JP2014119675A - Manufacturing method of liquid crystal display device, and mother substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は液晶表示装置に係り、特に、基板を研磨によって薄くし、かつ、マザー基板から複数の液晶セルを取り出す場合の歩留りを向上させる構成に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a configuration in which a substrate is thinned by polishing and a yield is improved when a plurality of liquid crystal cells are taken out from a mother substrate.
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して、TFT基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が設置され、TFT基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。 In a liquid crystal display device, there are a TFT substrate in which pixel electrodes and thin film transistors (TFTs) are formed in a matrix, and a counter substrate in which color filters are formed at locations corresponding to the pixel electrodes of the TFT substrate, facing the TFT substrate. The liquid crystal is sandwiched between the TFT substrate and the counter substrate. An image is formed by controlling the light transmittance of the liquid crystal molecules for each pixel.
液晶表示装置では、画面は一定のサイズを保ったまま、セットの外形寸法を小さくしたいという要求と同時に液晶表示装置を薄くしたいという要求が強い。液晶表示装置を薄くするには、液晶表示装置を製作した後、液晶表示装置の外側を研磨して薄くしている。 In the liquid crystal display device, there is a strong demand for reducing the external size of the set while keeping the screen constant, and at the same time reducing the thickness of the liquid crystal display device. In order to make the liquid crystal display device thin, after the liquid crystal display device is manufactured, the outside of the liquid crystal display device is polished and thinned.
小型の液晶表示装置は1個ずつ製造することはコスト上有利ではない。したがって、大きな基板に複数の液晶表示装置を形成して完成後個々の液晶表示装置を分離するというプロセスが取られる。なお、以後、マザー基板に形成される個々の液晶表示装置を液晶セルと呼ぶ。 It is not advantageous in cost to manufacture small liquid crystal display devices one by one. Therefore, a process of forming a plurality of liquid crystal display devices on a large substrate and separating the individual liquid crystal display devices after completion is taken. Hereinafter, each liquid crystal display device formed on the mother substrate is referred to as a liquid crystal cell.
すなわち、大きなマザーTFT基板に複数のTFT基板を形成する。また、大きなマザー対向基板に複数の対向基板を形成する。そして、マザーTFT基板とマザー対向基板を貼り合わせてマザー基板が形成される。マザー基板から、スクライビングあるいはダイシング等によって個々の液晶セルを分離する。個々の分離された液晶セルに液晶を注入して液晶表示装置が出来上がる。 That is, a plurality of TFT substrates are formed on a large mother TFT substrate. A plurality of counter substrates are formed on a large mother counter substrate. Then, the mother TFT substrate and the mother counter substrate are bonded together to form a mother substrate. Individual liquid crystal cells are separated from the mother substrate by scribing or dicing. A liquid crystal display device is completed by injecting liquid crystal into individual liquid crystal cells.
一方、液晶セルを薄くしたいという要求が存在する。最近では、液晶セルを構成するTFT基板および対向基板の厚さは、0.18mm程度の薄さが要求されている。液晶セルの厚みはTFT基板あるいは対向基板等のガラス基板によってほぼ決まる。しかし、液晶セルに使用されるガラス基板は、0.5mmあるいは0.4mm等に規格化されており、規格化された厚さ以外のガラス基板を使用することは、材料費の大幅なコスト高になる。また、規格化されたガラス基板よりもさらに薄いガラス基板を使用すると、ガラス基板の機械的な強度等の問題が生じ、製造工程におけるガラス基板の取り扱いが困難になる。 On the other hand, there is a demand for thinning the liquid crystal cell. Recently, the TFT substrate and the counter substrate constituting the liquid crystal cell are required to be as thin as about 0.18 mm. The thickness of the liquid crystal cell is substantially determined by a glass substrate such as a TFT substrate or a counter substrate. However, the glass substrate used in the liquid crystal cell is standardized to 0.5 mm or 0.4 mm, and using a glass substrate other than the standardized thickness greatly increases the material cost. become. In addition, when a glass substrate that is thinner than a standardized glass substrate is used, problems such as mechanical strength of the glass substrate occur, and it becomes difficult to handle the glass substrate in the manufacturing process.
このような問題を解決して、薄型の液晶セルを可能とするために、液晶セルが完成したあと、ガラス基板、すなわち、TFT基板と対向基板の外側を研磨する技術がある。この研磨は機械的な研磨、あるいは、フッ酸等による化学的研磨が多く使用される。 In order to solve such a problem and enable a thin liquid crystal cell, there is a technique of polishing the outside of the glass substrate, that is, the TFT substrate and the counter substrate after the liquid crystal cell is completed. As this polishing, mechanical polishing or chemical polishing with hydrofluoric acid or the like is often used.
