JP2013206197A - タッチセンサー - Google Patents

Abstract

【課題】電気的接続性に優れたタッチセンサーを提供する。
【解決手段】透明な基板の一面上に形成され、互いに交差する方向に延在する複数の透明な第１電極パターン１０及び複数の透明な第２電極パターン２０を有するタッチセンサーであって、第１電極パターンは、基板上の第１方向に間隔をあけて形成された複数の第１島状電極部１２と、隣接する第１島状電極部の間に電気的に接続形成された第１ブリッジ配線部１１と、を有し、第２電極パターンは、基板上であって、第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて形成された複数の第２島状電極部２２を有し、さらに、少なくとも第２電極パターンの隣接する第２島状電極部間及びその両岸上に透明な絶縁膜３が形成され、絶縁膜が両岸上に有する一対の貫通穴３ａ間を経由して、第２電極パターンの隣接する第２島状電極部の間に電気的に接続形成された第２ブリッジ配線部が第２電極パターンとは別体で形成されている。
【選択図】図２

Description

本発明は、表示装置等の前面に配設される投影型の静電容量タッチセンサーに関する。

従来より、携帯電話機等に採用されている静電容量タッチセンサーその他の装置は、例えば、図５に示すように積層されている（特許文献１）。

図５に示す例では、液晶表示装置７０と、その前面に配設される投影型の静電容量タッチセンサー７１と、その前面に配設されるカバーガラス７２の例を示している。図５において、表示装置７０を構成する一対の透明基板８１，８２は、シール材８４により封止された空間に、液晶８３を挟持している。この他、透明基板８１，８２には、液晶表示用電極８５が形成され、偏光板８６が配設されている。なお、８７は駆動用ＩＣであり、この駆動用ＩＣ８７は、フレキシブル基板８８を介して画像データの送信元となる制御基板等（図示せず。）に接続される。

このような液晶表示装置７０の前面に、センサ用電極９２が設けられた透明基板９１を備える静電容量タッチセンサー７１が配置されている。投影型の静電容量タッチセンサー７１では、この透明基板９１に設けられたセンサ電極９２に、人間の指などの導電体が近づくことで発生する静電容量の変化を捉えてタッチ位置を検出する。より具体的には、センサ用電極９２に指が近づくことにより、指とセンサ用電極９２との間に容量が形成され、その変化をフレキシブル基板９５を介して接続される投影型静電容量センサ用ＩＣ（図示せず）が検知する。なお、図５では、センサ用電極９２を互いに交差する２方向に伸びる列電極として形成する例を示している。このため、ある一方向に伸びる第１電極パターンと他方向に伸びる第１電極パターンとの間に、電気的に非接触状態とするための絶縁膜９３が設けられている。また、静電容量タッチセンサー７１には、センサ用電極９２を保護するための保護層９６が設けられている。

なお、図５に示す例では、静電容量タッチセンサー７１の上に、さらに光学接着層９９を介してカバーガラス７２が配設されている例が示されている。カバーガラス７２は、周辺部に黒色印刷９７が施されたり、穴が開けられたりといった装飾が施されることが多い。

ところで、特許文献１では、透明基板１の片側の面に、センサ電極９２として第１の方向に伸びる複数の第１電極パターンと第２の方向に伸びる複数の第２電極パターンとが、交差領域で第２電極パターンが分断された形状で形成されており（図６では、第１の方向に間隔をあけて形成された２以上の第１島状電極部２０１_ｃ，２０１_ｄ及びその間に形成された第１ブリッジ配線部２０２と、第２の方向に間隔をあけて形成された２以上の第２島状電極部２０１_ａ，２０１_ｂ）、さらに交差領域で分断されずに形成された第１電極パターンを当該交差領域で覆う絶縁膜９と、交差領域で分断されて形成されている第２電極パターンの第２島状電極部どうしを当該交差領域で接続状態とするために形成される配線であって、前記絶縁膜９を跨ぐように形成される第２ブリッジ配線部４とを備えている（図７参照）、第２ブリッジ配線部４は金属材料により形成され、絶縁膜は遮蔽性および絶縁性を有する材料で形成されているものが開示されている。

