Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP2003268111A - レンズ用樹脂 - Google Patents

レンズ用樹脂

Info

Publication number
JP2003268111A
JP2003268111A JP2002078585A JP2002078585A JP2003268111A JP 2003268111 A JP2003268111 A JP 2003268111A JP 2002078585 A JP2002078585 A JP 2002078585A JP 2002078585 A JP2002078585 A JP 2002078585A JP 2003268111 A JP2003268111 A JP 2003268111A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
bis
acid
hydroxyphenyl
residue
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002078585A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Sugimura
正宏 杉村
Keijiro Takanishi
慶次郎 高西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2002078585A priority Critical patent/JP2003268111A/ja
Publication of JP2003268111A publication Critical patent/JP2003268111A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 色調の改善された高屈折率、高アッベ数を有
するレンズ用の熱可塑性樹脂を得る。 【解決手段】 下記一般式(1)で示されるホスホン酸
残基、および下記一般式(2)で示される2価フェノー
ル残基およびカーボネート残基を含み、かつホスホン酸
残基とカーボネート残基のモル分率が式(3)を満足
し、かつナトリウムの含有量が5ppm未満であること
を特徴とするレンズ用樹脂。一般式(1) 一般式(2) [式(1)中Rは炭素数1〜20の炭化水素基、Xは酸
素、硫黄あるいはセレンを表す。式(2)中R'は各々
独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、
炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、炭
化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれる。p、qは
p+q=0〜8の整数。Yは単結合、酸素原子、硫黄原
子、特定の置換基からなる群から選ばれる。]1>
(a)/[(a)+(b)]≧0.05 (3)[ここで、(a)はホ
スホン酸残基、(b)はカーボネート残基のモル数を示
す。]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、着色問題と耐熱性
が改善された高屈折率、高分散性のレンズ用樹脂に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】無色透明材料の主要な用途として光学レ
ンズがあるが、その中で眼鏡用レンズについては、薄型
化、軽量化、ファッション性等の観点から活発な材料開
発が行われている。現在では耐衝撃性、軽量性等の利点
から、市場の90%は樹脂レンズが占めるようになって
いる。
【0003】従来の眼鏡レンズ用樹脂はCR39、アク
リル、ウレタンの3つに大別され(特開平06−016
729号公報など)、低分散、高屈折を目指して多くの
樹脂が開発実用化されている。これらの樹脂はすべて熱
硬化性であるため、光学レンズへの成形は注型重合が用
いられるが、この方法は重合時間が長く、その後のアニ
ーリングプロセスなど、製造コストが高いという問題点
がある。
【0004】一方、熱可塑性光学用樹脂の代表的なもの
としてポリカーボネートがある。これはその無色透明性
や耐衝撃性を生かしてディスク用基板等に用いられてい
る。この樹脂をレンズに適用する場合、熱可塑性である
ため成形性がよく、熱硬化性樹脂に比べ格段にレンズ製
造コストを安くできるという利点がある。しかし、屈折
率が低いため(1.58)眼鏡レンズ用途としては保護
眼鏡程度にしか適用されていない。またポリカーボネー
ト以外の芳香族系の熱可塑性樹脂は、屈折率は高いもの
の高分散性、着色性等の問題があり、光学レンズ用途に
は適用できない。
【0005】このような中、ホスホン酸残基を主鎖中に
有する熱可塑性樹脂(米国特許第6,288,210
号)は高屈折、低分散であることから眼鏡レンズ用途に
好適な特性を有する樹脂である。しかしながら、ホスホ
ン酸残基を有する樹脂溶解性・融解性などが悪いことか
らレンズを成形した場合に白濁するという問題もあっ
た。さらに、製造の際に着色するという問題や耐熱性が
悪いという問題もあった。その結果、高屈折率、低分散
と言う特徴を活かしきれず、その用途は限定的であっ
た。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、か
かる従来技術の背景に鑑み、製造の際の着色の原因を同
定し、着色の問題を解決したレンズ用の樹脂を提供する
ものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、以下の構成を有するものである。すなわ
ち、(A)下記一般式(1)で示されるホスホン酸残
基、および下記一般式(2)で示される2価フェノール
残基およびカーボネート残基を含み、かつホスホン酸残
基とカーボネート残基のモル分率が式(3)を満足し、
かつナトリウムの含有量が5ppm未満であることを特
徴とするレンズ用樹脂、 一般式(1)
【0008】
【化7】
【0009】一般式(2)
【0010】
【化8】
【0011】[式(1)中Rは炭素数1〜20の炭化水
素基、Xは酸素、硫黄あるいはセレンを表す。式(2)
中R'は各々独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族
炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロ
ゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ
る。p、qはp+q=0〜8の整数、Yは単結合、酸素
