、ZnSe、ZnS、SiまたはCdSからなることを特徴
とする光磁気記録体。 (式中、R1〜R12は水素、アルキル基又はハロゲンであ
って各同一又は異なっていてもよく、更にR9又はR10とR
11又はR12は互いに環を形成していてもよい。nは0又
は1以上の正数であって、R5〜R8が複数回繰り返される
場合にはこれらは各同一又は異なっていてもよい。)In a magneto-optical recording medium comprising a transparent plastic substrate and a magneto-optical recording layer laminated on at least a protective layer via a protective layer, the transparent plastic forming the substrate is composed of at least ethylene and ethylene (1). And a monomer unit of the formula (1) is a substantially amorphous copolymer having a structure represented by the formula (2). And the protective layer is Si
3 N 4, AIN, ZnSe, ZnS, a magneto-optical recording medium, characterized in that it consists of Si or CdS. (Wherein, R 1 to R 12 are hydrogen, an alkyl group, or halogen, which may be the same or different, and further, R 9 or R 10 and R
11 or R 12 may form a ring with each other. n is 0 or a positive number of 1 or more, and when R 5 to R 8 are repeated a plurality of times, they may be the same or different. )
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JP62198713A JP2633572B2 (en) | 1987-08-08 | 1987-08-08 | Magneto-optical recording medium |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62198713A JP2633572B2 (en) | 1987-08-08 | 1987-08-08 | Magneto-optical recording medium |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6442043A JPS6442043A (en) | 1989-02-14 |
JP2633572B2 true JP2633572B2 (en) | 1997-07-23 |
Family
ID=16395773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62198713A Expired - Lifetime JP2633572B2 (en) | 1987-08-08 | 1987-08-08 | Magneto-optical recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2633572B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0790567A (en) * | 1993-07-30 | 1995-04-04 | Hitachi Metals Ltd | Target material for magneto-optical recording medium and its production |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2619856B2 (en) * | 1985-06-21 | 1997-06-11 | 三井石油化学工業株式会社 | Optical materials |
-
1987
- 1987-08-08 JP JP62198713A patent/JP2633572B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6442043A (en) | 1989-02-14 |
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