JP2011138863A - Substrate housing container - Google Patents
Substrate housing container Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011138863A JP2011138863A JP2009296839A JP2009296839A JP2011138863A JP 2011138863 A JP2011138863 A JP 2011138863A JP 2009296839 A JP2009296839 A JP 2009296839A JP 2009296839 A JP2009296839 A JP 2009296839A JP 2011138863 A JP2011138863 A JP 2011138863A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support
- jig
- substrate
- glass wafer
- container body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本発明は、ガラスウェーハ、半導体ウェーハ、マスクガラス等の基板を収納、支持、保管、搬送、輸送等する際に使用される基板収納容器に関するものである。 The present invention relates to a substrate storage container used when a substrate such as a glass wafer, a semiconductor wafer, or a mask glass is stored, supported, stored, transported, transported, or the like.
従来の基板収納容器は、図示しないが、複数枚の半導体ウェーハを収納するフロントオープンボックスの容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する着脱自在の蓋体とを備え、容器本体の内部両側に、半導体ウェーハを水平に支持する支持体がそれぞれ配設されている。 Although not shown, a conventional substrate storage container includes a container body of a front open box that stores a plurality of semiconductor wafers, and a detachable lid that opens and closes the front surface of the container body. Supports for horizontally supporting the semiconductor wafer are disposed on both sides.
ところで現在、半導体業界で多く使用されている半導体ウェーハ(例えば、φ200mmで厚さ725μmのシリコンウェーハやφ300mmで厚さ775μmのシリコンウェーハ等)は、表面に電子回路が形成され、裏面が研削された後、半導体部品として使用される肉厚、例えば通常の肉厚の半分以下である50μm〜300μmまで薄く加工されることがある。このため、係る薄い半導体ウェーハを基板収納容器の容器本体に収納して保管したり、搬送する必要がある。 By the way, a semiconductor wafer (for example, a silicon wafer of φ200 mm and a thickness of 725 μm or a silicon wafer of φ300 mm and a thickness of 775 μm) used in the semiconductor industry has an electronic circuit formed on the surface and the back surface is ground. Thereafter, it may be processed thinly to a thickness used as a semiconductor component, for example, 50 μm to 300 μm, which is less than half the normal thickness. For this reason, it is necessary to store and transport such thin semiconductor wafers in the container body of the substrate storage container.
一方、CCDセンサ、CMOSセンサ、光学フィルター等に使用されているガラスウェーハは、φ300mmで厚さ350〜500μm程度のタイプが使用されている。こうしたガラスウェーハは、自重による撓みが大きく、弓なりに変形すると、保管や取り扱いに問題が生じるので、撓みを別体の治具により規制する方法が提案されている(特許文献1、2参照)。 On the other hand, glass wafers used for CCD sensors, CMOS sensors, optical filters, etc. are of the type having a diameter of 300 mm and a thickness of about 350 to 500 μm. Such a glass wafer is greatly bent by its own weight, and if it is deformed like a bow, a problem arises in storage and handling. Therefore, a method of restricting the bending with a separate jig has been proposed (see Patent Documents 1 and 2).
例えば、特許文献1に開示されているウェーハ収納カセットの場合には、複数のウェーハの支持部にウェーハ保持部が挿入して使用される技術が提案されている。また、特許文献2の場合には、ウェーハキャリアの複数のスロットに挿入体を摩擦係合させ、この挿入体に形成された直線的な突起により薄いウェーハを支持する技術が提示されている。
For example, in the case of the wafer storage cassette disclosed in Patent Document 1, a technique has been proposed in which a wafer holding unit is inserted into a support unit for a plurality of wafers. In
しかしながら、特許文献1に開示されているウェーハ収納カセットの場合には、ウェーハ保持部が平坦に形成されているので、ウェーハとの接触面積が拡大し、擦れてウェーハの汚染を招くおそれがある。また、ウェーハ保持部が位置ずれすることがあるので、ウェーハを高精度に支持することができないという問題もある。 However, in the case of the wafer storage cassette disclosed in Patent Document 1, since the wafer holding portion is formed flat, the contact area with the wafer is enlarged and may be rubbed to cause contamination of the wafer. In addition, since the wafer holding part may be displaced, there is a problem that the wafer cannot be supported with high accuracy.
