JP2545027B2 - 現像装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本願の発明は、方形の基板よりな
る液晶基板に対しフォトリソグラフィ法によってパター
ンを形成する際の現像工程に関し、その現像を行うのに
好適な現像装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】方形の基板に対するフォトリソグラフィ
法によるパターン形成は、例えば液晶表示板（ＬＣＤ）
や高密度実装用のプリント基板の製造等で広く行われて
いる。フォトリソグラフィ法は一種の写真技術であっ
て、基板に対するレジスト塗布，所定のパターンの光で
の露光，現像液による現像等の工程を経て、所望のレジ
ストパターンを基板上に得る。現像工程で使用される現
像装置は、プロセスの種類によってかなり異なった構成
を持っている。このうち、本願発明の対象である液晶基
板等の方形の基板の現像装置は、基板を搬送させながら
現像液を基板表面に供給して現像するものである。

【０００３】図７は、このような従来の現像装置の一例
としての液晶基板の現像装置の概略構成を示した図であ
る。図７に示す現像装置は、現像室１と、現像室１の前
後に隣接して配置されたニュートラル室２，３と、これ
らの部屋を通過するようにして液晶基板Ｓを搬送する搬
送系４とから主に構成されている。

【０００４】搬送系４は、搬送ライン４０に垂直で水平
な方向に回転する回転軸４１と、この回転軸４１上の両
サイドに配置された二つの搬送ローラー４２とで一組の
ローラーユニットを構成し、このローラーユニットを水
平な搬送ライン４０に沿って多数設けた構成になってい
る。

【０００５】現像室１の構成は、現像の方式によって異
なる。液晶基板の現像装置の場合には、スプレー方式に
よる場合が多い。このスプレー方式の現像は、基板Ｓの
表面に現像液を吹き付けて付着させ、現像処理を行うも
のである。従って、現像室１の内部には、搬送ライン４
０の上方に現像液噴射用のノズル５０が幾つか設けられ
ている。そして、このノズル５０は、供給側配管６２に
より、現像室１の外部に設けられた現像液タンク６１に
連通されている。そして、供給側配管６２による現像液
供給経路と途中には、現像液ポンプ６８が設けられてお
り、この現像液ポンプ６８により、現像液は上記ノズル
５０に供給される。現像室１を構成する底板１２は、図
７に示すように漏斗状に形成されており、その下端部に
は現像液の排出口１２０が設けられている。この現像液
の排出口１２０は、排出側配管６７によって前述の現像
液タンク６１に連通されている。

【０００６】ニュートラル室２，３は、現像室１で行わ
れる現像処理のための予備的な部屋である。前述のよう
に、現像室１では現像液がノズル５０から噴射されるた
め、霧状になった現像液がニュートラル室２，３を通っ
て装置外に漏出するおそれがある。このため、ニュート
ラル室２，３の奥壁には、ダクトを介して排気ポンプに
連通された排気口２０，３０が設けられており、この排
気口２０，３０から霧状になった現像液を所定の廃液タ
ンク等に排出している。

【０００７】上記構成に係る従来例の現像装置は、基板
Ｓが搬送系４により搬送され、現像室１を通過中に現像
処理される。即ち、現像液タンク６１から現像液の供給
を受けたノズル５０は、下方の基板Ｓに向けて現像液を
噴射し、噴射された現像液の一部が、基板Ｓの表面に吹
き付けられる。そして、後の水洗工程を経ると、露光さ
れたレジストの潜像が浮かび上がる。一方、基板Ｓに付
着しなかった残りの現像液は、現像室１の底板１２に設
けられた排出口１２０から排出され、排出側配管６７を
経て再び現像液タンク６１に戻る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】さて、上述のような現
像装置における現像処理に用いられる現像液は、パター
形成のために用いられるレジストの組成により異なるこ
とはいうまでもないが、例えばアジド系のレジストの場
合にはアルカリ水溶液等が使用されたり、ポリマー系の
レジストの場合には有機溶剤等が使用されたりする。そ
して、上記のような基板を搬送しながら現像室を通過中
に現像を行わせる装置においては、基板の搬送速度は現
像液による現像速度に応じて一定に保たれており、これ
によって最適な現像が行われるようにしている。

