JP2009096676A - Apparatus and method for manufacturing optical element - Google Patents
Apparatus and method for manufacturing optical element Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009096676A JP2009096676A JP2007270595A JP2007270595A JP2009096676A JP 2009096676 A JP2009096676 A JP 2009096676A JP 2007270595 A JP2007270595 A JP 2007270595A JP 2007270595 A JP2007270595 A JP 2007270595A JP 2009096676 A JP2009096676 A JP 2009096676A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- inert gas
- molding chamber
- chamber
- molding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
Description
本発明は、光学素子の製造技術に関し、成形素材から型成形によって光学素子を製造する技術に適用して有効な技術に関する。 The present invention relates to a technique for manufacturing an optical element, and relates to a technique effective when applied to a technique for manufacturing an optical element from a molding material by molding.
光学素子の製造分野では、ガラスや樹脂等の熱可塑性の成形素材を加熱および押圧して型成形することで、所望の光学機能面を有する光学素子を製造することが知られている。
その場合、たとえば特許文献1に開示されているように、加熱雰囲気における成形素材や光学素子、さらには成形型等の酸化を防止する目的で、成形工程が実施される成形室の内部を不活性ガス雰囲気に置換することが行われている。
In the field of optical element manufacturing, it is known to manufacture an optical element having a desired optical functional surface by heating and pressing a thermoplastic molding material such as glass or resin to mold it.
In that case, for example, as disclosed in Patent Document 1, the interior of the molding chamber in which the molding process is performed is inactive for the purpose of preventing oxidation of the molding material, the optical element, and the molding die in a heated atmosphere. Replacement with a gas atmosphere is performed.
すなわち、特許文献1の技術では、成形室内に不活性ガスを供給して酸素濃度を低下させる光学素子の製造方法において、成形室とは別個のチャンバに、酸化されやすい物質を配置し、成形室内に流入する前の不活性ガスが当該チャンバを通過するようにして、成形室に供給される不活性ガスの酸素濃度を低下させる製造方法が提案されている。 That is, in the technique of Patent Document 1, in an optical element manufacturing method in which an inert gas is supplied into a molding chamber to reduce the oxygen concentration, a substance that is easily oxidized is disposed in a chamber separate from the molding chamber. There has been proposed a manufacturing method for reducing the oxygen concentration of the inert gas supplied to the molding chamber so that the inert gas before flowing into the chamber passes through the chamber.
ところが、上述の特許文献1記載の技術では、成形室に流入する前の不活性ガスの酸素濃度を低下させるだけであるため、成形室内の酸素濃度が、成形室内の雰囲気の不活性ガスによる置換状況等の影響を大きく受け、成形室内の不活性ガスの酸素濃度をそれほど低下させることができない懸念がある。 However, since the technique described in Patent Document 1 only reduces the oxygen concentration of the inert gas before flowing into the molding chamber, the oxygen concentration in the molding chamber is replaced by the inert gas in the atmosphere in the molding chamber. There is a concern that the oxygen concentration of the inert gas in the molding chamber cannot be reduced so much due to the influence of the situation and the like.
そのため、成形室内の酸素濃度を低くするためには、成形室内を常に正圧に維持して不活性ガス雰囲気に維持するために、多量の不活性ガスを供給する必要がある、という技術的課題がある。 Therefore, in order to reduce the oxygen concentration in the molding chamber, it is necessary to supply a large amount of inert gas in order to maintain the molding chamber at a positive pressure and maintain an inert gas atmosphere. There is.
また、何らかの装置障害で型セットを成形室に搬入するための投入口シャッタが開放されたままの状態や、型セットを成形室内から排出するための排出口シャッタが開放されたままの状態が発生した場合、成形室が大気に開放されて成形室内、および当該成形室とは別個のチャンバにも酸素が流入してしまい、チャンバ内の酸化されやすい物質は激しく酸化が促進され、その酸素除去性能が著しく低下し、寿命が短くなる、という技術的課題もある。
本発明の目的は、成形室への必要以上に多量の不活性ガスの供給を必要とすることなく、成形室内の酸素濃度を効果的に低下させることができもとともに、酸素濃度を低下させる物質の寿命を延ばすことが可能な光学素子の製造技術を提供することにある。 The object of the present invention is to effectively reduce the oxygen concentration in the molding chamber without requiring supply of a larger amount of inert gas than necessary to the molding chamber, and to reduce the oxygen concentration. It is an object of the present invention to provide an optical element manufacturing technique capable of extending the service life of the optical element.
本発明の第1の観点は、成形素材を収容した型セットを成形室に投入して光学素子を成形する光学素子の製造装置であって、
前記成形室に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
循環路を介して前記成形室に接続され、前記成形室内の前記不活性ガスに含まれる酸素を吸収する触媒が配置された触媒チャンバと、
前記循環路に設けられた流路を開閉する開閉弁と、
を含む光学素子の製造装置を提供する。
A first aspect of the present invention is an optical element manufacturing apparatus that molds an optical element by putting a mold set containing a molding material into a molding chamber,
An inert gas supply means for supplying an inert gas to the molding chamber;
A catalyst chamber connected to the molding chamber via a circulation path, in which a catalyst for absorbing oxygen contained in the inert gas in the molding chamber is disposed;
An on-off valve for opening and closing a flow path provided in the circulation path;
An optical element manufacturing apparatus including the above is provided.
本発明の第2の観点は、成形素材を収容した型セットを成形室に投入して光学素子を成形する光学素子の製造方法であって、
前記成形室に不活性ガスを供給し、酸素を吸収する触媒を備えた触媒チャンバに前記成形室内の雰囲気を循環させつつ、前記光学素子を成形する光学素子の製造方法を提供する。
A second aspect of the present invention is a method for manufacturing an optical element in which a mold set containing a molding material is put into a molding chamber and an optical element is molded.
Provided is a method of manufacturing an optical element that molds the optical element while circulating an atmosphere in the molding chamber through a catalyst chamber having a catalyst that supplies an inert gas to the molding chamber and absorbs oxygen.
本発明によれば、成形室への必要以上に多量の不活性ガスの供給を必要とすることなく、成形室内の酸素濃度を効果的に低下させることができもとともに、酸素濃度を低下させる物質の寿命を延ばすことが可能な光学素子の製造技術を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to effectively reduce the oxygen concentration in the molding chamber without requiring supply of a larger amount of inert gas than necessary to the molding chamber, and to reduce the oxygen concentration. It is possible to provide a manufacturing technique of an optical element capable of extending the lifetime of the optical element.
まず、本実施の形態の各態様につき概括し、その後、図面を参照して詳細な説明を行う。
本実施の形態の第1態様にかかる光学素子の製造装置は、成形素材を収容した型セットを成形室に投入して、光学素子を成形する光学素子の製造装置において、上記成形室に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、不活性ガスに含まれる酸素を吸収する触媒が配置された触媒チャンバと、循環入口及び循環出口が上記成形室に位置し、この成形室内の不活性ガスを上記触媒チャンバに循環させる不活性ガス循環路と、循環入口に配される循環路と、循環出口に配される循環路にそれぞれの開閉弁と、不活性ガスに含まれる酸素の濃度を測定し、その濃度値を信号として外部に出力できる酸素濃度計と、酸素濃度計で測定しその濃度値の信号を受信しその信号によって前記循環路の開閉弁の開閉具合を制御することのできるコントロールユニットを備える。
First, each aspect of the present embodiment will be summarized, and then detailed description will be given with reference to the drawings.
