JP2013523494A - 不連続金属層を備えた日射制御コーティング - Google Patents

Abstract

建築用トランスペアレンシーは、基板と、基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層と、第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された連続金属層と、第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第２の誘電体層と、不連続金属領域が形成されるように、第２の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された亜臨界金属層とを含む。

Description

本出願は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる２０１０年３月２９日出願の米国仮出願第６１／３１８，４７１号の優先権を主張するものである。

本発明は、一般に日射制御コーティングに関し、ある特定の実施形態では、高い吸光度及び非対称反射率を有する日射制御コーティングに関する。

日射制御コーティングは、建築用及び自動車用のトランスペアレンシーの分野で公知である。これらの日射制御コーティングは、車両又は建物に進入する太陽エネルギーの量を低減させるため、太陽赤外線又は太陽紫外線の範囲などの選択された範囲の電磁放射線を遮断し又はフィルタリングする。この太陽エネルギーの透過率の低減は、車両又は建物の冷却装置に対する負荷を低減させるのに役立つ。自動車の適用例では、トランスペアレンシー（フロントガラスなど）は、乗客が車両の外を見ることができるように、７０パーセント超などの比較的高い可視光透過率を有することが典型的には必要である。建築用途の場合、可視光透過率を下げることができる。いくつかの建築用途では、できる限りプライバシーを保つため建物内の見通しが低下するように、同時にそれでも可視光が建物内に進入できるように且つ建物内の就労者が外を見ることができるように、反射性外面を有することが望ましいと考えられる。また、これらのトランスペアレンシーは、安全性を高めるために、典型的には強化され又は熱処理される。

ある公知の建築用トランスペアレンシーでは、可視光を吸収して窓を暗くするために、熱強化ガラス基板が、ニッケル−クロム合金材料（例えば、Ｉｎｃｏｎｅｌ（登録商標））などの吸収体材料を有する日射制御コーティングでコーティングされる。このトランスペアレンシーは、太陽赤外線エネルギーなどの太陽エネルギーを反射させる、比較的厚い連続性の赤外線反射金属層も含む。しかし、この公知のトランスペアレンシーに関する問題は、ガラス基板を所望の形状に切断し、強化してから、コーティングを付着させなければならないことである。ガラス基板を強化する前にコーティングを付着させる場合、強化プロセスに必要な高温処理中に、得られるコーティングに曇りが生じる。この曇りは、審美的に望ましくない。

非強化ガラス板の表面に日射制御コーティングを付着させ、このガラス板を製造業者に出荷して、製造業者が後で特定の仕事に合わせてこのガラス板を所望のサイズに切断し、次いで切断した小片を、得られるトランスペアレンシーの審美的な又は日射制御の性質に悪影響を及ぼすことなく強化し又は熱処理できることが、望ましいと考えられる。

本発明の１つの広範な態様では、本発明のコーティングは、亜臨界（即ち、不連続な）金属層と組み合わせた１つ又は複数の連続的な赤外線反射金属層を含む。不連続金属層は、コーティングの可視光吸光度を増大させ、適切な厚さの誘電体層と組み合わせることにより、コーティングされた物品に非対称反射率をもたらすこともできる。

本発明のコーティングは、複数の誘電体層と交互に配された複数の金属層を含み、金属層の少なくとも１つは、不連続金属領域を有する亜臨界金属層を含んでいる。

コーティングされた物品は、基板と、この基板の少なくとも一部を覆うコーティング積層体とを含む。コーティング積層体は、複数の金属層と複数の誘電体層とを含み、金属層の少なくとも１つは、不連続金属領域を有する亜臨界金属層を含む。

別のコーティングされた物品は、ガラス基板と、このガラス基板の少なくとも一部を覆って形成されたコーティングとを含む。コーティングは、ガラス基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層と；第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された連続金属層と；第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第２の誘電体層と；第２の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された亜臨界金属層であって、不連続金属領域が形成されるようになされた亜臨界金属層と；亜臨界金属層の少なくとも一部を覆って形成された第３の誘電体層と；第３の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された第３の連続金属層と；第３の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第３の誘電体層と；第３の金属層の少なくとも一部を覆って形成された保護層とを含む。

他のコーティングされた物品は、基板と、基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層；第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された第１の金属層；第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第２の誘電体層；第２の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された第２の金属層；及び第２の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第３の誘電体層を含むコーティングとを含む。金属層の少なくとも１つは、不連続金属領域を有する亜臨界金属層である。

別のコーティングされた物品は、基板と、基板の少なくとも一部を覆うコーティング積層体とを含む。コーティング積層体は、第１の誘電体層と；第１の誘電体層を覆う少なくとも１つの不連続金属層と；不連続金属層を覆う第２の誘電体層とを含む。他のコーティングされた物品は、基板と、基板の少なくとも一部を覆って形成されたコーティングとを含む。コーティングは、基板の少なくとも一部を覆って形成され且つスズ酸亜鉛層を覆う酸化亜鉛層を含む第１の誘電体層と；第１の誘電体層を覆う、銀を含む第１の連続金属銀層と；第１の連続金属銀層を覆う、チタンを含む第１のプライマー層と；酸化亜鉛層を覆うスズ酸亜鉛層を含む、第１のプライマー層を覆う第２の誘電体層と；第２の誘電体層を覆う第２の不連続金属銀層と；第２の不連続金属銀層を覆い且つニッケル−クロム合金を含む第２のプライマー層と；第２のプライマー層を覆い、且つ酸化亜鉛層、スズ酸亜鉛層、及び別の酸化亜鉛層を含む、第３の誘電体層と；第３の誘電体層を覆う第３の連続金属銀層と；第３の連続金属銀層を覆う、チタンを含む第３のプライマー層と；第３のプライマー層を覆う酸化亜鉛層を覆うスズ酸亜鉛層を含む、第４の誘電体層と；第４の誘電体コーティングを覆う、チタニアを含む保護コーティングとを含む。

本発明の建築用のトランスペアレンシーは、基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層を有する基板を含む。連続金属層が、第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成される。第２の誘電体層が、第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成される。亜臨界金属層が、この亜臨界金属層が不連続金属領域を形成するように、第２の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成される。第３の誘電体層が、亜臨界金属層の少なくとも一部を覆って形成される。連続金属層及び亜臨界金属層の金属は、同じ又は異なる金属とすることができる。

本発明の別の建築用のトランスペアレンシーは、ガラス基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層を備えたガラス基板を含む。連続的な第１の金属層が、第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成される。第２の誘電体層が、第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成される。第２の金属層（亜臨界金属層）が、この亜臨界金属層が不連続金属領域を形成するように、第２の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成される。第３の誘電体層が、亜臨界金属層の少なくとも一部を覆って形成される。連続的な第３の金属層が、第３の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成される。保護層が、第３の金属層の少なくとも一部を覆って形成される。連続金属層及び亜臨界金属層の金属は、同じ又は異なる金属とすることができる。第４の誘電体層が、保護層の下の第３の金属層の少なくとも一部を覆って形成される。

他の建築用トランスペアレンシーは、基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層を備えた基板を含む。連続的な第１の金属層が、第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成される。吸収層が、第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成される。吸収層は、第１の窒化ケイ素フィルムと、この第１の窒化ケイ素フィルムの少なくとも一部を覆って形成された金属層と、金属層を覆って形成された第２の窒化ケイ素フィルムとを含む。

別の建築用トランスペアレンシーは、ガラス基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層を備えたガラス基板を含む。連続的な第１の金属層が、第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成される。第１のプライマー層が、第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成される。第１のプライマー層は、多重フィルム層を含む。第２の誘電体層が、第１のプライマー層を覆って形成される。第２の連続的な金属層が、第２の誘電体層を覆って形成される。第２のプライマー層が、第２の金属層を覆って形成される。第２のプライマー層は、多重フィルム層を含む。第１及び第２のプライマー層は、ニッケル−クロム合金層（Ｉｎｃｏｎｅｌなど）と、チタンなどの金属層とを含むことができる。

本発明について、全体を通して同様の符号が同様の部分を特定している以下の作図を参照しながら記述する。

本発明のコーティングを有する断熱ガラスユニット（ＩＧＵ）の側面図（縮尺を合わせていない。）である。

本発明の、コーティングを組み込んだフィーチャーの側面図（縮尺を合わせていない。）である。

プライマー層を備えた亜臨界金属層の側断面図（縮尺を合わせていない。）である。

本発明の、別のコーティングを組み込んだフィーチャーの側面図（縮尺を合わせていない。）である。

本発明の、他のコーティングを組み込んだフィーチャーの側面図（縮尺を合わせていない。）である。

本発明の、さらに他のコーティングを組み込んだフィーチャーの側面図（縮尺を合わせていない。）である。

本発明の、他のコーティングの側断面図（縮尺を合わせていない。）である。

本明細書で使用される、「左」、「右」、「内側」、「外側」、「上方」、及び「下方」などの空間的な又は方向を示す用語は、作図に示されるような本発明に関する。しかし、本発明は、様々な代替の向きを想定することができ、したがってそのような用語は、限定するものと見なされないことが理解される。さらに、本明細書で使用されるように、本明細書及び特許請求の範囲で使用される寸法、物理的性質、処理パラメーター、成分の量、及び反応条件などを表す全ての数値は、全ての場合において「約」という用語により修飾されると理解される。したがって、反対の事項が示されない限り、以下の明細書及び特許請求の範囲に記述される数値は、本発明が得ようとする所望の性質に応じて変化させてもよい。最低限でも、均等物の原理の適用を特許請求の範囲に限定しようとするのではなく、各数値は、報告された有効桁数に照らして且つ通常の丸め技法を適用することによって少なくとも解釈されるべきである。さらに、本明細書に開示される全ての範囲は、その範囲の開始及び終了の値とその中に含まれる任意の及び全ての部分範囲とを包含することが理解される。例えば、「１から１０」と示された範囲は、最小値１から最大値１０の間（これらの値も含む。）の任意の及び全ての部分範囲を含むと見なすべきであり、即ち、全ての部分範囲は最小値１又はそれ以上から始まり、最大値１０又はそれ以下で終わり、例えば、１から３．３、４．７から７．５、及び５．５から１０などである。さらに、本明細書で使用される「〜を覆って形成され」、「〜を覆って堆積され」、又は「〜を覆って提供され」という用語は、表面上に形成され、堆積され、又は提供されるが必ずしもこの表面に接触しているわけではない状態を意味する。例えば、基板を「覆って形成された」コーティング層は、形成されたコーティング層と基板との間に位置付けられた、同じ又は異なる組成の１つ又は複数のその他のコーティング層又はフィルムの存在を排除しない。本明細書で使用される「ポリマー」又は「ポリマー性」という用語は、オリゴマー、ホモポリマー、コポリマー、及びターポリマーを含み、例えば、２つ以上のタイプのモノマー又はポリマーから形成されたポリマーである。「可視領域」又は「可視光」という用語は、３８０ｎｍから８００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を指す。「赤外領域」又は「赤外線」という用語は、８００ｎｍ超から１００，０００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を指す。「紫外領域」又は「紫外線」という用語は、３００ｎｍから３８０ｎｍ未満の範囲の波長を有する電磁エネルギーを意味する。さらに、本明細書で言及される、発行された特許及び特許出願などであるがこれらに限定されない全ての文献は、その全体が「参照により組み込まれる」と見なされる。本明細書で使用される「フィルム」という用語は、所望の又は選択されたコーティング組成物のコーティング領域を指す。「層」は、１つ又は複数の「フィルム」を含むことができ、「コーティング」又は「コーティング堆積物」は、１つ又は複数の「層」を含むことができる。「非対称反射率」という用語は、一方の面からのコーティングの可視光反射率が、反対の面からのコーティングの可視光反射率と異なることを意味する。「臨界厚さ」という用語は、それよりも厚いとコーティング材料が連続的で途切れることのない層を形成し、且つそれよりも薄い場合には、コーティング材料が、連続層ではない、コーティング材料の不連続領域又は島を形成する厚さを意味する。「亜臨界厚さ」という用語は、コーティング材料が、このコーティング材料の切り離された非接続領域を形成するような、臨界厚さよりも薄い厚さを意味する。「島状になった」という用語は、コーティング材料が連続層ではなく、むしろこの材料が、切り離された領域又は島を形成するように堆積されることを意味する。