このように、交差領域で分断されずに形成される第１電極パターンの第１ブリッジ配線部２０２と第２ブリッジ配線部４との間に設ける絶縁膜９を、遮蔽性材料で形成することにより、金属材料のブリッジ配線４の反射による視認性の劣化、すなわち、第１電極パターンと第２電極パターンの交差領域に眩しくなる高輝度部分が点状又は線状に生じて使用者が液晶画面を見るにあたり不具合又は視覚的な不快感を覚えてしまうことを抑えることができる。

なお、前記特許文献１において、上記構成の静電容量タッチセンサーは以下のように製造される。まず、透明基板の片側の面に、透明電導膜のパターニングにより、第１の方向に伸びる第１電極パターンと、前記第１の方向と交差する方向である第２の方向に伸びる第２電極パターンとを含む透明電極パターンであって、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンの交差領域で第２電極パターンが分断された形状となる透明電極パターンを形成する。次に、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンとの交差領域に、遮蔽性および絶縁性を有する材料による絶縁遮蔽層を設けることにより、交差領域で分断されずに形成された前記第１電極パターンを覆う絶縁膜とする。次いで、前記絶縁遮蔽層が形成された透明基板の同一面に、金属製の導電物質を成膜した金属膜によるパターニングにより、第２ブリッジ配線部を形成する。

特開２０１１−９０４４３号公報

しかし、特許文献１に記載の発明では、絶縁膜９を跨ぐように第２ブリッジ配線部４されるが形成されるが、第２ブリッジ配線部４のパターニングを精度よく行わないと、第２ブリッジ配線部４の外縁で定められる第２島状電極部との接触面積にバラツキが生じ、接触抵抗に影響を与えるという問題があった。

したがって、本発明の目的は、前記課題を解決することにあって、電気的接続性に優れたタッチセンサーを提供することにある。

本発明の第１態様によれば、透明な基板の一面上に形成され、互いに交差する方向に延在する複数の透明な第１電極パターン及び複数の透明な第２電極パターンを有するタッチセンサーであって、
前記第１電極パターンは、
前記基板上の第１方向に間隔をあけて形成された複数の第１島状電極部と、
隣接する前記第１島状電極部の間に電気的に接続形成された第１ブリッジ配線部と、を有し、
前記第２電極パターンは、
前記基板上であって、前記第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて形成された複数の第２島状電極部を有し、
さらに、少なくとも前記第２電極パターンの隣接する前記第２島状電極部間及びその両岸上に透明な絶縁膜が形成され、
前記絶縁膜が前記両岸上に有する一対の貫通穴間を経由して、前記第２電極パターンの隣接する前記第２島状電極部の間に電気的に接続形成された第２ブリッジ配線部が前記第２電極パターンとは別体で形成されているタッチセンサーを提供する。

また、本発明の第２態様によれば、前記絶縁膜が、入力領域全体に形成されたものである第１態様のタッチセンサーを提供する。

また、本発明の第３態様によれば、前記絶縁膜が、前記第２電極パターンの隣接する前記第２島状電極部間及びその両岸上のみに形成されたものである第１態様のタッチセンサーを提供する。

また、本発明の第４態様によれば、前記第２ブリッジ配線部が、金属細線を黒色化したものである第１〜３態様のいずれかのタッチセンサーを提供する

また、本発明の第５態様によれば、前記金属細線の黒色化が、黒色めっきによるものである第４態様のタッチセンサーを提供する。

また、本発明の第６態様によれば、前記金属細線の黒色化が、電着塗装によるものである第４態様のタッチセンサーを提供する。

また、本発明の第７態様によれば、前記金属細線の黒色化が、化成処理によるものである第４態様のタッチセンサーを提供する。

また、本発明の第８態様によれば、前記金属細線が、銅、アルミニウム、ニッケルのいずれかである第４〜７態様のいずれかのタッチセンサーを提供する。

また、本発明の第９態様によれば、さらに前面に偏光板を備える第１〜８態様のいずれかのタッチセンサーを提供する。

本発明のタッチセンサーは、上記したように、第２ブリッジ配線部が、絶縁膜が有する一対の貫通穴間を経由して、第２電極パターンの隣接する第２島状電極部の間に電気的に接続形成される。したがって、第２ブリッジ配線部のパターニング精度が高くなくても、第２ブリッジ配線部４の外縁ではなく、絶縁膜の貫通穴で第２島状電極部との接触面積が定められるため、一定の接触抵抗となる。すなわち、電気的接続性に優れたタッチセンサーを得ることができる。