The optical element manufacturing apparatus according to the first aspect of the present embodiment is inactive in the molding chamber in an optical element manufacturing apparatus in which a mold set containing a molding material is placed in a molding chamber and the optical element is molded. An inert gas supply means for supplying gas, a catalyst chamber in which a catalyst for absorbing oxygen contained in the inert gas is disposed, a circulation inlet and a circulation outlet are located in the molding chamber, and the inert gas in the molding chamber An inert gas circulation path that circulates the catalyst in the catalyst chamber, a circulation path that is disposed at the circulation inlet, a respective on-off valve in the circulation path that is disposed at the circulation outlet, and the concentration of oxygen contained in the inert gas. And an oxygen concentration meter that can output the concentration value to the outside as a signal, and a control that can measure the concentration value signal received by the oxygen concentration meter and control the opening / closing state of the on-off valve of the circulation path by the signal Equipped with a knit.
また、第2態様として上述の第1態様における上記成形室内の不活性ガスを上記触媒チャンバに強制的に循環させる送風手段を更に備える構成とすることができる。
また、第3態様として上述の第1態様における上記触媒を加熱する加熱手段を更に備える構成とすることができる。
Moreover, it can be set as the structure further equipped with the ventilation means which forcibly circulates the inert gas in the said molding chamber in the said 1st aspect to the said catalyst chamber as a 2nd aspect.
Moreover, it can be set as the structure further equipped with the heating means which heats the said catalyst in the above-mentioned 1st aspect as a 3rd aspect.
また、第4態様として上述の第1態様における上記不活性ガス循環路内を流れる上記不活性ガスの流量を制御する流量制御手段を更に備える構成とすることができる。
また、第5態様として上述の第1態様における上記不活性ガス循環路の上記循環出口又はその近傍に設けられ、上記不活性ガス循環路から上記成形室に流入する不活性ガスを偏向させるガス偏向手段を更に備える構成とすることができる。
Moreover, it can be set as the structure further equipped with the flow volume control means which controls the flow volume of the said inert gas which flows through the inside of the said inert gas circulation path in the above-mentioned 1st aspect as a 4th aspect.
Further, as a fifth aspect, gas deflection is provided at or near the circulation outlet of the inert gas circulation path in the first aspect described above, and deflects the inert gas flowing from the inert gas circulation path into the molding chamber. It can be set as the structure further provided with a means.
第6態様として、成形素材を収容した型セットを成形室に投入して光学素子を成形する光学素子の製造方法において、上記成形室に不活性ガスを供給し、且つ、不活性ガスに含まれる酸素を吸収する触媒が配置された触媒チャンバに上記成形室内の不活性ガスを循環させた状態で、上記光学素子を成形するようにする。 As a sixth aspect, in an optical element manufacturing method in which a mold set containing a molding material is put into a molding chamber and an optical element is molded, an inert gas is supplied to the molding chamber and is contained in the inert gas. The optical element is molded in a state where an inert gas in the molding chamber is circulated through a catalyst chamber in which a catalyst that absorbs oxygen is disposed.
上述した本実施の形態の各態様では、成形室内の不活性ガスを触媒チャンバに循環させた状態で光学素子を成形することで、成形室内に酸素が流入した場合にも触媒により酸素を吸収することができる。 In each aspect of the present embodiment described above, the oxygen is absorbed by the catalyst even when oxygen flows into the molding chamber by molding the optical element in a state where the inert gas in the molding chamber is circulated into the catalyst chamber. be able to.
そのため、成形室内の酸素濃度を低下させるために成形室内に多量の不活性ガスを供給する必要がなくなる。
よって、本実施の形態によれば、成形室への不活性ガスの供給量を低減することができると共に成形室内の酸素濃度を低下させることができる。
Therefore, it is not necessary to supply a large amount of inert gas into the molding chamber in order to reduce the oxygen concentration in the molding chamber.
Therefore, according to the present embodiment, the supply amount of the inert gas to the molding chamber can be reduced and the oxygen concentration in the molding chamber can be reduced.
更には何らかの事故によって大量の酸素が流入した場合でも、高価な設備が酸化によって損なわれることを防止できる。
以下、本発明の実施の形態に係る光学素子の製造装置及び製造方法について、図面を参照しながら説明する。
Furthermore, even when a large amount of oxygen flows due to some accident, it is possible to prevent expensive equipment from being damaged by oxidation.
Hereinafter, an optical element manufacturing apparatus and a manufacturing method according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明の一実施の形態に係る光学素子製造装置の構成例を示す断面図である。図2は、本実施の形態の光学素子製造装置に供される型セットの構成例を示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical element manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration example of a mold set used in the optical element manufacturing apparatus of the present embodiment.
図1に示す光学素子製造装置1は、成形室10、不活性ガス供給手段としての不活性ガス供給源21及び不活性ガス供給路22、触媒チャンバ31、不活性ガス循環路32等を備えている。 An optical element manufacturing apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a molding chamber 10, an inert gas supply source 21 and an inert gas supply path 22 as an inert gas supply means, a catalyst chamber 31, an inert gas circulation path 32, and the like. Yes.
成形室10には成形室10内の不活性ガス等から構成される雰囲気に含まれる酸素の濃度を測定し、その濃度値を濃度測定信号53aとして外部に出力できる酸素濃度計53を備えている。 The molding chamber 10 is provided with an oxygen concentration meter 53 that can measure the concentration of oxygen contained in an atmosphere composed of an inert gas or the like in the molding chamber 10 and output the concentration value to the outside as a concentration measurement signal 53a. .
光学素子製造装置1は、成形室10において、型セット40に収容された成形素材60から光学素子を型成形する。
図2に例示されるように、本実施の形態型セット40は、上型41の上型成形面41aおよび下型42の下型成形面42aを胴型43の内部に対向するように収容し、上型成形面41aと下型成形面42aの間には、たとえば、熱可塑性の成形素材であるガラスや樹脂からなる成形素材60が実装される。
The optical element manufacturing apparatus 1 molds an optical element from the molding material 60 accommodated in the mold set 40 in the molding chamber 10.
As illustrated in FIG. 2, the mold set 40 of the present embodiment accommodates the upper mold forming surface 41 a of the upper mold 41 and the lower mold forming surface 42 a of the lower mold 42 so as to face the inside of the body mold 43. A molding material 60 made of glass or resin, which is a thermoplastic molding material, is mounted between the upper mold molding surface 41a and the lower mold molding surface 42a.
