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JP2006302369A - Semiconductor integrated circuit apparatus - Google Patents

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JP2006302369A
JP2006302369A JP2005121447A JP2005121447A JP2006302369A JP 2006302369 A JP2006302369 A JP 2006302369A JP 2005121447 A JP2005121447 A JP 2005121447A JP 2005121447 A JP2005121447 A JP 2005121447A JP 2006302369 A JP2006302369 A JP 2006302369A
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Japan
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power supply
bank
integrated circuit
semiconductor integrated
read
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JP2005121447A
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Japanese (ja)
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Tatsuya Hiramatsu
辰也 平松
Tomohito Kono
智仁 河野
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit apparatus in which read-out margin can be increased. <P>SOLUTION: The semiconductor integrated circuit apparatus is provided with a bank 12 arranged in an array state and memory cells being re-writable electrically and respectively, a wiring 16 for read-out to which a read-out signal from the bank is input, a first sense amplifier 14 to which the read-out signal is input, a wiring 15 for write-in/erasure performing write-in/erasure for the memory cell, and bank constituting circuits 11-1 to 11-5 provided with a power supply selecting circuit 13 supplying write-in voltage and erasing voltage to the wiring for write-in/erasure. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、半導体集積回路装置に関し、例えば、NOR型フラッシュ(Flash)メモリ等に適用されるものである。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and is applied to, for example, a NOR type flash memory.

従来より、例えば、NOR型フラッシュメモリ(例えば、特許文献1参照)等のメモリセルに書き込み/消去する際の高電位(15V程度)や、セルをデコードするデコード信号によって、ノイズが発生することが知られている。   Conventionally, for example, noise is generated by a high potential (about 15 V) when writing / erasing a memory cell such as a NOR flash memory (for example, see Patent Document 1) or a decode signal for decoding the cell. Are known.

そして、メモリセルを読み出す際に、かかるノイズが読み出し用の信号線に伝搬すると、この信号線に接続されたセンスアンプ等の読み出す系の回路が誤動作する。そのため、かかるノイズによる誤動作によって、誤ったセルデータを出力してしまう。結果、センスアンプ等の読み出しマージンが低下するという問題があった。   When the memory cell is read, if such noise propagates to the read signal line, a read system circuit such as a sense amplifier connected to the signal line malfunctions. For this reason, erroneous cell data is output due to a malfunction caused by such noise. As a result, there is a problem that the read margin of the sense amplifier or the like is lowered.

上記のように従来の半導体集積回路装置では、読み出しマージンが低下するという事情があった。
特開2001−325795号公報 明細書
As described above, the conventional semiconductor integrated circuit device has a situation in which the read margin decreases.
JP 2001-325795 A Specification

この発明は上記のような事情に鑑みて、読み出しマージンを増大できる半導体集積回路装置を提供する。   In view of the above circumstances, the present invention provides a semiconductor integrated circuit device capable of increasing a read margin.

この発明の一態様によれば、アレイ状に配置され、それぞれが電気的に書き換え可能なメモリセルを有したバンクと、前記バンクからの読み出し信号が入力される読み出し用配線と、前記読み出し信号が入力される第1センスアンプと、前記メモリセルに書き込み及び消去を行う書き込み/消去用配線と、前記書き込み/消去用配線に書き込み電圧及び消去電圧を供給する電源選択回路とを備えたバンク構成回路を具備する半導体集積回路装置を提供できる。   According to one aspect of the present invention, banks that are arranged in an array and each have electrically rewritable memory cells, a read wiring to which a read signal from the bank is input, and the read signal are A bank configuration circuit comprising: a first sense amplifier that is input; a write / erase wiring for writing and erasing the memory cell; and a power supply selection circuit for supplying a write voltage and an erase voltage to the write / erase wiring A semiconductor integrated circuit device can be provided.

この発明によれば、読み出しマージンを増大できる半導体集積回路装置が得られる。   According to the present invention, a semiconductor integrated circuit device capable of increasing the read margin can be obtained.

以下、この発明の実施形態について図面を参照して説明する。尚、この説明においては、全図にわたり共通の部分には共通の参照符号を付す。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this description, common parts are denoted by common reference symbols throughout the drawings.

[第1の実施形態]
この発明の第1の実施形態に係る半導体集積回路装置について、図1を用いて説明する。図1は、第1の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。
[First Embodiment]
A semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a plan view showing the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment.

図示するように、複数のバンク構成回路11−1〜11−4がアレイ状に設けられている。このバンク構成回路11−1〜11−4は、書き込み動作/消去動作と、読み出し動作とをこのバンク構成回路内で行うことができるように構成されている。   As illustrated, a plurality of bank configuration circuits 11-1 to 11-4 are provided in an array. The bank configuration circuits 11-1 to 11-4 are configured such that a write operation / erase operation and a read operation can be performed in the bank configuration circuit.

バンク構成回路11−1〜11−4はチップのセルアレイを構成する最小のユニットである。そして、バンク構成回路11−1〜11−4のそれぞれは、バンク12、ボルディック(Voldec)回路(電源選択回路)13、センスアンプ(S/A)14、書き込み/消去用配線15、読み出しビット線16を備えている。   The bank configuration circuits 11-1 to 11-4 are the smallest units constituting the chip cell array. Each of the bank configuration circuits 11-1 to 11-4 includes a bank 12, a Voldec circuit (power selection circuit) 13, a sense amplifier (S / A) 14, a write / erase wiring 15, and a read bit. Line 16 is provided.

バンク12は、メモリセルアレイ22、およびこのメモリセルアレイ22中のメモリセルMCを選択するためのセルデコーダ回路17を備えている。   The bank 12 includes a memory cell array 22 and a cell decoder circuit 17 for selecting a memory cell MC in the memory cell array 22.

メモリセルアレイ22は、読み出しビット線16とワード線WLの交差位置にそれぞれ設けられた複数のメモリセルMCを有している。メモリセルMCは、この実施形態では、スタック・ゲート構造の不揮発性メモリセルをその一例として示している。   The memory cell array 22 has a plurality of memory cells MC provided at intersections of the read bit lines 16 and the word lines WL. In this embodiment, the memory cell MC is a non-volatile memory cell having a stacked gate structure as an example.