この研磨も個々の液晶セル毎に行うのは効率が悪いので、マザー基板の状態で研磨を行う。すなわち、マザー基板を形成する際に、マザー対向基板の周囲にマザー基板シール材を形成しておく。マザー基板シール材はマザー対向基板に形成された個々の液晶セルの対向基板を囲む形で形成される。その後、マザー対向基板とマザーTFT基板を貼り合わせると、複数の液晶セルがマザー基板シール材に囲まれた状態のマザー基板が形成される。 Since this polishing is also inefficient for each liquid crystal cell, polishing is performed in the state of the mother substrate. That is, when forming the mother substrate, a mother substrate sealing material is formed around the mother counter substrate. The mother substrate sealing material is formed so as to surround the counter substrate of each liquid crystal cell formed on the mother counter substrate. Thereafter, when the mother counter substrate and the mother TFT substrate are bonded together, a mother substrate in which a plurality of liquid crystal cells are surrounded by a mother substrate sealing material is formed.
したがって、マザー基板に形成された複数の液晶セルはマザー基板シール材によって保護された形となっている。この状態のマザー基板を、例えば化学研磨するような場合は、化学研磨液に浸漬する。そうすると、マザーTFT基板およびマザー対向基板の外側が研磨され、マザーTFT基板およびマザー対向基板を薄くすることが出来る。一方、マザー基板に形成されている複数の液晶セルはマザー基板シール材によって保護されているので、研磨液の影響を受けない。 Therefore, the plurality of liquid crystal cells formed on the mother substrate are protected by the mother substrate sealing material. For example, when the mother substrate in this state is chemically polished, it is immersed in a chemical polishing solution. Then, the outer sides of the mother TFT substrate and the mother counter substrate are polished, and the mother TFT substrate and the mother counter substrate can be thinned. On the other hand, since the plurality of liquid crystal cells formed on the mother substrate are protected by the mother substrate sealing material, they are not affected by the polishing liquid.
「特許文献1」には、IPS(In Plane Switching)方式の液晶表示装置において、マザー対向基板の外側に透明導電膜をスパッタリングによって形成するときに、マザー基板内部に存在する空気が膨張してマザー基板を破壊することを防止するために、マザー基板の外側を研磨するときに必要なマザー基板シール材を、スパッタリングを行うときにはその1部を破壊あるいは除去することによって、マザー基板の密閉を破り、マザー基板全体が破壊することを防止する製造方法が記載されている。
In “
「特許文献1」には、マザーTFT基板とマザー対向基板の貼り合わせを、減圧雰囲気でおこなうのか、大気中で行うのかの記載は無い。仮に、「特許文献1」に記載のようなマザー基板の貼り合わせを大気中で行う場合は、「特許文献1」に記載のような構成のマザー基板シール材は、内部の空気の排除が困難であり、マザーTFT基板とマザー対向基板の貼り合わせプロセスの歩留まりが低下する。
“
そこで、従来は、一般的には、真空封止(減圧封止を含む)が行われてきた。図12は、本発明が対象とする液晶表示装置2の1例を示す平面図である。図12の液晶表示装置2は、TFT基板100と対向基板200とがシール材20によって貼りあわされた液晶セルに注入孔40から液晶を封入し、封止材30によって封止したものである。図13において、TFT基板100は対向基板200よりも大きく、TFT基板100が1枚となっている部分は端子部150となっており、この部分にICドライバ50が搭載されている。
Therefore, conventionally, vacuum sealing (including reduced pressure sealing) has been generally performed. FIG. 12 is a plan view showing an example of the liquid