原子、硫黄原子、アルキレン基、アルキリデン基、シク
ロアルキレン基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アル
キレン基、ハロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリ
デン基、カルボニル基、スルホン基、脂肪族ホスフィン
オキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシ
ラン基、ジアルキルシラン基、フルオレン基、分岐鎖含
有アルキリデン基、分岐鎖含有シクロアルキリデン基か
らなる群から選ばれる。] 1> (a)/[(a)+(b)]≧0.05 (3) [ここで、(a)はホスホン酸残基、(b)はカーボネート残
基のモル数を示す。](B) 上記(A)記載の一般式
(2)が下記一般式(4)〜(7)のいずれかで表され
ることを特徴とするレンズ用樹脂。 一般式(4)
【0012】
【化9】
【0013】一般式(5)
【0014】
【化10】
【0015】一般式(6)
【0016】
【化11】
【0017】一般式(7)
【0018】
【化12】
【0019】(C)前記の樹脂は、ホスホナイト残基を
含有し、かつ前記ホスホナイト残基の含有比が前記ホス
ホン酸残基に対し等モル以下であることを特徴とする前
記(A)または(B)記載の樹脂。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明者らは、係る樹脂の着色原
因が樹脂本来の成分ではなく、また、工程中積極的に用
いられないナトリウムイオンにあることを検知し、これ
を除去することで溶融成形時の着色性を劇的に低減する
ことができることを究明したものである。
【0021】本発明に用いられる樹脂は、下記一般式
(1)で示されるホスホン酸残基、および下記一般式
(2)で示される2価フェノール残基およびカーボネー
ト残基を含む樹脂である。 一般式(1)
【0022】
【化13】
【0023】一般式(2)
【0024】
【化14】
【0025】上記一般式(1)で表されるホスホン酸残
基のリン原子に置換する置換基Rの具体例としては、フ
ェニル、ハロ置換フェニル、メトキシフェニル、エトキ
シフェニル、エチル、イソプロピル、シクロヘキシル、
ビニル、アリル、ベンジル、アミノアルキル、ヒドロキ
シアルキル、ハロ置換アルキル、アルキルサルファイド
基等が挙げられる。
【0026】かかるホスホン酸残基をその基本構造であ
るホスホン酸として具体的に例示すると、メチルホスホ
ン酸、エチルホスホン酸、n−プロピルホスホン酸、イ
ソプロピルホスホン酸、n−ブチルホスホン酸、イソブ
チルホスホン酸、t―ブチルホスホン酸、n−ペンチル
ホスホン酸、ネオペンチルホスホン酸、シクロヘキシル
ホスホン酸、ベンジルホスホン酸、クロロメチルホスホ
ン酸、ジクロロメチルホスホン酸、ブロモメチルホスホ
ン酸、ジブロモメチルホスホン酸、2−クロロエチルホ
スホン酸、1、2−ジクロロエチルホスホン酸、2―ブ
ロモエチルホスホン酸、1、2−ジブロモエチルホスホ
ン酸、3−クロロプロピルホスホン酸、2、3−ジクロ
ロプロピルホスホン酸3−ブロモプロピルホスホン酸、
2、3−ジブロモプロピルホスホン酸、2−クロロー1
−メチルエチルホスホン酸、1、2−ジクロロー1−メ
チルエチルホスホン酸、2−ブロモー1−メチルエチル
ホスホン酸、1、2−ジブロモー1−メチルエチルホス
ホン酸、4−クロロブチルホスホン酸、3、4−ジクロ
ロブチルホスホン酸、4−ブロモブチルホスホン酸、
3、4−ジブロモブチルホスホン酸、3−クロロー1―
メチルプロピルホスホン酸、2、3−ジクロロ−1−メ
チルプロピルホスホン酸、3−ブロモ−1メチルプロピ
ルホスホン酸、2、3−ジブロモ−1−メチルホスホン
酸、1−クロロメチルプロピルホスホン酸、1−クロロ
ー1−クロロメチルプロピルホスホン酸、1−ブロモメ
チルプロピルホスホン酸、1−ブロモ−1−ブロモメチ
ルプロピルホスホン酸、5−クロロペンチルホスホン
酸、4、5−ジクロロペンチルホスホン酸、5−ブロモ
ペンチルホスホン酸、4、5−ジブロモペンチルホスホ
ン酸、1−ヒドロキシメチルホスホン酸、2−ヒドロキ
シエチルホスホン酸、3−ヒドロキシプロピルホスホン
酸、4−ヒドロキシブチルホスホン酸、5−ヒドロキシ
ペンチルホスホン酸、1−アミノメチルホスホン酸、2
−アミノエチルホスホン酸、3−アミノプロピルホスホ
ン酸、4−アミノブチルホスホン酸、5−アミノペンチ
ルホスホン酸、メチルチオメチルホスホン酸、メチルチ
オエチルホスホン酸、メチルチオプロピルホスホン酸、
メチルチオブチルホスホン酸、エチルチオメチルホスホ
ン酸、エチルチオエチルホスホン酸、エチルチオプロピ
ルホスホン酸、プロピルチオメチルホスホン酸、プロピ
ルチオエチルホスホン酸、ブチルチオメチルホスホン
酸、フェニルホスホン酸、4−クロロフェニルホスホン
酸、3、4−ジクロロフェニルホスホン酸、3、5−ジ
クロロフェニルホスホン酸、4−ブロモフェニルホスホ
ン酸、3、4−ブロモフェニルホスホン酸、3、5−ブ
ロモフェニルホスホン酸、4−メトキシフェニルホスホ
ン酸、3、4−ジメトキシフェニルホスホン酸、1―ナ
フチルホスホン酸、2―ナフチルホスホン酸、ベンジル
ホスホン酸、4−ブロモフェニルメチルホスホン酸、
3、4−ジブロモフェニルメチルホスホン酸、3、5−
ジブロモフェニルメチルホスホン酸、2−フェニルエチ
ルホスホン酸、2−(4−ブロモフェニル)エチルホスホ
ン酸、2−(3、4−ジブロモフェニル)エチルホスホン
酸、2−(3、5−ジブロモフェニル)エチルホスホン
酸、3−フェニルプロピルホスホン酸、3−(4−ブロ
モフェニル)プロピルホスホン酸、3−(3、4−ジブロ
モフェニル)プロピルホスホン酸、3−(3、5−ジブロ
モフェニル)プロピルホスホン酸、4−フェニルブチル
ホスホン酸、4−(4−ブロモフェニル)ブチルホスホン
酸、4−(3、4−ジブロモフェニル)ブチルホスホン
酸、4−(3、5−ジブロモフェニル)ブチルホスホン
酸、2―ピリジルホスホン酸、3−ピリジルホスホン
酸、4−ピリジルホスホン酸、1−ピロリジノメチルホ
スホン酸、1―ピロリジノエチルホスホン酸、1−ピロ
リジノプロピルホスホン酸、1−ピロリジノブチルホス
ホン酸、ピロール−1−ホスホン酸、ピロール−2―ホ
スホン酸、ピロール−3−ホスホン酸、チオフェン−2
―ホスホン酸、チオフェン−3―ホスホン酸、ジチアン
−2―ホスホン酸、トリチアン−2―ホスホン酸、フラ
ン−2―ホスホン酸、フラン−3―ホスホン酸、ビニル
ホスホン酸、アリルホスホン酸などが挙げられ、またこ
れらのリン原子に2重結合で結合している酸素原子が硫