第１，３実施形態に係るタッチセンサーの構成を示す部分平面図である。 交差領域付近の部分拡大図である。 図２中のＡ−Ａ´線断面図である。 第２，４実施形態に係るタッチセンサーの構成を示す部分平面図である。 静電容量タッチセンサーを含む電子機器の構成例を示す説明図である。 透明電極のパターニングの例を示す説明図である。 従来技術における透明基板に透明電極と絶縁膜とブリッジ配線とが形成された状態を拡大して示す説明図である。

[実施形態１]
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図１は、タッチセンサーの例を示す概略図である。図２は、交差領域付近の部分拡大図である。また、図３は、図１中の線Ｉ―Ｉの部分拡大断面図である。図１に示す投影型の静電容量タッチセンサー１０１は、１枚の透明基板１と、該透明基板１上に形成されるセンサ用電極１４とを備える。この透明基板１に設けられたセンサ用電極１４に、人間の指などの導電体が近づくことで発生する静電容量の変化を捉えてタッチ位置を検出する。容量変化によって指の近づきを検知するため、指が直接にセンサ用電極１４に触れる必要はない。

より具体的には、センサ用電極１４に指が近づくことにより、指とセンサ用電極１４との間に容量が形成され、その変化をフレキシブル基板（図示せず）を介して接続される静電容量センサ用ＩＣ（図示せず）が検知することによって、タッチ位置を検出する。センサ用電極１４とフレシブル基板とは、引き回し配線５によって接続されている。なお、静電容量センサ用ＩＣをフレキシブル基板上に搭載させてもよいし、透明基板１上に搭載させてもよい。

図１に示す例において、センサ用電極１４は、透明基板１の片側の面に、複数の第１電極パターンとしてのＸ電極パターン１０及び複数の第２電極パターンとしてのＹ電極パターン２０を有する。

Ｘ電極パターン１０は、図示で第１方向としてのＸ軸方向に沿って延在し、Ｙ軸方向に互いに間隔をあけて複数配列されている。Ｙ電極パターン２０は、図示で第２方向としてのＹ軸方向に沿って延在し、Ｘ軸方向に互いに間隔をあけて複数配列されている。なお、Ｘ電極パターン１０とＹ電極パターン２０は交差しているため、交差領域でＹ電極パターン２０は分断された形状で形成されている。

Ｘ電極パターン１０は、Ｘ軸方向に間隔をあけて配列された複数の第１島状電極部１２と、隣り合う第１島状電極部１２同士を接続する第１ブリッジ配線部１１とを一体の膜で有している。第１島状電極部１２は、平面視で矩形状に形成され、一方の対角線がＸ軸に沿うように配置されている。

Ｙ電極パターン２０は、Ｙ軸方向に間隔をあけて配列された複数の第２島状電極部２２を有している。第２島状電極部２２は、平面視で矩形状に形成され、一方の対角線がＹ軸に沿うように配置されている。第１島状電極部１２と第２島状電極部２２とは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向において互い違いに配置（市松状配置）されており、矩形状の第１，第２島状電極部１２，２２が平面視においてマトリクス状に配置されている。

また、第２電極パターン２０の隣接する第２島状電極部２２間及びその両岸上にのみ透明な絶縁膜３が形成されている。さらに、この絶縁膜３が両岸上に有する一対の貫通穴３ａ間を経由して、第２電極パターンの隣接する第２島状電極部２２の間に電気的に接続形成された第２ブリッジ配線３０部が第２電極パターン２０とは別体で形成されている（図２，図３参照）。なお、本発明において、第２ブリッジ配線部３０は、絶縁膜３を跨ぐ（すなわち上面を完全に横断する）のではなく、絶縁膜３上面の一対の貫通穴３ａ間及び貫通穴３ａ内のみに形成される。