図12に示す液晶表示装置2は携帯電話等に使用されるものであり、縦径LYは例えば、81mm、横径LXは例えば、54mm、端子部の長さTは2.7mmである。このような液晶表示装置を1個ずつ製作するのは効率が悪いので、マザー基板に多数の液晶セルを形成し、同時に多数の液晶セルを製作することが行われている。なお、本明細書では、TFT基板と対向基板がシール材によって貼り合わされた状態のものを液晶セルといい、液晶を封入し、ICドライバ等を搭載し終わったものを液晶表示装置と呼ぶことにする。
The liquid
図13は横方向に7個、縦方向に5個、合計35個の液晶セル1がマザー基板80に形成された例である。マザー基板80の周辺にはマザー基板シール材61が形成され、内部が密封されている。すなわち、液晶表示装置を薄くするために、マザー基板80の状態で、マザーTFT基板60とマザー対向基板70の外側を機械研磨あるいは化学研磨する。機械研磨にしろ、化学研磨にしろ、研磨液を使用する。研磨液がマザー基板80の内部に侵入すると、各液晶セル1はまだ封止されていない状態なので、各液晶セル1が不良となってしまう。
FIG. 13 shows an example in which a total of 35
図13に示すようなマザー基板シール材61は、一般にはマザー対向基板70に形成され、マザーTFT基板60と貼りあわされる。この時、大気中で貼り合わせを行うと、内部の空気が外に逃げにくいので、マザー基板80内部の圧力が不安定となり、シール不良を生ずる場合が多い。
A mother
そこで、図13に示すようなマザー基板80を形成する場合は、真空中で行われる。図14は、図13に示すようなマザー基板80を作成する場合のプロセスフローである。図14において、マザーTFT基板60とマザー対向基板70を別々に作成する。マザー基板シール材61をマザー対向基板70にディスペンサ、あるいは印刷等によって塗布する。その後、貼り合わせ装置全体を真空に排気する。ここで、真空に排気するとは、減圧するという意味も含む。
Therefore, when forming the
真空の状態で、マザーTFT基板60とマザー対向基板70のX軸とY軸を確認して、貼り合わせる。内部が真空になっているので、マザー基板シール材61の内側の圧力が大きくなりすぎて、不安定になるということは無い。その後、真空装置からマザー基板を取り出す。そして、マザー基板シール材61を熱硬化させる。その後、マザー基板の外側を機械研磨あるいは化学研磨することによって、マザーTFT基板とマザー対向基板を薄くする。
In the vacuum state, the X-axis and Y-axis of the
図13に示すマザー基板シール材を用いる場合は、図14に示すように、貼り合わせ装置内を真空にする必要がある。マザー基板は大きいので、貼り合わせ装置も大型になり、真空装置も大型になる。したがって、製造設備のコストが嵩むことになり、液晶表示装置の製造コストを押し上げる。真空装置の大型化に限界がある場合は、大型のマザー基板を中型の基板に切断して、図14に示すようなプロセスによって、液晶表示装置を製造する。この場合は、大型基板によって製造するよりも、製造効率は低下する。さらに大型のマザー基板を中型のマザー基板に切断するプロセスが必要となる。 When the mother substrate sealing material shown in FIG. 13 is used, the inside of the bonding apparatus needs to be evacuated as shown in FIG. Since the mother substrate is large, the bonding apparatus becomes large and the vacuum apparatus becomes large. Therefore, the cost of manufacturing equipment increases, and the manufacturing cost of the liquid crystal display device is increased. When there is a limit to the increase in size of the vacuum device, a large mother substrate is cut into a medium-sized substrate, and a liquid crystal display device is manufactured by a process as shown in FIG. In this case, the manufacturing efficiency is lower than when manufacturing with a large substrate. Furthermore, a process for cutting a large mother substrate into a medium mother substrate is required.
本発明の課題は、マザーTFT基板とマザー対向基板を貼り合わせる工程において、真空装置を必要としない構成を実現することである。 The subject of this invention is implement | achieving the structure which does not require a vacuum device in the process of bonding a mother TFT substrate and a mother counter substrate.
本発明は上記問題を克服するものであり、主な具体的な手段は次のとおりである。 The present invention overcomes the above problems, and the main specific means are as follows.
