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JP2592340Y2 - 2-axis photoelectric autocollimator - Google Patents

2-axis photoelectric autocollimator

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Publication number
JP2592340Y2
JP2592340Y2 JP1993008982U JP898293U JP2592340Y2 JP 2592340 Y2 JP2592340 Y2 JP 2592340Y2 JP 1993008982 U JP1993008982 U JP 1993008982U JP 898293 U JP898293 U JP 898293U JP 2592340 Y2 JP2592340 Y2 JP 2592340Y2
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JP
Japan
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light
axis
slit
ray
objective lens
Prior art date
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JP1993008982U
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Japanese (ja)
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JPH0664106U (en
Inventor
孝彦 松本
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Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この考案は2軸光電式オートコリ
メータに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION This invention relates to a two-axis photoelectric autocollimator.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3は従来の2軸光電式オートコリメー
タの全体構成図である。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is an overall configuration diagram of a conventional two-axis photoelectric autocollimator.

【0003】従来の2軸光電式オ−トコリメ−タは、対
物レンズ106の後側焦点位置に配置された焦点板10
3と、この焦点板103に光を照射する照明系と、対物
レンズ106の後側光路中で焦点板103と共役な位置
に配置された2個のCCDラインセンサ110,130
とを備えている。
A conventional two-axis photoelectric autocollimator comprises a reticle 10 disposed at a rear focal position of an objective lens 106.
3, an illumination system for irradiating the focusing screen 103 with light, and two CCD line sensors 110 and 130 arranged at positions conjugate with the focusing screen 103 in the rear optical path of the objective lens 106.
And

【0004】光源101及びコンデンサレンズ102は
照明系を構成し、焦点板103を照明する。焦点板10
3には、ピッチング用スリット104Vとこのピッチン
グ用スリット104Vに対して直交するヨーイング用ス
リット104Hとが形成されている。
A light source 101 and a condenser lens 102 constitute an illumination system, and illuminate a reticle 103. Focusing plate 10
3, a slit 104V for pitching and a slit 104H for yawing orthogonal to the slit 104V for pitching are formed.

【0005】焦点板103を通過した光は、ハ−フプリ
ズム105の半透膜105aで反射され、対物レンズ1
06で平行光束になって外部ミラー107へ向かう。外
部ミラ−107の全反射膜107aで反射された光は、
再び対物レンズ106に入射して収束光になり、ハ−フ
プリズム105の半透膜105aを透過した後、複合プ
リズム108に入射し、ここで分離されてCCDライン
センサ110,130の受光面へ向かう。
The light passing through the reticle 103 is reflected by the semi-permeable membrane 105a of the half prism 105, and
At 06, the light beam becomes a parallel light beam and travels to the external mirror 107. The light reflected by the total reflection film 107a of the external mirror 107 is
The light again enters the objective lens 106 to become convergent light, passes through the semi-permeable membrane 105a of the half prism 105, and then enters the composite prism 108, where it is separated and directed to the light receiving surfaces of the CCD line sensors 110 and 130. .

【0006】複合プリズム108の半透膜108aを透
過した光は、X軸と平行な軸を中心とする円弧面をもつ
シリンドリカルレンズ109HによってY軸方向へパワ
ーがかけられる。その結果、結像面であるCCDライン
センサ130の受光面上にヨーイング用スリット104
Hのスリット像111HがY軸方向へ引き伸ばされた像
として得られる。
The light transmitted through the semi-permeable film 108a of the composite prism 108 is applied with power in the Y-axis direction by a cylindrical lens 109H having an arc surface centered on an axis parallel to the X-axis. As a result, the yaw slit 104 is formed on the light receiving surface of the CCD line sensor 130 which is the image forming surface.
The H slit image 111H is obtained as an image elongated in the Y-axis direction.

