JP2022527466A - 高い可視光反射率及び無彩色を有する物品 - Google Patents

Abstract

コーティング物品は基材、及び基材の少なくとも一部分の上に適用された機能性コーティングを含む。機能性コーティングは、第１の誘電層；第１の金属層；第１のプライマー層；第２の誘電層；第２の金属層；第２のプライマー層；第３の誘電層；及び任意選択の最外側保護コーティングを含む。コーティング物品は、少なくとも３５且つ５５以下のＲｇＬ＊値を有する。コーティング物品は、少なくとも１０ナノメートル且つ３０ナノメートル以下の金属層の合計厚さを有する。

Description

関連出願への相互参照
本出願は、その開示が参照により援用される２０２０年２月１４日に出願された米国仮特許出願第６２／９７６，６４５号及び２０１９年３月２８日に出願された米国仮特許出願第６２／８２５，３２６号への優先権を有し、これを主張する。

本発明は、一般に、車両の透明材、例えば、車両のフロントガラス及び特定の一実施例では、高い可視光反射率及び無彩色を有するフロントガラスに関する。

技術的考察
自動車市場において、車両のスタイリングに非常に重点がおかれている。車両の販売のために、車両の見た目は、車両の機械的信頼性又は安全性等級と同じくらい重要であり得る。したがって、自動車製造業者は車両のスタイリングを強化するために多大な努力を行ってきた。これらのスタイリング強化は、消費者により多くの色の選択肢を提供すること、及びまた「フォトクロミック効果」を有する車両を提供する金属フレークを有する色を提供することを含む。

これらのスタイリング強化は、一般に、消費者に好意的に受け取られており、今日までの問題は、新しい車両の塗装仕上げを用いた場合でさえ、自動車の透明材（例えばこれらに限定されないが、フロントガラス、サイドライト、バックライト、ムーンルーフ及びサンルーフ）が概してグレー又は無彩色のままであることである。これらの従来の透明材は、日射調整特性は提供するものの、車両のスタイリングの強化はほとんど提供しない。

非自動車分野において、基材とコーティングとの間の干渉効果によって色が生じるコーティング物品をもたらすことが公知である。当業者であれば認識する通り、「干渉効果」という用語は、電磁放射線（例えば、可視光）の波の重ね合わせによって引き起こされる、距離又は時間に伴う電磁波の振幅の変動を指す。これらの波は、光学薄膜コーティングの１つ又は複数の層の境界面における反射又は透過の結果であり得る。例えば、米国特許第６，１６４，７７７号は、異なる屈折率の交互材料で作製された干渉コーティングを有するプラスチックコンタクトレンズを開示している。米国特許第５，９２３，４７１号は、ジルコニア及びシリカの交互層を有する加熱ランプ用の「ホットミラー」を開示している。米国特許出願公開第２００３／００３１８４２Ａ１号は、１つ又は複数の概して透明な薄膜コーティング間の視覚的に観察可能なコントラストによってもたらされるパターン付きの外見を有する物品を開示している。干渉コーティング及びコーティング物品の他の例は、米国特許第５，６１９，０５９号；同第４，９０２，５８１号；及び同第５，１１２，６９３号；並びにスイス国特許第３３９５７５号に開示されている。

これらの開示されたコーティングはそれらが意図される目的に好適であるものの、干渉コーティングを自動車透明材に組み込もうとする際、多数の他の考慮事項が対処されなくてはならない。例えば、米国において、政府規制は、すべてのフロントガラスが少なくとも７０％の視感（可視光）透過率（ＬＴＡ：ｌｕｍｉｎｏｕｓ ｌｉｇｈｔ ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）を有しなくてはならないと要請している。欧州において、必要な最小ＬＴＡは７５％である。干渉コーティングの存在は透明材の光透過率に悪影響を及ぼし得る。

審美的に満足のいくものであり、車両のスタイリングを強化するために使用できる自動車透明材を作製する方法を提供することが有利であると考えられる。カラーコーディネート又は透明材の色を車両の塗装色と一致させる機会を提供する自動車透明材を提供することもまた有利であると考えられる。そのような透明材が自動車透明材の指定される政府要件も満たす場合、さらに有利であると考えられる。

米国特許第６，１６４，７７７号 米国特許第５，９２３，４７１号 米国特許出願公開第２００３／００３１８４２Ａ１号 米国特許第５，６１９，０５９号 米国特許第４，９０２，５８１号 米国特許第５，１１２，６９３号 スイス国特許第３３９５７５号 米国特許第４，４６６，５６２号 米国特許第第４，６７１，１５５号 米国特許第４，７４６，３４７号 米国特許第４，７９２，５３６号 米国特許第５，０３０，５９３号 米国特許第５，０３０，５９４号 米国特許第５，２４０，８８６号 米国特許第５，３８５，８７２号 米国特許第５，３９３，５９３号 米国特許第４，２８７，１０７号 米国特許第３，７６２，９８８号 米国特許第５，７９６，０５５号 米国特許第５，６５３，９０３号 米国特許第５，０２８，７５９号 米国特許第４，８９８，７８９号 米国特許第５，８２１，００１号 米国特許第４，７１６，０８６号 米国特許第４，６１０，７７１号 米国特許第４，９０２，５８０号 米国特許第４，８０６，２２０号 米国特許第４，８９８，７９０号 米国特許第４，８３４，８５７号 米国特許第４，９４８，６７７号 米国特許第５，０５９，２９５号 米国特許出願公開第０９／０５８４４０号 米国特許第４，３７９，０４０号 米国特許第４，８６１，６６９号 米国特許第４，９００，６３３号 米国特許第４，９２０，００６号 米国特許第４，９３８，８５７号 米国特許第５，３２８，７６８号 米国特許第５，４９２，７５０号 米国特許第５，７９２，５５９号 米国特許出願第１０／００７，３８２号 米国特許出願第１０／１３３，８０５号 米国特許出願第１０／３９７，００１号 米国特許出願第１０／４２２，０９５号 米国特許出願第１０／４２２，０９６号

本発明は、コーティング物品に関する。コーティング物品は、基材、及び基材の上に機能性コーティングを有する。コーティングは、基材の少なくとも一部分の上に配置された第１の誘電層を有する。第１の金属層が、第１の誘電層の少なくとも一部分の上に配置される。第１のプライマー層が、第１の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第２の誘電層が、第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。第２の金属層が、第２の誘電層の少なくとも一部分の上に配置される。第２のプライマー層が、第２の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第３の誘電層が、第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。任意選択の最外側保護コーティングが、第３の誘電層又は機能性コーティングの少なくとも一部分の上に配置される。コーティング物品は、少なくとも３５且つ５５以下のＲｇＬ^＊値を有する。

別の実施例では、本発明は、コーティング物品に関する。コーティング物品は、基材、及び基材の上に機能性コーティングを有する。コーティングは、基材の少なくとも一部分の上に配置された第１の誘電層を有する。第１の金属層が、第１の誘電層の少なくとも一部分の上に配置される。第１のプライマー層が、第１の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第２の誘電層が、第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。第２の金属層が、第２の誘電層の少なくとも一部分の上に配置される。第２のプライマー層が、第２の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第３の誘電層が、第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。任意選択の最外側保護コーティングが、第３の誘電層又は機能性コーティングの少なくとも一部分の上に配置される。金属層の合計厚さは、少なくとも１０ｎｍ且つ３０ｎｍ以下である。

本発明を、全体を通して同様の参照番号が同様の部品を示す以下の図面を参照して記載する。

図１は、非限定的なフロントガラスの横断面図（縮尺なし）である。 図２は、本発明による非限定的なコーティングの横断面図（縮尺なし）である。 図３は、本発明による非限定的なコーティングの横断面図（縮尺なし）である。