また、特許文献2の場合には、ウェーハキャリアの複数のスロットに挿入体が摩擦係合するので、この摩擦係合によりウェーハが汚染するおそれがある。さらに、複数のスロットに挿入体が予め固定される必要があるので、挿入体が不要な場合、例えば通常のウェーハを支持する場合等に、複数のスロットから挿入体を取り外すことが容易でなく、結果として作業の複雑化や煩雑化を招くという問題がある。
In the case of
本発明は上記に鑑みなされたもので、基板の汚染のおそれを排除し、基板を高精度に支持することができ、しかも、基板に関する作業の簡素化や容易化を図ることのできる基板収納容器を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above, eliminates the possibility of contamination of the substrate, can support the substrate with high accuracy, and can simplify and facilitate the work related to the substrate. The purpose is to provide.
本発明においては上記課題を解決するため、基板を収納するフロントオープンボックスの容器本体と、この容器本体に収納されて基板をサポートするサポート治具とを備え、容器本体の内部側方に、基板とサポート治具とを略水平に支持可能な支持体を設けたものであって、
支持体は、容器本体の前後方向に伸びて基板を支持する支持片を含み、この支持片の前部に、基板の飛び出しを規制する段差部を形成し、支持片の後部には、基板の収納位置を規制する位置規制部を形成し、
サポート治具は、基板に容器本体の上下方向から対向する板形の治具本体と、この治具本体に形成されて容器本体の上下方向に曲がる屈曲支持部と、治具本体の側端部に突出形成されて支持体の支持片に支持される平坦なレールとを含み、支持体の段差部と位置規制部とに挟まれることを特徴としている。
In the present invention, in order to solve the above-mentioned problem, a container body of a front open box that accommodates a substrate and a support jig that is accommodated in the container body and supports the substrate are provided. And a support body capable of supporting the support jig substantially horizontally,
The support includes a support piece that extends in the front-rear direction of the container body and supports the substrate. A stepped portion that restricts protrusion of the substrate is formed at a front portion of the support piece, and a rear portion of the substrate is formed at the rear portion of the support piece. Form a position restricting part that restricts the storage position,
The support jig includes a plate-shaped jig body that faces the substrate from the vertical direction of the container body, a bent support portion that is formed on the jig body and bends in the vertical direction of the container body, and a side end portion of the jig body. And a flat rail supported by a support piece of the support, and is sandwiched between a step portion and a position restricting portion of the support.
なお、サポート治具の少なくとも一部を弾性の材料により形成するか、あるいはレールに吸振層を積層することができる。
また、サポート治具の治具本体を連続した断面略波形に形成し、この治具本体の中央部を下方に突出する屈曲支持部とするとともに、両側部をそれぞれ上方に突出する屈曲支持部とし、これらの屈曲支持部に、基板と接触可能な突起を形成することができる。
Note that at least a part of the support jig can be formed of an elastic material, or a vibration absorbing layer can be laminated on the rail.
In addition, the jig body of the support jig is formed in a continuous substantially waveform, and the central part of the jig body is a bent support part protruding downward, and both side parts are bent support parts protruding upward. The protrusions that can come into contact with the substrate can be formed on these bent support portions.
また、サポート治具の治具本体の前部を平面略円弧形に形成してその周縁には補強リブを形成し、治具本体の後部を直線的に形成してその両側には支持体の位置規制部に干渉する回転規制部をそれぞれ形成することもできる。 In addition, the front part of the jig body of the support jig is formed in a substantially circular arc shape, reinforcing ribs are formed on the periphery thereof, the rear part of the jig body is formed linearly, and support bodies are formed on both sides thereof. A rotation restricting portion that interferes with the position restricting portion can be formed.