以下の説明の目的では、本発明を、断熱ガラスユニット（ＩＧＵ）などであるがこれに限定されない建築用トランスペアレンシーの使用に関して論じよう。本明細書で使用される「建築用トランスペアレンシー」という用語は、窓及び天窓などであるがこれらに限定されることのない、建物に取り付けられた任意のトランスペアレンシーを指す。しかし、本発明は、そのような建築用トランスペアレンシーの使用に限定されず、積層又は非積層の居住用及び／又は商用の窓、断熱ガラスユニット、及び／又は陸上車両、航空機、宇宙航空機、水上車両、及び水中車両などであるがこれらに限定されない任意の所望の分野でトランスペアレンシーを用いて実施することができると理解される。したがって、特に開示される例示的な実施形態は、本発明の一般的概念を説明するためだけに提示され、本発明はこれらの特定の例示的な実施形態に限定されないことが理解される。さらに、典型的な「トランスペアレンシー」は、本発明の実施において、トランスペアレンシーを通して材料を見ることができるように十分な可視光透過率を有することができるが、「トランスペアレンシー」は、可視光を必ずしも透過させる必要はなく、半透明又は不透明であってもよい。

本発明のフィーチャーを組み込む非限定的なトランスペアレンシー１０を、図１に示す。トランスペアレンシー１０は、任意の所望の可視光、赤外線、又は紫外線透過率及び／又は反射率を有することができる。例えば、トランスペアレンシー１０は、任意の所望の量、例えば０％超から１００％までの、可視光透過率を有することができる。

図１の例示的なトランスペアレンシー１０は、従来の断熱ガラスユニットの形をとり、第１の主面１４（Ｎｏ．１の面）及び反対側の第２の主面１６（Ｎｏ．２の面）を備えた第１のプライ１２を含む。図示される非例示的な実施形態では、第１の主面１４は建物の外側に面し、即ち外側主面であり、第２の主面１６は建物の内側に面する。トランスペアレンシー１０は、外側（第１の）主面２０（Ｎｏ．３の面）及び内側（第２の）主面２２（Ｎｏ．４の面）を有する第２のプライ１８も含み、第１のプライ１２とは間隔を空けて配置されている。プライの面のこのナンバリングは、窓割りの分野における従来の実施に沿うものである。第１及び第２のプライ１２、１８は、従来のスペーサー枠２４に接着結合するなど、任意の適切な手法で一緒に接続することができる。隙間又は空洞２６が、２つのプライ１２、１８の間に形成される。空洞２６には、空気、又はアルゴン若しくはクリプトンガスなどの非反応性ガスなどの、選択された雰囲気を充填することができる。日射制御コーティング３０（又は以下に記述されるその他のコーティングのいずれか）が、限定するものではないがＮｏ．２の面１６の少なくとも一部又はＮｏ．３の面２０の少なくとも一部を覆うなど、プライ１２、１８の一方の少なくとも一部を覆って形成される。しかしコーティングは、望みに応じてＮｏ．１の面又はＮｏ．４の面上に在ってもよい。断熱ガラスユニットは、例えば米国特許第４，１９３，２３６号；第４，４６４，８７４号；第５，０８８，２５８号；及び第５，１０６，６６３号に見出される。

本発明の広範な実施において、トランスペアレンシー１０のプライ１２、１８は、同じ又は異なる材料のものとすることができる。プライ１２、１８は、任意の所望の特徴を有する任意の所望の材料を含むことができる。例えば、プライ１２、１８の１つ又は複数は、可視光に対して透過性又は半透過性とすることができる。「透過性」とは、０％超から１００％までの可視光透過率を有することを意味する。或いは、プライ１２、１８の１つ又は複数は、半透過性とすることができる。「半透過性」とは、電磁エネルギー（例えば、可視光）を通過させることが可能であり、しかし見る人と反対側にある物体が明らかに見えないようにエネルギーを拡散させることを意味する。適切な材料の例には、プラスチック基板（ポリアクリレートなどのアクリルポリマー；ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、及びポリプロピルメタクリレートなどのポリアルキルメタクリレート；ポリウレタン；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、及びポリブチレンテレフタレートなどのポリアルキルテレフタレート；ポリシロキサン含有ポリマー；又はこれらを調製するためのコポリマー若しくは任意のモノマー；又はこれらの混合物など）；セラミック基板；ガラス基板；又は上述のいずれかの混合物若しくは組合せが含まれるが、これらに限定するものではない。例えば、プライの１２、１８の１つ又は複数には、従来のソーダライムシリケートガラス、ホウケイ酸ガラス、又は鉛ガラスを含めることができる。ガラスは、透明ガラスとすることができる。「透明ガラス」とは、ノンティンテッドガラス又は無着色ガラスを意味する。或いはガラスは、ティンテッドガラス又はその他の方法で着色されたガラスとすることができる。ガラスは、アニールされた又は熱処理されたガラスとすることができる。本明細書で使用される「熱処理された」という用語は、強化された又は少なくとも部分的に強化されたことを意味する。ガラスは、従来のフロートガラスなどの任意のタイプのものとすることができ、任意の光学的性質、例えば任意の値の可視光透過率、紫外線透過率、赤外線透過率、及び／又は総太陽エネルギー透過率を有する任意の組成のものとすることができる。「フロートガラス」とは、溶融ガラスが溶融金属浴上に堆積され且つ制御可能に冷却されてフロートガラスリボンを形成する、従来のフロートプロセスによって形成されたガラスを意味する。フロートガラスプロセスの例は、米国特許第４，４６６，５６２号及び第４，６７１，１５５号に開示されている。

第１及び第２のプライ１２、１８はそれぞれ、例えば透明フロートガラスとすることができ、又はティンテッドガラス若しくは着色ガラスとすることができ、又は一方のプライ１２、１８を透明ガラスとし、他方のプライ１２、１８を着色ガラスとすることができる。本発明に限定するものではないが、第１のプライ１２及び／又は第２のプライ１８に適したガラスの例は、米国特許第４，７４６，３４７号；第４，７９２，５３６号；第５，０３０，５９３号；第５，０３０，５９４号；第５，２４０，８８６号；第５，３８５，８７２号；及び５，３９３，５９３号に記載されている。第１及び第２のプライ１２、１８は、任意の所望の寸法、例えば長さ、幅、形状、又は厚さのものとすることができる。ある例示的な自動車用トランスペアレンシーでは、第１及び第２のプライをそれぞれ、１ｍｍから１０ｍｍの厚さ、例えば１ｍｍから８ｍｍの厚さ、例えば２ｍｍから８ｍｍ、例えば３ｍｍから７ｍｍ、例えば５ｍｍから７ｍｍ、例えば６ｍｍの厚さとすることができる。本発明を実施するのに使用することができるガラスの非限定的な例には、透明ガラス、Ｓｔａｒｐｈｉｒｅ（登録商標）、Ｓｏｌａｒｇｒｅｅｎ（登録商標）、Ｓｏｌｅｘｔｒａ（登録商標）、ＧＬ−２０（登録商標）、ＧＬ−３５（商標）、Ｓｏｌａｒｂｒｏｎｚｅ（登録商標）、Ｓｏｌａｒｇｒａｙ（登録商標）ガラス、Ｐａｃｉｆｉｃａ（登録商標）ガラス、ＳｏｌａｒＢｌｕｅ（登録商標）ガラス、及びＯｐｔｉｂｌｕｅ（登録商標）ガラスが含まれ、全てはＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．、Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ、Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａから市販されている。

本発明の日射制御コーティング３０は、ガラスプライ１２、１８の一方の少なくとも１つの主面の少なくとも一部を覆って堆積される。図１に示される例では、コーティング３０は、外側ガラスプライ１２の内面１６の少なくとも一部を覆って形成される。本明細書で使用される「日射制御コーティング」という用語は、コーティング付き物品で反射され、吸収され、又は通過する太陽放射線、例えば可視光、赤外線、又は紫外線の量；遮蔽係数；放射率などを含むがこれらに限定することのない、コーティング付き物品の日照特性に影響を及ぼす、１つ又は複数の層又はフィルムを含むコーティングを指す。日射制御コーティング３０は、ＩＲ、ＵＶ、及び／又は可視スペクトルなどであるがこれらに限定されない太陽スペクトルの選択部分を遮断し、吸収し、又はフィルタリングすることができる。

日射制御コーティング３０は、従来の化学気相成長法（ＣＶＤ）及び／又は物理気相成長法（ＰＶＤ）などであるがこれらに限定されない任意の従来の方法によって堆積させることができる。ＣＶＤプロセスの例には、噴霧熱分解が含まれる。ＰＶＤプロセスの例には、電子ビーム蒸着及び真空スパッタリング（マグネトロンスパッタリング気相成長（ＭＳＶＤ）など）が含まれる。ゾルゲル堆積などであるがこれに限定されないその他のコーティング方法を、使用することもできる。ある非限定的な実施形態において、コーティング３０はＭＳＶＤにより堆積することができる。ＭＳＶＤコーティングデバイス及び方法の例は、当業者によって十分に理解されるであろうし、例えば米国特許第４，３７９，０４０号；第４，８６１，６６９号；第４，８９８，７８９号；第４，８９８，７９０号；第４，９００，６３３号；第４，９２０，００６号；第４，９３８，８５７号；第５，３２８，７６８号；及び第５，４９２，７５０号に記載されている。

島状金属層
本発明の例示的で非限定的な日射制御コーティング３０を、図２に示す。この例示的なコーティング３０は、基板の主面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２の面１６）の少なくとも一部を覆って堆積されたベース層又は第１の誘電体層４０を含む。第１の誘電体層４０は、単層とすることができ、又は反射防止材料及び／又は誘電体材料、例えば金属酸化物、金属合金の酸化物、窒化物、酸窒化物、又はこれらの混合物であるがこれらに限定されない材料の複数のフィルムを含むことができる。第１の誘電体層４０は、可視光を透過させることができる。第１の誘電体層４０に適した金属酸化物の例には、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズの酸化物、及びこれらの混合物が含まれる。これらの金属酸化物は、酸化ビスマス中のマンガン、酸化インジウム中のスズなど、少量のその他の材料を有することができる。さらに、亜鉛及びスズを含有する酸化物（例えば、以下に定義されるスズ酸亜鉛）、インジウム−スズ合金の酸化物、窒化ケイ素、ケイ素アルミニウム窒化物、又は窒化アルミニウムなど、金属合金又は金属混合物の酸化物を使用することができる。さらに、アンチモン若しくはインジウムがドープされた酸化スズ、又はニッケル若しくはホウ素がドープされた酸化ケイ素など、ドープされた金属酸化物を使用することができる。第１の誘電体層４０は、金属合金酸化物フィルム、例えばスズ酸亜鉛など、実質的に単相フィルムとすることができ、又は酸化亜鉛と酸化スズからなる相の混合物とすることができ、又は複数のフィルムからなるものとすることができる。

例えば、第１の誘電体層４０（単一フィルム層であっても多重フィルム層であっても）は、１００Åから６００Å、例えば２００Åから５００Å、例えば２５０Åから３５０Å、例えば２５０Åから３１０Å、例えば２８０Åから３１０Å、例えば３００Åから３３０Å、例えば３１０Åから３３０Åの範囲の厚さを有することができる。