【０００９】しかしながら、基板に付着する現像液の劣
化があると現像不良の問題が生ずることになる。即ち、
噴射された状態の現像液は現像室内の気体との反応等に
より劣化し易く、また一部の成分の気化による濃度変化
や組成変化等が起き易い。また、従来の現像装置におけ
る現像液は、前述の通り一度現像室の内部で噴射された
後、現像液タンクに再び戻るようになっている。このこ
とは、劣化した現像液が現像液タンクに混入して後続の
基板の処理に使用されることを意味しており、現像不良
の恐れがさらに大きくなっている。さらに、従来のスプ
レー方式の現像では、噴射圧力の管理等は行っているも
のの、基板に供給される現像液の総量の管理は出来ない
のが実状である。従って、各々の基板に同じ量の現像液
を供給して再現性のよい現像処理を行うという点では、
期待に沿えない点があった。

【００１０】従来の現像装置の中には、容器に溜められ
た現像液中に基板を浸して現像するディップ方式の現像
装置がある。このディップ方式の現像装置によれば、ス
プレー方式のような噴射に起因する劣化等は少ない。し
かし、ディップ方式の現像装置では、現像液の液面が常
に空気に触れているため、この部分における反応や成分
気化が生じ易く、また同じ現像液を何回か連続して使用
するため、現像液の状態が基板によって変化してしまう
という問題がある。

【００１１】従って、現像不良を生じることなく最適な
現像を再現性よく行うためには、各々の基板に対して、
劣化のない良質な同じ量の現像液を常に同じ状態で現像
液を供給するということが必要になっている。本願発明
の第一の目的はこのような課題を解決することであり、
各々の基板に対して、劣化のない良質な同じ量の現像液
を常に同じ状態で現像液を供給することができるように
することである。

【００１２】本願発明の第二の目的は、現像処理の均一
性に関するものである。即ち、上記のような現像液の劣
化が、ある基板に供給された現像液について局部的に存
在していると、必要な現像処理の均一性が確保できなく
なる。このような現像の不均一性は、基板に対する現像
液の供給状態の不均一性によっても生じる。つまり、従
来のスプレー方式の現像では、基板表面の各箇所におい
て現像液の供給量が不均一になり易く、微細なパターン
の形成には適していない。本願の第二の目的は、このよ
うな課題を解決することであり、より均一な現像が行え
るようにして微細パターンの形成に好適な現像装置を提
供しようというものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記第一の目的を達成す
るため、本願の請求項１に記載の現像装置は、現像液を
方形の基板よりなる液晶基板の基板の表面に供給して現
像を行う現像装置であって、基板を搬送させる搬送系
と、この搬送系により搬送される基板の表面に現像液を
流出させて載せる複数の流出ノズルを有する現像液流出
部と、この現像液流出部に現像液を定量的に送る定量ポ
ンプを含む現像液供給系とを具備し、さらに、定量ポン
プによる現像液の送出を基板の搬送のタイミングに応じ
てオンオフして現像液が載った状態を基板が所定時間保
持するように制御する制御部を備えている構成を有す
る。また、上記第一第二の目的を達成するため、請求項
２に記載の現像装置は、請求項１に記載の構成におい
て、現像液流出部の複数の流出ノズルが、基板の表面に
おける各流出ノズルの直下の位置が基板の表面の中心点
を中心にして点対称状になるような位置に配置されてい
る構成を有する。また、同様に上記第一第二の目的を達
成するため、請求項３に記載の現像装置は、請求項１又
は２に記載の構成において、制御部は、基板が現像液流
出部の下方位置に達した際に基板を停止させるように搬
送系を制御し、基板停止後に現像液流出部から現像液が
流出するように制御するものである構成を有する。

【００１４】

【作用】上記構成に係る請求項１に記載の現像装置で
は、制御部と定量ポンプとによって、各々の基板に必要
な同じ量の現像液が現像液流出部に送られる。そして、
各々の現像液流出ノズルから現像液が流出して基板の表
面に載る。また、上記構成に係る請求項２に記載の現像
装置では、上記請求項１の作用において、現像液が基板
に均一に載る。さらに、上記構成に係る請求項３に記載
の現像装置では、上記請求項１又は２の作用において、
基板が停止してから現像液が基板に載る。

