JP2642620B2 - 光カード - Google Patents
光カードInfo
- Publication number
- JP2642620B2 JP2642620B2 JP61133441A JP13344186A JP2642620B2 JP 2642620 B2 JP2642620 B2 JP 2642620B2 JP 61133441 A JP61133441 A JP 61133441A JP 13344186 A JP13344186 A JP 13344186A JP 2642620 B2 JP2642620 B2 JP 2642620B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- card
- optical
- thin film
- oxide thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【産業上の利用分野】 本発明は、キャッシュカード、クレジットカード、ID
カードなどにおいて、必要な情報の書き込みおよび読み
出しを光学的な記録および再生手段によって行なう光カ
ードの改良に関する。
カードなどにおいて、必要な情報の書き込みおよび読み
出しを光学的な記録および再生手段によって行なう光カ
ードの改良に関する。
テルル、ビスマスなどの低融点金属の薄膜を基材上に
設け、レーザービームなどを照射して薄膜の一部に変化
を生じさせて記録を行ない、記録された情報を光学的に
再生する光記録再生の技術がある。光記録再生技術の利
点は、記録される情報密度がきわめて高く、従って取扱
える情報量が、従来の磁気記録再生技術によるものやIC
を利用したものにくらべて、飛躍的に大きいことであ
る。 そこで、光記録再生技術を各種のカード類に適用する
ことが試みられている。 しかし、上記の光記録技術においてカードに情報を記
録する場合、カードに１枚ずつレーザービームで情報を
書き込まなくてはならず、その作業量は膨大で量産に適
さない。発行枚数の多いキャッシュカード、クレジット
カード、IDカードなどを対象にこの技術を実用化できる
よう、量産が容易で、コストの低い光カードの開発が要
望されていた。 出願人は、上記の要望にこたえた光カードを発明し、
すでに提案した（特願昭60−283268号）。その光カード
は、カード基材上に光情報パターンを記録する金属薄膜
層、保護層および硬化樹脂層を積層してなる。各カード
に共通な情報パターンの形成は一括してフォトレジスト
層のエッチングで行ない、固有の情報パターンは１枚ご
とにレーザービームにより書き込むものであって、それ
により、低コストの光カードの量産が実現した。 ところが、光カードの試用の過程で、情報の書き込み
の誤りや読み取りの誤りが生じることが経験された。そ
の原因を調査したところ、長期にわたる携帯や度々の取
扱いによって、光カードの表面に傷ができたり、ホコリ
が付着してこれが光学的操作の障害になるという事実が
判明した。
設け、レーザービームなどを照射して薄膜の一部に変化
を生じさせて記録を行ない、記録された情報を光学的に
再生する光記録再生の技術がある。光記録再生技術の利
点は、記録される情報密度がきわめて高く、従って取扱
える情報量が、従来の磁気記録再生技術によるものやIC
を利用したものにくらべて、飛躍的に大きいことであ
る。 そこで、光記録再生技術を各種のカード類に適用する
ことが試みられている。 しかし、上記の光記録技術においてカードに情報を記
録する場合、カードに１枚ずつレーザービームで情報を
書き込まなくてはならず、その作業量は膨大で量産に適
さない。発行枚数の多いキャッシュカード、クレジット
カード、IDカードなどを対象にこの技術を実用化できる
よう、量産が容易で、コストの低い光カードの開発が要
望されていた。 出願人は、上記の要望にこたえた光カードを発明し、
すでに提案した（特願昭60−283268号）。その光カード
は、カード基材上に光情報パターンを記録する金属薄膜
層、保護層および硬化樹脂層を積層してなる。各カード
に共通な情報パターンの形成は一括してフォトレジスト
層のエッチングで行ない、固有の情報パターンは１枚ご
とにレーザービームにより書き込むものであって、それ
により、低コストの光カードの量産が実現した。 ところが、光カードの試用の過程で、情報の書き込み
の誤りや読み取りの誤りが生じることが経験された。そ
の原因を調査したところ、長期にわたる携帯や度々の取