第１の誘電体層４０は、基板（第１のプライ１２の内側主面１６など）の少なくとも一部を覆って堆積された第１のフィルム４２、例えば金属合金酸化物フィルムと、第１の金属合金酸化物フィルム４２を覆って堆積された第２のフィルム４４、例えば金属酸化物又は酸化物の混合物のフィルムとを有する、多重フィルム構造を含むことができる。ある非限定的な実施形態では、第１のフィルム４２を、亜鉛／スズ合金酸化物とすることができる。「亜鉛／スズ合金酸化物」とは、両方の真の合金と酸化物の混合物も意味する。亜鉛／スズ合金酸化物は、亜鉛及びスズのカソードからのマグネトロンスパッタリング真空堆積から得られるものとすることができる。ある非限定的なカソードは、亜鉛を５重量％から９５重量％、及びスズを９５重量％から５重量％、例えば亜鉛を１０重量％から９０重量％、及びスズを９０重量％から１０重量％の割合で、亜鉛及びスズを含むことができる。しかし、亜鉛とスズとのその他の比を使用することもできる。第１のフィルム４２中に存在することができる、ある適切な金属合金酸化物は、スズ酸亜鉛である。「スズ酸亜鉛」とは、Ｚｎ_ｘＳｎ_１−ｘＯ_２−ｘ（式１）の組成物を意味し、式中、「ｘ」は０超から１未満の範囲で変化する。例えば「ｘ」は、０より大きくすることができ、０超から１未満の間の任意の分数又は少数部とすることができる。例えば、ｘ＝２／３の場合、式１はＺｎ_２／３Ｓｎ_１／３Ｏ_４／３であり、これはより一般的に「Ｚｎ_２ＳｎＯ_４」と記述される。スズ酸亜鉛含有フィルムは、式１の形態の１種又は複数を、かなりの量でフィルム中に有する。

第２のフィルム４４は、酸化亜鉛などの金属酸化物フィルムとすることができる。酸化亜鉛フィルムは、カソードのスパッタリング特性を改善するために、その他の材料を含む亜鉛カソードから堆積することができる。例えば亜鉛カソードは、スパッタリングを改善するためにスズを少量（例えば、１０重量％まで、例えば５重量％まで）含むことができる。その場合、得られる酸化亜鉛フィルムは、パーセンテージの低い酸化スズ、例えば１０重量％までの酸化スズ、例えば５重量％までの酸化スズを含むと考えられる。１０重量％までのスズを有する（カソードの導電率を高めるために添加された。）亜鉛カソードから堆積されたコーティング層は、少量のスズが存在し得る場合であっても、本明細書では「酸化亜鉛フィルム」と呼ぶ。カソード中の少量のスズ（例えば、１０重量％以下、例えば５重量％以下）は、大部分が酸化亜鉛の第２のフィルム４４中に酸化スズを形成すると考えられる。

例えば、第１のフィルム４２をスズ酸亜鉛とすることができ、第２のフィルム４４を酸化亜鉛とすることができる（例えば、酸化亜鉛９０重量％及び酸化スズ１０重量％）。例えば、第１のフィルム４２は、５０Åから６００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば７５Åから３５０Å、例えば１００Åから２５０Å、例えば１５０Åから２５０Å、例えば１９５Åから２５０Å、例えば２００Åから２５０Å、例えば２００Åから２２０Åの範囲の厚さを有するスズ酸亜鉛を含むことができる。

第２のフィルム４４は、５０Åから２００Å、例えば７５Åから２００Å、例えば１００Åから１５０Å、例えば１００Åから１１０Åの範囲の厚さを有する酸化亜鉛を含むことができる。

第１の熱及び／又は放射線反射金属層４６を、第１の誘電体層４０を覆って堆積することができる。第１の反射層４６は、金属の金、銅、パラジウム、アルミニウム、銀、又はこれらの混合物、合金、若しくは組合せなどであるがこれらに限定されない反射金属含むことができる。一実施形態では、第１の反射層４６は、５０Åから３００Å、例えば５０Åから２５０Å、例えば５０Åから２００Å、例えば７０Åから２００Å、例えば１００Åから２００Å、例えば１２５Åから２００Å、例えば１５０Åから１８５Åの範囲の厚さを有する金属銀層を含む。第１の金属層４６は連続層である。「連続層」とは、コーティングが材料の連続フィルムを形成し、切り離されたコーティング領域ではないことを意味する。

第１のプライマー層４８は、第１の反射層４６を覆って位置付けられる。第１のプライマー層４８は、単一フィルム層又は多重フィルム層とすることができる。第１のプライマー層４８は、スパッタリングプロセス又は後続の加熱プロセス中に第１の反射層４６の分解又は酸化が防止されるように、堆積プロセス中は犠牲的とすることができる酸素捕獲材料を含むことができる。第１のプライマー層４８は、コーティング３０を通過する可視光などの電磁放射線の少なくとも一部を吸収することもできる。第１のプライマー層４８に有用な材料の例には、チタン、ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、ニッケル−クロム合金（Ｉｎｃｏｎｅｌなど）、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素とアルミニウムの合金、コバルトとクロムを含有する合金（例えば、Ｓｔｅｌｌｉｔｅ（登録商標））、及びこれらの混合物が含まれる。例えば第１のプライマー層４８は、チタンとすることができ、５Åから５０Å、例えば１０Åから４０Å、例えば２０Åから４０Å、例えば２０Åから３５Åの範囲の厚さを有することができる。

第２の誘電体層５０は、第１の反射層４６を覆って（例えば、第１のプライマー層４８を覆って）位置付けられる。第２の誘電体層５０は、第１の誘電体層４０に関して既に記述されたような、１種又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有フィルムを含むことができる。例えば、第２の誘電体層５０は、第１のプライマーフィルム４８を覆って堆積された第１の金属酸化物フィルム５２、例えば酸化亜鉛フィルムと、第１の酸化亜鉛フィルム５２を覆って堆積された第２の金属合金酸化物フィルム５４、例えばスズ酸亜鉛（Ｚｎ_２ＳｎＯ_４）とを含むことができる。任意選択の第３の金属酸化物フィルム５６、例えば別の酸化亜鉛層は、スズ酸亜鉛層を覆って堆積される。

第２の誘電体層５０は、５０Åから１０００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから３７０Å、例えば１００Åから３００Å、例えば１００Åから２００Å、例えば１５０Åから２００Å、例えば１８０Åから１９０Åの範囲の全厚（例えば、層を組み合わせた厚さ）を有することができる。

例えば、多重フィルム層の場合、酸化亜鉛フィルム５２（及び存在する場合には任意選択の第２の酸化亜鉛フィルム５６）は、１０Åから２００Å、例えば５０Åから２００Å、例えば６０Åから１５０Å、例えば７０Åから８５Åの範囲の厚さを有することができる。金属合金酸化物層（スズ酸亜鉛）５４は、５０Åから８００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから３００Å、例えば１１０Åから２３５Å、例えば１１０Åから１２０Åの範囲の厚さを有することができる。

亜臨界厚さの（不連続な）第２の金属層５８が、第２の誘電体層５０を覆って（例えば、存在する場合には第２の酸化亜鉛フィルム、又はそうでない場合にはスズ酸亜鉛フィルム５４を覆って）位置付けられる。金属の金、銅、パラジウム、アルミニウム、銀、又はこれらの混合物、合金、若しくは組合せなどであるがこれらに限定されない金属材料は、材料の連続層ではなくて材料の切り離された領域又は島が形成されるように、亜臨界厚さで付着させる。銀の場合、臨界厚さは５０Å未満、例えば４０Å未満、例えば３０Å未満、例えば２５Å未満であることが決定された。銀の場合、連続層から亜臨界層までの遷移は、２５Åから５０Åの範囲で生じる。銅、金、及びパラジウムは、この範囲で、類似する亜臨界挙動を示す可能性があると推定される。第２の金属層５８は、第１の反射層４６に関して既に記述された材料のいずれか１種又は複数を含むことができるが、これらの材料は連続フィルムとして存在しない。ある非限定的な実施形態では、第２の層５８は島状の銀を含み、これらの島は、１Åから７０Å、例えば１０Åから４０Å、例えば１０Åから３５Å、例えば１０Åから３０Å、例えば１５Åから３０Å、例えば２０Åから３０Å、例えば２５Åから３０Åの範囲の有効厚さを有している。亜臨界金属層５８は、プラズモン共鳴理論に従い電磁放射線を吸収する。この吸収は、金属の島の界面における境界状態に、少なくとも部分的に左右される。亜臨界金属層５８は、第１の金属層４６のように、赤外線反射層ではない。亜臨界銀層５８は、連続層ではない。銀の場合、亜臨界厚さよりも少なく堆積された銀金属の、金属の島又はボールは、約２ｎｍから７ｎｍ、例えば５ｎｍから７ｎｍの高さを有することができると推定される。亜臨界銀層が均一に拡がることができる場合、この層は約１．１ｎｍの厚さを有する可能性があると推定される。光学的に、不連続金属層は、有効層厚２．６ｎｍとして振る舞うことが推定される。酸化亜鉛ではなくスズ酸亜鉛を覆って不連続金属層を堆積することにより、コーティング、例えば不連続金属層の可視光吸光度は増大するように見える。

第２のプライマー層６０を、第２の金属層５８を覆って堆積することができる。第２のプライマー層６０は、第１のプライマー層４８に関して既に記述されたようとすることができる。一実施例では、第２のプライマー層を、５Åから５０Å、例えば１０Åから２５Å、例えば１５Åから２５Å、例えば１５Åから２２Åの範囲の厚さを有するニッケル−クロム合金（Ｉｎｃｏｎｅｌなど）とすることができる。亜臨界材料の吸光度は、境界状態に少なくとも部分的に依存するので、異なるプライマー（例えば、異なる屈折率を有する。）は異なる吸光度スペクトルを、したがって異なる色をコーティングに提供することができる。

第３の誘電体層６２は、第２の金属層５８を覆って（例えば、第２のプライマーフィルム６０を覆って）堆積することができる。第３の誘電体層６２は、第１及び第２の誘電体層４０、５０に関して上記にて論じたように、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有層を含むこともできる。一実施例では、第３の誘電体層６２は、第２の誘電体層５０に類似した多重フィルム層である。例えば、第３の誘電体層６２は、第１の金属酸化物層６４、例えば酸化亜鉛層と、第２の金属合金酸化物含有層６６、例えば酸化亜鉛層６４を覆って堆積されたスズ酸亜鉛層と、スズ酸亜鉛層６６を覆って堆積された任意選択の第３の金属酸化物層６８、例えば別の酸化亜鉛層とを含むことができる。一実施例では、酸化亜鉛層６４、６８の両方が存在し、それぞれが５０Åから２００Å、例えば７５Åから１５０Å、例えば８０Åから１５０Å、例えば９５Åから１２０Åの範囲の厚さを有する。金属合金酸化物層６６は、１００Åから８００Å、例えば２００Åから７００Å、例えば３００Åから６００Å、例えば３８０Åから５００Å、例えば３８０Åから４５０Åの範囲の厚さを有することができる。

一実施例では、第３の誘電体層６２の全厚（例えば、酸化亜鉛層とスズ酸亜鉛層とを組み合わせた厚さ）は、２００Åから１０００Å、例えば４００Åから９００Å、例えば、５００Åから９００Å、例えば６５０Åから８００Å、例えば６９０Åから７２０Åの範囲にある。

第３の熱及び／又は放射線反射金属層７０は、第３の誘電体層６２を覆って堆積される。第３の反射層７０は、第１の反射層に関して上記にて論じられた材料のいずれかとすることができる。ある非限定的な実施例では、第３の反射層７０は銀を含み、２５Åから３００Å、例えば５０Åから３００Å、例えば５０Åから２００Å、例えば７０Åから１５１Å、例えば１００Åから１５０Å、例えば１３７Åから１５０Åの範囲の厚さを有する。第３の金属層は、連続層である。

第３のプライマー層７２は、第３の反射層７０を覆って位置付けられる。第３のプライマー層７２は、第１又は第２のプライマー層に関して既に記述されたようとすることができる。ある非限定的な実施例では、第３のプライマー層はチタンであり、５Åから５０Å、例えば１０Åから３３Å、例えば２０Åから３０Åの範囲の厚さを有する。