【００１５】

【実施例】以下、本願発明の実施例を説明する。図１
は、本願発明の実施例の現像装置の概略説明図である。
本実施例における現像装置は、いわゆるパドル現像（停
止現像ともいう）を行うものである。パドル現像は、ウ
エハプロセスではファインパターンの形成に適した現像
法として良く知られており、露光したウエハに所定量の
現像液を滴下して所定時間保持し、その後ウエハをスピ
ンさせて現像液を除去するようにするものである。図１
に示す現像装置は、このパドル現像を液晶基板のプロセ
スで実現しようというものである。即ち、パドル現像
は、基板に所定量の現像液を噴射によることなく緩やか
に液体の状態で載せて所定時間保持するものである。つ
まり、請求項１にいう「基板の表面に現像液を流出させ
て載せる」の「流出」は、「噴射によることなく緩やか
に流れ出させる」という意味である。以下の説明では、
図１に従って装置の概略を説明しながら、本実施例の特
徴点である現像液供給のための構成について詳述する。

【００１６】さて、図１の現像装置は、中央に配置され
た現像室１と、この現像室１の搬入側と搬出側にそれぞ
れ隣接して配置された搬入側ニュートラル室２，搬出側
ニュートラル室３と、これらの部屋を通過するようにし
て基板Ｓを搬送させる搬送糸４と、搬送系４により搬送
される基板Ｓの表面に現像液を流出させて載せるために
現像室１内に配置された現像液流出部５と、現像液流出
部５に現像液を定量的に送る定量ポンプ６３を含む現像
液供給系６と、定量ポンプ６３による現像液の送出を基
板Ｓの搬送のタイミングに応じてオンオフして現像液が
載った状態を基板が所定時間保持するように制御する制
御部７とから主に構成されている。

【００１７】まず、搬送系４は、従来と同様に、回転軸
４１と両サイド二つの搬送ローラー４２とから形成され
たローラーユニットを搬送ライン４０に沿って多数配置
することにより構成されている。現像室１と搬入側ニュ
ートラル室２とを区画する搬入側隔壁１１には基板搬入
口１１０が形成され、現像室１と搬出側ニュートラル室
３との間の搬出側隔壁１３には基板搬出口１３０が形成
されており、上記搬送系４によって基板Ｓは基板搬入口
１１０から現像室１に入り、後述のように現像液の供給
がされた後、基板搬出口１３０から搬出されるようにな
っている。現像室１の底板１２は、前述の従来例と同様
に漏斗状に形成され、その下端部には現像液の排出口１
２０が設けられている。従って、基板Ｓに付着しなかっ
た残りの現像液は、この排出口１２０から排出される。

【００１８】次に、本実施例の特徴点の一つである現像
液流出部５について説明する。図２は、図１の現像液流
出部の構成を説明する斜視概略図である。前述の通り本
実施例の現像装置はパドル現像を行うものであり、噴射
によらない現像液の供給がこの現像液流出部５により行
われる。現像液流出部５は、現像液供給系６から現像液
が供給される流出管５１と、この流出管５１の下側に設
けられた複数の流出ノズル５２とから主に構成されてい
る。

【００１９】流出管５１は、現像液供給系６に接続され
た主配管５０から分岐した複数の管であり、各々の終端
は塞がれている。この流出管５１の内径は、例えば８〜
１０ミリ程度である。尚、図１では、各々の流出管５１
は、基板搬送方向に直角な方向に沿って配置されている
が、これは何ら限定的なことではなく、基板搬送方向に
沿って配置しても良いし、斜め方向に配置しても良い。
この流出管５１の下面の所定箇所には、現像液流出のた
めの孔が開けられていて、この孔の部分に取り付けるよ
うにして流出ノズル５２が設けられている。

【００２０】流出ノズル５２は、所定量の現像液を液体
の状態で流出させるためのものである。この流出ノズル
５２は、市販のものを適宜選択して使用できるが、現像
液が一部が飛散しながら流出したり基板Ｓに達した現像
液が跳ね返ったりしないようなものを採用する必要があ
る。もし、このような飛散や跳ね返りがあると、現像液
の供給量がばらついてしまう他、飛散したり跳ね返った
りした分の現像液によって基板Ｓの表面の各部の現像液
の量が不均一になってしまうからである。理想的には、
略円錐状に広がって流出し出来るだけ小さな衝撃で基板
Ｓに達するようなものが最も望ましい。尚、流出管５１
に設ける孔の形状を工夫する等すれば、流出ノズル５２
を不要とする構成も採用できる。