このように第２ブリッジ配線部が、絶縁膜が有する一対の貫通穴間を経由して、第２電極パターンの隣接する第２島状電極部の間に電気的に接続形成されることによって、第２ブリッジ配線部のパターニング精度が高くなくても、第２ブリッジ配線部４の外縁ではなく、絶縁膜の貫通穴で第２島状電極部との接触面積が定められるため、一定の接触抵抗となる。すなわち、電気的接続性に優れたタッチセンサーを得ることができる。

また、引き回し配線５が、透明な基板１の周縁部に形成され、その一端がＸ電極パターン１０及びＹ電極パターン２０に接続され、Ｘ電極パターン１０及びＹ電極パターン２０で感知した信号を外部に送信できるようにしている。引き回し配線５の他端は、タッチセンサーの内部あるいは外部装置に設けられた駆動部及び電気信号変換／演算部（いずれも図示は省略）と接続されている。

透明基板１は、電気絶縁性の基板であって、例えば、ガラス基板や、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ＰＣ（ポリカードネート）フィルム、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルム、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）フィルムなどでよい。とくにＣＯＰフィルムは、光学等方性に優れているだけでなく、寸法安定性、延いては加工精度にも優れている点で好ましい。なお、透明基板１がガラス基板である場合、０．３ｍｍ〜３ｍｍの厚みであればよい。また、透明基板１が樹脂フィルムである場合、２０μｍ〜３ｍｍの厚みであればよい。

透明なＸ電極パターン１０及びＹ電極パターン２０を構成する材料としては、透明電導膜、例えば酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛・アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化インジウム・亜鉛（ＩＺＯ）などの金属酸化物である。また、透明導電膜は、厚みは数十から数百ｎｍ程度で形成され、後述する２ブリッジ配線部３０のパターニング形成の際に使用するエッチング液では容易にエッチングされないことが必要である。そして、８０％以上の光線透過率、数ｍΩから数百Ωの表面抵抗値を示すことが好ましい。

透明な絶縁膜３を構成する透明性の電気絶縁性物質としては、例えば、ＳｉＯ２などの無機材料やフォトリソ樹脂などの有機樹脂材料を用いることが可能である。また、絶縁膜３が有する貫通穴３ａの形状は、図２に示すように円形に限定されず、例えば、小判形や円形でもよく、さらに楕円形や、長方形，正方形、菱形など如何なる形状であってもよい。

本実施形態では、第２ブリッジ配線部３０及び引き回し配線５は、金属細線である。金属細線の材質は、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、クロム、チタン等の金属や、これら金属を組み合わせた合金からなるものを用いることができる。このうち、導電性が高く、加工が容易で、安価であるという観点から銅、アルミニウム、ニッケル等を用いるのが望ましい。

次に、本実施形態のタッチセンサー１０１の製造方法の一例について説明する。

まず、透明基板１の片側の面に、スパッタリング法などを用いて透明導電膜を成膜させ、成膜させた透明導電膜をフォトリソグラフィ技術などを利用してパターニングし、Ｘ軸方向に伸びる接続形状を有するＸ電極パターン１０とＹ軸方向に伸びる分断形状を有するＹ電極パターン２０とに加工することにより、センサ用電極１４を形成する。

次に、センサ用電極１４が形成されている透明基板１の同面（センサ用電極１４が形成されている面）に対してスピンコート法などを用いて透明な絶縁性材料を形成し、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより、センサ用電極１４のＸ電極パターン１０とＹ電極パターン２０とが交差することになる領域に、第２電極パターン２０の隣接する第２島状電極部２２間及びその両岸上にのみを覆うように透明な絶縁膜３をパターニングして形成する。

次に、透明な絶縁膜３が形成されている透明基板１の同面（絶縁膜３が形成されている面）に対してスパッタリング法などを用いて全体的に金属材料の導電物質を成膜しフォトリソグラフィ技術を用いて所定のパターン形状に形成する。すなわち、絶縁膜３が有する一対の貫通穴３ａ間を経由して、第２電極パターンの隣接する第２島状電極部２２の間を電気的に接続接続させる金属細線からなる第２ブリッジ配線部３０と、引き回し配線５とを同時に形成する。このように第２ブリッジ配線部３０と引き回し配線５とを同時に形成するので、工程数は少なくて済む。

[実施形態２]
本実施形態２のタッチセンサー１０２は、貫通穴３ａを有する透明な絶縁膜３を、実施形態１のように第２電極パターン２０の隣接する前記第２島状電極部２２間及びその両岸上のみに形成するのではなく、入力領域全体に形成した（図４参照）こと以外は、実施形態１と同じである。このように構成することによって、透明電極の表面を保護して信頼性を向上させることができる。

他方、前記実施形態１では、貫通穴３ａを有する透明な絶縁膜３は、第２電極パターン２０の隣接する第２島状電極部２２間及びその両岸上にのみ形成されるが、この場合、入力領域の視認性に優れているというメリットがある。

[実施形態３，４]
本実施形態３，４は、第２ブリッジ配線部３０及び引き回し配線５として、金属細線を黒色化したものを用いること以外は、上記各実施形態１，２と同じである。この場合、第２ブリッジ配線部３０に金属材料を用いても、黒色化によって反射しないので、透明電極パターンの交差領域に眩しくなる点状又は線状の高輝度部分が生じることがない。なお、従来技術として挙げた特許文献１にも、金属反射の防止する対策として交差領域の絶縁膜９に遮蔽性を持たせることが記載されている。しかしながら、遮蔽性を有する絶縁膜９の幅広い遮光による視認性の劣化、すなわち透明電極パターンの交差領域に点灯画素を常時遮光する黒色部分が点状又は線状に生じて液晶画面表示の妨げになるという新たな問題が生ずる。これに対して、本実施形態３では、絶縁膜の幅ではなく黒色化されたブリッジ配線部の幅で遮光するので、透明電極パターンの交差領域に液晶画面表示が見えにくくなる点状又は線状の黒色部分が目立つこともない。

金属細線の黒色化は、黒色めっきによるものとすることができる。例えば、黒色ニッケルメッキ処理、クロメートメッキ処理などや、スズ、ニッケルおよび銅を用いる黒色三元合金メッキ処理、スズ、ニッケルおよびモリブデンを用いる黒色三元合金メッキ処理などを施せばよい。

また、金属細線の黒色化は、電着塗装によるものとすることもできる。黒色の電着塗装では、黒色顔料が電着樹脂に分散された黒色塗料を用いる。黒色顔料としてはカーボンブラックなどが挙げられ、導電性を有する黒色顔料が好ましい。また、電着樹脂としては、アニオン系樹脂であってもよいしカチオン系樹脂であってもよく、具体的にはアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる、これらの電着樹脂はそれぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。

また、金属細線の黒色化は、硫化処理や酸化処理といった化成処理によるものとすることもできる。硫化処理や酸化処理は公知の方法で行うことができる。

なお、本明細書において、黒色化の「黒色」は、明度がＬ^＊で１〜２０、色度がａ^＊、ｂ^＊で各＋５から−５であるものが好ましい。明度と色度は、色彩式差計により測定され、本明細書では、明度及び色度を、国際照明委員会（ＣＩＥ）規定のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系（ＪＩＳ Ｚ ８７２９にも採用されている）で規定する。明度は値が小さいほど黒く光を反射せずに見え難いことを意味し、理論的な最小値は０である。色度は色度図上の座標を表し、色相と彩度を表す。Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系において、ａ^＊ｂ^＊の値が共に０の座標は理論的な無彩色を表す。明度がＬ^＊で１〜２０の範囲では、金属細線の表面は黒く、差異を肉眼で識別することは困難である。明度はＬ^＊での値が低いほど好ましいが、通常、１０〜２０でも目的とする効果が得られる。一方、色度がａ^＊、ｂ^＊で各々＋５から−５であると、肉眼では色相の識別が困難である。ａ^＊が＋５を超えると金属細線が赤系色に見え、−５未満では緑系に見え、ｂ^＊が＋５を超えると黄系に、−５未満では青系に見える。ａ^＊のより好ましい範囲は、＋４〜−２であり、ｂ^＊のより好ましい範囲は＋２〜−５である。

このように金属細線からなる第２ブリッジ配線部３０及び引き回し配線５を金属細線を黒色化したもので構成することによって、金属細線からなる第２ブリッジ配線部３０が反射しないので、Ｘ電極パターン１０及びＹ電極パターン２０の交差領域に眩しくなる点状又は線状の高輝度部分が生じることがない。また、図２に示すように、絶縁膜の幅ではなく金属細線からなる第２ブリッジ配線部３０の幅で遮光するので、Ｘ電極パターン１０及びＹ電極パターン２０の交差領域に液晶画面表示が見えにくくなる点状又は線状の黒色部分が目立つこともない。

なお、本実施形態３，４のタッチセンサーの製造工程において、金属細線の黒色化は、透明な絶縁膜３が形成されている透明基板１の同面（絶縁膜３が形成されている面）に対してスパッタリング法などを用いて全体的に金属材料の導電物質を成膜した後に行い、その後、この黒色化した金属膜をフォトリソグラフィ技術を用いて所定のパターン形状に形成するとよい。

[実施形態５]
本実施形態５では、引き回し配線５の材料に、上記各実施形態のように金属細線からなる第２ブリッジ配線部３０と同じ材料ではなく、別の材料を用いる。例えば、銀ペーストなどのスクリーン印刷によって、引き回し配線５を形成することもできる。この場合、実施形態１〜４と比べて、第２ブリッジ配線部３０に不適な材料でも引き回し配線５に用いることができ、材料選択の幅が広がるという利点がある。また、厚く形成するなどの厚み調整も可能である。

[変化例]
なお、本発明は、上記各実施形態に限定されない。例えば、透明基板１が樹脂フィルムである場合、λ／４の位相差を与えるものであってもよい。ここで、λ／４の位相差を与えるとは、理想的には可視光領域の全ての波長に対してλ／４の位相差を与えるという意味である。しかし波長５５０ｎｍにおける位相差がλ／４であれば他の波長での位相差が多少λ／４からずれていても実用上は問題ない。波長５５０ｎｍにおけるリターデーション値（Δｎｄ）は１２５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１３１〜１４５ｎｍであることがより好ましい。

また、透明基板１が樹脂フィルムは、λ／４位相差フィルム単層に限らない。例えば、λ／４位相差フィルムと光学等方性フィルムとを接着した積層体であってもよい。光学等方性フィルムとしては、例えばリターデーション（Δｎｄ）値が３０ｎｍ以下のものである。さらには、λ／２位相差フィルムとλ／４位相差フィルムとを接着した積層体を透明基板１が樹脂フィルムに用いてもよい。

また、透明導電膜は、前記した金属酸化物をスパッタリングした膜以外に、ＰＥＤＯＴ：ｐｏｌｙ(３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ)などの導電性ポリマー膜、カーボンナノチューブやカーボンナノホーン、カーボンナノワイヤ、カーボンナノファイバー、グラファイトフィブリルなどの極細導電炭素繊維や銀素材からなる極細導電繊維をバインダーとして機能するポリマー材料に分散させた膜を、各種印刷法や塗布法、インクジェットなどで形成したものでもよい。これらは可撓性に優れており、透明基板１が樹脂フィルムである場合、静電容量タッチセンサー１０を２．５次元曲面又は３次元曲面に沿わせて貼り付けることができる。

また、第２ブリッジ配線部３０の材料としては、透明な材料を用いてもよい。例えば、前段落のチオフェンなどの導電性ポリマー膜、金属ナノワイヤーやカーボンナノチューブなどを含む導電繊維膜を、各種印刷法や塗布法、インクジェットなどで形成する。透明基板１のセンサ用電極１４、絶縁膜３だけでなく第２ブリッジ配線部３０も含め全て透明であることにより、入力領域の視認性が格段に向上する。

また、引き回し配線５は、センサ用電極１４と同じ材料であってもよく、この場合、センサ用電極１４と引き回し配線５とを同時に形成することができる。さらに、引き回し配線５は、センサ用電極１４と同じ材料からなる層と別の材料からなる層との多層膜であってもよい。

また、透明基板１のセンサ用電極１４、絶縁膜３、第２ブリッジ配線部３０、引き回し配線５が形成された面に、さらに保護層（図示せず）を形成してもよい。例えば、マスクを使用してスパッタリング法によりＳｉＯ２材料の膜を形成すればよい。ＳｉＯ２膜は、例えば、引き回し配線５とフレキシブル基板とが接続される接続部を除いた全面に形成する。

また、本発明の投影型の静電容量タッチセンサーは、自己静電容量(Ｓｅｌｆ Ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ)方式、相互静電容量(Ｍｕｔｕａｌ Ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ)方式のいずれでもよい。上記各実施形態のタッチセンサー１０１，１０２では、第１電極パターンとしてのＸ電極パターン１０、第２電極パターンとしてのＹ電極パターン２０を有するように構成されているが、逆に第１電極パターンとしてのＹ電極パターン、第２電極パターンとしてのＸ電極パターン２０有するように構成してもよい。

また、本発明の投影型の静電容量タッチセンサーは、さらに前面に偏光板を備えるようにしてもよい。この構成のタッチセンサーをカラーフィルター上に配置すれば、偏光板とカラーフィルターとの間にタッチパネル機能を内蔵する、いわゆる「Ｏｎ−Ｃｅｌｌ型」と呼ばれる液晶表示装置となる。

本発明の技術内容および技術的特徴は上記のように開示したが、本発明が属する技術分野における当業者であれば、本発明の教示および開示に基づいて、本発明の技術的思想に違わない様々な置換および付加を行うことは可能である。したがって、本発明の保護範囲は実施例に開示するものに限定されることなく、本発明に違わない様々な置換および付加が含まれるものであるとともに、別紙の特許請求の範囲に含まれるものである。

１ 透明基板
３ 絶縁膜（透明）
３ａ 貫通穴
４ 第２ブリッジ配線部（反射）
９ 絶縁膜（遮蔽）
１４，９２ センサ用電極
５ 引き回し配線
１０ Ｘ電極パターン
１１，２０２ 第１ブリッジ配線部
１２，２０１_ｃ，２０１_ｄ 第１島状電極部
１３，２３ 接続部
２０ Ｙ電極パターン
２２，２０１_ａ，２０１_ｂ 第２島状電極部
３０ 第２ブリッジ配線部
７１，１０１，１０２ タッチセンサー

Claims (9)

1. 透明な基板の一面上に形成され、互いに交差する方向に延在する複数の透明な第１電極パターン及び複数の透明な第２電極パターンを有するタッチセンサーであって、
   前記第１電極パターンは、
   前記基板上の第１方向に間隔をあけて形成された複数の第１島状電極部と、
   隣接する前記第１島状電極部の間に電気的に接続形成された第１ブリッジ配線部と、を有し、
   前記第２電極パターンは、
   前記基板上であって、前記第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて形成された複数の第２島状電極部を有し、
   さらに、少なくとも前記第２電極パターンの隣接する前記第２島状電極部間及びその両岸上に透明な絶縁膜が形成され、
   前記絶縁膜が前記両岸上に有する一対の貫通穴間を経由して、前記第２電極パターンの隣接する前記第２島状電極部の間に電気的に接続形成された第２ブリッジ配線部が前記第２電極パターンとは別体で形成されていることを特徴とするタッチセンサー。
2. 前記絶縁膜が、入力領域全体に形成されたものである請求項１記載のタッチセンサー。
3. 前記絶縁膜が、前記第２電極パターンの隣接する前記第２島状電極部間及びその両岸上のみに形成されたものである請求項１記載のタッチセンサー。
4. 前記第２ブリッジ配線部が、金属細線を黒色化したものである請求項１〜３のいずれかに記載のタッチセンサー。
5. 前記金属細線の黒色化が、黒色めっきによるものである請求項４に記載のタッチセンサー。
6. 前記金属細線の黒色化が、電着塗装によるものである請求項４に記載のタッチセンサー。
7. 前記金属細線の黒色化が、化成処理によるものである請求項４に記載のタッチセンサー。
8. 前記金属細線が、銅、アルミニウム、ニッケルのいずれかである請求項４〜７のいずれかに記載のタッチセンサー。
9. さらに前面に偏光板を備える請求項１〜８のいずれかに記載のタッチセンサー。
   

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