扱いによって、光カードの表面に傷ができたり、ホコリ
が付着してこれが光学的操作の障害になるという事実が
判明した。
本発明の目的は、キャッシュカード、クレジットカー
ド、IDカードなどの記録および再生を光学的に行なう光
カードにおいて、低コストで量産することができ、しか
も光カードの携帯時や使用時に、その表面に傷がついた
り、ホコリが付着したりすることを防止し、情報の書き
込みの誤りや読み取りの誤りが生じることのない光カー
ドを提供することにある。
ド、IDカードなどの記録および再生を光学的に行なう光
カードにおいて、低コストで量産することができ、しか
も光カードの携帯時や使用時に、その表面に傷がついた
り、ホコリが付着したりすることを防止し、情報の書き
込みの誤りや読み取りの誤りが生じることのない光カー
ドを提供することにある。
本発明の光カードは、第１および第２図に示すよう
に、ポリ塩化ビニル製のカード基材１の表面に印刷層を
設けるとともに裏面に磁気記録層を設けたものの印刷層
の上に、光情報パターン３を記録するためのTe酸化物薄
膜からなる光記録層４、ポリカーボネート樹脂からなる
光情報パターン保護層５、およびシリコーン硬化樹脂か
らなり界面活性剤による帯電防止処理を施した表面保護
層６を積層してなり、複数のカードに共通の情報を前記
Te酸化物薄膜層にフォトエッチングによりあらかじめ形
成してある光カードである。
に、ポリ塩化ビニル製のカード基材１の表面に印刷層を
設けるとともに裏面に磁気記録層を設けたものの印刷層
の上に、光情報パターン３を記録するためのTe酸化物薄
膜からなる光記録層４、ポリカーボネート樹脂からなる
光情報パターン保護層５、およびシリコーン硬化樹脂か
らなり界面活性剤による帯電防止処理を施した表面保護
層６を積層してなり、複数のカードに共通の情報を前記
Te酸化物薄膜層にフォトエッチングによりあらかじめ形
成してある光カードである。
本発明の光カードは、表面または表面および裏面に帯
電防止処理を施した硬化樹脂層を設けてあるので、カー
ドの携帯時や使用時に傷がつくことが少い。従って、こ
の傷にゴミがつまるということも避けられる。また静電
気が起きないので、ホコリが付着することが防げる。 光カードに記録すべき情報のうち、複数のカードに共
通のものは、カード製造時にあらかじめTe酸化物薄膜層
のフォトエッチングにより記録しておくことができ、量
産が容易である。一方、それぞれのカードに固有の情報
は、レーザービームによりTe酸化物薄膜層内に相転移を
生じさせて記録する。
電防止処理を施した硬化樹脂層を設けてあるので、カー
ドの携帯時や使用時に傷がつくことが少い。従って、こ
の傷にゴミがつまるということも避けられる。また静電
気が起きないので、ホコリが付着することが防げる。 光カードに記録すべき情報のうち、複数のカードに共
通のものは、カード製造時にあらかじめTe酸化物薄膜層
のフォトエッチングにより記録しておくことができ、量
産が容易である。一方、それぞれのカードに固有の情報
は、レーザービームによりTe酸化物薄膜層内に相転移を
生じさせて記録する。
カード基材の材質は、常用の磁気カードと同様でよ
く、硬質のポリ塩化ビニル樹脂を用いる。色彩を施した
り印刷を行なったりするため、白色のものが適当であ
る。折り曲げに対する抵抗が必要ならば、金属の板や
綱、織布や布織布を用いて補強するなど、積層材として
もよい。 Te酸化物薄膜層は、蒸着、スパッタリングなどの手段
により形成する。その厚さは、200Å〜10,000Å、好ま
しくは1,000Å〜5,000Åである。 光情報パターンを記録するTe酸化物薄膜層の形成に当
っては、カード基材の表面または保護層の裏面にTe酸化
物薄膜層およびフォトレジスト層を積層し、フォトマス
クを介して露光した後、現像およびエッチングして、各
カードに共通の情報を書き込むとよい。フォトレジスト
層は、常用のフォトレジストの材料を用い、ロールコー
ト法など任意の方法で塗布して形成すればよい。エッチ
ングも、常法に従って実施すればよい。 ポリカーボネート樹脂からなる光情報パターン保護層
は、カードのTe酸化物薄膜層を保護するものである。保
護層に要求される特性は、透明性が高いこと、平滑であ
ること、および厚みムラのないことである。最も好まし
い保護層材料として、ポリカーボネート樹脂フィルムを
用いる。適切な厚さは、数μｍ〜800μｍ程度である。 保護フィルムの面には、積層する他の材料との接着力