本明細書で使用される場合、空間又は方向を示す用語、例えば、「左」、「右」、「内側」、「外側」、「上」、「下」などは、それが図面に示される通りに本発明に関する。しかしながら、本発明は種々の代替の向きを想定することができ、したがって、そのような用語は限定とはみなされないことが理解される。さらに、本明細書で使用される場合、本明細書及び特許請求の範囲で使用される寸法、物理特性、処理パラメーター、成分の量、反応条件などを示すすべての数は、すべての場合において用語「約」で修飾されていると理解される。したがって、逆のことが示されない限り、以下の明細書及び特許請求の範囲で示される数値は、本発明によって得ようとする所望の特性に応じて変動し得る。少なくとも、均等論の適用を特許請求の範囲に限定しようとすることなく、各数値は、少なくとも報告された有効桁の数に照らし、通常の丸め技術を適用することによって解釈されるべきである。さらに、本明細書で開示されるすべての範囲は、範囲の開始値及び終了値、並びに範囲に包含される任意且つすべての部分範囲を包含することが理解される。例えば、「１～１０」の述べられた範囲は、最小値１及び最大値１０の間（及びそれを含む）任意且つすべての部分範囲、つまり、最小値１以上で開始し、最大値１０以下で終了するすべての部分範囲、例えば、１～３．３、４．７～７．５、５．５～１０などを含むとみなされるべきである。さらに、本明細書で使用される場合、「上に形成された」、「上に堆積された」又は「上に設けられた」という用語は、表面に形成、堆積又は設けられていることを意味するが、必ずしも表面と接触しているとは限らない。例えば、基材の「上に形成された」コーティング層は、形成されたコーティング層と基材との間に位置する同じ又は異なる組成物の１つ又は複数の他のコーティング層又は膜の存在を除外しない。本明細書で使用される場合、「ポリマー」又は「高分子」という用語は、オリゴマー、ホモポリマー、コポリマー及びターポリマー、例えば、２種以上のモノマー又はポリマーから形成されたポリマーを含む。「可視領域」又は「可視光」という用語は、３８０ナノメートル（ｎｍ）～８００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を指す。「赤外領域」又は「赤外線」という用語は、８００ｎｍ超～１００，０００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を指す。「紫外領域」又は「紫外線」という用語は、３００ｎｍ～３８０ｎｍ未満の範囲の波長を有する電磁エネルギーを意味する。本明細書における可視（視感）透過率（ＬＴＡ）値（Ｙ、ｘ、ｙ）は、Ｐｅｒｋｉｎ－Ｅｌｍｅｒから市販されているＬａｍｂｄａ ９分光光度計又はＢＹＫ－Ｇａｒｄｎｅｒから市販されているＴＣＳ分光光度計を使用して３８０ｎｍ～７７０ｎｍの波長範囲にわたって、２度オブザーバーと共にＣ．Ｉ．Ｅ．（１９７６）標準光源「Ａ」を使用して（米国連邦基準と一致して）決定可能なものである。反射色値Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊（Ｒ１又はＲ２のいずれか）は、１０°オブザーバーと共に光源「Ｄ６５」（自動車分野で慣用される通り）を使用して決定した。

本明細書で使用される場合、「膜」という用語は、所望の又は選択されたコーティング組成物のコーティング領域を指す。「層」は１つ又は複数の「膜」を含み得、「コーティング」又は「コーティングスタック」は１つ又は複数の「層」を含み得る。ケイ素は慣用的には金属とみなされないことがあるが、「金属」及び「金属酸化物」という用語は、それぞれケイ素及びシリカ、並びに伝統的に認識される金属及び金属酸化物を含む。反対のことが示されない限り、厚さ値は幾何学的厚さ値である。さらに、これらに限定されないが本明細書で言及される発行済特許及び特許出願などのすべての文献は、それらの全体が「参照により援用される」とみなされる。

本発明の議論は、特定の特徴を「特に」又は「好ましくは」特定の限定内（例えば、「好ましくは」、「より好ましくは」又は「最も好ましくは」特定の限定内）であるとして記載することがある。本発明は、これらの特定の又は好ましい限定に限定されず、本開示の全範囲を包含することが理解される。

本発明の特徴を組み込む非限定的透明材１０（例えば、自動車フロントガラス）が、図１に示される。透明材１０は、任意の所望の可視光、赤外線又は紫外線透過及び反射を有し得る。例えば、透明材１０は、任意の所望量、例えば、０％超～１００％、７０％超の可視光透過を有し得る。米国においてフロントガラス及びフロントサイドライト領域について、可視光透過は、典型的には７０％以上である。後部座席サイドライト及びリアウインドウなどのプライバシー領域について、可視光透過は、フロントガラスについてのものよりも低く、例えば７０％未満であり得る。

図１に見られる通り、透明材１０は、車両外部に面する第１の主表面、すなわち外側主表面１４（Ｎｏ．１表面）及び反対側の第２の又は内側主表面１６（Ｎｏ．２表面）を有する第１のプライ又は第１の基材１２を含む。透明材１０はまた、外側（第１の）主表面２２（Ｎｏ．４表面）及び内側（第２の）主表面２０（Ｎｏ．３表面）を有する第２のプライ又は第２の基材１８含む。プライ表面のこの付番は、自動車分野における慣例をふまえている。第１及び第２のプライ１２、１８は、従来の中間層２４によるなどの任意の好適な方法で一緒に結合され得る。必須ではないが、任意の所望の方法での積層の間及び／又は後に、積層された透明材１０の周囲に従来の端部シーラントを適用することができる。装飾バンド、例えば、不透明、半透明又は着色シェードバンド２６、例えばセラミックバンドを、プライ１２、１８の少なくとも一方の表面に、例えば、第１のプライ１２の内側主表面１６の周囲に設けることができる。コーティング３０は、プライ１２、１８の１つの少なくとも一部分の上に、例えば、Ｎｏ．２表面１６又はＮｏ．３表面２０の上に形成することができる。

図１に示される非限定的な実施例では、バスバーアセンブリは、外側プライ１２の内側表面１６に形成され、バスバーによってバスバー距離に分離された第１の又は下部バスバー９６及び第２の又は上部バスバー９８を含む。バスバー９６、９８は、コーティング３０と電気接触している。本発明の非限定的な一実施例では、バスバー９６、９８は、図１に示される通り、少なくとも部分的に又は完全に装飾バンド２６に配置され得る。

本発明の広範な実施では、透明材１０のプライ１２、１８は、同じ又は異なる材料のものであり得る。プライ１２、１８は、任意の所望の特性を有する任意の所望の材料を含み得る。例えば、プライ１２、１８の１つ又は複数は、可視光に対して透明又は半透明であり得る。「透明」とは、０％超～１００％の可視光透過率を有することを意味する。或いは、１つ又は複数のプライ１２、１８は、半透明であり得る。「半透明」とは、見ている人の反対側にある対象物がはっきりとは見えないように、電磁エネルギー（例えば、可視光）を拡散させるほか、このエネルギーを通過させることを可能にすることを意味する。好適な材料の例としては、これらに限定されないが、プラスチック基材（例えば、ポリアクリレートなどのアクリルポリマー；ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレートなどのポリアルキルメタクリレート；ポリウレタン；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリアルキルテレフタレート；ポリシロキサン含有ポリマー；又はこれらを調製するための任意のモノマーのコポリマー、又はその任意の混合物）；セラミック基材；ガラス基材；又は上記のうち任意のものの混合物若しくは組合せが挙げられる。例えば、プライ１２、１８の１つ又は複数は、従来のソーダ石灰珪酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス又は加鉛ガラスを含み得る。ガラスはクリアガラスであってもよい。「クリアガラス」とは、非ティンテッドガラス又は非着色ガラスを意味する。或いは、ガラスは、ティンテッド又はそうでなければ着色ガラスであってもよい。ガラスは、アニールガラス又は熱処理ガラスであってもよい。本明細書で使用される場合、「熱処理」という用語は、強化又は少なくとも部分的に強化されたことを意味する。ガラスは、従来のフロートガラスなどの任意の種類のものであってもよく、任意の光学特性、例えば、任意の値の可視透過、紫外透過、赤外透過及び／又は全太陽エネルギー透過を有する任意の組成物であってもよい。「フロートガラス」とは、溶融ガラスが溶融金属浴上に堆積され、制御冷却されて、フロートガラスリボンが形成される従来のフロート法によって形成されたガラスを意味する。次いでリボンは、所望の場合、切断及び／又は成形及び／又は熱処理される。フロートガラス法の例は、米国特許第４，４６６，５６２号及び第４，６７１，１５５号に開示されている。第１及び第２のプライ１２、１８は、例えば、クリアフロートガラスであってもよく、又はティンテッド若しくは着色ガラスであってもよく、又は１つのプライ１２、１８がクリアガラスであり、他方のプライ１２、１８が着色ガラスであってもよい。本発明に限定されないが、第１のプライ１２及び／又は第２のプライ１８に好適なガラスの例は、米国特許第４，７４６，３４７号；同第４，７９２，５３６号；同第５，０３０，５９３号；同第５，０３０，５９４号；同第５，２４０，８８６号；同第５，３８５，８７２号；及び同第５，３９３，５９３号に記載されている。第１及び第２のプライ１２、１８は、任意の所望の寸法、例えば、長さ、幅、形状又は厚さであってもよい。１つの例示的な自動車透明材１０において、第１及び第２のプライ１２、１８は、各々、１ｍｍ～１０ｍｍ厚、例えば、１ｍｍ～５ｍｍ厚、又は１．５ｍｍ～２．５ｍｍ、又は１．８ｍｍ～２．３ｍｍであり得る。非限定的な一実施例では、第１のプライ１２及び／又は第２のプライ１８は、５５０ｎｍの基準波長において９０％超、例えば９１％超の可視光透過率を有し得る。第１のプライ１２及び／又は第２のプライ１８のためのガラス組成物は、０重量パーセント（ｗｔ％）超～０．２ｗｔ％の範囲の総鉄含有量及び／又は０．３～０．６の範囲のレドックス比を有し得る。