(1)画素電極とTFTを有する画素が形成されたTFT基板と、カラーフィルタが形成された対向基板とがシール材によって接着し、内部に液晶が封入された液晶表示装置の製造方法であって、マザーTFT基板に複数のTFT基板を形成し、マザー対向基板に複数のマザー対向基板を形成し、前記マザー対向基板の周辺に第1のグラスファイバを含むマザー基板シール材をシール間ギャップを介して島状に飛び飛びに所定のピッチで線状に形成し、前記マザー基板シール材の前記線状方向の幅をq1、前記シール間ギャップをg、とした場合、q1>gであり、かつ、gは5mm以下であり、前記マザー基板シール材の一部は、第2のグラスファイバを含む仮止め材によって置き換え、前記第2のグラスファイバの径は前記第1のグラスファイバの径よりも大きく、前記マザーTFT基板と前記マザー対向基板を大気中において位置合わせし、前記仮止め材を紫外線によって硬化し、その後、前記マザー基板シール材を熱硬化させて前記マザーTFT基板と前記マザー対向基板接着することによってマザー基板を形成し、前記マザー基板の周辺におけるマザーTFT基板とマザー対向基板の隙間からマザー基板封止材を塗布し、前記マザー基板封止材を紫外線によって硬化させ、その後、前記マザー基板の前記マザーTFT基板または前記マザー対向基板を研磨することによって薄くし、
その後、各液晶セルに分離することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
(1) A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a TFT substrate on which a pixel electrode and a pixel having TFTs are formed and a counter substrate on which a color filter is formed are bonded together by a sealing material, and liquid crystal is sealed inside. A plurality of TFT substrates are formed on the mother TFT substrate, a plurality of mother counter substrates are formed on the mother counter substrate, and a mother substrate sealing material including a first glass fiber is provided around the mother counter substrate via a gap between seals. When the width in the linear direction of the mother substrate sealing material is q1 and the gap between the seals is g, q1> g, and g is 5 mm or less, a part of the mother substrate sealing material is replaced by a temporary fixing material including a second glass fiber, and the diameter of the second glass fiber is the first glass The mother TFT substrate is positioned larger than the diameter of the fiber, the mother TFT substrate and the mother counter substrate are aligned in the atmosphere, the temporary fixing material is cured by ultraviolet rays, and then the mother substrate sealing material is thermally cured to form the mother TFT substrate A mother substrate is formed by adhering to the mother counter substrate, and a mother substrate sealing material is applied from a gap between the mother TFT substrate and the mother counter substrate around the mother substrate, and the mother substrate sealing material is cured by ultraviolet rays. And then thinning by polishing the mother TFT substrate or the mother counter substrate of the mother substrate,
Then, it isolate | separates into each liquid crystal cell, The manufacturing method of the liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
(2)画素電極とTFTを有する画素が形成されたTFT基板が複数形成されたマザーTFT基板と、カラーフィルタが形成された対向基板が複数形成されたマザー対向基板とを有するマザー基板であって、前記マザー基板の周辺には、第1のグラスファイバを有するマザー基板シール材がシール間ギャップを介して島状に飛び飛びに所定のピッチで線状に形成され、前記マザー基板シール材の前記線状方向の幅をq1、前記シール間ギャップをg、とした場合、q1>gであり、かつ、gは5mm以下であり、
前記島状のマザー基板シール材の一部は、第2のグラスファイバを有する仮止め材によって置き換えられており、前記第2のグラスファイバの径は、前記第1のグラスファイバの径よりも大きく、前記マザー基板シール材と前記マザー基板シール材の間および前記マザー基板シール材と前記仮止め材の間は、前記マザー基板の端部側において、マザー基板封止材が形成されていることを特徴とするマザー基板。
(2) A mother substrate having a mother TFT substrate on which a plurality of TFT substrates on which pixels having pixels and TFTs are formed is formed, and a mother counter substrate on which a plurality of counter substrates on which color filters are formed are formed. A mother substrate sealing material having a first glass fiber is formed in a line shape at a predetermined pitch in a shape of islands around a gap between the seals around the mother substrate, and the line of the mother substrate sealing material is formed. When the width in the shape direction is q1, and the gap between the seals is g, q1> g, and g is 5 mm or less,
A part of the island-shaped mother substrate sealing material is replaced by a temporary fixing material having a second glass fiber, and the diameter of the second glass fiber is larger than the diameter of the first glass fiber. The mother substrate sealing material is formed between the mother substrate sealing material and the mother substrate sealing material and between the mother substrate sealing material and the temporary fixing material on the end side of the mother substrate. A featured mother board.
本発明によれば、マザー対向基板とマザーTFT基板がシール間ギャップを介して飛び飛びに形成されたマザー基板シール材によって接着するので、シール間ギャップから内部の空気が抜けるため、マザーTFT基板とマザー対向基板を接着する際、マザー基板の内部の気圧が高くなることは無い。 According to the present invention, the mother counter substrate and the mother TFT substrate are bonded to each other by the mother substrate sealing material formed so as to jump out through the gap between the seals, so that the internal air escapes from the gap between the seals. When bonding the counter substrate, the atmospheric pressure inside the mother substrate does not increase.