を向上させるため、コロナ放電、プラズマ処理などの物
理的な処理、酸を用いた酸化処理やプライマーの塗布な
どの処理を、必要に応じて行なうとよい。 さらに、保護層上に、下層の光情報パターンの再生に
支障がない限り、印刷層を設けてもよい。 シリコーン硬化樹脂層は、カードの携帯時や使用時に
傷がつくことと、それに伴ない傷の中に汚染物質がつま
ることを防止し、光カードの耐久性、記録精度および再
生の精度を向上させる。硬化樹脂層の材料としては、保
護層の特性を低下させないことが重要であって、最適の
材料としてここではシリコーン硬化樹脂を用いる。 帯電防止剤としては、カチオン性、アニオン性、ノニ
オン性および両性の界面活性剤からえらんだものを用い
ることができる。カチオン性とくに第四級アンモニウム
塩からなる界面活性剤が好ましい。第四級アンモニウム
塩の具体例としては、ジドデシルジプロピルアンモニウ
ムブロミド、オクチルシクロヘキシルジメチルアンモニ
ウムクロリド、さらにはカチオン型のアミド基を有する
第四級アンモニウム塩が挙げられる。界面活性剤による
帯電防止処理は、界面活性剤を硬化樹脂層に練り込む
か、またはその表面に薄膜層を形成させるかして行な
う。反射光で読み取る場合は、第１図に示すように、表
面に帯電防止処理を施した硬化樹脂層６を設ければよ
い。透過光で読み取る場合は、第２図に示すように、表
面と裏面の両方に、帯電防止処理を施した硬化樹脂層６
を設ける。 カード基材とその上にある層との間を接着するために
必要があれば、接着剤を使用する。光情報パターンを記
録するTe酸化物薄膜層の面積が保護層よりも小さけれ
ば、保護層とカード基材とが直接接し、接着することも
ある。従って、接着剤は、カード基材とTe酸化物薄膜層
の接着性を加えて、保護層との接着性も考慮して選択す
る。接着剤の具体的は例は、エポキシ系、ウレタン系、
アクリル系もしくはシアノアクリレート系のものであ
る。 本発明の光カードの製造工程には種々の態様がある。
それらを説明すれば、まず、第１図および第２図におい
て、保護層５の表面に帯電防止処理を施した硬化樹脂層
６を設けた後、保護層５の裏面に光情報パターン３を記
録するTe酸化物薄膜層４を形成し、カード基材１上に接
着するという製造方法があり、この場合は、カード基材
１と光情報カード３を記録するTe酸化物薄膜層４との層
間に接着剤層２を設ける。 Te酸化物薄膜層４と保護層５との層間にアンダーコー
ト層（図示しない）を設けてもよい。さらに、保護層５
と帯電防止処理を施した硬化樹脂層６との層間、および
カード基材１と帯電防止処理を施した硬化樹脂層６との
層間に、プライマー層（図示してない）を設けてもよ
い。 以下、本発明の光カードを具体例をもって説明する。 厚さ400μｍの透明ポリカーボネートシートの表面に
アンダーコート剤「プライマーPC−４」（信越化学）を
グラビア法により塗布し、その上にシリコーン系硬化樹
脂剤「X12−2150A」および「Ｘ−12−2150B」（信越化
学）の10:1混合物をグラビア法により塗布し、100℃で3
0分間加熱して硬化樹脂層を形成し、さらに、界面活性
剤「スタチサイド」（米国アナリティカル・ケミカル・
ラボラトリー・オブ・スコーキー社製）を薄膜層を表面
に形成したシートを用意した。 このシートの裏面をフレオン洗浄し、続いて80℃の温
度で30分間熱処理した後、テルル酸化物薄膜層を形成し
た。次いで、Te酸化物薄膜層の表面にフォトレジスト
「WAYCOAT HPR204」（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー）を、ロールコーターで、乾燥時の厚さが１
μｍになるように塗布し、100℃で20分間プリベーキン
グしてフォトレジスト層とした。 露光用マスクとして、電子線描画装置により光情報パ
ターンを書き込んだものを用い、このマスクを上記のフ
ォトレジスト層に密着させ、マスクの上から紫外線照射
を行なうことによりパターン露光した。 露光後、現像液「LST」（富士ハントエレクトロニク
ステクノロジー）に浸漬して露光部のフォトレジストを
溶解除去した。続いて100℃の温度で20分間ポストベー
キングし、腐食液（リン酸16部、酢酸２部、硝酸１部お
よび水１部からなる。いずれも部は容量部を示す。）に
３分間浸漬し、露光部のTe酸化物薄膜層を除去して、光
情報パターンをパターニングしたTe酸化物薄膜層を形成
した。 一方、厚さ300μｍの白色硬質ポリ塩化ビニルシート