そして、上型成形面41aおよび下型成形面42aと胴型43の内周面で構成される成形空間の中で、後述のように、成形素材60を加熱および加圧して、成形素材60に上型成形面41aおよび下型成形面42aの形状を転写するように成形することで、上型成形面41aおよび下型成形面42aと凹凸が逆の図示しない光学機能面を備えた光学素子60a(図2の例では凸レンズ)が成形される。 Then, in the molding space constituted by the upper mold molding surface 41a and the lower mold molding surface 42a and the inner peripheral surface of the body mold 43, the molding material 60 is heated and pressurized as described later to form the molding material 60. By molding so as to transfer the shapes of the upper mold molding surface 41a and the lower mold molding surface 42a, an optical element 60a having an optical function surface (not shown) whose concavities and convexities are opposite to those of the upper mold molding surface 41a and the lower mold molding surface 42a. (Convex lens in the example of FIG. 2) is molded.
なお、本実施の形態の型セット40は、上型41、下型42及び胴型43から構成されているが、型セット40としては、他の組み合わせからなるものであってもよい。
図1に例示されるように、光学素子製造装置1の成形室10内には、第1加熱ステージ11、第2加熱ステージ12、プレスステージ13、第1冷却ステージ14、及び、第2冷却ステージ15が配設されている。
The mold set 40 of the present embodiment is composed of the upper mold 41, the lower mold 42, and the trunk mold 43, but the mold set 40 may be composed of other combinations.
As illustrated in FIG. 1, a first heating stage 11, a second heating stage 12, a press stage 13, a first cooling stage 14, and a second cooling stage are provided in the molding chamber 10 of the optical element manufacturing apparatus 1. 15 is disposed.
第1加熱ステージ11は、型セット40の上面に当接する上ヒータブロック11aと、この上ヒータブロック11aの上部に配置された上断熱ブロック11bと、この上断熱ブロック11bに接続されたプレス軸11cと、このプレス軸11cを昇降させるシリンダ11dと、型セット40が載置される下ヒータブロック11eと、この下ヒータブロック11eの下部に配置された下断熱ブロック11fとから構成されている(他の第2加熱ステージ12から第2冷却ステージ15も同一の構成であるため、図1に同様の符号を付して説明を省略する)。 The first heating stage 11 includes an upper heater block 11a that is in contact with the upper surface of the mold set 40, an upper heat insulating block 11b disposed above the upper heater block 11a, and a press shaft 11c connected to the upper heat insulating block 11b. And a cylinder 11d for raising and lowering the press shaft 11c, a lower heater block 11e on which the die set 40 is placed, and a lower heat insulating block 11f disposed below the lower heater block 11e (others) Since the second heating stage 12 to the second cooling stage 15 have the same configuration, the same reference numerals are attached to FIG.
第1加熱ステージ11が配設された側の成形室10の外側には、成形室10へ投入される型セット40が載置される投入台16が設けられ、第2冷却ステージ15が配設された側の成形室10の外側には、成形室10から排出される型セット40が載置される排出台17が設けられている。 On the outside of the molding chamber 10 on the side where the first heating stage 11 is disposed, a loading table 16 on which a mold set 40 to be loaded into the molding chamber 10 is placed is provided, and a second cooling stage 15 is disposed. A discharge table 17 on which the mold set 40 discharged from the molding chamber 10 is placed is provided on the outside of the molding chamber 10 on the formed side.
また、投入台16側の成形室10の外側には、型セット40が投入台16から成形室10へ投入される際に開放する投入シャッタ10aが設けられ、排出台17側の成形室10の外側には、型セット40が成形室10から排出台17へ排出される際に開放する排出シャッタ10bが設けられている。 Further, a closing shutter 10a that is opened when the mold set 40 is loaded from the loading table 16 into the molding chamber 10 is provided outside the molding chamber 10 on the loading table 16 side. A discharge shutter 10 b that opens when the mold set 40 is discharged from the molding chamber 10 to the discharge table 17 is provided outside.
成形室10の型セット40投入側の上部には、図示しない供給機構によって、窒素等の不活性ガス21a(矢印A1)が不活性ガス供給源21から不活性ガス供給路22を介して供給されている。 An inert gas 21a (arrow A1) such as nitrogen is supplied from the inert gas supply source 21 through the inert gas supply path 22 to the upper part of the molding chamber 10 on the mold set 40 input side by a supply mechanism (not shown). ing.
なお、成形室10には、成形室10内の酸素を不活性ガス21aと共に外部に追い出して、成形室10の雰囲気を迅速に不活性ガス21aに置換するための図示しない微細な隙間を形成することができる。 In the molding chamber 10, a fine gap (not shown) is formed to expel oxygen in the molding chamber 10 together with the inert gas 21a to quickly replace the atmosphere in the molding chamber 10 with the inert gas 21a. be able to.
このようにしても、不活性ガス供給源21から、成形室10の図示しない微細な隙間から流出する少量の不活性ガス21a(矢印A1)を補うように供給するだけで成形室10の正圧が維持されるため、多量の不活性ガス21aを成形室10に供給することなく、上述の微細な隙間からの成形室10内への酸素の流入を抑えることができる。 Even in this case, the positive pressure in the molding chamber 10 can be obtained simply by supplying a small amount of the inert gas 21a (arrow A1) flowing out from a minute gap (not shown) of the molding chamber 10 from the inert gas supply source 21. Therefore, without supplying a large amount of inert gas 21a to the molding chamber 10, it is possible to suppress the inflow of oxygen into the molding chamber 10 from the fine gap described above.
成形室10に対して並設された触媒チャンバ31は、触媒チャンバ31の一端と他端の不活性ガス循環路32を介して、第2冷却ステージ15が配設された側で、成形室10と接続されている。 The catalyst chamber 31 arranged in parallel to the molding chamber 10 is located on the side where the second cooling stage 15 is disposed via the inert gas circulation path 32 at one end and the other end of the catalyst chamber 31. Connected with.
触媒チャンバ31には、成形室10内から取り込まれた不活性ガス21a(矢印A2)等の雰囲気に含まれる酸素を吸収する粒状の触媒31aが配置されている。
この触媒31aには、例えば、鉄、銅、ニッケル、これらを含む合成物等、酸素を吸収し得るものであれば用いることができる。そのため、触媒31aが粒状である必要もない。
In the catalyst chamber 31, a granular catalyst 31a that absorbs oxygen contained in an atmosphere such as an inert gas 21a (arrow A2) taken from the molding chamber 10 is disposed.
Any catalyst that can absorb oxygen, such as iron, copper, nickel, or a compound containing these, can be used as the catalyst 31a. Therefore, the catalyst 31a does not need to be granular.
なお、触媒31aは、後述する触媒加熱ヒータ35により加熱されて酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル等へと変化していくと、酸素を吸収しづらくなるため、定期的に交換することが望ましい。 The catalyst 31a is preferably replaced periodically because it becomes difficult to absorb oxygen when it is heated by a catalyst heater 35 described later and changed to iron oxide, copper oxide, nickel oxide, or the like.
不活性ガス循環路32には、その両端である循環入口32c及び循環出口32dが成形室10に位置し、成形室10内の不活性ガス21a(矢印A2)等の雰囲気を触媒チャンバ31に循環させている。 A circulation inlet 32 c and a circulation outlet 32 d, which are both ends of the inert gas circulation path 32, are located in the molding chamber 10, and an atmosphere such as an inert gas 21 a (arrow A 2) in the molding chamber 10 is circulated to the catalyst chamber 31. I am letting.