第４の誘電体層７４は、第３の反射層を覆って（例えば、第３のプライマー層７２を覆って）位置付けられる。第４の誘電体層７４は、第１、第２、又は第３の誘電体層４０、５０、６２に関して上記にて論じたものなど、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有層を含むことができる。ある非限定的な実施例では、第４の誘電体層７４は、第３のプライマーフィルム７２を覆って堆積された第１の金属酸化物層７６、例えば酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層７６を覆って堆積された第２の金属合金酸化物層７８、例えばスズ酸亜鉛層とを有する多重フィルム層である。ある非限定的な実施形態では、酸化亜鉛層７６は、２５Åから２００Å、例えば５０Åから１５０Å、例えば６０Åから１００Å、例えば８０Åから９０Åの範囲の厚さを有することができる。スズ酸亜鉛層７８は、２５Åから５００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから４００Å、例えば１５０Åから３００Å、例えば１５０Åから２００Å、例えば１７０Åから１９０Åの範囲の厚さを有することができる。

ある非限定的な実施例では、第４の誘電体層７４の全厚（例えば、酸化亜鉛層及びスズ酸亜鉛層を組み合わせた厚さ）は、１００Åから８００Å、例えば２００Åから６００Å、例えば２５０Åから４００Å、例えば２５０Åから２７０Åの範囲にある。

オーバーコート８０は、第４の誘電体層７４を覆って位置付けることができる。オーバーコート８０は、下に在るコーティング層が機械的及び化学的な侵襲を受けるのを防止するのに役立てることができる。オーバーコート８０は、例えば、金属酸化物層又は金属窒化物層とすることができる。例えばオーバーコート８０は、１０Åから１００Å、例えば２０Åから８０Å、例えば３０Åから５０Å、例えば３０Åから４５Åの範囲の厚さを有するチタニアとすることができる。オーバーコートに有用なその他の材料には、シリカ、アルミナ、又はシリカ及びアルミナの混合物など、その他の酸化物が含まれる。

ある非例示的な実施形態では、本発明のトランスペアレンシー１０は、５％から５０％、例えば２０％から４０％、例えば２５％から３０％の範囲にある、Ｎｏ．１の面からの可視光の反射率パーセント（Ｒ％）を有する。トランスペアレンシー１０は、２０％超、例えば３０％超、例えば４０％超の可視光透過率を有する。トランスペアレンシーは、０．３未満、例えば０．２７未満、例えば０．２５未満の太陽熱利得係数（ＳＨＧＣ）を有する。

従来の物品とは異なり、コーティング３０によりコーティングされたプライは、物品の性能特性に悪影響を及ぼすことなく又は曇りを発生させることなく、強化し又は熱処理することができる。また、本発明の物品は、反射率及び透過率の両方において、青又は青−緑など、中間の又は中程度の反射色を有する。

加熱により曇りがなくなるのは、不連続中間金属層の島状構造に起因すると考えられる。誘電体層９２上に形成され且つプライマー層９４によって覆われた、不連続コーティング領域９１を有する亜臨界金属層９０の側面図を、図３に示す。亜臨界金属の厚さによって、金属材料は、誘電体層９２上に金属又は金属酸化物の不連続領域又は島を形成する。プライマー層が、亜臨界金属層を覆って付着される場合、プライマー層の材料は島を覆い、亜臨界金属の隣接する島の間の隙間にも及んで、下に在る層９２に接触することができる。

本発明のコーティング３０は、公知のコーティングに勝る様々な利点を提供する。例えば、亜臨界金属層は、コーティングの可視光吸光度を増大させ、コーティング付き物品をより暗くする。選択された厚さの誘電体層を有する亜臨界金属層の組合せは、コーティング付き物品に非対称反射率を与えることができる。物品の色は、コーティングに使用されるプライマー（単数又は複数）を変化させることにより透過率を調整することができる。また本発明のコーティングは、曇りを導入することなく、熱処理することができる。

前述のコーティング３０は、本発明を限定するものではないことが理解されよう。例えば、亜臨界金属層は、積層体において第２の（中間）金属層である必要はない。亜臨界金属層は、コーティング積層体のどの場所に配置してもよい。また、複数の金属コーティング層を有するコーティング積層体の場合、複数の金属層が亜臨界金属層であってもよい。

上記の例は、２つの連続金属層及び１つの不連続金属層を含んでいたが、これは１つの非限定的な例にすぎないことが理解されよう。本発明の広範な実施において、本発明のコーティングは、多数の連続金属層と多数の不連続金属層とを含むことができる。例えば、コーティング付き物品は、２つの誘電体層の間に位置付けられた単一の亜臨界金属層を含むことができる。又はコーティングは、３つ以上の金属層、例えば４つ以上の金属層、例えば５つ以上の金属層、例えば６つ以上の金属層を含むことができ、これらの金属層の少なくとも１つは亜臨界金属層である。

チタンプライマー
本発明の別の例示的なコーティング１３０を、図４に示す。この例示的なコーティング１３０は、基板の主面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２の面１６）の少なくとも一部を覆って堆積された、ベース層又は第１の誘電体層１４０を含む。第１の誘電体層１４０は、上述の第１の誘電体層４０に類似させることができる。例えば、第１の誘電体層１４０は、単層とすることができ、又は、金属酸化物、金属合金の酸化物、窒化物、酸窒化物、又はこれらの混合物などであるがこれらに限定されない反射防止材料及び／又は誘電体材料の、複数のフィルムを含むことができる。第１の誘電体層１４０は、可視光を透過させることができる。第１の誘電体層１４０に適した金属酸化物の例には、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、及びこれらの混合物の酸化物が含まれる。これらの金属酸化物は、酸化ビスマス中のマンガン、酸化インジウム中のスズなど、少量のその他の材料を有することができる。さらに、亜鉛及びスズを含有する酸化物（例えば、以下に定義されるスズ酸亜鉛）、インジウム−スズ合金の酸化物、窒化ケイ素、ケイ素アルミニウム窒化物、又は窒化アルミニウムなど、金属合金又は金属混合物の酸化物を使用することができる。さらに、アンチモン若しくはインジウムがドープされた酸化スズ、又はニッケル若しくはホウ素がドープされた酸化ケイ素など、ドープされた金属酸化物を使用することができる。第１の誘電体層１４０は、例えばスズ酸亜鉛の金属合金酸化物フィルムなど、実質的に単相フィルムとすることができ、又は酸化亜鉛及び酸化スズからなる相の混合物とすることができ、又は複数のフィルムからなるものとすることができる。

例えば、第１の誘電体層１４０（単一フィルム層であっても多重フィルム層であっても）は、１００Åから６００Å、例えば１００Åから５００Å、例えば１００Åから３５０Å、例えば１５０Åから３００Å、例えば２００Åから２５０Å、例えば２１０Åから２２０Åの範囲の厚さを有することができる。

第１の誘電体層１４０は、基板（第１のプライ１２の内側主面１６など）の少なくとも一部を覆って堆積された第１のフィルム１４２、例えば金属合金酸化物フィルムと、第１の金属合金酸化物フィルム１４２を覆って堆積された第２のフィルム１４４、例えば金属酸化物又は酸化物混合物フィルムとを有する、多重フィルム構造を含むことができる。ある非限定的な実施形態では、第１のフィルム１４２をスズ酸亜鉛とすることができる。

例えば、第１のフィルム１４２をスズ酸亜鉛とすることができ、且つ第２のフィルム１４４を酸化亜鉛とすることができる（例えば、酸化亜鉛９０重量％及び酸化スズ１０重量％）。例えば、第１のフィルム１４２は、５０Åから６００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば７５Åから３５０Å、例えば１００Åから２５０Å、例えば１００Åから２００Å、例えば１００Åから１５０Å、例えば１４０Åから１５０Åの範囲の厚さを有するスズ酸亜鉛を含むことができる。

第２のフィルム１４４は、５０Åから２００Å、例えば５０Åから１５０Å、例えば７０Åから１００Åの範囲の厚さを有する酸化亜鉛を含むことができる。

第１の熱及び／又は放射線反射金属層１４６は、第１の誘電体層１４０を覆って堆積させることができる。第１の反射層１４６は、金属の金、銅、パラジウム、銀、又はこれらの混合物、合金、若しくは組合せなどであるがこれらに限定されない反射金属を含むことができる。一実施形態では、第１の反射層４６は、２５Åから３００Å、例えば５０Åから３００Å、例えば５０Åから２５０Å、例えば５０Åから２００Å、例えば７０Åから２００Å、例えば１００Åから２００Å、例えば１２０Åから１８０Åの範囲の厚さを有する金属銀層を含む。

第１のプライマー層１４８は、第１の反射層１４６を覆って位置付けられる。第１のプライマー層１４８は、単一フィルム層又は多重フィルム層とすることができる。第１のプライマー層１４８は、スパッタリングプロセス又は後続の加熱プロセス中に第１の反射層１４６が分解し又は酸化するのを防止するために、堆積プロセス中に犠牲的とすることができる酸素捕獲材料を含むことができる。第１のプライマー層１４８は、コーティング１３０を通過する電磁放射線、例えば可視光の少なくとも一部を吸収することもできる。第１のプライマー層１４８に有用な材料の例には、チタン、Ｉｎｃｏｎｅｌ、Ｓｔｅｌｌｉｔｅ（登録商標）、及びこれらの混合物が含まれる。例えば、第１のプライマー層１４８は、５Åから５０Å、例えば１０Åから４０Å、例えば２０Åから４０Å、例えば２０Åから３０Åの範囲の厚さを有することができる。一実施例では、第１のプライマー１４８がチタンである。

第２の誘電体層１５０は、第１の反射層１４６を覆って（例えば、第１のプライマー層４８を覆って）位置付けられる。第２の誘電体層１５０は、第１の誘電体層１４０に関して既に記述されたものなど、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有フィルムを含む。例えば第２の誘電体層１５０は、第１のプライマーフィルム１４８を覆って堆積された第１の金属酸化物フィルム１５２、例えば酸化亜鉛フィルムと、第１の酸化亜鉛フィルム１５２を覆って堆積された第２の金属合金酸化物フィルム１５４、例えばスズ酸亜鉛（Ｚｎ_２ＳｎＯ_４）フィルムとを含むことができる。任意選択の第３の金属酸化物フィルム１５６、例えば別の酸化亜鉛層を、スズ酸亜鉛層を覆って堆積することができる。

第２の誘電体層１５０は、５０Åから１０００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから４００Å、例えば２００Åから４００Å、例えば３００Åから４００Å、例えば３５０Åから４００Å、例えば３５０Åから３７０Åの範囲の全厚（例えば、複数の層が存在する場合にはこれらの層を組み合わせた厚さ）を有することができる。

例えば多重フィルム層の場合、酸化亜鉛フィルム１５２（及び存在する場合には任意選択の第２の酸化亜鉛フィルム１５６）は、１０Åから２００Å、例えば５０Åから２００Å、例えば５０Åから１５０Å、例えば５０Åから８５Åの範囲の厚さを有することができる。金属合金酸化物層（スズ酸亜鉛）５４は、５０Åから８００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから３００Å、例えば２７０Åから３００Åの範囲の厚さを有することができる。

亜臨界（不連続な）金属層１５８は、第２の誘電体層１５０を覆って（例えば、存在する場合には第２の酸化亜鉛フィルム１５６を覆って、又は存在しない場合にはスズ酸亜鉛フィルム１５４を覆って）位置付けられる。第２の金属層１５８は、第１の反射層１４６に関して既に記述された上述の金属材料のいずれか１つ又は複数を含むことができる。ある非限定的な実施形態では、第２の金属層１５８は、島状の銀を含み、この島は、１Åから５０Å、例えば１０Åから４０Å、例えば１０Åから３５Å、例えば１０Åから３０Å、例えば１５Åから３０Å、例えば２０Åから３０Å、例えば２５Åから３０Åの範囲の有効厚さを有している。

第２のプライマー層１６０を、第２の金属層１５８を覆って堆積することができる。第２のプライマー層１６０は、第１のプライマー層１４８に関して既に記述されたようとすることができる。例えば、第２のプライマー層は、５Åから５０Å、例えば１０Åから３５Å、例えば１５Åから３５Å、例えば２０Åから３０Åの範囲の厚さを有するチタンとすることができる。