の表面にオフセット印刷で印刷を施し、裏面には磁気ス
トライプを転写法で設けたシートを用意した。 このシートの表面と前記ポリカーボネートシートのTe
酸化物薄膜層のが相対するようにして、アクリル樹脂系
感熱接触剤を介して貼り合わせ、表面温度110℃の熱ロ
ールを用いて圧着し、光カード素材を形成した。 次に、この素材を打抜き金型でカード形状に打抜き、
書き込みや読み取りに支障がない光カードを得た。
く、硬質のポリ塩化ビニル樹脂を用いる。色彩を施した
り印刷を行なったりするため、白色のものが適当であ
る。折り曲げに対する抵抗が必要ならば、金属の板や
綱、織布や布織布を用いて補強するなど、積層材として
もよい。 Te酸化物薄膜層は、蒸着、スパッタリングなどの手段
により形成する。その厚さは、200Å〜10,000Å、好ま
しくは1,000Å〜5,000Åである。 光情報パターンを記録するTe酸化物薄膜層の形成に当
っては、カード基材の表面または保護層の裏面にTe酸化
物薄膜層およびフォトレジスト層を積層し、フォトマス
クを介して露光した後、現像およびエッチングして、各
カードに共通の情報を書き込むとよい。フォトレジスト
層は、常用のフォトレジストの材料を用い、ロールコー
ト法など任意の方法で塗布して形成すればよい。エッチ
ングも、常法に従って実施すればよい。 ポリカーボネート樹脂からなる光情報パターン保護層
は、カードのTe酸化物薄膜層を保護するものである。保
護層に要求される特性は、透明性が高いこと、平滑であ
ること、および厚みムラのないことである。最も好まし
い保護層材料として、ポリカーボネート樹脂フィルムを
用いる。適切な厚さは、数μｍ〜800μｍ程度である。 保護フィルムの面には、積層する他の材料との接着力
を向上させるため、コロナ放電、プラズマ処理などの物
理的な処理、酸を用いた酸化処理やプライマーの塗布な
どの処理を、必要に応じて行なうとよい。 さらに、保護層上に、下層の光情報パターンの再生に
支障がない限り、印刷層を設けてもよい。 シリコーン硬化樹脂層は、カードの携帯時や使用時に
傷がつくことと、それに伴ない傷の中に汚染物質がつま
ることを防止し、光カードの耐久性、記録精度および再
生の精度を向上させる。硬化樹脂層の材料としては、保
護層の特性を低下させないことが重要であって、最適の
材料としてここではシリコーン硬化樹脂を用いる。 帯電防止剤としては、カチオン性、アニオン性、ノニ
オン性および両性の界面活性剤からえらんだものを用い
ることができる。カチオン性とくに第四級アンモニウム
塩からなる界面活性剤が好ましい。第四級アンモニウム
塩の具体例としては、ジドデシルジプロピルアンモニウ
ムブロミド、オクチルシクロヘキシルジメチルアンモニ
ウムクロリド、さらにはカチオン型のアミド基を有する
第四級アンモニウム塩が挙げられる。界面活性剤による
帯電防止処理は、界面活性剤を硬化樹脂層に練り込む
か、またはその表面に薄膜層を形成させるかして行な
う。反射光で読み取る場合は、第１図に示すように、表
面に帯電防止処理を施した硬化樹脂層６を設ければよ
い。透過光で読み取る場合は、第２図に示すように、表
面と裏面の両方に、帯電防止処理を施した硬化樹脂層６
を設ける。 カード基材とその上にある層との間を接着するために
必要があれば、接着剤を使用する。光情報パターンを記
録するTe酸化物薄膜層の面積が保護層よりも小さけれ
ば、保護層とカード基材とが直接接し、接着することも
ある。従って、接着剤は、カード基材とTe酸化物薄膜層
の接着性を加えて、保護層との接着性も考慮して選択す
る。接着剤の具体的は例は、エポキシ系、ウレタン系、
アクリル系もしくはシアノアクリレート系のものであ
る。 本発明の光カードの製造工程には種々の態様がある。
それらを説明すれば、まず、第１図および第２図におい
て、保護層５の表面に帯電防止処理を施した硬化樹脂層
６を設けた後、保護層５の裏面に光情報パターン３を記
録するTe酸化物薄膜層４を形成し、カード基材１上に接
着するという製造方法があり、この場合は、カード基材
１と光情報カード３を記録するTe酸化物薄膜層４との層
間に接着剤層２を設ける。 Te酸化物薄膜層４と保護層５との層間にアンダーコー
ト層（図示しない）を設けてもよい。さらに、保護層５
と帯電防止処理を施した硬化樹脂層６との層間、および
カード基材１と帯電防止処理を施した硬化樹脂層６との
層間に、プライマー層（図示してない）を設けてもよ