ここで、特許請求の範囲における基板には、少なくとも薄く脆く割れ易い単数複数のガラスウェーハ、半導体ウェーハ、マスクガラス等が含まれる。容器本体は、透明、不透明、半透明のいずれでも良い。また、サポート治具の屈曲支持部は、少なくとも一つあれば良い。突起は、単数複数いずれでも良い。 Here, the substrate in the claims includes at least one glass wafer, a semiconductor wafer, a mask glass and the like that are thin and brittle and easily broken. The container body may be transparent, opaque, or translucent. Further, it is sufficient that the support jig has at least one bent support portion. The projection may be a single or plural.
本発明によれば、基板収納容器の容器本体に基板を収納する場合には、容器本体に、基板とサポート治具とを支持体の支持片を介し収納支持させ、基板の下方にサポート治具の治具本体を位置させてその屈曲支持部に基板を支持させれば、例え基板が薄く脆く撓み易い場合でも、基板の変形を抑制して収納することができる。 According to the present invention, when a substrate is stored in the container main body of the substrate storage container, the container main body stores and supports the substrate and the support jig via the support piece of the support, and the support jig is provided below the substrate. If the jig body is positioned and the substrate is supported by the bending support portion, even if the substrate is thin and fragile and easily bent, the substrate can be stored while suppressing deformation of the substrate.
本発明によれば、基板の汚染のおそれを有効に排除し、基板を高精度に支持することができ、しかも、基板に関する作業の簡素化や容易化を図ることができるという効果がある。
また、サポート治具の少なくとも一部を弾性の材料により形成するか、あるいはレールに吸振層を積層すれば、基板収納容器の移動に伴う振動や衝撃を緩和することができる。
According to the present invention, there is an effect that the possibility of contamination of the substrate can be effectively eliminated, the substrate can be supported with high accuracy, and the work relating to the substrate can be simplified and facilitated.
Further, if at least a part of the support jig is formed of an elastic material, or if a vibration absorbing layer is laminated on the rail, vibrations and impacts associated with the movement of the substrate storage container can be mitigated.
また、サポート治具の治具本体を連続した断面略波形に形成し、この治具本体の中央部を下方に突出する屈曲支持部とするとともに、両側部をそれぞれ上方に突出する屈曲支持部とし、これらの屈曲支持部に、基板と接触可能な突起を形成すれば、治具本体の剛性を向上させたり、基板との接触面積を減少させつつ、撓みを低減させながら基板を支持することができる。また、サポート治具の下方に位置する基板が撓んだ場合に、下方に突き出た屈曲支持部の突起により、撓んだ基板のそれ以上の過剰な撓みを規制することが可能となる。 In addition, the jig body of the support jig is formed in a continuous substantially waveform, and the central part of the jig body is a bent support part protruding downward, and both side parts are bent support parts protruding upward. By forming protrusions that can come into contact with the substrate on these bent support portions, it is possible to support the substrate while reducing the flexure while improving the rigidity of the jig body or reducing the contact area with the substrate. it can. Further, when the substrate located below the support jig is bent, the excessive bending of the bent substrate can be restricted by the protrusion of the bending support portion protruding downward.
さらに、サポート治具の治具本体の前部を平面略円弧形に形成してその周縁には補強リブを形成し、治具本体の後部を直線的に形成してその両側には支持体の位置規制部に干渉する回転規制部をそれぞれ形成すれば、治具本体の強度を高めたり、治具本体の位置ずれや回転を防ぐことが可能となる。 Furthermore, the front part of the jig body of the support jig is formed in a substantially circular arc shape, reinforcing ribs are formed on the periphery thereof, the rear part of the jig body is formed linearly, and support bodies are formed on both sides thereof. If the rotation restricting portions that interfere with the position restricting portion are respectively formed, it is possible to increase the strength of the jig body or prevent the position and rotation of the jig body.