対向基板とTFT基板の接着は、まず、仮止め材を紫外線(UV)硬化して仮接着し、その後、上記マザー基板シール材を熱硬化させる。仮止め材に含まれるグラスファイバの径をマザー基板シール材に含まれるグラスファイバの径よりも大きくすることよって、シール部におけるTFT基板と対向基板の間隔が均一になるので、シール材の周辺に封止材を充填する際、均一に塗布することが出来、研磨の際、研磨液がマザー基板の内部に侵入することによる不良を防止することが出来る。 The counter substrate and the TFT substrate are bonded by first temporarily bonding the temporary fixing material by ultraviolet (UV) curing, and then thermally curing the mother substrate sealing material. By making the diameter of the glass fiber included in the temporary fixing material larger than the diameter of the glass fiber included in the mother substrate sealing material, the distance between the TFT substrate and the counter substrate in the seal portion becomes uniform, so When the sealing material is filled, it can be uniformly applied, and at the time of polishing, it is possible to prevent defects caused by the polishing liquid entering the inside of the mother substrate.
以下に実施例を用いて本発明の内容を詳細に説明する。 The contents of the present invention will be described in detail below using examples.
図1は本発明によるマザー基板80の平面図である。マザー基板80はマザーTFT基板60とマザー対向基板70が貼りあわされたものである。図1において、マザー基板80には液晶セル1が横に7個、縦に5個、計35個形成されている。各液晶セル1には、シール材20が形成され、シール材20の一部は液晶を注入するための注入孔40になっている。
FIG. 1 is a plan view of a
すなわち、マザー基板80が完成後、各液晶セル1に分離された後、注入孔40から液晶が注入され、その後、封止材30によって封止される。したがって、図1の状態では、各液晶セル1の内部は、注入孔40を介して開放された状態であり、研磨液等がマザー基板80の内部に侵入すると、各液晶セル1の内部に入り込み、各液晶セル1は不良となる。
That is, after the
これを防止するために、図1において、マザー基板シール材61およびマザー基板封止材63が形成され、研磨液等がマザー基板の内部に侵入することを防止している。本発明の特徴は、マザー基板シール材61とマザー基板封止材63の両方によって、研磨液等が内部に侵入することを防止していることである。
In order to prevent this, in FIG. 1, a mother
図1では、さらに、マザー基板シール材61によって接着する前の仮接着のための仮止め材64がマザー基板70の短辺に2個、長辺に4個形成されている。この仮止め材64の数は、基板の大きさ、接着の条件等によって変化する。図1のマザー基板は、化学研磨によって、マザーTFT基板60およびマザー対向基板70を各々0.18mm程度に薄くした状態となっている。
In FIG. 1, two
図2は、図1に示すマザー基板を製造するプロセスフローである。図3乃至11は、図2のプロセスフローに対応した各工程におけるマザー基板の状態を示す図である。図2において、マザー対向基板70とマザーTFT基板60は別々に製造される。本実施例では、マザー対向基板70側に仮止め材64、マザー基板シール材61等を形成しているが、マザーTFT基板60側に形成することも出来る。
FIG. 2 is a process flow for manufacturing the mother substrate shown in FIG. 3 to 11 are views showing the state of the mother substrate in each process corresponding to the process flow of FIG. In FIG. 2, the
図3は、マザー対向基板70にマザー基板シール材61を印刷した状態を示す平面図である。マザー基板シール材61は連続したものではなく、飛び飛びに形成されている。したがって、マザーTFT基板60とマザー対向基板70を貼り合わせる際、内部の空気が閉じこめられて圧力が上昇するという現象は免れることが出来る。
FIG. 3 is a plan view showing a state where the mother
図3において、マザー基板シール材61は、所定の間隔で形成されていない部分が存在している。この部分は仮止め材64によって置き換えられる。すなわち、マザー基板シール材61および各液晶セル1のシール材20は熱硬化樹脂であり、マザー対向基板70とマザーTFT基板60が貼りあわされた後、加熱することによって接着する。熱硬化して安定するまでに、マザーTFT基板60とマザー対向基板70の合わせや位置や間隔が変化する場合がある。
In FIG. 3, the mother
この現象を防止するために、紫外線硬化樹脂で形成された仮止め材64を所定の間隔で配置しておく。これが図2における仮止め材64の塗布である。仮止め材64の塗布はディスペンサ等によって行われる。図4は、このようにして、マザー対向基板70に仮止め材64を形成した状態を示す平面図である。仮止め材64は、マザー対向基板70の短辺側に2個、長辺側に4個形成されている。
In order to prevent this phenomenon, the
図5は、マザー基板シール材61の辺部における詳細な形状を示す平面図である。マザー対向基板70には、各液晶セルに形成されたオーバーコート膜201が、マザー対向基板70の端部からd1の距離まで連続して形成されている。d1は例えば、5mmである。マザー基板シール材61が形成される部分には、オーバーコート膜201は形成されていない。