【００２１】上記流出ノズル５２の口径としては、例え
ば現在広く使用されているノボラック系のレジストをア
ルカリ水溶液で現像する場合には、１ミリ程度である。
また流出ノズル５２の配置間隔としては、レジストの粘
度や基板の大きさ等にもよるが、例えば４ミリ程度であ
る。各流出ノズル５２からの現像液の流出量は、例えば
現像液がアルカリ水溶液等の場合５０〜１００ＣＣ程度
である。また、流出ノズル５２の口径や配置間隔が変更
できるように、他の異なる流出ノズルを備えた流出管を
流出管５１と交換自在に構成しておくと好適である。

【００２２】次に、図３から図６を使用して、各流出ノ
ズルの中心対象配置について説明する。これは請求項２
に記載の発明に対応したものであるが、図１に示す各流
出ノズル５２を、各流出ノズル５２の直下の位置が基板
Ｓの表面の中心点を中心にして点対称状になるような位
置に配置すると、均一性の点でさらに望ましい結果が得
られる。図３から図６は、他の実施例における流出ノズ
ルの配置位置を示したものである。まず図１及び図２か
ら分かるように、各流出ノズル５２は基板Ｓの表面に向
かい合った状態で基板Ｓの上方に配置され、皆同じ高さ
の位置に設けられている。この点では、図３から図６に
示す実施例でも同様である。

【００２３】図３に示す実施例では、流出ノズルは九つ
設けられており、各流出ノズルは、基板Ｓの表面におけ
るその各々の流出ノズルの直下の点（以下、流出点５３
とする）の位置が基板Ｓの表面の中心点Ｃを中心にして
点対称状になるような位置に配置されている。このよう
に点対称状に各流出ノズルを配置しておけば、流出する
現像液が基板Ｓの表面に均一に広がり、基板Ｓの各点に
おける現像液の量（厚さ）が均一になることは明かであ
る。この結果、基板Ｓの各点における現像反応の進行が
均一なものになるのである。

【００２４】このような「点対称」な配置は、図４から
図６に示すような他の色々なパターンが採用しうる。図
４の場合には二つの流出ノズルが，図５の場合には三つ
の流出ノズルが、図６の場合には四つの流出ノズルが配
置される。そして、各図から明かなように、いずれも場
合も複数の流出点５３が基板Ｓの表面の中心点Ｃに対し
て点対称になるように各流出ノズルが配置される。自明
のことであるが、流出ノズルは最低二つは必要である。
また、流出ノズルの数を増やして各ノズルから流出する
現像液の量を少なくすると、基板Ｓの表面の各部におけ
る現像液の供給量がより均一になるし、各部が現像液の
供給を受けるまでの時間差が少なくなるので、現像時間
が更に均一になり、この結果、更に均一な現像が期待で
きる。このように流出ノズルの数は必要な均一度との関
連で適宜選定されるが、例えば図３のように九つの流出
ノズルの場合には±１％程度の均一度の供給量で現像液
が供給できることが確認されている。

【００２５】次に、図１に戻り、上記のような現像液流
出部５に現像液を供給する現像液供給系６について説明
する。現像液供給系６は、装置外に配置された現像液タ
ンク６１と、現像液タンク６１から現像液流出部５に現
像液を供給するための供給側配管６２とを具備してい
る。そして、供給側配管６２による供給経路上には、定
量ポンプ６３，フィルタ６４，電磁弁６５及びサックバ
ック６６がこの順序で配置されている。

【００２６】まず、現像液タンク６１は供給する現像液
を内部に収納したものである。この現像液タンク６１
は、窒素等の不活性ガスでパージされて気密封止されて
おり、現像液が気体と反応して劣化したり特定の成分が
気化して失われたりするようなことがないようになって
いる。また、現像液タンク６１には、新しい現像液が少
しづつ供給されるようになっている。

