JP2006188653A - Near-infrared-absorbing coating agent and near-infrared-absorbing laminate using the same - Google Patents
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 138
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 79
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 70
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 46
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 42
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 29
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims abstract description 16
- -1 phthalocyanine compound Chemical class 0.000 claims description 427
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 77
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 43
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 26
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims description 25
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 13
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 claims description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 claims description 9
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 4
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 3
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 claims description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 107
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 92
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 54
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 32
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 26
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 23
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 22
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 21
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 19
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 19
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 18
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 17
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 17
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 17
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 13
- YRZZLAGRKZIJJI-UHFFFAOYSA-N oxyvanadium phthalocyanine Chemical compound [V+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 YRZZLAGRKZIJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 12
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 10
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical compound C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical group CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 6
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical class [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 5
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical group CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 4
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZKECVHXIVHRIIA-UHFFFAOYSA-N n-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1NC(=O)C=C ZKECVHXIVHRIIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 3
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 2-anilino-2-oxoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 3
- 125000005287 vanadyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MEBONNVPKOBPEA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1(C)C MEBONNVPKOBPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005918 1,2-dimethylbutyl group Chemical group 0.000 description 2
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBOSBRHMHBENLP-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Butylphenyl Salicylate Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O DBOSBRHMHBENLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N Furaldehyde Natural products O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004457 alkyl amino carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006367 bivalent amino carbonyl group Chemical group [H]N([*:1])C([*:2])=O 0.000 description 2
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 2
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005928 isopropyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N methanediol Chemical compound OCO CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)F GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000005930 sec-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCHFQMCWQLPAS-UHFFFAOYSA-N (1-tert-butylcyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1(C(C)(C)C)CCCCC1 RWCHFQMCWQLPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIIUJJXXMYYQQD-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1OC(=O)C=C GIIUJJXXMYYQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFLXKQBCEYNCDU-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 UFLXKQBCEYNCDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N (4-dodecoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNFXPOAMRORRJJ-UHFFFAOYSA-N (4-octylphenyl) 2-hydroxybenzoate Chemical compound C1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O VNFXPOAMRORRJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N (z)-2-(2-phenylethenyl)but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C(C(O)=O)\C=CC1=CC=CC=C1 DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N 0.000 description 1
- 0 *c(c(C(*1*23*45)=*6)c7C1=*C(c1c(*)c(*)c(*)c(P)c11)=*2C1=*C4=C1C(*)=C(*)C(*)=C(*)C1=C5*=C1*3=C6c2c1c(P)c(*)c(*)c2*)c(*)c(*)c7P Chemical compound *c(c(C(*1*23*45)=*6)c7C1=*C(c1c(*)c(*)c(*)c(P)c11)=*2C1=*C4=C1C(*)=C(*)C(*)=C(*)C1=C5*=C1*3=C6c2c1c(P)c(*)c(*)c2*)c(*)c(*)c7P 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical group NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000453 2,2,2-trichloroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(Cl)(Cl)Cl 0.000 description 1
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine Substances CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1O GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTNISGZEGZHIS-UHFFFAOYSA-N 2-$l^{1}-oxidanyloxy-2-methylpropane Chemical group CC(C)(C)O[O] YKTNISGZEGZHIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFAOUOYLVUFG-UHFFFAOYSA-N 2-(1-amino-1-imino-2-methylpropan-2-yl)azo-2-methylpropanimidamide Chemical compound NC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(N)=N CCTFAOUOYLVUFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLZIIHMTTRXXIN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxy-4-methoxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O JLZIIHMTTRXXIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQEMDCGXYVIMSB-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-carboxy-3-cyanobutyl)diazenyl]-4-cyanopentanoic acid dihydrochloride Chemical compound N(=NC(C(=O)O)CC(C)C#N)C(C(=O)O)CC(C)C#N.Cl.Cl QQEMDCGXYVIMSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABNWZMSOVWRPJN-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-2-hydroxyphenyl]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ABNWZMSOVWRPJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVBOXNUYGKJKAI-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCOC(=O)C(=C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O FVBOXNUYGKJKAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- HPHBKRQUHGHVEO-UHFFFAOYSA-L 2-ethylhexan-1-amine;nickel(2+);2-[2-oxido-5-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]sulfanyl-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenolate Chemical compound [Ni+2].CCCCC(CC)CN.CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C([O-])C(SC=2C(=CC=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)[O-])=C1 HPHBKRQUHGHVEO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEHFRMABGJJCPF-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)N=C=O JEHFRMABGJJCPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCMKIKYKIHUTM-UHFFFAOYSA-N 3,3,5,5-tetramethyl-1-[2-(3,3,5,5-tetramethyl-2-oxopiperazin-1-yl)ethyl]piperazin-2-one Chemical compound O=C1C(C)(C)NC(C)(C)CN1CCN1C(=O)C(C)(C)NC(C)(C)C1 GUCMKIKYKIHUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KARGMXZXPAWXQJ-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 KARGMXZXPAWXQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZGCEKJOLUNIFY-UHFFFAOYSA-N 4-Chloronitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 CZGCEKJOLUNIFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACMIJDVJWLMBCX-PXAZEXFGSA-N 4-[(3ar,6ar)-2,3,3a,4,6,6a-hexahydro-1h-pyrrolo[2,3-c]pyrrol-5-yl]-6-fluoro-n-methyl-2-(2-methylpyrimidin-5-yl)oxy-9h-pyrimido[4,5-b]indol-8-amine Chemical compound CNC1=CC(F)=CC(C2=C(N3C[C@@H]4NCC[C@@H]4C3)N=3)=C1NC2=NC=3OC1=CN=C(C)N=C1 ACMIJDVJWLMBCX-PXAZEXFGSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- RWOSXZRJDFRTQM-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(=O)CCC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 Chemical compound CC(=C)C(=O)CCC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 RWOSXZRJDFRTQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000002211 L-ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000000069 L-ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- BJTLJNKXLYWKDO-UHFFFAOYSA-N OC=1C(=CC(CC=1C(C)(C)C)(CCCCC)C(C)(C)C)N1N=C2C(=N1)C=CC=C2 Chemical compound OC=1C(=CC(CC=1C(C)(C)C)(CCCCC)C(C)(C)C)N1N=C2C(=N1)C=CC=C2 BJTLJNKXLYWKDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006887 Ullmann reaction Methods 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJGHSVWJYBAERP-UHFFFAOYSA-N [3-(benzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 OJGHSVWJYBAERP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRTMLDAYGUXKNK-UHFFFAOYSA-N [3-(benzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 BRTMLDAYGUXKNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005081 alkoxyalkoxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005078 alkoxycarbonylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000278 alkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004689 alkyl amino carbonyl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003806 alkyl carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004656 alkyl sulfonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) 2-butyl-2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]propanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)C(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)(CCCC)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006251 butylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- PHQKZMYRTMPOBK-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;4-methylpentan-2-one Chemical compound CC(C)CC(C)=O.O=C1CCCCC1 PHQKZMYRTMPOBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004985 dialkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005805 dimethoxy phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- GKHRLTCUMXVTAV-UHFFFAOYSA-N dimoracin Chemical compound C1=C(O)C=C2OC(C3=CC(O)=C(C(=C3)O)C3C4C(C5=C(O)C=C(C=C5O3)C=3OC5=CC(O)=CC=C5C=3)C=C(CC4(C)C)C)=CC2=C1 GKHRLTCUMXVTAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000012674 dispersion polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006260 ethylaminocarbonyl group Chemical group [H]N(C(*)=O)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004672 ethylcarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKACHOXRXFQJFN-UHFFFAOYSA-N heptafluoropropane Chemical compound FC(F)C(F)(F)C(F)(F)F UKACHOXRXFQJFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZMQHOJDDMFGQX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1,1-triol Chemical compound CCCCCC(O)(O)O TZMQHOJDDMFGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004871 hexylcarbonyl group Chemical group C(CCCCC)C(=O)* 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K indium(iii) chloride Chemical compound Cl[In](Cl)Cl PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical group IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H iron(3+) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000360 iron(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000005929 isobutyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000005932 isopentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropyl acetate Chemical group CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004458 methylaminocarbonyl group Chemical group [H]N(C(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N monothioglycerol Chemical compound OCC(O)CS PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNWDFLSODFEDIT-UHFFFAOYSA-N n-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl)prop-2-enamide Chemical compound CN1C(C)(C)CCC(NC(=O)C=C)C1(C)C HNWDFLSODFEDIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006610 n-decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003935 n-pentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005186 naphthyloxy group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)O* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005933 neopentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- MADOXCFISYCULS-UHFFFAOYSA-N octyl 2-sulfanylacetate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CS MADOXCFISYCULS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004675 pentylcarbonyl group Chemical group C(CCCC)C(=O)* 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920006391 phthalonitrile polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920003050 poly-cycloolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- QROGIFZRVHSFLM-UHFFFAOYSA-N prop-1-enylbenzene Chemical group CC=CC1=CC=CC=C1 QROGIFZRVHSFLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006225 propoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004673 propylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000012966 redox initiator Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- XWGJFPHUCFXLBL-UHFFFAOYSA-M rongalite Chemical compound [Na+].OCS([O-])=O XWGJFPHUCFXLBL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003902 salicylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940079827 sodium hydrogen sulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 229940001584 sodium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 125000005346 substituted cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WYKYCHHWIJXDAO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)C WYKYCHHWIJXDAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005942 tetrahydropyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940035024 thioglycerol Drugs 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Paints Or Removers (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、近赤外線吸収性コーティング剤に関し、詳しくはプラズマディスプレイ装置などの画像出力装置などから発生される近赤外線を吸収し、プラズマディスプレイ装置の外部におかれる種々の電子機器に近赤外線が進入することを防止し、周辺電子機器の誤動作を防ぐ、近赤外線吸収積層体の形成に好適な近赤外線吸収性コーティング剤に関する。 The present invention relates to a near-infrared absorbing coating agent, and more particularly, absorbs near-infrared rays generated from an image output device such as a plasma display device, and the near-infrared rays enter various electronic devices placed outside the plasma display device. It is related with the near-infrared absorptive coating agent suitable for formation of a near-infrared absorption laminated body which prevents doing and malfunctioning of a peripheral electronic device.
近年、大型ディスプレイとして様々な形式のディスプレイが開発、商品化されている。プラズマディスプレイもその1つであり、特に40inchサイズ以上の大型化、薄型化及び軽量化の点から壁掛け用の大型ディスプレイとして注目されている。このプラズマディスプレイは、光源或いは放電部を構成する各々の画素部分の構造的要因により、可視光領域から赤外線波長領域にわたってカラー映像の3原色(赤、緑、青)の波長帯以外の光線を発する。例えば、プラズマディスプレイは、波長が820nm、880nm、980nm付近等に強い近赤外線を放出する。これら近赤外線は周辺電子機器、例えばテレビ、ビデオやクーラーのリモートコントローラー、携帯通信、パソコン等の近赤外線通信機器等の作動波長と合致している。そのためプラズマディスプレイが周辺機器の誤作動を招くという問題が生じる。 In recent years, various types of displays have been developed and commercialized as large displays. A plasma display is one of them, and is particularly attracting attention as a large display for hanging on the wall from the viewpoint of enlargement, thickness reduction, and weight reduction of 40 inch size or more. This plasma display emits light rays other than the wavelength bands of the three primary colors (red, green, and blue) of the color image from the visible light region to the infrared wavelength region due to structural factors of each pixel portion constituting the light source or the discharge unit. . For example, the plasma display emits strong near infrared rays having wavelengths of 820 nm, 880 nm, 980 nm, and the like. These near-infrared rays match the operating wavelengths of peripheral electronic devices, for example, near-infrared communication devices such as TVs, video and cooler remote controllers, mobile communications, and personal computers. Therefore, there arises a problem that the plasma display causes malfunction of peripheral devices.
そこで、近赤外線を吸収する光学フィルターを利用することが提案されている。このような近赤外線吸収フィルターとしては、2価の銅イオンを含むリン酸塩含有ガラス製フィルターや、ガラス等の表面に金属(例えば銀)の薄い層を蒸着法、スパッター法やイオンプレーティング法その他の方法により形成したフィルターや、近赤外領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したフィルター等を挙げることができる。 Therefore, it has been proposed to use an optical filter that absorbs near infrared rays. As such a near-infrared absorption filter, a phosphate-containing glass filter containing divalent copper ions, a thin layer of metal (for example, silver) on the surface of glass or the like, vapor deposition method, sputtering method or ion plating method Examples thereof include filters formed by other methods, filters in which a dye that absorbs wavelengths in the near infrared region is added to the resin, and the like.
しかしながら、上記のような近赤外線吸収フィルターのうち、リン酸塩含有ガラス製フィルターは、製造が煩雑であり、しかも吸湿性し易いという問題がある。 また、ガラス等の表面に金属の薄い層を設ける場合は、近赤外線領域と比較すれば少ないものの、可視光領域の光も反射してしまうため金属層の膜厚を厚くしすぎると透過率が低下することや、製造コストが高い等の問題がある。
さらに、これらの方法はいずれも共通してガラスを用いるので、得られるフィルターが重く割れやすい、加工が困難等といった問題がある。
However, among the near-infrared absorption filters as described above, the phosphate-containing glass filter has a problem that it is complicated to manufacture and easily absorbs moisture. In addition, when a thin metal layer is provided on the surface of glass or the like, although it is less than the near infrared region, light in the visible light region is also reflected. Therefore, if the metal layer is too thick, the transmittance is increased. There are problems such as lowering and high manufacturing costs.
Furthermore, since these methods use glass in common, there are problems that the obtained filter is heavy and easily broken, and that processing is difficult.
これに対し、近赤外線領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したフィルターは、ガラスを用いたフィルターに比べ軽量であり、製造も簡便であるという様に利点が多い。
近赤外線領域の波長を吸収する色素としては、特許文献1〜3に示されるようなジイモニウム系化合物や特許文献4〜5に示されるようなフタロシアン系化合物等が知られている。
In contrast, a filter in which a dye that absorbs a wavelength in the near-infrared region is added to a resin is advantageous in that it is lighter and easier to manufacture than a filter using glass.
Known dyes that absorb near-infrared wavelengths include diimonium compounds as shown in Patent Documents 1 to 3, phthalocyanine compounds as shown in Patent Documents 4 to 5, and the like.
しかし、近赤外線領域の光を吸収する色素には、同時に可視光領域においても吸収を持つものが多く、これら色素を添加した近赤外線吸収フィルターは、多くの場合、近赤外線領域以外にも吸収を有する。可視領域の光の吸収は、プラズマディスプレイ等の画像表示装置にとっては大きな問題となる。従って、近赤外線領域の光を吸収する色素としては、できるだけ可視光領域の吸収の小さいものが望まれる。
近赤外線吸収領域の波長を吸収する色素のうち、ジイモニウム系化合物は、
(1)可視光領域における光吸収率が極めて小さく、
(2)紫外線領域を吸収し、
(3)近赤外線領域に有する極大吸収波長が極めて大きく、
(4)更に近赤外線吸収領域も850〜1200nmと広いので、
プラズマディスプレイ用近赤外線吸収フィルター用の色素としては特に好ましい。
However, many dyes that absorb light in the near-infrared region have absorption in the visible light region at the same time, and near-infrared absorption filters to which these dyes are added often absorbs light outside the near-infrared region. Have. Absorption of light in the visible region is a big problem for an image display device such as a plasma display. Therefore, a pigment that absorbs light in the near infrared region is desired to have as little absorption in the visible light region as possible.
Of the dyes that absorb near-infrared absorption wavelengths, diimonium compounds are
(1) The light absorption rate in the visible light region is extremely small,
(2) absorb the ultraviolet region,
(3) The maximum absorption wavelength in the near infrared region is extremely large,
(4) Since the near infrared absorption region is also wide as 850 to 1200 nm,
Particularly preferred as a dye for a near-infrared absorption filter for plasma display.
しかしながら、ジイモニウム系化合物は、耐熱性、耐光性に劣るものが多い。
従って、例えばジイモニウム系化合物を各種樹脂に混練・成形して、近赤外線吸収フィルター、即ち近赤外線吸収フィルムを得ようとすると、混練・成形時の熱でジイモニウム系化合物が分解し、得られる近赤外線吸収フィルターの近赤外線領域の吸収が低下してしまう。
However, many diimonium compounds are inferior in heat resistance and light resistance.
Therefore, for example, when a diimonium compound is kneaded and molded into various resins to obtain a near infrared absorption filter, that is, a near infrared absorption film, the diimonium compound is decomposed by heat during kneading and molding, and the obtained near infrared Absorption in the near infrared region of the absorption filter will decrease.
近赤外線領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したコーティング剤を、プラスチックフィルム等の基材に塗布・乾燥し、近赤外線吸収層を設ける方法は、コーティング法、キャスト法等とも呼ばれ、このようなコーティング法の場合、上記の混練・成形法に比べ比較的低温でフィルターを製造することができる。
しかし、プラズマディスプレイは発光体基板表面が約50℃〜80℃となる。従って、その前面板に積層される近赤外線吸収フィルターも長時間加熱されることとなる。その結果、プラズマディスプレイの前面板に積層された後に、近赤外線吸収フィルターを構成する近赤外線吸収層中の色素が熱により分解し、近赤外線領域の吸収が低くなってしまう。更にフィルター自体の色目も緑みを帯びてくるという重大な問題があった。
A coating agent in which a pigment that absorbs a wavelength in the near-infrared region is added to a resin, applied to a substrate such as a plastic film and dried, and a method for providing a near-infrared absorbing layer is also called a coating method, a casting method, etc. In the case of such a coating method, a filter can be produced at a relatively low temperature as compared with the kneading and molding methods described above.
However, in the plasma display, the surface of the phosphor substrate is about 50 ° C to 80 ° C. Therefore, the near-infrared absorption filter laminated on the front plate is also heated for a long time. As a result, after being laminated on the front plate of the plasma display, the dye in the near infrared absorption layer constituting the near infrared absorption filter is decomposed by heat, and the absorption in the near infrared region is lowered. Furthermore, there was a serious problem that the color of the filter itself was tinged with green.
ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの耐熱性を改善する方法として、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤の利用が、特許文献1〜2に記載されている(特許文献1:特開2000−206323号公報、特許文献2:特開平11−323121号公報参照)。
しかしながら、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤は、耐光性が劣るという問題があった。
Patent Documents 1 and 2 describe the use of a coating agent containing a polycarbonate resin or a polyarylate resin and a diimonium compound as a method for improving the heat resistance of a near-infrared absorption filter containing a diimonium compound (patents 1 and 2). Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2000-206323, Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open No. 11-323121).
However, a coating agent containing a polycarbonate resin or polyarylate resin and a diimonium compound has a problem that light resistance is inferior.
また、ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの耐光性を改善する方法として、メチルメタアクリレート等の(メタ)アクリル樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤の利用が従来より提案されているが、充分な耐光性が得られず、更に耐熱性が悪いという欠点があった。 In addition, as a method for improving the light resistance of a near-infrared absorption filter containing a diimonium compound, the use of a coating agent containing a (meth) acrylic resin such as methyl methacrylate and a diimonium compound has been proposed. However, sufficient light resistance cannot be obtained, and heat resistance is further poor.
さらに、ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの耐熱性を改善する方法として、スルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム系化合物の利用が、特許文献3に記載されている(特許文献3:WO2004/048480号公報参照)。
しかしながら、スルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターは、スルホンイミド以外の有機酸アニオン、無機アニオンからなるジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターよりは耐熱性は向上するものの充分ではなかった。
Furthermore, as a method for improving the heat resistance of a near-infrared absorption filter containing a diimonium compound, use of a diimonium compound having a sulfonimide as an anion component is described in Patent Document 3 (Patent Document 3: WO2004 / No. 048480).
However, the near-infrared absorption filter containing a diimonium compound containing sulfonimide as an anion component has improved heat resistance than a near-infrared absorption filter containing a diimonium compound comprising an organic acid anion or inorganic anion other than sulfonimide. The thing was not enough.
また、特定の不飽和単量体を共重合してなるアクリル樹脂と近赤外線吸収性色素を含有するコーティング剤、近赤外線吸収性塗膜が特許文献4〜5に記載されている(特許文献4:特開2002−294721号公報、特許文献5:特開2004−182793号公報)
しかしながら、上記近赤外線吸収色素は主にフタロシアニン系色素に関するものであり、ジイモニウム系色素に関する記載はない。
However, the near-infrared absorbing dye is mainly related to a phthalocyanine dye, and there is no description about a diimonium dye.
本発明は、可視光域の透過率が高く、プラズマディスプレイ装置から放出される近赤外線を吸収し、周辺電子機器の誤動作防止のための近赤外線吸収フィルターであって、耐熱性、耐光性に優れる近赤外線吸収フィルターの形成に好適なコーティング剤を提供することを目的とする。 The present invention is a near-infrared absorption filter that has high transmittance in the visible light region, absorbs near-infrared rays emitted from plasma display devices, and prevents malfunction of peripheral electronic devices, and has excellent heat resistance and light resistance. An object is to provide a coating agent suitable for forming a near-infrared absorption filter.
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)と特定の構造のジイモニウム系化合物(B)とを組み合わせることによって、これらの欠点を解消し得ることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have found that a copolymer (A) containing a cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent, a diimonium compound (B) having a specific structure, and It was found that these drawbacks can be eliminated by combining the above, and the present invention was completed.
即ち、本発明は、シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)と、下記一般式(1)で示されるジイモニウム系化合物(B)とを含有することを特徴とする近赤外線吸収性コーティング剤である。
一般式(1)
That is, this invention contains the copolymer (A) which has a cycloalkyl group containing monomer (a1) as an essential structural component, and the diimonium type compound (B) shown by following General formula (1). It is a near-infrared absorptive coating agent characterized by the above-mentioned.
General formula (1)
(式(1)中、R1〜R8はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシ基、置換もしくは未置換の、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、又はフェニルアルキル基であり、環A及びBは置換基を有していても良い。また、R9及びR10はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、それぞれフルオロアルキル基を示すか、それらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を表す。) (In the formula (1), R 1 to R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, a halogenated alkyl group, cyano. An alkyl group, an aryl group, or a phenylalkyl group, and the rings A and B may have a substituent, and R 9 and R 10 may be the same or different, and Represents an alkyl group or represents a fluoroalkylene group formed by them together.)
また、本発明は、R9及びR10が、同じであっても異なっていてもよい、炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 Further, the present invention, R 9 and R 10 may be different even in the same, is a near-infrared absorbing coating is a perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
また、本発明は、R9及びR10が、共にトリフルオロメチル基、又は共にペンタフルオロエチル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 Moreover, this invention is the said near-infrared absorptive coating agent whose R < 9 > and R < 10 > are both a trifluoromethyl group or a pentafluoroethyl group.
また、本発明は、R9及びR10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、炭素数2〜12のパーフルオロアルキレン基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 Further, the present invention, R 9 and R 10, a fluoroalkylene group formed together, a near-infrared absorbing coating is a perfluoroalkylene group having 2 to 12 carbon atoms.
また、本発明は、R9及びR10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、ヘキサフルオロプロピレン基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 Further, the present invention is the above near infrared absorbing coating agent, wherein R 9 and R 10 are a fluoroalkylene group formed together and are a hexafluoropropylene group.
また、本発明は、R1〜R8が、炭素数1〜8の直鎖又は分岐鎖を有する、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はシアノアルキル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 Moreover, this invention is said near-infrared absorptive coating agent whose R < 1 > -R < 8 > is a C1-C8 linear or branched alkyl group, a halogenated alkyl group, or a cyanoalkyl group. .
また、本発明は、R1〜R8が、下記一般式(2)で示されるフェニルアルキル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
一般式(2)
Moreover, this invention is the said near-infrared absorptive coating agent whose R < 1 > -R < 8 > is a phenylalkyl group shown by following General formula (2).
General formula (2)
(式中、Cは、炭素数1〜18の直鎖又は分岐鎖を有するアルキレン基を表し、環Dは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す。)
(In the formula, C represents an alkylene group having a linear or branched chain having 1 to 18 carbon atoms, and ring D represents a benzene ring which may have a substituent.)
また、本発明は、R1〜R8が、ベンジル基又はフェネチル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 Moreover, this invention is the said near-infrared absorptive coating agent whose R < 1 > -R < 8 > is a benzyl group or a phenethyl group.
また、本発明は、共重合体(A)がベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体(a2)及び/又はピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体(a3)を構成成分とすることを特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 In the present invention, the copolymer (A) is a monomer (a2) having a benzotriazole group and a polymerizable unsaturated group and / or a monomer (a3 having a piperidinyl group and a polymerizable unsaturated group). ) As a constituent component.
また、本発明は、フタロシアニン系化合物(C)及び/又はジチオール金属錯体化合物(D)をさらに含有することを特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 Moreover, this invention is the said near-infrared absorptive coating agent characterized by further containing a phthalocyanine type compound (C) and / or a dithiol metal complex compound (D).
また、本発明は、シアニン系化合物(G)をさらに含有することを特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 Moreover, this invention is a said near-infrared absorptive coating agent characterized by further containing a cyanine type compound (G).
また、本発明は、紫外線吸収剤及(E)及び/又はヒンダードアミン系光安定剤(F)を特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。 Moreover, this invention is the said near-infrared absorptive coating agent characterized by the ultraviolet absorber and (E) and / or a hindered amine light stabilizer (F).
また、本発明は、上記近赤外線吸収性コーティング剤から形成される近赤外線吸収層が、基材に積層されてなる近赤外線吸収積層体である。 Moreover, this invention is a near-infrared absorption laminated body by which the near-infrared absorption layer formed from the said near-infrared absorptive coating agent is laminated | stacked on a base material.
第また、本発明は、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層からなる少なくとも1つの層が、基材側及び/又は近赤外線吸収層上に積層されてなる上記近赤外線吸収積層体である。 In the present invention, at least one layer composed of an ultraviolet absorbing layer, an electromagnetic wave absorbing layer, a scratch preventing layer, an antireflection layer, a color tone correcting layer, a heat radiation layer, and an impact resistant layer is formed on the substrate side and / or near infrared absorption. It is the said near-infrared absorption laminated body laminated | stacked on a layer.
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤を用いた近赤外線吸収積層体は、近赤外線の波長領域を十分遮蔽でき、且つ高い可視光透過性を持ち、更に優れた耐熱性、耐光性を有しているため、長時間にわたって安定した近赤外線遮蔽効果があり、かつ色目の変化も少なく、プラズマディスプレイパネル用の近赤外線吸収フィルターとしても有効である。 The near-infrared absorbing laminate using the near-infrared-absorbing coating agent of the present invention can sufficiently shield the near-infrared wavelength region, has high visible light permeability, and has excellent heat resistance and light resistance. Therefore, it has a stable near-infrared shielding effect over a long period of time, has little change in color, and is effective as a near-infrared absorption filter for plasma display panels.
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明におけるシクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)は、近赤外線吸収性コーティング剤におけるバインダー樹脂を構成するものであり、1種または2種以上を用いることができる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The copolymer (A) having the cycloalkyl group-containing monomer (a1) in the present invention as an essential constituent component constitutes a binder resin in the near-infrared absorbing coating agent, and is one type or two or more types. Can be used.
本発明におけるシクロアルキル基含有単量体(a1)は、脂肪族環状炭化水素構造(以下、脂環構造もしくは単に脂環という)基を有する単量体の意であり、
シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基、シクロドデシル基等の脂環構造を1つ有する単量体;
ボルニル基、イソボルニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、アダマンタン基等の複数の脂環構造を有する単量体等が挙げられる。
The cycloalkyl group-containing monomer (a1) in the present invention means a monomer having an aliphatic cyclic hydrocarbon structure (hereinafter referred to as alicyclic structure or simply alicyclic) group,
A monomer having one alicyclic structure such as a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, an ethylcyclohexyl group, or a cyclododecyl group;
Examples thereof include a monomer having a plurality of alicyclic structures such as a bornyl group, an isobornyl group, a dicyclopentenyl group, a dicyclopentanyl group, and an adamantane group.
シクロアルキル基含有単量体(a1)としては、例えばシクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート、tert−ブチルシクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、4−メチルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−エチルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−プロピルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−メトキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−アセトキメチルシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3−メチルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3−エチルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3−プロピルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3−ブチルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3−メトキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3−アセトキシメチルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−メチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、4−エチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、4−プロピルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、4−メトキシシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、4−アセトキシメチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3−メチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3−エチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3−プロピルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3−ブチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3−アセトキシメチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシメチルシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、4−メチルチルシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、4−エチルシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、4−メトキシシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、4−アセトキシメチルシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、3−メチルチルシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、3−エチルシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、3−メトキシシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、3−アセトキシメチルシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシメチルシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、4−メチルチルシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、4−エチルシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、4−メトキシシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、4−アセトキシメチルシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、3−メチルチルシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、3−エチルシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、3−メトキシシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、3−アセトキシメチルシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシメチルシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート、2−メチル−1−シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2,3−ジメチル−1−シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2,6−ジメチル−1−シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2−フェニル−1−シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2−フェニル−3−メチル−1−シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2−フェニル−4−メチル−1−シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2−フェニル−5−メチル−1−シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2−フェニル−6−メチル−1−シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらのうち、異性体を含むものは、各異性体単独及び/又は各異性体混合物でもよい。これら、シクロアルキル基含有単量体(a1)は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the cycloalkyl group-containing monomer (a1) include cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, tert-butylcyclohexyl methacrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, di Cyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, cyclohexylmethyl (meth) acrylate, cyclohexylethyl (meth) acrylate, cyclohexylpropyl (meth) acrylate , Cyclohexylbutyl (meth) acrylate, 4-methylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-ethylcyclohexylmethyl ( Acrylate), 4-propylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-methoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-acetoxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-methyl Cyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-ethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-propylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-butylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-methoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-acetoxy Methylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-hydroxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-methylcyclohexylethyl (meta Acrylate, 4-ethylcyclohexylethyl (meth) acrylate, 4-propylcyclohexylethyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexylethyl (meth) acrylate, 4-methoxycyclohexylethyl (meth) acrylate, 4-acetoxymethylcyclohexylethyl (meth) ) Acrylate, 4-hydroxymethylcyclohexylethyl (meth) acrylate, 3-methylcyclohexylethyl (meth) acrylate, 3-ethylcyclohexylethyl (meth) acrylate, 3-propylcyclohexylethyl (meth) acrylate, 3-butylcyclohexylethyl ( (Meth) acrylate, 3-methoxycyclohexylethyl (meth) acrylate, 3-acetoxymethylcyclohexylethyl (meth) acrylate Relate, 3-hydroxymethylcyclohexylethyl (meth) acrylate, 4-methyltylcyclohexylpropyl (meth) acrylate, 4-ethylcyclohexylpropyl (meth) acrylate, 4-methoxycyclohexylpropyl (meth) acrylate, 4-acetoxymethylcyclohexylpropyl (Meth) acrylate, 4-hydroxymethylcyclohexylpropyl (meth) acrylate, 3-methyltylcyclohexylpropyl (meth) acrylate, 3-ethylcyclohexylpropyl (meth) acrylate, 3-methoxycyclohexylpropyl (meth) acrylate, 3-acetoxy Methylcyclohexylpropyl (meth) acrylate, 3-hydroxymethylcyclohexylpropyl (meth) acrylate, 4 Methyltylcyclohexylbutyl (meth) acrylate, 4-ethylcyclohexylbutyl (meth) acrylate, 4-methoxycyclohexylbutyl (meth) acrylate, 4-acetoxymethylcyclohexylbutyl (meth) acrylate, 4-hydroxymethylcyclohexylbutyl (meth) acrylate , 3-methyltylcyclohexylbutyl (meth) acrylate, 3-ethylcyclohexylbutyl (meth) acrylate, 3-methoxycyclohexylbutyl (meth) acrylate, 3-acetoxymethylcyclohexylbutyl (meth) acrylate, 3-hydroxymethylcyclohexylbutyl ( (Meth) acrylate, 2-methyl-1-cyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2,3-dimethyl-1-cyclohexylme (Meth) acrylate, 2,6-dimethyl-1-cyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2-phenyl-1-cyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2-phenyl-3-methyl-1-cyclohexylmethyl (meth) acrylate 2-phenyl-4-methyl-1-cyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2-phenyl-5-methyl-1-cyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2-phenyl-6-methyl-1-cyclohexylmethyl (meth) An acrylate etc. are mentioned. Among these, those containing isomers may be each isomer alone and / or each isomer mixture. These cycloalkyl group-containing monomers (a1) may be used alone or in combination of two or more.
シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)は、近赤外線吸収性コーティング剤から成形される近赤外線吸収層の耐熱性、耐光性を向上させるために、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体(a2)及び/又はピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体(a3)をシクロアルキル基含有単量体(a1)と共重合してなるものであることが好ましく、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体(a2)とシクロアルキル基含有単量体(a1)との共重合体であることがより好ましい。 The copolymer (A) containing the cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent component is for improving the heat resistance and light resistance of the near infrared absorbing layer formed from the near infrared absorbing coating agent. A monomer having a benzotriazole group and a polymerizable unsaturated group (a2) and / or a monomer having a piperidinyl group and a polymerizable unsaturated group (a3) as a cycloalkyl group-containing monomer (a1) And a copolymer of a monomer (a2) having a benzotriazole group and a polymerizable unsaturated group and a cycloalkyl group-containing monomer (a1). Is more preferable.
上記ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体(a2)としては、下記一般式(3)や一般式(4)で示される単量体が使用できる。なお、これらの単量体はそれぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
一般式(3)
As the monomer (a2) having the benzotriazole group and the polymerizable unsaturated group, monomers represented by the following general formula (3) or general formula (4) can be used. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
General formula (3)
(式中、R11は水素原子又は炭素数1〜8の炭化水素基、R12はアルキレン基、R13は水素原子又はメチル基を表す。X1は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキ
シ基、シアノ基又はニトロ基を表す。)
一般式(4)
(In the formula, R 11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 12 represents an alkylene group, R 13 represents a hydrogen atom or a methyl group. X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon number 1 to 1. 6 represents an alkoxy group, a cyano group or a nitro group.)
General formula (4)
(式中、R14は水素原子又は炭素数1〜8の炭化水素基、R15はアルキレン基、R16は水素原子又はメチル基を表す。X2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキ
シ基、シアノ基又はニトロ基を表す。)
(In the formula, R 14 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 15 represents an alkylene group, R 16 represents a hydrogen atom or a methyl group. X 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon atom having 1 to 2 carbon atoms. 6 represents an alkoxy group, a cyano group or a nitro group.)
上記一般式(3)におけるR11及び一般式(4)におけるR14のうち、炭素数1〜8の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の鎖式炭化水素基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の脂環式炭化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。 Of R 11 in the general formula (3) and R 14 in the general formula (4), examples of the hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and an isobutyl group. Chain, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl and other chain hydrocarbon groups; cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl and other alicyclic hydrocarbons Groups; aromatic hydrocarbon groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, benzyl group, phenethyl group and the like.
上記一般式(4)におけるR12及び一般式(3)におけるR15のうち、アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等の直鎖状アルキレン基;プロピレン基、2−メチルトリメチレン基、2−メチルテトラメチレン基等の分岐鎖状アルキレン基等が挙げられる。R12としては炭素数1〜6のアルキレン基が好ましく、またR15としては炭素数2又は3のアルキレン基が好ましい。 Of R 12 in the general formula (4) and R 15 in the general formula (3), the alkylene group is, for example, a linear alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, or a tetramethylene group; a propylene group , Branched chain alkylene groups such as 2-methyltrimethylene group and 2-methyltetramethylene group. R 12 is preferably an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 15 is preferably an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms.
上記一般式(3)におけるX1及び一般式(4)におけるX2のうち、ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 Of X 1 in the general formula (3) and X 2 in the general formula (4), examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
上記一般式(3)におけるX1及び一般式(4)におけるX2のうち、炭素数1〜6のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ペプトキシ基等が挙げられる。 Of X 1 in the general formula (3) and X 2 in the general formula (4), examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentoxy group, and a peptoxy group. Groups and the like.
上記一般式(3)で示される単量体としては、例えば2−[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシメチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシプロピル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチル−3′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。 Examples of the monomer represented by the general formula (3) include 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-5 ′. -(Methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxypropyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-tert -Butyl-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-tert-butyl-3'-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, etc. Is mentioned.
上記一般式(4)で示される単量体としては、例えば2−[2′−ヒドロキシ−5′−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)−3′−tert−ブチルフェニル]−4−tert−ブチル−2H−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。 Examples of the monomer represented by the general formula (4) include 2- [2′-hydroxy-5 ′-(β-methacryloyloxyethoxy) -3′-tert-butylphenyl] -4-tert-butyl- And 2H-benzotriazole.
このようなベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体(a2)のうち一般式(3)で示されるものとしては、市販のRUVA−93(大塚化学製)が好適である。 Of the monomers (a2) having such a benzotriazole group and a polymerizable unsaturated group, a commercially available RUVA-93 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) is preferable as the monomer represented by the general formula (3).
シクロアルキル基含有単量体(a1)と共重合し得る、上記ピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体(a3)としては、下記一般式(5)又は一般式(6)で示される単量体が使用できる。なお、これらの単量体はそれぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
一般式(5)
Examples of the monomer (a3) having a piperidinyl group and a polymerizable unsaturated group that can be copolymerized with the cycloalkyl group-containing monomer (a1) include the following general formula (5) or general formula (6). The monomers shown can be used. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
General formula (5)
(式中、R17は水素原子又はシアノ基、R18及びR19は同一又は異なって水素原子又はメチル基、R20は水素原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を表す。Y1は酸素原子又はイミノ基を表す。)
一般式(6)
(Wherein R 17 represents a hydrogen atom or a cyano group, R 18 and R 19 are the same or different and represent a hydrogen atom or a methyl group, R 20 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Y 1 represents Represents an oxygen atom or an imino group.)
General formula (6)
(式中、R21は水素原子又はシアノ基を表す。R22、R23、R22及びR25は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表す。Y2は酸素原子又はイミノ基を表す。)
(In the formula, R 21 represents a hydrogen atom or a cyano group. R 22 , R 23 , R 22 and R 25 are the same or different and represent a hydrogen atom or a methyl group. Y 2 represents an oxygen atom or an imino group. To express.)
上記一般式(5)におけるR20のうち、炭素数1〜8の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の鎖式炭化水素基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の脂環式炭化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。 Among R 20 in the general formula (5), examples of the hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, and a pentyl group. Chain hydrocarbon groups such as hexyl, heptyl and octyl; cycloaliphatic hydrocarbon groups such as cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl; phenyl, tolyl and xylyl And aromatic hydrocarbon groups such as a benzyl group and a phenethyl group.
上記一般式(5)で示される単量体としては、例えば4−(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)−アクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等が挙げられる。 Examples of the monomer represented by the general formula (5) include 4- (meth) acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloylamino-2,2,6, 6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) -acryloyloxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, 4- (meth) acryloylamino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine 4-cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine and the like.
上記一般式(6)で示される単量体としては、例えば1−(メタ)アクリロイル−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロイル−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−クロトニイル−4−クロトイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等が挙げられる。 Examples of the monomer represented by the general formula (6) include 1- (meth) acryloyl-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- (meth) acryloyl- Examples include cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-crotonyl-4-crotoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, and the like.
ピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体(a3)のうち一般式(5)で示されるものとしては、市販のアデカスタブLA−82、アデカスタブLA−83(いずれも旭電化工業製)、FA−711MM、FA−712HM(いずれも日立化成工業製)が好適である。 Among the monomers (a3) having a piperidinyl group and a polymerizable unsaturated group, those represented by the general formula (5) include commercially available ADK STAB LA-82 and ADK STAB LA-83 (both manufactured by Asahi Denka Kogyo). FA-711MM and FA-712HM (both manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) are preferable.
シクロアルキル基含有単量体(a1)、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体(a2)及びピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体(a3)以外に共重合体(A)を得る際に用いることができる、その他の共重合可能な不飽和単量体(a4)としては、例えば
(メタ)アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量体;
2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート等の酸性リン酸エステル系不飽和単量体;
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート等の活性水素をもつ基を有する不飽和単量体;
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル;
グリシジル(メタ)アクリレート、脂環式エポキシ機を有する単量体等のエポキシ基を有する不飽和単量体;
In addition to the cycloalkyl group-containing monomer (a1), the monomer (a2) having a benzotriazole group and a polymerizable unsaturated group, and the monomer (a3) having a piperidinyl group and a polymerizable unsaturated group. Examples of other copolymerizable unsaturated monomer (a4) that can be used in obtaining the polymer (A) include carboxyl groups such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, and the like. Unsaturated monomers;
Acidic phosphate ester unsaturated monomers such as 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate;
Unsaturated monomers having groups having active hydrogen, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, caprolactone-modified hydroxy (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate;
Unsaturated monomers having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate, monomers having an alicyclic epoxy machine;
(メタ)アクリルアミド、N,N′−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N′−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等の窒素原子を有する不飽和単量体;
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等の2個以上の重合性二重結合を有する不飽和単量体;
塩化ビニル等のハロゲン原子を有する不飽和単量体;
スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族不飽和単量体;酢酸ビニル等のビニルエステル;
Unsaturated monomers having nitrogen atoms such as (meth) acrylamide, N, N′-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N′-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide ;
Unsaturated monomer having two or more polymerizable double bonds such as ethylene glycol di (meth) acrylate, tritylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate body;
Unsaturated monomers having halogen atoms such as vinyl chloride;
Aromatic unsaturated monomers such as styrene and α-methylstyrene; vinyl esters such as vinyl acetate;
また、ビニルエーテル基とラジカル重合性基とを共に有する単量体も使用できる。例えば(メタ)アクリル酸2−(ビニロキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(ビニロキシイソプロポキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(ビニロキシエトキシ)プロピル、(メタ)アクリル酸2−(ビニロキシエトキシ)イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−(ビニロキイソプロポキシ)プロピルのビニルエーテル等が挙げられる。 A monomer having both a vinyl ether group and a radical polymerizable group can also be used. For example, 2- (vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxy) propyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 2 -(Vinyloxyethoxy) isopropyl, vinyl ether of (meth) acrylic acid 2- (vinyloxyisopropoxy) propyl, and the like.
また、フッ素原子を有する不飽和単量体も使用できる。例えばフッ素原子を有する不飽和単量体としてはポリフルオロアルキル基又はポリフルオロエーテル基を有するラジカル重合性単量体が挙げられ、パーフルオロアルキル基としては、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロテトラデシル基等が挙げられる。このようなフッ素原子を有する単量体としては、CH2=C(CH3)COOCH2(CF2)4CF3、CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2)6CF3、CH2=CHCOO(CF2)6CF3、CH2=CHCOOCH2
CH2(CF2)7CF3、CH2=CHCOOCH2CH2(CF2)5CF(CF3)2、CH2=C(CH3)COOCH(OCOCH3)CH2(CF2)6CF(CF3)2、CH2=CHCOOCH2CH(OH)CH2(CF2)6CF(CF3)2、CH2=CHCOOCH2CH2(CF2)8CF3、CH2=C(CH3)COOCH2CH2NHCO(CF2)8CF3、CH2=CHOCONHCO(CF2)7CF(CF2Cl)CF3、CH2=CHCOOCH2
CH2N(C3H7)SO2(CF2)7CF3、CH2=CHCOOCH2CH2CH2CH2(CF2)7CF3、CH2=C(CH3)COOCH2CH2N(C2H5)SO2(CF2)7CF3
、CH2=CHCOOCH2CH2NHCO(CF2)7CF3、CH2=CHCOO(CH2)3(CF2)6CF(CF3)2、CH2=CHCOOCH2(CF2)10H、CH2=C(CH3)COOCH2(CF2)10CF2Cl、CH2=CHCONHCH2CH2OCOCF(CF3)OC3F7、CH2=CHCONHCH2CH2OCOCF(CF3)(OC3F6)2OC3
F7等が挙げられる。
Moreover, the unsaturated monomer which has a fluorine atom can also be used. For example, the unsaturated monomer having a fluorine atom includes a radical polymerizable monomer having a polyfluoroalkyl group or a polyfluoroether group, and the perfluoroalkyl group includes a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, Examples include perfluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, perfluorodecyl group, perfluorododecyl group, perfluorotetradecyl group and the like. As such a monomer having a fluorine atom, CH 2 ═C (CH 3 ) COOCH 2 (CF 2 ) 4 CF 3 , CH 2 ═C (CH 3 ) COOCH 2 CH 2 (CF 2 ) 6 CF 3 CH 2 = CHCOO (CF 2 ) 6 CF 3 , CH 2 = CHCOOCH 2
CH 2 (CF 2) 7 CF 3, CH 2 = CHCOOCH 2 CH 2 (CF 2) 5 CF (CF 3) 2, CH 2 = C (CH 3) COOCH (OCOCH 3) CH 2 (CF 2) 6 CF (CF 3 ) 2 , CH 2 = CHCOOCH 2 CH (OH) CH 2 (CF 2 ) 6 CF (CF 3 ) 2 , CH 2 = CHCOOCH 2 CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , CH 2 = C (CH 3) COOCH 2 CH 2 NHCO ( CF 2) 8 CF 3, CH 2 = CHOCONHCO (CF 2) 7 CF (CF 2 Cl) CF 3, CH 2 = CHCOOCH 2
CH 2 N (C 3 H 7 ) SO 2 (CF 2) 7 CF 3, CH 2 = CHCOOCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 (CF 2) 7 CF 3, CH 2 = C (CH 3) COOCH 2 CH 2 N (C 2 H 5 ) SO 2 (CF 2 ) 7 CF 3
, CH 2 = CHCOOCH 2 CH 2 NHCO (CF 2) 7 CF 3, CH 2 = CHCOO (CH 2) 3 (CF 2) 6 CF (CF 3) 2, CH 2 = CHCOOCH 2 (CF 2) 10 H, CH 2 = C (CH 3) COOCH 2 (CF 2) 10 CF 2 Cl, CH 2 = CHCONHCH 2 CH 2 OCOCF (CF 3) OC 3 F 7, CH 2 = CHCONHCH 2 CH 2 OCOCF (CF 3) (OC 3 F 6 ) 2 OC 3
F 7, and the like.
上記単量体(a1)〜(a3)以外に用いることができる、その他の共重合可能な不飽和単量体(a4)は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Other copolymerizable unsaturated monomers (a4) that can be used in addition to the monomers (a1) to (a3) may be used alone or in combination of two or more. .
シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)は、すべての単量体成分を100重量%とすると、共重合に使用するシクロアルキル基含有単量体(a1)は、5〜90重量%であることが好ましく、10〜80重量%であることがより好ましく、20〜70重量%であることがさらに好ましい。
共重合に使用するシクロアルキル基含有単量体(a1)が、5重量%未満であると得られる共重合体を含むコーティング剤から形成される近赤外線吸収層の耐熱性、耐光性が充分に向上しないおそれがある。90重量%を超えると、ガラス転移温度が低くなりすぎて耐熱性が悪くなるのみならず、ブロッキング等の問題が発生するおそれがある。
The copolymer (A) having the cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent component is a cycloalkyl group-containing monomer used for copolymerization, assuming that all the monomer components are 100% by weight. (A1) is preferably 5 to 90% by weight, more preferably 10 to 80% by weight, and still more preferably 20 to 70% by weight.
The near-infrared absorbing layer formed from a coating agent containing a copolymer obtained when the cycloalkyl group-containing monomer (a1) used for copolymerization is less than 5% by weight has sufficient heat resistance and light resistance. May not improve. If it exceeds 90% by weight, the glass transition temperature becomes too low and the heat resistance is deteriorated, and problems such as blocking may occur.
また、すべての単量体成分を100重量%とすると、共重合に使用する、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体(a2)やピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体(a3)は、0.1〜60重量%であることが好ましく、0.5〜40重量%であることがより好ましく、1〜30重量%であることがさらに好ましい。なお、単量体(a2)及び(a3)を併用する場合は、両方を合わせて上記範囲内であることが好ましい。
0.5重量%未満であると耐熱性、耐光性向上が充分ではなく、60重量%を超えると使用量に対する耐熱性、耐光性向上効果が少なくなり、且つコスト的にも不利になると共に、近赤外線吸収色素の溶解性、安定性が悪くなるおそれがある。
When all the monomer components are 100% by weight, the monomer (a2) having a benzotriazole group and a polymerizable unsaturated group, a piperidinyl group, and a polymerizable unsaturated group used for copolymerization are used. The monomer (a3) is preferably 0.1 to 60% by weight, more preferably 0.5 to 40% by weight, and even more preferably 1 to 30% by weight. In the case where the monomers (a2) and (a3) are used in combination, it is preferable that both are within the above range.
When the amount is less than 0.5% by weight, the heat resistance and light resistance are not sufficiently improved. When the amount exceeds 60% by weight, the effect of improving the heat resistance and light resistance with respect to the amount used is reduced, and the cost is disadvantageous. There is a possibility that the solubility and stability of the near-infrared absorbing dye may be deteriorated.
シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)を製造するための重合方法としては、例えば、重合開始剤を用いて、溶液重合、分散重合、懸濁重合、乳化重合等の従来公知の重合方法により行うことができる。溶液重合を行う場合の溶媒としては特に限定されず、例えばトルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、iso−ブチルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメタン、塩化メチレン等の塩素系溶媒;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン等のエーテル系溶媒;N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の1種または2種以上を用いることができる。 As a polymerization method for producing the copolymer (A) having the cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent component, for example, using a polymerization initiator, solution polymerization, dispersion polymerization, suspension The polymerization can be performed by a conventionally known polymerization method such as polymerization or emulsion polymerization. The solvent for performing the solution polymerization is not particularly limited. For example, an aromatic solvent such as toluene and xylene; methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, iso-propyl alcohol, n-butyl alcohol, iso-butyl alcohol Alcohol solvents such as propylene glycol monomethyl ether; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; chloroform, dichloromethane, trichloromethane, methylene chloride, etc. Chlorinated solvents of: ether solvents such as tetrahydrofuran, diethyl ether, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethyls Sulfoxide, can be used alone or in combination of two or more such dimethylacetamide.
上記重合開始剤としては特に限定されず、例えば2,2′−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)・二塩酸塩2,2′−アゾビス(4−シアノペンタン酸)、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系開始剤;過硫酸カリウム等の過硫酸塩、過酸化水素、過酢酸、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド等の過酸化物系開始剤等の通常のラジカル開始剤が挙げられる。また、この際還元剤として亜硫酸水素ナトリウム、L−アスコルビン酸、ロンガリット、メタ重亜硫酸ナトリウム等を用いてレドックス系開始剤とすることもできる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。使用量としては、重合体の分子量等、所望する重合体の特性値等から適宜設定すればよいが、例えば、全単量体成分を100重量%とすると、0.01〜50重量%とすることが好ましく、0.05〜20重量%がより好ましい。 The polymerization initiator is not particularly limited. For example, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2-amidinopropane) · dihydrochloride 2,2′-azobis ( 4-cyanopentanoic acid), 2,2′-azobisisobutyronitrile, azo initiators such as 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile); persulfates such as potassium persulfate, Hydrogen peroxide, peracetic acid, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, benzoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3, 3, 5 -Normal radical initiators, such as peroxide-type initiators, such as trimethylcyclohexane and tert-butyl hydroperoxide. At this time, sodium hydrogen sulfite, L-ascorbic acid, Rongalite, sodium metabisulfite, or the like can be used as a reducing agent to obtain a redox initiator. These may be used alone or in combination of two or more. The amount used may be set appropriately from the desired molecular properties of the polymer, such as the molecular weight of the polymer. For example, when the total monomer component is 100% by weight, it is 0.01-50% by weight. It is preferably 0.05 to 20% by weight.
また、必要に応じて重合促進剤も使用することができる。かかる重合促進剤としては、例えば種々の遷移金属イオン、具体的には、硫酸第二鉄、硫酸第二銅、塩化第二鉄、塩化第二銅等が挙げられる。 Moreover, a polymerization accelerator can also be used as needed. Examples of such a polymerization accelerator include various transition metal ions, specifically, ferric sulfate, cupric sulfate, ferric chloride, cupric chloride and the like.
また、前記不飽和単量体を重合させる際、必要に応じて分子量を調節する目的で、連鎖移動剤や調節剤を用いることができる。かかる連鎖移動剤や調節剤としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メイルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン類;アセトアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類;ドデシルメルカプタン、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸、チオグリコール酸オクチル、チオグリセロール、2−メルカプトエタノール等のメルカプタン類等があげられる。 In addition, when the unsaturated monomer is polymerized, a chain transfer agent or a regulator can be used for the purpose of adjusting the molecular weight as necessary. Examples of such chain transfer agents and regulators include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, and butyl alcohol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, mail isobutyl ketone, cyclohexanone, and acetophenone; acetaldehyde, n-butyraldehyde, Examples include aldehydes such as furfural and benzaldehyde; mercaptans such as dodecyl mercaptan, lauryl mercaptan, thioglycolic acid, octyl thioglycolate, thioglycerol, and 2-mercaptoethanol.
前記連鎖移動剤や調節剤の使用量としては、例えば、全単量体成分を100重量%とすると0.01〜10重量%とすることが好ましく、0.02〜5重量%がより好ましい。 As the usage-amount of the said chain transfer agent or a regulator, when all the monomer components are 100 weight%, it is preferable to set it as 0.01 to 10 weight%, and 0.02 to 5 weight% is more preferable.
上記重合方法における重合条件としては、重合方法により適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。例えば、重合温度としては、室温〜200℃とすることが好ましく、40〜140℃がより好ましい。反応時間としては、単量体成分の組成や重合開始剤の種類等に応じて、重合反応が完結するように適宜設定すればよい。 The polymerization conditions in the polymerization method may be appropriately set depending on the polymerization method, and are not particularly limited. For example, the polymerization temperature is preferably room temperature to 200 ° C, more preferably 40 to 140 ° C. What is necessary is just to set suitably as reaction time so that a polymerization reaction may be completed according to the composition of a monomer component, the kind of polymerization initiator, etc.
シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)の重量平均分子量は、1000以上、1000000以下であることが好ましい。より好ましくは10000以上、600000以下である。なお、重量平均分子量は、ポリスチレン換算GPCでの測定値である。 The copolymer (A) having the cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent component preferably has a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less. More preferably, it is 10,000 or more and 600,000 or less. In addition, a weight average molecular weight is a measured value by polystyrene conversion GPC.
本発明において使用するジイモニウム系化合物(B)は、下記一般式(1)で示されるスルホンイミドをアニオン成分に持つ構造を有する。
一般式(1)
The diimonium compound (B) used in the present invention has a structure having a sulfonimide represented by the following general formula (1) as an anion component.
General formula (1)
一般式(1)中のアニオン成分におけるR9及びR10は、それぞれ同じであっても異なっていてもよいフルオロアルキル基又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基であれば、置換されるフッ素原子の数や炭素数には特に限定はないが、好ましいR9及びR10の例としては、同じであっても異なっていてもよい炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基が挙げられる。すなわち、アニオン成分の好ましい一例としては、下記一般式(7)で示されるアニオン成分が挙げられる。
一般式(7)
R 9 and R 10 in the anion component in the general formula (1) are substituted if they are the same or different fluoroalkyl groups or fluoroalkylene groups formed together. The number of fluorine atoms and the number of carbon atoms are not particularly limited, but preferred examples of R 9 and R 10 include perfluoroalkyl groups having 1 to 8 carbon atoms which may be the same or different. . That is, a preferable example of the anion component includes an anion component represented by the following general formula (7).
General formula (7)
(式中、n及びn’は1〜8の整数を示す)
(Wherein n and n ′ represent an integer of 1 to 8)
ここで、n及びn’としては、1〜8の整数であり、更に好ましくは、1〜4の整数である。好ましい具体例としては、例えば、パーフルオロアルカンスルホニル基が同一(つまりnとn’が同一の整数)のビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド、ビス(ペンタフルオロエタン)イミド等;
パーフルオロアルカンスルホニル基が異なる(つまりnとn’が異なる整数)ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド、トリフルオロメタンスルホンヘプタフルオロプロパンスルホンイミド、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド等が挙げられる。
Here, n and n ′ are integers of 1 to 8, more preferably integers of 1 to 4. Preferable specific examples include, for example, bis (trifluoromethanesulfone) imide, bis (pentafluoroethane) imide and the like having the same perfluoroalkanesulfonyl group (that is, n and n ′ are the same integer);
Examples include pentafluoroethane sulfone trifluoromethane sulfonimide, trifluoromethane sulfone heptafluoropropane sulfonimide, nonafluorobutane sulfone trifluoromethane sulfonimide, and the like, which are different in perfluoroalkanesulfonyl group (that is, an integer in which n and n ′ are different).
これらの中でも、パーフルオロアルカンスルホン基が同一(つまりnとn’が同一の整数)で、nとn’が、1又は2であるビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド、ビス(ペンタフルオロエタンスルホン)イミドが近赤外線吸収能力の点で更に好ましい。 Among these, bis (trifluoromethanesulfone) imide or bis (pentafluoroethanesulfone) in which the perfluoroalkanesulfone groups are the same (that is, n and n ′ are the same integer) and n and n ′ are 1 or 2. An imide is more preferable in terms of near infrared absorption ability.
また、一般式(1)中のアニオン成分におけるR9及びR10の好ましい他の例としては、下記一般式(8)に示されるように、これらが一緒になって形成される炭素数2〜12のパーフルオロアルキレン基が挙げられる。
一般式(8)
Moreover, as another preferable example of R 9 and R 10 in the anion component in the general formula (1), as shown in the following general formula (8), the number of carbon atoms formed by combining them is 2 to 2. There are 12 perfluoroalkylene groups.
General formula (8)
(式中、mは、2〜12の整数を示す)
(In the formula, m represents an integer of 2 to 12)
ここで、mは好ましくは2〜8の整数であり、更に好ましくはmが3である下記式(9)で示される、1,3−ジスルホンニルヘキサフルオロプロピレンイミドが、アニオン成分として挙げられる。
一般式(9)
Here, m is preferably an integer of 2 to 8, and more preferably 1,3-disulfonylhexafluoropropylimide represented by the following formula (9) in which m is 3 is an anionic component.
General formula (9)
上記一般式(8)で示される、これらが一緒になって形成される炭素数2〜12のパーフルオロアルキレン基は、耐熱性をより向上させるので好ましい。 The C2-C12 perfluoroalkylene group represented by the general formula (8) and formed together is preferable because the heat resistance is further improved.
更に、一般式(1)中、R1〜R8はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいハロゲン化アルキル基、置換されていてもよいシアノアルキル基、置換されていてもよいアリール基、ヒドロキシ基、又は置換されていてもよいフェニルアルキル基を示す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基等の炭素数1〜20のアルキル基が挙げられる。
シクロアルキル基としてはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数3〜10のシクロアルキル基が挙げられる。
アルケニル基としてはビニル基、アリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、2−ブテニル基、1,3−ブタジエニル基、2−ペンテニル基等の炭素数2〜10のアルケニル基が挙げられる。
アリール基としてはフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数6〜12のアリール基が挙げられる。
Further, in the general formula (1), R 1 to R 8 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, a substituted group. And an optionally substituted halogenated alkyl group, an optionally substituted cyanoalkyl group, an optionally substituted aryl group, a hydroxy group, or an optionally substituted phenylalkyl group.
Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n -C1-C20 alkyl groups, such as an octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-octadecyl group, are mentioned.
Examples of the cycloalkyl group include cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group.
Examples of the alkenyl group include C2-C10 alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, and 2-pentenyl group.
Examples of the aryl group include aryl groups having 6 to 12 carbon atoms such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group.
これらの基に結合する置換基としては、シアノ基;ニトロ基;ヒドロキシ基;テトラヒドロフリル基;
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;
メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−デシルオキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基;
メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基エトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等の炭素数2〜12のアルコキシアルコキシ基;
メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシメトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシメトキシメトキシ基、エトキシメトキシエトキシ基、エトキシエトキシメトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等の炭素数3〜15のアルコキシアルコキシアルコキシ基;
アリルオキシ基;
フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数6〜12のアリールオキシ基;
メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、n−プロピルスルホニルアミノ基、イソプロピルスルオニルアミノ基、n−ブチルスルホニルアミノ基、tert−ブチルスルホニルアミノ基、sec−ブチルスルホニルアミノ基、n−ペンチルスルホニルアミノ基、n−ヘキシルスルホニルアミノ基等の炭素数1〜6のアルキルスルホニルアミノ基;
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基;
メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカアルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルキルカルボニルオキシ基;
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシカルボニルオキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、sec−ブトキシカルボニルオキシ基、n−ペンチルオキシカルボニルオキシ基、n−ヘキシルオキシカルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the substituent bonded to these groups include cyano group; nitro group; hydroxy group; tetrahydrofuryl group;
Halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom;
Carbon number such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, sec-butoxy group, n-pentyloxy group, n-octyloxy group, n-decyloxy group, etc. 1 to 10 alkoxy groups;
An alkoxyalkoxy group having 2 to 12 carbon atoms such as a methoxymethoxy group, an ethoxymethoxy group, a propoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a propoxyethoxy group, a methoxypropoxy group, an ethoxypropoxy group, a methoxybutoxy group, and an ethoxybutoxy group;
C3-C15 alkoxyalkoxyalkoxy such as methoxymethoxymethoxy group, methoxymethoxyethoxy group, methoxyethoxymethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxymethoxymethoxy group, ethoxymethoxyethoxy group, ethoxyethoxymethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group Group;
Allyloxy group;
Aryloxy groups having 6 to 12 carbon atoms such as phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, naphthyloxy group;
Methylsulfonylamino group, ethylsulfonylamino group, n-propylsulfonylamino group, isopropylsulfonylamino group, n-butylsulfonylamino group, tert-butylsulfonylamino group, sec-butylsulfonylamino group, n-pentylsulfonylamino An alkylsulfonylamino group having 1 to 6 carbon atoms such as a group, n-hexylsulfonylamino group;
Methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, such as
Methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group, tert-butylcarbonyloxy group, n-pentylcarbonyloxy group, n-hexylcacarbonyloxy group An alkylcarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, such as
Methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, n-propoxycarbonyloxy group, isopropoxycarbonyloxy group, n-butoxycarbonyloxy group, tert-butoxycarbonyloxy group, sec-butoxycarbonyloxy group, n-pentyloxycarbonyloxy Group, an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms such as an n-hexyloxycarbonyloxy group, and the like.
これらのR1〜R8のうち、炭素数1〜8の直鎖又は分岐鎖を有するアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、シアノ置換アルキル基が好ましく、炭素数2〜6の直鎖又は分鎖基を有するアルキル基が特に好ましい。かかる炭素数2〜6の直鎖又は分鎖基を有するアルキル基の具体例としては、例えばエチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−アミル基、iso−プロピル基、iso−ブチル基、iso−アミル基等が挙げられる。 Of these R 1 to R 8 , a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group, or a cyano-substituted alkyl group is preferable, and a linear or branched group having 2 to 6 carbon atoms. Alkyl groups having are particularly preferred. Specific examples of the alkyl group having a linear or branched group having 2 to 6 carbon atoms include, for example, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-amyl group, an iso-propyl group, and an iso-butyl group. Group, iso-amyl group and the like.
また、R1〜R8の好ましい他の例として、下記一般式(2)で示されるフェニルアルキル基を挙げることもできる。
一般式(2)
Other preferable examples of R 1 to R 8, may also be mentioned phenylalkyl groups represented by the following general formula (2).
General formula (2)
(式中、Cは、炭素数1〜18の直鎖又は分岐鎖を有するアルキル基を表し、環Dは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す。)
(In the formula, C represents a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and ring D represents a benzene ring which may have a substituent.)
一般式(2)で示されるフェニルアルキル基において、アルキル基の炭素数は、1〜8であることが好ましい。更にフェニルアルキル基におけるフェニル基は、置換基を有していなくてもよいが、アルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、ハロゲン置換アルキル基及びハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも1種の置換基を有していてもよい。好ましくは置換基を有していないフェニル基である。 In the phenylalkyl group represented by the general formula (2), the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Further, the phenyl group in the phenylalkyl group may not have a substituent, but an alkyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, an alkylsulfonic acid group, a nitro group, an amino group, an alkoxy group, a halogen-substituted alkyl group, and a halogen group. It may have at least one substituent selected from the group consisting of atoms. A phenyl group having no substituent is preferable.
かかるフェニルアルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピレン基、フェニル−α−メチルプロピレン基、フェニル−β−メチルプロピレン基、フェニルブチレン基、フェニルペンチレン基、フェニルオクチレン基等が挙げられ、ベンジル基及びフェネチル基が好ましい。これらフェニルアルキル基は、ジイモニウム化合物の耐熱性を向上させるので好ましい。 Examples of the phenylalkyl group include benzyl group, phenethyl group, phenylpropylene group, phenyl-α-methylpropylene group, phenyl-β-methylpropylene group, phenylbutylene group, phenylpentylene group, and phenyloctylene group. A benzyl group and a phenethyl group are preferred. These phenylalkyl groups are preferred because they improve the heat resistance of the diimonium compound.
一般式(1)における環A及びBは、1,4−位以外に1〜4個の置換基を有しても、いなくてもよい。
結合しうる置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、シアノ基、低級アルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等のC1〜C5のアルコキシ基が挙げられ、低級アルキルとしては、例えばメチル基、エチル基等のC1〜C5のアルキル基が挙げられる。好ましくはA及びBが置換基を有していないか、ハロゲン原子(特に塩素原子、臭素原子)、メチル基もしくはシアノ基で置換されたのもが好ましい。なお、Bに置換基を有する場合は、4つのB環がすべて同じであるもの、更に、置換基の位置はフェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対して、m−位であるものが合成上好ましい。更に環A及びBには1,4−位以外に置換基を有していないものが合成上好ましい。
Rings A and B in general formula (1) may or may not have 1 to 4 substituents in addition to the 1,4-position.
Examples of the substituent that can be bonded include a halogen atom, a hydroxy group, a lower alkoxy group, a cyano group, and a lower alkyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkoxy group include C1-C5 alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, and examples of the lower alkyl include C1-C5 alkyl groups such as methyl group and ethyl group. Preferably, A and B do not have a substituent or are substituted with a halogen atom (especially a chlorine atom or a bromine atom), a methyl group or a cyano group. In addition, when B has a substituent, all of the four B rings are the same, and further, the position of the substituent is m-position with respect to the nitrogen atom bonded to the phenylenediamine skeleton. preferable. Further, rings A and B preferably have no substituent other than the 1,4-position in terms of synthesis.
本発明で使用される一般式(1)で示されるジイモニウム系化合物(B)の例としては、式(10)で示される、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸N,N,N’,N’−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジイモニウム、
式(10)
Examples of the diimonium compound (B) represented by the general formula (1) used in the present invention include bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid N, N, N ′, N ′ represented by the formula (10). -Tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} -p-phenylenediimonium,
Formula (10)
式(11)で示される、ビス(ペンタフロロエタンスルホン)イミド酸N,N,N’,N’−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジイモニウム、
式(11)
Bis (pentafluoroethanesulfone) imidic acid N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} -p-phenylenediimonium represented by the formula (11),
Formula (11)
式(12)で示される、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸N,N,N’,N’−テトラキス{p−ジ(iso−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジイモニウム、
式(12)
Bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid N, N, N ′, N′-tetrakis {p-di (iso-butyl) aminophenyl} -p-phenylenediimonium represented by formula (12),
Formula (12)
式(13)で示される、ビス{ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸}N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジベンジルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウム、
式(13)
Bis {bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid} N, N, N ′, N′-tetrakis (p-dibenzylaminophenyl) -p-phenylenediimonium represented by formula (13),
Formula (13)
式(14)で示される、ビス{ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸}N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジフェネチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウム、
式(14)
Bis {bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid} N, N, N ′, N′-tetrakis (p-diphenethylaminophenyl) -p-phenylenediimonium represented by the formula (14);
Formula (14)
式(15)で示される、ビス{ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸}N,N,N’,N’−テトラキス{(p−ジ(4−フッ化)ベンジルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウム、
式(15)
Bis {bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid} N, N, N ′, N′-tetrakis {(p-di (4-fluorinated) benzylaminophenyl) -p-phenylenediimonium represented by the formula (15) ,
Formula (15)
式(16)で示される、ビス(1,3−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸)N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジフェネチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウム、
式(16)
Bis (1,3-disulfonylhexafluoropropylimidic acid) N, N, N ′, N′-tetrakis (p-diphenethylaminophenyl) -p-phenylenediimonium represented by the formula (16)
Formula (16)
式(17)で示される、ビス(1,3−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸)N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウム等が挙げられる。
式(17)
Examples thereof include bis (1,3-disulfonylhexafluoropropylimidic acid) N, N, N ′, N′-tetrakis (p-dibutylaminophenyl) -p-phenylenediimonium represented by the formula (17).
Formula (17)
本発明で使用される一般式(1)で示されるジイモニウム系化合物(B)は、例えば特公昭43−25335号公報に開示された次の様な方法で得ることができる。すなわち、p−フェニレンジアミンと1−クロロ−4−ニトロベンゼンをウルマン反応させて得られた生成物を還元することにより得られる、下記一般式(18)で表されるアミノ体を有機溶媒中、好ましくはジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の水溶性極性溶媒中、30〜160℃、好ましくは50〜140℃で、所望のR1〜R8に対応するハロゲン化化合物(例えば、R1がn−C4H9のときはBrC4H9)と反応させて、全ての置換基(R1〜R8)が同一である化合物(以下、全置換体と記す)を得ることができる。また、全置換体以外の化合物を合成する場合、例えば、先に所定のモル数(一般式(10)のアミン体1モル当たり7モル)の試薬(BrC4H9)と反応させてR1〜R8のうち7つにn−ブチル基を導入した後、残りの置換基(iso−ブチル基)を導入するのに必要なモル数(一般式(6)のアミン体1モル当たり1モル)の試薬(BrC4H9BrCH2CH(CH3)2)と反応させる。
一般式(18)
The diimonium compound (B) represented by the general formula (1) used in the present invention can be obtained by the following method disclosed in, for example, Japanese Examined Patent Publication No. 43-25335. That is, an amino compound represented by the following general formula (18) obtained by reducing a product obtained by Ullmann reaction of p-phenylenediamine and 1-chloro-4-nitrobenzene is preferably used in an organic solvent. Corresponds to the desired R 1 to R 8 in a water-soluble polar solvent such as dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N-methylpyrrolidone at 30 to 160 ° C., preferably 50 to 140 ° C. A halogenated compound (for example, BrC 4 H 9 when R 1 is n-C 4 H 9 ), and all the substituents (R 1 to R 8 ) are the same (hereinafter, all substituted) Can be obtained). In the case of synthesizing a compound other than all substituents, for example, previously reacted with a predetermined number of moles reagent (formula (amine compound per mole 7 moles of 10)) (BrC 4 H 9 ) with R 1 After introducing n-butyl group into 7 of ˜R 8, the number of moles necessary to introduce the remaining substituent (iso-butyl group) (1 mole per 1 mole of amine of general formula (6)) ) Reagent (BrC 4 H 9 BrCH 2 CH (CH 3 ) 2 ).
General formula (18)
(式中、環A及びBは前記で定義された通りである。)
(Wherein rings A and B are as defined above.)
その後、上記で合成した化合物を、有機溶媒中、好ましくはジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン、アセトニトリル等の水溶性極性溶媒中、0〜100℃、好ましくは5〜70℃で、一般式(19)で示されるスルホンイミド酸銀誘導体を添加して酸化反応を行い、析出した銀を濾別した後、水、酢酸エチル又はヘキサン等の溶媒を加え、生じた沈殿を濾過することにより本発明の一般式(1)で示されるジイモニウム系化合物がえられる。
一般式(19)
Thereafter, the compound synthesized above is heated in an organic solvent, preferably in a water-soluble polar solvent such as dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N-methylpyrrolidone, acetonitrile, preferably at 0 to 100 ° C. Is 5 to 70 ° C., an oxidation reaction is carried out by adding a silver sulfonidate derivative represented by the general formula (19), and the precipitated silver is filtered off, and then a solvent such as water, ethyl acetate or hexane is added, The resulting precipitate is filtered to obtain a diimonium compound represented by the general formula (1) of the present invention.
General formula (19)
(式中、R9及びR10は前記で定義された通りである。)
(Wherein R 9 and R 10 are as defined above.)
上記一般式(1)で表されるジイモニウム系化合物(B)の市販品としては、例えば、「CIR−LR」、「CIR−1085」(いずれも日本カーリット株式会社製)、「K−1032」(日本化薬株式会社製)等があけられる。 Examples of commercially available products of the diimonium compound (B) represented by the general formula (1) include “CIR-LR”, “CIR-1085” (all manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.), and “K-1032”. (Nippon Kayaku Co., Ltd.) etc. are opened.
本発明のコーティング剤中に含まれるジイモニウム系化合物(B)の含有量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にジイモニウム系化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のジイモニウム系化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のジイモニウム系化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
The content of the diimonium compound (B) contained in the coating agent of the present invention is such that the near-infrared absorbing laminate formed by laminating the near-infrared absorbing layer formed by the near-infrared absorbing coating agent of the present invention is absorbed in the near infrared. When used as a filter, it is determined by the thickness of the near infrared absorption filter and the required absorption capacity.
If the absorption capacity is constant, if the near-infrared absorbing layer to be formed is thin, it is necessary to add a large amount of a diimonium compound in the coating agent. Is thick, the amount of the diimonium compound added to the coating agent may be small. That is, the amount of the diimonium compound in the coating agent and the thickness of the formed near-infrared absorbing layer can be determined according to the required near-infrared absorbing ability.
例えば、ジイモニウム系化合物(B)の添加量は、本発明のコーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積1m2当たり、1〜1000mgが好ましく、より好ま
しくは5〜500mgである。
より具体的には、本発明のコーティング剤は、シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)100重量部に対し、ジイモニウム系化合物を0.1〜10重量部配合することが好ましく、0.5〜5重量部配合することがより好ましい。
ジイモニウム系化合物(B)の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、ジイモニウム系化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
For example, the addition amount of the diimonium compound (B) is preferably 1 to 1000 mg, more preferably 5 to 500 mg per unit area 1 m 2 of the near-infrared absorbing layer formed by the coating agent of the present invention.
More specifically, the coating agent of the present invention contains diimonium compounds in an amount of 0.1 to 100 parts by weight of the copolymer (A) containing the cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent. It is preferable to mix 10 parts by weight, and more preferably 0.5 to 5 parts by weight.
When the blending amount of the diimonium compound (B) is less than the above range, it is preferable to make the film thickness of the near infrared absorbing layer considerably thick in order to obtain a desired near infrared absorbing ability. On the other hand, when the blending amount of the diimonium compound exceeds the above range, the visible light transmittance may be lowered. Therefore, it is preferable to make the near-infrared absorption layer considerably thin.
尚、一般式(1)で表されるジイモニウム系化合物(B)は、850〜1200nmの範囲に近赤外線吸収能があり、特に1000nm前後の近赤外線吸収が強く、リモコン等に使用される近赤外線の波長の光以外にも、将来使用が見込まれるコンピューター通信の波長の光をも遮断し、この誤作動の防止にも効果が期待できる。 Incidentally, the diimonium compound (B) represented by the general formula (1) has a near-infrared absorbing ability in the range of 850 to 1200 nm, particularly has a strong near-infrared absorption around 1000 nm, and is used for a remote control or the like. In addition to the light of the wavelength, the light of the wavelength of the computer communication that is expected to be used in the future is also blocked, and the effect of preventing this malfunction can be expected.
本発明のコーティング剤には、フタロシアニン系化合物(C)や後述するジチール金属錯体(D)をさらに含有することが好ましい。
本発明において用いられるフタロシアニン系化合物(C)としては、フタロシアニン、フタロシアニン錯体、或いはフタロシアニン及びフタロシアニン錯体であってフタロシアニン骨格のベンゼン環上にOR、SR、NHR、又はNRR′のうちの1種以上有するものである。ここでR、R′は、同一もしくは異なって、置換基を有してもよいフェニル基、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数7〜20のアラルキル基を表す。なお置換基のうちの1個がNHRで置換されたフタロシアニンであることが好ましい。
The coating agent of the present invention preferably further contains a phthalocyanine compound (C) and a later-described dityl metal complex (D).
The phthalocyanine compound (C) used in the present invention is phthalocyanine, a phthalocyanine complex, or a phthalocyanine and phthalocyanine complex, and has one or more of OR, SR, NHR, or NRR ′ on the benzene ring of the phthalocyanine skeleton. Is. R and R ′ are the same or different and each represents a phenyl group which may have a substituent, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms. In addition, it is preferable that one of the substituents is phthalocyanine substituted with NHR.
本発明において用いられるフタロシアニン系化合物(C)は、下記一般式(20)で表される化合物であることが好ましい。一般式(20)で表される化合物は、溶媒溶解性に優れ、共重合体(A)との相溶性にも優れる。更に、一般式(7)で表されるフタロシアニン系化合物を用いた、近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、特に可視光線透過率が高く、近赤外線吸収効率が高く、かつ耐熱性、耐光性にも優れた近赤外線吸収フィルターを得ることができる。
一般式(20)
The phthalocyanine compound (C) used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (20). The compound represented by the general formula (20) has excellent solvent solubility and excellent compatibility with the copolymer (A). Furthermore, when using the near-infrared absorption laminated body in which the near-infrared absorption layer formed with the near-infrared absorption coating agent using the phthalocyanine type compound represented by General formula (7) is laminated | stacked as a near-infrared absorption filter. In particular, a near-infrared absorption filter having high visible light transmittance, high near-infrared absorption efficiency, and excellent heat resistance and light resistance can be obtained.
General formula (20)
(式中、αは、同一もしくは異なって、SR1、OR2、NHR3又はハロゲン原子を表し、NHR3を必須とする。R1、R2及びR3は、同一もしくは異なって、置換基を有してもよいフェニル基、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数7〜20のアラルキル基を表す。βは、同一もしくは異なって、SR1、OR2又はハロゲン原子を表し、SR1又はOR2を必須とする。Mは無金属、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。)
(In the formula, α is the same or different and represents SR 1 , OR 2 , NHR 3 or a halogen atom, and NHR 3 is essential. R 1 , R 2 and R 3 are the same or different and are substituents. Represents a phenyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, β is the same or different and represents SR 1 , OR 2 or a halogen atom, and SR 1 Or OR 2 is essential, and M represents a metal-free, metal, metal oxide, or metal halide.)
上記一般式(20)において、炭素数1〜20のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、n−ヘキシル基、1,3−ジメチルブチル基、1−イソプロピルプロピル基、1,2−ジメチルブチル基、n−ヘプチル基、1,4−ジメチルペンチル基、2−メチル−1−イソプロピルプロピル基、1−エチル−3−メチルブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等の直鎖又は分岐状のアルキル基;シクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。炭素数7〜20のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。 In the general formula (20), examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1-isopropylpropyl group, 1,2-dimethylbutyl group, n-heptyl group A linear or branched alkyl group such as 1,4-dimethylpentyl group, 2-methyl-1-isopropylpropyl group, 1-ethyl-3-methylbutyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group; cyclohexyl group And the like, and the like. Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms include a benzyl group and a phenethyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.
上記R1、R2、及びR3におけるフェニル基、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数
7〜20のアラルキル基は、置換基を1個又は2個以上有してもよい。このような置換基としては、例えばハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基カルボニル基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
The phenyl group, the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms in R 1 , R 2 , and R 3 may have one or more substituents. Examples of such substituents include halogen atoms, acyl groups, alkyl groups, alkoxy groups, halogenated alkoxy groups, nitro groups, amino groups, alkylamino groups, alkylcarbonylamino groups, arylamino groups, arylcarbonylamino group carbonyls. Group, alkoxycarbonyl group and the like.
上記一般式(20)中のMにおいて、無金属とは、金属以外の原子、例えば2個の水素原子であることを意味する。具体的には、フタロシアニン構造の中央部分に存在する、置換基を有してもよい、相対する2つの窒素原子に水素原子が結合している構造となる。金属としては、例えば鉄、マグネシウム、ニッケル、コバルト、銅、パラジウム、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム、錫等が挙げられる。金属酸化物としては、例えばチタニル、バナジル等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては、例えば塩化アルミニウム、塩化インジウム、塩化ゲルマニウム、塩化錫、塩化ケイ素等が挙げられる。Mとしては、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物であることが好ましく、具体的には、ニッケル、コバルト、銅、亜鉛、鉄、バナジル、ジクロロ錫等が挙げられる。より好ましくは、亜鉛、銅、コバルト、バナジル、ジクロロ錫である。 In M in the general formula (20), the metal-free means an atom other than a metal, for example, two hydrogen atoms. Specifically, a structure in which a hydrogen atom is bonded to two opposing nitrogen atoms that may have a substituent and exist in the central portion of the phthalocyanine structure. Examples of the metal include iron, magnesium, nickel, cobalt, copper, palladium, zinc, vanadium, titanium, indium, and tin. Examples of the metal oxide include titanyl and vanadyl. Examples of the metal halide include aluminum chloride, indium chloride, germanium chloride, tin chloride, and silicon chloride. M is preferably a metal, metal oxide or metal halide, and specific examples include nickel, cobalt, copper, zinc, iron, vanadyl, dichlorotin and the like. More preferred are zinc, copper, cobalt, vanadyl and dichlorotin.
上記一般式(20)で表されるフタロシアニン系化合物(C)の好ましい形態としては、8個のβのうち4〜8個が、同一もしくは異なって、SR1又はOR2である。より好ましくは、8個のβが全て、同一もしくは異なって、SR1又はOR2である。このようなフタロシアニン系化合物としては、例えば、ZnPc(PhS)8(PhNH)3F5、Zn
Pc(PhS)8(PhNH)4F4、ZnPc(PhS)8(PhNH)5F3、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)4F4、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)5F3、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)6F2、CuPc(PhS)8(PhNH)7F、CuPc(PhS)8(PhNH)6F2、CuPc(PhS)8(PhNH)5F3、VOPc(PhO)8(PhCH2NH)5F3、VOPc(PhO)8(PhCH2NH)6F2、VOPc(PhO)8(PhCH2NH)8、VOPc(PhS)8(PhCH2NH)8、VOPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F、VOPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(PhS)8{2,6−(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、VOPc(4−CNPhO)8{2,6−Br2−4−(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}4、ZnPc(2,4−Cl2PhO)8{2,6−Br2−4−(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3Fの略号で表されるフタロシアニン化合物等が挙げられる。
As a preferable form of the phthalocyanine compound (C) represented by the general formula (20), 4 to 8 of 8 βs are the same or different and are SR 1 or OR 2 . More preferably, all eight βs are the same or different and are SR 1 or OR 2 . Examples of such phthalocyanine compounds include ZnPc (PhS) 8 (PhNH) 3 F 5 , Zn
Pc (PhS) 8 (PhNH) 4 F 4 , ZnPc (PhS) 8 (PhNH) 5 F 3 , ZnPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH) 4 F 4 , ZnPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH) 5 F 3 , ZnPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH) 6 F 2 , CuPc (PhS) 8 (PhNH) 7 F, CuPc (PhS) 8 (PhNH) 6 F 2 , CuPc (PhS) 8 (PhNH) 5 F 3 , VOPc (PhO) 8 (PhCH 2 NH) 5 F 3 , VOPc (PhO) 8 (PhCH 2 NH) 6 F 2 , VOPc (PhO) 8 (PhCH 2 NH) 8 , VOPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH ) 8 , VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {Ph (CH 3 ) CHNH} 3 F, VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 { 2,6- (CH 3) 2 Ph } 4 (PhCH 2 NH) 4 , CuPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4, CuPc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4 , VOPc (4-CNPhO) 8 {2,6-Br 2 -4- (CH 3 ) PhO} 4 {Ph (CH 3 ) CHNH} 4 , ZnPc And a phthalocyanine compound represented by an abbreviation of (2,4-Cl 2 PhO) 8 {2,6-Br 2 -4- (CH 3 ) PhO} 4 {Ph (CH 3 ) CHNH} 3 F.
またこれらの化合物の中でも8個のαのうち4個が、同一もしくは異なってOR2又はハロゲン原子を表す化合物で、例えば、ZnPc(PhS)8(PhNH)3F5、ZnPc(PhS)8(PhNH)4F4、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)4F4、VOPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F、VOPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(PhS)8{2,6−(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、VOPc(4−CNPhO)8{2,6−Br2−4−(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}4、ZnPc(2,4−Cl2PhO)8{2,6−Br2−4−(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3Fの略称で表されるフタロシアニン化合物等が好ましい。
。
Among these compounds, 4 of 8 α's are the same or different and represent OR 2 or a halogen atom. For example, ZnPc (PhS) 8 (PhNH) 3 F 5 , ZnPc (PhS) 8 ( PhNH) 4 F 4 , ZnPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH) 4 F 4 , VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {Ph (CH 3 ) CHNH} 3 F, VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4 , CuPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2, 6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4 , CuPc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4 , VOPc (4-CNPhO) 8 { 2,6-Br 2 -4- (CH 3 ) PhO} 4 {Ph (C H 3 ) CHNH} 4 , ZnPc (2,4-Cl 2 PhO) 8 {2,6-Br 2 -4- (CH 3 ) PhO} 4 {Ph (CH 3 ) CHNH} 3 F Preferred are phthalocyanine compounds.
.
なお、上記化合物の略号において、Pcはフタロシアニン核を表し、Pcの後には、β位に置換する8個の置換基を表し、その後にα位に置換する8個の置換基を表す。また、上記Phはフェニル基を表す。更に具体的には、上記略号は、中心金属:Pc:β位の8個の置換基:α位の8個の置換基を表す。例えば、VOPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3Fでは、中心金属がVO:フタロシアニン核:β位に2,5−Cl2PhOが8個置換:α位に2,6−(CH3)2PhOが4個とPh(CH3)CHNHが3個とFが1個置換したフタロシアニン系化合物を表す。 In the abbreviations of the above compounds, Pc represents a phthalocyanine nucleus, and after Pc, represents eight substituents substituted at the β-position, and then represents eight substituents substituted at the α-position. Moreover, said Ph represents a phenyl group. More specifically, the above abbreviations represent central metal: Pc: 8 substituents at β-position: 8 substituents at α-position. For example, in VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {Ph (CH 3 ) CHNH} 3 F, the central metal is 2 at the VO: phthalocyanine nucleus: β position. , 5-Cl 2 PhO is substituted: represents a phthalocyanine compound in which α is substituted with 4,6- (CH 3 ) 2 PhO, 3 Ph (CH 3 ) CHNH, and 1 F.
上記一般式(20)で表されるフタロシアニン系化合物の製造方法は、特に制限されるものではなく、従来公知の方法を適当に利用することができる。例えば、フタロニトリル化合物を、金属塩、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属から選ばれる一種と環化反応させた後、アミノ化合物と反応させることによって製造される。 The method for producing the phthalocyanine compound represented by the general formula (20) is not particularly limited, and a conventionally known method can be appropriately used. For example, the phthalonitrile compound is produced by a cyclization reaction with one selected from metal salts, metal oxides, metal carbonyls, metal halides, and organic acid metals, followed by reaction with an amino compound.
上記一般式(20)で表されるフタロシアニン系化合物(C)の市販品としては、例えば、「イーエックスカラーIR10A」、「イーエックスカラーIR12」、「イーエックスカラーIR14」、「イーエックスカラーHA−1」、「イーエックスカラーHA−14」(いずれも日本触媒製)等があけられ、フタロシアニン系化合物の溶媒溶解性、共重合体(A)との相溶性の点より、近赤外線吸収フィルターとして使用する場合の可視光線透過率、近赤外線吸収効率の点より、「イーエックスカラーIR10A」、「イーエックスカラーIR12」、「イーエックスカラーIR14」が好ましい。 Examples of commercially available products of the phthalocyanine compound (C) represented by the general formula (20) include “EX color IR10A”, “EX color IR12”, “EX color IR14”, and “EX color HA”. -1 "," EX Color HA-14 "(both made by Nippon Shokubai Co., Ltd.), etc., and a near-infrared absorption filter from the viewpoint of solvent solubility of the phthalocyanine compound and compatibility with the copolymer (A) From the viewpoint of visible light transmittance and near-infrared absorption efficiency when used as “EX color IR10A”, “EX color IR12”, and “EX color IR14”.
本発明の近赤外線吸収コーティング剤中に含まれるフタロシアニン系化合物(C)の含有量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にフタロシアニン系化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のフタロシアニン系化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のフタロシアニン系化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
The content of the phthalocyanine compound (C) contained in the near-infrared absorbing coating agent of the present invention is that the near-infrared absorbing laminate formed by laminating the near-infrared absorbing layer formed by the near-infrared absorbing coating agent of the present invention. When used as a near-infrared absorption filter, it is determined by the thickness of the near-infrared absorption filter and the required absorption capacity.
If the absorption capacity is constant, when the near infrared absorption layer formed is thin, it is necessary to add a large amount of a phthalocyanine compound in the coating agent. Is thick, the amount of the phthalocyanine compound added to the coating agent may be small. That is, the amount of the phthalocyanine compound in the coating agent and the thickness of the formed near-infrared absorbing layer can be determined according to the required near-infrared absorbing ability.
例えば、フタロシアニン系化合物(C)の添加量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積1m2当たり、1〜1000mgが好ま
しく、より好ましくは5〜500mgである。
より具体的には、本発明の近赤外線吸収コーティング剤は、シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)100重量部に対し、フタロシアニン系化合物を0.1〜10重量部配合することが好ましく、0.2〜5重量部配合することがより好ましい。
フタロシアニン系化合物の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、フタロシアニン系化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
For example, the addition amount of the phthalocyanine compound (C) is preferably 1 to 1000 mg, more preferably 5 to 500 mg per unit area 1 m 2 of the near infrared absorbing layer formed by the near infrared absorbing coating agent of the present invention. .
More specifically, the near-infrared absorbing coating agent of the present invention contains 0 phthalocyanine compound per 100 parts by weight of the copolymer (A) containing the cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent. 0.1 to 10 parts by weight is preferable, and 0.2 to 5 parts by weight is more preferable.
When the blending amount of the phthalocyanine compound is less than the above range, it is preferable that the film thickness of the near infrared absorbing layer is considerably increased in order to obtain a desired near infrared absorbing ability. On the other hand, if the blending amount of the phthalocyanine compound exceeds the above range, the visible light transmittance may be lowered. Therefore, it is preferable to make the near-infrared absorption layer considerably thin.
これら一般式(20)で表されるフタロシアニン系錯体化合物(C)は、800〜900nmの近赤外線領域で吸収極大を持ち、且つ可視光領域での吸収が小さいという特徴を持つ。そこでジイモニウム系化合物と組み合わせることにより、両者の相乗効果で800〜1000nmの近赤外線領域を効率良く吸収遮蔽するので、プラズマディスプレイが発する不要な近赤外線を吸収することができる。
また、ジイモニウム系化合物は、一般に他の色素と混合した場合に、その耐熱性が著しく低下することが知られているが、フタロシアニン系化合物との混合においてはジイモニウム系化合物の耐熱性を低下することは少なく、この点においても両者の併用は好ましい。
These phthalocyanine-based complex compounds (C) represented by the general formula (20) are characterized by having an absorption maximum in the near infrared region of 800 to 900 nm and a small absorption in the visible light region. Therefore, by combining with a diimonium-based compound, the near-infrared region of 800 to 1000 nm is efficiently absorbed and shielded by the synergistic effect of both, so that unnecessary near-infrared rays emitted from the plasma display can be absorbed.
In addition, it is known that the heat resistance of diimonium compounds generally decreases significantly when mixed with other dyes, but the heat resistance of diimonium compounds decreases when mixed with phthalocyanine compounds. In this respect, the combined use of both is preferable.
本発明において用いられるジチオール金属錯体化合物(D)としては、一般的にジチオール金属錯体化合物と呼ばれるものであれば特に限定はないが、具体的には一般式(21)で表される金属錯体化合物である。
一般式(21)
The dithiol metal complex compound (D) used in the present invention is not particularly limited as long as it is generally called a dithiol metal complex compound. Specifically, the metal complex compound represented by the general formula (21) is used. It is.
Formula (21)
(一般式(21)中、R24〜R27は互いに同一もしくは相異なる水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、あるいは置換又は未置換のアリール基を表し、かつ、隣り合う2個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。また、Mはニッケル、白金、パラジウム、又は銅の金属である。これら一般式(21)で表されるジチオール金属錯体化合物(C)は、1種類を使用しても2種類以上を使用してもよい。)
(In the general formula (21), R 24 to R 27 are the same or different from each other, hydrogen atom, halogen atom, cyano group, acyl group, carbamoyl group, alkylaminocarbonyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, substituted or Represents an unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and two adjacent substituents may be connected via a linking group, and M is nickel, platinum, palladium, or copper. (The dithiol metal complex compound (C) represented by the general formula (21) may be used alone or in combination of two or more.)
一般式(21)で表されるジチオール金属錯体化合物(D)中、R26〜R29で表される置換基について、以下に具体的に記載する。 In the dithiol metal complex compound (D) represented by the general formula (21), the substituents represented by R 26 to R 29 are specifically described below.
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
アシル基の例としては、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、ヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、p−t−ブチルベンゾイル基等が挙げられる。 Examples of the acyl group include acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, butylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, hexylcarbonyl group, benzoyl group, pt-butylbenzoyl group and the like.
アルキルアミノカルボニル基の例としては、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、n−プロピルアミノカルボニル基、n−ブチルアミノカルボニル基、sec−ブチルアミノカルボニル基、n−ペンチルアミノカルボニル基、n−ヘキシルアミノカルボニル基、n−ヘプチルアミノカルボニル基、n−オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−n−プロピルアミノカルボニル基、ジ−n−ブチルアミノカルボニル基、ジ−sec−ブチルアミノカルボニル基、ジ−n−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−n−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−n−ヘプチルアミノカルボニル基、ジ−オクチルアミノカルボニル基等が挙げられる。 Examples of alkylaminocarbonyl group include methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, n-propylaminocarbonyl group, n-butylaminocarbonyl group, sec-butylaminocarbonyl group, n-pentylaminocarbonyl group, n-hexyl. Aminocarbonyl group, n-heptylaminocarbonyl group, n-octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, di-n-propylaminocarbonyl group, di-n-butylaminocarbonyl Group, di-sec-butylaminocarbonyl group, di-n-pentylaminocarbonyl group, di-n-hexylaminocarbonyl group, di-n-heptylaminocarbonyl group, di-octylaminocarbonyl group and the like. That.
アルコキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、iso−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、iso−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、iso−ペンチルオキシカルボニル基、neo−ペンチルオキシカルボニル基、1,2−ジメチル−プロピルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、1,3−ジメチル−ブチルオキシカルボニル基、1−iso−プロピルプロピルオキシカルボニル基、1,2−ジメチルブチルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、1,4−ジメチルペンチロキシカルボニル基、2−メチル−1−iso−プロピルプロピルオキシカルボニル基、1−エチル−3−メチルブチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基、3−メチル−iso−プロピルブチルオキシカルボニル基、2−メチル−1−iso−プロピルオキシカルボニル基、1−t−ブチル−2−メチルプロピルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基等の炭素数2〜20の直鎖又は分岐のアルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。 Examples of alkoxycarbonyl groups include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, iso-propoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, iso-butoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl Group, n-pentyloxycarbonyl group, iso-pentyloxycarbonyl group, neo-pentyloxycarbonyl group, 1,2-dimethyl-propyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, 1,3- Dimethyl-butyloxycarbonyl group, 1-iso-propylpropyloxycarbonyl group, 1,2-dimethylbutyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, 1,4-dimethylpentoxyl Nyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropyloxycarbonyl group, 1-ethyl-3-methylbutyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, 2-ethylhexyloxycarbonyl group, 3-methyl-iso-propyl Linear or branched having 2 to 20 carbon atoms such as butyloxycarbonyl group, 2-methyl-1-iso-propyloxycarbonyl group, 1-t-butyl-2-methylpropyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group And alkyloxycarbonyl groups.
アリールオキシカルボニル基の例としては、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、トリオキシカルボニル基、キシリルオキシカルボニル基、クロロフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。 Examples of the aryloxycarbonyl group include a phenyloxycarbonyl group, a naphthyloxycarbonyl group, a trioxycarbonyl group, a xylyloxycarbonyl group, a chlorophenyloxycarbonyl group, and the like.
置換又は未置換のアルキル基のうち、未置換のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、neo−ペンチル基、シクロペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、1,3−ジメチルブチル基、1−iso−プロピルプロピル基、1,2−ジメチルブチル基、n−ヘプチル基、1,4−ジメチルペンチル基、2−メチル−1−iso−プロピルプロピル基、1−エチル−3−メチルブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、3−メチル1−iso−プロピルブチル基、2−メチル−1−iso−プロピル基、1−t−ブチル−2−メチルプロピル基、n−ノニル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基等の炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状の炭化水素基が挙げられる。 Among the substituted or unsubstituted alkyl groups, examples of the unsubstituted alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, and a sec-butyl group. , T-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, neo-pentyl group, cyclopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1- iso-propylpropyl group, 1,2-dimethylbutyl group, n-heptyl group, 1,4-dimethylpentyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropyl group, 1-ethyl-3-methylbutyl group, n- Octyl group, 2-ethylhexyl group, 3-methyl 1-iso-propylbutyl group, 2-methyl-1-iso-propyl group, 1-t-butyl-2-methyl Propyl group, n- nonyl, 3,5,5 linear 1 to 20 carbon atoms such as trimethyl hexyl group, and a hydrocarbon group branched or cyclic.
置換アルキル基とは、上記の未置換のアルキル基の少なくとも1つの水素が種々の官能基に置換されたものである。
例えば、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシ基に置換されたアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がハロゲン原子に置換されたハロゲン化アルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアミノ基に置換されたアミノアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルキルアミノ基に置換されたアルキルアミノアルキル基やジアルキルアミノアルキル基、
その他アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルアミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアルキル基等が挙げられる。
The substituted alkyl group is a group in which at least one hydrogen of the above-described unsubstituted alkyl group is substituted with various functional groups.
For example,
An alkoxyalkyl group in which an hydrogen of an unsubstituted alkyl group is substituted with an alkoxy group,
An alkoxyalkoxyalkyl group in which hydrogen of an unsubstituted alkyl group is substituted with an alkoxyalkoxy group,
An alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group in which hydrogen of an unsubstituted alkyl group is substituted with an alkoxyalkoxyalkoxy group,
A halogenated alkyl group in which a hydrogen atom of an unsubstituted alkyl group is substituted with a halogen atom,
An aminoalkyl group in which an hydrogen of an unsubstituted alkyl group is substituted with an amino group,
An alkylaminoalkyl group or a dialkylaminoalkyl group in which an hydrogen of an unsubstituted alkyl group is substituted with an alkylamino group,
Other examples include an alkoxycarbonylalkyl group, an alkylaminocarbonylalkyl group, and an alkoxysulfonylalkyl group.
アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトチキシメチル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等が挙げられ、
ハロゲン化アルキル基としては、クロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ2−プロピル基等が挙げられる。
Alkoxyalkyl groups include methoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, 3-methoxypropyl, 3-ethoxypropyl, methoxyethoxymethyl, ethoxyethoxyethyl, dimethoxymethyl Group, diethoxymethyl group, dimethoxyethyl group, diethoxyethyl group and the like,
Examples of the halogenated alkyl group include chloromethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, trifluoromethyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group and the like.
置換又は未置換のアリール基のうち、未置換のものとしては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、置換アリール基とは、上記の未置換のアリール基の少なくとも1つの水素が種々の官能基に置換されたものである。
例えば、置換フェニル基としては、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フロロフェニル基、ペンタフロロフェニル基、ヨウ化フェニル基等のハロゲン化フェニル基、
Among the substituted or unsubstituted aryl groups, examples of the unsubstituted one include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, and the like. The substituted aryl group includes various kinds of at least one hydrogen of the above-described unsubstituted aryl group. The functional group is substituted.
For example, as a substituted phenyl group,
Halogenated phenyl groups such as chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trichlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, pentafluorophenyl group, phenyl iodide group,
トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルエチルフェニル基、iso−プロピルフェニル基、t−ブチルフェニル基、t−ブチルメチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基等のアルキル誘導体置換フェニル基、 Tolyl group, xylyl group, mesityl group, ethylphenyl group, dimethylethylphenyl group, iso-propylphenyl group, t-butylphenyl group, t-butylmethylphenyl group, octylphenyl group, nonylphenyl group, trifluoromethylphenyl group Alkyl derivative-substituted phenyl groups such as
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、2−エチルヘキシルオキシフェニル基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシフェニル基、メチルエトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、1−メトキシ−5−エトキシフェニル基、1−メトキシ−2−エトキシフェニル基、1−メトキシ−3−エトキシフェニル基、1−メトキシ−4−エトキシフェニル基、1−エトキシ−2−メトキシフェニル基、2−メトキシ−3−エトキシフェニル基、2−メトキシ−4−エトキシフェニル基、2−メトキシ−5−エトキシフェニル基、1−エトキシ−4−メトキシフェニル基、2−メトキシ−3−エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、エトキシエトキシフェニル基、ジ(エトキシエトキシ)フェニル基、エトキシエトキシエトキシフェニル基、ジ(エトキシエトキシエトキシ)フェニル基、3−メトキシ−4−(2−メトキシエトキシ)フェニル基、3−メトキシ−4−(2−エトキシエトキ)シフェニル基、3−エトキシ−4(2−メトキシエトキ)シフェニル基、3−エトキシ−4−(2−エトキシエトキ)シフェニル基、3−プロポキシ−4−(2−メトキシエトキシ)フェニル基、3−プロポキシ−4−(2−エトキシエトキ)シフェニル基、3−iso−プロポキシ−4−(2−メトキシエトキ)シフェニル基、3−iso−プロポキシ−4−(2−エトキシエトキ)シフェニル基、2−(2−ヒドロキシ)−3−メトキシフェニル基、3−メトキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル基、クロロメトキシフェニル基、クロロエトキシフェニル基等のアルコキシ置換フェニル基、 Methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, propoxyphenyl group, isopropoxyphenyl group, hexyloxyphenyl group, cyclohexyloxyphenyl group, octyloxyphenyl group, 2-ethylhexyloxyphenyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxyphenyl group Methylethoxyphenyl group, dimethoxyphenyl group, 1-methoxy-5-ethoxyphenyl group, 1-methoxy-2-ethoxyphenyl group, 1-methoxy-3-ethoxyphenyl group, 1-methoxy-4-ethoxyphenyl group, 1-ethoxy-2-methoxyphenyl group, 2-methoxy-3-ethoxyphenyl group, 2-methoxy-4-ethoxyphenyl group, 2-methoxy-5-ethoxyphenyl group, 1-ethoxy-4-methoxyphenyl group, 2-methoxy-3-e Xiphenyl group, diethoxyphenyl group, ethoxyethoxyphenyl group, di (ethoxyethoxy) phenyl group, ethoxyethoxyethoxyphenyl group, di (ethoxyethoxyethoxy) phenyl group, 3-methoxy-4- (2-methoxyethoxy) phenyl group 3-methoxy-4- (2-ethoxyethoxy) siphenyl group, 3-ethoxy-4 (2-methoxyethoxy) siphenyl group, 3-ethoxy-4- (2-ethoxyethoxy) siphenyl group, 3-propoxy-4- ( 2-methoxyethoxy) phenyl group, 3-propoxy-4- (2-ethoxyethoxy) siphenyl group, 3-iso-propoxy-4- (2-methoxyethoxy) siphenyl group, 3-iso-propoxy-4- (2- Ethoxyethoxy) siphenyl group, 2- (2-hydroxy) -3-meth Shifeniru group, 3-methoxy-4- (2-hydroxyethoxy) phenyl group, chloro-methoxyphenyl group, an alkoxy substituted phenyl group such as chloro ethoxyphenyl group,
メチルチオフェニル基、エチルチオフェニル基、t−ブチルチオフェニル基、ジ−tert−ブチルチオフェニル基、2−メチル−1−メチルチオフェニル基等のアルキルチオ基置換フェニル基、 Alkylthio group-substituted phenyl groups such as methylthiophenyl group, ethylthiophenyl group, t-butylthiophenyl group, di-tert-butylthiophenyl group, 2-methyl-1-methylthiophenyl group,
N,N−ジメチルアミノフェニル基、N,N−ジエチルアミノフェニル基、N,N−ジプロピルアミノフェニル基、N,N−ジブチルアミノフェニル基、N,N−ジアミルアミノフェニル基、N,N−ジヘキシルアミノフェニル基、N−メチル−N−エチルアミノフェニル基、N−ブチル−N−エチルアミノフェニル基、N−ヘキシル−N−エチルアミノフェニル基、4−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルフェニル基、4−(N,N−ジエチルアミノ)−エチルフェニル基、3−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルフェニル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルフェニル基等のアルキルアミノフェニル基等が挙げられる。 N, N-dimethylaminophenyl group, N, N-diethylaminophenyl group, N, N-dipropylaminophenyl group, N, N-dibutylaminophenyl group, N, N-diamylaminophenyl group, N, N- Dihexylaminophenyl group, N-methyl-N-ethylaminophenyl group, N-butyl-N-ethylaminophenyl group, N-hexyl-N-ethylaminophenyl group, 4- (N, N-dimethylamino) -ethyl Alkylamino such as phenyl group, 4- (N, N-diethylamino) -ethylphenyl group, 3- (N, N-dimethylamino) -ethylphenyl group, 2- (N, N-dimethylamino) -ethylphenyl group A phenyl group etc. are mentioned.
また、置換ナフチル基としては、
クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、トリクロロナフチル基、ブロモナフチル基、フロロナフチル基、ペンタフロロナフチル基、ヨウ化ナフチル基等のハロゲン化ナフチル基、
As the substituted naphthyl group,
Halogenated naphthyl groups such as chloronaphthyl group, dichloronaphthyl group, trichloronaphthyl group, bromonaphthyl group, fluoronaphthyl group, pentafluoronaphthyl group, iodonaphthyl group,
エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、iso−プロピルナフチル基、t−ブチルナフチル基、t−ブチルメチルナフチル基、オクチルナフチル基、ノニルナフチル基、トリフロロメチルナフチル基のアルキル誘導体置換ナフチル基、 An alkyl derivative substituted naphthyl group of ethyl naphthyl group, dimethyl ethyl naphthyl group, iso-propyl naphthyl group, t-butyl naphthyl group, t-butylmethyl naphthyl group, octyl naphthyl group, nonyl naphthyl group, trifluoromethyl naphthyl group,
メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、ヘキシルオキシナフチル基、シクロヘキシルオキシナフチル基、オキチルオキシナフチル基、2−エチルヘキシルオキシナフチル基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシナフチル基、メチルエトキシナフチル基、ジメトキシナフチル基、クロロメトキシナフチル基、エトキシエトキシナフチル基、エトキシエトキシエトキシナフチル基等のアルコキシ基置換ナフチル基、 Methoxynaphthyl group, ethoxynaphthyl group, propoxynaphthyl group, hexyloxynaphthyl group, cyclohexyloxynaphthyl group, octyloxynaphthyl group, 2-ethylhexyloxynaphthyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxynaphthyl group, methylethoxynaphthyl group Group, dimethoxynaphthyl group, chloromethoxynaphthyl group, ethoxyethoxynaphthyl group, alkoxy group-substituted naphthyl group such as ethoxyethoxyethoxynaphthyl group,
メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、t−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基等のアルキルチオ基置換ナフチル基、 Alkylthio group-substituted naphthyl groups such as methylthionaphthyl group, ethylthionaphthyl group, t-butylthionaphthyl group, methylethylthionaphthyl group, butylmethylthionaphthyl group,
N,N−ジメチルアミノナフチル基、N,N−ジエチルアミノナフチル基、N,N−ジプロピルアミノナフチル基、N,N−ジブチルアミノナフチル基、N,N−ジアミルアミノナフチル基、N,N−ジヘキシルアミノナフチル基、N−メチル−N−エチルアミノナフチル基、N−ブチル−N−エチルアミノナフチル基、N−ヘキシル−N−エチルアミノナフチル基、4−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルナフチル基、4−(N,N−ジエチルアミノ)−エチルナフチル基、3−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルナフチル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルナフチル基等のアルキルアミノナフチル基が挙げられる。 N, N-dimethylaminonaphthyl group, N, N-diethylaminonaphthyl group, N, N-dipropylaminonaphthyl group, N, N-dibutylaminonaphthyl group, N, N-diamylaminonaphthyl group, N, N- Dihexylaminonaphthyl group, N-methyl-N-ethylaminonaphthyl group, N-butyl-N-ethylaminonaphthyl group, N-hexyl-N-ethylaminonaphthyl group, 4- (N, N-dimethylamino) -ethyl Alkylamino such as naphthyl group, 4- (N, N-diethylamino) -ethylnaphthyl group, 3- (N, N-dimethylamino) -ethylnaphthyl group, 2- (N, N-dimethylamino) -ethylnaphthyl group A naphthyl group is mentioned.
置換又は未置換のアリール基としては、これらの他、置換又は未置換のp−ニトロフェニル基、置換又は未置換のピリジル基、置換又は未置換のピロジリル基、置換又は未置換のピペリジル基、置換又は未置換のモルホリン基、置換又は未置換のテトラヒドロピリジル基、置換又は未置換のチオフェニル基、置換又は未置換のイミダゾリル基、置換又は未置換のフリル基等も挙げられる。 In addition to these, the substituted or unsubstituted aryl group includes a substituted or unsubstituted p-nitrophenyl group, a substituted or unsubstituted pyridyl group, a substituted or unsubstituted pyrrolidyl group, a substituted or unsubstituted piperidyl group, a substituted Alternatively, an unsubstituted morpholine group, a substituted or unsubstituted tetrahydropyridyl group, a substituted or unsubstituted thiophenyl group, a substituted or unsubstituted imidazolyl group, a substituted or unsubstituted furyl group, and the like can also be mentioned.
一般式(21)で表されるチオール金属錯体化合物(D)のR26〜R29で表される置換基で特に好ましいものは、互いに同一もしくは相異なるアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、iso−プロピルフェニル基、t−ブチルフェニル基、t−ブチルメチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、N,N−ジメチルアミノフェニル基、N,N−ジエチルアミノフェニル基、N,N−ジブチルアミノフェニル基、
エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、iso−プロピルナフチル基、t−ブチルナフチル基、t−ブチルメチルナフチル基、メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、t−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基、N,N−ジメチルアミノナフチル基、N,N−ジエチルアミノナフチル基、N,N−ジプロピルアミノナフチル基、N,N−ジブチルアミノナフチル基等の炭素数3〜20の置換又は未置換のアルキル基、フェニル基或いはナフチル基であり、
また、特に好ましいMはニッケルである。
Particularly preferred substituents represented by R 26 to R 29 of the thiol metal complex compound (D) represented by the general formula (21) are the same or different alkyl groups, phenyl groups, naphthyl groups, and tolyl groups. , Xylyl group, mesityl group, ethylphenyl group, dimethylphenyl group, iso-propylphenyl group, t-butylphenyl group, t-butylmethylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, propoxyphenyl group, N, N- Dimethylaminophenyl group, N, N-diethylaminophenyl group, N, N-dibutylaminophenyl group,
Ethyl naphthyl group, dimethyl ethyl naphthyl group, iso-propyl naphthyl group, t-butyl naphthyl group, t-butyl methyl naphthyl group, methoxy naphthyl group, ethoxy naphthyl group, propoxy naphthyl group, methyl thio naphthyl group, ethyl thio naphthyl group, t -Butylthionaphthyl group, methylethylthionaphthyl group, butylmethylthionaphthyl group, N, N-dimethylaminonaphthyl group, N, N-diethylaminonaphthyl group, N, N-dipropylaminonaphthyl group, N, N-dibutylamino A substituted or unsubstituted alkyl group having 3 to 20 carbon atoms such as a naphthyl group, a phenyl group or a naphthyl group,
Particularly preferred M is nickel.
これら一般式(21)で表されるジチオール金属錯体化合物(D)は、800〜900nmの近赤外線領域で吸収極大を持ち、且つ可視光領域での吸収が小さいという特徴を持つ。そこでジイモニウム系化合物と組み合わせることにより、両者の相乗効果で800〜1000nmの近赤外線領域を効率良く吸収遮蔽するので、プラズマディスプレイが発する不要な近赤外線を吸収することができる。
また、ジイモニウム系化合物は、一般に他の色素と混合した場合に、その耐熱性が著しく低下することが知られているが、ジチオール金属錯体化合物との混合においてはジイモニウム系化合物の耐熱性を低下することは少なく、この点においても両者の併用は好ましい。
These dithiol metal complex compounds (D) represented by the general formula (21) are characterized by having an absorption maximum in the near-infrared region of 800 to 900 nm and low absorption in the visible light region. Therefore, by combining with a diimonium-based compound, the near-infrared region of 800 to 1000 nm is efficiently absorbed and shielded by the synergistic effect of both, so that unnecessary near-infrared rays emitted from the plasma display can be absorbed.
In addition, it is known that the heat resistance of diimonium compounds generally decreases significantly when mixed with other dyes, but the heat resistance of diimonium compounds decreases when mixed with dithiol metal complex compounds. In this respect, the combination of both is preferable.
本発明の近赤外線吸収コーティング剤中に含まれるジチオール金属錯体化合物(D)の含有量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にジチオール金属錯体化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のジチオール金属錯体化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のジチオール金属錯体化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
The content of the dithiol metal complex compound (D) contained in the near-infrared absorbing coating agent of the present invention is such that the near-infrared absorbing laminate formed by laminating the near-infrared absorbing layer formed by the near-infrared absorbing coating agent of the present invention. Is used as a near infrared absorption filter, it is determined by the thickness of the near infrared absorption filter and the required absorption capacity.
If the absorption capacity is constant, when the near-infrared absorbing layer formed is thin, it is necessary to add a large amount of dithiol metal complex compound to the coating agent. When the thickness is large, the addition amount of the dithiol metal complex compound in the coating agent may be small. That is, the amount of the dithiol metal complex compound in the coating agent and the film thickness of the formed near infrared absorption layer can be determined according to the required near infrared absorption ability.
例えば、ジチオール金属錯体化合物(D)の添加量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積1m2当たり、1〜1000mgが好
ましく、より好ましくは5〜500mgである。
より具体的には、本発明の近赤外線吸収コーティング剤は、シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)100重量部に対し、ジチオール金属錯体化合物を0.05〜10重量部配合することが好ましく、0.2〜5重量部配合することがより好ましい。
ジチオール金属錯体化合物の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、ジチオール金属錯体化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
For example, the addition amount of the dithiol metal complex compound (D) is preferably 1-1000 mg, more preferably 5-500 mg per 1 m 2 of the near-infrared absorbing layer formed by the near-infrared absorbing coating agent of the present invention. is there.
More specifically, the near-infrared absorbing coating agent of the present invention contains a dithiol metal complex compound with respect to 100 parts by weight of the copolymer (A) having the cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent. It is preferable to mix 0.05 to 10 parts by weight, and more preferably 0.2 to 5 parts by weight.
When the blending amount of the dithiol metal complex compound is less than the above range, it is preferable to make the film thickness of the near infrared absorbing layer considerably thick in order to obtain a desired near infrared absorbing ability. On the other hand, when the blending amount of the dithiol metal complex compound exceeds the above range, the visible light transmittance may be lowered. Therefore, it is preferable to make the film thickness of the near infrared absorption layer considerably thin.
また、一般式(1)で表されるジイモニウム系化合物(B)、一般式(20)で表されるフタロシアニン系化合物(C)及び一般式(21)で表されるジチオール金属錯体化合物(D)との配合比は、この順で10:1:1〜1:1:1(重量比)とすると、近赤外線領域の波長を効率良く吸収するので好ましい。 In addition, a diimonium compound (B) represented by the general formula (1), a phthalocyanine compound (C) represented by the general formula (20), and a dithiol metal complex compound (D) represented by the general formula (21) Is preferably 10: 1: 1 to 1: 1: 1 (weight ratio) in this order because the wavelength in the near infrared region is efficiently absorbed.
本発明において用いられるシアニン系化合物(G)としては、例えば、下記一般式(13)であることが好ましい。 The cyanine compound (G) used in the present invention is preferably, for example, the following general formula (13).
一般式(13)
(式(13)中、R31〜R35は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、その具体例は、先述のものと同様なものが挙げられる。
nは、0以上の整数を表し、通常は、1〜3である。Z1、Z2は、それぞれ独立に、S原子、O原子、NR36、CR37R38である。R36〜R38は、それぞれ独立に、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいフェニル基を表す。その具体例は、先述のものと同様なものが挙げられる。
L1、L2は、それぞれ独立に、5〜7員環を形成するものであって、好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環などの芳香環である。
化合物(G)の具体例としては、例えば日本化薬社製CY−17、CY−40、CYP−4646、住友精化社製SD50、林原生物化学研究所社製NK−5706、山本化成製YKR−2900、YKR−2081、旭電化工業製TZ−113、TZ−115などのシアニン系化合物を好適に用いることができる。上記は一例であり、これらに限定されるものではない。
本発明の近赤外線吸収コーティング剤中に含まれるシアニン系化合物(G)の含有量は、シクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)100重量部に対して、0.1〜3.0重量部用いるのが好ましい。
(In formula (13), R 31 to R 35 each independently represents an alkyl group which may have a substituent, and specific examples thereof are the same as those described above.
n represents an integer of 0 or more, and is usually 1 to 3. Z 1 and Z 2 are each independently an S atom, an O atom, NR 36 , or CR 37 R 38 . R 36 to R 38 each independently represents an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted phenyl group. Specific examples thereof are the same as those described above.
L 1 and L 2 independently form a 5- to 7-membered ring, and are preferably aromatic rings such as a benzene ring and a pyridine ring.
Specific examples of the compound (G) include, for example, Nippon Kayaku CY-17, CY-40, CYP-4646, Sumitomo Seika SD50, Hayashibara Biochemical Laboratories NK-5706, Yamamoto Kasei YKR. Cyanine compounds such as -2900, YKR-2081, TZ-113 and TZ-115 manufactured by Asahi Denka Kogyo can be suitably used. The above is an example, and the present invention is not limited to these.
The content of the cyanine compound (G) contained in the near-infrared absorbing coating agent of the present invention is 100 parts by weight of the copolymer (A) having the cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent. On the other hand, it is preferable to use 0.1 to 3.0 parts by weight.
また、本発明の近赤外線吸収コーティング剤には、ジイモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体化合物、あるいはシアニン系化合物の安定性を低下させない範囲で、他の近赤外線吸収化合物を添加することもできる。かかる、近赤外線吸収化合物としては、シアニン(ポリメチン)系、アズレニウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、オキサジン系、アジン系、トリスアゾトリフェニルアミン系、ナフタロシアニン系、ナフトキノン系、アントラキノン系、トリフェニル(アリール)メタン系、インドアニリン系、アミニウム系等の近赤外線吸収色素の他、金属銅あるいは硫化銅等の銅塩、酸化亜鉛を主成分とする金属混合物、タングステン化合物、YbPO4、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、ATO(錫ドープ酸化アンチモン)等の微粒子を含む、周期律表の4,5又は6族に属する金属の酸化物、炭化物、ホウ化物等の微粒子も添加できる。これらの平均粒径は1μm以下、好ましくは0.2μm以下、更に好ましくは0.1μmであり、これらは単独で加えることもできるし、2種類以上を併用することもできる。 In addition, other near infrared absorbing compounds may be added to the near infrared absorbing coating agent of the present invention as long as the stability of the diimonium compound, the phthalocyanine compound, the dithiol metal complex compound, or the cyanine compound is not lowered. it can. Such near infrared ray absorbing compounds include cyanine (polymethine), azulenium, squarylium, croconium, oxazine, azine, trisazotriphenylamine, naphthalocyanine, naphthoquinone, anthraquinone, triphenyl ( Aryl) Methane, indoaniline, aminium, and other near infrared absorbing dyes, copper salts such as metallic copper or copper sulfide, metal mixtures based on zinc oxide, tungsten compounds, YbPO 4 , ITO (tin-doped) Fine particles such as oxides, carbides and borides of metals belonging to Group 4, 5 or 6 of the periodic table, including fine particles such as indium oxide and ATO (tin-doped antimony oxide) can also be added. These average particle diameters are 1 micrometer or less, Preferably it is 0.2 micrometer or less, More preferably, they are 0.1 micrometer, These can also be added independently and can also use 2 or more types together.
本発明のコーティング剤には、色調補正用色素を用いて色調を調節することも可能である。このような色調補正用色素としては、長時間安定であり後述の溶媒やシクロアルキル基含有単量体(a1)を必須の構成成分とする共重合体(A)に可溶で、可視光吸収領域が狭くそれ以外の波長での透過率が高いものが好ましい。色調補正用色素としては、シアニン(ポリメチン)系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。 In the coating agent of the present invention, it is also possible to adjust the color tone using a color tone correcting dye. Such a color tone-correcting dye is stable for a long time, is soluble in the copolymer (A) containing the solvent and the cycloalkyl group-containing monomer (a1) described below as essential constituents, and absorbs visible light. Those having a narrow region and high transmittance at other wavelengths are preferable. Examples of color correction dyes include, but are not limited to, cyanine (polymethine), quinone, azo, indigo, polyene, spiro, porphyrin, phthalocyanine, and naphthalocyanine dyes. is not.
本発明のコーティング剤には、紫外線吸収剤及(E)及び/又はヒンダードアミン系光安定剤(F)を更に含有することができる。
本発明に用いる紫外線吸収剤及(E)、ヒンダードアミン系光安定剤(F)としては、従来公知の紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤を使用することができる。
例えば、紫外線吸収剤(E)としては、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤等が挙げられる。
The coating agent of the present invention may further contain an ultraviolet absorber (E) and / or a hindered amine light stabilizer (F).
As the ultraviolet absorber (E) and the hindered amine light stabilizer (F) used in the present invention, conventionally known ultraviolet absorbers and hindered amine light stabilizers can be used.
For example, examples of the ultraviolet absorber (E) include salicylic acid-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, benzotriazole-based ultraviolet absorbers, cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers, and benzoate-based ultraviolet absorbers.
上記サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシート、p−tert−ブチルフェニルサリシート、p−オクチルフェニルサリシートが挙げられる。これらサリチル酸系紫外線吸収剤の市販品としては、SAP(岩城製薬社製)、ザロール(Dow Chem.社製)、ザロールP(八代製薬社製)、TBS(Dow Chem.社製)、Viosorb−90(共同薬品社製)、SEESORB−201、SEESORB−202(いずれもシプロ化成社製)、ブチルザロール(岩城製薬社製)、OPS(イーストマン・ケミカル社製)等が挙げられる。 Examples of the salicylic acid-based ultraviolet absorber include phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, and p-octylphenyl salicylate. Commercially available products of these salicylic acid ultraviolet absorbers are SAP (manufactured by Iwaki Pharmaceutical Co., Ltd.), Zalol (manufactured by Dow Chem.), Zalor P (manufactured by Yatsushiro Pharmaceutical Co., Ltd.), TBS (manufactured by Dow Chem. Co.), and Biosorb-90 (Manufactured by Kyodo Yakuhin Co., Ltd.), SEESORB-201, SEESORB-202 (all manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.), butyrzarol (manufactured by Iwaki Pharmaceutical Co., Ltd.), OPS (manufactured by Eastman Chemical Company), and the like.
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4、4′−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニル)メタン等が挙げられる。 Examples of the benzophenone-based UV absorber include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2′- Dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenyl) Examples include methane.
これらベンゾフェノン系紫外線吸収剤の市販品としては、ASL−23、ASL−40(いずれも湘南化学社製)、SEESORB−100、SEESORB−101、SEESORB−101S、SEESORB−102、SEESORB−103、SEESORB−105、SEESORB−106、SEESORB−107(いずれもシプロ化成社製)、ジスライザーO、ジスライザーE(いずれも三協化成社製)、Sumisorb−130(住友化学社製)、DHBA、DOPB(いずれもイーストマン・ケミカル社製)、Viosorb−100、Viosorb−105、Viosorb−110、Viosorb−111、Viosorb−130(いずれも共同薬品社製)、Uvinul−400、Uvinul−M−40、Uvinul−D−49、Uvinul−MS−40、UVA−633L、UVA−635L、UVA−935LH、UVA−383MA(いずれもBASF社製)、Cyasorb UV−9、Cyasorb UV−24(いずれもCytec社製)、オーソレクス360(メルク・ジャパン社製)、アデカスタブ1413、アデカスタブLA−51(いずれも旭電化工業社製)、Hostavin−ARO8(クラリアント社製)、トミソーブ−800(APIコーポレーション社製)等が挙げられる。 Commercially available products of these benzophenone ultraviolet absorbers are ASL-23, ASL-40 (all manufactured by Shonan Chemical Co., Ltd.), SEESORB-100, SESORB-101, SESORB-101S, SESORB-102, SESORB-103, SESORB- 105, SEESORB-106, SEESORB-107 (all manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.), disilizer O, disilizer E (all manufactured by Sankyo Kasei Co., Ltd.), Sumisorb-130 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), DHBA, DOPB (all yeast Man Chemical Co.), Biosorb-100, Biosorb-105, Biosorb-110, Biosorb-111, Biosorb-130 (all manufactured by Kyodo Yakuhin Co., Ltd.), Uvinul-400, Uvinul-M-4 , Uvinul-D-49, Uvinul-MS-40, UVA-633L, UVA-635L, UVA-935LH, UVA-383MA (all manufactured by BASF), Cyasorb UV-9, Cyasorb UV-24 (all Cytec) Manufactured), Ortholex 360 (manufactured by Merck Japan), Adeka Stub 1413, Adeka Stub LA-51 (all manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Hostavin-ARO8 (manufactured by Clariant), Tomissorb-800 (manufactured by API Corporation), etc. Can be mentioned.
上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチル−フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチル−5′−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2(2′−ヒドロキシ−5′−メタアクリロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−{(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール}]、2(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−アミノフェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。 Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2 '-Hydroxy-3', 5'di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butyl-phenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-tert-butyl-5'-amyl Phenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy) 3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2 (2'-hydroxy-5'-methacryloxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1 , 3,3-tetramethylbutyl) -6-{(2H-benzotriazol-2-yl) phenol}], 2 (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-aminophenyl) benzotriazole, etc. Is mentioned.
これらベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、JF−77、JF−78,JF−79、JF−80、JF−86(いずれも城北化学社製)、Tinuvin−P、Tinuvin−PS、Tinuvin−320、Tinuvin−326、Tinuvin−327、Tinuvin−328、Tinuvin−384−2(いずれもチバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製)、SEESORB−701、SEESORB−702、SEESORB−703、SEESORB−704、SEESORB−705、SEESORB−706、SEESORB−709(いずれもシプロ化成社製)、Sumisorb−200、Sumisorb−250、Sumisorb−300、Sumisorb−340、Sumisorb−350、(いずれも住友化学社製)、Viosorb−510、Viosorb−520、Viosorb−550、Viosorb−580、Viosorb−582、Viosorb−583、Viosorb−590、Viosorb−591(いずれも共同薬品社製)、アデカスタブLA−29,アデカスタブLA−31、アデカスタブLA−32、アデカスタブLA−36(いずれも旭電化工業社製)、トミソーブ−100、トミソーブ−600、トミソーブ−700(いずれもAPIコーポレーション社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available products of these benzotriazole ultraviolet absorbers include JF-77, JF-78, JF-79, JF-80, JF-86 (all manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.), Tinuvin-P, and Tinuvin-PS. , Tinuvin-320, Tinuvin-326, Tinuvin-327, Tinuvin-328, Tinuvin-384-2 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals), SEESORB-701, SEESORB-702, SEESORB-703, SEESORB-704 , SEESORB-705, SEESORB-706, SEESORB-709 (all manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.), Sumisorb-200, Sumisorb-250, Sumisorb-300, Sumisorb-340, Su isosorb-350 (all manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Biosorb-510, Biosorb-520, Biosorb-550, Biosorb-580, Biosorb-582, Biosorb-583, Biosorb-590, Biosorb-591 (all Kyodo Yakuhin) ), Adeka Stub LA-29, Adeka Stub LA-31, Adeka Stub LA-32, Adeka Stub LA-36 (all manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Tomissorb-100, Tomissorb-600, Tomissorb-700 (all manufactured by API Corporation) ) And the like.
上記シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3′−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シアノ−3,3′−ジフェニルアクリレート等が挙げられる。これらシアノアクリレート系紫外線吸収剤の市販品としては、Uninol3035(BASF社製)、Viosorb−910、Viosorb−920、(いずれも共同製薬社製)、SEESORB−501、SEESORB−502(いずれもシプロ化成社製)等が挙げられる。 Examples of the cyanoacrylate ultraviolet absorber include 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3′-diphenyl acrylate and ethyl-2-cyano-3,3′-diphenyl acrylate. Commercial products of these cyanoacrylate ultraviolet absorbers include Uniol 3035 (manufactured by BASF), Biosorb-910, Biosorb-920, (all manufactured by Kyodo Pharmaceutical Co., Ltd.), SEESORB-501, and SEESORB-502 (all of which are Sipro Kasei Co., Ltd.) Manufactured) and the like.
上記ベンゾエート系紫外線吸収剤の市販品としては、Tinuvin−120(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製)、Sumisorb−400(住友化学社製)、SEESORB−712(シプロ化成社製)、Viosorb−80(共同製薬社製)等が挙げられる。 Commercially available products of the above benzoate-based ultraviolet absorbers include Tinuvin-120 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Sumisorb-400 (manufactured by Sumitomo Chemical), SEESORB-712 (manufactured by Cypro Kasei Co., Ltd.), Viosorb-80 ( (Manufactured by Kyodo Pharmaceutical Co., Ltd.).
また、金属錯体系の紫外線吸収剤も使用できる。例えば、[2,2′−チオビス(4−tert―オクチルフェノレート)]−2エチルヘキシルアミンニッケル(II)等が挙げられ、市販品としては、SEESORB−612NH(シプロ化成社製)等が挙げられる。 Moreover, a metal complex type ultraviolet absorber can also be used. For example, [2,2′-thiobis (4-tert-octylphenolate)]-2ethylhexylamine nickel (II) and the like are listed, and commercially available products include SEESORB-612NH (manufactured by Cypro Kasei Co., Ltd.) and the like. .
また、マロン酸エステル系紫外線吸収剤やシュウ酸アニリド系紫外線吸収剤も使用できる。例えば、マロン酸エステル系紫外線吸収剤の市販品としては、HostavinPR−25(クラリアント社製)等が、シュウ酸アニリド系紫外線吸収剤の市販品としては、SanduvorVSU(クラリアント社製)等が挙げられる。 Further, malonic acid ester UV absorbers and oxalic anilide UV absorbers can also be used. For example, as commercially available products of malonic acid ester UV absorbers, Hostavin PR-25 (manufactured by Clariant) and the like, and as commercially available products of oxalic acid anilide UV absorbers, Sanduvor VSU (manufactured by Clariant) and the like can be mentioned.
上記ヒンダードアミン系光安定剤(F)としては、ヒンダードフェノール骨格を有さないヒンダードアミン系光安定剤とヒンダードフェノール骨格を有するヒンダードアミン系光吸収剤が挙げられる。 Examples of the hindered amine light stabilizer (F) include a hindered amine light stabilizer having no hindered phenol skeleton and a hindered amine light absorber having a hindered phenol skeleton.
上記ヒンダードフェノール骨格を有さないヒンダードアミン系光安定剤の市販品としては、Sanol LS−770(三共社製)、アデカスタブLA−57、アデカスタブLA−62、アデカスタブLA−63P、アデカスタブLA−67、アデカスタブLA−68LD、アデカスタブLA−77Y、アデカスタブLA−77G、アデカスタブLA−82、アデカスタブLA−87(いずれも旭電化工業社製)、Sumisorb−577(住友化学社製)、Viosorb−03,Viosorb−04(いずれも共同薬品社製)、Chimassorb944LD(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製)、Tinuvin−622LD(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製)、Goodrite UV−3034(Goodrich社製)等があげ、上記ヒンダードフェノール骨格を有するヒンダードアミン系光安定剤の市販品としては、Tinuvin−144(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製)等が挙げられる。 Commercially available hindered amine light stabilizers having no hindered phenol skeleton include Sanol LS-770 (manufactured by Sankyo Co., Ltd.), ADK STAB LA-57, ADK STAB LA-62, ADK STAB LA-63P, ADK STAB LA-67, ADK STAB LA-68LD, ADK STAB LA-77Y, ADK STAB LA-77G, ADK STAB LA-82, ADK STAB LA-87 (all manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Sumisorb-577 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Viosorb-03, Viosorb- 04 (all manufactured by Kyodo Yakuhin Co., Ltd.), Chimassorb 944LD (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Tinuvin-622LD (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Goodrite UV-3034 (Good) As a commercially available product of the hindered amine light stabilizer having the hindered phenol skeleton, Tinuvin-144 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and the like can be mentioned.
本発明で用いる紫外線吸収剤及(E)及び/又はヒンダードアミン系光安定剤(F)は合計で、共重合体(A)100重量部とすると0.1〜60重量部であることが好ましい。0.1重量部未満であると耐熱性、耐光性向上が充分ではなく、60重量部を超えると使用量に対する耐熱性、耐光性向上効果が少なくなり、且つコスト的にも不利になると共に、近赤外線吸収色素の溶解性、安定性が悪くなるおそれがある。 The total amount of the ultraviolet absorber (E) and / or the hindered amine light stabilizer (F) used in the present invention is preferably 0.1 to 60 parts by weight when the copolymer (A) is 100 parts by weight. When the amount is less than 0.1 parts by weight, the heat resistance and light resistance are not sufficiently improved. When the amount exceeds 60 parts by weight, the effect of improving heat resistance and light resistance with respect to the amount used is reduced, and the cost is disadvantageous. There is a possibility that the solubility and stability of the near-infrared absorbing dye may be deteriorated.
また、本発明のコーティング剤は、可塑剤、架橋剤、酸化防止剤、重合遅延剤等もさらに含有することができる。 The coating agent of the present invention can further contain a plasticizer, a crosslinking agent, an antioxidant, a polymerization retarder and the like.
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤を製造するには、ジイモニウム系化合物(B)、及び必要に応じて使用される、フタロシアニン系化合物(C)及び/又はジチオール金属錯体化合物(D)及び/又はシアニン系化合物(G)を、シクロアルキル基含有単量体を必須の構成成分とする共重合体(A)に添加するだけでよく、その手段に特に制限はないが、上記共重合体(A)を溶解する溶媒を用いて共重合体溶液を得(溶液重合樹脂の場合は既に溶液である)、ジイモニウム系化合物(B)、及び必要に応じて使用されるフタロシアニン系化合物(C)やジチオール金属錯体化合物(D)やシアニン系化合物(G)を該共重合体溶液に添加し、溶解することが好ましい。更に、必要に応じて紫外線吸収剤及び/又はヒンダードアミン系光安定剤を添加して製造する。 In order to produce the near-infrared absorbing coating agent of the present invention, the diimonium compound (B), and the phthalocyanine compound (C) and / or the dithiol metal complex compound (D) and / or used as necessary. The cyanine compound (G) may be simply added to the copolymer (A) having a cycloalkyl group-containing monomer as an essential component, and there is no particular limitation on the means thereof, but the copolymer (A ) Is used to obtain a copolymer solution (in the case of a solution polymerization resin, it is already a solution), a diimonium compound (B), and a phthalocyanine compound (C) or dithiol used as necessary. It is preferable to add a metal complex compound (D) or a cyanine compound (G) to the copolymer solution and dissolve it. Furthermore, it manufactures by adding a ultraviolet absorber and / or a hindered amine light stabilizer as needed.
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤に含まれる溶媒としては、シクロアルキル基含有単量体を必須の構成成分とする共重合体を溶解し、且つジイモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物及びジチオール金属錯体化合物を溶解するものが使用できる。例えばトルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、iso−ブチルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメタン、塩化メチレン等の塩素系溶媒;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン等のエーテル系溶媒;N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の1種または2種以上を用いることができる。 As the solvent contained in the near-infrared absorbing coating agent of the present invention, a copolymer containing a cycloalkyl group-containing monomer as an essential constituent is dissolved, and a diimonium compound, a phthalocyanine compound, and a dithiol metal complex compound Can be used. For example, aromatic solvents such as toluene and xylene; alcohol solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, iso-propyl alcohol, n-butyl alcohol, iso-butyl alcohol, propylene glycol monomethyl ether; ethyl acetate, Ester solvents such as butyl acetate and cellosolve acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; chlorine solvents such as chloroform, dichloromethane, trichloromethane, and methylene chloride; tetrahydrofuran, diethyl ether, 1,4- Ether solvents such as dioxane and 1,3-dioxolane; one or two of N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dimethylacetamide and the like Or more can be used.
上述の近赤外線吸収性コーティング剤から形成される近赤外線吸収層を基材に積層することによって、本発明の近赤外線吸収積層体を得ることができる。
具体的には上述の近赤外線吸収性コーティング剤を種々の方法で平たい状態の基材の少なくとも一方の面に塗布し、乾燥し、コーティング剤中の溶剤を除去することによって、近赤外線吸収層を基材上に形成し、本発明の近赤外線吸収積層体を得ることができる。
By laminating a near-infrared absorbing layer formed from the above-mentioned near-infrared absorbing coating agent on a substrate, the near-infrared absorbing laminate of the present invention can be obtained.
Specifically, the near-infrared-absorbing coating agent is applied to at least one surface of a flat substrate by various methods, dried, and the solvent in the coating agent is removed to form a near-infrared-absorbing layer. It can form on a base material and the near-infrared absorption laminated body of this invention can be obtained.
本発明のコーティング剤を基材に塗工する方法としては、バーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法などにより塗布し、タックフリーになるように加熱乾燥し、近赤外線吸収積層体を得ることができる。 Examples of methods for applying the coating agent of the present invention to a substrate include bar coating, blade coating, spin coating, reverse coating, diting, spray coating, roll coating, gravure coating, lip coating, air knife coating, and dipping method. It can apply | coat and heat-dry so that it may become tack-free, and can obtain a near-infrared absorption laminated body.
本発明でいう基材としては、プラスチックフィルム、ガラスが挙げられるが、透明性が高いことはもちろんのこと、コスト、取り扱いやすさという点で、プラスチックフィルムが好ましい。具体的には、ポリエステル系、アクリル系、トリアセチルセルロース系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリシクロオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート系、フェノール系、ウレタン系樹脂等から形成されたフィルムが挙げられ、物理的特性、光学特性、耐薬品性、環境負荷等の点からポリエステル系フィルムが好ましい。より具体的にはポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムともいう)が好ましい。
基材としては、ポリエステル系フィルムに、更にアクリル系樹脂、共重合ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂等の樹脂層を設けたいわゆる易接着タイプのフィルムも用いることができる。
Examples of the substrate used in the present invention include a plastic film and glass. Of course, a plastic film is preferable in terms of cost and ease of handling as well as high transparency. Specifically, films formed from polyester, acrylic, triacetyl cellulose, polyethylene, polypropylene, polyolefin, polycycloolefin, polyvinyl chloride, polycarbonate, phenol, urethane resin, etc. Polyester films are preferred from the standpoints of physical properties, optical properties, chemical resistance, environmental impact, and the like. More specifically, a polyethylene terephthalate film (hereinafter also referred to as PET film) is preferable.
As the base material, a so-called easy-adhesion type film in which a polyester film is further provided with a resin layer such as an acrylic resin, a copolyester resin, a polyurethane resin, a styrene-maleic acid graft polyester resin, and an acrylic graft polyester resin. Can also be used.
本発明においては、上述のプラスチックフィルムに更に紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層等種々の機能付与層を少なくとも1層積層してなるものを基材として使用することもできる。
あるいは、上述のプラスチックフィルムとプラスチックフィルムの間に紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層等を設けてなるフィルムも基材として用いることができる。例えば、種々の機能を有する粘着剤や接着剤を用いて、複数のプラスチックフィルムを貼り合わせることによって、このような多層プラスチックフィルムを得ることができる。
In the present invention, at least one layer having various functions such as an ultraviolet absorbing layer, an electromagnetic wave absorbing layer, an anti-scratch layer, an antireflection layer, a color tone correction layer, a heat dissipation layer, and an impact resistance layer is further laminated on the plastic film. Can be used as a substrate.
Alternatively, a film in which an ultraviolet absorbing layer, an electromagnetic wave absorbing layer, an anti-scratch layer, an antireflection layer, a color tone correction layer, or the like is provided between the above-described plastic film and the plastic film can also be used as a substrate. For example, such a multilayer plastic film can be obtained by bonding a plurality of plastic films using pressure-sensitive adhesives and adhesives having various functions.
本発明のコーティング剤を、予めプラスチックフィルムに紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層、を設けた機能性の基材に塗布する場合、前記各層の層間又は層上に設けることができる。また、電磁波吸収層が後述するようなメッシュ形状である場合、メッシュの開口部に塗布することにより設けても良い。 When the coating agent of the present invention is applied to a functional base material previously provided with an ultraviolet absorbing layer, an electromagnetic wave absorbing layer, an anti-scratch layer, an antireflection layer, a color tone correction layer, a heat radiation layer, and an impact resistant layer on a plastic film. , And can be provided between or on the layers. Moreover, when the electromagnetic wave absorption layer has a mesh shape as described later, the electromagnetic wave absorption layer may be provided by being applied to the opening of the mesh.
紫外線吸収層としては、400nm以下の波長の紫外線を効率よく吸収できるものであり、350nmの波長を80%以上吸収できるものが好ましい。紫外線吸収層は特に制限されないが、紫外線吸収剤を樹脂中に添加し、コーティング法、カレンダー法、キャスト法等によりプラスチックフィルムに成膜するのが好ましい。
樹脂としては、透明な高分子樹脂でプラスチックフィルムに接着すれば特に限定はなく、共重合ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、アモルファスポリオレフィン、シクロオレフィン、ポリウレタン、ポリアリレート、トリアセチルセルロース等の樹脂のほか、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルホン等の非晶性エンジニアプラスチック樹脂も使用できる。
紫外線吸収剤としては、無機系あるいは有機系のいずれも使用できるが、有機系の紫外線吸収剤が実用的である。有機系の紫外線吸収剤としては、300〜400nmの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よく吸収ものであり、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、オギザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、数種類組み合わせて用いることがより好ましい。また、上記紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤、あるいは酸化防止剤をブレンドすることで安定化が向上できる。また、紫外線吸収剤を含有する(練り込み等)プラスチックフィルムを基材として使用することで、紫外線吸収剤層の代替とすることもできる。
The ultraviolet absorbing layer is preferably one that can efficiently absorb ultraviolet rays having a wavelength of 400 nm or less, and can absorb 80% or more of a wavelength of 350 nm. The ultraviolet absorbing layer is not particularly limited, but it is preferable to add an ultraviolet absorber to the resin and form a film on the plastic film by a coating method, a calendar method, a casting method or the like.
The resin is not particularly limited as long as it is bonded to a plastic film with a transparent polymer resin, such as copolymer polyester, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, amorphous polyolefin, cycloolefin, polyurethane, polyarylate, and triacetyl cellulose. In addition, amorphous engineer plastic resins such as polysulfone, polyetherimide, polyamideimide, polyimide, polyphenylene ether, polyethersulfone can also be used.
As the ultraviolet absorber, either an inorganic type or an organic type can be used, but an organic ultraviolet absorber is practical. As an organic ultraviolet absorber, it has a maximum absorption between 300 to 400 nm, and absorbs light in that region efficiently. A benzotriazole ultraviolet absorber, a benzophenone ultraviolet absorber, a salicylic acid ester ultraviolet ray Examples thereof include an absorbent, an acrylate ultraviolet absorber, an oxalic acid anilide ultraviolet absorber, and a hindered amine ultraviolet absorber. These may be used alone, but are more preferably used in combination of several kinds. Moreover, stabilization can be improved by blending the said ultraviolet absorber and a hindered amine light stabilizer, or antioxidant. Moreover, it can also substitute for an ultraviolet absorber layer by using a plastic film containing an ultraviolet absorber (kneading etc.) as a base material.
電磁波吸収層は、プラズマディスプレイからでる電磁波を遮断するものであり、それらの作成方法は特に制限を受けない。例えば、電磁波吸収層は、透明な導電フィルムであり、プラスチックフィルムに金属、金属酸化物、金属塩等の薄膜を蒸着したものが好ましく用いられる。導電フィルムの面抵抗が低いほど、電磁波の吸収能は高いが、逆に蒸着層が厚くなると可視光透過率は低下する。また、スクリーン印刷等で導電性の塗料をメッシュ状に印刷したものや、プラスチックフィルムに導電性金属を張り合わせこれをエッチング等により導電性金属をメッシュ状に形成したものも使用できる。 The electromagnetic wave absorbing layer blocks electromagnetic waves emitted from the plasma display, and the production method thereof is not particularly limited. For example, the electromagnetic wave absorption layer is a transparent conductive film, and a plastic film obtained by vapor-depositing a thin film of metal, metal oxide, metal salt or the like is preferably used. The lower the surface resistance of the conductive film, the higher the electromagnetic wave absorption ability, but conversely the visible light transmittance decreases as the vapor deposition layer becomes thicker. Moreover, what printed the electroconductive coating material in mesh shape by screen printing etc., or what laminated | stacked the electroconductive metal on the plastic film and formed this in the mesh shape by etching etc. can be used.
傷つき防止層は、プラズマディスプレイの表面の傷つきを防止するものであり、紫外線硬化型、電子線硬化型、熱硬化型等の樹脂を用いることができるが、それらの作成方法は特に制限を受けない。例えば、種々の(メタ)アクリレート類、光重合開始剤及び必要に応じて有機溶剤を主成分とするコート剤により形成することができる。種々の(メタ)アクリレート類としては、ポリウレタン(メタ)アクリレートやエポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート、あるいは他の多官能(メタ)アクリレート類を好適に使用することができる。 The scratch-preventing layer is for preventing the surface of the plasma display from being scratched, and a resin such as an ultraviolet curable type, an electron beam curable type, or a thermosetting type can be used, but the production method thereof is not particularly limited. . For example, it can be formed with various (meth) acrylates, a photopolymerization initiator, and, if necessary, a coating agent containing an organic solvent as a main component. As various (meth) acrylates, (meth) acrylates such as polyurethane (meth) acrylate and epoxy (meth) acrylate, or other polyfunctional (meth) acrylates can be preferably used.
エポキシ(メタ)アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を(メタ)アクリル酸でエステル化し官能基を(メタ)アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールA型エポキシ樹脂への(メタ)アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への(メタ)アクリル酸付加物等がある。 Epoxy (meth) acrylate is obtained by esterifying an epoxy group of an epoxy resin with (meth) acrylic acid and converting the functional group to a (meth) acryloyl group, and a (meth) acrylic acid adduct to a bisphenol A type epoxy resin, There are (meth) acrylic acid adducts to novolac type epoxy resins.
ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する(メタ)アクリレート類と反応させて得ることができる。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類と反応させて得ることもできる。
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
水酸基をもつ(メタ)アクリレート類としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート,2−ヒドロキシプロピルアクリテート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
イソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類としては、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
The urethane (meth) acrylate can be obtained, for example, by reacting an isocyanate group-containing urethane prepolymer obtained by reacting a polyol and a polyisocyanate under an excess of isocyanate groups with (meth) acrylates having a hydroxyl group. . Alternatively, a hydroxyl group-containing urethane prepolymer obtained by reacting a polyol and a polyisocyanate under hydroxyl-excess conditions can be obtained by reacting with a (meth) acrylate having an isocyanate group.
Examples of polyols include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, butylene glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentane glycol, neopentyl glycol, hexanetriol, trimellilol propane, polytetra Examples include methylene glycol and a condensation polymer of adipic acid and ethylene glycol.
Examples of the polyisocyanate include tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate.
Examples of (meth) acrylates having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol pentaacrylate.
Examples of (meth) acrylates having an isocyanate group include 2-methacryloyloxyethyl isocyanate and methacryloyl isocyanate.
その他の多官能の(メタ)アクリレート類は、分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するものであり、分子内に3個以上のアクリロイル基を有するものが好ましい。具体的にはトリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及びこれら2種以上の混合物が挙げられる。 Other polyfunctional (meth) acrylates have two or more (meth) acryloyl groups in the molecule, and preferably have three or more acryloyl groups in the molecule. Specifically, trimethylolpropane triacrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, caprolactone modified tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol Triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl modified dipentaerythritol triacrylate, alkyl modified dipentaerythritol pentaacrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexaacrylate , And mixtures of two or more of these and the like.
光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ゲンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ミヒラーズケトン、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等が挙げられ、これらの光重合開始剤は2種以上を適宜併用することもできる。 As photopolymerization initiators, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether, diethoxyacetophenone, gendyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone 2,4,6-trimethylbenzoindiphenylphosphine oxide, Michler's ketone, isoamyl N, N-dimethylaminobenzoate, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and the like. The above can also be used together as appropriate.
傷つき防止層形成用コート剤に用いられる有機溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸−iso−プロピル、酢酸−n−ブチル、酢酸−iso−ブチル等のエステル類、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンシクロヘキサノン等のケトン類、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキエタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル等のエーテル類、2−メトキシエチルアセタート、2−エトキシエチルアセタート、2−ブトキシエチルアセタート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のエーテルエステル類が挙げられ、またこれらの2種以上を混合して使用することもできる。 Examples of the organic solvent used in the coating agent for forming a scratch-resistant layer include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ethyl acetate, acetic acid-n-propyl, acetic acid-iso-propyl, acetic acid-n-butyl, acetic acid-iso Esters such as butyl, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, iso-propyl alcohol, n-butyl alcohol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone cyclohexanone, 2-methoxyethanol, Ethers such as 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol methyl ether, 2-methoxyethyl acetate Over DOO, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, ether esters such as propylene glycol methyl ether acetate and the like, can also be used as a mixture of two or more thereof.
また、上記成分の他、耐摩耗性向上のため、コロイド状金属酸化物、あるいは有機溶剤を分散媒としたシリカゾル等を加えることもできる。傷つき防止層は、上記コート剤の塗工液をバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法等の塗工方法で塗工した後、溶剤を乾燥させ、更に活性エネルギー線を照射することにより塗工したコート剤を架橋硬化せしめることによって形成される。前記活性エネルギー線としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源から発せられる紫外線あるいは、通常20〜2000KeVの電子線加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることができる。このようにして形成される傷つき防止層は、通常1〜50μm、好ましくは3〜20μmの厚みとする。 In addition to the above components, a colloidal metal oxide or silica sol using an organic solvent as a dispersion medium may be added to improve wear resistance. Scratch prevention layer can be applied to the above coating agent coating solutions such as bar coating, blade coating, spin coating, reverse coating, diting, spray coating, roll coating, gravure coating, lip coating, air knife coating, dipping method, etc. After coating by the method, it is formed by drying the solvent and further crosslinking and curing the coated coating agent by irradiating with active energy rays. Examples of the active energy ray include ultraviolet rays emitted from a light source such as a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, and a tungsten lamp, or an electron extracted from an electron beam accelerator usually 20 to 2000 KeV. Lines, α rays, β rays, γ rays and the like can be used. The scratch-preventing layer thus formed has a thickness of usually 1 to 50 μm, preferably 3 to 20 μm.
反射防止層は、表面反射を防ぎ、可視光線透過率を上げると同時にギラツキを防止するものであり、形成方法に任意の加工方法選択することができ特に制限はない。外光を乱反射させることにより視感反射率を低減させる方法、例えばプラスチックフィルムの片面に二酸化ケイ素、アクリル、メラミン等の微粒子を塗料化してコーティングすることにより光の乱反射が生じる反射防止膜を形成する方法、またはプラスチックフィルムの片面に硬化膜を形成し、その上にフッ化マグネシウム層を蒸着法により反射防止層を形成する方法、もしくはプラスチックフィルムの片面または両面に薄膜の低屈折率層、または屈折率の異なる多層薄膜を形成し薄膜の表面反射光と界面における屈折反射光との光の干渉により反射率を低減する方法等が一般的である。 The antireflection layer prevents surface reflection, increases visible light transmittance, and at the same time prevents glare, and any processing method can be selected for the formation method, and there is no particular limitation. A method for reducing luminous reflectance by irregularly reflecting external light, for example, forming an antireflection film that causes irregular reflection of light by coating and coating fine particles of silicon dioxide, acrylic, melamine, etc. on one side of a plastic film A method, or a method in which a cured film is formed on one side of a plastic film and an antireflection layer is formed thereon by vapor deposition of a magnesium fluoride layer, or a low refractive index layer of a thin film on one or both sides of a plastic film, or refractive A method is generally used in which multilayer thin films having different rates are formed and the reflectivity is reduced by interference between the surface reflected light of the thin film and the refracted reflected light at the interface.
また、特にプラズマディスプレイ、CRT、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような蛍光体を用いる表示装置では、塗布した蛍光体に電子線や紫外線を照射して、蛍光体を発光させ、蛍光面を透過あるいは反射した光により表示を行う。蛍光体は一般に白色で反射率が高いため、蛍光面での外部光の反射が多い。そのため、外部光の写り込みによる表示コントラストの低下問題は、蛍光体を用いる表示装置において、特に深刻である。蛍光面での反射を防止することは技術的に難しい。そこで、蛍光体を用いる表示装置では、更に別の対策として反射光を吸収するために、ニュートラルグレーのフィルターをディスプレイ前面に設置することが行われる。ニュートラルグレーのフィルターは、NDフィルターとも呼ばれ、その透過率は一般に40〜80%である。 In particular, in a display device using a fluorescent material such as a plasma display, a CRT, a fluorescent display tube, or a field emission display, the applied fluorescent material is irradiated with an electron beam or ultraviolet light to emit the fluorescent material, and the fluorescent screen is Display is performed by transmitted or reflected light. Since phosphors are generally white and have high reflectance, external light is often reflected on the phosphor screen. For this reason, the problem of a decrease in display contrast due to reflection of external light is particularly serious in a display device using a phosphor. It is technically difficult to prevent reflection on the phosphor screen. Therefore, in a display device using a phosphor, a neutral gray filter is installed in front of the display in order to absorb reflected light as another countermeasure. The neutral gray filter is also called an ND filter, and its transmittance is generally 40 to 80%.
また、表示色の色バランスを補正するため、色調整フィルターをディスプレイ前面に設置することが行われている。以上のように、プラズマディスプレイ表示装置では、表示のコントラストを改善したり表示品位を向上させる目的で色調整フィルター、ニュートラルグレーのフィルター等色調補正フィルターをディスプレイ前面に設置することが多い。特に色調整を主目的とした、色調補正フィルターは重要である。この色調補正フィルターはプラスチックフィルムに色調補正層を積層して形成される。 Further, in order to correct the color balance of the display color, a color adjustment filter is installed on the front surface of the display. As described above, in the plasma display device, color tone correction filters such as a color adjustment filter and a neutral gray filter are often provided on the front surface of the display for the purpose of improving display contrast and improving display quality. In particular, a color correction filter mainly for color adjustment is important. This color tone correction filter is formed by laminating a color tone correction layer on a plastic film.
かかる色調補正層としては、色調補正用色素を樹脂中に添加し、コーティング法、カレンダー法、キャスト法等によりプラスチックフィルムに成膜するのが好ましい。樹脂としては、透明な高分子樹脂でプラスチックフィルムに接着すれば特に限定はなく、紫外線吸収層で記載している樹脂が使用できる。色調補正用色素としては、シアニン(ポリメチン)系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。 As such a color correction layer, it is preferable to add a color correction dye into the resin and form a film on a plastic film by a coating method, a calendar method, a casting method or the like. The resin is not particularly limited as long as it is bonded to a plastic film with a transparent polymer resin, and the resins described in the ultraviolet absorption layer can be used. Examples of color correction dyes include, but are not limited to, cyanine (polymethine), quinone, azo, indigo, polyene, spiro, porphyrin, phthalocyanine, and naphthalocyanine dyes. is not.
本発明の近赤外線吸収積層体は、近赤外線吸収層を設けた後に、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層及び耐衝撃層からなる群より選ばれる少なくとも1つの層をさらに積層することができる。
即ち、近赤外線吸収層上に上記種々の機能を有する層をさらに積層することもできるし、基材上、即ち近赤外線吸収層とは反対の面に上記種々の機能層を設けることもできる。近赤外線吸収層とは反対の面に種々の機能層を設ける場合、プラスチックフィルム上に種々の機能層を設けることもできるし、近赤外線吸収層を設ける際に種々の機能層を既に設けたものを基材として用いた場合、既積層機能層上にさらに種々の機能層を形成することもできる。
The near-infrared absorbing laminate of the present invention is selected from the group consisting of an ultraviolet absorbing layer, an electromagnetic wave absorbing layer, an anti-scratch layer, an antireflection layer, a color tone correction layer, a heat dissipation layer and an impact resistant layer after providing a near infrared absorbing layer. At least one layer can be further laminated.
That is, the layer having various functions described above can be further laminated on the near-infrared absorbing layer, and the above-mentioned various functional layers can be provided on the substrate, that is, on the surface opposite to the near-infrared absorbing layer. When various functional layers are provided on the surface opposite to the near infrared absorbing layer, various functional layers can be provided on the plastic film, or when the near infrared absorbing layer is provided, various functional layers are already provided. When used as a base material, various functional layers can be further formed on the laminated functional layer.
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら具体例のみに限定されるものではない。なお、例中[部]とあるのは[重量部]を示す。
[合成例1]
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた四口フラスコに、メチルエチルケトン120部、メチルメタクリレート60部、シクロヘキシルメタクリレート40部を仕込み、窒素気流下にて環流温度まで昇温させた。これに、tert−ブチル−パーオキシ−2−エチルヘキサノート0.05部とメチルエチルケトン30部の混合物を1時間かけて連続滴下し、その後環流温度で2時間反応した。さらに、tert−ブチル−パーオキシ−2−エチルヘキサノート0.05部を2時間ごとに3回添加し、反応を続けた。滴下終了から14時間後にトルエン83部を添加し反応を終了し、不揮発分30%、粘度1,300mPa・s(25℃)、重量平均分子量315,000の共重合体(1)溶液を得た。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited only to these specific examples. In the examples, “parts” means “parts by weight”.
[Synthesis Example 1]
A four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas introduction tube was charged with 120 parts of methyl ethyl ketone, 60 parts of methyl methacrylate, and 40 parts of cyclohexyl methacrylate, and the temperature was raised to the reflux temperature under a nitrogen stream. To this, a mixture of 0.05 part of tert-butyl-peroxy-2-ethylhexanote and 30 parts of methyl ethyl ketone was continuously added dropwise over 1 hour, and then reacted at reflux temperature for 2 hours. Furthermore, 0.05 part of tert-butyl-peroxy-2-ethylhexanote was added three times every 2 hours, and the reaction was continued. After 14 hours from the end of the dropping, 83 parts of toluene was added to complete the reaction, and a copolymer (1) solution having a nonvolatile content of 30%, a viscosity of 1,300 mPa · s (25 ° C.), and a weight average molecular weight of 315,000 was obtained. .
[合成例2〜4]
合成例1において使用した重合性単量体を表4に示した通りにする以外は、合成例1と同様の操作を行い、共重合体(2)〜(4)溶液を得た。得られた共重合体(2)〜(4)溶液の不揮発分、粘度、重量平均分子量を表1に示した。
[Synthesis Examples 2 to 4]
Except that the polymerizable monomers used in Synthesis Example 1 were as shown in Table 4, the same operations as in Synthesis Example 1 were performed to obtain copolymers (2) to (4) solutions. Table 1 shows the nonvolatile content, viscosity, and weight average molecular weight of the obtained copolymers (2) to (4).