不活性ガス循環路32は、成形室10(循環入口32c)と触媒チャンバ31とに接続された第1循環路32a、及び、触媒チャンバ31と成形室10(循環出口32d)とに接続された第2循環路32bから構成されている。 The inert gas circulation path 32 is connected to the first circulation path 32a connected to the molding chamber 10 (circulation inlet 32c) and the catalyst chamber 31, and to the catalyst chamber 31 and molding chamber 10 (circulation outlet 32d). The second circulation path 32b is configured.
図2に示すように、触媒チャンバ31内の底面には、触媒31aが第2循環路32bに落下しないように、触媒31aの粒径よりも小さい網目を有するネット31bが配置されている。 As shown in FIG. 2, a net 31b having a mesh smaller than the particle size of the catalyst 31a is arranged on the bottom surface in the catalyst chamber 31 so that the catalyst 31a does not fall into the second circulation path 32b.
このネット31bは、触媒チャンバ31の底部を貫通する両端段付孔31cの上側段部に配置されている。
また、両端段付孔31cの下側段部には、第2循環路32bの端部が嵌合している。
The net 31 b is disposed on the upper step of the both-end stepped hole 31 c that penetrates the bottom of the catalyst chamber 31.
The end of the second circulation path 32b is fitted to the lower step of the both-end stepped hole 31c.
なお、触媒チャンバ31は、例えば、不活性ガス循環路32の内部(流路)において触媒31aを保持する部分等のように、触媒31aが配置される部分であればよい。
第1循環路32aには流路を遮る為の第1循環路開閉弁50が設置されており、同様に第2循環路32bには流路を遮る為の第2循環路開閉弁51が設置されている。
The catalyst chamber 31 may be a portion where the catalyst 31a is disposed, such as a portion that holds the catalyst 31a inside the inert gas circulation path 32 (flow path).
A first circulation path opening / closing valve 50 for blocking the flow path is installed in the first circulation path 32a, and similarly, a second circulation path opening / closing valve 51 for blocking the flow path is installed in the second circulation path 32b. Has been.
上記第1循環路開閉弁50と第2循環路開閉弁51には図示しない遠隔で開閉を駆動できるアクチュエータを備えており、更にそれらの開閉を制御する弁開閉コントロールユニット52が接続されている。 The first circulation path opening / closing valve 50 and the second circulation path opening / closing valve 51 are provided with an actuator (not shown) that can be opened and closed remotely, and further connected to a valve opening / closing control unit 52 for controlling the opening / closing thereof.
上記弁開閉コントロールユニット52は上述した酸素濃度計53によって不活性ガスに含まれる酸素の濃度を測定し、その値の濃度測定信号53aを受信し、この濃度測定信号53aによって第1循環路開閉弁50と第2循環路開閉弁51の開閉具合を制御する。 The valve opening / closing control unit 52 measures the concentration of oxygen contained in the inert gas by the above-described oxygen concentration meter 53, receives the concentration measurement signal 53a of the measured value, and the first circulation path opening / closing valve by this concentration measurement signal 53a. 50 and the opening / closing state of the second circulation path opening / closing valve 51 are controlled.
図1に示すように、不活性ガス循環路32(第2循環路32b)の循環出口32dには、不活性ガス循環路32から成形室10に流入する不活性ガス(矢印A3)を偏向させるガス偏向手段としての風偏向板18が設けられている。 As shown in FIG. 1, the inert gas (arrow A3) flowing into the molding chamber 10 from the inert gas circulation path 32 is deflected to the circulation outlet 32d of the inert gas circulation path 32 (second circulation path 32b). A wind deflection plate 18 is provided as a gas deflection means.
風偏向板18は、成形室10に流入する不活性ガス21a(矢印A3)が成形中の型セット40に直接的に接触しにくくなるように、不活性ガス(矢印A3)を型セット40から遠ざける方向に偏向させる位置に配置することが望ましい。 The wind deflector 18 sends the inert gas (arrow A3) from the mold set 40 so that the inert gas 21a (arrow A3) flowing into the molding chamber 10 is less likely to directly contact the mold set 40 being molded. It is desirable to arrange at a position to deflect in a direction away from it.
なお、風偏向板18は、循環出口32dの近傍、例えば、第2循環路32bの内部、成形室10の側壁等に配置してもよい。
また、ガス偏向手段としては、風偏向板18の代わりに、例えば、不活性ガス(矢印A3)の流れを多方向に分散させるべく複数の貴通孔が形成された部材を用いることもできる。
The wind deflector 18 may be disposed in the vicinity of the circulation outlet 32d, for example, in the second circulation path 32b, on the side wall of the molding chamber 10, or the like.
Further, as the gas deflecting means, instead of the wind deflecting plate 18, for example, a member in which a plurality of noble holes are formed so as to disperse the flow of the inert gas (arrow A3) in multiple directions can be used.
第1循環路32aには、成形室10内の雰囲気を構成する不活性ガス21a(矢印A2)を触媒チャンバ31に強制的に循環させる送風手段としての送風機33が配設されている。 The first circulation path 32a is provided with a blower 33 as a blowing means for forcibly circulating the inert gas 21a (arrow A2) constituting the atmosphere in the molding chamber 10 to the catalyst chamber 31.
なお、送風機33(送風手段)に代えて、コンプレッサ等の他の強制循環手段を配設することでも、成形室10内の不活性ガス21a(矢印A2)を触媒チャンバ31に強制的に循環させることは可能である。 Note that the inert gas 21a (arrow A2) in the molding chamber 10 is forcibly circulated to the catalyst chamber 31 by arranging other forced circulation means such as a compressor instead of the blower 33 (blower means). It is possible.
また、第1循環路32aには、第1循環路32aを流れる不活性ガス21a(矢印A2)の流量を制御する流量制御手段としての流量調整器34が、送風機33よりも触媒チャンバ31側に配設されている。 Further, a flow rate regulator 34 as a flow rate control means for controlling the flow rate of the inert gas 21a (arrow A2) flowing through the first circulation path 32a is provided in the first circulation path 32a closer to the catalyst chamber 31 than the blower 33. It is arranged.
流量調整器34は、絞り弁のみからなるものでもよいが、例えば、絞り弁に加えて流量表示部や調整操作部等を含んだ装置とすることができる。
触媒チャンバ31の外周には、触媒31aを加熱する加熱手段としての触媒加熱ヒータ35が配設されている。
The flow rate regulator 34 may be composed of only a throttle valve. For example, the flow rate regulator 34 may be a device including a flow rate display unit and an adjustment operation unit in addition to the throttle valve.
A catalyst heater 35 is disposed on the outer periphery of the catalyst chamber 31 as heating means for heating the catalyst 31a.
また、触媒チャンバ31内の触媒31aには、両端段付孔31cから温度測定器36が挿入されている。
そして、これら触媒加熱ヒータ35及び温度測定器36には、温度制御装置37が接続されている。
A temperature measuring device 36 is inserted into the catalyst 31a in the catalyst chamber 31 from both end stepped holes 31c.