セルデコード回路17は、カラム方向に沿ったメモリセル列(1PAGE)を選択する選択トランジスタTR1、およびメモリセルMCに書き込み電圧/消去電圧を転送する転送トランジスタTR2を有している。   The cell decode circuit 17 includes a selection transistor TR1 that selects a memory cell column (1PAGE) along the column direction, and a transfer transistor TR2 that transfers a write voltage / erase voltage to the memory cell MC.

選択トランジスタTR1のゲートおよびソース/ドレインの一方は、書き込み/消去用配線15に接続され、ソース/ドレインの他方はメモリセルMCのソースに接続されている。転送トランジスタTR2のゲートおよびソース/ドレインの一方は、書き込み/消去用配線15に接続され、ソース/ドレインの他方はメモリセルMCのゲートに接続されている。   One of the gate and the source / drain of the selection transistor TR1 is connected to the write / erase wiring 15, and the other of the source / drain is connected to the source of the memory cell MC. One of the gate and the source / drain of the transfer transistor TR2 is connected to the write / erase wiring 15, and the other of the source / drain is connected to the gate of the memory cell MC.

ボルディック回路(電源選択回路)13は、書き込み回路や消去回路とそのコントロール回路を含み、所定のセルデコード回路17に書き込み電圧及び消去電圧となるセルデコード信号18を供給するように構成されている。   The boldic circuit (power supply selection circuit) 13 includes a write circuit, an erase circuit, and its control circuit, and is configured to supply a cell decode signal 18 serving as a write voltage and an erase voltage to a predetermined cell decode circuit 17. .

センスアンプ14は、バンク12から読み出されたデータを増幅して読み出すように構成されている。   The sense amplifier 14 is configured to amplify and read data read from the bank 12.

書き込み/消去用配線15は、ロウ方向に沿ってセルデコーダ回路17とボルディック回路13とを電気的に接続し、書き込み電圧及び消去電圧となるセルデコード信号18が入力される。   The write / erase wiring 15 electrically connects the cell decoder circuit 17 and the boldic circuit 13 along the row direction, and receives a cell decode signal 18 serving as a write voltage and an erase voltage.

読み出しビット線16は、ロウ方向に沿ってメモリセルアレイ22とセンスアンプ14とを電気的に接続し、メモリセルMCの読み出し信号が入力される。   The read bit line 16 electrically connects the memory cell array 22 and the sense amplifier 14 along the row direction, and receives a read signal of the memory cell MC.

尚、上記書き込み/消去用配線15及び読み出しビット線16の本数は、一例であり、さらに複数本あってもよいことは勿論である。   The number of the write / erase wirings 15 and the read bit lines 16 is only an example, and it is needless to say that there may be more than one.

次に、この実施形態に係る半導体集積回路の動作について説明する。   Next, the operation of the semiconductor integrated circuit according to this embodiment will be described.

バンク構成回路11−1が読み出し動作を行い、バンク構成回路11−3が書き込み/消去動作を行う場合を例に挙げて説明する。   An example will be described in which the bank configuration circuit 11-1 performs a read operation and the bank configuration circuit 11-3 performs a write / erase operation.

まず、バンク構成回路(読み出しバンク)11−1のバンク12中の選択されたメモリセルMCから読み出されたセルデータが読み出し用ビット線16に入力され、センスアンプ14により増幅されて読み出される。   First, cell data read from the selected memory cell MC in the bank 12 of the bank configuration circuit (read bank) 11-1 is input to the read bit line 16, amplified by the sense amplifier 14, and read.

一方、バンク構成回路(書き込み/消去バンク)11−3のバンク12中のあるメモリセルMCに対して書き込み/消去するために、ボルディック回路13から書き込み電圧/消去電圧が書き込み/消去用配線15に印加される。そして、バンク構成回路11−3の所望のメモリセルMCに対して書き込み/消去動作を行う。ここで、この書き込み/消去動作の際には、バンク構成回路11−3の配線15に印加される上記書き込み電圧/消去電圧となるセルデコード信号18によって、ノイズが発生する場合がある。   On the other hand, in order to write / erase a certain memory cell MC in the bank 12 of the bank configuration circuit (write / erase bank) 11-3, the write / erase voltage is supplied from the Bordic circuit 13 to the write / erase wiring 15. To be applied. Then, a write / erase operation is performed on a desired memory cell MC of the bank configuration circuit 11-3. Here, at the time of the write / erase operation, noise may be generated by the cell decode signal 18 which becomes the write voltage / erase voltage applied to the wiring 15 of the bank configuration circuit 11-3.

上記のように、この実施形態に係る半導体集積回路装置は、それぞれのバンク構成回路11−1〜11−4に対してそれぞれセンスアンプ14を備えている。   As described above, the semiconductor integrated circuit device according to this embodiment includes the sense amplifiers 14 for the respective bank configuration circuits 11-1 to 11-4.

そのため、上記書き込み/消去動作の際に、バンク構成回路11−3の配線15に印加される書き込み電圧/消去電圧となるセルデコード信号18によってノイズが発生した場合であっても、読み出し動作を行っているバンク構成回路11−1のセンスアンプ14は、かかるノイズに影響されたデータを読み出すことはない。結果、誤読み出しを防止でき、所望のセルデータを読み出すことができる。   For this reason, the read operation is performed even when noise occurs due to the cell decode signal 18 that becomes the write voltage / erase voltage applied to the wiring 15 of the bank configuration circuit 11-3 during the write / erase operation. The sense amplifier 14 of the bank configuration circuit 11-1 does not read data affected by such noise. As a result, erroneous reading can be prevented and desired cell data can be read.

結果、読み出しマージンを増大でき、誤ったデータの出力を防止できる点で有利である。   As a result, it is advantageous in that a read margin can be increased and erroneous data output can be prevented.

ここで、読み出しビット線16と書き込み/消去用配線15は、ボルディック回路13上においては交差する部分あるため、セルデータがノイズの影響を受けるとも考えられる。しかし、上述したようにバンク構成回路11−1〜11−4は、読み出し動作と書き込み/消去動作とを同時に行うことがないため、かかる交差する部分は誤読み出しに関して問題とはならない。   Here, since the read bit line 16 and the write / erase wiring 15 intersect each other on the boldic circuit 13, the cell data may be affected by noise. However, as described above, since the bank configuration circuits 11-1 to 11-4 do not perform the read operation and the write / erase operation at the same time, such an intersecting portion does not cause a problem regarding erroneous read.