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明すると、本実施形態における基板収納容器は、図1ないし図6に示すように、複数枚のガラスウェーハWを収納する容器本体1と、この容器本体1の開口した正面を開閉する蓋体10と、容器本体1に収納されてガラスウェーハWをサポートするサポート治具30とを備え、容器本体1の内部両側に、ガラスウェーハWとサポート治具30とを水平にそれぞれ支持可能な支持体5を配設するようにしている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 6, a substrate storage container in the present embodiment includes a container main body 1 for storing a plurality of glass wafers W, A
ガラスウェーハWは、図1に示すように、例えばφ300mmの薄く丸い円板に形成され、自重により上下に弓なりに撓みやすいという特徴を有しており、容器本体1内に水平に挿入されてその上下方向に所定の枚数が並べて収納される。 As shown in FIG. 1, the glass wafer W is formed, for example, in a thin, round disk having a diameter of 300 mm, and has a feature that it is easily bent up and down by its own weight, and is inserted into the container body 1 horizontally. A predetermined number of sheets are stored side by side in the vertical direction.
容器本体1と蓋体10とは、所定の樹脂を含有する成形材料により複数の部品がそれぞれ射出成形され、この複数の部品の組み合わせで構成される。この成形材料の所定の樹脂としては、例えば力学的性質や耐熱性等に優れるポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、液晶ポリマー、あるいは環状オレフィン樹脂等があげられる。所定の樹脂には、カーボン、カーボン繊維、金属繊維、カーボンナノチューブ、導電性ポリマー、帯電防止剤、又は難燃剤等が必要に応じて選択的に添加される。
The container body 1 and the
容器本体1は、正面の開口したフロントオープンボックスタイプに形成され、開口した正面を水平横方向に向けた状態で半導体加工装置や気体置換装置上に位置決めして搭載されたり、洗浄槽の洗浄液により洗浄される。この容器本体1の底板の前部両側と後部中央とには、基板収納容器、具体的には容器本体1を位置決めする位置決め具がそれぞれ装着される。また、容器本体1の底板には、複数の位置決め具をそれぞれ露出させるボトムプレートが水平に装着される。 The container body 1 is formed in a front open box type with an open front, and is positioned and mounted on a semiconductor processing device or a gas replacement device with the opened front facing in a horizontal horizontal direction, or by a cleaning liquid in a cleaning tank. Washed. A substrate storage container, specifically, a positioning tool for positioning the container body 1 is mounted on both the front side and the rear center of the bottom plate of the container body 1. Further, a bottom plate that exposes the plurality of positioning tools is horizontally mounted on the bottom plate of the container body 1.
容器本体1の天板の中央部には、工場の天井搬送機構に把持される搬送用のトップフランジが着脱自在に装着される。また、容器本体1の背面壁の内面両側には、ガラスウェーハWの後部周縁を保持するリアリテーナ2が配列される。また、容器本体1の正面は、周縁から外方向に張り出すリムフランジ3が膨出形成され、このリムフランジ3内に着脱自在の蓋体10が図示しない蓋体開閉装置により圧入して嵌合される。このリムフランジ3の内周面の上下両側部には、蓋体10用の係止穴4がそれぞれ穿孔される。