A temperature control device 37 is connected to the catalyst heater 35 and the temperature measuring device 36.
温度制御装置37は、触媒加熱ヒータ35へ制御信号を送信すると共に温度測定器36からの温度測定値信号を受信することで、任意の温度に触媒チャンバ31の触媒31aを加熱することが可能となっている。 The temperature control device 37 can heat the catalyst 31a of the catalyst chamber 31 to an arbitrary temperature by transmitting a control signal to the catalyst heater 35 and receiving a temperature measurement value signal from the temperature measuring device 36. It has become.
以下、本実施の形態の光学素子の製造方法について説明する。
まず、図1に示す上ヒータブロック11a,12a,13a,14a,15a及び下ヒータブロック11e,12e,13e,14e,15eを、図示しない制御手段により、加熱ステージ、プレスステージ、冷却ステージの各々に適した温度に設定し、その温度を保持しておく。
Hereinafter, the manufacturing method of the optical element of this Embodiment is demonstrated.
First, the upper heater blocks 11a, 12a, 13a, 14a, and 15a and the lower heater blocks 11e, 12e, 13e, 14e, and 15e shown in FIG. 1 are respectively applied to a heating stage, a press stage, and a cooling stage by control means (not shown). Set to a suitable temperature and keep that temperature.
また、不活性ガス供給源21から、図示しない供給機構によって、窒素等の不活性ガス21a(矢印A1)を、不活性ガス供給路22を介して成形室10に供給し続けておく。
これにより、成形室10内の酸素が上記微細な隙間又は開放した投入シャッタ10a若しくは排出シャッタ10bから排出され、成形室10内の雰囲気が不活性ガス21aに置換されると共に正圧に維持される。
Further, the inert gas 21a (arrow A1) such as nitrogen is continuously supplied from the inert gas supply source 21 to the molding chamber 10 via the inert gas supply path 22 by a supply mechanism (not shown).
As a result, oxygen in the molding chamber 10 is exhausted from the fine gap or the open shutter 10a or the exhaust shutter 10b, and the atmosphere in the molding chamber 10 is replaced with the inert gas 21a and maintained at a positive pressure. .
そして、成形素材60を収容した型セット40を投入台16に搬送し、投入シャッタ10aを開放させて型セット40を成形室10内に投入する。
成形室10内に投入された型セット40は、第1加熱ステージ11の下ヒータブロック11e上に載置される。
Then, the mold set 40 containing the molding material 60 is transported to the input table 16, the input shutter 10 a is opened, and the mold set 40 is input into the molding chamber 10.
The mold set 40 put into the molding chamber 10 is placed on the lower heater block 11e of the first heating stage 11.
そして、シリンダ11dの駆動によりプレス軸11cを降下させて、上ヒータブロック11a及び下ヒータブロック11eからの熱伝導により型セット40及びこの型セット40に収容された成形素材60を加熱する。 Then, the press shaft 11c is lowered by driving the cylinder 11d, and the mold set 40 and the molding material 60 accommodated in the mold set 40 are heated by heat conduction from the upper heater block 11a and the lower heater block 11e.
第1加熱ステージ11において加熱された型セット40は、図示しない移送手段により、第2加熱ステージ12に移送され、第1加熱ステージ11と同様に上ヒータブロック12aおよび下ヒータブロック12eによって加熱される。 The mold set 40 heated in the first heating stage 11 is transferred to the second heating stage 12 by a transfer means (not shown), and is heated by the upper heater block 12a and the lower heater block 12e in the same manner as the first heating stage 11. .
このように加熱されることで、型セット40内の成形素材60は軟化する。
次に、型セット40はプレスステージ13に移送され、プレスステージ13において、シリンダ13dおよびプレス軸13cに押圧力により、上断熱ブロック13bと下ヒータブロック13eの間で型セット40を挟圧することで、成形素材60が目的の厚さになるまでプレスされる。
By being heated in this way, the molding material 60 in the mold set 40 is softened.
Next, the die set 40 is transferred to the press stage 13, and the die set 40 is clamped between the upper heat insulating block 13b and the lower heater block 13e by pressing force on the cylinder 13d and the press shaft 13c. Then, the molding material 60 is pressed until the target thickness is reached.
成形素材60がプレスされた後、型セット40は、第1冷却ステージ14及び第2冷却ステージ15の上ヒータブロック14aおよび下ヒータブロック14e、上ヒータブロック15aおよび下ヒータブロック15eの間に順に移送されて挟持されることにより、徐々に冷却される。 After the molding material 60 is pressed, the mold set 40 is sequentially transferred between the upper heater block 14a and the lower heater block 14e, the upper heater block 15a and the lower heater block 15e of the first cooling stage 14 and the second cooling stage 15. By being sandwiched, it is gradually cooled.
これにより、型セット40の内部で成形素材60は光学素子60aとして固化し、光学素子が成形される。
以上のような成形室10における光学素子の成形が完了した後、第2冷却ステージ15の型セット40を、排出シャッタ10bを開放させて、成形室10から排出台17へと排出する。
Thereby, the molding material 60 is solidified as the optical element 60a inside the mold set 40, and the optical element is molded.
After the molding of the optical element in the molding chamber 10 as described above is completed, the mold set 40 of the second cooling stage 15 is discharged from the molding chamber 10 to the discharge table 17 by opening the discharge shutter 10b.
光学素子製造装置1においては、以上のような型セット40の成形室10への投入および成形室10からの排出が順次行われ、光学素子は連続的に製造される。
光学素子の成形中には、成形室10内の雰囲気を構成する不活性ガス21a(矢印A2)は、不活性ガス循環路32を流れて、触媒チャンバ31を循環することになる。
In the optical element manufacturing apparatus 1, the mold set 40 as described above is sequentially charged into the molding chamber 10 and discharged from the molding chamber 10, and the optical elements are continuously manufactured.
During the molding of the optical element, the inert gas 21a (arrow A2) constituting the atmosphere in the molding chamber 10 flows through the inert gas circulation path 32 and circulates through the catalyst chamber 31.
そして、送風機33を稼働させた場合には、成形室10内の不活性ガス21a(矢印A2)を触媒チャンバ31に強制的に循環させることができる。
なお、送風機33によって不活性ガス循環路32における不活性ガス21aの流量(循環量)を多くし過ぎると、成形室10内において不必要な対流が起こり、型セット40の成形温度ひいては光学素子の精度に影響を与え得るため、酸素吸収量と対流の発生とを比較衡量した上で送風機33により循環する不活性ガス21aの流量調整を行うことが望ましい。
When the blower 33 is operated, the inert gas 21 a (arrow A <b> 2) in the molding chamber 10 can be forcibly circulated through the catalyst chamber 31.
If the flow rate (circulation amount) of the inert gas 21a in the inert gas circulation path 32 is excessively increased by the blower 33, unnecessary convection occurs in the molding chamber 10, and the molding temperature of the mold set 40 and the optical element In order to affect the accuracy, it is desirable to adjust the flow rate of the inert gas 21a circulated by the blower 33 after comparing the oxygen absorption amount and the occurrence of convection.