【００２７】定量ポンプ６３は、現像液タンク６１から
現像液を汲み上げて現像液流出部５に定量的に供給する
ものである。即ち、定量ポンプ６３は不図示の流量コン
トローラを備えていて、供給側配管６２に流れる現像液
が常に一定量になるようになっている。この結果、後述
のように電磁弁６５が所定時間開いた場合に、各流出ノ
ズル５２から一定量の現像液が流出するようになってい
る。尚、現像処理のタイプが変わったり基板Ｓの大きさ
が変わったりして、基板Ｓに供給する現像液の量を変え
る必要がある場合には、電磁弁６５の開時間を変更する
か定量ポンプ６３の流量コントローラを調節する。ま
た、基板Ｓを停止させないで現像する場合には、搬送速
度を変更するようにしてもよい。

【００２８】フィルタ６４は現像液に混入した異物を除
去するためのもので、従来周知のものが適宜選択されて
採用される。尚、本実施例では上述のように定量ポンプ
６３を使用しているので、フィルタ６４がある限度以上
詰まると現像液の送出圧力がポンプ６３の動作範囲外に
なる場合がある。従って、フィルタ６４は定期的に交換
する必要がある。電磁弁６５は、基板Ｓの搬送のタイミ
ングに合わせて現像液流出部５からの現像液の供給をオ
ンオフするためのものであり、制御部７からの信号によ
って開閉される。サックバック６６は、電磁弁６５が閉
じた時に管内の現像液の圧力を負圧にして流出ノズル５
２からの現像液の滴下を防止するためのものであり、必
要に応じて設けられる。このような弁閉時の滴下がある
と、基板Ｓに供給する現像液の量が制御不能になってし
まうからである。

【００２９】また、本実施例の現像装置においては、現
像室１の排出口１２０に接続された排出側配管６７は、
図示しない廃液タンクに接続された排管と現像液タンク
６１に接続された排管に分岐している。そして、各々の
排管にはバルブが設けられており、現像室１から排出さ
れた現像液を廃液にするか現像液タンク６１に戻すかが
選択できるようになっている。本実施例では、前述のよ
うに現像液流出部５から一つの基板Ｓに必要な量のみを
流出させるようにしているため、流出させたものの基板
Ｓに付着しないで底板１２に落下してしまう現像液の量
は、従来のようなスプレー方式の場合に比べはるかに少
ない。従って、使用した現像液をそのまま廃液にしてし
まってもコスト上特に問題が無い。但し、従来のよう
に、現像液タンク６１に戻すようにしてもよい。本実施
例では、後述のように現像液の劣化が防止されているか
ら、再利用するようにしても従来のような問題が無い。

【００３０】制御部７は、装置の各部の動作を制御する
ためのものであり、各部の状態をモニタしながら動作信
号を送る制御プログラムを含んでいる。本実施例におけ
る制御部７の重要な役割は、前述のように定量ポンプ６
３による現像液の送出を基板Ｓの搬送のタイミングに応
じてオンオフすることである。即ち、本実施例の装置は
基板Ｓの搬送を確認するセンサ８を備え、制御部７はこ
のセンサ８の信号を受けて電磁弁６５を開閉する。これ
によって、現像液送出のオンオフ即ち基板が搬送された
時の必要な量の現像液の送出動作が行えるよう構成され
ている。

【００３１】尚、センサ８は、現像室１の内部において
基板搬送ライン４０の下側の所定位置に配置された反射
型のフォトセンサである。センサ８は、現像液流出部５
の下方の所定位置に配置されていて、基板Ｓが現像液流
出部５の直下の所定位置に達したのを検出するようにな
っている。また、本実施例の装置は、現像液の供給をさ
らに均一で確実なものにするため基板Ｓを停止させてか
ら現像液を基板Ｓに供給している。即ち、制御部７は、
センサ８からの信号受信と同時に搬送系４に搬送停止信
号を送って基板Ｓを停止させ、その後電磁弁６５を開く
よう構成されている。そして、上述のような現像液供給
動作の後、基板Ｓの搬送を再開するようになっている。

【００３２】次に、上記構成に係る本実施例の現像装置
の動作について説明する。レジスト塗布後に所定のパタ
ーンの光で露光された基板Ｓが、搬送系によって現像室
１に搬送される。基板Ｓが現像液流出部５の直下の所定
位置まで搬送されると、センサ８がこれを検出し、この
検出信号が制御部７に送られる。制御部７がこの検出信
号を受信すると搬送系４に停止信号を送り、搬送系４の
動作が停止して基板Ｓが現像液流出部５の直下の所定位
置で停止する。