非限定的な一実施例では、一方又は両方のプライ１２、１８は、５５０ｎｍの基準波長において高い可視光透過率を有し得る。「高い可視光透過率」とは、２ｍｍ～２５ｍｍシート厚さのガラスについて５．５ｍｍ等価厚さで、８５％以上、例えば８７％以上、例えば９０％以上、例えば９１％以上、例えば９２％以上の５５０ｎｍにおける可視光透過率を意味する。本発明の実施に特に有用なガラスは、米国特許第５，０３０，５９３号及び同第５，０３０，５９４号に開示されている。

中間層２４は、任意の所望の材料のものであってもよく、１つ又は複数の層又はプライを含んでもよい。中間層２４は、高分子又はプラスチック材料、例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｂｕｔｙｒａｌ）、可塑化塩化ポリビニル又はポリエチレンテレフタレートを含む多層熱可塑性材料などであり得る。好適な中間層材料は、限定とはみなされないが、例えば、米国特許第４，２８７，１０７号及び同第３，７６２，９８８号に開示されている。中間層２４はまた、例えば米国特許第５，７９６，０５５号に記載の通りの吸音又は消音材料であってもよい。中間層２４は、その上に設けられた若しくはその中に組み込まれた日射調整コーティングを有してもよく、又は太陽エネルギー透過を低減する着色材料を含んでもよい。

コーティング３０は、ガラスプライ１２、１８の１つの主表面の少なくとも一部分の上、例えば、表側ガラスプライ１２の内側表面１６又は内部ガラスプライ１８の内側表面２０に堆積される（図１）。コーティング３０は、ガラスプライ１２、１８の１つの少なくとも一部分の上に順次適用された誘電層間に配置された２つの金属膜を含み得る。コーティング３０は、熱及び／若しくは放射線反射コーティング又は日射調整コーティングであってもよく、同じ又は異なる組成物及び／又は機能性の１つ又は複数のコーティング層又はフィルムを有してもよい。コーティング３０は、２つの金属層を含む多層コーティングであってもよい。加熱可能なウィンドウを作製するために使用される電気伝導性コーティングの例は、米国特許第５，６５３，９０３号及び同第５，０２８，７５９号に開示されている。本発明の実施に使用できる日射調整コーティングの例は、米国特許第４，８９８，７８９号；同第５，８２１，００１号；同第４，７１６，０８６号；同第４，６１０，７７１号；同第４，９０２，５８０号；同第４，７１６，０８６号；同第４，８０６，２２０号；同第４，８９８，７９０号；同第４，８３４，８５７号；同第４，９４８，６７７号；同第５，０５９，２９５号；及び同第５，０２８，７５９号、並びにまた米国特許出願公開第０９／０５８４４０号に見出される。

好適なコーティング３０の非限定例としては、典型的には、可視光に対して透明である誘電又は反射防止材料、例えば、金属酸化物又は金属合金の酸化物を含む１つ又は複数の反射防止コーティング膜が挙げられる。コーティング３０はまた、反射金属、例えば、銀若しくは金などの貴金属、又はその合金、混合物若しくは組合せを含む２つの金属層を含んでもよく、金属反射層の上及び／又は場合により下に位置する、当技術分野で公知の通りのチタン又はチタンアルミニウム合金などのプライマー層又はバリア膜をさらに含んでもよい。コーティング３０は、１つの金属層を有してもよく；又は少なくとも２つの金属層を有してもよい。例えば、コーティング３０は、２つの金属層からなる。非限定的な一実施例では、金属層の１つ又は複数は、銀を含み得る。

プライマー層に好適な材料の非限定例としては、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、ケイ素炭素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、アルミニウム銀、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、その混合物、その組合せ又はその任意の合金が挙げられる。プライマー層はまた、上記リストの材料の任意のものの金属、酸化物、亜酸化物、窒化物及び／又は亜窒化物の形態をとってもよい。プライマー層の少なくとも一部分は、酸化物又は窒化物である。ある特定の実施例では、プライマー層は、１００％アルゴン環境で堆積される。ある特定の実施例では、プライマー層の一部分は、残部がアルゴンである８０％Ｎ_２の雰囲気を形成する特定の流速を有する窒素（Ｎ_２）雰囲気中、金属又は金属合金をスパッタリングすることによって形成された窒化物である。流速は雰囲気中のＮ_２の量の近似値であるが、当業者であれば、コーティングチャンバーが外部環境から密閉されていないため、さらなるＮ_２がコーティングチャンバーに入り込むことがあることを認識するであろう。ある特定の実施例では、プライマー層の一部分は、残部がアルゴンである３～７％Ｏ_２の雰囲気を形成する特定の流速を有する酸素（Ｏ_２）雰囲気中、金属又は金属合金をスパッタリングすることによって形成された亜酸化物である。流速は雰囲気中の酸素（Ｏ_２）の量の近似値であるが、当業者であれば、コーティングチャンバーが外部環境から密閉されていないため、さらなるＯ_２がコーティングチャンバーに入り込むことがあることを認識するであろう。プライマー材料の化学構造は、構成成分ｘの重量パーセント（ｗｔ％）によって示される。特定の組成物について、組成物中の材料の１種の下限は「０超」であり得る。下限がゼロ超（＞０）である場合、材料のｗｔ％はゼロには等しくなく、０超の任意のｗｔ％～上限のｗｔ％であり得る。組成物は、大気物質との反応に起因して、層が加熱される前又は後で変化し得る。これらの反応は、組成物の材料間に分布するｗｔ％を変化させ得る。プライマー層の非限定例の組成物は、表１に見ることができ、表中、加熱前がＢＨ、加熱後がＡＨである。一部の材料は、測定値が最終組成物についてより重要であることに起因して、ＢＨ又はＡＨ測定値のみをただ有し得る。

コーティング３０は、任意の従来の方法、例えばこれらに限定されないが、従来の化学蒸着（ＣＶＤ：ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）及び／又は物理蒸着（ＰＶＤ：ｐｈｙｓｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって堆積できる。ＣＶＤ法の例としては、噴霧熱分解が挙げられる。ＰＶＤ法の例としては、電子ビーム蒸着及び真空スパッタリング（例えば、マグネトロンスパッター蒸着（ＭＳＶＤ：ｍａｇｎｅｔｒｏｎ ｓｐｕｔｔｅｒ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ））が挙げられる。他のコーティング方法、例えばこれに限定されないが、ゾルゲル堆積もまた使用できる。非限定的な一実施例では、コーティング３０は、ＭＳＶＤによって堆積され得る。ＭＳＶＤコーティングデバイス及び方法の例は、当業者に十分理解され、例えば、米国特許第４，３７９，０４０号；同第４，８６１，６６９号；同第４，８９８，７８９号；同第４，８９８，７９０号；同第４，９００，６３３号；同第４，９２０，００６号；同第４，９３８，８５７号；同第５，３２８，７６８号；及び同第５，４９２，７５０号に記載されている。ＭＳＶＤ法において、金属又は金属合金の酸化物は、酸素含有雰囲気中、カソードを含有する金属又は金属合金をスパッタリングして、金属酸化物又は金属合金酸化物膜を基材の表面に堆積することによって堆積できる。一実施例では、コーティング３０は、表面のすべて又は実質的にすべての上に堆積され、すなわち、別個のコーティング領域を形成するようには堆積されない。少なくとも１つのコーティング３０は、平坦基材の上に堆積でき、次いで、基材は、任意の従来の方法、例えば加熱によって湾曲又は成形できる。或いは、少なくとも１つのコーティング３０は、曲面、すなわち、既に湾曲又は成形された基材の上に堆積できる。

本発明は、８％～５０％、好ましくは８％～３０％、より好ましくは８％～２０％、最も好ましくは９％～１８％の範囲の可視光反射率、及び無彩色を生じる３５～５５、好ましくは４２～５４、より好ましくは４６～５３又は最も好ましくは５０～５２のＲｇＬ^＊を提供するのに十分な厚さの総銀を有するコーティングスタックを対象とする。