い。 以下、本発明の光カードを具体例をもって説明する。 厚さ400μｍの透明ポリカーボネートシートの表面に
アンダーコート剤「プライマーPC−４」（信越化学）を
グラビア法により塗布し、その上にシリコーン系硬化樹
脂剤「X12−2150A」および「Ｘ−12−2150B」（信越化
学）の10:1混合物をグラビア法により塗布し、100℃で3
0分間加熱して硬化樹脂層を形成し、さらに、界面活性
剤「スタチサイド」（米国アナリティカル・ケミカル・
ラボラトリー・オブ・スコーキー社製）を薄膜層を表面
に形成したシートを用意した。 このシートの裏面をフレオン洗浄し、続いて80℃の温
度で30分間熱処理した後、テルル酸化物薄膜層を形成し
た。次いで、Te酸化物薄膜層の表面にフォトレジスト
「WAYCOAT HPR204」（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー）を、ロールコーターで、乾燥時の厚さが１
μｍになるように塗布し、100℃で20分間プリベーキン
グしてフォトレジスト層とした。 露光用マスクとして、電子線描画装置により光情報パ
ターンを書き込んだものを用い、このマスクを上記のフ
ォトレジスト層に密着させ、マスクの上から紫外線照射
を行なうことによりパターン露光した。 露光後、現像液「LST」（富士ハントエレクトロニク
ステクノロジー）に浸漬して露光部のフォトレジストを
溶解除去した。続いて100℃の温度で20分間ポストベー
キングし、腐食液（リン酸16部、酢酸２部、硝酸１部お
よび水１部からなる。いずれも部は容量部を示す。）に
３分間浸漬し、露光部のTe酸化物薄膜層を除去して、光
情報パターンをパターニングしたTe酸化物薄膜層を形成
した。 一方、厚さ300μｍの白色硬質ポリ塩化ビニルシート
の表面にオフセット印刷で印刷を施し、裏面には磁気ス
トライプを転写法で設けたシートを用意した。 このシートの表面と前記ポリカーボネートシートのTe
酸化物薄膜層のが相対するようにして、アクリル樹脂系
感熱接触剤を介して貼り合わせ、表面温度110℃の熱ロ
ールを用いて圧着し、光カード素材を形成した。 次に、この素材を打抜き金型でカード形状に打抜き、
書き込みや読み取りに支障がない光カードを得た。
本発明の光カードは、携帯時や使用時に傷がつくこと
が防止され、かつホコリが付着することも防止されるの
で、情報の書き込みの誤りや読み取りの誤りが生じるこ
とがないし、耐久性もすぐれている。この光カードは、
どのカードにも共通の情報パターンはエッチング方式で
行なうという、前記のすでに提案した発明を利用できる
ので、その効果である、量産が容易でコストが安いとい
うメリットを享受できる。
が防止され、かつホコリが付着することも防止されるの
で、情報の書き込みの誤りや読み取りの誤りが生じるこ
とがないし、耐久性もすぐれている。この光カードは、
どのカードにも共通の情報パターンはエッチング方式で
行なうという、前記のすでに提案した発明を利用できる
ので、その効果である、量産が容易でコストが安いとい
うメリットを享受できる。
第１図および第２図は、いずれも本発明の光カードの一
例を示す模式的な断面図である。 １……カード基材 ２……接着剤層 ３……光情報パターン ４……Te酸化物薄膜層 ５……光情報パターン保護層 ６……帯電防止処理を施した硬化樹脂層
例を示す模式的な断面図である。 １……カード基材 ２……接着剤層 ３……光情報パターン ４……Te酸化物薄膜層 ５……光情報パターン保護層 ６……帯電防止処理を施した硬化樹脂層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−167142（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−77647（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−70694（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−193559（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−113341（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−194131（ＪＰ，Ｕ)
Claims (2)
- 【請求項１】ポリ塩化ビニル製のカード基材の表面に印