At the center of the top plate of the container main body 1, a transport top flange gripped by a factory ceiling transport mechanism is detachably mounted. Further,
各支持体5は、所定の樹脂、例えば滑り性に優れるポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、あるいはCOP等を含有する成形材料により射出成形される。この成形材料には、カーボン繊維、金属繊維、カーボンナノチューブ、導電性ポリマー、導電性の付与された樹脂等が必要に応じて添加される。
Each
支持体5は、容器本体1の側壁内面に着脱自在に装着される取付板6を備え、この取付板6からガラスウェーハWを水平に支持する複数の支持片7が並べて突出し、各支持片7の表面前部には、ガラスウェーハWに接触してその飛び出しを規制する段差部8が形成されるとともに、各支持片7の表面後部には、ガラスウェーハWに接触してその挿入限度や収納位置を規制する位置規制壁9が形成される。各支持片7は、ガラスウェーハWの側部周縁に沿うよう平面円弧形の板に湾曲形成され、容器本体1の前後方向に伸びるとともに、容器本体1の内方向に水平に突出する。
The
蓋体10は、図1に示すように、容器本体1の開口した正面内にガスケット15を介して嵌合する筐体11と、この筐体11の開口した表面(正面)を被覆する表面プレート16と、これら筐体11と表面プレート16との間に介在される施錠機構18とを備えて構成される。筐体11は、基本的には枠形の周壁を備えた浅底の断面略皿形に形成され、中央部と周壁の左右両側部との間に施錠機構18用の設置空間がそれぞれ区画形成される。この筐体11の周壁の上下両側部には、施錠機構18用の貫通孔12がそれぞれ穿孔され、各貫通孔12が容器本体1のリムフランジ3の係止穴4に対向する。
As shown in FIG. 1, the
筐体11の裏面両側部には、ガラスウェーハWを弾発的に保持するフロントリテーナ13がそれぞれ着脱自在に装着される。各フロントリテーナ13は、筐体11の裏面に着脱自在に装着され、かつ施錠機構18の後方に位置して蓋体10の変形を防止する枠体を備え、この枠体には、分岐しながら容器本体1の背面壁方向に伸びる弾性片14が上下に並べて一体形成されており、各弾性片14には、ガラスウェーハWの前部周縁をU字溝又はV溝により保持する小さな保持ブロックが一体形成される。
A
筐体11の裏面周縁部には枠形の嵌合溝が形成され、この嵌合溝にはリップタイプのガスケット15が密嵌されており、このガスケット15が容器本体1のリムフランジ3内周に圧接して変形する。このガスケット15は、例えば耐熱性や耐候性等に優れるフッ素ゴム、シリコーンゴム、各種の熱可塑性エラストマー(例えば、オレフィン系、ポリエステル系、ポリスチレン系等)等を成形材料として弾性変形可能な枠形に成形される。また、表面プレート16は、筐体11の開口した表面に対応する平板に形成され、左右両側部には、施錠機構18用の操作口17がそれぞれ穿孔される。
A frame-shaped fitting groove is formed on the peripheral edge of the back surface of the
施錠機構18は、表面プレート16の操作口17を貫通した蓋体開閉装置の操作ピンに回転操作される左右一対の回転プレート19と、各回転プレート19の回転に伴い上下方向にスライドする複数のスライドプレート20と、各スライドプレート20のスライドに伴い筐体11から突出して容器本体1の係止穴4に係止する複数の係止爪21とを備えて構成され、フロントリテーナ13の前方に位置する。
The
サポート治具30は、所定の樹脂等を含有する成形材料により成形されるが、輸送時の振動を抑制したい場合には、全部又は少なくとも一部が弾性の材料により形成される。成形材料の所定の樹脂等としては、例えば弾性や滑り性を有するポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトンやポリエステル系、ポリオレフィン系の各種熱可塑性エラストマー等があげられる。
The
成形材料の所定の樹脂等には、カーボン繊維、カーボンパウダー、カーボンナノチューブ等が導電性を得る観点から適宜添加される。また、剛性の向上を図る場合には、ガラス繊維が添加されたり、摺動性を向上させる場合には、フッ素系樹脂やマイカ等が選択的に配合される。 Carbon fibers, carbon powder, carbon nanotubes, and the like are appropriately added to the predetermined resin of the molding material from the viewpoint of obtaining conductivity. Moreover, when improving a rigidity, a glass fiber is added, and when improving sliding property, a fluorine resin, mica, etc. are selectively mix | blended.