【0007】一方、複合プリズム108の半透膜108
aで反射した光は、Y軸と平行な軸を中心とする円弧状
の面をもつシリンドリカルレンズ109VによってX軸
方向へパワーがかけられる。その結果、結像面であるC
CDラインセンサ110の受光面上にピッチング用スリ
ット104Vのスリット像111VがZ軸方向へ引き伸
ばされた像として得られる。
On the other hand, the semi-permeable membrane 108 of the composite prism 108
The light reflected by a is applied with power in the X-axis direction by a cylindrical lens 109V having an arc-shaped surface centered on an axis parallel to the Y-axis. As a result, the image plane C
On the light receiving surface of the CD line sensor 110, a slit image 111V of the pitching slit 104V is obtained as an image elongated in the Z-axis direction.

【0008】図4は従来の他の2軸光電式オ−トコリメ
−タの全体構成図である。
FIG. 4 is an overall configuration diagram of another conventional two-axis photoelectric autocollimator.

【0009】この2軸光電式オ−トコリメ−タは、図3
の2軸光電式オ−トコリメ−タと異なり、ヨ−イング検
出用及びピッチング検出用の2個の焦点板113,12
3と、両焦点板113,123に対応する2つの照明系
と、ダイクロイックプリズム115,118を備えてい
る。
The two-axis photoelectric autocollimator is shown in FIG.
Unlike the two-axis photoelectric autocollimator described above, two focusing screens 113 and 12 for yawing detection and pitching detection are provided.
3, two illumination systems corresponding to the two focusing plates 113 and 123, and dichroic prisms 115 and 118.

【0010】一方の焦点板113にはヨ−イング検出用
のスリット114Hが形成され、他方の焦点板123に
はピッチング検出用のスリット114Vが形成されてい
る。焦点板113は光源101とコンデンサレンズ10
2とで構成される照明系によって照明され、焦点板12
3は光源121とコンデンサレンズ122とで構成され
る照明系によって照明される。
One of the focusing screens 113 has a slit 114H for detecting yawing, and the other focusing screen 123 has a slit 114V for detecting pitching. The focusing screen 113 includes the light source 101 and the condenser lens 10.
2 and the reticle 12
3 is illuminated by an illumination system including a light source 121 and a condenser lens 122.

【0011】焦点板113,123の各スリット114
H,114Vから射出した光はダイクロイックプリズム
115のダイクロイック膜115aによりそれぞれ別の
波長域λ1 ,λ2 に分けられた上で合成され、ハ−フプ
リズム105へ向かう。ダイクロイックプリズム115
を出た光はハ−フプリズム105の半透膜105aで反
射され、対物レンズ106で平行光束になって外部ミラ
−107へ向かう。外部ミラ−107の全反射膜107
aで反射された光は、再び対物レンズ106に入射して
収束光になり、ハ−フプリズム105の半透膜105a
を透過した後、ダイクロイックプリズム118へ入射す
る。ダイクロイックプリズム118へ入射した光はダイ
クロイック膜118aにより前述の波長域λ1 ,λ2
分離され、CCDラインセンサ110,130の受光面
へそれぞれ向かう。
Each slit 114 of the focusing plates 113 and 123
The light emitted from H and 114V is separated into different wavelength ranges λ 1 and λ 2 by the dichroic film 115a of the dichroic prism 115, combined, and travels to the half prism 105. Dichroic prism 115
Is reflected by the semi-permeable membrane 105a of the half prism 105, becomes a parallel light beam by the objective lens 106, and travels to the external mirror 107. Total reflection film 107 of external mirror 107
The light reflected by a is incident on the objective lens 106 again and becomes convergent light, and the semi-permeable film 105a of the half prism 105
, And then enter the dichroic prism 118. The light incident on the dichroic prism 118 is separated by the dichroic film 118a into the above-described wavelength ranges λ 1 and λ 2 and travels to the light receiving surfaces of the CCD line sensors 110 and 130, respectively.