FIG. 5 is a plan view showing a detailed shape in the side portion of the mother
マザー対向基板70の端部からマザー基板シール材61の中心までの距離d2は例えば、3mmである。島状の各マザー基板シール材61は例えば、レーストラック形状をしており、マザー基板70の辺方向の幅はq1で、レーストラック端部の円の中心間の距離はq2である。q1は例えば、2mmであり、q2は例えば、1mmである。また、島状のマザー基板シール材61の、図3における縦方向、すなわち、辺と直角の方向の幅wは例えば、2mmである。
A distance d2 from the end of the
島状のマザー基板シール材61は所定のピッチpでシール間ギャップgを介して線状(インライ状)に形成されている。所定のピッチpは、コーナー部を除く全周において一定であることが望ましい。所定のピッチpは、例えば、3.5mmである。この場合、q1を2mmとすると、シール間ギャップの寸法gは1.5mmである。以上の数値は例であるが、各マザー基板シール材61の辺方向の幅q1はシール間ギャップの寸法gより大きい。また、シール間ギャップの寸法gは5mmを超えないように設定する必要がある。シール間ギャップの寸法gが大きすぎると、後で説明するマザー基板封止材63を所定の位置にて止めることが困難になるからである。
The island-shaped mother
図5において、マザー基板シール材61とマザー基板シール材61の間に仮止め材64が形成されている。仮止め材64は、ディスペンサ等によって形成され、平面は略円形であり、径rは3mmである。仮止め材64は、マザー基板シール材61とは材質および形状が異なるので、仮止め材64が形成されている部分は、他の部分に比較してマザーTFT基板60とマザー対向基板70の間の間隔が変動しやすい。そうすると、この部分において、後でマザー基板封止材63を塗布する際に封止材63が塗布できない領域が生ずる。
In FIG. 5, a
本発明は、後で説明するように、マザー対向基板70とマザーTFT基板60の間隔を制御するための、マザー基板シール材61あるいは仮止め材64に含まれているグラスファイバの径を異ならせることによって、マザー基板シール部におけるマザー対向基板70とマザーTFT基板60の間隔を均一にしている。
In the present invention, as will be described later, the diameters of the glass fibers contained in the mother
図6はマザー基板シール材61のコーナーにおける形状である。図6において、マザー基板シール材61は、コーナーを面取りするような形状に形成されている。コーナーにおいては、後で述べるマザー基板封止材61の進入の仕方が異なるので、マザー基板シール材61の形状を辺部とは異なった形状としている。図4において、コーナー部のC1はたとえば、4.7mmである。d2は図3と同様であり、例えば、3mmである。
FIG. 6 shows the shape at the corner of the mother
以上の各寸法は、マザー対向基板70に形成されたマザー基板シール材61の寸法である。したがって、マザー対向基板70とマザーTFT基板60を貼り合わせた後は、マザー基板シール材61の各寸法は異なってくる。しかし、マザー基板シール材61のシール間ギャップ62の寸法gがマザー基板シール材61の辺方向の幅q1よりも小さいこと、シール間ギャップ62の寸法gが5mmよりも小さいこと、マザー基板シール材61は一定ピッチで形成されていることが望ましいこと等は同様である。
The above dimensions are the dimensions of the mother
このようにして、マザー対向基板70にマザー基板シール材61と仮止め材64を形成した後、大気中において、マザーTFT基板60とマザー対向基板70を、目合わせマーク等を利用して位置決めして貼り合わせる。本発明の構成によれば、真空中でなくとも、マザー対向基板70とマザーTFT60基板の貼り合わせが可能である
マザーTFT基板60とマザー対向基板70を位置合わせしたところで、仮止め材64に紫外線を照射して硬化させ、マザーTFT基板60とマザー対向基板70を仮止めしておく。これが、図2における仮止め材64のUV硬化工程である。マザーTFT基板60とマザー対向基板70が仮止めされた状態のものを熱硬化炉に投入して、マザー基板シール材61を硬化させ、マザー基板80が形成される。これが図2における「マザー基板シール材の熱硬化」である。
In this manner, after the mother
図4等に示すように、マザーTFT基板60とマザー対向基板70を貼り合わせる際、飛び飛びに形成されたマザー基板シール材61のシール間ギャップ62から内部の空気が逃げるので、マザー基板80の内部の圧力が上昇して、シール材20あるいはマザー基板シール材61の熱硬化の際、マザー基板80が破壊するというような問題は生じない。
As shown in FIG. 4 and the like, when the
図2において、マザー基板シール材61を熱硬化させた後、封止材63を塗布し、内部を密閉する。図7はマザーTFT基板60とマザー対向基板70の間にディスペンサ300を用いてマザー基板封止材61を塗布している状態を示す模式図である。図7はわかり易くするために、マザーTFT基板60とマザー対向基板70が離れて記載されているが、実際には、マザー基板シール材61を介して接着している。図7において、マザー基板封止材63がディスペンサ300によって途中まで形成されている。マザー基板封止材63は、マザーTFT基板60とマザー対向基板70の端部に塗布されると、基板間に進入し、島状のマザー基板シール材61とマザー基板シール材61の間で、表面張力によって止まる。したがって、マザー基板封止材63はマザー基板80の端部から所定の位置まで形成されることになる。
In FIG. 2, after the mother
図7において、島状のマザー基板シール材61とマザー基板シール材61の間に仮止め材64が形成されているが、仮止め材64の部分においても、同様に、マザー基板封止材63が塗布される。ところで、島状のマザー基板封止材61と仮止め材64とは、材質も形状も異なるために、仮止め材64が形成された部分と他の部分とでは、マザーTFT基板60とマザー対向基板70の間隔が異なる傾向にある。