また、光学素子の成形中には、流量調整器34により不活性ガス21aの流量を抑えることでも、上述のような成形室10内における不必要な対流を起こさないようにすることができる。 Further, during the molding of the optical element, it is possible to prevent unnecessary convection in the molding chamber 10 by suppressing the flow rate of the inert gas 21a by the flow rate regulator 34.
なお、同時に送風機33を稼働させている場合には、送風機33の運転状態(回転数等)を変化させる代わりに流量調整器34を用いることで、流量調整を容易に実現することもできる。 When the blower 33 is operated at the same time, the flow rate adjustment can be easily realized by using the flow rate regulator 34 instead of changing the operation state (the rotational speed or the like) of the blower 33.
また、型セット40による光学素子の成形中には、上述の触媒加熱ヒータ35により、触媒チャンバ31の触媒31aを任意の温度に加熱することもできる。
この触媒31aの加熱温度は、例えば、触媒31aが有効に酸素を吸収することができる温度に設定することが望ましい。
Further, during the molding of the optical element by the mold set 40, the catalyst 31a in the catalyst chamber 31 can be heated to an arbitrary temperature by the catalyst heater 35 described above.
The heating temperature of the catalyst 31a is desirably set to a temperature at which the catalyst 31a can effectively absorb oxygen, for example.
なお、触媒31aによる酸素の吸収を促進させたい場合には、触媒31aが酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル等へと化学変化しやすい温度に合わせて設定することが望ましい。
以上説明した本実施の形態では、成形室10内の不活性ガス21a(矢印A2)を触媒チャンバ31に循環させた状態で光学素子を成形することで、成形室10内に酸素が流入した場合にも触媒31aにより酸素を吸収することができる。
In addition, when it is desired to promote the absorption of oxygen by the catalyst 31a, it is desirable to set the temperature according to a temperature at which the catalyst 31a is likely to chemically change to iron oxide, copper oxide, nickel oxide, or the like.
In the present embodiment described above, when the optical element is molded in a state where the inert gas 21a (arrow A2) in the molding chamber 10 is circulated through the catalyst chamber 31, oxygen flows into the molding chamber 10. In addition, oxygen can be absorbed by the catalyst 31a.
そのため、成形室10内の酸素濃度を低下させるために成形室10に必要以上に多量の不活性ガス21aを供給する必要がなくなる。
よって、本実施の形態によれば、成形室10への不活性ガス21a(矢印A1)の供給量を低減することができると共に成形室10内の酸素濃度を効率良く低下させて低濃度に維持することができる。
Therefore, it is not necessary to supply an excessive amount of inert gas 21a to the molding chamber 10 in order to reduce the oxygen concentration in the molding chamber 10.
Therefore, according to the present embodiment, the supply amount of the inert gas 21a (arrow A1) to the molding chamber 10 can be reduced, and the oxygen concentration in the molding chamber 10 can be efficiently reduced and maintained at a low concentration. can do.
また、本実施の形態では、成形室10内の不活性ガス21a(矢印A2)を触媒チャンバ31に強制的に循環させる送風機33を配置している。
そのため、成形室10内の酸素濃度を低下させる速度を早めることができ、したがって、成形室10への不活性ガス(矢印A1)の供給量をより低減することができると共に成形室10内の酸素濃度をより迅速に低下させることができ、成形室10における不活性ガス21aの雰囲気形成のための待ち時間を短縮することができる。
In the present embodiment, a blower 33 that forcibly circulates the inert gas 21a (arrow A2) in the molding chamber 10 to the catalyst chamber 31 is disposed.
Therefore, the speed at which the oxygen concentration in the molding chamber 10 is reduced can be increased, and therefore the amount of inert gas (arrow A1) supplied to the molding chamber 10 can be further reduced and the oxygen in the molding chamber 10 can be reduced. The concentration can be lowered more quickly, and the waiting time for forming the atmosphere of the inert gas 21a in the molding chamber 10 can be shortened.
また、本実施の形態では、触媒31aを加熱する触媒加熱ヒータ35を配置しているため、触媒31aが有効に酸素を吸収することができると共に、触媒31aが酸素を吸収する量を調整することができる。 In the present embodiment, since the catalyst heater 35 for heating the catalyst 31a is disposed, the catalyst 31a can absorb oxygen effectively, and the amount of oxygen absorbed by the catalyst 31a can be adjusted. Can do.
したがって、成形室10への不活性ガス21a(矢印A1)の供給量をより低減することができると共に成形室10内の雰囲気の酸素濃度を効果的に低下させることもできる。
また、本実施の形態では、不活性ガス循環路32内を流れる不活性ガス21aの流量を制御する流量調整器34を配置しているため、触媒31aが酸素を吸収する量を調整することができる。
Therefore, the supply amount of the inert gas 21a (arrow A1) to the molding chamber 10 can be further reduced, and the oxygen concentration of the atmosphere in the molding chamber 10 can be effectively reduced.
In the present embodiment, since the flow rate regulator 34 for controlling the flow rate of the inert gas 21a flowing in the inert gas circulation path 32 is disposed, the amount of oxygen absorbed by the catalyst 31a can be adjusted. it can.
更には、不活性ガス21aの循環流量を適宜制御することで、成形室10内における不必要な対流を抑えることもでき、成形室10内の雰囲気の対流等による型セット40の温度変化に起因する光学素子の成形精度の悪化を防ぐことができる。 Furthermore, by appropriately controlling the circulation flow rate of the inert gas 21a, unnecessary convection in the molding chamber 10 can be suppressed, which is caused by the temperature change of the mold set 40 due to the convection of the atmosphere in the molding chamber 10. The deterioration of the molding accuracy of the optical element to be performed can be prevented.
更には、流量調整器34を送風機33と共に用いる場合、送風機33の運転状態(回転数等)を変化させることなく、流量調整器34の制御によって触媒31aが酸素を吸収する量を調整することもできる。 Furthermore, when the flow rate regulator 34 is used together with the blower 33, the amount of oxygen absorbed by the catalyst 31a can be adjusted by the control of the flow rate regulator 34 without changing the operation state (rotation speed, etc.) of the blower 33. it can.
また、本実施の形態では、不活性ガス循環路32(第2循環路32b)の循環出口32dに設けられ、不活性ガス循環路32から成形室10に流入する不活性ガス21a(矢印A3)を偏向させる風偏向板18を配置している。 In the present embodiment, the inert gas 21a (arrow A3) is provided at the circulation outlet 32d of the inert gas circulation path 32 (second circulation path 32b) and flows into the molding chamber 10 from the inert gas circulation path 32. A wind deflector 18 for deflecting the air is disposed.
そのため、不活性ガス循環路32から成形室10に流入する不活性ガス(矢印A3)が成形中の型セット40に直接的に当たりにくくすることができ、したがって、型セット40の温度変化に起因する光学素子の精度悪化を防ぐことができる。 Therefore, it is possible to make it difficult for the inert gas (arrow A3) flowing into the molding chamber 10 from the inert gas circulation path 32 to directly hit the mold set 40 during molding, and thus, due to the temperature change of the mold set 40. The deterioration of the accuracy of the optical element can be prevented.