第３の誘電体層１６２を、第２の反射層１５８を覆って（例えば、第２のプライマー層１６０を覆って）堆積することができる。第３の誘電体層１６２は、第１及び第２の誘電体層１４０、１５０に関して上記にて論じられたような、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有層を含むこともできる。一実施例では、第３の誘電体層１６２は、第２の誘電体層１５０に類似した多重フィルム層である。例えば、第３の誘電体層１６２は、第１の金属酸化物層１６４、例えば酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層１６４を覆って堆積された第２の金属合金酸化物含有層１６６、例えばスズ酸亜鉛層と、スズ酸亜鉛層１６６を覆って堆積された任意選択の第３の金属酸化物層１６８、例えば別の酸化亜鉛層とを含むことができる。一実施例では、酸化亜鉛層１６４、１６８が共に存在し、それぞれは５０Åから２００Å、例えば７５Åから１５０Å、例えば８０Åから１５０Å、例えば９５Åから１００Åの範囲の厚さを有する。金属合金酸化物層１６６は、１００Åから８００Å、例えば２００Åから７００Å、例えば３００Åから６００Å、例えば５００Åから６００Å、例えば５６０Åから６００Åの範囲の厚さを有することができる。

一実施例では、第３の誘電体層１６２の全厚（例えば、酸化亜鉛層及びスズ酸亜鉛層を組み合わせた厚さ）は、２００Åから１０００Å、例えば４００Åから９００Å、例えば５００Åから９００Å、例えば６５０Åから８００Å、例えば６９０Åから７６０Åの範囲にある。

第３の熱及び／又は放射線反射金属層１７０は、第３の誘電体層１６２を覆って堆積される。第３の反射層１７０は、第１及び第２の反射層に関して上記にて論じた材料の、いずれかとすることができる。ある非限定的な実施例では、第３の反射層１７０は銀を含み、２５Åから３００Å、例えば５０Åから３００Å、例えば５０Åから２００Å、例えば７０Åから２００Å、例えば１００Åから２００Å、例えば１７０Åから２００Åの範囲の厚さを有する。

第３のプライマー層１７２は、第３の反射層１７０を覆って位置付けられる。第３のプライマー層１７２は、第１及び第２のプライマー層に関して既に記述されたようとすることができる。ある非限定的な実施例では、第３のプライマー層はチタンであり、５Åから５０Å、例えば１０Åから３０Å、例えば２０Åから３０Åの範囲の厚さを有する。

第４の誘電体層１７４は、第３の反射層を覆って（例えば、第３のプライマーフィルム１７２を覆って）位置付けられる。第４の誘電体層１７４は、第１、第２、又は第３の誘電体層１４０、１５０、１６２に関して上記にて論じたような、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有層を含むことができる。ある非限定的な実施例では、第４の誘電体層１７４は、第３のプライマーフィルム１７２を覆って堆積された第１の金属酸化物層１７６、例えば酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層１７６を覆って堆積された第２の金属合金酸化物層１７８、例えばスズ酸亜鉛層とを有する、多重フィルム層である。ある非限定的な実施形態では、酸化亜鉛層１７６は、２５Åから２００Å、例えば５０Åから１５０Å、例えば６０Åから１００Å、例えば７０Åから９０Åの範囲の厚さを有することができる。スズ酸亜鉛層１７８は、２５Åから５００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから４００Å、例えば１５０Åから３００Å、例えば１５０Åから２００Å、例えば１７０Åから２００Åの範囲の厚さを有することができる。

ある非限定的な実施例では、第４の誘電体層１７４の全厚（例えば、酸化亜鉛層とスズ酸亜鉛層とを組み合わせた厚さ）は、１００Åから８００Å、例えば２００Åから６００Å、例えば２５０Åから４００Å、例えば２５０Åから２７０Åの範囲にある。

オーバーコート１８０を、第４の誘電体層１７４を覆って位置付けることができる。オーバーコート１８０は、下に在るコーティング層が機械的及び化学的侵襲を受けるのを防止するのに役立てることができる。オーバーコート１８０は、例えば、金属酸化物層又は金属窒化物層とすることができる。例えばオーバーコート１８０は、１０Åから１００Å、例えば２０Åから８０Å、例えば３０Åから５０Å、例えば３０Åから４０Åの範囲の厚さを有するチタニアとすることができる。

カプセル
本発明の別の例示的な非限定的なコーティング２３０を、図５に示す。例示的なコーティング２３０は、基板の主面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２の面１６）の少なくとも一部を覆って堆積されたベース層又は第１の誘電体層２４０を含む。第１の誘電体層２４０は、単層とすることができ、又は、金属酸化物、金属合金の酸化物、窒化物、酸窒化物、又はこれらの混合物などであるがこれらに限定されない反射防止材料及び／又は誘電体材料の複数のフィルムを含むことができる。第１の誘電体層２４０は、可視光を透過させることができる。第１の誘電体層２４０に適した金属酸化物の例には、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、及びこれらの混合物の酸化物が含まれる。これらの金属酸化物は、酸化ビスマス中のマンガン、酸化インジウム中のスズなどの、少量のその他の材料を有することができる。さらに、亜鉛及びスズを含有する酸化物（例えば、以下に定義されるスズ酸亜鉛）、インジウム−スズ合金の酸化物、窒化ケイ素、ケイ素アルミニウム窒化物、又は窒化アルミニウムなどの、金属合金又は金属混合物の酸化物を使用することができる。さらに、アンチモン若しくはインジウムがドープされた酸化スズ、又はニッケル若しくはホウ素がドープされた酸化ケイ素など、ドープされた金属酸化物を使用することができる。第１の誘電体層２４０は、金属合金酸化物フィルム、例えばスズ酸亜鉛などの実質的に単相フィルムとすることができ、酸化亜鉛及び酸化スズを含む相の混合物とすることができ、又は複数のフィルムを含むことができる。

例えば、第１の誘電体層２４０（単一フィルム層であっても多重フィルム層であっても）は、１００Åから６００Å、例えば２００Åから５００Å、例えば２５０Åから３５０Å、例えば２５０Åから３１０Å、例えば２８０Åから３１０Å、例えば２９０Åから３００Åの範囲の厚さを有することができる。

第１の誘電体層２４０は、基板（第１のプライ１２の内側主面１６など）の少なくとも一部を覆って堆積された第１のフィルム２４２、例えば金属合金酸化物フィルムと、第１の金属合金酸化物フィルム２４２を覆って堆積された第２のフィルム２４４、例えば金属酸化物又は酸化物混合物フィルムとを有する多重フィルム構造を含むことができる。ある非限定的な実施形態では、第１のフィルム２４２をスズ酸亜鉛とすることができる。

例えば第１のフィルム２４２をスズ酸亜鉛とすることができ、第２のフィルム２４４を酸化亜鉛とすることができる（例えば、酸化亜鉛９０重量％及び酸化スズ１０重量％）。例えば第１のフィルム２４２は、５０Åから６００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば７５Åから３５０Å、例えば１００Åから２５０Å、例えば１５０Åから２５０Å、例えば２００Åから２５０Å、例えば２００Åから２４０Åの範囲の厚さを有するスズ酸亜鉛を含むことができる。

第２のフィルム２４４は、５０Åから２００Å、例えば５０Åから１７５Å、例えば５０Åから１５０Å、例えば５０Åから１００Åの範囲の厚さを有する酸化亜鉛を含むことができる。

第１の熱及び／又は放射線反射金属層２４６を、第１の誘電体層２４０を覆って堆積することができる。第１の反射層２４６は、金属の金、銅、パラジウム、銀、又はこれらの混合物、合金、若しくは組合せなどであるがこれらに限定されない反射金属を含むことができる。一実施形態では、第１の反射層２４６は、２５Åから３００Å、例えば５０Åから３００Å、例えば５０Åから２５０Å、例えば５０Åから２００Å、例えば７０Åから２００Å、例えば１００Åから２００Å、例えば１４０Åから１８０Åの範囲の厚さを有する金属銀層を含む。

第１のプライマー層２４８は、第１の反射層２４６を覆って位置付けられる。第１のプライマー層２４８は、単一フィルム層又は多重フィルム層とすることができる。第１のプライマー層２４８は、スパッタリングプロセス又は後続の加熱プロセス中に第１の反射層２４６が分解又は酸化しないように、堆積プロセス中に犠牲的とすることができる酸素捕獲材料を含むことができる。第１のプライマー層２４８は、コーティング２３０を通過する可視光などの電磁放射線の少なくとも一部を吸収することもできる。第１のプライマー層２４８に有用な材料の例には、チタン、Ｉｎｃｏｎｅｌ、Ｓｔｅｌｌｉｔｅ（登録商標）、及びこれらの混合物が含まれる。例えば第１のプライマー層２４８は、５Åから５０Å、例えば１０Åから４０Å、例えば１５Åから３０Å、例えば１６Åから３０Åの範囲の厚さを有する。

第２の誘電体層２５０は、第１の反射層２４６を覆って（例えば、第１のプライマー層２４８を覆って）位置付けられる。第２の誘電体層２５０は、第１の誘電体層２４０に関して既に記述されたような、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有フィルムを含むことができる。例えば第２の誘電体層２５０は、第１のプライマーフィルム２４８を覆って堆積された第１の金属酸化物フィルム２５２、例えば酸化亜鉛フィルムと、第１の酸化亜鉛フィルム２５２を覆って堆積された第２の金属合金酸化物フィルム２５４、例えばスズ酸亜鉛（Ｚｎ_２ＳｎＯ_４）とを含むことができる。任意選択の第３の金属酸化物フィルム２５６、例えば別の酸化亜鉛層は、スズ酸亜鉛層を覆って堆積することができる。

第２の誘電体層２５０は、５０Åから１０００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから３７０Å、例えば１００Åから３００Å、例えば１００Åから２５０Å、例えば２００Åから２３０Åの範囲にある全厚（例えば、これらの層を組み合わせた厚さ）を有することができる。

例えば多重フィルム層の場合、酸化亜鉛フィルム２５２（及び存在する場合には任意選択の第３の酸化亜鉛フィルム２５６）は、１０Åから２００Å、例えば５０Åから２００Å、例えば６０Åから１５０Å、例えば７５Åから８５Åの範囲の厚さを有することができる。金属合金酸化物層（スズ酸亜鉛）２５４は、５０Åから８００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから２００Å、例えば１５５Åから２００Åの範囲の厚さを有することができる。

吸収層２５７は、第２の誘電体層２５０を覆って（例えば、存在する場合には第３の酸化亜鉛フィルム２５６を覆って、又は存在しない場合にはスズ酸亜鉛フィルム２５４を覆って）位置付けられる。吸収層２５７は、第１の吸収層２５９と、金属層２６１と、第２の吸収層２６３とを有する多層構造とすることができる。第１及び第２の吸収層２５９、２６３は、同じ又は異なる材料とすることができる。吸収層に適した材料には、金属又はケイ素の酸化物又は窒化物が含まれる。例えば第１及び第２の吸収層２５９、２６５を窒化ケイ素とすることができる。第１の吸収層２５９は、１０Åから２００Å、例えば５０Åから２００Å、例えば６０Åから１５０Å、例えば８０Åから９０Åの範囲の厚さを有することができる。第２の吸収層２６３は、窒化ケイ素とすることもでき、１０Åから２００Å、例えば５０Åから２００Å、例えば６０Åから１５０Å、例えば７５Åから１００Åの範囲の厚さを有することができる。

金属層２６１は、上述の亜臨界厚さの層とすることができる。一実施例では、金属層２６１はコバルト−クロム合金（Ｓｔｅｌｌｉｔｅ（登録商標）など）であり、１Åから５０Å、例えば１０Åから４０Å、例えば１０Åから３５Å、例えば１０Åから３０Å、例えば１５Åから３０Å、例えば２０Åから３０Å、例えば２５Åから３０Åの範囲の厚さを有する。