本発明の非限定的な一実施では、コーティングは、５０％以下、例えば、３０％以下、例えば２０％以下、例えば１８％以下の可視光反射率を提供する。当業者であれば認識する通り、積層物品について、反射率は、典型的には、積層物品の外部反射率に関して定義される。「外部反射率」とは、内部表面、例えば、Ｎｏ．２表面１６又はＮｏ．３表面２０に設けられたコーティングは３０による外部表面（Ｎｏ．１表面１４）の反射率を意味する。

本発明の非限定的な一実施では、コーティング３０は、３５～５５、好ましくは４０～５４、より好ましくは４６～５３又は最も好ましくは５０～５２の範囲を有する８度角における外部反射Ｌ^＊（Ｒｇ８Ｌ^＊）を提供する。本発明の非限定的な一実施では、コーティング３０は、０～－１０の範囲、例えば、－１～－８、好ましくは－１．２～－７．０、より好ましくは－１．５～－６．８又は最も好ましくは－１．７～－５．０の範囲の８度角におけるａ^＊（Ｒｇ８ａ^＊）を有する色空間内の外部反射色を提供する。本発明の非限定的な一実施では、コーティング３０は、１～－２０の範囲、例えば、０～－１９、好ましくは－２．０～－１０、より好ましくは－１０～－２０又は最も好ましくは－１５～－１９の範囲の８度角における外反射ｂ^＊（Ｒｇ８ｂ^＊）を提供する。

当業者であれば認識する通り、物体、特にガラスの色は、非常に主観的である。観察色は、照明条件及び観察者の選好に依存する。定量基準で色を評価するために、いくつかの色票系が開発されている。国際照明委員会（ＣＩＥ：Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ ｏｎ Ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ）によって採用される色を特定するためのそのような一方法は、主波長（ＤＷ：ｄｏｍｉｎａｎｔ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ）及び刺激純度（Ｐｅ：ｅｘｃｉｔａｔｉｏｎ ｐｕｒｉｔｙ）を使用する。所与の色についてのこれらの２つの規格の数値は、その色のいわゆる３刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚから色座標ｘ及びｙを計算することによって決定できる。次いで色座標は、１９３１ ＣＩＥ色度図にプロットされ、ＣＩＥ公開Ｎｏ．１５．２において特定される通りのＣＩＥ標準光源Ｃの座標と数値比較される。この比較により、図中の色空間位置が提供されて、ガラス色の刺激純度及び主波長が確認される。

別の色票系では、色相及び明度の点で色が特定される。この系は、一般にＣＩＥＬＡＢ色系と呼ばれる。色相は、赤、黄、緑及び青などの色を識別する。明度又は明暗度は、明度又は暗度の程度を識別する。Ｌ^＊、ａ^＊及びｂ^＊として特定されるこれらの特性の数値は、３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）から計算される。Ｌ^＊は、色の明度又は暗度を示し、色が属する明度平面を表す。ａ^＊は、赤（＋ａ^＊）緑（－ａ^＊）色軸の色の位置を示す。ｂ^＊は、黄（＋ｂ^＊）青（－ｂ^＊）色軸の色の位置を示す。ＣＩＥＬＡＢ系の直交座標が円柱状極座標に変換される場合、得られる色系はＣＩＥＬＣＨ色系として公知であり、これは、明度（Ｌ^＊）及び色相角（Ｈ°）及びクロマ（Ｃ^＊）の点で色を特定する。Ｌ^＊は、ＣＩＥＬＡＢ系と同様に色の明度又は暗度を示す。クロマ、又は彩度若しくは強度は、色強度又は鮮度（すなわち、鮮やか対くすみ）を識別し、色空間の中心から測定色までのベクトル距離である。色のクロマが低いほど、すなわち、その強度が低いほど、色はいわゆる無彩色に近くなる。ＣＩＥＬＡＢ系に関して、Ｃ^＊＝（ａ^＊２＋ｂ^＊２）^１／２である。色相角は、赤、黄、緑及び青などの色を識別し、ａ^＊、ｂ^＊座標からＣＩＥＬＣＨ色空間の中心を通って延びるベクトルの、赤（＋ａ^＊）色軸から反時計回りに測定した角度の測定値である。

色はこれらの色系の任意のもので特性決定されてもよく、当業者は、検討されるガラス又は複合透明材の透過率曲線から等価なＤＷ及びＰｅ値；Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊値；並びにＬ^＊、Ｃ^＊、Ｈ°値を計算し得ることが認識されるべきである。色の計算の詳細な議論は、米国特許第５，７９２，５５９号に示されている。本文書では、ＣＩＥＬＡＢ系（Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊）を使用して色を特性決定する。しかしながら、これは単に議論を容易にするためであり、開示される色は、上記のものなどの任意の従来の系によって定義され得ることが理解される。

本発明に好適な非限定的な例示のコーティング３０が、図２及び３に示される。この例示のコーティング３０は、誘電層間に配置された２つの金属層を含む。これは、基材の主表面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２表面１６又は第２のプライ１８のＮｏ．３表面２０）の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置された基層又は第１の誘電層４０を含む。第１の金属層４８が、第１の誘電層４０の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置される。第１のプライマー層５０が、第１の金属層４８の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置される。第２の誘電層６０が、第１のプライマー層５０の上に又はこれと直接接触して配置される。第２の金属層７０が、第２の誘電層６０の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置される。第２のプライマー層７２が、第２の金属層７０の上に又はこれと直接接触して配置されてもよい。第３の誘電層８０が、第２のプライマー層７２の上に又はこれと直接接触して配置される。最外側保護層１００が、第３の誘電層８０の上に又はこれと直接接触して配置されてもよい。

誘電層は、反射防止材料及び／又は誘電材料、例えばこれらに限定されないが、金属酸化物、金属合金の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物の１つ又は複数の膜を含み得る。第１の誘電層４０は、可視光に対して透明であり得る。第１の誘電層４０に好適な金属酸化物の例としては、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、ケイ素、その合金、その混合物又はその組合せの酸化物が挙げられる。これらの金属酸化物は、少量の他の材料、例えば、酸化ビスマス中のマンガン、酸化インジウム中のスズなどを有し得る。或いは、酸化物又は金属合金又は金属混合物、例えば、亜鉛及びスズを含有する酸化物（例えば、スズ酸亜鉛）；インジウム－スズ合金の酸化物；窒化ケイ素；窒化アルミニウムケイ素；又は窒化アルミニウムを使用できる。さらに、ドープ金属酸化物、例えば、アルミニウムドープ酸化亜鉛、アンチモンドープ酸化スズ、ニッケル又はホウ素ドープ酸化ケイ素、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化スズ又はその混合物を使用できる。非限定的な一実施例では、第１の誘電層の第１の膜４２は、基材（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２表面１６又は第２のプライ１８のＮｏ．３表面２０）の少なくとも一部分の上に形成された亜鉛／スズ合金酸化物であり得る。亜鉛／スズ合金酸化物は、亜鉛及びスズを亜鉛１０ｗｔ％～９０ｗｔ％及びスズ９０ｗｔ％～１０ｗｔ％の割合で含み得る亜鉛及びスズのカソードからのＭＳＶＤから得ることができる。第１の誘電層の第１の膜４２中に存在し得る１種の好適な金属合金酸化物は、スズ酸亜鉛である。「スズ酸亜鉛」とは、Ｚｎ_ｘＳｎ_１－ｘＯ_２－ｘ（式１）（式中、「ｘ」は０超～１未満の範囲で変動する）の組成物を意味する。例えば、「ｘ」は、０超であり得、０超～１未満の任意の分率又は小数であり得る。例えば、ｘ＝２／３の場合、式１は、Ｚｎ_２／３Ｓｎ_１／３Ｏ_４／３であり、これはより一般的にはＺｎ_２ＳｎＯ_４と記載される。スズ酸亜鉛含有膜は、膜中に大量の式１の形態の１種又は複数を有する。