なお、表1中の略号はつぎの通りである。
CHMAとはシクロヘキシルメタクリレート、
MMAとはメチルメタクリレート、
2EHAとは2−エチルヘキシルアクリレート、
RUVA93(商品名)とはベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体である2−(2′−ヒドロキシ−5−メタクリロイルエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学社製)である。
The abbreviations in Table 1 are as follows.
CHMA is cyclohexyl methacrylate,
MMA is methyl methacrylate,
2EHA is 2-ethylhexyl acrylate,
RUVA93 (trade name) is 2- (2'-hydroxy-5-methacryloylethylphenyl) -2H-benzotriazole (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), which is a monomer having a benzotriazole group and a polymerizable unsaturated group. is there.
不揮発分、粘度、重量平均分子量は以下のように測定した。
(不揮発分)試料約1gを秤量、150℃−20分乾燥し、乾燥残量を不揮発分として、乾燥全重量に対する比率を重量%で表示した。
(粘度)BM型回転粘度計(東京精器株式会社製)により、25℃にて測定した。ローター、回転数は粘度に応じて選定した。
(重量平均分子量)Shodex GPC SYSTEM21型ゲルパーエミーションクロマトグラフィー(昭和電工株式会社製)にてカラムとしてShodex GPC KF−802L、同KF−803L及び同KF−805L(いずれも昭和電工株式会社製)を直列に使用し測定(ポリスチレン換算)した。
The nonvolatile content, viscosity, and weight average molecular weight were measured as follows.
(Nonvolatile content) About 1 g of a sample was weighed and dried at 150 ° C. for 20 minutes.
(Viscosity) Measured at 25 ° C. with a BM type rotational viscometer (manufactured by Tokyo Seiki Co., Ltd.). The rotor and rotation speed were selected according to the viscosity.
(Weight average molecular weight) Shodex GPC KF-802L, KF-803L and KF-805L (all manufactured by Showa Denko KK) as columns in Shodex GPC SYSTEM21 type gel perem chromatography (manufactured by Showa Denko KK) Were measured in series (polystyrene conversion).
[実施例1]
合成例1で得られた共重合体(1)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の溶液を得た。
これに、前記式(10)で表される、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物(1)を0.6部、及び下記式(22)で表されるジチオール金属錯体化合物[商品名MIR−101(みどり化学株式会社製)]を0.17部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚12μmの近赤外線吸収積層体(1)を得、以下のようにして耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
式(22)
[Example 1]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (1) solution obtained in Synthesis Example 1 to obtain a solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, a diimonium compound represented by the formula (10), which is bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid N, N, N ′, N′-tetrakis (p-dibutylaminophenyl) -p-phenylenediimonium ( 0.6 part of 1) and 0.17 part of dithiol metal complex compound [trade name MIR-101 (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.)] represented by the following formula (22) are added and dissolved, and a near-infrared absorbing coating agent. Was prepared.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. Thus, a near-infrared absorbing laminate (1) having a coating thickness of 12 μm was obtained, and heat resistance and light resistance were evaluated as follows. The results are shown in Table 2.
Formula (22)
[耐熱性評価]
得られた近赤外線吸収積層体(1)について、分光光度計(日本分光株式会社製、V−570型)にて850nmと950nmの各波長での透過率(%)を測定した(試験前の透過率)後、恒温槽中に80℃で500時間静置した後の透過率(%)を上記と同様に測定した(試験後の透過率)。試験前後における透過率変化の評価の基準は以下の通りである。
試験前後の透過率の差が±3未満:良好
試験前後の透過率の差が±3以上5以下:やや良好、
試験前後の透過率の差が±5を超えたもの:不良
また、耐熱性試験の前後の近赤外線吸収積層体(1)に関して、色彩色差計(ミノルタ株式会社製、CR−300)にて測色(Y,x、y)を行った。
試験前後の積層体の色変化は下記の基準で評価した。
◎:試験前後のy値の差(Δy)が±0.005未満
○:試験前後のy値の差(Δy)が±0.005以上、0.010以下
△:試験前後のy値の差(Δy)が±0.010を超えて、0.015以下
×:試験前後のy値の差(Δy)が±0.015を超えたもの
[Heat resistance evaluation]
About the obtained near-infrared absorption laminated body (1), the transmittance | permeability (%) in each wavelength of 850 nm and 950 nm was measured with the spectrophotometer (The JASCO Corporation make, V-570 type | mold) (before a test). Then, the transmittance (%) after standing in a thermostatic chamber at 80 ° C. for 500 hours was measured in the same manner as described above (the transmittance after the test). The criteria for evaluating the transmittance change before and after the test are as follows.
Difference in transmittance before and after test is less than ± 3: Good Difference in transmittance before and after test is ± 3 or more and 5 or less: Slightly good,
The difference in transmittance before and after the test exceeded ± 5: Poor Also, the near-infrared absorbing laminate (1) before and after the heat resistance test was measured with a color difference meter (CR-300, manufactured by Minolta Co., Ltd.). Color (Y, x, y) was performed.
The color change of the laminate before and after the test was evaluated according to the following criteria.
A: Difference in y value before and after test (Δy) is less than ± 0.005 ○: Difference in y value before and after test (Δy) is ± 0.005 or more and 0.010 or less Δ: Difference in y value before and after test (Δy) exceeds ± 0.010, 0.015 or less x: Difference in y value before and after the test (Δy) exceeds ± 0.015
[耐光性評価]
得られた近赤外線吸収積層体(1)について、分光光度計(日本分光株式会社製、V−570型)にて850nmと950nmの各波長での透過率(%)を測定した(試験前の透過率)後、強エネルギーキセノンウェザーメーター(スガ試験機株式会社社製、SC700−WN)を用い耐光性試験(光照射のみ、60℃,60%RH,24時間連続照射)した後の透過率(%)を上記と同様に測定した(試験後の透過率)。試験前後における透過率変化の評価の基準は、耐熱評価の場合と同様である。
また、耐光性試験の前後の近赤外線吸収積層体(1)に関して、色彩色差計(ミノルタ株式会社製、CR−300)にて測色(Y,x、y)を行った。試験前後における色変化の評価の基準は、耐熱評価の場合と同様である。
[Light resistance evaluation]
About the obtained near-infrared absorption laminated body (1), the transmittance | permeability (%) in each wavelength of 850 nm and 950 nm was measured with the spectrophotometer (The JASCO Corporation make, V-570 type | mold) (before a test). Transmittance), and then the transmittance after a light resistance test (light irradiation only, 60 ° C., 60% RH, continuous irradiation for 24 hours) using a strong energy xenon weather meter (SC700-WN, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) (%) Was measured in the same manner as described above (transmittance after the test). The criteria for evaluating the change in transmittance before and after the test are the same as in the heat resistance evaluation.
Further, for the near-infrared absorbing laminate (1) before and after the light resistance test, color measurement (Y, x, y) was performed with a color difference meter (manufactured by Minolta Co., Ltd., CR-300). The criteria for color change evaluation before and after the test are the same as in the heat resistance evaluation.
[実施例2]
合成例1で得られた共重合体(1)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の溶液を得た。
これに、前記式(13)で表される、ビス{ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸}N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジベンジルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物(2)を0.6部、及びフタロシアニン系化合物(C1)[構造略号:VOPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F]を0.3部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚13μmの近赤外線吸収積層体(2)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Example 2]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (1) solution obtained in Synthesis Example 1 to obtain a solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
This is bis {bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid} N, N, N ′, N′-tetrakis (p-dibenzylaminophenyl) -p-phenylenediimonium represented by the formula (13). 0.6 parts of diimonium compound (2) and phthalocyanine compound (C1) [structure abbreviation: VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {Ph ( 0.3 part of CH 3 ) CHNH} 3 F] was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. The near-infrared absorbing laminate (2) having a coating thickness of 13 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
[実施例3]
合成例2で得られた共重合体(2)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の溶液を得た。
これに、前記式(14)で表される、ビス{ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸}N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジフェネチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物(3)を0.6部、及びフタロシアニン系化合物(C2)[構造略号:VOPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4(Ph(CH2NH)4]を0.3部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚13μmの近赤外線吸収積層体(3)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Example 3]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (2) solution obtained in Synthesis Example 2 to obtain a solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
This is bis {bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid} N, N, N ′, N′-tetrakis (p-diphenethylaminophenyl) -p-phenylenediimonium represented by the formula (14). 0.6 part of diimonium compound (3) and phthalocyanine compound (C2) [Structural abbreviation: VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (Ph ( 0.3 part of CH 2 NH) 4 ] was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. And a near-infrared absorbing laminate (3) having a coating thickness of 13 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
[実施例4]
合成例2で得られた共重合体(2)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の樹脂溶液を得た。
これに、下記式(16)で表される、ビス(1,3−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸)N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジフェネチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物(4)を0.6部、及びフタロシアニン系化合物(C3)[構造略号:CuPc(2,5−Cl2PhO)8{2,6−(CH3)2PhO}4(Ph(CH2NH)4]を0.3部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚11μmの近赤外線吸収積層体(4)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Example 4]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (2) solution obtained in Synthesis Example 2 to obtain a resin solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, bis (1,3-disulfonylhexafluoropropylimidic acid) N, N, N ′, N′-tetrakis (p-diphenethylaminophenyl) -p-phenylene represented by the following formula (16) 0.6 part of diimonium compound (4) which is diimonium, and phthalocyanine compound (C3) [structure abbreviation: CuPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 0.3 parts of (Ph (CH 2 NH) 4 ] was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. And a near-infrared absorbing laminate (4) having a coating thickness of 11 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
[実施例5]
合成例1で得られた共重合体(1)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の溶液を得た。
これに、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物[商品名CIR−RL(日本カーリット株式会社製)]を0.6部、及びフタロシアニン系化合物[商品名イーエックスカラーIR−10A(日本触媒株式会社製)]を0.3部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚12μmの近赤外線吸収積層体(5)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Example 5]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (1) solution obtained in Synthesis Example 1 to obtain a solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, 0.6 parts of a diimonium compound having a sulfonimide as an anion component [trade name CIR-RL (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.)] and a phthalocyanine compound [trade name EX Color IR-10A (Nippon Catalyst Co., Ltd.) Company))] was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. And a near-infrared absorbing laminate (5) having a coating thickness of 12 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
[実施例6]
合成例1で得られた共重合体(2)溶液100部(固形分:約30部)100部にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の溶液を得た。
これに、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物[商品名K−1032(日本化薬株式会社製)]を0.6部、及びフタロシアニン系化合物[商品名イーエックスカラーIR−14(日本触媒株式会社製)]を0.3部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚12μmの近赤外線吸収積層体(6)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Example 6]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts of the copolymer (2) solution obtained in Synthesis Example 1 (solid content: about 30 parts) to obtain a solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, 0.6 part of a diimonium compound having a sulfonimide as an anion component [trade name K-1032 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)] and a phthalocyanine compound [trade name EX Color IR-14 (Nippon Catalyst) 0.3 part) was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. And a near-infrared absorbing laminate (6) having a coating thickness of 12 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
[実施例7]
合成例3で得られた共重合体(3)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の樹脂溶液を得た。
これに、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物[商品名CIR−RL(日本カーリット株式会社製)]を0.6部、及びフタロシアニン系化合物[商品名イーエックスカラーIR−10A(日本触媒株式会社製)]を0.3部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポン株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚11μmの近赤外線吸収積層体(7)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Example 7]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (3) solution obtained in Synthesis Example 3 to obtain a resin solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, 0.6 parts of a diimonium compound having a sulfonimide as an anion component [trade name CIR-RL (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.)] and a phthalocyanine compound [trade name EX Color IR-10A (Nippon Catalyst Co., Ltd.) Company))] was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent is applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. A near-infrared absorbing laminate (7) having a coating thickness of 11 μm was obtained and evaluated for heat resistance and light resistance. The results are shown in Table 2.
[実施例8]
合成例1で得られた共重合体(1)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部、を添加し、不揮発分20重量%の溶液を得た。
これに、紫外線吸収剤Tinuvin−384−2を0.16部、実施例1で用いたのと同様に式(10)で表される、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物(1)を0.6部、及びフタロシアニン系化合物[商品名イーエックスカラーIR−10A(日本触媒株式会社製)]を0.3部を加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚12μmの近赤外線吸収積層体(8)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Example 8]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (1) solution obtained in Synthesis Example 1 to obtain a solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, 0.16 parts of the ultraviolet absorber Tinuvin-384-2, the same as that used in Example 1, represented by the formula (10), bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid N, N, N ′ , N′-tetrakis (p-dibutylaminophenyl) -p-phenylenediimonium, 0.6 part of a diimonium compound (1), and a phthalocyanine compound [trade name EX Color IR-10A (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) )] Was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. The near-infrared absorbing laminate (8) having a coating thickness of 12 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
[実施例9]
合成例1で得られた共重合体(1)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の溶液を得た。
これに、紫外線吸収剤Tinuvin−384−2を0.16部、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物[商品名CIR−RL(日本カーリット株式会社製)]を0.6部、及びフタロシアニン系化合物[商品名イーエックスカラーIR−14(日本触媒株式会社製)]を0.3部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポン株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚13μmの近赤外線吸収積層体(9)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Example 9]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (1) solution obtained in Synthesis Example 1 to obtain a solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
In addition, 0.16 part of ultraviolet absorber Tinuvin-384-2, 0.6 part of diimonium compound [trade name CIR-RL (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.)] having sulfonimide as an anion component, and phthalocyanine series 0.3 parts of the compound [trade name EX Color IR-14 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)] was added and dissolved to prepare a near infrared absorbing coating agent.
This coating agent is applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. A near-infrared absorbing laminate (9) having a coating thickness of 13 μm was obtained and evaluated for heat resistance and light resistance. The results are shown in Table 2.
[実施例10]
合成例1で得られた共重合体(1)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の樹脂溶液を得た。
これに、ジイモニウム系化合物[商品名IRG−068(日本化薬株式会社製)]を0.6部、及びシアニン化合物[商品名CY−17(日本化薬株式会社製)]を0.17部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚13μmの近赤外線吸収積層体(10)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Example 10]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (1) solution obtained in Synthesis Example 1 to obtain a resin solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, 0.6 parts of diimonium compound [trade name IRG-068 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)] and 0.17 parts of cyanine compound [trade name CY-17 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)] Furthermore, it melt | dissolved and the near-infrared absorption coating agent was prepared.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. And a near-infrared absorbing laminate (10) having a coating thickness of 13 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
[比較例1]
合成例1で得られた共重合体(1)溶液100部(固形分:約30部)にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の溶液を得た。
これに、下記式(23)で表される直鎖アルキル基ジイモニウム系化合物[商品名CIR−1081(日本カーリット株式会社製)]を0.6部、及びフタロシアニン系化合物[商品名イーエックスカラーIR−14(日本触媒株式会社製)]を0.3部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポン株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚12μmの近赤外線吸収積層体(11)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
式(23)
[Comparative Example 1]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (1) solution obtained in Synthesis Example 1 to obtain a solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, 0.6 part of a linear alkyl group diimonium compound [trade name CIR-1081 (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.)] represented by the following formula (23), and a phthalocyanine compound [trade name EX Color IR] -14 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)] was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent is applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. A near-infrared absorbing laminate (11) having a coating thickness of 12 μm was obtained and evaluated for heat resistance and light resistance. The results are shown in Table 2.
Formula (23)
[比較例2]
合成例4で得られた共重合体(4)溶液100部(固形分:約30部) にメチルエチルケトン50部を添加し、不揮発分20重量%の溶液を得た。
これに、実施例1で用いたのと同様に前記式(10)で表される、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物(1)を0.6部、及び実施例1で用いたのと同様に式(22)で表されるジチオール金属錯体化合物[商品名MIR−101(みどり化学株式会社製)]を0.17部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚11μmの近赤外線吸収積層体(12)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Comparative Example 2]
50 parts of methyl ethyl ketone was added to 100 parts (solid content: about 30 parts) of the copolymer (4) solution obtained in Synthesis Example 4 to obtain a solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid N, N, N ′, N′-tetrakis (p-dibutylaminophenyl)-represented by the formula (10) as used in Example 1 was used. 0.6 parts of p-phenylenediimonium diimonium compound (1) and the same dithiol metal complex compound represented by formula (22) as used in Example 1 [trade name MIR-101 (Midori Kagaku) 0.17 parts) was dissolved and a near-infrared absorbing coating agent was prepared.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. And a near-infrared absorbing laminate (12) having a coating thickness of 11 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
[比較例3]
1,3−ジオキソラン100部に、ポリアリレート樹脂[商品名U−100(ユニチカ株式会社製)]17.6部を溶解し、不揮発分15重量%の樹脂溶液を得た。
これに、実施例1で用いたのと同様に式(10)で表される、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物(1)を0.35部、及び実施例1で用いたのと同様に式(22)で表されるジチオール金属錯体化合物[商品名MIR−101(みどり化学株式会社製)]を0.1部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚13μmの近赤外線吸収積層体(13)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Comparative Example 3]
In 100 parts of 1,3-dioxolane, 17.6 parts of a polyarylate resin [trade name U-100 (manufactured by Unitika Ltd.)] was dissolved to obtain a resin solution having a nonvolatile content of 15% by weight.
To this, bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid N, N, N ′, N′-tetrakis (p-dibutylaminophenyl) -p represented by the formula (10) as used in Example 1 was used. -0.35 parts of diimonium compound (1), which is phenylene dimonium, and a dithiol metal complex compound represented by formula (22) in the same manner as in Example 1 [trade name MIR-101 (Midori Chemical Co., Ltd.) 0.1 part of the company) was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. And a near-infrared absorbing laminate (13) having a coating thickness of 13 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
[比較例4]
トルエン50部及びメチルエチルケトン50部の混合溶媒に、ポリエステル樹脂[商品名バイロン200(東洋紡績株式会社製)]25部を溶解し、不揮発分20重量%の樹脂溶液を得た。
これに、実施例1で用いたのと同様に式(10)で表される、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物(1)を0.5部、及び実施例1で用いたのと同様に式(22)で表されるジチオール金属錯体化合物[商品名MIR−101(みどり化学株式会社製)]を0.14部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ100μmの易接着層を有する紫外線吸収PETフィルム[商品名HBF8W(帝人デュポンフィルム株式会社製)]の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、100℃で1分乾燥させ、塗膜厚12μmの近赤外線吸収積層体(14)を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表2に表す。
[Comparative Example 4]
25 parts of a polyester resin [trade name Byron 200 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.)] was dissolved in a mixed solvent of 50 parts of toluene and 50 parts of methyl ethyl ketone to obtain a resin solution having a nonvolatile content of 20% by weight.
To this, bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid N, N, N ′, N′-tetrakis (p-dibutylaminophenyl) -p represented by the formula (10) as used in Example 1 was used. -0.5 parts of diimonium compound (1) which is phenylenediimonium and a dithiol metal complex compound represented by formula (22) as used in Example 1 [trade name MIR-101 (Midori Chemical Co., Ltd.) 0.14 parts (made by company) was added and dissolved to prepare a near-infrared absorbing coating agent.
This coating agent was applied to the easy-adhesion surface of an ultraviolet-absorbing PET film [trade name HBF8W (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.)] having an easy-adhesion layer with a thickness of 100 μm using a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute. And a near-infrared absorbing laminate (14) having a coating thickness of 12 μm was obtained, and the heat resistance and light resistance were evaluated. The results are shown in Table 2.
表2に示すように実施例1〜10で得られた近赤外線吸収積層体は、耐熱性試験及び耐光性試験の両試験において、試験前後の透過率の差が小さいばかりでなく色変化も小さく、耐熱性に優れると共に耐光性にも優れていることがわかる。
それに対して、比較例1〜4で得られた近赤外線吸収積層体は、耐熱性試験及び耐光性試験のいずれかにおいて、試験前後の透過率の差又は色変化が大きく、耐熱性、耐光性を両立するものは無い。
As shown in Table 2, the near-infrared absorbing laminates obtained in Examples 1 to 10 have not only a small difference in transmittance before and after the test, but also a small color change in both the heat resistance test and the light resistance test. It can be seen that it has excellent heat resistance as well as excellent light resistance.
In contrast, the near-infrared absorbing laminates obtained in Comparative Examples 1 to 4 have a large difference in transmittance or color change before and after the test in either the heat resistance test or the light resistance test, and the heat resistance and light resistance. There is no one that satisfies both.
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤よりなる近赤外線吸収性積層物は、可視光線の透過率が高く、近赤外線の遮蔽が良好で、且つ耐熱性、耐光性も優れるため、光学フィルターとして有用である。 The near-infrared-absorbing laminate comprising the near-infrared-absorbing coating agent of the present invention has a high visible light transmittance, good near-infrared shielding, and excellent heat resistance and light resistance, and thus is useful as an optical filter. is there.
Claims (14)
一般式(1)
(式(1)中、R1〜R8はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシ基、置換もしくは未置換の、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、又はフェニルアルキル基であり、環A及びBは置換基を有していても良い。また、R9及びR10はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、それぞれフルオロアルキル基を示すか、それらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を表す。) A copolymer (A) containing a cycloalkyl group-containing monomer (a1) as an essential constituent and a diimonium compound (B) represented by the following general formula (1) Infrared absorbing coating agent.
General formula (1)
(In the formula (1), R 1 to R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, a halogenated alkyl group, cyano. An alkyl group, an aryl group, or a phenylalkyl group, and the rings A and B may have a substituent, and R 9 and R 10 may be the same or different, and Represents an alkyl group or represents a fluoroalkylene group formed by them together.)
一般式(2)
(式中、Cは、炭素数1〜18の直鎖又は分岐鎖を有するアルキレン基を表し、環Dは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す。) R < 1 > -R < 8 > is a phenylalkyl group shown by following General formula (2), The near-infrared absorptive coating agent in any one of Claims 1-5.
General formula (2)
(In the formula, C represents an alkylene group having a linear or branched chain having 1 to 18 carbon atoms, and ring D represents a benzene ring which may have a substituent.)
Furthermore, at least one layer consisting of an ultraviolet absorption layer, an electromagnetic wave absorption layer, a scratch prevention layer, an antireflection layer, a color tone correction layer, a heat dissipation layer, and an impact resistance layer is laminated on the substrate side and / or the near infrared absorption layer. The near-infrared absorbing laminate according to claim 13.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004357992 | 2004-12-10 | ||
JP2005297257A JP2006188653A (en) | 2004-12-10 | 2005-10-12 | Near-infrared-absorbing coating agent and near-infrared-absorbing laminate using the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006188653A true JP2006188653A (en) | 2006-07-20 |
Family
ID=36796143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005297257A Pending JP2006188653A (en) | 2004-12-10 | 2005-10-12 | Near-infrared-absorbing coating agent and near-infrared-absorbing laminate using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006188653A (en) |
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