【００３３】次に、制御部７からの信号によって電磁弁
６５が開く。同時に制御部７は定量ポンプ６３に動作信
号を送って定量ポンプ６３を動作させる。この結果、現
像液流出部５から現像液が流出し、下方で停止している
基板Ｓに達する。所定時間後に、制御部７から信号が送
られて定量ポンプ６３の動作が停止するとともに電磁弁
６５が閉じる。定量ポンプ６３の動作時間及び電磁弁６
５の開時間は制御部７に予め組み込まれた制御プログラ
ムで決められ、この結果、基板Ｓに達する現像液の総量
は、現像液の種類等に応じた所定の値になるように制御
されている。尚、基板Ｓに達した現像液は、その粘性に
応じて基板Ｓの表面に広がり基板Ｓの周縁に達して表面
張力で停止し、表面の全面を被う。

【００３４】その後、制御部７からの信号によって搬送
系４が動作を開始し、基板Ｓを現像室１から搬出させ
る。基板Ｓは、その後、現像装置の後段に設けられた不
図示の水洗装置で水洗される。上記のように現像液が供
給されてから水洗装置で水洗されるまでが現像時間であ
り、この時間が現像反応の特性に応じて所定の時間にな
るように、搬送速度や搬送ライン４０の長さ等が決めら
れている。そして、水洗された基板Ｓは、エッチング等
の後工程に送られる。

【００３５】以上説明した本実施例の現像装置は、現像
液をスプレーのように噴射するのではなく、各流出ノズ
ル５２から流出させて基板Ｓの表面を覆うものである。
すなわち、現像液は、流出ノズル５２から連続的な流れ
となって流出し、基板Ｓに緩やかに載る。従って、従来
のスプレー方式のような基板に衝突した際の衝撃による
飛散の問題が無い。さらに、噴射に起因した現像液の劣
化や成分気化による濃度変化等の問題も無い。そして、
定量ポンプ６１の定量的な送出と制御部７が行う制御に
よって、各基板Ｓに対して常に同じ量の現像液が載るの
で、現像処理の再現性の向上が期待できる。

【００３６】また、一度現像液流出部５に供給した現像
液を再使用しないで廃液にするように本装置を使用すれ
ば、現像液タンク６１に溜められた現像液が常に新しい
状態のままになり、各基板Ｓに対して常に新しい現像液
を供給することができる。この結果、現像条件がさらに
一定なものになり、再現性の向上がさらに期待できるこ
ととなる。また、現像液の供給経路において、現像液が
空気に直接触れている状態は、流出ノズル５２から基板
Ｓに達するまでのほんの僅かな時間だけである。この部
分における現像液の劣化は従来に比べ殆ど問題とならな
いものであり、従来に比べ遥かに劣化のない現像液を使
用していると言える。また、これまでの説明から明かな
ように、本実施例の現像装置は、現像液タンク６１に追
加された新しい現像液を各基板Ｓに対して全く同じ状態
で供給している。このため、ディップ方式のような、基
板毎に現像液の濃度や組成等が変化してしまうという厄
介な問題が無い。

【００３７】上記実施例においては、基板Ｓを停止させ
てから現像液を供給する制御例について説明した。しか
しながら、基板Ｓを停止させないで現像液を供給するこ
ともできる。現像液の種類等によっても異なるが、例え
ば基板搬送速度が毎分５００ミリメートル程度であれば
停止しなくても現像液供給が可能である。しかし、搬送
速度が毎分２０００ミリメートル以上になると一般に停
止させて供給した方が無難である。言うまでもないこと
であるが、基板Ｓを停止させてから現像液供給を行うこ
とはプロセスの効率の点では劣るが、より均一な現像と
いう点ではより望ましい結果が得られることになる。
尚、停止させないで供給する場合には、前述のセンサか
ら送られる基板搬送完了の信号を受信すると、直ちに電
磁弁６５を開いて定量ポンプ６１を動作させるように制
御する。そして、基板搬送速度に応じたある時間の後か
若しくはセンサからの基板通過確認の信号の受信後に電
磁弁６５を閉じて定量ポンプ６１の動作を停止させるよ
うにする。