第１の誘電層の第２の膜４４は、第１の誘電層の第１の膜４２の少なくとも一部分の上に形成され、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その混合物又は組合せを含み得る。非限定的な一実施例では、第１の誘電層の第２の膜４４は、酸化亜鉛などの亜鉛含有膜であり得る。酸化亜鉛膜は、カソードのスパッタリング特性を改善するための他の材料を含む亜鉛カソードから堆積できる。例えば、亜鉛カソードは、スパッタリングを改善するための少量（例えば、１０ｗｔ％未満、例えば０超～５ｗｔ％）のスズを含み得る。この場合、得られた酸化亜鉛膜は、少パーセンテージの酸化スズ、例えば、０～１０ｗｔ％未満の酸化スズ、例えば０～５ｗｔ％の酸化スズを含むと考えられる。９５ｗｔ％の亜鉛及び５ｗｔ％のスズ、又は好ましくは９０ｗｔ％の亜鉛及び１０ｗｔ％のスズを含む亜鉛／スズカソードからスパッタリングされた酸化物層は、酸化亜鉛膜と呼ばれる。カソード中の少量のスズ（例えば、１０ｗｔ％未満）は、第１の誘電層の主に酸化亜鉛を含有する第２の膜４４中の少量の酸化スズを形成すると考えられる。

非限定的な例示の実施例では、第２の膜４４は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズの少なくとも１種からなる膜である。アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ膜は、カソードのスパッタリング特性を改善するための他の材料を含む亜鉛カソードから堆積される。例えば、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ膜は、スパッタリングを改善するための少量（例えば、１０ｗｔ％未満、例えば０超～５ｗｔ％）のスズを含み得る。この場合、得られたアルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ膜は、少パーセンテージの酸化スズ、例えば０ｗｔ％～１０ｗｔ％未満の酸化スズ、例えば０ｗｔ％～５ｗｔ％の酸化スズを含むと考えられる。

非限定的な一実施例は、第１の誘電層の第１の膜４２がスズ酸亜鉛であり、第１の誘電層の第１の膜４２の少なくとも一部分の上の第１の誘電層の第２の膜４４が、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含むものである。

第１の誘電層４０は、１０ｎｍ～５５ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ～５３ｎｍ、より好ましくは２５ｎｍ～５０ｎｍ、最も好ましくは２９ｎｍ～４８ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。

非限定的な一実施例では、第１の誘電層４０は、図面に示されていない、第１の金属層４８と直接接触した第１のシード膜を含む。シード膜は、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含み得る。非限定的な一実施例では、シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。別の実施例では、シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。シード膜の非限定例の組成物は、表２に見出すことができる。ある特定の実施例では、シード膜の一部分は、残部がアルゴンである１％～７０％Ｏ_２の雰囲気を形成する特定の流速を有するＯ_２雰囲気中で形成される。流速は雰囲気中のＯ_２の量の近似値であるが、当業者であれば、コーティングチャンバーが外部環境から密閉されていないため、さらなるＯ_２がコーティングチャンバーに入り込むことがあることを認識するであろう。一実施例では、シード膜は、Ｖ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、Ａｌ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、Ｇａ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、Ｉｎ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、Ｓｎ_ｘＩｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、酸素／アルゴンガス環境中で堆積されたＡｇを含む。別の実施例では、シード膜は、Ａｌ_ｘＡｇ_１－ｘを含む。非限定的な一実施例では、第１の誘電層の第２の膜４４は、シード膜である。一部の実施例では、第１の誘電層４０は、第１の膜４２、第２の膜４４及びシード膜を含む。シード膜は、０．５ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは０．７５ｎｍ～８ｎｍ、より好ましくは０．９ｎｍ～６ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。

第１の金属層４８は、第１の誘電層４０の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第１の金属層４８は、反射金属、例えばこれらに限定されないが、金属金、銀、その混合物、その合金又はその組合せを含み得る。一実施例では、第１の金属層４８は、金属銀層を含む。第１の金属層４８は、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは７．５ｎｍ～１５ｎｍ、より好ましくは９ｎｍ～１４ｎｍ、最も好ましくは９．７～１３．３ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。

第１のプライマー層５０は、第１の金属層４８の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第１のプライマー層５０は、堆積工程の間、犠牲となって、スパッタリング工程又は後続の加熱工程の間の第１の金属層４８の分解又は酸化を防ぎ得る酸素捕捉材料、例えばチタンであり得る。酸素捕捉材料は、第１の金属層４８の材料の前に酸化するように選択できる。プライマー層に好適な材料の例としては、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、ケイ素、炭素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、アルミニウム銀、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、その混合物、その組合せ又はその任意の合金が挙げられ、ここで、プライマーは、金属として堆積され、続いて酸化される。第１のプライマー層５０に好適な材料の例は、表１に見出すことができる。プライマー層の少なくとも一部分は、窒化物又は酸化物である。銀亜鉛、亜鉛、銀亜鉛酸化物、チタン、アルミニウム亜鉛酸化物、インジウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物又はバナジウム亜鉛酸化物が第１のプライマー層５０として使用される場合、これは、好ましくは、下にある金属層の酸化の前に酸化すると考えられる。一実施例では、第１のプライマー層５０は、チタンである。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、銀亜鉛を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、亜鉛を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ａｇ_ｘＺｎ_１－ｘを含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ａｇ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ａｌ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｉｎ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｇａ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｖ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ａｌ_ｘＴｉ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ａｌ_ｘＮｂ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ａｌ_ｘＮｂ_１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｗ_ｘＮｂ_１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｗ_ｘＴｉ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｔｉ_ｘＴａ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｔｉ_ｘＮｂ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｔｉ_ｘＮｂ_１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｎｂ_ｘＺｒ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｔａ_ｘＷ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｗ_ｘＮｂ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第１のプライマー層５０は、Ｚｎ_ｘＴｉ_１－ｘ酸化物を含む。第１のプライマー層５０は、０．５ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは１．０ｎｍ～５．０ｎｍ、より好ましくは１．０～２．５ｎｍの範囲の総厚さを有する。

第２の誘電層６０は、第１の金属層４８又は任意選択の第１のプライマー層５０の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２の誘電層６０は、第１の誘電層に関して上で議論した１種又は複数の材料を含み得る。図２の例示される非限定例では、第２の誘電層６０は、第１の金属層４８又は任意選択の第１のプライマー層５０の上に堆積された第２の誘電層の第１の膜６２を含む。第２の誘電層の第１の膜６２は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。一実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。

第２の誘電層の第２の膜６４は、第２誘電層の第１の膜６２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２の誘電層の第２の膜６４は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。非限定的な一実施例では、第２の誘電層の第２のフィルム６４は、スズ酸亜鉛である。

第２の誘電層の第３の膜６６は、第２の誘電層の第２の膜６４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２の誘電層の第３の膜６６は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含み得る。第２の誘電層の第３の膜６６は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。一実施例では、第２の誘電層の第３の膜６６は、酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第３の膜６６は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第３の膜６６は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第３の膜６６は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第２の誘電層の第３の膜６６は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第１の誘電層４０又は第２の誘電層６０は、窒化ケイ素膜を含む。

非限定的な一実施例は、第２の誘電層の第１の膜６２が酸化亜鉛を含み、第２の誘電層の第２の膜６４がスズ酸亜鉛を含み、第２の誘電層の第２の膜４４の少なくとも一部分の上の第２の誘電層の第３の膜６６が、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含むものである。

第２の誘電層６０は、５０ｎｍ～１５０ｎｍ、好ましくは７５ｎｍ～１２５ｎｍ、より好ましくは９０ｎｍ～１１０ｎｍ、最も好ましくは９３ｎｍ～１００ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。

非限定的な一実施例では、第２の誘電層６０は、第２の金属層７０と直接接触して配置されたシード膜を含む。シード膜は、第１の誘電層のシード膜に関して及び表２で上で議論した１種又は複数の材料を含み得る。シード膜は、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含み得る。非限定的な一実施例では、シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。別の実施例では、シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。一実施例では、シード膜は、Ｖ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、Ａｌ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、Ｇａ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、Ｉｎ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、Ｓｎ_ｘＩｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、酸素／アルゴンガス環境中で堆積されたＡｇを含む。別の実施例では、シード膜は、Ａｌ_ｘＡｇ_１－ｘを含む。一部の実施例では、第２の誘電層６０は、第１の膜６２、第２の膜６４及びシード膜を有する。一部の実施例では、第２の誘電層６０は、第１の膜６２、第２の膜６４、第３の膜６６及びシード膜を有する。シード膜は、０．５ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは０．７５ｎｍ～８ｎｍ、より好ましくは０．９ｎｍ～６ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。

第２の金属層７０は、第２の誘電層６０の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２の金属層７０は、第１の金属層４８に関して上記の任意の１種又は複数の反射材料を含み得る。非限定的な一実施例では、第２の金属層７０は、銀を含む。第２の金属層７０は、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１５ｎｍ、より好ましくは７．５ｎｍ～１２．５ｎｍ、最も好ましくは７．５ｎｍ～１０．３ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。