黄原子に置換されたチオホスホン酸も同様に挙げられ
る。これらは1種類でも、複数種が含まれていても構わ
ない。
【0027】また、本発明の樹脂には、他のリン含有単
位として3価のリン官能基を有するホスホナイト残基を
含有することができる。このようなホスホナイト残基の
例としては、前記のホスホン酸残基を対応するホスフィ
ン酸残基として同様に挙げることができる。このホスフ
ィン酸残基の導入により、樹脂に耐酸化性を付与するこ
とができる。その含有量としては、光学特性等の特性の
安定性を考慮すると、ホスホン酸残基の50モル%以下
が好ましく、より好ましくは25モル%以下、さらに好
ましくは10モル%以下である。下限としては、好まし
くは、1モル%以上である。
【0028】次に、一般式(2)で表される2価フェノ
ール残基をその基本構造である2価フェノールとして具
体的に例示すると、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、1,1−ビス(4−メチル−2−ヒドロキ
シフェニル)メタン、1,1−ビス(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチル
シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−イソプロピルシクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘプタン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロオクタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−2−エチルヘキサン、2,2−ビ
ス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、4,4'−ビフェノール、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロパン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オクタ
ン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン、2,2−ビス(3−アリル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−イ
ソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,
2−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(3−secブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビスフェノールフロ
ーレン、1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−
5−tert−ブチルフェニル)−2−メチルプロパ
ン、4,4'−〔1,4−フェニレン−ビス(2−プロ
ピリデン)〕−ビス(2−メチルフェノール)、1,1
−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン、4,4'−ジヒドロキシフェニルエーテ
ル、1,1−ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、
2,4'−メチレンビスフェノール、1,1−ビス(3
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビ
ス(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)エタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチル
−ブタン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、3,3
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、3,3−
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ペンタ
ン、3,3−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)ペンタン、2,2−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)ノナン、1,1−ビス(3
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエ
タン、1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)デカン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)デカン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメ
タン、テルペンジフェノール、1,1−ビス(3−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−
tert−ブチルフェニル)−2−メチルプロパン、
2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、1,1−ビス(3,5−ジtert
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−
ビス(3,5−ジsecブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−
ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス
(2−ヒドロキシ−3,5−ジtert−ブチルフェニ
ル)エタン、1,1−ビス(3−ノニル−4−ヒドロキ
シフェニル)メタン、2,2−ビス(3,5−ジter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,
1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジtert−ブチ
ル−6−メチルフェニル)メタン、1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエ
タン、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタ
ン酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸ブチルエス
テル、1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−5−
フルオロフェニル)メタン、2,2−ビス(4ーヒドロ
キシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(3−フルオ
ロ−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタン、
1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−(p−フルオロフェニル)メタン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−(p−フルオロ
フェニル)メタン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビ
ス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、1,1−ビス(3,5−ジブロモ−4
−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,5
−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,
2−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、3,3'−ジメチル−4,4'−ビフェノール、
3,3',5,5'−テトラメチル−4,4'−ビフェノ
ール、3,3',5,5'−テトラtert−ブチル−
4,4'−ビフェノール、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ケトン、3,3'−ジフルオロ−4,4'−ビフェノ
ール、3,3',5,5'−テトラフルオロ−4,4'−
ビフェノール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジメチ
ルシラン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン、ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキ
シフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)チオエーテル、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシ
フェニル)エーテル、ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)チオエーテル、ビス(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)チオエーテル、1,
1−ビス(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−フェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ドデカン、2,2−ビス(3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)ドデカン、2,2−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ドデカ
ン、1,1−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス
(3,5−ジtert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(2−メチル
−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェニル)−2
−メチルプロパン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジtert−ブチルフェニル)エタン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン酸メチルエ
ステル、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン酸エチルエステル、イサチンビスフェノール、イサ
チンビスクレゾール、2,2',3,3',5,5'−ヘ
キサメチル−4,4'−ビフェノール、ビス(2−ヒド
ロキシフェニル)メタン、2,4'−メチレンビスフェ
ノール、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ン、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(2−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、ビス(2−ヒドロキシ−3
−アリルフェニル)メタン、1,1−ビス(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパ
ン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−5−tert−ブ
チルフェニル)エタン、ビス(2−ヒドロキシ−5−フ
ェニルフェニル)メタン、1,1−ビス(2−メチル−
4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタ
ン、ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘ
キシルフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)ペンタデカン、2,2−ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)ペンタデカン、2,2−ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ペン
タデカン、1,2−ビス(3,5−ジtert−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジtert−ブチルフェニル)メタン、
2,2−ビス(3−スチリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−(p−ニトロフェニル)エタン、ビス(3,
5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビ
ス(3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)−
1−フェニルメタン、ビス(3,5−ジフルオロ−4−
ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、ビス(3−フ
ルオロ−4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、
2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、3,3',5,5'−テトラtert−ブチル
−2,2'−ビフェノール、2,2'−ジアリル−4,
4'−ビフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,
5,5−テトラメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,4−トリメチル
−シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3,3−ジメチル−5−エチル−シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,
3,5−トリメチル−シクロペンタン、1,1−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3,
3,5−トリメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス
(3,5−ジフェニル−4−ヒドロキシフェニル)−
3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン、1,1−ビ
ス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,
5−トリメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−ト
リメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジ
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリ
メチル−シクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)フルオレン、9、9−ビス(3,5−ジメ
チル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、1,1−
ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−
3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン、α、α−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1,4−ジイソプロピ
ルベンゼン等が挙げられ、これらは1種類でも、複数種
含まれていても構わない。
【0029】これらの2価フェノールにおいては、特
に、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4
−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−4−イソプロピルシクロヘキサン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペン
タンが好ましく採用される。係る2価フェノールを用い
ることで、光学特性すなわち、優れて高屈折率でありか
つ低分散であり、特にレンズ用途において好適に使用で
きるのである。
【0030】本発明のカーボネート残基とは、炭酸骨格
のことである。その導入についてはジフェニルカーボネ
ートなどの炭酸エステルやホスゲン、トリホスゲンなど
の炭酸ハライドなどの炭酸誘導体を用いることで導入で
きる。
【0031】本発明に用いる樹脂は前記の一般式(1)
で示されるホスホン酸残基と前記のカーボネート残基の
モル分率が式(3)を満足する。
【0032】1>(a)/[(a)+(b)]≧0.05 (3) [ここで、(a)はホスホン酸残基、(b)はカーボネート残
基のモル数を示す。]この比率が1であると、樹脂の溶
融性や溶解性が極端に悪くなり、成形性も悪くなる。ま
た、この比率が0.05未満であると屈折率などの光学
材料としての特性が不十分である。好ましく0.90以
下から0.30以上であり、より好ましくは0.85以
下から0.50以上である。
【0033】本発明に用いる樹脂は、本発明の目的を損
なわない範囲において、前記の一般式(1)、(2)で
表された残基の他に他の残基が共重合された樹脂であっ
ても、他の樹脂成分がブレンドされたものであっても構
わない。
【0034】次に本発明の樹脂の具体的な方法について
例を挙げて説明する。
【0035】本発明の樹脂は、溶融重合法、溶液重合
法、界面重合法などで得ることができる。用いるモノマ
ーとしては、重合法に応じ適宜選択することができる
が、一般式(1)のホスホン酸残基を構成するモノマー
としては、ホスホン酸塩化物、ホスホン酸エステル、ホ
スホン酸アミドなどのホスホン酸誘導体が挙げられる。
【0036】以下、樹脂の重合法について更に具体的に
説明する。
【0037】本発明の樹脂の製造方法としては、酸ハラ
イドと2価のフェノールを有機溶剤中で反応させる溶液
重合法(A.Conix Ind.Eng.che
m.,51,147,1959年、特公昭37−559
9号公報)、酸ハライドと2価のフェノールを塩化マグ
ネシウム等の触媒存在下で加熱する溶融重合法、2価の
酸と2価のフェノールをジアリルカーボネートの存在下
で加熱する溶融重合法(特公昭38−26299号公
報)、水と相溶しない有機溶剤に溶解せしめた2価の酸
ハライドとアルカリ水溶液に溶解せしめた2価のフェノ
ールとを混合する界面重合法(W.M.EARECKS
ON J.Poly.Sci.XL399,1959
年、特公昭40−1959号公報)等が挙げられるが、
溶融重合法では樹脂が着色しやすく、また界面重縮合法
では高分子量の樹脂を合成しにくいことから、特に溶液
重合法が好適に採用される。
【0038】溶液重合法について一例を説明すると、ホ
スホン酸残基の前駆体分子であるホスホン酸誘導体と、
2価フェノールをトリエチルアミンなどの塩基存在下混
合して反応させ、続いてカーボネート残基の前駆体分
子、たとえばトリホスゲンなどを添加して縮合重合する
ことによって本発明の樹脂を得ることができる。ホスホ