また、何らかの装置障害等に起因して、型セット40を成形室10に搬入するための投入シャッタ10aが開放されたままの状態や、型セット40を成形室内から排出するための排出シャッタ10bが開放されたままの状態等が発生し、成形室10が大気に開放されて成形室内の不活性ガス21aの雰囲気の酸素濃度が高濃度となった場合、弁開閉コントロールユニット52が酸素濃度計53からの濃度測定信号53aを受信する。 In addition, due to some device failure or the like, there is an open shutter 10a for carrying the mold set 40 into the molding chamber 10, or a discharge shutter 10b for discharging the mold set 40 from the molding chamber. When an open state or the like occurs, the molding chamber 10 is opened to the atmosphere, and the oxygen concentration of the atmosphere of the inert gas 21a in the molding chamber becomes high, the valve opening / closing control unit 52 operates the oxygen concentration meter 53. Concentration measurement signal 53a is received.
この弁開閉コントロールユニット52は触媒チャンバ31内の触媒31aの性能を著しく低下させる酸素濃度かを判断し、第1循環路開閉弁50と第2循環路開閉弁51の図示しない遠隔で開閉を駆動できるアクチュエータに弁を閉じる指令信号を送り、第1循環路開閉弁50と第2循環路開閉弁51を閉じることで触媒チャンバ31内の触媒31aに高濃度の酸素を含む不活性ガス21aが流入することを防ぐ。 The valve opening / closing control unit 52 determines whether the oxygen concentration significantly reduces the performance of the catalyst 31a in the catalyst chamber 31, and drives the opening and closing of the first circulation path opening / closing valve 50 and the second circulation path opening / closing valve 51 remotely (not shown). An inactive gas 21a containing high-concentration oxygen flows into the catalyst 31a in the catalyst chamber 31 by sending a command signal for closing the valve to the actuator that can be closed and closing the first circulation path on-off valve 50 and the second circulation path on-off valve 51. To prevent.
なお、本実施の形態では、光学素子製造装置1を、複数の第1加熱ステージ11から第2冷却ステージ15に型セット40を移送しながら光学素子を成形する循環型の光学素子製造装置1を例示して説明したが、成形素材60への加熱、プレス、冷却の各工程を同一の場所で行う製造装置等の他の構成の製造装置であっても、本実施の形態のように成形室10内の不活性ガス(矢印A2)を触媒チャンバ31に循環させることで、上述の効果を得ることが可能である。 In the present embodiment, the optical element manufacturing apparatus 1 includes the circulation type optical element manufacturing apparatus 1 that forms an optical element while transferring the mold set 40 from the plurality of first heating stages 11 to the second cooling stage 15. Although illustrated and explained, even in the case of a manufacturing apparatus having another configuration, such as a manufacturing apparatus that performs each process of heating, pressing, and cooling the molding material 60 in the same place, as in the present embodiment, the molding chamber By circulating the inert gas (arrow A <b> 2) in the catalyst chamber 31, the above-described effect can be obtained.
なお、本発明は、上述の実施の形態に例示した構成に限らず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。 Needless to say, the present invention is not limited to the configuration exemplified in the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
1 光学素子製造装置
10 成形室
10a 投入シャッタ
10b 排出シャッタ
11 第1加熱ステージ
12 第2加熱ステージ
13 プレスステージ
14 第1冷却ステージ
15 第2冷却ステージ
11a,12a,13a,14a,15a 上ヒータブロック
11b,12b,13b,14b,15b 上断熱ブロック
11c,12c,13c,14c,15c プレス軸
11d,12d,13d,14d,15d シリンダ
11e,12e,13e,14e,15e 下ヒータブロック
11f,12f,13f,14f,15f 下断熱ブロック
16 投入台
17 排出台
18 風偏向板
21 不活性ガス供給源
21a 不活性ガス
22 不活性ガス供給路
31 触媒チャンバ
31a 触媒
31b ネット
31c 両端段付孔
32 不活性ガス循環路
32a 第1循環路
32b 第2循環路
32c 循環入口
32d 循環出口
33 送風機
34 流量調整器
35 触媒加熱ヒータ
36 温度測定器
37 温度制御装置
40 型セット
41 上型
41a 上型成形面
42 下型
42a 下型成形面
43 胴型
50 第1循環路開閉弁
51 第2循環路開閉弁
52 弁開閉コントロールユニット
53 酸素濃度計
53a 濃度測定信号
60 成形素材
60a 光学素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical element manufacturing apparatus 10 Molding chamber 10a Input shutter 10b Discharge shutter 11 1st heating stage 12 2nd heating stage 13 Press stage 14 1st cooling stage 15 2nd cooling stage 11a, 12a, 13a, 14a, 15a Upper heater block 11b , 12b, 13b, 14b, 15b Upper heat insulating block 11c, 12c, 13c, 14c, 15c Press shaft 11d, 12d, 13d, 14d, 15d Cylinder 11e, 12e, 13e, 14e, 15e Lower heater block 11f, 12f, 13f, 14f, 15f Lower heat insulation block 16 Input base 17 Discharge base 18 Wind deflection plate 21 Inert gas supply source 21a Inert gas 22 Inert gas supply path 31 Catalyst chamber 31a Catalyst 31b Net 31c Both-ends stepped hole 32 Inert gas circulation path 32a First circulation path 32 Second circulation path 32c Circulation inlet 32d Circulation outlet 33 Blower 34 Flow rate regulator 35 Catalyst heater 36 Temperature measuring device 37 Temperature control device 40 Mold set 41 Upper mold 41a Upper mold molding surface 42 Lower mold 42a Lower mold molding surface 43 Body mold 50 1st circuit open / close valve 51 2nd circuit open / close valve 52 Valve open / close control unit 53 Oxygen concentration meter 53a Concentration measurement signal 60 Molding material 60a Optical element
Claims (8)
前記成形室に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
循環路を介して前記成形室に接続され、前記成形室内の前記不活性ガスに含まれる酸素を吸収する触媒が配置された触媒チャンバと、
前記循環路に設けられた流路を開閉する開閉弁と、
を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。 An optical element manufacturing apparatus that molds an optical element by putting a mold set containing a molding material into a molding chamber,
An inert gas supply means for supplying an inert gas to the molding chamber;
A catalyst chamber connected to the molding chamber via a circulation path, in which a catalyst for absorbing oxygen contained in the inert gas in the molding chamber is disposed;
An on-off valve for opening and closing a flow path provided in the circulation path;
An optical element manufacturing apparatus comprising:
さらに、前記成形室内の不活性ガスに含まれる酸素の濃度を測定し、前記濃度の値を濃度測定信号として外部に出力できる酸素濃度計を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。 In the optical element manufacturing apparatus according to claim 1,
The optical element manufacturing apparatus further includes an oxygen concentration meter capable of measuring the concentration of oxygen contained in the inert gas in the molding chamber and outputting the concentration value to the outside as a concentration measurement signal.