In FIG. 7, the
マザーTFT基板60とマザー対向基板70の間隔が仮止め材64の部分においても、均一に形成できれば図8に示すようにマザー基板封止材63も均一に塗布することが出来る。しかし、仮止め材64の部分において、マザーTFT基板60とマザー対向基板70の間隔が異なると、図9に示すように、仮止め材64の部分において、マザー基板封止材63が塗布されない部分が生ずる。
If the distance between the
このような現象は、仮止め材64において、マザー対向基板70とマザーTFT基板60の間隔が大きくなる場合も小さくなる場合にも生ずる。ところで、マザー基板シール材61も仮止め材64も樹脂で形成されているが、マザー対向基板70とマザーTFT基板60の間隔を設定するために、内部にグラスファイバを含んでおり、グラスファイバの径によって、間隔を設定している。
Such a phenomenon occurs when the interval between the
従来は、間隔を一定にするためには、マザー基板シール材61に含まれるグラスファイバ65の径と仮止め材64に含まれるグラスファイバ66の径を同じにしていた。しかし、このような従来例においては、特に、仮止め材64の部分において、マザー基板封止材63が塗布できない部分が生じ、歩留まりの低下をきたしていた。
Conventionally, in order to make the interval constant, the diameter of the
本発明の特徴は、仮止め材64に含まれるグラスファイバ66の径をマザー基板シール材61に含まれるグラスファイバ65の径よりも大きくすることによって、マザーTFT基板60とマザー対向基板70の間隔を均一にすることである。つまり、常識的には、マザー基板シール材61と仮止め材64に含まれるグラスファイバの径は同じにすることがマザーTFT基板60とマザー対向基板70の間隔を均一にできるはずであるが、あえて、仮止め材64に含まれるグラスファイバ66の径をマザー基板シール材61に含まれるグラスファイバ65の径よりも大きくするという点に本発明の特徴がある。このような特別な構成によって、マザーTFT基板60とマザー対向基板70の間隔を均一にし、マザー基板封止材63を均一に塗布することが出来るという、本発明の優れた作用効果を得ることが出来る。
The feature of the present invention is that the diameter of the
実験によれば、仮止め材64に含まれるグラスファイバ66の径をφ2とし、マザー基板シール材61に含まれるグラスファイバ65の径をφ1とした場合、1.1φ1≦φ2≦1.4φ1の範囲とするのがよい。より好ましくは、1.15φ1≦φ2≦1.3φ1の範囲とするのがよい。なお、マザー基板シール材61に含まれるグラスファイバ65の径φ1としては、例えば、6,5mm程度である。
According to the experiment, when the diameter of the
以上が図2における「マザー基板封止材の塗布」である。その後、図2に示すように、マザー基板封止材63を紫外線硬化する。その後、マザー基板80を化学研磨液に浸漬して、マザーTFT基板60およびマザー対向基板70を0,18mm程度にまで研磨する。本発明によれば、マザー基板封止材63をマザー基板80全体にわたって均一に塗布することが出来るので、研磨液がマザー基板の内部に侵入して個々の液晶セルを破壊するという現象を回避することが出来る。
The above is “application of the mother substrate sealing material” in FIG. Thereafter, as shown in FIG. 2, the mother
1…液晶セル、 2…液晶表示パネル、 10…表示領域、 20…シール材、 30…封止材、 40…封止孔、 50…ICドライバ、 60…マザーTFT基板、g 61…マザー基板シール材、 62…シール間ギャップ、 63…マザー基板封止材、 64…仮止め材、 65…マザー基板シール材用グラスファイバ 66…仮止め材用グラスファイバ、 70…マザー対向基板、80…マザー基板、 100…TFT基板、 200…対向基板、 201…オーバーコート膜、 300…ディスペンサ
DESCRIPTION OF
Claims (8)
マザーTFT基板に複数のTFT基板を形成し、マザー対向基板に複数のマザー対向基板を形成し、
前記マザー対向基板の周辺に第1のグラスファイバを含むマザー基板シール材をシール間ギャップを介して島状に飛び飛びに所定のピッチで線状に形成し、
前記マザー基板シール材の前記線状方向の幅をq1、前記シール間ギャップをg、とした場合、q1>gであり、かつ、gは5mm以下であり、
前記マザー基板シール材の一部は、第2のグラスファイバを含む仮止め材によって置き換え、
前記第2のグラスファイバの径は前記第1のグラスファイバの径よりも大きく、
前記マザーTFT基板と前記マザー対向基板を大気中において位置合わせし、前記仮止め材を紫外線によって硬化し、その後、前記マザー基板シール材を熱硬化させて前記マザーTFT基板と前記マザー対向基板接着することによってマザー基板を形成し、
前記マザー基板の周辺におけるマザーTFT基板とマザー対向基板の隙間からマザー基板封止材を塗布し、
前記マザー基板封止材を紫外線によって硬化させ、
その後、前記マザー基板の前記マザーTFT基板または前記マザー対向基板を研磨することによって薄くし、
その後、各液晶セルに分離することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 A TFT substrate on which a pixel electrode and a pixel having a TFT are formed and a counter substrate on which a color filter is formed are bonded by a sealing material, and a liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed is provided.
A plurality of TFT substrates are formed on the mother TFT substrate, a plurality of mother counter substrates are formed on the mother counter substrate,