第３の誘電体層２６２は、吸収層２５７を覆って堆積することができる。第３の誘電体層２６２は、第１及び第２の誘電体層２４０、２５０に関して上記にて論じたような、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有層を含むこともできる。一実施例では、第３の誘電体層２６２は、第２の誘電体層２５０に類似した多重フィルム層である。例えば第３の誘電体層２６２は、任意選択の第１の金属酸化物層２６４、例えば酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層２６４（存在する場合）を覆って堆積された第２の金属合金酸化物含有層２６６、例えばスズ酸亜鉛層と、スズ酸亜鉛（第２の）層２６６を覆って堆積された任意選択の第３の金属酸化物層２６８、例えば別の酸化亜鉛層とを含むことができる。一実施例では、第１の酸化亜鉛層２６４（存在する場合）及び第３の酸化亜鉛層２６８がそれぞれ、５０Åから２００Å、例えば７５Åから１５０Å、例えば８０Åから１５０Å、例えば９５Åから１０５Åの範囲の厚さを有することができる。金属合金酸化物層（第２の）２６６は、１００Åから８００Å、例えば２００Åから７００Å、例えば３００Åから６００Å、例えば３８０Åから５００Å、例えば４２０Åから４５０Åの範囲の厚さを有することができる。

一実施例では、第３の誘導体層２６２の全厚（例えば、酸化亜鉛層とスズ酸亜鉛層とを組み合わせた厚さ）は、２００Åから１０００Å、例えば４００Åから９００Å、例えば５００Åから９００Å、例えば５００Åから６００Å、例えば５２５Åから５５０Åの範囲にある。

第３の熱及び／又は放射線反射金属層２７０は、第３の誘電体層２６２を覆って堆積することができる。第３の反射層２７０は、第１及び第２の反射層に関して上記にて論じられた材料のいずれかとすることができる。ある非限定的な実施例では、第３の反射層２７０が銀を含み、２５Åから３００Å、例えば５０Åから３００Å、例えば５０Åから２００Å、例えば７０Åから１５０Å、例えば１００Åから１５０Å、例えば１２８Åから１５０Åの範囲の厚さを有する。

第３のプライマー層２７２は、第３の反射層２７０を覆って位置付けられる。第３のプライマー層２７２は、第１又は第２のプライマー層に関して既に記述されたようにすることができる。ある非限定的な実施例では、第３のプライマー層はチタンであり、５Åから５０Å、例えば１０Åから３０Å、例えば１７Åから３０Åの範囲の厚さを有する。

第４の誘電体層２７４は、第３の反射層を覆って（例えば、第３のプライマー層２７２を覆って）位置付けられる。第４の誘電体層２７４は、第１、第２、又は第３の誘電体層２４０、２５０、２６２に関して上記にて論じたものなど、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有層を含むことができる。ある非限定的な実施例では、第４の誘電体層２７４は、第３のプライマーフィルム２７２を覆って堆積された第１の金属酸化物層２７６、例えば酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層２７６を覆って堆積された第２の金属合金酸化物層２７８、例えばスズ酸亜鉛層とを有する多重フィルム層である。ある非限定的な実施形態では、酸化亜鉛層２７６は、２５Åから２００Å、例えば５０Åから１５０Å、例えば６０Åから１００Å、例えば６０Åから７０Åの範囲の厚さを有することができる。スズ酸亜鉛層７８は、２５Åから５００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから４００Å、例えば１５０Åから３００Å、例えば１５０Åから２００Å、例えば１８０Åから１９０Åの範囲の厚さを有することができる。

ある非限定的な実施例では、第４の誘電体層２７４の全厚（例えば、酸化亜鉛層とスズ酸亜鉛層とを組み合わせた厚さ）は、１００Åから８００Å、例えば２００Åから６００Å、例えば２５０Åから４００Å、例えば２５０Åから２７０Åの範囲にある。

オーバーコート２８０は、第４の誘電体層２７４を覆って位置付けることができる。オーバーコート２８０は、下に在るコーティング層が機械的及び化学的な侵襲を受けないように役立てることができる。オーバーコート２８０は、例えば金属酸化物層又は金属窒化物層とすることができる。例えばオーバーコート２８０は、１０Åから１００Å、例えば２０Åから８０Å、例えば３０Åから５０Å、例えば３０Åから４０Åの範囲の厚さを有するチタニアとすることができる。

２重プライマー
本発明の、別の例示的な非限定的なコーティング３３０を、図６に示す。この例示的なコーティング３３０は、基板の主面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２の面１６）の少なくとも一部を覆って堆積されたベース層又は第１の誘電体層３４０を含む。第１の誘電体層３４０は、上述の第１の誘電体層４０に類似させることができる。例えば第１の誘電体層３４０は、単層とすることができ、又は、金属酸化物、金属合金の酸化物、窒化物、酸窒化物、又はこれらの混合物などであるがこれらに限定されない反射防止材料及び／又は誘電体材料の複数のフィルムを含むことができる。第１の誘電体層３４０は、可視光を透過させることができる。第１の誘電体層３４０に適した金属酸化物の例には、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、及びこれらの混合物の酸化物が含まれる。これらの金属酸化物は、酸化ビスマス中のマンガン、酸化インジウム中のスズなど、少量のその他の材料を有することができる。さらに、亜鉛及びスズを含有する酸化物（例えば、以下に定義されるスズ酸亜鉛）、インジウム−スズ合金の酸化物、窒化ケイ素、ケイ素アルミニウム窒化物、又は窒化アルミニウムなど、金属合金又は金属混合物の酸化物を使用することができる。さらに、アンチモン若しくはインジウムがドープされた酸化スズ、又はニッケル若しくはホウ素がドープされた酸化ケイ素など、ドープされた金属酸化物を使用することができる。第１の誘電体層３４０は、金属合金酸化物フィルム、例えばスズ酸亜鉛など、実質的に単相フィルムとすることができ、又は酸化亜鉛及び酸化スズを含む相の混合物とすることができ、又は複数のフィルムを含むことができる。

例えば第１の誘電体層３４０（単一フィルム層であっても又は多重フィルム層であっても）は、１００Åから８００Å、例えば１００Åから６００Å、例えば２００Åから６００Å、例えば４００Åから５００Å、例えば４４０Åから５００Åの範囲の厚さを有することができる。

第１の誘電体層３４０は、基板（第１のプライ１２の内側主面１６など）の少なくとも一部を覆って堆積された第１のフィルム３４２、例えば金属合金酸化物フィルムと、第１の金属合金酸化物フィルム３４２を覆って堆積された第２のフィルム３４４、例えば金属酸化物又は酸化物混合物フィルムとを有する、多重フィルム構造を含むことができる。ある非限定的な実施形態では、第１のフィルム３４２はスズ酸亜鉛とすることができる。

例えば、第１のフィルム３４２は、スズ酸亜鉛とすることができ、第２のフィルム３４４は酸化亜鉛とすることができる（例えば、酸化亜鉛９０重量％及び酸化スズ１０重量％）。例えば、第１のフィルム３４２は、５０Åから６００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば７５Åから４００Å、例えば２００Åから４００Å、例えば３００Åから４００Å、例えば３５５Åから４００Åの範囲の厚さを有するスズ酸亜鉛を含むことができる。

第２のフィルム３４４は、５０Åから２００Å、例えば５０Åから１５０Å、例えば８５Åから１００Åの範囲の厚さを有する酸化亜鉛を含むことができる。

第１の熱及び／又は放射線反射金属層３４６は、第１の誘電体層３４０を覆って堆積することができる。第１の反射層３４６は、金属の金、銅、銀、又はこれらの混合物、合金、若しくは組合せなどであるがこれらに限定されない反射金属を含むことができる。一実施形態では、第１の反射層３４６は、２５Åから３００Å、例えば５０Åから３００Å、例えば５０Åから２５０Å、例えば５０Åから２００Å、例えば７０Åから２００Å、例えば７０Åから１００Å、例えば７３Åから１００Åの範囲の厚さを有する金属銀層を含む。

第１のプライマー層３４８は、第１の反射層３４６を覆って位置付けられる。第１のプライマー層３４８は、単一フィルム層又は多重フィルム層とすることができる。第１のプライマー層３４８は、スパッタリングプロセス又は後続の加熱プロセス中に第１の反射層３４６が分解又は酸化するのを防ぐため、堆積プロセス中に犠牲的にすることができる酸素捕獲材料を含むことができる。第１のプライマー層３４８は、コーティング３３０を通過する可視光などの電磁放射線の少なくとも一部を吸収することもできる。第１のプライマー層３４８に有用な材料の例には、チタン、Ｉｎｃｏｎｅｌ、Ｓｔｅｌｌｉｔｅ（登録商標）、及びこれらの混合物が含まれる。例えば第１のプライマー層３４８は、第１のプライマーフィルム３４９及び第２のプライマーフィルム３５１を有する多重フィルム層とすることができる。第１及び第２のプライマーフィルム３４９、３５１は、典型的には異なる材料のものである。例えば第１のプライマーフィルム３４９は、１Åから１０Å、例えば１Åから５Åの範囲の厚さを有するＩｎｃｏｎｅｌとすることができる。第２のプライマーフィルム３５１は、５Åから２０Å、例えば１０Åから１５Åの範囲の厚さを有するチタンとすることができる。

第２の誘電体層３５０は、第１の反射層３４６を覆って（例えば、第１のプライマー層３４８を覆って）位置付けられる。第２の誘電体層３５０は、第１の誘電体層３４０に関して既に記述されたような、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有フィルムを含むことができる。例えば第２の誘電体層３５０は、第１のプライマーフィルム３４８を覆って堆積された第１の金属酸化物フィルム３５２、例えば酸化亜鉛フィルムと、第１の酸化亜鉛フィルム３５２を覆って堆積された第２の金属合金酸化物フィルム３５４、例えばスズ酸亜鉛（Ｚｎ_２ＳｎＯ_４）とを含むことができる。任意選択の第３の金属酸化物フィルム３５６、例えば別の酸化亜鉛層は、スズ酸亜鉛層を覆って堆積することができる。

第２の誘電体層３５０は、５０Åから１０００Å、例えば５０Åから８００Å、例えば１００Åから８００Å、例えば２００Åから８００Å、例えば５００Åから７００Å、例えば６５０Åから７００Åの範囲の全厚（例えば、複数の層が存在する場合には、これらの層を組み合わせた厚さ）を有することができる。

例えば、多重フィルム層の場合、酸化亜鉛フィルム３５２（及び存在する場合には任意選択の第３の酸化亜鉛フィルム３５６）は、１０Åから２００Å、例えば５０Åから２００Å、例えば５０Åから１５０Å、例えば５０Åから７５Åの範囲の厚さを有することができる。金属合金酸化物層（スズ酸亜鉛）５４は、５０Åから８００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから５００Å、例えば４００Åから５００Åの範囲の厚さを有することができる。

反射金属層３５８は、第２の誘電体層３５０を覆って（例えば、存在する場合には第３の酸化亜鉛フィルム３５６を覆って、又は存在しない場合にはスズ酸亜鉛フィルム３５４を覆って）位置付けられる。ある非限定的な実施形態では、第２の反射層３５８は、５０Åから３００Å、例えば１００Åから２００Å、例えば１５０Åから２００Å、例えば１７０Åから２００Åの範囲の厚さを有する銀を含む。

第２のプライマー層３７２は、第２の反射層３５８を覆って堆積することができる。第２のプライマー層３７２は、第１のプライマー層３４８に関して既に記述されたようにすることができる。例えば第２のプライマー層３７２は、第１のプライマーフィルム３７１及び第２のプライマーフィルム３７３を有する多重フィルム層とすることができる。第１及び第２のプライマーフィルム３７１、３７３は、典型的には異なる材料のものである。例えば、第１のプライマーフィルム３７１は、１Åから１５Å、例えば５Åから１０Åの範囲の厚さを有するＩｎｃｏｎｅｌとすることができる。第２のプライマーフィルム３７３は、５Åから２０Å、例えば１０Åから１５Åの範囲の厚さを有するチタンとすることができる。