ン酸誘導体あるいはカーボネート誘導体としてはそれら
のハロゲン化物、酸無水物、エステル等が用いられるが
特に限定されない。
【0039】分子量を調節する方法としては、重合時に
一官能の物質を添加して行うことができる。ここで言う
分子量調節剤として用いられる一官能物質としては、フ
ェノール、クレゾール、p−tert−ブチルフェノー
ル等の一価フェノール類、安息香酸クロライド、メタン
スルホニルクロライド、フェニルクロロホルメート等の
一価酸クロライド類が挙げられる。
【0040】本発明の樹脂に含まれるナトリウムの量は
5ppm以下である。ナトリウムの含有量とは、樹脂中
に含まれるナトリウムを金属ナトリウムの重量に換算し
て算出されるものである。ナトリウムの含量が5ppm
以下、より好ましくは1ppm以下にすることで溶融成
形時の着色の問題が解決する。
【0041】なお、本発明においてナトリウム含量の測
定方法は、蛍光X線分析法を用いるものとする。
【0042】ナトリウムの混入については、一般的な溶
融エステル交換反応でナトリウムフェノラートを使用す
ることに起因する。通常溶融法では水洗工程がないこと
からナトリウムを除去することができない。また、界面
重縮合を行う場合にはモノマーにビスフェノールのナト
リウム塩を使用する。界面重縮合では水洗工程がある
が、ナトリウム塩がモノマーの当モル量生成することか
ら水洗が難しく、樹脂中にナトリウム塩が残留する。よ
って、ナトリウムフェノラートを使用する重合方法は着
色抑制という観点からは好ましくない。
【0043】一方、ナトリウムフェノラートを使用して
いない溶液重合においてもナトリウムが混入しうること
がわかった。ビスフェノール類がナトリウムを含有して
いるからである。これはビスフェノール類の製造工程に
おいてガラスフィルター濾過をしていることから、濾過
時にガラスからナトリウムが溶出しビスフェノール類に
混入するためと推測される。このようなビスフェノール
を原料に用いた場合、樹脂中にナトリウムが残存する。
溶液重合では、通常、重合終了後の樹脂溶液を塩酸など
で中和・水洗などの処理を施していたが、樹脂溶液と塩
酸との接触時間も短く、ナトリウムの除去という観点で
は不十分であった。
【0044】樹脂中のナトリウムは、60℃以上の希塩
酸中で加熱処理することで除去できることがわかった。
加熱時間については、好ましくは30分以上、24時間
未満、より好ましくは1時間以上、12時間未満であ
る。処理時間が30分未満ではナトリウム除去が不十分
である。一方24時間以上では、分子量低下の懸念があ
る。加熱処理に用いる塩酸の濃度については、1N以下
の希塩酸であることが望ましい。濃塩酸を用いた場合に
は、やはり分子量低下の懸念がある。
【0045】本発明のポリマーには、その特性を損なわ
ない範囲で、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミ
ン系、チオエーテル系、燐系の各種抗酸化剤を添加する
ことができる。
【0046】また、本発明のポリマーは、有機溶媒に対
して高い溶解性を有しており、このような溶媒として
は、塩化メチレン、クロロホルム、1,1,2,2−テ
トラクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、テトラヒ
ドロフラン、1,4−ジオキサン、トルエン、キシレ
ン、γ−ブチロラクトン、ベンジルアルコール、イソホ
ロン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ヘキサフル
オロイソプロパノール等が挙げられる。さらに、本発明
のポリマーは非晶性であり、非晶性であるかどうかは、
公知の方法例えば示差走差熱量分析(DSC)や動的粘
弾性測定等により融点が存在しているかどうかを確認す
ればよい。
【0047】本発明の樹脂は、係る方法によって溶融成
形後の樹脂の色調が劇的に改善される。すなわち、厚み
3mmの樹脂板としたときの黄色度(ΔYI)として5
以下である。好ましくは、2.5以下、より好ましく
は、2.0以下である。この黄色度は、次式にて定義さ
れる。
【0048】 YI=100×(1.28X−1.06Z)/Y X、Y、Z:標準光Cにおける試料の三刺激値 ΔYI=YI2−YI1 ΔYI:黄色度 YI1:リファレンス値 YI2:試料の測定値 本発明の樹脂は、例えば、メガネレンズやコンタクトレ
ンズなどのレンズ用途、家電機器などの筐体用途、CD
ロムやDVDロムなどの記録媒体用基板用途、磁気フィ
ルムや位相差フィルムなどのフィルム用途、難燃剤用途
などに用いることができる。
【0049】
【実施例】本発明の具体的実施態様を以下に実施例をも
って述べるが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
【0050】ナトリウム含有量は以下の測定に依った。
理学電機製RIX−1000を使用した。クロム管球を
用いて管電圧50kV、管電流50mAで、検量線から
ナトリウム量を測定した。なお、重合して得られたポリ
マーは、プレス成形で30mmφ×3mm厚の円板状成
形品とし、30mmφのフォルダーを用いて測定を行っ
た。
【0051】黄色度(ΔYI)は以下の測定に依った。
【0052】樹脂試料をプレス成型によってφ30m
m、厚さ3mmの円盤状の樹脂プレートに成形する。つ
いで、この試料をデジタルカラーコンピュータ(スガ試
験機(株)社製:SM−7−CH)を用いて透過法によ
り3刺激値(X、Y、Z)を求め、式(6)によりYI
2を求める。また、空気から同様にX、Y、Zを求め、
同様にリファレンス値YI1を求め、式(7)によって
△YIを求める。
【0053】 YI=100×(1.28X−1.06Z)/Y (6) X、Y、Z:標準光Cにおける試料の三刺激値 ΔYI=YI2−YI1 (7) ΔYI:黄色度 YI1:リファレンス値(空気から測定) YI2:試料の測定値 数平均分子量は以下の測定に依った。
【0054】ゲルパーミュレーションクロマトグラフィ
ー(GPC:東ソー(株)社製 SC−8020)を用
いて測定した。測定条件はカラム(shodex GP
CK−806L 2本直結)を使用、カラム温度は35
℃、フローはクロロホルム1ml/分、検出器はUVを
使用した。試料注入量は0.2wt%溶液50μlとし
た。分子量の算定は予め作成したポリスチレンを用いた
検量線を使用した。 〔樹脂の重合1〕窒素雰囲気下、ジクロロメタン(10
L)中に1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン(4mol・ナトリウム含量は10ppm)、お
よびトリエチルアミン(8.8mol)を混合し、氷冷下
攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド
(3mol)のジクロロメタン(9L)溶液を60分間かけ
て滴下し、滴下終了後室温で120分間攪拌した。その
後、濃度0.571mol/Lのトリホスゲンのジクロ
ロメタン(583mL)溶液を30分かけて滴下し、滴下
終了後120分間攪拌した。
【0055】次にオイルバスを用いて溶液温度30℃で
120分間攪拌した。その後、12時間室温にて攪拌を
行った。
【0056】反応溶液に1N塩酸(10L)を加え5分攪
拌した。静置して上層の水層を酸性であることを確認し
た後除去した。さらに同様に0.1N塩酸で処理を2回
行い樹脂溶液を得た。70℃の温水(23L)を入れた
蓋部分に留出溶媒回収設備のついた内容積35Lのステ
ンレス製の容器に樹脂溶液を溶媒を留出させつつ20分
かけて容器内に添加した。添加終了後、容器内から樹脂
塊を回収した。
【0057】樹脂塊を粉砕、次いで乾燥することで樹脂
粗粉末を得た。ナトリウム含量は8.5ppm。数平均
分子量は82000。
【0058】実施例1 四フッ化エチレン樹脂コートしたステンレス容器中に樹
脂粗粉末50gと0.1N塩酸500mlを入れ、四フ
ッ化エチレン樹脂製の攪拌翼で攪拌しつつ70℃で6時
間加熱処理した。
【0059】冷却後、ポリエステル製の濾布を用いて濾
過をして樹脂粉末2を得た。ナトリウム含量は0.3p
pmであった。また、数平均分子量は82000であっ
た。
【0060】得られた樹脂粉末2を、樹脂のガラス転移
温度点以上である250℃に加熱した金型に投入しプレ
ス成形した。金型はφ30mmの円盤状のプレートが成
形可能なもの用いた。金型を閉じ、圧力2tにて加圧
後、金型を冷却した。金型を分割することによってφ3
0mm、厚さ3mmの円盤状の樹脂プレートを得た。
【0061】得られた樹脂プレートについてデジタルカ
ラーコンピュータを用いて黄色度を測定したところ、
1.1であった。さらに樹脂プレートを熱風オーブン中
で(タバイ製:PHH−200)60℃で2週間処理し
た後、再び黄色度を測定したところ1.6であった。
【0062】比較例1 実施例1と同様の手法で樹脂粗粉末の黄色度を測定した
ところ、熱処理前の黄色度が1.8、熱処理後の黄色度
は10.9であった。
【0063】以上の結果より、本発明で色調を改善でき
ることが明らかである。さらに耐熱性も向上しているこ
とがわかった。
【0064】また、実施例1で得た樹脂の成形品を互い
に直行する2面を、該2面が鏡面仕上げになるようにサ
ンドペーパーで研磨し、次いで、バフ研磨した。
【0065】この研磨した樹脂試料片を屈折計(カルニ
ュー光学工業(株)製:KPR−2)にて評価を行い、
d線(波長:587.6nm)屈折率(nd)、式(4)
より求められるアッベ数(νd)を測定したところ、屈折
率1.629、アッベ数27.2と高屈折率、低分散の
樹脂であることがわかった。
【0066】なお、アッベ数とは光学分散性を表す指標
であり、下記(7)式で定義される。
【0067】 アッベ数(νd)=(nd-1)/(nf-nc) (7) nd:d線(波長587.6nm)屈折率 nf:f線(波長656.3nm)屈折率 nc:c線(波長486.1nm)屈折率 実施例1で得た樹脂を用いて眼鏡レンズ用の樹脂成形品
を成形したところ、成形性もよく、また、歪みも少ない
極めて良好な成形品が得られた。
【0068】また、実施例1で得た樹脂を用いて延伸フ
ィルムを作製したところ、透明性、色調にも優れ、波長
分散特性も良好である位相差フィルムを作製できること
がわかった。
【0069】
【発明の効果】本発明により高屈折率、高アッベ数を有
し、かつ色調の改善された熱可塑性樹脂を提供でき、こ
の樹脂よりなるレンズは各種分野に用いることができ
る。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)で示されるホスホン酸
    残基、および下記一般式(2)で示される2価フェノー
    ル残基およびカーボネート残基を含み、かつホスホン酸
    残基とカーボネート残基のモル分率が式(3)を満足
    し、かつナトリウムの含有量が5ppm未満であること
    を特徴とするレンズ用樹脂。 一般式(1) 【化1】 一般式(2) 【化2】 [式(1)中Rは炭素数1〜20の炭化水素基、Xは酸
    素、硫黄あるいはセレンを表す。式(2)中R'は各々
    独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、
    炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、炭
    化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれる。p、qは
    p+q=0〜8の整数、Yは単結合、酸素原子、硫黄原
    子、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン
    基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アルキレン基、ハ
    ロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリデン基、カル
    ボニル基、スルホン基、脂肪族ホスフィンオキシド基、
    芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシラン基、ジア
    ルキルシラン基、フルオレン基、分岐鎖含有アルキリデ
    ン基、分岐鎖含有シクロアルキリデン基からなる群から
    選ばれる。] 1> (a)/[(a)+(b)]≧0.05 (3) [ここで、(a)はホスホン酸残基、(b)はカーボネート残
    基のモル数を示す。]
  2. 【請求項2】請求項1記載の一般式(2)が下記一般式
    (4)〜(7)のいずれかで表されることを特徴とする
    レンズ用樹脂。 一般式(4) 【化3】 一般式(5) 【化4】 一般式(6) 【化5】 一般式(7) 【化6】 [式(4)〜(7)中R'は各々独立に水素原子、炭素
    数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香
    族炭化水素基、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基か
    らなる群から選ばれる。p、qはp+q=0〜8の整
    数。]
  3. 【請求項3】前記の樹脂は、ホスホナイト残基を含有
    し、かつ前記ホスホナイト残基の含有比が前記ホスホン
    酸残基に対し等モル以下であることを特徴とする請求項
    1または2記載の樹脂。
JP2002078585A 2002-03-20 2002-03-20 レンズ用樹脂 Pending JP2003268111A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002078585A JP2003268111A (ja) 2002-03-20 2002-03-20 レンズ用樹脂

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002078585A JP2003268111A (ja) 2002-03-20 2002-03-20 レンズ用樹脂

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003268111A true JP2003268111A (ja) 2003-09-25

Family

ID=29206089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002078585A Pending JP2003268111A (ja) 2002-03-20 2002-03-20 レンズ用樹脂

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003268111A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003268113A (ja) * 2002-03-20 2003-09-25 Toray Ind Inc 樹脂およびその成型体
JP2006250993A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Dainippon Printing Co Ltd 光学補償素子
JP5055371B2 (ja) * 2007-08-27 2012-10-24 帝人化成株式会社 レンズおよびそれを用いた光学ユニット
JP2021084937A (ja) * 2019-11-26 2021-06-03 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形品

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003268113A (ja) * 2002-03-20 2003-09-25 Toray Ind Inc 樹脂およびその成型体
JP2006250993A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Dainippon Printing Co Ltd 光学補償素子
JP4551792B2 (ja) * 2005-03-08 2010-09-29 大日本印刷株式会社 光学補償素子
JP5055371B2 (ja) * 2007-08-27 2012-10-24 帝人化成株式会社 レンズおよびそれを用いた光学ユニット
JP2021084937A (ja) * 2019-11-26 2021-06-03 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形品
JP7334593B2 (ja) 2019-11-26 2023-08-29 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法及び成形品の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI823908B (zh) 聚酯樹脂或聚酯碳酸酯樹脂及使用該樹脂之光學構件
TW202237555A (zh) 單體組成物、聚碳酸酯樹脂之製造方法
JP4731681B2 (ja) ポリカーボネート樹脂、及びそれを含んで構成されるレンズ
JP2003268111A (ja) レンズ用樹脂
JP2008056718A (ja) 樹脂およびホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法
JP2003160660A (ja) ポリカーボネート樹脂共重合体およびプラスチックレンズ
KR100843416B1 (ko) 수지 조성물 및 그의 성형체
JP3932937B2 (ja) リン含有樹脂及びその製造方法
JP2003268109A (ja) リン含有樹脂及びその製造方法
JP2003279730A (ja) 位相差フィルム及び円偏光板
JP5066777B2 (ja) 樹脂および成型体
US7442757B2 (en) Resin, resin composition, method for manufacturing the same, and molded material including the same
JP3975793B2 (ja) 樹脂およびその成型体
JP4289014B2 (ja) 樹脂、およびその製造方法、並びにそれを用いた成形体
JP2002201262A (ja) ポリカーボネート樹脂、及びそれを含んで構成される光学部品
JPWO2004106413A1 (ja) 樹脂およびその成型体
JP2007122031A (ja) 樹脂、その樹脂からなる成形体、フィルム、光学レンズおよび位相差フィルム
JP3905634B2 (ja) ポリアリレート及びそのフィルム
JP4155068B2 (ja) 樹脂およびその製造方法、並びにそれを用いた成型体
JP2003279733A (ja) 位相差フィルム及び位相差板
JP4514080B2 (ja) ポリカーボネート樹脂組成物、及びそれを含んで構成される光学部品
JP2004250622A (ja) 樹脂組成物
JP2005041918A (ja) 樹脂、樹脂組成物、およびその製造方法、並びにそれを用いた成形体
JP2004285146A (ja) 樹脂組成物及び成形体
JP2005113126A (ja) 含リン系樹脂の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050225

A977 Report on retrieval

Effective date: 20060526

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20060613

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20061017

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02