【0012】ダイクロイックプリズム115,118の
分光特性を同一にしたとき、ダイクロイックプリズム1
18を透過した波長域をλ1 、ダイクロイックプリズム
118で反射した波長域をλ2 とすると、焦点板113
のヨ−イング検出用のスリット114Hを出た波長域λ
1 の光はCCDラインセンサ130の受光面上にヨ−イ
ング検出用のスリット像116Hを形成し、焦点板12
3のピッチング検出用のスリット114Vを出た波長域
λ2 の光はCCDラインセンサ110の受光面上にピッ
チング検出用のスリット像116Vを形成する。
When the spectral characteristics of the dichroic prisms 115 and 118 are made identical, the dichroic prism 1
Let λ 1 be the wavelength range transmitted through the light source 18 and λ 2 be the wavelength range reflected by the dichroic prism 118.
Wavelength region λ exiting slit 114H for yawing detection
The light 1 forms a slit image 116H for yawing detection on the light receiving surface of the CCD line sensor 130,
The light in the wavelength range λ 2 that has exited the pitching detection slit 114V of No. 3 forms a pitching detection slit image 116V on the light receiving surface of the CCD line sensor 110.

【0013】[0013]

【考案が解決しようとする課題】図3及び図4に示す2
軸光電式オ−トコリメ−タにおいては、前述のようにヨ
−イングとピッチングとを検出するのに、それぞれ専用
のCCDラインセンサ110,130を用いているの
で、それに応じて処理系も2系統必要になり、構造が複
雑になるとともに、製造コストが高くなるという問題が
あった。
[Problems to be Solved by the Invention] 2 shown in FIG. 3 and FIG.
In the axial photoelectric autocollimator, dedicated CCD line sensors 110 and 130 are used to detect yawing and pitching as described above, so that two processing systems are used in accordance therewith. However, there is a problem that the structure becomes complicated and the manufacturing cost increases.

【0014】この考案はこのような事情に鑑みてなされ
たもので、その課題は構造が簡素で、製造コストも低減
できる2軸光電式オ−トコリメ−タを提供することであ
る。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a two-axis photoelectric autocollimator which has a simple structure and can reduce the manufacturing cost.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めこの考案の2軸光電式オ−トコリメ−タは、対物レン
ズの焦点位置に配置され、前記対物レンズの前方に配置
された反射部材に前記対物レンズを介してX軸光線及び
Y軸光線を発するタ−ゲットと、前記反射部材で反射し
前記対物レンズを透過した前記X軸光線及びY軸光線を
分割し、前記X軸光線とY軸光線とに分離する光学的分
割手段と、この光学的分割手段により分割された前記X
軸光線及びY軸光線を受光する受光手段とを備えた2軸
光電式オートコリメータにおいて、前記光学的分割手段
により分割された前記X軸光線及びY軸光線の各光路を
互いに平行に屈曲させて前記受光手段へ導く光路屈曲手
段とを備えている。
In order to solve the above-mentioned problems, a two-axis photoelectric autocollimator of the present invention is arranged at a focal position of an objective lens, and a reflecting member arranged in front of the objective lens. A target for emitting an X-axis ray and a Y-axis ray through the objective lens; and dividing the X-axis ray and the Y-axis ray reflected by the reflection member and transmitted through the objective lens, and An optical splitting means for splitting the light into a Y-axis light beam, and the X light split by the optical splitting means.
In a two-axis photoelectric autocollimator provided with light-receiving means for receiving an axial ray and a Y-axis ray, the optical paths of the X-axis ray and the Y-axis ray split by the optical splitting means are bent in parallel to each other. Optical path bending means for guiding to the light receiving means.

【0016】[0016]

【作用】光学的分割手段で分割されたX軸光線及びY軸
光線の各光路を光路屈曲手段により互いに平行に屈曲さ
せて受光手段へ導くようにしたので、単一の受光手段で
ヨーイング及びピッチングの2現象を検出できる。
The optical paths of the X-axis light beam and the Y-axis light beam split by the optical splitting means are bent in parallel to each other by the optical path bending means and guided to the light receiving means. Can be detected.