刷層を設けるとともに裏面に磁気記録層を設けたものの
印刷層の上に、光情報パターンを記録するためのTe酸化
物薄膜からなる光記録層、ポリカーボネート樹脂からな
る光情報パターン保護層、およびシリコーン硬化樹脂か
らなり界面活性剤による帯電防止処理を施した表面保護
層を積層してなり、複数のカードに共通の情報を前記Te
酸化物薄膜層にフォトエッチングによりあらかじめ形成
してある光カード。 - 【請求項２】カード基材または印刷層とTe酸化物薄膜層
との間に接着剤層を設けた特許請求の範囲第１項の光カ
ード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61133441A JP2642620B2 (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 光カード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61133441A JP2642620B2 (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 光カード |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62289938A JPS62289938A (ja) | 1987-12-16 |
| JP2642620B2 true JP2642620B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=15104843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61133441A Expired - Lifetime JP2642620B2 (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 光カード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2642620B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2545253B2 (ja) * | 1987-12-19 | 1996-10-16 | 藤森工業株式会社 | 光カードの光記録層保護用積層体 |
| JPH02218031A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-08-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 光テープ媒体 |
| DE69821611D1 (de) * | 1998-08-28 | 2004-03-18 | Agfa Gevaert Nv | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement mit antistatischen Schichten |
| KR101953921B1 (ko) * | 2010-03-03 | 2019-03-04 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | 적층체 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5770694A (en) * | 1980-10-20 | 1982-05-01 | Toshiba Corp | Information-recording member |
| JPS60167142A (ja) * | 1984-02-09 | 1985-08-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ−記録材料 |
| JPS60256946A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 円盤保護硬化被膜の形成方法 |
-
1986
- 1986-06-09 JP JP61133441A patent/JP2642620B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62289938A (ja) | 1987-12-16 |
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