第２のプライマー層７２は、第２の金属層７０の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２のプライマー層７２は、第１のプライマー層５０に関して及び表１で上記の材料の任意のものであり得る。非限定的な一実施例では、第２のプライマー層７２は、チタンを含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、銀亜鉛を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、亜鉛を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ａｇ_ｘＺｎ_１－ｘを含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ａｇ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ａｌ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｉｎ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｇａ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｖ_ｘＺｎ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ａｌ_ｘＴｉ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ａｌ_ｘＮｂ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ａｌ_ｘＮｂ_１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｗ_ｘＮｂ_１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｗ_ｘＴｉ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｔｉ_ｘＴａ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｔｉ_ｘＮｂ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｔｉ_ｘＮｂ_１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｎｂ_ｘＺｒ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｔａ_ｘＷ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｗ_ｘＮｂ_１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７２は、Ｚｎ_ｘＴｉ_１－ｘ酸化物を含む。第２のプライマー層７２は、０．５ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは１．０ｎｍ～５ｎｍ、より好ましくは１．０ｎｍ～２．５ｎｍの範囲の総厚さを有する。

第３の誘電層８０は、第２の金属層７０又は第２のプライマー層７２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第３の誘電層８０はまた、第１及び第２の誘電層に関して上で議論した１種又は複数の材料を含み得る。非限定的な一実施例では、第３の誘電層８０は、第３の誘電層の第１の膜８２を含む。第３の誘電層の第１の膜８２は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。一実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、酸化亜鉛を含む。別の非限定的な実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、スズ酸亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。

第３の誘電層の第２の膜８４は、第３の誘電層の第１の膜８２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第３の誘電層の第２の膜８４は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。第３の誘電層の第２の膜８４は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。一実施例では、第３の誘電層の第２の膜８４は、酸化亜鉛を含む。一実施例では、第３の誘電層の第２の膜８４は、スズ酸亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第２の膜８４は、窒化ケイ素又は酸窒化ケイ素を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第２の膜８４は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第２の膜８４は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第２の膜８４は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第３の誘電層の第２の膜８４は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。

第３の誘電層の任意選択の第３の膜は、第３の誘電層の第２の膜８４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第３の誘電層の任意選択の第３の膜は、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含み得る。第３の誘電層の第３の膜は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。非限定的な一実施例では、第３の誘電層の任意選択の第３の膜は、酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第３の膜は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第３の膜は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第３の膜は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第３の誘電層の第３の膜は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の任意選択の第３の膜は、窒化ケイ素又は酸窒化ケイ素を含む。別の実施例では、第３の誘電層の任意選択の第３の膜は、酸化チタンを含む。

非限定的な一実施例は、第３の誘電層の第１の膜８２が酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含み、第３の誘電層の第１の膜８２の少なくとも一部分の上の第３の誘電層の第２の膜８４が、酸化亜鉛、スズ酸亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含むものである。

第３の誘電層８０は、２０ｎｍ～７５ｎｍ、好ましくは２５ｎｍ～５０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ～４５ｎｍ、最も好ましくは３６ｎｍ～４１ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。

非限定的な一実施例では、コーティング物品は、第１及び第２の金属層４８、７０を含む。コーティング物品に追加の金属層は存在しない。金属層は、銀のみ又は銀及び金のみを含み得る。

各金属層は厚さを有する。非限定的な一実施例では、金属層の合計厚さは、１０ｎｍ～３０ｎｍ、好ましくは１２ｎｍ～２５ｎｍ、最も好ましくは１５ｎｍ～２２ｎｍ、最も好ましくは１６ｎｍ～１８ｎｍの範囲である。

コーティングは、最外側保護層１００を含み得、これは、例えば、図２に示される非限定的な実施例では、第３の誘電層８０の少なくとも一部分の上に堆積されて、加工の間、金属層などの下にある層を機械的及び化学的攻撃から保護するのを補助する。最外側保護層１００は、加熱又は湾曲の間などに周囲酸素がコーティング３０の下にある層に移動することを防ぐ又は減らすための酸素バリアコーティング層であり得る。最外側保護層１００は、任意の所望の材料又は材料の混合物のものであってもよく、１つ又は複数の保護膜で構成されてもよい。例示的な一実施例では、最外側保護層１００は、１種又は複数の金属酸化物材料、例えばこれらに限定されないが、アルミニウム、ケイ素又はその混合物の酸化物を含む単一層を含み得る。例えば、最外側保護コーティング１００は、０ｗｔ％～１００ｗｔ％の範囲のアルミナ及び／又は１００ｗｔ％～０ｗｔ％の範囲のシリカ、例えば５ｗｔ％～９５ｗｔ％のアルミナ及び９５ｗｔ％～５ｗｔ％のシリカ、例えば１０ｗｔ％～９０ｗｔ％のアルミナ及び９０ｗｔ％～１０ｗｔ％のシリカ、例えば１５ｗｔ％～９０ｗｔ％のアルミナ及び８５ｗｔ％～１０ｗｔ％のシリカ、例えば５０ｗｔ％～７５ｗｔ％のアルミナ及び５０ｗｔ％～２５ｗｔ％のシリカ、例えば５０ｗｔ％～７０ｗｔ％のアルミナ及び５０ｗｔ％～３０ｗｔ％のシリカ、例えば３５ｗｔ％～１００ｗｔ％のアルミナ及び６５ｗｔ％～０ｗｔ％のシリカ、例えば７０ｗｔ％～９０ｗｔ％のアルミナ及び３０ｗｔ％～１０ｗｔ％のシリカ、例えば、７５ｗｔ％～８５ｗｔ％のアルミナ及び２５ｗｔ％～１５ｗｔ％のシリカ、例えば８８ｗｔ％のアルミナ及び１２ｗｔ％のシリカ、例えば６５ｗｔ％～７５ｗｔ％のアルミナ及び３５ｗｔ％～２５ｗｔ％のシリカ、例えば７０ｗｔ％のアルミナ及び３０ｗｔ％のシリカ、例えば６０ｗｔ％～７５ｗｔ％未満のアルミナ及び２５ｗｔ％超～４０ｗｔ％のシリカを含む単一コーティング層であり得る。他の材料、例えば、アルミニウム、クロム、ハフニウム、イットリウム、ニッケル、ホウ素、リン、チタン、ジルコニウム及び／又はその酸化物もまた、例えば最外側保護層１００の屈折率を調節するために存在し得る。非限定的な一実施例では、最外側保護層１００の屈折率は、１～３、例えば１～２、例えば１．４～２、例えば１．４～１．８の範囲であり得る。

非限定的な一実施例では、保護層１００は、組合せシリカ及びアルミナコーティングである。最外側保護層１００は、２つのカソード（例えば、１つはケイ素及び１つはアルミニウム）から、又はケイ素及びアルミニウムの両方を含有する単一カソードからスパッタリングされ得る。この酸化ケイ素アルミニウム最外側保護層１００は、Ｓｉ_ｘＡｌ_１－ｘＯ_{（１．５＋ｘ）／２}（式中、ｘは、０超～１未満で変動し得る）と書くことができる。例示的な一実施例では、最外側保護層１００は、１５ｗｔ％のアルミナ及び８５ｗｔ％のシリカを含む。別の実施例では、最外側保護コーティング１００は、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＡｌＯ、その合金及びその混合物を含む。

非限定的な一実施例では、最外側保護層１００は、窒化ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）、酸窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）、窒化ケイ素アルミニウム（ＳｉＡｌＮ）、酸窒化ケイ素アルミニウム（ＳｉＡｌＯＮ）、その混合物及び／又はその合金で構成され、これはコーティング物品の耐久性を増加させ得る。最外側保護層１００は、ケイ素のスパッタリングを改善するための優れた電気伝導性を有する他の材料に堆積された窒化ケイ素で形成され得る。例えば、堆積の間に、ケイ素カソードは、スパッタリングを改善するための少量（例えば、最大２０ｗｔ％、最大１５ｗｔ％、最大１０ｗｔ％又は最大５ｗｔ％）のアルミニウムを含み得る。この場合、得られた窒化ケイ素層は、少パーセンテージのアルミニウム、例えば最大１５ｗｔ％のアルミニウム、例えば最大１０ｗｔ％のアルミニウム、例えば最大５ｗｔ％のアルミニウムを含むと考えられる。最大１０ｗｔ％のアルミニウム（カソードの導電性を高めるために添加された）を有するケイ素カソードから堆積されたコーティング層は、少量のアルミニウムが存在し得るが、本明細書においては「窒化ケイ素」層と呼ぶ。カソード中の少量のアルミニウム（例えば、１５ｗｔ％以下、例えば１０ｗｔ％以下、例えば５ｗｔ％以下）は、主に窒化ケイ素最外側保護層１００中で窒化アルミニウムを形成すると考えられる。最外側保護層１００は窒素雰囲気中で形成され得るが、しかしながら、最外側保護層１００の堆積の間、酸素などの他のガスが雰囲気中に存在してもよいことが理解される。