A mother substrate sealing material including a first glass fiber around the mother counter substrate is formed in a line shape with a predetermined pitch in an island shape via a gap between seals,
When the width in the linear direction of the mother substrate sealing material is q1, and the gap between the seals is g, q1> g, and g is 5 mm or less,
A part of the mother substrate sealing material is replaced with a temporary fixing material including a second glass fiber,
The diameter of the second glass fiber is larger than the diameter of the first glass fiber,
The mother TFT substrate and the mother counter substrate are aligned in the atmosphere, the temporary fixing material is cured by ultraviolet rays, and then the mother substrate sealing material is thermally cured to bond the mother TFT substrate and the mother counter substrate. By forming a mother substrate,
Apply the mother substrate sealing material from the gap between the mother TFT substrate and the mother counter substrate around the mother substrate,
Curing the mother substrate sealing material with ultraviolet rays;
Then, by thinning the mother TFT substrate or the mother counter substrate of the mother substrate,
Then, it isolate | separates into each liquid crystal cell, The manufacturing method of the liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
前記マザー基板の周辺には、第1のグラスファイバを有するマザー基板シール材がシール間ギャップを介して島状に飛び飛びに所定のピッチで線状に形成され、
前記マザー基板シール材の前記線状方向の幅をq1、前記シール間ギャップをg、とした場合、q1>gであり、かつ、gは5mm以下であり、
前記島状のマザー基板シール材の一部は、第2のグラスファイバを有する仮止め材によって置き換えられており、
前記第2のグラスファイバの径は、前記第1のグラスファイバの径よりも大きく、
前記マザー基板シール材と前記マザー基板シール材の間および前記マザー基板シール材と前記仮止め材の間は、前記マザー基板の端部側において、マザー基板封止材が形成されていることを特徴とするマザー基板。 A mother substrate having a mother TFT substrate on which a plurality of TFT substrates on which pixels having pixels and TFTs are formed is formed, and a mother counter substrate on which a plurality of counter substrates on which color filters are formed are formed,
Around the mother substrate, a mother substrate sealing material having a first glass fiber is formed in a line shape at a predetermined pitch so as to jump out in an island shape through a gap between seals,
When the width in the linear direction of the mother substrate sealing material is q1, and the gap between the seals is g, q1> g, and g is 5 mm or less,
A part of the island-shaped mother substrate sealing material is replaced by a temporary fixing material having a second glass fiber,
The diameter of the second glass fiber is larger than the diameter of the first glass fiber,
A mother substrate sealing material is formed between the mother substrate sealing material and the mother substrate sealing material and between the mother substrate sealing material and the temporary fixing material on the end side of the mother substrate. And mother board.
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