【００３８】また、現像液流出のオンオフの為の制御と
して、センサ８からの信号を受信した制御部７が電磁弁
６５を開閉する例を採り上げたが、搬送速度や各々の基
板Ｓの搬送間隔等を予めメモリーしておいてシーケンス
制御によって電磁弁６５の開閉してもよいし、電磁弁６
３によらず定量ポンプ６３の動作制御だけでオンオフす
るようにしてもよい。また、図１には、現像室１が一つ
である現像装置が示されているが、実際には複数の現像
室が搬送ライン４０に沿って配置されることが多い。こ
の場合、基板Ｓは、現像液の供給を受けた後、搬送され
ながら所定時間その状態を保持し、次の現像室でさらに
現像液の供給を受ける。このように現像液の供給を繰り
返すのは、例えば硬化処理等が施されて硬度が高いレジ
ストが形成されている場合、新しい現像液を置換しなが
ら何回も現像処理を繰り返す必要があるからである。な
お、場合によっては、各々の現像室の間には水洗室が介
在されることもある。

【００３９】本願発明の対象はＬＣＤに使用される液晶
基板であるが、本願発明の構成をプリント基板等の他の
方形の基板についても適用して別の発明を想到すること
も可能である。また本願における「基板」とは、フォト
リソグラフィ法によって形成されるパターンの土台とな
る板状のものという意味であって、必ずしも「回路」が
形成されるものとは限らない。

【００４０】

【発明の効果】以上説明したように、本願の請求項１に
記載の現像装置によれば、現像液流出部から流出した現
像液が基板に緩やかに載るので、従来のスプレー方式に
おけるような現像液の劣化等が無い。また、定量ポンプ
と制御部によって現像液が各基板に定量的に供給される
ので、常に同じ量の現像液を基板に供給できる。このた
め、各々の基板に対して、劣化のない良質な同じ量の現
像液を常に同じ状態で現像液を供給することができよう
になり、液晶基板に対する良質な現像処理が再現性よく
行える。また、本願の請求項２又は３に記載の現像装置
によれば、上記請求項１の効果に加えて、基板表面の各
点における現像処理の均一性の向上が期待でき、微細パ
ターン形成に適した優れた現像処理を液晶基板に対して
行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明の実施例の現像装置の概略説明図であ
る。

【図２】図１の現像液流出部の構成を説明する斜視概略
図である。

【図３】他の実施例における流出ノズルの配置位置を示
したものである。

【図４】他の実施例における流出ノズルの配置位置を示
したものである。

【図５】他の実施例における流出ノズルの配置位置を示
したものである。

【図６】他の実施例における流出ノズルの配置位置を示
したものである。

【図７】従来の現像装置の一例としての液晶基板の現像
装置の概略構成を示した図である。

【符号の説明】

１ 現像室 ４ 搬送系 ５ 現像液流出部 ５１ 流出ノズル ６ 現像液供給系 ６３ 定量ポンプ ７ 制御部 ８ センサ

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 現像液を方形の基板よりなる液晶基板の
   表面に供給して現像を行う現像装置であって、基板を搬
   送させる搬送系と、この搬送系により搬送される基板の
   表面に現像液を流出させて載せる複数の流出ノズルを有
   する現像液流出部と、この現像液流出部に現像液を定量
   的に送る定量ポンプを含む現像液供給系とを具備し、さ
   らに、定量ポンプによる現像液の送出を基板の搬送のタ
   イミングに応じてオンオフして現像液が載った状態を基
   板が所定時間保持するように制御する制御部を備えてい
   ることを特徴とする現像装置。
2. 【請求項２】 前記現像液流出部の複数の流出ノズル
   は、基板の表面における各流出ノズルの直下の位置が基
   板の表面の中心点を中心にして点対称状になるような位
   置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の
   現像装置。
3. 【請求項３】 前記制御部は、基板が現像液流出部の下
   方位置に達した際に基板を停止させるように搬送系を制
   御し、基板停止後に現像液流出部から現像液が流出する
   ように制御するものであることを特徴とする請求項１又
   は２に記載の現像装置。