別の非限定的な実施例では、最外側保護層１００は、第１の保護膜及び第１の保護膜の少なくとも一部分の上に形成された第２の保護膜を含む多層コーティングであり得る。第１の保護膜は、アルミナ、シリカ、チタン、ジルコニア、酸化スズ、その混合物又はその合金を含み得る。特定の非限定的な一実施例では、第１の保護膜は、アルミナ又はアルミナ及びシリカを含む合金を含み得る。例えば、第１の保護膜は、５ｗｔ％超のアルミナ、例えば１０ｗｔ％超のアルミナ、例えば１５ｗｔ％超のアルミナ、例えば５０ｗｔ％～７０ｗｔ％のアルミナ、例えば、６０ｗｔ％～１００ｗｔ％の範囲のアルミナ及び４０ｗｔ％～０ｗｔ％の範囲のシリカ、例えば、６０ｗｔ％のアルミナ及び４０ｗｔ％のシリカを有するシリカ／アルミナ混合物を含み得る。別の実例では、第１の保護膜は、スズ酸亜鉛を含み得る。別の実例では、第１の保護膜は、ジルコニアを含み得る。

第２の保護膜は、例えば、金属酸化物又は金属窒化物を含み得る。第２の保護膜は、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、酸化スズ、その混合物又はその合金であり得る。例えば、第２の保護膜は、４０～６０ｗｔ％のアルミナ及び６０～４０ｗｔ％のチタニア；４５～５５ｗｔ％のアルミナ及び５５～４５ｗｔ％のチタニア；４８～５２ｗｔ％のアルミナ及び５２～４８ｗｔ％のチタニア；４９～５１ｗｔ％のアルミナ及び５１～４９ｗｔ％のチタニア；又は５０ｗｔ％のアルミナ及び５０ｗｔ％のチタニアを有するチタニア／アルミナ混合物を含み得る。第２の保護膜の実例は、酸化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＯ）を含み得る。第２の保護膜の別の実例は、４０ｗｔ％超のシリカ、例えば５０ｗｔ％超のシリカ、例えば６０ｗｔ％超のシリカ、例えば、７０ｗｔ％超のシリカ、例えば８０ｗｔ％超のシリカ、例えば、８０ｗｔ％～９０ｗｔ％の範囲のシリカ及び１０ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲のアルミナ、例えば８５ｗｔ％のシリカ及び１５ｗｔ％のアルミナを有するシリカ／アルミナ混合物である。

非限定的な実例では、最外側保護層１００は、第２の保護膜の少なくとも一部分の上に形成された追加の第３の保護膜を含み得る。第３の保護膜は、第１及び第２の保護膜を形成するのに使用された材料の任意のものであり得る。第３の保護膜は、例えば、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、酸化スズ又はその混合物を含み得る。例えば、第３の保護膜は、シリカ及びアルミナの混合物を含み得る。別の実例では、第３の保護膜は、アルミナ及びチタニアを含む。別の実例では、第３の保護膜は、ジルコニアを含む。

最外側保護層１００は、コーティング物品の最外側層である。さらに、最外側保護層１００は、非均一厚さのものであり得る。「非均一厚さ」とは、最外側保護層１００の厚さが、所与の単位面積にわたって変動し得ることを意味し、例えば、最外側保護層１００は、高い及び低い点又は領域を有し得る。好適な保護層の非限定例は、米国特許出願第１０／００７，３８２号；同第１０／１３３，８０５号；同第１０／３９７，００１号；同第１０／４２２，０９５号；及び同第１０／４２２，０９６号に記載されている。

最外側保護層１００は、２０ｎｍ～１２０ｎｍ、好ましくは２５ｎｍ～１１０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ～１００ｎｍ、最も好ましくは３５ｎｍ～９０ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。

本発明は、以下の番号付きの項目でさらに記載される。

項目１． 基材；基材の少なくとも一部分の上に適用された機能性コーティングを含むコーティング物品であって、機能性コーティングが、基材の少なくとも一部分の上に第１の誘電層；第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層；第１の金属層の少なくとも一部分の上に第１のプライマー層；第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層；第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層；第２の金属層の少なくとも一部分の上に第２のプライマー層；及び第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層を含み；コーティング物品が、少なくとも３５且つ５５以下のＲｇＬ^＊値を有する、コーティング物品。

項目２． ＲｇＬ^＊値が少なくとも４２である、項目１のコーティング物品。

項目３． ＲｇＬ^＊値が５２以下である、項目１のコーティング物品。

項目４． 金属層の少なくとも１つが、銀、金、その混合物又はその合金の少なくとも１種を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目５． 金属層の少なくとも１つが金属銀を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目６． 第１の金属層が、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは７．５ｎｍ～１５ｎｍ、より好ましくは９ｎｍ～１４ｎｍ、最も好ましくは９．７～１３．３ｎｍの総厚さを含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目７． 第２の金属層が、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１５ｎｍ、より好ましくは７．５ｎｍ～１２．５ｎｍ、最も好ましくは７．５ｎｍ～１０．３ｎｍの総厚さを含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目８． 誘電層の少なくとも１つが、スズ酸亜鉛、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含む、項目１のコーティング物品。

項目９． 第１の誘電層が、スズ酸亜鉛を含む基材の少なくとも一部分の上に第１の膜、並びに第１の膜の少なくとも一部分の上に酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含む第２の膜を含む、項目１のコーティング物品。

項目１０． 第２の膜が、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含む、項目９のコーティング物品。

項目１１． 第１の誘電層が、１０ｎｍ～５５ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ～５３ｎｍ、より好ましくは２５ｎｍ～５０ｎｍ、最も好ましくは２９～４８ｎｍの総厚さを含む、項目８～１０のコーティング物品。

項目１２． 第１の誘電層が、第１の金属層と直接接触したシード膜を含み、シード膜が、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目１３． 第２の誘電層が、第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛を含む第１の膜、第１の膜の少なくとも一部分の上に、スズ酸亜鉛を含む第２の膜、及び第２の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含む第３の膜を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目１４． 第２の誘電層が、５０ｎｍ～１５０ｎｍ、好ましくは７５ｎｍ～１２５ｎｍ、より好ましくは９０ｎｍ～１１０ｎｍ、最も好ましくは９３ｎｍ～１００ｎｍの総厚さを含む、項目１３のコーティング物品。

項目１５．第２の誘電層が、第２の金属層と直接接触したシード膜を含み、シード膜が、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目１６． 第３の誘電層が、第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含む第１の膜、及び第１の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、スズ酸亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含む第２の膜を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目１７． 第３の誘電層が、２０ｎｍ～７５ｎｍ、好ましくは２５ｎｍ～５０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ～４５ｎｍ、最も好ましくは３６ｎｍ～４１ｎｍの総厚さを含む、項目１６のコーティング物品。

項目１８． 保護層を含む最外側保護コーティングをさらに含み、保護層が、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、その合金、その混合物又はその組合せの少なくとも１種を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目１９． 保護層が、２０ｎｍ～１２０ｎｍ、好ましくは２５ｍ～１１０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ～１００ｎｍ、最も好ましくは３５ｎｍ～９０ｎｍの総厚さを含む、項目１８のコーティング物品。

項目２０． 保護層が、第１の保護膜及び第１の保護膜の少なくとも一部分の上に形成された第２の保護膜を含む、項目１８～１９のいずれかのコーティング物品。

項目２１． 保護層が、酸化ケイ素アルミニウム、酸化チタンアルミニウム、その混合物又はその組合せを含む、項目１８～２０のいずれかのコーティング物品。

項目２２． 第１のプライマー層又は第２のプライマー層の少なくとも１つが、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、ケイ素炭素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、アルミニウム銀、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、その混合物、その組合せ又はその任意の合金からなる群から選択され、プライマーが、金属として堆積され、続いて酸化される、先行する項目のいずれかのコーティング物品。

項目２３． 第１のプライマー層が、０．５ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは１．０ｎｍ～５ｎｍ、より好ましくは１．０ｎｍ～２．５ｎｍの総厚さを含む、項目２２のコーティング物品。