第３の誘電体層３７４は、第２の反射層３５８を覆って（例えば、第２のプライマーフィルム３７２を覆って）堆積することができる。第３の誘電体層３７４は、第１及び第２の誘電体層３４０、３５０に関して上記にて論じたような、１つ又は複数の金属酸化物又は金属合金酸化物含有層を含むこともできる。一実施例では、第３の誘電体層３７４は、第２の誘電体層３５０に類似した多重フィルム層である。ある非限定的な実施例では、第３の誘電体層３７４は、第２のプライマー層３７２を覆って堆積された第１の金属酸化物層３７６、例えば酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層３７６を覆って堆積された第２の金属合金酸化物層３７８、例えばスズ酸亜鉛層とを有する多重フィルム層である。ある非限定的な実施形態では、酸化亜鉛層３７６は、２５Åから２００Å、例えば５０Åから１５０Å、例えば１００Åから１５０Åの範囲の厚さを有することができる。スズ酸亜鉛層３７８は、２５Åから５００Å、例えば５０Åから５００Å、例えば１００Åから４００Å、例えば２００Åから３５０Å、例えば３００Åから３５０Å、例えば３２０Åから３５０Åの範囲の厚さを有することができる。

ある非限定的な実施例では、第３の誘電体層３７４の全厚（例えば、酸化亜鉛層とスズ酸亜鉛層とを組み合わせた厚さ）は、１００Åから８００Å、例えば２００Åから６００Å、例えば２５０Åから５００Å、例えば４７０Åから５００Åの範囲にある。

オーバーコート３８０は、第３の誘電体層３７４を覆って位置付けることができる。オーバーコート３８０は、下に在るコーティング層が機械的及び化学的侵襲を受けるのを防止するのに役立てることができる。オーバーコート３８０は、例えば、金属酸化物層又は金属窒化物層とすることができる。例えば、オーバーコート３８０は、１０Åから１００Å、例えば２０Åから８０Å、例えば３０Åから５０Å、例えば３０Åから４０Åの範囲の厚さを有するチタニアとすることができる。

ナノ複合層
上述のように、亜臨界銀層を表面に付着させることができ、次いで金属酸化物又は金属層などの別の層を亜臨界銀層を覆うように付着させて、銀島を本質的に包封し保護することができる。しかし、本発明の別の実施形態では、ナノ結晶質金属相が誘電体マトリックス相に埋め込まれ又は組み込まれているナノ複合層を堆積することができる。図７は、基板３８８上に堆積された第１の材料３８２に金属ナノ粒子３８６が組み込まれている、第１の材料３８４を有するナノ複合層３８２を示す。このナノ複合層３８２は、日射制御コーティング、例えば上述のコーティングのいずれかなどにおいて、１つ又は複数の金属銀層の代わりをすることができる。そのようなナノ複合層３８２は、第１の材料及び少なくとも１種の第２の材料を有する標的を使用した従来の反応性スパッタリングによって、得ることができる。第１の材料は、第２の材料よりも、窒化し又は酸化する比較的より強力な傾向を有する材料とすることができる。これらの材料は、合金として又は複合標的として存在することができる。例えば第１の材料は、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、又はＳｉとすることができる。第２の材料は、Ａｇ、Ｃｕ、若しくはＡｕなどの貴金属、又はＦｅ、Ｎｉ、若しくはＣｏを含めた遷移金属とすることができる。標的が、例えば酸素含有雰囲気中でスパッタリングされると、第１の材料は酸化し、誘電体マトリックス相を形成し、第２の材料がこの相内に、金属ナノ粒子の形などで含有される。ナノ複合層３８２は、所望の厚さのナノ複合層を形成するために、反応性ガス、スパッタリング電圧などを適切に選択することによって調節することができる。第１の材料３８４内に埋め込まれた金属粒子３８６を有するこのナノ複合層３８２は、連続金属フィルムを備えたコーティングよりも、熱処理又は強化に伴う高温に対してより良好に耐えることができる。

吸収材層としての小バンドギャップ半導体材料
いくつかの適用例では、コーティングの日射制御性能に影響を及ぼすことなく、特定の透過色を修正することが望ましいと考えられる。このための１つの方法は、電磁スペクトルの可視領域にバンドギャップエッジを有する日射制御コーティングに、半導体材料を組み入れる手法の使用によると考えられる。当業者に理解されるように、半導体バンドギャップのエッジでは、より短い波長の放射線が半導体材料により吸収され、一方より長い波長のエネルギーは、この材料を透過する。即ち、この材料は、バンドギャップのエッジよりも上方で放射線を透過させる。可視領域にバンドギャップエッジを有する材料を選択することによって、半導体材料に吸収され又は通過する電磁放射線の波長を選択することができる。ゲルマニウム又はゲルマニウムをベースにした合金などであるがこれらに限定されない小バンドギャップを有する半導体材料を使用することにより、吸収エッジは、可視スペクトルの長波長側付近に位置することができる。このように、光透過率を、近赤外線又は遠赤外線を吸収することなく低減させることができ、ガラスが不必要に加熱されて吸収されるのを最小限に抑えることができる。この半導体材料は、２つの銀層の間、銀層の上方、銀層の下方、又は積層体内のその他の場所など、従来の日射制御コーティング内に配置することができる。

下記の実施例は、本発明の様々な実施形態を例示する。しかし本発明は、これら特定の実施形態に限定されないことを理解されたい。

下記の実施例において「Ｒｆ」はフィルム側反射率を指し、「Ｒｇ」はガラス側反射率を指し、「Ｔ」は物品を通る透過率を指し、「Ｒｇ６０」は角度６０度でのガラス側反射率を指し、「Ｒｘ」はＮｏ．１の面からの標準ＩＧＵの外側反射率を指し、「Ｒｉｎｔ」は内（Ｎｏ．４）面からのＩＧＵの反射率を指し、「ＶＬＴ」は可視光透過率を指し、「ＳＨＧＣ」は太陽熱利得係数を指す。「標準ＩＧＵ」は、厚さ６ｍｍのガラスの外側プライ、６ｍｍガラスの内側プライを有し、０．５インチ（１．２７ｃｍ）の隙間は空気が充填され、Ｎｏ．２の面にはコーティングを備えている。「Ｓ．Ｃ．」は、「亜臨界」厚さを意味する（即ち、層は連続層ではなく、不連続コーティング領域が形成されるように堆積された。）。

下記の実施例において、「熱処理された」は、コーティングされた基板が、強化をシミュレートするために１，１８５°Ｆの温度までボックス炉内で加熱され、次いで光学特性を測定する前に室温まで空気冷却されたことを意味する。

色座標ａ^＊、ｂ^＊及びＬ^＊は、当業者に理解される従来のＣＩＥ（１９３１）及びＣＩＥＬＡＢ系のものである。

積層体全体の光学的性質が最適化され且つ制御されるよう、電磁放射線に対する亜臨界層の構造の応答をモデル化するために、亜臨界層を２つの理想化された層としてモデル化することができる。これらの理想化された層は、積層体のその他の層と同様に、それらの層全体を通して均一な光学的性質（即ち、屈折率（ｎ）及び吸光係数（ｋ））を有する。したがって、実施例で言及される厚さは、これら理想化された層の厚さであり、これらの層を含有する所与のコーティング積層体の光学応答を計算する際に意味がある。

また、下記の実施例における「亜臨界」層に関連した厚さの値は、商用の塗布機の実際のコーティング速度よりも遅い参照コーティング速度に基づいて計算された、「有効厚さ」である。例えば銀層は、商用の塗布機と同じコーティング率で、しかし商用の塗布機に比べて低い線速度（参照コーティング速度）で基板上に付着される。参照コーティング速度で堆積されたコーティングの厚さが測定され、次いで同じコーティング率でしかし商用の塗布機のより速い線速度で堆積されたコーティングに関する「有効厚さ」が外挿される。例えば、特定のコーティング率が、商用の塗布機の線速度の１０分の１である参照コーティング速度で２５０Åの銀コーティングを提供する場合、同じコーティング率であるが商用の塗布機の線速度（即ち、参照コーティング動作よりも１０倍速い）での銀層の「有効厚さ」は、２５Å（即ち、１０分の１の厚さ）に外挿される。しかし理解されるように、この有効厚さ（亜臨界厚さよりも薄い）の銀層は連続層ではないと考えられ、むしろ銀材料の不連続領域を有する不連続層であると考えられる。

（例１）
コーティングを、従来のＭＳＶＤ塗布機（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓから市販されている）により、透明ガラスの６ｍｍ小片上に堆積させた。コーティングされたガラスは、下記の構造を有していた：
チタニア ４０Å
スズ酸亜鉛 １９０Å
酸化亜鉛（９０／１０） ８０Å
チタン ３０Å
銀 １５０Å
酸化亜鉛 １２０Å
スズ酸亜鉛 ４５０Å
酸化亜鉛 １２０Å
Ｉｎｃｏｎｅｌ ２２Å
Ｓ．Ｃ．銀 ２５Å
スズ酸亜鉛 １１０Å
酸化亜鉛 ７０Å
チタン ３０Å
銀 １８０Å
酸化亜鉛 １１０Å
スズ酸亜鉛 ２００Å
透明ガラス ６ｍｍ

このコーティングされたガラスは、上述のように熱処理され、以下の表１に示される光学特性を有していた。物品は、外側プライとして標準ＩＧＵに組み込まれ（内側プライは、コーティングされていない６ｍｍの透明ガラスであった。）、以下の表２に示される光学特性を有していた。

（例２）
コーティングを、Ｓｔａｒｐｈｉｒｅ（登録商標）ガラスの６ｍｍ小片上に、従来のＡｉｒｃｏ ＭＳＶＤ塗布機によって堆積させた。コーティングされたガラスは下記の構造を有していた：
チタニア ４０Å
スズ酸亜鉛 １７０Å
酸化亜鉛（９０／１０） ８０Å
チタン ２０Å
銀 １５０Å
酸化亜鉛 １２０Å
スズ酸亜鉛 ４８０Å
酸化亜鉛 １２０Å
Ｉｎｃｏｎｅｌ ２２Å
Ｓ．Ｃ．銀 ２５Å
スズ酸亜鉛 １１０Å
酸化亜鉛 ７０Å
チタン ２０Å
銀 １８０Å
酸化亜鉛 １１０Å
スズ酸亜鉛 ２２０Å
Ｓｔａｒｐｈｉｒｅ（登録商標）ガラス ６ｍｍ

このコーティングされたガラスは、上述のように熱処理され、以下の表１に示される光学特性を有していた。物品は、外側プライとして標準ＩＧＵに組み込まれ（内側プライは、コーティングされていない６ｍｍのＳｔａｒｐｈｉｒｅ（登録商標）ガラスであった）、以下の表２に示される光学特性を有していた。

（例３）
コーティングを、Ｏｐｔｉｂｌｕｅ（登録商標）ガラスの６ｍｍ小片上に、従来のＡｉｒｃｏ ＭＳＶＤ塗布機によって堆積させた。コーティングされたガラスは下記の構造を有していた：
チタニア ４０Å
スズ酸亜鉛 １７０Å
酸化亜鉛（９０／１０） ８０Å
チタン ２０Å
銀 １５０Å
酸化亜鉛 １２０Å
スズ酸亜鉛 ４８０Å
酸化亜鉛 １２０Å
Ｉｎｃｏｎｅｌ ２２Å
Ｓ．Ｃ．銀 ２５Å
スズ酸亜鉛 １１０Å
酸化亜鉛 ７０Å
チタン ２０Å
銀 １８０Å
酸化亜鉛 １１０Å
スズ酸亜鉛 ２２０Å
Ｏｐｔｉｂｌｕｅ（登録商標）ガラス ６ｍｍ

このコーティングされたガラスは、上述のように熱処理され、以下の表１に示される光学特性を有していた。物品は、外側プライとして標準ＩＧＵに組み込まれ（内側プライは、コーティングされていない６ｍｍのＳｔａｒｐｈｉｒｅ（登録商標）ガラスであった）、以下の表２に示される光学特性を有していた。