さらに、前記酸素濃度計から出力される前記濃度測定信号を受信し、当該濃度測定信号によって前記循環路に設けられた開閉弁の開閉を制御するコントロールユニットを含むことを特徴とする光学素子の製造装置。 In the optical element manufacturing apparatus according to claim 2,
The optical element manufacturing method further includes a control unit that receives the concentration measurement signal output from the oximeter and controls the opening / closing of an on-off valve provided in the circulation path based on the concentration measurement signal. apparatus.
さらに、前記循環路に設けられ前記成形室内の不活性ガスを前記触媒チャンバに強制的に循環させる送風手段を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。 In the optical element manufacturing apparatus according to claim 1,
The apparatus for manufacturing an optical element, further comprising a blowing unit provided in the circulation path and forcibly circulating an inert gas in the molding chamber to the catalyst chamber.
さらに、前記触媒チャンバの前記触媒を加熱する加熱手段を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。 In the optical element manufacturing apparatus according to claim 1,
The apparatus for manufacturing an optical element further comprising heating means for heating the catalyst in the catalyst chamber.
さらに、前記循環路内を流れる前記不活性ガスの流量を制御する流量制御手段を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。 In the optical element manufacturing apparatus according to claim 1,
The apparatus for manufacturing an optical element, further comprising flow rate control means for controlling a flow rate of the inert gas flowing in the circulation path.
さらに、前記循環路の前記成形室に対する接続部に設けられ、前記触媒チャンバを経由して前記循環路から前記成形室に流入する前記不活性ガスの流入経路を偏向させるガス偏向手段を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。 In the optical element manufacturing apparatus according to claim 1,
And a gas deflecting unit provided at a connection portion of the circulation path to the molding chamber and deflecting an inflow path of the inert gas flowing into the molding chamber from the circulation path via the catalyst chamber. An optical element manufacturing apparatus.
前記成形室に不活性ガスを供給し、酸素を吸収する触媒を備えた触媒チャンバに前記成形室内の雰囲気を循環させつつ、前記光学素子を成形することを特徴とする光学素子の製造方法。 A method of manufacturing an optical element in which a mold set containing a molding material is put into a molding chamber to mold an optical element,
A method of manufacturing an optical element, wherein the optical element is molded while an atmosphere in the molding chamber is circulated through a catalyst chamber including a catalyst that supplies an inert gas to the molding chamber and absorbs oxygen.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007270595A JP2009096676A (en) | 2007-10-17 | 2007-10-17 | Apparatus and method for manufacturing optical element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007270595A JP2009096676A (en) | 2007-10-17 | 2007-10-17 | Apparatus and method for manufacturing optical element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009096676A true JP2009096676A (en) | 2009-05-07 |
Family
ID=40700025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007270595A Pending JP2009096676A (en) | 2007-10-17 | 2007-10-17 | Apparatus and method for manufacturing optical element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009096676A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013191007A1 (en) * | 2012-06-18 | 2013-12-27 | オリンパス株式会社 | Device for manufacturing glass optical element, and method for manufacturing glass optical element |
DE112012005570B4 (en) | 2012-01-05 | 2018-11-22 | AGC Inc. | Forming device and molding method for glass housing |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05238763A (en) * | 1992-02-25 | 1993-09-17 | Toshiba Mach Co Ltd | Method and device for molding glass lens |
JPH08173748A (en) * | 1994-12-26 | 1996-07-09 | Japan Pionics Co Ltd | Method and apparatus for purifying inactive gas |
JP2003137570A (en) * | 2001-10-26 | 2003-05-14 | Toshiba Mach Co Ltd | Method for molding optical element |
JP2007001785A (en) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Ckd Corp | Purification tube and circulation purifying apparatus for air or inert gas |
-
2007
- 2007-10-17 JP JP2007270595A patent/JP2009096676A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05238763A (en) * | 1992-02-25 | 1993-09-17 | Toshiba Mach Co Ltd | Method and device for molding glass lens |
JPH08173748A (en) * | 1994-12-26 | 1996-07-09 | Japan Pionics Co Ltd | Method and apparatus for purifying inactive gas |
JP2003137570A (en) * | 2001-10-26 | 2003-05-14 | Toshiba Mach Co Ltd | Method for molding optical element |
JP2007001785A (en) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Ckd Corp | Purification tube and circulation purifying apparatus for air or inert gas |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112012005570B4 (en) | 2012-01-05 | 2018-11-22 | AGC Inc. | Forming device and molding method for glass housing |
WO2013191007A1 (en) * | 2012-06-18 | 2013-12-27 | オリンパス株式会社 | Device for manufacturing glass optical element, and method for manufacturing glass optical element |
JP2014001097A (en) * | 2012-06-18 | 2014-01-09 | Olympus Corp | Device and method for manufacturing glass optical element |
CN104039716A (en) * | 2012-06-18 | 2014-09-10 | 奥林巴斯株式会社 | Device for manufacturing glass optical element, and method for manufacturing glass optical element |
CN104039716B (en) * | 2012-06-18 | 2016-09-28 | 奥林巴斯株式会社 | The manufacture device of glass optical component and the manufacture method of glass optical component |
US9475721B2 (en) | 2012-06-18 | 2016-10-25 | Olympus Corporation | Apparatus and method for manufacturing glass optical element |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010084723A (en) | Cooling apparatus for vehicle engine | |
KR101023734B1 (en) | Apparatus for temperature test for memory module | |
JP2013122844A (en) | Battery temperature control mechanism | |
JP2009096676A (en) | Apparatus and method for manufacturing optical element | |
CN106288798A (en) | There is the pressure sintering furnace of quick cooling function | |
KR20120005977A (en) | Substrate processing apparatus and heating equipment | |
JP6215465B2 (en) | Winding device for rolling coil | |
US20030037573A1 (en) | Roller table for carrying and transporting a hot glass band | |
JP4754358B2 (en) | Adsorption tower for gas purification and method for regenerating adsorbent in adsorption tower | |
KR100639141B1 (en) | Press forming machine for glass | |
JP2014032920A (en) | Temperature adjusting device | |
JP2008297156A (en) | Apparatus and method for manufacturing optical device | |
JP3911567B2 (en) | Thermal shock test equipment | |
JP4790570B2 (en) | Optical element manufacturing method | |
JP5169158B2 (en) | Substrate heat treatment equipment | |
JP5467626B2 (en) | Deodorizing device control method | |
WO2015141057A1 (en) | Temperature control device and control method therefor | |
JP4444482B2 (en) | Crystalline silicon production equipment | |
JP4382730B2 (en) | Electric injection device | |
JP2013079434A (en) | Apparatus for cooling annealing furnace | |
JP2005203210A (en) | Temperature control device of battery | |
JP2001205331A (en) | Dir cooling apparatus | |
IT201800004581A1 (en) | PLASTIC INJECTION MOLDING EQUIPMENT | |
JPH11274039A (en) | Substrate heat-treating apparatus and substrate heat-treating method therefor | |
TWI778897B (en) | Temperature adjustment method for pressure oven and pressure oven |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100825 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110816 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111220 |