【0017】[0017]

【実施例】以下この考案の実施例を図面に基づいて説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】図1はこの発明の一実施例に係る2軸光電
式オ−トコリメ−タの全体構成図である。この2軸光電
式オ−トコリメ−タは、対物レンズ6の後側焦点位置に
配置された焦点板3と、この焦点板3に光を照射する照
明系と、対物レンズ6の後側光路中で焦点板3と共役な
位置に配置されたCCDラインセンサ10と、焦点板3
を透過した光を外部ミラ−7へ反射させるハ−フプリズ
ム5と、ハ−フプリズム5を透過した外部ミラ−7から
の反射光を分離してCCDラインセンサ10の受光面へ
導く複合プリズム8とを備えている。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a two-axis photoelectric autocollimator according to one embodiment of the present invention. The two-axis photoelectric autocollimator includes a reticle 3 disposed at a rear focal position of an objective lens 6, an illumination system for irradiating the reticle 3 with light, and a light path in the rear optical path of the objective lens 6. A CCD line sensor 10 disposed at a position conjugate with the focusing screen 3 and a focusing screen 3
A half prism 5 for reflecting light transmitted through the half mirror 5 to an external mirror 7; and a composite prism 8 for separating reflected light from the external mirror 7 transmitted through the half prism 5 and guiding the reflected light to the light receiving surface of the CCD line sensor 10. It has.

【0019】光源1及びコンデンサレンズ2は照明系を
構成し、焦点板3を照明する。焦点板3には、ピッチン
グ用スリット4Vとこのピッチング用スリット4Vに対
して直交するヨーイング用スリット4Hとが形成されて
いる。
The light source 1 and the condenser lens 2 constitute an illumination system, and illuminate the reticle 3. The focusing screen 3 is formed with a slit 4V for pitching and a slit 4H for yawing orthogonal to the slit 4V for pitching.

【0020】前記複合プリズム8は、外部ミラ−7から
の光を分離する半透膜8aと、半透膜8aを透過した光
をY軸方向へ反射させる全反射面8bと、半透膜8aで
反射した光をY軸方向へ反射させる全反射面8cと、全
反射面8bで反射した光にZ軸方向へパワーをかけるX
軸と平行な軸を中心とする円弧面をもつシリンドリカル
レンズ9Hと、全反射面8cで反射した光にZ軸方向へ
パワーをかけるX軸と平行な軸を中心とする円弧面をも
つシリンドリカルレンズ9Vとで構成されている。全反
射面8bと全反射面8cとで反射された光は互いに平行
であり、CCDラインセンサ10の受光面までの光路長
も等しい。
The compound prism 8 includes a semi-permeable film 8a for separating light from the external mirror 7, a total reflection surface 8b for reflecting light transmitted through the semi-permeable film 8a in the Y-axis direction, and a semi-permeable film 8a. A total reflection surface 8c for reflecting the light reflected by the Y-axis in the Y-axis direction, and a power X in the Z-axis direction for the light reflected by the total reflection surface 8b.
A cylindrical lens 9H having an arc surface centered on an axis parallel to the axis, and a cylindrical lens having an arc surface centered on an axis parallel to the X axis for applying power in the Z-axis direction to light reflected on the total reflection surface 8c 9V. The light reflected by the total reflection surface 8b and the light reflected by the total reflection surface 8c are parallel to each other, and have the same optical path length to the light receiving surface of the CCD line sensor 10.

【0021】焦点板3を通過した光は、ハ−フプリズム
5の半透膜5aで反射され、対物レンズで平行光束にな
って外部ミラ−7へ向かう。外部ミラ−7の全反射膜7
aで反射された光は、再び対物レンズ6に入射して収束
光になり、ハ−フプリズム5の半透膜5aを透過した
後、複合プリズム8に入射する。
The light that has passed through the focusing screen 3 is reflected by the semi-permeable membrane 5a of the half prism 5, becomes a parallel light beam by the objective lens, and travels to the external mirror 7. Total reflection film 7 of external mirror 7
The light reflected by a enters the objective lens 6 again to become convergent light, passes through the semi-permeable membrane 5a of the half prism 5, and then enters the composite prism 8.