（例４）
コーティングを、透明ガラスの６ｍｍ小片上に、従来のＡｉｒｃｏ ＭＳＶＤ塗布機によって堆積させた。コーティングされたガラスは下記の構造を有していた：
チタニア ４０Å
スズ酸亜鉛 ２００Å
酸化亜鉛（９０／１０） ７０Å
チタン ３０Å
銀 １７０Å
酸化亜鉛 １００Å
スズ酸亜鉛 ５６０Å
酸化亜鉛 １００Å
チタン ３０Å
Ｓ．Ｃ．銀 ２５Å
酸化亜鉛 ５０Å
スズ酸亜鉛 ２７０Å
酸化亜鉛 ５０Å
チタン ３０Å
銀 １２０Å
酸化亜鉛 ７０Å
スズ酸亜鉛 １４０Å
透明ガラス ６ｍｍ

このコーティングされたガラスは、上述のように熱処理され、以下の表１に示される光学特性を有していた。物品は、外側プライとして標準ＩＧＵに組み込まれ（内側プライは、コーティングされていない６ｍｍの透明ガラスであった）、以下の表２に示される光学特性を有していた。

（例５）
コーティングを、透明ガラスの６ｍｍ小片上に、従来のＡｉｒｃｏ ＭＳＶＤ塗布機によって堆積させた。コーティングされたガラスは下記の構造を有していた：
チタニア ４０Å
スズ酸亜鉛 １７０Å
酸化亜鉛（９０／１０） ８０Å
チタン ３０Å
銀 １３７Å
酸化亜鉛 ９５Å
スズ酸亜鉛 ３８０Å
酸化亜鉛 ９５Å
Ｉｎｃｏｎｅｌ １５Å
Ｓ．Ｃ．銀 ３０Å
スズ酸亜鉛 ２３５Å
酸化亜鉛 ８５Å
チタン ３０Å
銀 １２５Å
酸化亜鉛 １００Å
スズ酸亜鉛 ２００Å
透明ガラス ６ｍｍ

このコーティングされたガラスは、上述のように熱処理され、以下の表１に示される光学特性を有していた。物品は、外側プライとして標準ＩＧＵに組み込まれ（内側プライは、コーティングされていない６ｍｍの透明ガラスであった）、以下の表２に示される光学特性を有していた。

（例６）
コーティングを、透明ガラスの６ｍｍ小片上に、従来のＡｉｒｃｏ ＭＳＶＤ塗布機によって堆積させた。コーティングされたガラスは下記の構造を有していた：
チタニア ４０Å
スズ酸亜鉛 ３２０Å
酸化亜鉛（９０／１０） １５０Å
チタン １５Å
Ｉｎｃｏｎｅｌ １５Å
銀 １７０Å
酸化亜鉛 ７５Å
スズ酸亜鉛 ５００Å
酸化亜鉛 ７５Å
チタン １５Å
Ｉｎｃｏｎｅｌ ５Å
銀 ７３Å
酸化亜鉛 ８５Å
スズ酸亜鉛 ３５５Å
透明ガラス ６ｍｍ

このコーティングされたガラスは、熱処理されておらず、以下の表１に示される光学特性を有していた。物品は、外側プライとして標準ＩＧＵに組み込まれ（内側プライは、コーティングされていない６ｍｍの透明ガラスであった）、以下の表２に示される光学特性を有していた。

（例７）
コーティングを、透明ガラスの６ｍｍ小片上に、従来のＡｉｒｃｏ ＭＳＶＤ塗布機によって堆積させた。コーティングされたガラスは下記の構造を有していた：
チタニア ４０Å
スズ酸亜鉛 １９０Å
酸化亜鉛（９０／１０） ６０Å
チタン １７Å
銀 １２８Å
酸化亜鉛 １０５Å
スズ酸亜鉛 ４２０Å
酸化亜鉛 １２０Å
窒化ケイ素 １００Å
Ｓｔｅｌｌｉｔｅ（登録商標） ３０Å
窒化ケイ素 ８０Å
スズ酸亜鉛 １５５Å
酸化亜鉛 ７５Å
チタン １６Å
銀 １４０Å
酸化亜鉛 ５０Å
スズ酸亜鉛 ２４０Å
透明ガラス ６ｍｍ

このコーティングされたガラスは、熱処理されておらず、以下の表１に示される光学特性を有していた。物品は、外側プライとして標準ＩＧＵに組み込まれ（内側プライは、コーティングされていない６ｍｍの透明ガラスであった）、以下の表２に示される光学特性を有していた。

（例８）
コーティングを、透明ガラスの６ｍｍ小片上に、従来のＡｉｒｃｏ ＭＳＶＤ塗布機によって堆積させた。コーティングされたガラスは下記の構造を有していた：
チタニア ４０Å
スズ酸亜鉛 １８０Å
酸化亜鉛（９０／１０） ７０Å
チタン ３０Å
銀 １２８Å
酸化亜鉛 １０５Å
スズ酸亜鉛 ４２０Å
酸化亜鉛 １２０Å
窒化ケイ素 １００Å
Ｓｔｅｌｌｉｔｅ（登録商標） ３０Å
窒化ケイ素 ８０Å
スズ酸亜鉛 １５５Å
酸化亜鉛 ７５Å
チタン ３０Å
銀 １４０Å
酸化亜鉛 ５０Å
スズ酸亜鉛 ２４０Å
透明ガラス ６ｍｍ

このコーティングされたガラスは、熱処理がなされ、以下の表１に示される光学特性を有していた。物品は、外側プライとして標準ＩＧＵに組み込まれ（内側プライは、コーティングされていない６ｍｍの透明ガラスであった）、以下の表２に示される光学特性を有していた。

（例９）
コーティングを、透明ガラスの６ｍｍ小片上に、従来のＡｉｒｃｏ ＭＳＶＤ塗布機によって堆積させた。コーティングされたガラスは下記の構造を有していた：
チタニア ４３Å
スズ酸亜鉛 １９６Å
酸化亜鉛（９０／１０） ８１Å
チタン ３３Å
銀 １５１Å
酸化亜鉛 １２０Å
スズ酸亜鉛 ４４８Å
酸化亜鉛 １２０Å
Ｉｎｃｏｎｅｌ ２２Å
Ｓ．Ｃ．銀 ２６Å
スズ酸亜鉛 １１６Å
酸化亜鉛 ７０Å
チタン ３５Å
銀 １８２Å
酸化亜鉛 １１０Å
スズ酸亜鉛 １９８Å
透明ガラス ６ｍｍ

先の記述に開示された概念から逸脱することなく、本発明に修正を行うことができることが、当業者に容易に理解されよう。したがって、本明細書に詳細に記述される特定の実施形態は単なる例示であり、本発明の範囲を限定するものではなく、添付される特許請求の範囲を十分広い範囲で且つそれらの任意の及び全ての均等物を得るものである。

Claims (17)

1. 基板と；
   複数の金属層及び複数の誘電体層を含み、前記金属層の少なくとも１つが不連続金属領域を有する亜臨界金属層を含んでいる、前記基板の少なくとも一部を覆うコーティング積層体と
   を含む、コーティングされた物品。
2. 前記金属層の少なくとも１つが連続金属層を含む、請求項１に記載の物品。
3. 前記コーティング積層体が、
   前記基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層と；
   前記第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された連続的な第１の金属層と；
   前記第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第２の誘電体層と；
   不連続金属領域が形成されるように、前記第２の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された第２の亜臨界金属層と；
   前記亜臨界金属層の少なくとも一部を覆う第３の誘電体層と
   を含む、請求項１に記載の物品。
4. 前記亜臨界金属が、銀、金、銅、パラジウム、又はこれらの混合物から選択される、請求項１に記載の物品。
5. 前記連続金属層が、前記不連続金属層と同じ金属を含む、請求項２に記載の物品。
6. 前記亜臨界金属層の少なくとも一部を覆って形成されたプライマー層を含み、前記プライマーは、チタン、ニッケルとクロムを含有する合金、ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、ＮｉＣｒ、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素とアルミニウムの合金、コバルトとクロムを含有する合金から選択される、請求項３に記載の物品。
7. 前記第３の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された連続的な第３の金属層と、前記第３の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第４の誘電体層とを含む、請求項３に記載の物品。
8. 前記第１の金属層が金属の銀を含み、前記亜臨界金属層が不連続銀領域を含む、請求項３に記載の物品。
9. ガラス基板と；
   前記基板の少なくとも一部を覆うコーティングと
   を含み、前記コーティングは、
   前記ガラス基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層と；
   前記第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された連続金属層と；
   前記第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第２の誘電体層と；
   不連続金属領域が形成されるように、前記第２の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された亜臨界金属層と；
   前記亜臨界金属層の少なくとも一部を覆って形成された第３の誘電体層と；
   前記第３の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された第３の連続金属層と；
   前記第３の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第３の誘電体層と；
   前記第３の金属層の少なくとも一部を覆って形成された保護層と
   を含む、コーティングされた物品。
10. 前記亜臨界金属層が、銀、金、銅、パラジウム、及びこれらの混合物から選択される、請求項９に記載の物品。
11. 前記連続金属層が、金、銅、銀、アルミニウム、及びこれらの混合物から選択される、請求項９に記載の物品。
12. 前記亜臨界金属層の少なくとも一部を覆って形成されたプライマー層を含み、前記プライマー材料は、ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、ＮｉＣｒ、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素とアルミニウムの合金、ニッケルとクロムの合金、コバルトとクロムを含有する合金から選択される、請求項９に記載の物品。
13. 基板と；
    前記基板の少なくとも一部を覆うコーティングと
    を含み、前記コーティングは、
    前記基板の少なくとも一部を覆って形成された第１の誘電体層と；
    前記第１の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された第１の金属層と；
    前記第１の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第２の誘電体層と；
    前記第２の誘電体層の少なくとも一部を覆って形成された第２の金属層と；
    前記第２の金属層の少なくとも一部を覆って形成された第３の誘電体層と
    を含み、
    前記金属層の少なくとも１つは、不連続金属領域を有する亜臨界金属層である、
    コーティングされた物品。
14. 前記金属層の少なくとも１つが連続金属層である、請求項１３に記載の物品。
15. 前記第３の誘電体層を覆う第３の金属層と、前記第３の金属層の少なくとも一部を覆う第４の誘電体層とをさらに含む、請求項１３に記載の物品。
16. 基板と；
    前記基板の少なくとも一部を覆うコーティング積層体と
    を含み、前記コーティング積層体は、
    第１の誘電体層と；
    前記第１の誘電体層を覆う少なくとも１つの不連続金属層と；
    前記不連続金属層を覆う第２の誘電体層と
    を含む、コーティングされた物品。
17. 基板と；
    前記基板の少なくとも一部を覆うコーティングと
    を含み、前記コーティングは、
    前記基板の少なくとも一部を覆って形成され且つスズ酸亜鉛層を覆う酸化亜鉛層を含む、第１の誘電体層と；
    前記第１の誘電体層を覆う、銀を含む第１の連続金属銀層と；
    前記第１の連続金属銀層を覆い、チタンを含む、第１のプライマー層と；
    酸化亜鉛層を覆うスズ酸亜鉛層を含む、前記第１のプライマー層を覆う第２の誘電体層と；
    前記第２の誘電体層を覆う第２の不連続金属銀層と；
    前記第２の不連続金属銀層を覆い、ニッケル−クロム合金を含む、第２のプライマーと；
    前記第２のプライマー層を覆い、酸化亜鉛層、スズ酸亜鉛層、及び別の酸化亜鉛層を含む、第３の誘電体層と；
    前記第３の誘電体層を覆う第３の連続金属銀層と；
    前記第３の連続金属銀層を覆い、チタンを含む第３のプライマー層と；
    前記第３のプライマー層を覆う、酸化亜鉛層を覆うスズ酸亜鉛層を含む第４の誘電体層と；
    前記第４の誘電体コーティングを覆う、チタニアを含む保護コーティングと
    を含む、コーティングされた物品。
    

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