サポート治具30は、図1ないし図6に示すように、ガラスウェーハWに容器本体1の下方向から対向する板形の治具本体31と、この治具本体31に形成されて容器本体1の上下方向に湾曲するガラスウェーハW用の複数の屈曲支持部32・32Aと、治具本体31の両側端部にそれぞれ突出形成されて支持体5の支持片7に水平に支持される平坦なレール36とを備えて形成され、支持片7の段差部8と位置規制壁9との間に着脱自在に挟持されてガラスウェーハWの挿入方向(容器本体1の前後方向)の位置ずれを規制するよう機能する。
As shown in FIGS. 1 to 6, the
治具本体31は、図2や図3に示すように、剛性を向上させる観点から、水平面に対して上下方向に湾曲し、かつ左右方向に連続する断面略波形に湾曲形成され、中央部が下方に滑らかに突出してガラスウェーハWとの間に隙間を区画する屈曲支持部32に形成されるとともに、両側部がそれぞれ上方に滑らかに突出する屈曲支持部32Aに形成されており、これらの各屈曲支持部32・32Aの表裏面に、ガラスウェーハWと接触可能な突起33・33Aがそれぞれ形成される。
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the
突き出た両側の屈曲支持部32Aの表面に位置する突起33Aは、図2に示すように、均等に3個あるいは4個配置されることにより、ガラスウェーハWの裏面に接触してその撓みを低減しながら支持するよう機能する。これに対し、上方が凹み、下方に突き出た屈曲支持部32の裏面に位置する突起33は、サポート治具30の直下に位置するガラスウェーハWが振動や衝撃等で大きく上方に撓んだ場合に弾性的に干渉・接触し、撓んだガラスウェーハWのそれ以上の過剰な撓みを抑制する。各突起33・33Aは、例えば平面円形に形成され、屈曲支持部32・32Aの表面前後部あるいは裏面中央部から略垂直に突出する。
As shown in FIG. 2, three or four
治具本体31の前部は、ガラスウェーハWの前部周縁に対応するよう平面円弧形に湾曲形成され、周縁には上下方向に伸びる補強リブ34が一体形成されており、この補強リブ34により撓みや変形が防止される。また、治具本体31の後部は、ガラスウェーハWの挿入方向と垂直に交わる直線形に形成され、両側には、対向する支持体5の位置規制壁9に係合する回転規制部35がそれぞれ丸く面取り形成される。各回転規制部35は、レール36の後方に位置し、位置規制壁9との擦れを回避しつつ位置ずれを規制する。
The front portion of the
各レール36は、サポート治具30の前後方向に平板形に伸長形成され、輸送時の振動を緩和したい場合には、裏面に各種のフィルムやシートからなる吸振層が選択的に貼着される。このレール36は、支持体5の支持片7との接触面積を縮小する観点から、治具本体31の前後方向の長さよりも短く形成される。
Each
上記構成において、基板収納容器の容器本体1に撓みやすいガラスウェーハWを収納する場合には、先ず、容器本体1にサポート治具30を対向する一対の支持体5の支持片7を介し着脱自在に支持させ、支持片7の段差部8と位置規制壁9との間にサポート治具30の治具本体31を挟持させる。
In the above configuration, when a glass wafer W that is easily bent is stored in the container main body 1 of the substrate storage container, first, the
こうして容器本体1にサポート治具30を収納したら、容器本体1にガラスウェーハWを支持体5の支持片7を介し水平に支持させ、ガラスウェーハWの直下にサポート治具30を位置させてその屈曲支持部32Aの複数の突起33AにガラスウェーハWを点接触によりそれぞれ支持させれば、ガラスウェーハWの変形を抑制して安全に収納することができる。
When the
容器本体1にガラスウェーハWを収納したら、容器本体1の開口した正面に蓋体10を蓋体開閉装置により圧入してシール状態に嵌合し、蓋体10のフロントリテーナ13にガラスウェーハWの前部周縁を保持させれば、ガラスウェーハWを安全に搬送したり、輸送することができる。この際、サポート治具30によりガラスウェーハWの撓みが少ないので、蓋体10のフロントリテーナ13にガラスウェーハWの前部周縁を確実に保持させることができる。
When the glass wafer W is stored in the container body 1, the
上記構成によれば、各屈曲支持部32Aが平坦ではなく、湾曲形成されてその複数の突起33AがガラスウェーハWを点接触により支持するので、ガラスウェーハWとの接触面積を大幅に縮小することができ、擦れに伴うガラスウェーハWの汚染のおそれを有効に排除することができる。また、サポート治具30の回転規制部35が位置ずれを確実に規制するので、ガラスウェーハWを高精度に支持することができる。
According to the above configuration, each of the bending
また、左右一対のレール36が治具本体31の前後方向の長さよりも短いので、支持片7との摩擦係合領域が少なく、ガラスウェーハWの汚染のおそれを払拭することができる。また、サポート治具30が不要な場合、例えば通常の厚さのウェーハを支持する場合等には、左右一対の支持体5間からサポート治具30を簡単に取り外すことができるので、ガラスウェーハWの出し入れ作業の複雑化や煩雑化を防止することが可能となる。
Further, since the pair of left and
また、治具本体31の中央部の屈曲支持部32を下方に凹ませ、両側部の屈曲支持部32Aを上方に突出させるので、治具本体31の中央部をハンドリング用のロボットで簡易にリフトアップすることが可能となる。また、治具本体31の中央部に位置する屈曲支持部32がガラスウェーハWの裏面との間に作業用の隙間を形成するので、この隙間にハンドリング用のロボットのアームを挿入してガラスウェーハWをローディングしたり、アンローディングすることが可能となる。
Further, since the bending
さらに、屈曲支持部32の裏面に位置する突起33は、直下に位置するガラスウェーハWが上方に弓なりに撓むのを抑制するので、上方に位置するガラスウェーハWの他、下方に位置するガラスウェーハWの安全な保持も大いに期待できる。
Furthermore, since the
なお、上記実施形態ではサポート治具30を成形材料により成形したが、このサポート治具30の表裏面には、導電性や耐擦傷性を得る観点から、π電子共役結合を有するポリチオフェンやポリピロール等の導電性ポリマーやダイヤモンドライクコーティング等をそれぞれコーテインングしても良い。
In the above embodiment, the
また、上記実施形態の治具本体31を断面略波形に湾曲形成し、中央部を上方に滑らかに突出する屈曲支持部32・32Aに形成するとともに、両側部をそれぞれ下方に突出する屈曲支持部32・32Aに形成しても良い。さらに、上記実施形態では突起33・33Aを平面円形に形成したが、何らこれに限定されるものではない。例えば、突起33・33Aを平面楕円形、矩形、多角形等に適宜形成しても良いし、上端部が半球形に湾曲したピン形等に形成しても良い。