【0022】複合プリズム8に入射し、半透膜8aを透
過した光は、全反射面8bでY軸方向へ反射された後、
シリンドリカルレンズ9HによってZ軸方向へパワーが
かけられる。その結果、結像面であるCCDラインセン
サ10の受光面上にヨーイング用スリット4Hのスリッ
ト像11HがZ軸方向へ引き伸ばされた像として得られ
る。
The light incident on the composite prism 8 and transmitted through the semi-permeable membrane 8a is reflected on the total reflection surface 8b in the Y-axis direction.
Power is applied in the Z-axis direction by the cylindrical lens 9H. As a result, a slit image 11H of the yawing slit 4H is obtained as an image elongated in the Z-axis direction on the light receiving surface of the CCD line sensor 10, which is an image forming surface.

【0023】一方、複合プリズム8の半透膜8aで反射
した光はY軸方向へ反射された後、シリンドリカルレン
ズ9VによってZ軸方向へパワーがかけられる。その結
果、結像面であるCCDラインセンサ10の受光面上に
ピッチング用スリット4Vのスリット像11VがZ軸方
向へ引き伸ばされた像として得られる。
On the other hand, the light reflected by the semi-permeable film 8a of the composite prism 8 is reflected in the Y-axis direction, and then is applied with power in the Z-axis direction by the cylindrical lens 9V. As a result, a slit image 11V of the pitching slit 4V is obtained as an image elongated in the Z-axis direction on the light receiving surface of the CCD line sensor 10, which is an image forming surface.

【0024】上述のようにして得られたスリット像11
H及びスリット像11VのCCDラインセンサ10の受
光面上の移動量は、CCDラインセンサ10の受光エレ
メント10aによって検出される。
The slit image 11 obtained as described above
The amount of movement of the H and the slit image 11V on the light receiving surface of the CCD line sensor 10 is detected by the light receiving element 10a of the CCD line sensor 10.

【0025】この実施例の2軸光電式オ−トコリメ−タ
では、CCDラインセンサ10の受光面がXZ平面に平
行に配置されている。この配置において外部ミラー7に
ヨーイングθH を与えた場合、スリット像11HはX方
向へ移動し、スリット像11VはZ方向へ移動する。C
CDラインセンサ10の受光エレメント10aとスリッ
ト像11H,11Vとの交点、すなわち受光位置に注目
すると、スリット像11HがX軸方向へ移動したとき受
光位置は移動するが、スリット像11VがZ軸方向へ移
動しても受光位置は変化しない。
In the two-axis photoelectric autocollimator of this embodiment, the light receiving surface of the CCD line sensor 10 is arranged parallel to the XZ plane. When yawing θ H is given to the external mirror 7 in this arrangement, the slit image 11H moves in the X direction, and the slit image 11V moves in the Z direction. C
Focusing on the intersection between the light receiving element 10a of the CD line sensor 10 and the slit images 11H and 11V, that is, the light receiving position, the light receiving position moves when the slit image 11H moves in the X axis direction, but the slit image 11V moves in the Z axis direction. Does not change the light receiving position.

【0026】一方、外部ミラ−7にピッチングθV を与
えた場合、スリット像11HはZ方向へ移動し、スリッ
ト像11VはX軸方向へ移動する。CCDラインセンサ
10の受光エレメント10aとスリット像11H,11
Vとの交点、すなわち受光位置に注目すると、スリット
像11HがZ軸方向へ移動したとき受光位置は変化しな
いが、スリット像11VがX軸方向へ移動すると受光位
置も移動する。
On the other hand, when the pitching θ V is given to the external mirror 7, the slit image 11H moves in the Z direction, and the slit image 11V moves in the X axis direction. Light receiving element 10a of CCD line sensor 10 and slit images 11H, 11
Focusing on the intersection with V, that is, the light receiving position, when the slit image 11H moves in the Z-axis direction, the light receiving position does not change, but when the slit image 11V moves in the X-axis direction, the light receiving position also moves.

【0027】上述のことはCCDラインセンサ10が1
個でもヨーイング量θH 、ピッチング量θV をそれぞれ
独立に検出できることを示す。
The above description indicates that the CCD line sensor 10 is
This shows that the yawing amount θ H and the pitching amount θ V can be detected independently of each other.

【0028】この実施例の2軸光電式オ−トコリメ−タ
によれば、1個のCCDラインセンサ10でヨーイング
及びピッチングの2現象を検出できるので、センサに接
続される処理系が1系統で足り、構造が簡素化され、小
型化と製造コストの低減を実現できる。
According to the two-axis photoelectric autocollimator of this embodiment, two phenomena of yawing and pitching can be detected by one CCD line sensor 10, so that a single processing system is connected to the sensor. As a result, the structure can be simplified, and downsizing and reduction in manufacturing cost can be realized.

【0029】図2はこの発明の他の実施例に係る2軸光
電式オ−トコリメ−タの全体構成図である。前述の実施
例と共通する部分には同一符号を付して説明を省略す
る。
FIG. 2 is an overall configuration diagram of a two-axis photoelectric autocollimator according to another embodiment of the present invention. Portions common to the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0030】この実施例の2軸光電式オ−トコリメ−タ
は、前述の実施例の2軸光電式オ−トコリメ−タと異な
り、ヨ−イング検出用及びピッチング検出用の2個の焦
点板13,23と、両焦点板13,23に対応する2つ
の照明系と、焦点板13,23の各スリット14H,1
4Vから射出した光を波長域λ1 ,λ2 に分けた上で合
成するダイクロイックプリズム15と、ハ−フプリズム
5を透過した光を前述の波長域λ1 ,λ2 に分離して、
CCDラインセンサ10の受光面へ反射させるダイクロ
イックプリズム18とを備えている。
The two-axis photoelectric autocollimator of this embodiment differs from the two-axis photoelectric autocollimator of the previous embodiment in that two focusing plates for yawing detection and pitching detection are provided. 13, 23, two illumination systems corresponding to the two reticle 13, 23, and each slit 14H, 1 of the reticle 13, 23
A dichroic prism 15 that combines the light emitted from 4V into wavelength ranges λ 1 and λ 2 and combines them, and separates the light transmitted through the half prism 5 into the aforementioned wavelength ranges λ 1 and λ 2 ,
And a dichroic prism 18 for reflecting light to the light receiving surface of the CCD line sensor 10.

【0031】一方の焦点板13にはヨ−イング検出用の
スリット14Hが形成され、他方の焦点板23にはピッ
チング検出用のスリット14Vが形成されている。焦点
板13は光源1とコンデンサレンズ2とで構成される照
明系によって照明され、焦点板23は光源21とコンデ
ンサレンズ22とで構成される照明系によって照明され
る。
A slit 14H for yawing detection is formed in one focusing screen 13, and a slit 14V for pitching detection is formed in the other focusing screen 23. The reticle 13 is illuminated by an illumination system composed of the light source 1 and the condenser lens 2, and the reticle 23 is illuminated by an illumination system composed of the light source 21 and the condenser lens 22.

【0032】前記ダイクロイックプリズム18は、外部
ミラ−7からの反射光を分離するダイクロイック膜18
aと、ダイクロイック膜18aを透過した光をY軸方向
へ反射させる全反射面18bと、ダイクロイック膜18
aで反射した光をY軸方向へ反射させる全反射面18c
とで構成されている。全反射面18bと全反射面18c
とで反射された光は互いに平行であり、CCDラインセ
ンサ10の受光面までの光路長も等しい。
The dichroic prism 18 is a dichroic film 18 for separating reflected light from the external mirror 7.
a, a total reflection surface 18b for reflecting light transmitted through the dichroic film 18a in the Y-axis direction, and a dichroic film 18
total reflection surface 18c for reflecting the light reflected by a in the Y-axis direction
It is composed of Total reflection surface 18b and total reflection surface 18c
Are reflected parallel to each other, and the optical path lengths to the light receiving surface of the CCD line sensor 10 are also equal.

【0033】焦点板13,23の各スリット14H,1
4Vから射出した光はダイクロイックプリズム15のダ
イクロイック膜15aによりそれぞれ別の波長域λ1
λ2に分けられた上で合成され、ハ−フプリズム5へ向
かう。ダイクロイックプリズム15を出た光はハ−フプ
リズム5の半透膜5aで反射され、対物レンズ6で平行
光束になって外部ミラ−7へ向かう。外部ミラ−7の全
反射膜7aで反射された光は、再び対物レンズ6に入射
して収束光になり、ハ−フプリズム5の半透膜5aを透
過した後、ダイクロイックプリズム18へ入射する。ダ
イクロイックプリズム15,18の分光特性を同一にし
たとき、波長域λ1 の光はダイクロイックプリズム18
のダイクロイック膜18aを透過し、波長域λ2 の光は
ダイクロイックプリズム18のダイクロイック膜18a
で反射する。ここで波長域λ1 の光はヨ−イング検出用
のスリット14Hからの光であり、波長域λ2 の光はピ
ッチング検出用のスリット14Vからの光である。ダイ
クロイックプリズム18のダイクロイック膜18aを透
過した波長域λ1 の光は全反射面18bでY軸方向へ反
射され、CCDラインセンサ10の受光面上にヨ−イン
グ検出用のスリット像16Hを形成し、ダイクロイック
プリズム18のダイクロイック膜18aで反射した波長
域λ2 の光は全反射面18cでY軸方向へ反射され、C
CDラインセンサ10の受光面上にピッチング検出用の
スリット像16Vを形成する。
Each slit 14H, 1 of the focusing screens 13, 23
The light emitted from the 4V is separated by the dichroic film 15a of the dichroic prism 15 into different wavelength ranges λ 1 ,
It is synthesized on divided into lambda 2, ha - towards Fupurizumu 5. The light exiting the dichroic prism 15 is reflected by the semi-permeable membrane 5a of the half prism 5, becomes a parallel light beam by the objective lens 6, and travels to the external mirror 7. The light reflected by the total reflection film 7a of the external mirror 7 enters the objective lens 6 again to become convergent light, passes through the semi-permeable film 5a of the half prism 5, and then enters the dichroic prism 18. When the spectral characteristics of the dichroic prisms 15 and 18 are the same, light in the wavelength range λ 1
Is transmitted through the dichroic film 18a, and the light in the wavelength range λ 2 is transmitted through the dichroic film 18a of the dichroic prism 18.
Reflected by Here, the light in the wavelength range λ 1 is light from the slit 14H for yawing detection, and the light in the wavelength range λ 2 is light from the slit 14V for pitching detection. The light in the wavelength range λ 1 transmitted through the dichroic film 18a of the dichroic prism 18 is reflected on the total reflection surface 18b in the Y-axis direction, and forms a slit image 16H for yawing detection on the light receiving surface of the CCD line sensor 10. The light in the wavelength range λ 2 reflected by the dichroic film 18a of the dichroic prism 18 is reflected by the total reflection surface 18c in the Y-axis direction,
A slit image 16V for pitching detection is formed on the light receiving surface of the CD line sensor 10.

【0034】この実施例の2軸光電式オ−トコリメ−タ
によれば、全反射面18bと全反射面18cとで反射さ
れた互いに平行な光はCCDラインセンサ10の受光面
へ至り、受光面上にヨーイング検出用スリット14Hの
スリット像16Hとピッチング検出用スリット14Vの
スリット像16Vとを結び、それぞれのスリット像16
H,16Vの受光面での移動量はCCDラインセンサ1
0の受光エレメント列10aによって検出され、第1実
施例と同様の作用効果を得ることができる。
According to the two-axis photoelectric autocollimator of this embodiment, the parallel light reflected by the total reflection surface 18b and the total reflection surface 18c reaches the light receiving surface of the CCD line sensor 10 and receives light. The slit image 16H of the slit 14H for yawing detection and the slit image 16V of the slit 14V for pitching detection are connected on the
The amount of movement on the light receiving surface of H, 16V is the CCD line sensor 1
It is detected by the zero light receiving element row 10a, and the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained.