以上のように、この実施形態に係る構成によれば、読み出し動作と書き込み/消去動作とを1つのバンク構成回路11−1〜11−4内で閉じて行うことができる。そのため、その他のバンク構成回路11−1〜11−4の書き込み/消去動作の際のノイズの影響を受けることを防止でき、誤読み出しを防止できる点で有利である。   As described above, according to the configuration according to this embodiment, the read operation and the write / erase operation can be performed in a single bank configuration circuit 11-1 to 11-4. This is advantageous in that it can be prevented from being affected by noise during the write / erase operations of the other bank configuration circuits 11-1 to 11-4, and erroneous reading can be prevented.

[第2の実施形態]
次に、この発明の第2の実施形態に係る半導体集積回路装置について、図2及び図3を用いて説明する。図2は、この実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。図3は、図2中のバンク構成回路11−3を抽出して示す平面図である。この説明において、上記第1の実施形態と重複する部分の説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, a semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a plan view showing the semiconductor integrated circuit device according to this embodiment. FIG. 3 is a plan view showing an extracted bank configuration circuit 11-3 in FIG. In this description, the description of the same parts as those in the first embodiment is omitted.

図示するように、上記第1の実施形態と同様のバンク構成回路11−1〜11−12がアレイ状に配置されている。そして、それぞれのセンスアンプ14がバンク12とボルディック回路13との間に配置され、カラム方向に沿ったボルディック回路13上に電源配線21−1、21−2が配置されている点で、上記第1の実施形態に係る半導体集積回路装置と相違している。   As illustrated, bank configuration circuits 11-1 to 11-12 similar to those in the first embodiment are arranged in an array. And each sense amplifier 14 is arrange | positioned between the bank 12 and the Bordic circuit 13, and the power supply wiring 21-1, 21-2 is arrange | positioned on the Bordic circuit 13 along a column direction, This is different from the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment.

さらに、図3に示すように、バンク構成回路11−3は、バンク12中に設けられた複数のセルアレイ22−1〜22−8と、このセルアレイ22−1〜22−8上にロウ方向に沿って設けられた読み出しビット線16を備えている。この読み出しビット線16に入力されたセルアレイ22−1〜22−8からの読み出し信号が、センスアンプ14に出力される。そして、この読み出し信号がセンスアンプ14により増幅されて読み出される。   Further, as shown in FIG. 3, the bank configuration circuit 11-3 includes a plurality of cell arrays 22-1 to 22-8 provided in the bank 12, and a row direction on the cell arrays 22-1 to 22-8. A read bit line 16 is provided. Read signals from the cell arrays 22-1 to 22-8 input to the read bit line 16 are output to the sense amplifier 14. The read signal is amplified and read by the sense amplifier 14.

尚、上記電源配線21−1、22−2は、電源用の配線に限らず、ボルディック回路13において使用される配線であれば良く、例えば、コントロール配線等であっても良い。   The power supply wirings 21-1 and 22-2 are not limited to power supply wirings, and may be any wiring used in the Bordic circuit 13, and may be control wirings, for example.

上記のように、この実施形態に係る半導体集積回路装置によれば、上記第1の実施形態と同様の効果が得られる。   As described above, according to the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

さらに、バンク構成回路11−1〜11−12のそれぞれのセンスアンプ14がバンク12とボルディック回路13との間に配置されている。そして、カラム方向に沿ったボルディック回路13上に配置された電源配線21−1とビット線16とは交差することはない。   Further, the sense amplifiers 14 of the bank configuration circuits 11-1 to 11-12 are arranged between the bank 12 and the boldic circuit 13. The power supply wiring 21-1 and the bit line 16 arranged on the Boldic circuit 13 along the column direction do not intersect.

そのため、セルアレイ22−1〜22−8からの読み出し信号を、ビット線16を介して、直接センスアンプ14に入力することができる。結果、この電源配線21−1に他のバンク構成回路11−1〜11−6で書き込み及び消去動作を行った際のノイズが発生した場合であっても、センスアンプ14がこのノイズの影響を受けることがなく、読み出しマージンを増大できる点で有利である。   Therefore, read signals from the cell arrays 22-1 to 22-8 can be directly input to the sense amplifier 14 via the bit line 16. As a result, even if noise occurs when writing and erasing operations are performed on the power supply wiring 21-1 by the other bank configuration circuits 11-1 to 11-6, the sense amplifier 14 is affected by this noise. This is advantageous in that the read margin can be increased.

[第3の実施形態]
次に、この発明の第3の実施形態に係る半導体集積回路装置について、図4及び図5を用いて説明する。図4は、この実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。この説明において、上記第1の実施形態と重複する部分の説明を省略する。
[Third Embodiment]
Next, a semiconductor integrated circuit device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a plan view showing the semiconductor integrated circuit device according to this embodiment. In this description, the description of the same parts as those in the first embodiment is omitted.

図示するように、バンク構成回路11−1、11−2が、シールド線25−1、25−2、ノイズ低減用トランジスタ31−1、31−2、及び基幹電源線30を備えている点で上記第1の実施形態と相違している。   As shown in the figure, the bank configuration circuits 11-1 and 11-2 include shield lines 25-1 and 25-2, noise reduction transistors 31-1 and 31-2, and a main power supply line 30. This is different from the first embodiment.

シールド線25−1は、メモリセルアレイ22−1からセンスアンプ14−1までの読み出しビット線(メタル配線)16−1をグランドレベルでシールドするために、読み出しビット線16−1の間にロウ方向に沿って設けられている。シールド線25−2は、メモリセルアレイ22−2からセンスアンプ14−2までの読み出しビット線16−2をグランドレベルでシールドするために、読み出しビット線16−2の間にロウ方向に沿って設けられている。   The shield line 25-1 is arranged in the row direction between the read bit lines 16-1 to shield the read bit lines (metal wiring) 16-1 from the memory cell array 22-1 to the sense amplifier 14-1 at the ground level. It is provided along. The shield line 25-2 is provided along the row direction between the read bit lines 16-2 in order to shield the read bit lines 16-2 from the memory cell array 22-2 to the sense amplifier 14-2 at the ground level. It has been.

ノイズ低減用トランジスタ31−1は、電流経路の一端がシールド線25−1に接続され、電流経路の他端が基幹電源線30に接続されている。ノイズ低減用トランジスタ31−2は、電流経路の一端がシールド線25−2に接続され、電流経路の他端が基幹電源線30に接続されている。このトランジスタ31−1、31−2は、制御端子に所望の電位が常時印加されて、その電流経路が常時導通状態(ON)となっている。   In the noise reduction transistor 31-1, one end of the current path is connected to the shield line 25-1, and the other end of the current path is connected to the main power supply line 30. In the noise reduction transistor 31-2, one end of the current path is connected to the shield line 25-2, and the other end of the current path is connected to the main power supply line 30. In the transistors 31-1 and 31-2, a desired potential is constantly applied to the control terminal, and the current path is always in a conductive state (ON).

基幹電源線30は、ボルディック回路13−1、13−2に接続され、いわゆるVSS電源に接続されている。   The main power supply line 30 is connected to the Bordic circuits 13-1 and 13-2, and is connected to a so-called VSS power supply.

尚、図5は、トランジスタ31−1、31−2に変わり得るノイズ低減素子を示す図である。(a)はキャパシタ32の例であり、(b)は抵抗素子33の例であり、(c)はノイズ低減素子を示す図である。キャパシタ32は、電極の一端及び他端がシールド線と基幹電源線の間に接続されている。抵抗素子33は、その一端及び他端がシールド線と基幹電源線の間に接続されている。   FIG. 5 is a diagram showing a noise reduction element that can be changed to the transistors 31-1 and 31-2. (A) is an example of capacitor 32, (b) is an example of resistance element 33, and (c) is a figure showing a noise reduction element. The capacitor 32 has one end and the other end of the electrode connected between the shield line and the main power line. One end and the other end of the resistance element 33 are connected between the shield line and the main power supply line.

上記のように、この実施形態に係る半導体集積回路装置によれば、上記第1の実施形態と同様の効果が得られる。   As described above, according to the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

さらに、バンク構成回路11−1、11−2は、電流経路の一端がシールド線25−1、25−2に接続され他端が基幹電源線30に接続されたノイズ低減用トランジスタ31−1、31−2を備えている。このトランジスタ31−1、31−2は、常時導通状態とされている。   Further, the bank constituent circuits 11-1 and 11-2 have noise reduction transistors 31-1 having one end of the current path connected to the shield lines 25-1 and 25-2 and the other end connected to the main power supply line 30. 31-2. The transistors 31-1 and 31-2 are always in a conductive state.

そして、例えば、バンク構成回路11−2のメモリセルアレイ22−1に対して読み出し動作を行っている最中に、バンク構成回路11−1に対し書き込み動作/消去動作を行うと、読み出し動作を行っている回路11−1のボルディック回路13−1においてVSSノイズ28が発生する場合がある。かかる場合に、VSSノイズ28が、読み出し動作を行っているバンク構成回路11−2のシールド線25−2に伝搬すると、読み出しビット線16−2がカップリングにより誤動作し、誤ったデータを出力するとも考えられる。   For example, if a write operation / erase operation is performed on the bank configuration circuit 11-1 while a read operation is being performed on the memory cell array 22-1 of the bank configuration circuit 11-2, the read operation is performed. In some cases, the VSS noise 28 may occur in the Bordic circuit 13-1 of the circuit 11-1. In this case, if the VSS noise 28 propagates to the shield line 25-2 of the bank configuration circuit 11-2 that is performing the read operation, the read bit line 16-2 malfunctions due to coupling and outputs incorrect data. Is also possible.

しかし、シールド線25−1、25−2と基幹電源線30との間に上記ノイズ低減用トランジスタ31−1、31−2が設けられている。そのため、このトランジスタ31−1、31−2のいわゆるオン抵抗によって、このノイズ28を“なまし”、ノイズ28を低減することができる。結果、読み出しバンク構成回路11−2以外のバンク構成回路11−1の動作によるノイズ28が、読み出しバンク構成回路11−2のシールド線16−2に伝搬するノイズを低減でき、所望の正しいセルデータを読み出すことができる点で有利である。   However, the noise reduction transistors 31-1 and 31-2 are provided between the shield lines 25-1 and 25-2 and the main power supply line 30. Therefore, the noise 28 can be “smoothed” and reduced by the so-called on-resistance of the transistors 31-1 and 31-2. As a result, the noise 28 caused by the operation of the bank configuration circuit 11-1 other than the read bank configuration circuit 11-2 can be reduced and the noise propagated to the shield line 16-2 of the read bank configuration circuit 11-2 can be reduced. Is advantageous in that it can be read out.

尚、上記図5(a)〜(c)に示したように、トラジスタ31−1、31−2に限らず、例えば、キャパシタ32、抵抗素子33等のノイズ低減素子34によっても同様の効果が得られる。   As shown in FIGS. 5A to 5C, the same effect can be obtained not only by the transistors 31-1 and 31-2 but also by the noise reduction element 34 such as the capacitor 32 and the resistance element 33, for example. can get.

[第4の実施形態]
次に、この発明の第4の実施形態に係る半導体集積回路装置について、図6を用いて説明する。この説明において、上記第1の実施形態と重複する部分の説明を省略する。
[Fourth Embodiment]
Next, a semiconductor integrated circuit device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this description, the description of the same parts as those in the first embodiment is omitted.

図示するように、この実施形態に係る半導体集積回路装置は、基幹電源線30、40、41、42、VSSパッド45、47、VDDパッド46、48、配線51、52、及びチャージポンプ周辺回路43を備えている点で、上記第1の実施形態と相違している。   As shown in the figure, the semiconductor integrated circuit device according to this embodiment includes basic power supply lines 30, 40, 41, 42, VSS pads 45, 47, VDD pads 46, 48, wirings 51, 52, and a charge pump peripheral circuit 43. Is different from the first embodiment.

基幹電源線30は、ボルディック回路13−1、13−2にVSS電源を供給するためにカラム方向に沿って設けられ、配線51を介してVSSパッド45に接続されている。基幹電源線40は、ボルディック回路13−1、13−2にVDD電源を供給するためにカラム方向に沿って設けられ、配線52を介してVDDパッド46に接続されている。   The main power supply line 30 is provided along the column direction in order to supply VSS power to the Bordic circuits 13-1 and 13-2, and is connected to the VSS pad 45 through the wiring 51. The main power supply line 40 is provided along the column direction in order to supply VDD power to the Bordic circuits 13-1 and 13-2, and is connected to the VDD pad 46 through the wiring 52.

基幹電源線41は、センスアンプ14−1、14−2にVSS電源を供給するためにカラム方向に沿って設けられ、VSSパッド47に接続されている。基幹電源線42は、センスアンプ14−1、14−2にVDD電源を供給するためにカラム方向に沿って設けられ、VDDパッド48に接続されている。   The main power supply line 41 is provided along the column direction in order to supply VSS power to the sense amplifiers 14-1 and 14-2, and is connected to the VSS pad 47. The main power supply line 42 is provided along the column direction to supply VDD power to the sense amplifiers 14-1 and 14-2, and is connected to the VDD pad 48.

チャージポンプ周辺回路43は、ロジック回路、出力バッファ等を備え、配線51、52を介して基幹電源線30、40に接続されている。   The charge pump peripheral circuit 43 includes a logic circuit, an output buffer, and the like, and is connected to the main power supply lines 30 and 40 via wirings 51 and 52.

上記のように、この実施形態に係る半導体集積回路装置によれば、上記第1の実施形態と同様の効果が得られる。   As described above, according to the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

さらに、センスアンプ14−1、14−2にVSS、VDD電源を印加する基幹電源線41、42が設けられ、ボルディック回路13−1、13−2等のその他の回路にVSS、VDD電源を印加する基幹電源線30、40が設けられ、センスアンプ系の回路とそれ以外との回路の基幹電源線をパッドから分離している。   Further, main power supply lines 41 and 42 for applying VSS and VDD power to the sense amplifiers 14-1 and 14-2 are provided, and VSS and VDD power are supplied to other circuits such as the Bordic circuits 13-1 and 13-2. The main power supply lines 30 and 40 to be applied are provided, and the main power supply lines of the sense amplifier circuit and the other circuits are separated from the pads.

そのため、センスアンプ14−1、14−2系のVSS、VDD電源線と、それ以外の回路13−1、13−2系にVSS、VDD電源線とを電気的に分離することができる。結果、例えば、バンク構成回路11−1の書き込み動作/消去動作の際に発生したノイズ28が、読み出し動作を行っているバンク構成回路11−2のセンスアンプ14−2に伝搬することを防止でき、センスアンプ14−2の誤判定を防止して、所望の正しいセルデータを読み出すことができる点で有利である。   Therefore, the VSS and VDD power supply lines of the sense amplifiers 14-1 and 14-2 can be electrically separated from the VSS and VDD power supply lines in the other circuits 13-1 and 13-2. As a result, for example, the noise 28 generated during the write / erase operation of the bank configuration circuit 11-1 can be prevented from propagating to the sense amplifier 14-2 of the bank configuration circuit 11-2 performing the read operation. This is advantageous in that erroneous determination of the sense amplifier 14-2 can be prevented and desired correct cell data can be read out.

また、基幹電源線30、40、41、42ごとに対応するパッド45、46、47、48を設けている。そのため、基幹電源線30等の電源線の太さを、対応するパッド45等の幅程度にすることができ、印加する電圧値をその太さの許容範囲にまで増大できる点で有利である。   Also, pads 45, 46, 47, 48 corresponding to the main power supply lines 30, 40, 41, 42 are provided. Therefore, the thickness of the power supply line such as the main power supply line 30 can be reduced to the width of the corresponding pad 45 or the like, which is advantageous in that the voltage value to be applied can be increased to an allowable range of the thickness.

[変形例1]
次に、この発明の上記第4の実施形態の変形例1に係る半導体集積回路装置について、図7を用いて説明する。図7は、この変形例1に係る半導体集積回路装置を示す図である。この説明において、上記第4の実施形態と重複する部分の説明を省略する。
[Modification 1]
Next, a semiconductor integrated circuit device according to Modification 1 of the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a diagram showing a semiconductor integrated circuit device according to the first modification. In this description, the description of the same parts as those in the fourth embodiment is omitted.

図示するように、基幹電源線30、41がVSSパット45に接続され、基幹電源線40、42がVDDパッド46に接続されている点で上記第4の実施形態と相違している。即ち、パッド45、46自体はセンスアンプ14−1、14−2系回路とその他の回路13−1、13−2系とで共通とし、パッド45、46から以降をセンスアンプ14−1、14−2系回路とその他の回路13−1、13−2とで分離している。そのため、パッド45、46からロウ方向に基幹電源線41、42がそれぞれ引き出され、分離されている。   As shown, the main power supply lines 30 and 41 are connected to the VSS pad 45, and the main power supply lines 40 and 42 are connected to the VDD pad 46, which is different from the fourth embodiment. That is, the pads 45 and 46 themselves are common to the sense amplifiers 14-1 and 14-2 system circuits and the other circuits 13-1 and 13-2 systems. -2 system circuit and the other circuits 13-1 and 13-2 are separated. Therefore, the main power supply lines 41 and 42 are drawn out from the pads 45 and 46 in the row direction and separated.

上記のような構成によれば、上記第4の実施形態と同様の効果が得られる。   According to the above configuration, the same effect as in the fourth embodiment can be obtained.

さらに、この実施形態によれば、上記第4の実施形態における一対のパッド48、47が不要であるため、パット48、47分のパッドエリアの削減できる。そのため、微細化に対して有利である。かつ、上記と同様に、ノイズによる誤読み出しを防止でき、所望の正しいセルデータを読み出すことができる点で有利である。   Furthermore, according to this embodiment, since the pair of pads 48 and 47 in the fourth embodiment are unnecessary, the pad area for the pads 48 and 47 can be reduced. Therefore, it is advantageous for miniaturization. In addition, as described above, it is advantageous in that erroneous reading due to noise can be prevented and desired correct cell data can be read.

[変形例2]
次に、この発明の上記第4の実施形態の変形例2に係る半導体集積回路装置について、図8を用いて説明する。この説明において、上記第4の実施形態と重複する部分の説明を省略する。
[Modification 2]
Next, a semiconductor integrated circuit device according to Modification 2 of the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this description, the description of the same parts as those in the fourth embodiment is omitted.

図示するように、基幹電源線59、60、61、62と、配線55、56とを更に備えている点で、上記第4の実施形態と相違している。   As shown in the figure, this embodiment is different from the fourth embodiment in that it further includes main power supply lines 59, 60, 61, 62 and wirings 55, 56.

基幹電源線59はVSSパッド45に接続され、基幹電源線61は配線55を介して共通のVSSパッド45に接続されている。基幹電源線60はVDDパッド46に接続され、基幹電源線62は配線56を介して共通のVDDパッド46に接続されている。   The main power supply line 59 is connected to the VSS pad 45, and the main power supply line 61 is connected to the common VSS pad 45 via the wiring 55. The main power supply line 60 is connected to the VDD pad 46, and the main power supply line 62 is connected to the common VDD pad 46 via the wiring 56.

即ち、パッド45、46自体はセンスアンプ14−1、14−2系回路とその他の回路13−1、13−2系とで共通とし、パッド45、46からセンスアンプ14−1、14−2系回路とその他の回路13−1、13−2とを電気的に分離している。そのため、パッド45、46からロウ方向に基幹電源線59、60、61、62が更にそれぞれ引き出し、分離されている。   That is, the pads 45 and 46 themselves are common to the sense amplifiers 14-1 and 14-2 system circuit and the other circuits 13-1 and 13-2 system, and the pads 45 and 46 are connected to the sense amplifiers 14-1 and 14-2. The system circuit and the other circuits 13-1 and 13-2 are electrically separated. Therefore, the main power supply lines 59, 60, 61, 62 are further drawn out from the pads 45, 46 in the row direction and separated.

上記のような構成によれば、上記変形例1に係る半導体集積回路装置と同様の効果が得られる。さらに、必要に応じてこのような構成をとることも可能である。   According to the above configuration, the same effect as the semiconductor integrated circuit device according to Modification 1 can be obtained. Furthermore, it is possible to adopt such a configuration as necessary.

[第5の実施形態]
次に、この発明の第5の実施形態に係る半導体集積回路装置について、図9を用いて説明する。図9は、この実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図である。この説明において、上記第1の実施形態と重複する部分の説明を省略する。
[Fifth Embodiment]
Next, a semiconductor integrated circuit device according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a plan view showing the semiconductor integrated circuit device according to this embodiment. In this description, the description of the same parts as those in the first embodiment is omitted.

図示するように、この実施形態に係る半導体集積回路装置は、バンクアレイ77−1、77−2、データ線65−1、65−2、二段センスアンプ72、及び電源・コントロール回路67を備えている点で上記第1の実施形態と相違している。   As shown in the figure, the semiconductor integrated circuit device according to this embodiment includes bank arrays 77-1 and 77-2, data lines 65-1 and 65-2, a two-stage sense amplifier 72, and a power supply / control circuit 67. This is different from the first embodiment.

バンクアレイ77−1、77−2は、上記バンク構成回路11−1〜11−12がカラム方向に複数個配置されたものである。   The bank arrays 77-1 and 77-2 are obtained by arranging a plurality of the bank configuration circuits 11-1 to 11-12 in the column direction.

データ線65−1は、カラム方向に沿って、バンクアレイ77−1におけるバンク構成回路11−1〜11−6のそれぞれのセンスアンプ14(図示せず)に共通に設けられ、それぞれのセンスアンプ14からの読み出し信号を二段センスアンプ72に出力する。   The data line 65-1 is provided in common to the sense amplifiers 14 (not shown) of the bank configuration circuits 11-1 to 11-6 in the bank array 77-1 along the column direction. 14 is output to the two-stage sense amplifier 72.

データ線65−2は、カラム方向に沿って、バンクアレイ77−2におけるバンク構成回路11−7〜11−12のそれぞれのセンスアンプ14(図示せず)に共通に設けられ、それぞれのセンスアンプ12からの読み出し信号を二段センスアンプ72に出力する。   The data line 65-2 is provided in common to each sense amplifier 14 (not shown) of the bank configuration circuits 11-7 to 11-12 in the bank array 77-2 along the column direction. 12 is output to the two-stage sense amplifier 72.

二段センスアンプ72は、バンク構成回路11−1〜11−12の周辺領域に配置され、データ線65−1、65−2から入力された読み出し信号をさらに増幅してセルデータを読み出すように構成されている。   The two-stage sense amplifier 72 is arranged in the peripheral region of the bank configuration circuits 11-1 to 11-12, and further amplifies the read signals input from the data lines 65-1 and 65-2 to read the cell data. It is configured.

電源・コントロール回路67は、周辺領域に配置され、バンク構成回路11−1〜11−12内のボルディック回路13(図示せず)で使用される電源電圧等を発生するように構成されている。   The power supply / control circuit 67 is arranged in the peripheral region, and is configured to generate a power supply voltage and the like used in the Bordic circuit 13 (not shown) in the bank configuration circuits 11-1 to 11-12. .

また、この電源・コントロール回路67は、ロウ方向に引き出された配線69を介して、ボルディック回路13で使用される電源電圧等を転送している。そして、この配線69は、データ線65−1と交差する部分70−1及びデータ線65−2と交差する部分70−2を有している。この部分70−2は、データ線のノイズによるセンスアンプ72のアンバランスを防止する観点から、ロウ方向に延設された部分である。   The power supply / control circuit 67 transfers a power supply voltage used in the Bordic circuit 13 via a wiring 69 drawn in the row direction. The wiring 69 has a portion 70-1 that intersects with the data line 65-1 and a portion 70-2 that intersects with the data line 65-2. This portion 70-2 is a portion extending in the row direction from the viewpoint of preventing unbalance of the sense amplifier 72 due to noise on the data line.

上記のように、この実施形態に係る半導体集積回路装置によれば、上記第1の実施形態と同様の効果が得られる。   As described above, according to the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

さらに、配線69は、データ線65−1と交差する部分70−1及びデータ線65−2と交差する部分70−2を有している。   Further, the wiring 69 has a portion 70-1 that intersects with the data line 65-1 and a portion 70-2 that intersects with the data line 65-2.

ここで、データ線と交差する部分が部分70−1のみであって、データ読み出し時に、いずれか一方のデータ線65−1、65−2にノイズが発生した場合を考える。この場合には、データ線65−1と交差する部分が部分70−1のみであるため、かかるノイズの影響の受け具合が、データ線65−1、65−2で異なってくる。そのため、センスアンプ72のノイズに対する設定が、データ線65−1、65−2においてアンバランスになってマージン差を生む。   Here, a case where only the portion 70-1 intersects with the data line and noise is generated in any one of the data lines 65-1 and 65-2 at the time of data reading will be considered. In this case, since only the portion 70-1 intersects with the data line 65-1, the degree of influence of such noise differs between the data lines 65-1 and 65-2. Therefore, the setting of the sense amplifier 72 with respect to noise becomes unbalanced in the data lines 65-1 and 65-2, and a margin difference is generated.

しかし、上記のように、配線69はさらにデータ線65−2と交差する部分70−2を有しているため、いずれのデータ線65−1、65−2に対しても、ノイズの環境を同様にすることができる。よって、データ線65−1、65−2に同様のノイズをのせて、ノイズによる影響を均一にすることで、センスアンプ72のノイズに対する設定を均一化でき、読み出しマージンを増大できる点で有利である。換言すると、データ線65−1、65−2のノイズが絶対にのらない構成とすることは困難であることを鑑み、上記のように、データ線65−1、65−2に同様のノイズをのせるように構成している。   However, as described above, since the wiring 69 further has a portion 70-2 that intersects with the data line 65-2, no noise environment is generated for any of the data lines 65-1 and 65-2. The same can be done. Therefore, it is advantageous in that the same noise is put on the data lines 65-1 and 65-2 and the influence of the noise is made uniform, so that the settings for the noise of the sense amplifier 72 can be made uniform and the read margin can be increased. is there. In other words, in view of the fact that it is difficult to make the configuration in which the noise of the data lines 65-1 and 65-2 does not absolutely occur, as described above, the same noise is applied to the data lines 65-1 and 65-2. It is configured to put on.

[第6の実施形態]
次に、この発明の第6の実施形態に係る半導体集積回路装置について、図10及び図11を用いて説明する。図10は、この実施形態に係る半導体集積回路装置を説明するためのもので、半導体チップ81を模式的に示す平面図である。図11は、図10中の二段センスアンプ72の近傍を示す平面図である。この実施形態は、上記第5の実施形態におけるデータ線69の容量に関するものである。この説明において、上記第5の実施形態と重複する部分の説明を省略する。
[Sixth Embodiment]
Next, a semiconductor integrated circuit device according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a plan view schematically showing a semiconductor chip 81 for explaining the semiconductor integrated circuit device according to this embodiment. FIG. 11 is a plan view showing the vicinity of the two-stage sense amplifier 72 in FIG. This embodiment relates to the capacity of the data line 69 in the fifth embodiment. In this description, the description of the same parts as those in the fifth embodiment is omitted.

図示するように、半導体集積回路装置は、バンクアレイ77−3、77−4、データ線65−3、65−4、配線69−2〜69−5を更に備えている点で上記第5の実施形態と相違している。   As shown in the figure, the semiconductor integrated circuit device is further provided with bank arrays 77-3 and 77-4, data lines 65-3 and 65-4, and wirings 69-2 to 69-5. This is different from the embodiment.

電源・コントロール回路67は、ロウ方向に引き出された配線69−1〜69−5を介して、バンクアレイ77−1〜77−4中のボルディック回路13(図示せず)で使用される電源電圧等を転送している。   The power supply / control circuit 67 is a power supply used in the Bordic circuit 13 (not shown) in the bank arrays 77-1 to 77-4 via the wirings 69-1 to 69-5 drawn in the row direction. Voltage etc. are being transferred.

ここで、図11に示すように、配線69−1〜69−5のレイアウト(平面形状)は、二段センスアンプ72の近傍において同様となるように設けられている。より具体的には、例えば、配線69−1中の被覆率が疎の部分の被覆率を密な部分と同程度に増大させて、この部分にダミーの配線69−1aを設けることで、配線69−1の被覆率を均一化し、レイアウトを同様にしている。   Here, as shown in FIG. 11, the layout (planar shape) of the wirings 69-1 to 69-5 is provided in the vicinity of the two-stage sense amplifier 72. More specifically, for example, the coverage of the sparse part in the wiring 69-1 is increased to the same level as that of the dense part, and a dummy wiring 69-1a is provided in this part. The coverage of 69-1 is made uniform, and the layout is the same.

同様に、データ線69−2〜69−5のレイアウト(平面形状)は、二段センスアンプ72の近傍において同様となるように設けられている。より具体的には、配線69−2〜69−5中においても、被覆率が疎の部分の被覆率を密な部分と同程度に増大させて、かかる部分にダミーの配線69−2a〜69−5aを設け、配線69−2〜69−5の被覆率を均一化し、レイアウトを二段センスアンプ72の近傍において同様となるように設けている。   Similarly, the layout (planar shape) of the data lines 69-2 to 69-5 is provided in the vicinity of the two-stage sense amplifier 72. More specifically, in the wirings 69-2 to 69-5, the coverage of the sparse part is increased to the same level as that of the dense part, and dummy wirings 69-2a to 69 are provided in the part. -5a is provided, the coverage of the wires 69-2 to 69-5 is made uniform, and the layout is provided in the vicinity of the two-stage sense amplifier 72.

上記のように、この実施形態に係る半導体集積回路装置によれば、上記第5の実施形態と同様の効果が得られる。   As described above, according to the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the same effects as those of the fifth embodiment can be obtained.

さらに、配線69−1〜69−5中の被覆率が疎な部分にダミーの配線69−1a〜69−5aを設けることで、二段センスアンプ72の近傍における配線69−1〜69−5のレイアウト(平面形状)を同様にしている。   Further, by providing dummy wirings 69-1a to 69-5a in the portions where the coverage is sparse in the wirings 69-1 to 69-5, the wirings 69-1 to 69-5 in the vicinity of the two-stage sense amplifier 72 are provided. The layout (planar shape) is the same.

そのため、配線69−1〜69−5の容量を均一化でき、二段センスアンプ72による読み出しマージンを増大できる点で有利である。また、配線69−1〜69−5の容量を均一化できることから、二段センスアンプ72の読み出し設定を容易にできる。   Therefore, it is advantageous in that the capacitances of the wirings 69-1 to 69-5 can be made uniform and the read margin by the two-stage sense amplifier 72 can be increased. Further, since the capacitances of the wirings 69-1 to 69-5 can be made uniform, the reading setting of the two-stage sense amplifier 72 can be facilitated.

以上、第1乃至第6の実施形態および変形例1、変形例2を用いてこの発明の説明を行ったが、この発明は上記各実施形態および各変形例に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、上記各実施形態および各変形例には種々の発明が含まれており、開示される複数の構成要件の適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、各実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題の少なくとも1つが解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果の少なくとも1つが得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。   As described above, the present invention has been described using the first to sixth embodiments, the first modification, and the second modification. However, the present invention is not limited to each of the above-described embodiments and each modification. In the stage, various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Moreover, various inventions are included in each of the above embodiments and modifications, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements. For example, even if some constituent elements are deleted from all the constituent elements shown in each embodiment, at least one of the problems described in the column of the problem to be solved by the invention can be solved, and is described in the column of the effect of the invention. In a case where at least one of the obtained effects can be obtained, a configuration in which this configuration requirement is deleted can be extracted as an invention.

この発明の第1の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図。1 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention. この発明の第2の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention. 図2中のバンク構成回路を抽出して示す平面図。The top view which extracts and shows the bank structure circuit in FIG. この発明の第3の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図。FIG. 5 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit device according to a third embodiment of the present invention. 図4中のノイズ低減用トランジスタに置換し得るその他の例を示すもので、(a)はキャパシタを示す平面図、(b)は抵抗素子を示す平面図、(c)はノイズ低減素子を示す平面図。FIGS. 4A and 4B show other examples that can be replaced with the noise reduction transistor in FIG. 4, where FIG. 4A is a plan view showing a capacitor, FIG. 4B is a plan view showing a resistance element, and FIG. Plan view. この発明の第4の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit device according to a fourth embodiment of the present invention. この発明の変形例1に係る半導体集積回路装置を示す平面図。The top view which shows the semiconductor integrated circuit device which concerns on the modification 1 of this invention. この発明の変形例2に係る半導体集積回路装置を示す平面図。The top view which shows the semiconductor integrated circuit device which concerns on the modification 2 of this invention. この発明の第5の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図。FIG. 9 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit device according to a fifth embodiment of the present invention. この発明の第6の実施形態に係る半導体集積回路装置を示す平面図。FIG. 9 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit device according to a sixth embodiment of the present invention. 図10中のセンスアンプ近傍を示す平面図。FIG. 11 is a plan view showing the vicinity of a sense amplifier in FIG. 10.

符号の説明Explanation of symbols

11−1〜11−5…バンク構成回路、12…バンク、13…ボルディック回路、14…センスアンプ、15…書き込み/消去用配線、16…読み出しビット線。   11-1 to 11-5: Bank configuration circuit, 12: Bank, 13: Boldic circuit, 14: Sense amplifier, 15: Write / erase wiring, 16: Read bit line.

Claims (5)

アレイ状に配置され、それぞれが電気的に書き換え可能なメモリセルを有したバンクと、前記バンクからの読み出し信号が入力される読み出し用配線と、前記読み出し信号が入力される第1センスアンプと、前記メモリセルに書き込み及び消去を行う書き込み/消去用配線と、前記書き込み/消去用配線に書き込み電圧及び消去電圧を供給する電源選択回路とを備えたバンク構成回路を具備すること
を特徴とする半導体集積回路装置。
Banks arranged in an array and each having electrically rewritable memory cells; a read wiring to which a read signal from the bank is input; a first sense amplifier to which the read signal is input; A semiconductor comprising: a bank configuration circuit including a write / erase wiring for writing and erasing the memory cell; and a power supply selection circuit for supplying a write voltage and an erase voltage to the write / erase wiring. Integrated circuit device.
前記第1センスアンプは、前記バンクと前記電源選択回路との間に配置されること
を特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first sense amplifier is disposed between the bank and the power supply selection circuit.
前記バンク構成回路は、前記電源選択回路に電源電圧を供給する第1基幹電源線と、前記読み出し用配線をシールドするシールド線と、電流経路の一端が前記第1基幹電源線に接続され他端が前記シールド線に接続されたノイズ低減素子とを備えること
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体集積回路装置。
The bank configuration circuit includes a first main power supply line that supplies a power supply voltage to the power supply selection circuit, a shield line that shields the readout wiring, and one end of a current path connected to the first main power supply line. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising: a noise reduction element connected to the shield line.
前記バンク構成回路は、前記第1センスアンプに電源電圧を供給する第2基幹電源線を備えること
を特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路装置。
The semiconductor integrated circuit device according to claim 3, wherein the bank configuration circuit includes a second main power supply line that supplies a power supply voltage to the first sense amplifier.
第1方向に沿って配置された複数の前記バンク構成回路のそれぞれの前記第1センスアンプに共通に設けられ、前記第1センスアンプからの読み出し信号が入力される第1データ線と、
前記第1方向に沿って配置された複数の前記バンク構成回路のそれぞれの前記第1センスアンプに共通に設けられ、前記第1センスアンプからの読み出し信号が入力される第2データ線と、
前記バンク構成回路の周辺領域に配置され、前記第1データ線及び前記第2データ線からの前記読み出し信号が入力される第2センスアンプと、
前記周辺領域に前記第1データ線及び前記第2データ線と交差するように配置され、前記バンク構成回路のそれぞれの前記電源選択回路に電源電圧を供給する配線とを更に具備すること
を特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の半導体集積回路装置。
A first data line provided in common to each of the first sense amplifiers of the plurality of bank configuration circuits arranged along the first direction, to which a read signal from the first sense amplifier is input;
A second data line provided in common to each of the first sense amplifiers of the plurality of bank configuration circuits arranged along the first direction, to which a read signal from the first sense amplifier is input;
A second sense amplifier disposed in a peripheral region of the bank configuration circuit and to which the read signal from the first data line and the second data line is input;
A wiring that is arranged in the peripheral region so as to intersect the first data line and the second data line, and that supplies a power supply voltage to each of the power supply selection circuits of the bank configuration circuit. The semiconductor integrated circuit device according to any one of claims 1 to 4.
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JP2019197603A (en) * 2018-05-08 2019-11-14 東芝メモリ株式会社 Semiconductor storage device

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