項目２４． 第２のプライマー層が、０．５ｎｍ～５ｎｍ、好ましくは１ｎｍ～２．５ｎｍ、より好ましくは１．５ｎｍ～２．５ｎｍの総厚さを含む、項目２２のコーティング物品。

項目２５． 基材；基材の少なくとも一部分の上に適用された機能性コーティングを含むコーティング物品であって、機能性コーティングが、基材の少なくとも一部分の上に第１の誘電層；第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層；第１の金属層の少なくとも一部分の上に第１のプライマー層；第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層；第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層；第２の金属層の少なくとも一部分の上に第２のプライマー層；及び第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層を含み、金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ３０ナノメートル以下である、コーティング物品。

項目２６． 金属層の合計厚さが、２２ナノメートル以下である、項目２５のコーティング物品。

項目２７． 金属層の合計厚さが１８ナノメートル以下である、項目２６のコーティング物品。

項目２８． 金属層の少なくとも１つが、銀、金、その合金、その混合物又はその組合せの少なくとも１種を含む、項目２５～２７のいずれかのコーティング物品。

項目２９． 金属層の少なくとも１つが金属銀を含む、項目２５～２８のいずれかのコーティング物品。

項目３０． 誘電層の少なくとも１つが、スズ酸亜鉛、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含む、項目２５のコーティング物品。

項目３１． 第１の誘電層が、基材の少なくとも一部分の上に、スズ酸亜鉛、酸化亜鉛、窒化ケイ素又はその混合物を含む第１の膜、及び第１の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、スズ酸亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含む第２の膜を含む、項目２５～３０のいずれかのコーティング物品。

項目３２． 第１の誘電層が、第１の金属層と直接接触したシード膜を含み、シード膜が、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含む、項目２５～３１のいずれかのコーティング物品。

項目３３． 第２の誘電層が、第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛を含む第１の膜、第１の膜の少なくとも一部分の上に、スズ酸亜鉛を含む第２の膜、及び第２の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含む第３の膜を含む、項目２５～３１のいずれかのコーティング物品。

項目３４． 第２の誘電層が、第２の金属層と直接接触したシード膜を含み、シード膜が、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含む、項目２５～３３のコーティング物品。

項目３５． 第３の誘電層が、第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含む第１の膜、及び第１の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、スズ酸亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含む第２の膜を含む、項目２５～３４のコーティング物品。

項目３６． 保護層を含む最外側保護コーティングをさらに含み、保護層が、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、その合金、その混合物又はその組合せの少なくとも１種を含む、項目２５～３５のいずれかのコーティング物品。

項目３７． 保護層が、第１の保護膜及び第１の保護膜の上に形成された第２の保護膜を含む、項目３６のコーティング物品。

項目３８． 保護層が、酸化ケイ素アルミニウム、酸化チタンアルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せを含む、項目３６～３７のいずれかのコーティング物品。

項目３９． 第１のプライマー層又は第２のプライマー層の少なくとも１つが、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、ケイ素炭素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、アルミニウム銀、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、その混合物、その組合せ又はその任意の合金又はその合金からなる群から選択され、プライマーが、金属として堆積され、続いて酸化される、項目２５～３８のいずれかのコーティング物品。

項目４０． コーティング物品を作製する方法であって、基材を用意するステップ；並びに基材の少なくとも一部分の上に機能性コーティングを適用するステップであって、基材の少なくとも一部分の上に第１の誘電層を形成すること；第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層を形成すること；第１の金属層の少なくとも一部分の上に第１のプライマー層を形成すること；第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層を形成すること；第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層を形成すること；第２の金属層の少なくとも一部分の上に第２のプライマー層を形成すること；及び第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層を形成すること含むステップを含み；金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ３０ナノメートル以下であり、ＲｇＬ^＊値が少なくとも３５且つ５５以下である、方法。

項目４１． 最外側保護コーティングを適用するステップが、保護層を形成することを含み、保護層が、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、その合金、その混合物又はその組合せの少なくとも１種を含む、項目４０の方法。

以下の実例は、本発明の種々の実施例を例示する。しかしながら、本発明は、これらの特定の実施例に限定されないことが理解される。

「実例」
表３は、本発明の例示的なコーティング組成物を示す。報告される厚さは、別途述べない限り、ナノメートル（ｎｍ）単位の幾何学厚さである。基材は、２．１ｍｍクリアカバーを有する厚さ２．１ｍｍのクリアガラス基材である。基層は第１の誘電層であり、中心層は第２の誘電層であり、上層は第３の誘電層である。

表４は、表３のサンプルについて得られた色及び光学特性を示す。基材及びカバー（積層）を含有する物品について、Ｒ１はコーティングに最も近い外部表面からの反射率を指し、Ｒ２はコーティングから最も遠い外部表面からの反射率を指す。

当業者であれば、前述の記載に開示される概念から逸脱することなく、本発明に修正がなされ得ることを容易に認識するであろう。したがって、本明細書に詳細に記載される特定の実施例は、例示に過ぎず、本発明の範囲を限定せず、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲の全幅及び任意且つすべてのその等価物において示される。

Claims (15)

1. 基材；
   前記基材の少なくとも一部分の上に適用された機能性コーティング
   を含むコーティング物品であって、前記機能性コーティングが、
   前記基材の少なくとも一部分の上に第１の誘電層；
   前記第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層；
   前記第１の金属層の少なくとも一部分の上に第１のプライマー層；
   前記第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層；
   前記第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層；
   前記第２の金属層の少なくとも一部分の上に第２のプライマー層；及び
   前記第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層
   を含み、
   コーティング物品が、少なくとも３５且つ５５以下のＲｇＬ^＊値を有する、コーティング物品。
2. 前記ＲｇＬ^＊値が少なくとも４２である、請求項１に記載のコーティング物品。
3. 前記ＲｇＬ^＊値が５２以下である、請求項２に記載のコーティング物品。
4. 前記金属層の少なくとも１つが、銀又は金の少なくとも１種を含む、請求項１から３までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
5. 前記誘電層の少なくとも１つが、スズ酸亜鉛、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含む、請求項１から４までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
6. 前記第１の誘電層が、スズ酸亜鉛を含む前記基材の少なくとも一部分の上に第１の膜、並びに前記第１の膜の少なくとも一部分の上に酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含む第２の膜を含む、請求項１から５までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
7. 前記第２の誘電層が、前記第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛を含む第１の膜、前記第１の膜の少なくとも一部分の上に、スズ酸亜鉛を含む第２の膜、及び前記第２の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含む第３の膜を含む、請求項１から６までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
8. 前記第３の誘電層が、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含む前記第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に第１の膜、及び前記第１の膜の少なくとも一部分の上に酸化亜鉛、スズ酸亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含む第２の膜を含む、請求項１から７までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
9. 保護層を含む最外側保護コーティングをさらに含み、前記保護層が、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＯＮ、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ又はジルコニアの少なくとも１種を含む、請求項１から８までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
10. 前記保護層が、酸化ケイ素アルミニウム又は酸化チタンアルミニウムを含む、請求項９に記載のコーティング物品。
11. 基材；
    前記基材の少なくとも一部分の上に適用された機能性コーティング
    を含むコーティング物品であって、前記機能性コーティングが、
    前記基材の少なくとも一部分の上に第１の誘電層；
    前記第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層；
    前記第１の金属層の少なくとも一部分の上に第１のプライマー層；
    前記第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層；
    前記第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層；
    前記第２の金属層の少なくとも一部分の上に第２のプライマー層；及び
    前記第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層
    を含み、
    前記金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ３０ナノメートル以下である、コーティング物品。
12. 前記金属層の合計厚さが、２２ナノメートル以下である、請求項１１に記載のコーティング物品。
13. 前記金属層の合計厚さが１８ナノメートル以下である、請求項１２に記載のコーティング物品。
14. 前記金属層の少なくとも１つが金属銀を含む、請求項１１から１３までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
15. コーティング物品を作製する方法であって、
    基材を用意するステップ；並びに
    前記基材の少なくとも一部分の上に機能性コーティングを適用するステップであって、
    前記基材の少なくとも一部分の上に第１の誘電層を形成すること；
    前記第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層を形成すること；
    前記第１の金属層の少なくとも一部分の上に第１のプライマー層を形成すること；
    前記第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層を形成すること；
    前記第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層を形成すること；
    前記第２の金属層の少なくとも一部分の上に第２のプライマー層を形成すること；及び
    前記第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層を形成すること
    を含むステップ
    を含み、
    前記金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ３０ナノメートル以下であり、
    ＲｇＬ^＊値が、少なくとも３５且つ５５以下である、方法。

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