【0035】なお、上述の各実施例では、説明を平易に
するためXZ面と平行な面内にCCDラインセンサ10
の受光面を設定したが、XZ面以外の任意の平面にCC
Dラインセンサ10の受光面を設定するようにしてもよ
い。また、CCDラインセンサ10の受光面におけるス
リット像とCCDラインセンサ10の受光エレメント列
10aとの配置角を45度に設定しているが、複合プリ
ズムの構造や分岐後の光路部材の屈折率を変えることに
よって前記配置角を任意に設定して分解能を変えるよう
にしてもよい。
In each of the above embodiments, for simplicity of explanation, the CCD line sensor 10 is placed in a plane parallel to the XZ plane.
Is set, but CC is set on any plane other than the XZ plane.
The light receiving surface of the D line sensor 10 may be set. Further, the arrangement angle between the slit image on the light receiving surface of the CCD line sensor 10 and the light receiving element row 10a of the CCD line sensor 10 is set to 45 degrees. The resolution may be changed by arbitrarily setting the arrangement angle by changing the angle.

【0036】[0036]

【考案の効果】以上説明したようにこの考案の2軸光電
式オ−トコリメ−タによれば、単一の受光手段でヨーイ
ング及びピッチングの2現象を検出できるので、構造を
簡素し、小型化と製造コストの低減とを実現することが
できる。
As described above, according to the two-axis photoelectric autocollimator of the present invention, since two phenomena of yawing and pitching can be detected by a single light receiving means, the structure is simplified and the size is reduced. And a reduction in manufacturing cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1はこの考案の一実施例に係る2軸光電式オ
−トコリメ−タの全体構成図である。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a two-axis photoelectric autocollimator according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2はこの考案の他の実施例に係る2軸光電式
オ−トコリメ−タの全体構成図である。
FIG. 2 is an overall configuration diagram of a two-axis photoelectric autocollimator according to another embodiment of the present invention.

【図3】図3は従来の2軸光電式オ−トコリメ−タの全
体構成図である。
FIG. 3 is an overall configuration diagram of a conventional two-axis photoelectric autocollimator.

【図4】図4は従来の他の2軸光電式オ−トコリメ−タ
の全体構成図である。
FIG. 4 is an overall configuration diagram of another conventional two-axis photoelectric autocollimator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光源 2 コンデンサレンズ 3 焦点板 4H ヨーイング用スリット 4V ピッチング用スリット 6 対物レンズ 7 外部ミラー 8 複合プリズム 8b,8c 全反射面 10 CCDラインセンサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light source 2 Condenser lens 3 Focusing plate 4H Slit for yawing 4V Slit for pitching 6 Objective lens 7 External mirror 8 Composite prism 8b, 8c Total reflection surface 10 CCD line sensor

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of request for utility model registration] 【請求項1】 対物レンズの焦点位置に配置され、前記
対物レンズの前方に配置された反射部材に前記対物レン
ズを介してX軸光線及びY軸光線を発するタ−ゲット
と、 前記反射部材で反射し前記対物レンズを透過した前記X
軸光線及びY軸光線を分割し、前記X軸光線とY軸光線
とに分離する光学的分割手段と、 この光学的分割手段により分割された前記X軸光線及び
Y軸光線を受光する受光手段とを備えた2軸光電式オー
トコリメータにおいて、 前記光学的分割手段により分割された前記X軸光線及び
Y軸光線の各光路を互いに平行に屈曲させて前記受光手
段へ導く光路屈曲手段とを備えたことを特徴とする2軸
光電式オートコリメータ。
1. A target which is disposed at a focal position of an objective lens and emits an X-axis ray and a Y-axis ray to a reflecting member disposed in front of the objective lens via the objective lens. The X reflected and transmitted through the objective lens
Optical splitting means for splitting an axial light ray and a Y-axial light ray and splitting them into the X-ray light ray and the Y-axial light ray; and a light-receiving means for receiving the X-ray light ray and the Y-axial light ray split by the optical splitting means A biaxial photoelectric autocollimator comprising: an optical path bending unit that bends the respective optical paths of the X-axis light beam and the Y-axis light beam split by the optical splitting unit in parallel with each other and guides them to the light receiving unit. A two-axis photoelectric autocollimator.
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