In addition, the
1 容器本体
5 支持体
7 支持片
8 段差部
9 位置規制壁
10 蓋体
11 筐体
13 フロントリテーナ
16 表面プレート
18 施錠機構
30 サポート治具
31 治具本体
32 屈曲支持部
32A 屈曲支持部
33 突起
33A 突起
34 補強リブ
35 回転規制部
36 レール
W ガラスウェーハ(基板)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (4)
支持体は、容器本体の前後方向に伸びて基板を支持する支持片を含み、この支持片の前部に、基板の飛び出しを規制する段差部を形成し、支持片の後部には、基板の収納位置を規制する位置規制部を形成し、
サポート治具は、基板に容器本体の上下方向から対向する板形の治具本体と、この治具本体に形成されて容器本体の上下方向に曲がる屈曲支持部と、治具本体の側端部に突出形成されて支持体の支持片に支持される平坦なレールとを含み、支持体の段差部と位置規制部とに挟まれることを特徴とする基板収納容器。 Equipped with a front open box container body that stores the substrate and a support jig that supports the substrate that is housed in the container body, and the substrate and support jig can be supported substantially horizontally on the inside of the container body. A substrate storage container provided with a support,
The support includes a support piece that extends in the front-rear direction of the container body and supports the substrate. A stepped portion that restricts protrusion of the substrate is formed at a front portion of the support piece, and a rear portion of the substrate is formed at the rear portion of the support piece. Form a position restricting part that restricts the storage position,
The support jig includes a plate-shaped jig body that faces the substrate from the vertical direction of the container body, a bent support portion that is formed on the jig body and bends in the vertical direction of the container body, and a side end portion of the jig body. And a flat rail supported by a support piece of the support, and sandwiched between a step portion and a position restricting portion of the support.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009296839A JP5409343B2 (en) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | Substrate storage container |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009296839A JP5409343B2 (en) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | Substrate storage container |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011138863A true JP2011138863A (en) | 2011-07-14 |
JP5409343B2 JP5409343B2 (en) | 2014-02-05 |
Family
ID=44350022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009296839A Active JP5409343B2 (en) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | Substrate storage container |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5409343B2 (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012195507A (en) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Substrate housing container and support jig |
JP2013120896A (en) * | 2011-12-08 | 2013-06-17 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Thin plate housing container |
JP2013239643A (en) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Substrate housing container |
CN103560103A (en) * | 2013-10-30 | 2014-02-05 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | Conveying device and method for safely conveying wafer to FOUP |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002305239A (en) * | 2001-04-06 | 2002-10-18 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Wafer storage container and production method therefor |
JP2004149149A (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Toppan Printing Co Ltd | Large-sized glass base plate carrying tray |
JP2008120457A (en) * | 2006-10-16 | 2008-05-29 | Dainippon Printing Co Ltd | Tray for plate-like object and laminating method of plate-like object |
-
2009
- 2009-12-28 JP JP2009296839A patent/JP5409343B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002305239A (en) * | 2001-04-06 | 2002-10-18 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Wafer storage container and production method therefor |
JP2004149149A (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Toppan Printing Co Ltd | Large-sized glass base plate carrying tray |
JP2008120457A (en) * | 2006-10-16 | 2008-05-29 | Dainippon Printing Co Ltd | Tray for plate-like object and laminating method of plate-like object |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012195507A (en) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Substrate housing container and support jig |
JP2013120896A (en) * | 2011-12-08 | 2013-06-17 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Thin plate housing container |
JP2013239643A (en) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Substrate housing container |
CN103560103A (en) * | 2013-10-30 | 2014-02-05 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | Conveying device and method for safely conveying wafer to FOUP |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5409343B2 (en) | 2014-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5269077B2 (en) | Support and substrate storage container | |
KR101511813B1 (en) | Retainer and substrate storage container | |
JP4584023B2 (en) | Substrate storage container and manufacturing method thereof | |
KR101472145B1 (en) | Substrate storage container | |
JP4213078B2 (en) | Retainer and substrate storage container | |
JPWO2011132257A1 (en) | Substrate storage container | |
JP5409343B2 (en) | Substrate storage container | |
CN110337713B (en) | Substrate container | |
JP5094093B2 (en) | Substrate storage container | |
JP2010199354A (en) | Substrate storing container | |
JP2009302414A (en) | Substrate storing container | |
JP2010192801A (en) | Substrate storing container | |
JP2016149492A (en) | Substrate housing container | |
JP4965472B2 (en) | Storage container for processing jig | |
JP4592449B2 (en) | Substrate storage container | |
JP5601647B2 (en) | Substrate storage container and support jig | |
JP5441797B2 (en) | Retainer and substrate storage container | |
JP5268858B2 (en) | Substrate storage container | |
JP2011108715A (en) | Substrate housing container | |
JP6491590B2 (en) | Substrate storage container | |
JP2010182948A (en) | Substrate storage container | |
JP2006120851A (en) | Substrate storing container | |
KR101486612B1 (en) | Container for processing tool for mounting substrate | |
JP2005005396A (en) | Substrate storing container | |
JP6576811B2 (en) | Substrate storage container |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120309 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130425 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130625 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131105 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5409343 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |