JP2003121850A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
- Publication number
- JP2003121850A JP2003121850A JP2001318830A JP2001318830A JP2003121850A JP 2003121850 A JP2003121850 A JP 2003121850A JP 2001318830 A JP2001318830 A JP 2001318830A JP 2001318830 A JP2001318830 A JP 2001318830A JP 2003121850 A JP2003121850 A JP 2003121850A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- electrode
- electrodes
- pair
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134363—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Geometry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 信頼性のある配向膜を備えさせる。
【解決手段】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配
置される一対の電極が絶縁膜を介して配置されていると
ともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方
の電極をも被って配向膜が形成され、前記配向膜にはシ
ランカップリング材が配向膜固形分濃度に対して0.1
%以上2%以下混入されている。
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配
置される一対の電極が絶縁膜を介して配置されていると
ともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方
の電極をも被って配向膜が形成され、前記配向膜にはシ
ランカップリング材が配向膜固形分濃度に対して0.1
%以上2%以下混入されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、たとえば横電界方式と称される液晶表示装置に関す
る。
り、たとえば横電界方式と称される液晶表示装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】この種の液晶表示装置は、液晶を介して
対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶側の面の
画素領域に、互いに隣接配置される画素電極と対向電極
とが形成され、これら各電極の間に発生する電界のうち
基板の平行な成分によって液晶の分子を挙動させてい
る。
対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶側の面の
画素領域に、互いに隣接配置される画素電極と対向電極
とが形成され、これら各電極の間に発生する電界のうち
基板の平行な成分によって液晶の分子を挙動させてい
る。
【0003】そして、この横電界方式をアクティブ・マ
トリクス型に適用させたものとしては、一方の基板の液
晶側の面にそのx方向に延在されて並設された多数のゲ
ート信号線とy方向に延在されて並設された多数のドレ
イン信号線とで囲まれた各領域を画素領域とし、これら
各画素領域にゲート信号線からの走査信号によって作動
される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介
してドレイン信号線からの映像信号が供給される前記画
素電極と、前記映像信号に対して基準となる信号が供給
される前記対向電極とを備えて構成されている。
トリクス型に適用させたものとしては、一方の基板の液
晶側の面にそのx方向に延在されて並設された多数のゲ
ート信号線とy方向に延在されて並設された多数のドレ
イン信号線とで囲まれた各領域を画素領域とし、これら
各画素領域にゲート信号線からの走査信号によって作動
される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介
してドレイン信号線からの映像信号が供給される前記画
素電極と、前記映像信号に対して基準となる信号が供給
される前記対向電極とを備えて構成されている。
【0004】また、液晶を挙動させる電界は微弱である
ことから、画素電極と対向電極はそれぞれ帯状に形成さ
れ、少なくともその一方が複数個からなり、それらが交
互に配置された櫛歯状のパターンとなっている。
ことから、画素電極と対向電極はそれぞれ帯状に形成さ
れ、少なくともその一方が複数個からなり、それらが交
互に配置された櫛歯状のパターンとなっている。
【0005】そして、画素電極と対向電極は、薄膜トラ
ンジスタを被って形成されるたとえば有機材料層からな
る保護膜を介した異なる層で形成されているものが知ら
れている。
ンジスタを被って形成されるたとえば有機材料層からな
る保護膜を介した異なる層で形成されているものが知ら
れている。
【0006】このため、液晶の分子の初期配向を決定す
る配向膜は、該保護膜である有機材料層と前記画素電極
と対向電極のうちの一方の電極を被って形成されること
になる。
る配向膜は、該保護膜である有機材料層と前記画素電極
と対向電極のうちの一方の電極を被って形成されること
になる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような構
成からなる液晶表示装置において、液晶と直接に接触し
て形成される配向膜の異変により次の各現象が生じるこ
とが判明した。
成からなる液晶表示装置において、液晶と直接に接触し
て形成される配向膜の異変により次の各現象が生じるこ
とが判明した。
【0008】すなわち、液晶表示装置に振動衝撃、特に
高周波での振動が加わった場合、配向膜に剥がれが発生
し、表示面の全面で輝点が発生する。このような液晶表
示装置を分解調査した結果、図9に示すように、特に電
極上の配向膜に剥がれが生じていることが判明した(以
下、このような現象をモード1と称する)。
高周波での振動が加わった場合、配向膜に剥がれが発生
し、表示面の全面で輝点が発生する。このような液晶表
示装置を分解調査した結果、図9に示すように、特に電
極上の配向膜に剥がれが生じていることが判明した(以
下、このような現象をモード1と称する)。
【0009】また、無振動状態で液晶表示装置を駆動し
続けることによっても輝点が発生する。このような液晶
表示装置を分解調査した結果、図10に示すように、保
護膜上の配向膜に剥がれが生じていることが判明した
(以下、このような現象をモード2と称する)。
続けることによっても輝点が発生する。このような液晶
表示装置を分解調査した結果、図10に示すように、保
護膜上の配向膜に剥がれが生じていることが判明した
(以下、このような現象をモード2と称する)。
【0010】また、液晶表示装置の周囲温度を低温と高
温で繰り返し変化させる、いわゆる温度サイクル試験に
おいても徐々に輝点が発生する。このような液晶表示装
置を分解調査した結果、図11(a)に示すように、電
極上の配向膜が該電極に対して遊離してしまうことが判
明した(以下、このような現象をモード3と称する)。
なお、図11(b)は図11(a)のb−b線における
断面図である。
温で繰り返し変化させる、いわゆる温度サイクル試験に
おいても徐々に輝点が発生する。このような液晶表示装
置を分解調査した結果、図11(a)に示すように、電
極上の配向膜が該電極に対して遊離してしまうことが判
明した(以下、このような現象をモード3と称する)。
なお、図11(b)は図11(a)のb−b線における
断面図である。
【0011】また、上記図9、図10、図11(a)の
各図は、それぞれ後述する図3と対応する図面となって
いる。
各図は、それぞれ後述する図3と対応する図面となって
いる。
【0012】本発明は、このような事情に基づいてなさ
れたもので、その目的は、信頼性のある配向膜を備える
液晶表示装置を提供することにある。
れたもので、その目的は、信頼性のある配向膜を備える
液晶表示装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0014】手段1.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、前記配向膜にはシラン
カップリング材が配向膜固形分濃度に対して0.1%以
上2%以下混入されていることを特徴とするものであ
る。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、前記配向膜にはシラン
カップリング材が配向膜固形分濃度に対して0.1%以
上2%以下混入されていることを特徴とするものであ
る。
【0015】手段2.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、該配向膜は、その形成
の際の焼成において、その温度が250℃以下に抑えら
れて形成されていることを特徴とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、該配向膜は、その形成
の際の焼成において、その温度が250℃以下に抑えら
れて形成されていることを特徴とするものである。
【0016】手段3.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、前記一方の電極はその
延在方向に沿って複数の屈曲部を有したジグザグ状のパ
ターンをなすとともに、他方の電極は前記電極と平行に
配置されていることを特徴とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、前記一方の電極はその
延在方向に沿って複数の屈曲部を有したジグザグ状のパ
ターンをなすとともに、他方の電極は前記電極と平行に
配置されていることを特徴とするものである。
【0017】手段4.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、該配向膜は、その膜厚
が60nm以上、250nm以下に設定されていること
を特徴とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、該配向膜は、その膜厚
が60nm以上、250nm以下に設定されていること
を特徴とするものである。
【0018】手段5.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、該配向膜は、そのイミ
ド化率が95%以下に設定されていることを特徴とする
ものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、該配向膜は、そのイミ
ド化率が95%以下に設定されていることを特徴とする
ものである。
【0019】手段6.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が保護膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、前記保護膜は有機材料
層によってあるいは無機材料層および有機材料層の順次
積層体によって構成されているとともに、保護膜上の前
記配向膜の膜厚が前記一方の電極上の前記配向膜の膜厚
よりも大きく構成されていることを特徴とするものであ
る。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が保護膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、前記保護膜は有機材料
層によってあるいは無機材料層および有機材料層の順次
積層体によって構成されているとともに、保護膜上の前
記配向膜の膜厚が前記一方の電極上の前記配向膜の膜厚
よりも大きく構成されていることを特徴とするものであ
る。
【0020】手段7.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が保護膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、該配向膜は複数に分割
された各領域にて膜厚が異なって構成されていることを
特徴とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が保護膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、該配向膜は複数に分割
された各領域にて膜厚が異なって構成されていることを
特徴とするものである。
【0021】手段8.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、前記一方の電極の側壁
面は該一方の電極の底面から上面にかけて末広がり状と
なるテーパが形成されていることを特徴とするものであ
る。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が絶縁膜を介して配置されているととも
に、該絶縁膜の上面に前記一対の電極のうちの一方の電
極をも被って配向膜が形成され、前記一方の電極の側壁
面は該一方の電極の底面から上面にかけて末広がり状と
なるテーパが形成されていることを特徴とするものであ
る。
【0022】手段9.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が有機材料層からあるいは無機材料層と有
機材料層との順次積層体からなる保護膜を介して配置さ
れているとともに、該有機材料層の上面に前記一対の電
極のうちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、前
記一対の電極のそれぞれが複数の電極からなる電極群と
して構成され、前記一方の電極の占める分割された各領
域を4個以上とし、前記有機材料層の露出部の占める分
割された各領域を3個以上に設定されていることを特徴
とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、隣接して配置され
る一対の電極が有機材料層からあるいは無機材料層と有
機材料層との順次積層体からなる保護膜を介して配置さ
れているとともに、該有機材料層の上面に前記一対の電
極のうちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、前
記一対の電極のそれぞれが複数の電極からなる電極群と
して構成され、前記一方の電極の占める分割された各領
域を4個以上とし、前記有機材料層の露出部の占める分
割された各領域を3個以上に設定されていることを特徴
とするものである。
【0023】手段10.本発明による液晶表示装置は、
たとえば、手段1ないし9のうちいずれかの構成を前提
にして、各画素領域は、一対のゲート信号線と一対のド
レイン信号線とで囲まれて構成され、その領域内にゲー
ト信号線からの走査信号によって作動される薄膜トラン
ジスタと、この薄膜トランジスタを介してドレイン信号
線からの映像信号が供給される画素電極と、映像信号に
対して基準となる信号が供給される対向電極とを備え、
該画素電極と該対向電極とを前記一対の電極とすること
を特徴とするものである。
たとえば、手段1ないし9のうちいずれかの構成を前提
にして、各画素領域は、一対のゲート信号線と一対のド
レイン信号線とで囲まれて構成され、その領域内にゲー
ト信号線からの走査信号によって作動される薄膜トラン
ジスタと、この薄膜トランジスタを介してドレイン信号
線からの映像信号が供給される画素電極と、映像信号に
対して基準となる信号が供給される対向電極とを備え、
該画素電極と該対向電極とを前記一対の電極とすること
を特徴とするものである。
【0024】手段11.本発明による液晶表示装置は、
たとえば、手段10の構成を前提として、薄膜トランジ
スタをも被って形成される有機材料層によってあるいは
無機材料層と有機材料層との積層体によって構成される
保護膜の上面に複数の電極群からなる対向電極が形成さ
れ、これら各対向電極のうち前記保護膜を介してその中
心軸がドレイン信号線の中心軸と一致づけられて重畳さ
れ該ドレイン信号線の幅よりも大きい幅で形成されてい
る対向電極を有することを特徴とするものである。
たとえば、手段10の構成を前提として、薄膜トランジ
スタをも被って形成される有機材料層によってあるいは
無機材料層と有機材料層との積層体によって構成される
保護膜の上面に複数の電極群からなる対向電極が形成さ
れ、これら各対向電極のうち前記保護膜を介してその中
心軸がドレイン信号線の中心軸と一致づけられて重畳さ
れ該ドレイン信号線の幅よりも大きい幅で形成されてい
る対向電極を有することを特徴とするものである。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の実施例を図面を用いて説明をする。
の実施例を図面を用いて説明をする。
【0026】実施例1.
《等価回路》図2は、本発明による液晶表示装置の一実
施例を示す等価回路図である。図2は等価回路図である
が、実際の幾何学的配置に対応させて描いている。
施例を示す等価回路図である。図2は等価回路図である
が、実際の幾何学的配置に対応させて描いている。
【0027】まず、液晶を介して互いに対向配置される
一対の透明基板SUB1、SUB2があり、該液晶は一
方の透明基板SUB1に対する他方の透明基板SUB2
の固定を兼ねるシール材SLによって封入されている。
一対の透明基板SUB1、SUB2があり、該液晶は一
方の透明基板SUB1に対する他方の透明基板SUB2
の固定を兼ねるシール材SLによって封入されている。
【0028】シール材SLによって囲まれた前記一方の
透明基板SUB1の液晶側の面には、そのx方向に延在
しy方向に並設されたゲート信号線GLとy方向に延在
しx方向に並設されたドレイン信号線DLとが形成され
ている。
透明基板SUB1の液晶側の面には、そのx方向に延在
しy方向に並設されたゲート信号線GLとy方向に延在
しx方向に並設されたドレイン信号線DLとが形成され
ている。
【0029】各ゲート信号線GLと各ドレイン信号線D
Lとで囲まれた領域は画素領域を構成するとともに、こ
れら各画素領域のマトリクス状の集合体は液晶表示部A
Rを構成するようになっている。
Lとで囲まれた領域は画素領域を構成するとともに、こ
れら各画素領域のマトリクス状の集合体は液晶表示部A
Rを構成するようになっている。
【0030】また、x方向に並設される各画素領域のそ
れぞれにはそれら各画素領域内に走行された共通の対向
電圧信号線CLが形成されている。この対向電圧信号線
CLは各画素領域の後述する対向電極CTに映像信号に
対して基準となる電圧を供給するための信号線となるも
のである。
れぞれにはそれら各画素領域内に走行された共通の対向
電圧信号線CLが形成されている。この対向電圧信号線
CLは各画素領域の後述する対向電極CTに映像信号に
対して基準となる電圧を供給するための信号線となるも
のである。
【0031】各画素領域には、その片側のゲート信号線
GLからの走査信号によって作動される薄膜トランジス
タTFTと、この薄膜トランジスタTFTを介して片側
のドレイン信号線DLからの映像信号が供給される画素
電極PXが形成されている。
GLからの走査信号によって作動される薄膜トランジス
タTFTと、この薄膜トランジスタTFTを介して片側
のドレイン信号線DLからの映像信号が供給される画素
電極PXが形成されている。
【0032】この画素電極PXは、前記対向電圧信号線
CLと一体的に形成された対向電極CTとの間に電界を
発生させ、この電界によって液晶の光透過率を制御させ
るようになっている。
CLと一体的に形成された対向電極CTとの間に電界を
発生させ、この電界によって液晶の光透過率を制御させ
るようになっている。
【0033】前記ゲート信号線GLのそれぞれの一端は
前記シール材SLを超えて延在され、その延在端は垂直
走査駆動回路Vの出力端子が接続される端子を構成する
ようになっている。また、前記垂直走査駆動回路Vの入
力端子は液晶表示パネルの外部に配置されたプリント基
板からの信号が入力されるようになっている。
前記シール材SLを超えて延在され、その延在端は垂直
走査駆動回路Vの出力端子が接続される端子を構成する
ようになっている。また、前記垂直走査駆動回路Vの入
力端子は液晶表示パネルの外部に配置されたプリント基
板からの信号が入力されるようになっている。
【0034】垂直走査駆動回路Vは複数個の半導体装置
からなり、互いに隣接する複数のゲート信号線どうしが
グループ化され、これら各グループ毎に一個の半導体装
置があてがわれるようになっている。
からなり、互いに隣接する複数のゲート信号線どうしが
グループ化され、これら各グループ毎に一個の半導体装
置があてがわれるようになっている。
【0035】同様に、前記ドレイン信号線DLのそれぞ
れの一端は前記シール材SLを超えて延在され、その延
在端は映像信号駆動回路Heの出力端子が接続される端
子を構成するようになっている。また、前記映像信号駆
動回路Heの入力端子は液晶表示パネルの外部に配置さ
れたプリント基板からの信号が入力されるようになって
いる。
れの一端は前記シール材SLを超えて延在され、その延
在端は映像信号駆動回路Heの出力端子が接続される端
子を構成するようになっている。また、前記映像信号駆
動回路Heの入力端子は液晶表示パネルの外部に配置さ
れたプリント基板からの信号が入力されるようになって
いる。
【0036】この映像信号駆動回路Heも複数個の半導
体装置からなり、互いに隣接する複数のドレイン信号線
どうしがグループ化され、これら各グループ毎に一個の
半導体装置があてがわれるようになっている。
体装置からなり、互いに隣接する複数のドレイン信号線
どうしがグループ化され、これら各グループ毎に一個の
半導体装置があてがわれるようになっている。
【0037】また、x方向に併設された各画素領域に共
通な前記対向電圧信号線CLは図中右側の端部で共通に
接続され、その接続線はシール材SLを超えて延在さ
れ、その延在端において端子CLTを構成している。こ
の端子CLTからは映像信号に対して基準となる電圧が
供給されるようになっている。
通な前記対向電圧信号線CLは図中右側の端部で共通に
接続され、その接続線はシール材SLを超えて延在さ
れ、その延在端において端子CLTを構成している。こ
の端子CLTからは映像信号に対して基準となる電圧が
供給されるようになっている。
【0038】前記各ゲート信号線GLは、垂直走査回路
Vからの走査信号によって、その一つが順次選択される
ようになっている。
Vからの走査信号によって、その一つが順次選択される
ようになっている。
【0039】また、前記各ドレイン信号線DLのそれぞ
れには、映像信号駆動回路Heによって、前記ゲート信
号線GLの選択のタイミングに合わせて映像信号が供給
されるようになっている。
れには、映像信号駆動回路Heによって、前記ゲート信
号線GLの選択のタイミングに合わせて映像信号が供給
されるようになっている。
【0040】《画素の構成》図3は上記画素領域の一実
施例を示す平面図である。また、図1は図3のI−I線に
おける断面図を、図4は図3のIV−IV線における断面図
を示している。
施例を示す平面図である。また、図1は図3のI−I線に
おける断面図を、図4は図3のIV−IV線における断面図
を示している。
【0041】透明基板SUB1の液晶側の面に、まず、
x方向に延在しy方向に並設される一対のゲート信号線
GLが形成されている。
x方向に延在しy方向に並設される一対のゲート信号線
GLが形成されている。
【0042】これらゲート信号線GLは後述の一対のド
レイン信号線DLとともに矩形状の領域を囲むようにな
っており、この領域を画素領域として構成するようにな
っている。
レイン信号線DLとともに矩形状の領域を囲むようにな
っており、この領域を画素領域として構成するようにな
っている。
【0043】このようにゲート信号線GLが形成された
透明基板SUB1の表面にはたとえばSiNからなる絶
縁膜GI(図1、図4参照)が該ゲート信号線GLをも
被って形成されている。
透明基板SUB1の表面にはたとえばSiNからなる絶
縁膜GI(図1、図4参照)が該ゲート信号線GLをも
被って形成されている。
【0044】この絶縁膜GIは、後述のドレイン信号線
DLの形成領域においては前記ゲート信号線GLに対す
る層間絶縁膜としての機能を、後述の薄膜トランジスタ
TFTの形成領域においてはそのゲート絶縁膜としての
機能を有するようになっている。
DLの形成領域においては前記ゲート信号線GLに対す
る層間絶縁膜としての機能を、後述の薄膜トランジスタ
TFTの形成領域においてはそのゲート絶縁膜としての
機能を有するようになっている。
【0045】そして、この絶縁膜GIの表面であって、
前記ゲート信号線GLの一部に重畳するようにしてたと
えばアモルファスSiからなる半導体層ASが形成され
ている。
前記ゲート信号線GLの一部に重畳するようにしてたと
えばアモルファスSiからなる半導体層ASが形成され
ている。
【0046】この半導体層ASは、薄膜トランジスタT
FTのそれであって、その上面にドレイン電極SD1お
よびソース電極SD2を形成することにより、ゲート信
号線の一部をゲート電極とする逆スタガ構造のMIS型
トランジスタを構成することができる。
FTのそれであって、その上面にドレイン電極SD1お
よびソース電極SD2を形成することにより、ゲート信
号線の一部をゲート電極とする逆スタガ構造のMIS型
トランジスタを構成することができる。
【0047】ここで、前記ドイレン電極SD1およびソ
ース電極SD2はドレイン信号線DLの形成の際に同時
に形成されるようになっている。
ース電極SD2はドレイン信号線DLの形成の際に同時
に形成されるようになっている。
【0048】すなわち、y方向に延在されx方向に並設
されるドレイン信号線DLが形成され、その一部が前記
半導体層ASの上面にまで延在されてドレイン電極SD
1が形成され、また、このドレイン電極SD1と薄膜ト
ランジスタTFTのチャネル長分だけ離間されてソース
電極SD2が形成されている。
されるドレイン信号線DLが形成され、その一部が前記
半導体層ASの上面にまで延在されてドレイン電極SD
1が形成され、また、このドレイン電極SD1と薄膜ト
ランジスタTFTのチャネル長分だけ離間されてソース
電極SD2が形成されている。
【0049】また、このソース電極SD2は画素領域内
に形成される画素電極PXと一体に形成されている。
に形成される画素電極PXと一体に形成されている。
【0050】すなわち、画素電極PXは画素領域内をそ
のy方向に延在しx方向に並設された複数(図では2
本)の電極群から構成されている。このうちの一つの画
素電極PXの一方の端部は前記ソース電極SD2を兼
ね、他方の端部では他の画素電極PXの対応する個所に
て互いに電気的接続が図れるようになっている。
のy方向に延在しx方向に並設された複数(図では2
本)の電極群から構成されている。このうちの一つの画
素電極PXの一方の端部は前記ソース電極SD2を兼
ね、他方の端部では他の画素電極PXの対応する個所に
て互いに電気的接続が図れるようになっている。
【0051】なお図示していないが、半導体層ASとド
レイン電極SD1およびソース電極SD2との界面には
高濃度の不純物がドープされた薄い層が形成され、この
層はコンタクト層として機能するようになっている。
レイン電極SD1およびソース電極SD2との界面には
高濃度の不純物がドープされた薄い層が形成され、この
層はコンタクト層として機能するようになっている。
【0052】このコンタクト層は、たとえば半導体層S
Dの形成時に、その表面にすでに高濃度の不純物層が形
成されており、その上面に形成したドレイン電極SD1
およびソース電極SD2のパターンをマスクとしてそれ
から露出された前記不純物層をエッチングすることによ
って形成することができる。
Dの形成時に、その表面にすでに高濃度の不純物層が形
成されており、その上面に形成したドレイン電極SD1
およびソース電極SD2のパターンをマスクとしてそれ
から露出された前記不純物層をエッチングすることによ
って形成することができる。
【0053】このように薄膜トランジスタTFT、ドイ
レン信号線DL、ドレイン電極SD1、ソース電極SD
2、および画素電極PXが形成された透明基板SUB1
の表面には保護膜PSV(図1、図4参照)が形成され
ている。この保護膜PSVは前記薄膜トランジスタTF
Tの液晶との直接の接触を回避する膜で、該薄膜トラン
ジスタTFTの特性劣化を防止せんとするようになって
いる。
レン信号線DL、ドレイン電極SD1、ソース電極SD
2、および画素電極PXが形成された透明基板SUB1
の表面には保護膜PSV(図1、図4参照)が形成され
ている。この保護膜PSVは前記薄膜トランジスタTF
Tの液晶との直接の接触を回避する膜で、該薄膜トラン
ジスタTFTの特性劣化を防止せんとするようになって
いる。
【0054】なお、この保護膜PSVは、たとえばSi
Nのような無機材料層からなる保護膜PSV1と樹脂等
の有機材料層からなる保護膜PSV2の順次積層体から
構成されている。このように保護膜PSVとして少なく
とも有機材料層を用いているのは保護膜自体の誘電率を
低減させることにある。
Nのような無機材料層からなる保護膜PSV1と樹脂等
の有機材料層からなる保護膜PSV2の順次積層体から
構成されている。このように保護膜PSVとして少なく
とも有機材料層を用いているのは保護膜自体の誘電率を
低減させることにある。
【0055】なお、この保護膜PSVとしては上述した
ような積層体に限定されることはなく、樹脂等の有機材
料層のみから構成されていてもよい。
ような積層体に限定されることはなく、樹脂等の有機材
料層のみから構成されていてもよい。
【0056】保護膜PSVの上面には対向電極CTが形
成されている。この対向電極CTは前述の画素電極PX
と同様にy方向に延在されx方向に並設された複数(図
では3本)の電極群から構成され、かつ、それら各電極
は、平面的に観た場合、前記画素電極PXの間に位置付け
られるようになっている。
成されている。この対向電極CTは前述の画素電極PX
と同様にy方向に延在されx方向に並設された複数(図
では3本)の電極群から構成され、かつ、それら各電極
は、平面的に観た場合、前記画素電極PXの間に位置付け
られるようになっている。
【0057】すなわち、対向電極CTと画素電極PX
は、一方の側のドレイン信号線から他方の側のドレイン
信号線にかけて、対向電極、画素電極、対向電極、画素
電極、……、対向電極の順にそれぞれ等間隔に配置され
ている。
は、一方の側のドレイン信号線から他方の側のドレイン
信号線にかけて、対向電極、画素電極、対向電極、画素
電極、……、対向電極の順にそれぞれ等間隔に配置され
ている。
【0058】ここで、画素領域の両側に位置づけられる
対向電極CTは、その一部がドレイン信号線DLに重畳
されて形成されているとともに、隣接する画素領域の対
応する対向電極CTと共通に形成されている。
対向電極CTは、その一部がドレイン信号線DLに重畳
されて形成されているとともに、隣接する画素領域の対
応する対向電極CTと共通に形成されている。
【0059】換言すれば、ドレイン信号線DL上には対
向電極CTがその中心軸をほぼ一致づけて重畳され、該
対向電極CTの幅はドレイン信号線DLのそれよりも大
きく形成されている。ドレイン信号線DLに対して左側
の対向電極CTは左側の画素領域の各対向電極CTの一
つを構成し、右側の対向電極CTは右側の画素領域の各
対向電極CTの一つを構成するようになっている。
向電極CTがその中心軸をほぼ一致づけて重畳され、該
対向電極CTの幅はドレイン信号線DLのそれよりも大
きく形成されている。ドレイン信号線DLに対して左側
の対向電極CTは左側の画素領域の各対向電極CTの一
つを構成し、右側の対向電極CTは右側の画素領域の各
対向電極CTの一つを構成するようになっている。
【0060】このようにドレイン信号線DLの上方にて
該ドレイン信号線DLよりも幅の広い対向電極CTを形
成することにより、該ドレイン信号線DLからの電気力
線が該対向電極CTに終端し画素電極PXに終端するこ
とを回避できるという効果を奏する。ドレイン信号線D
Lからの電気力線が画素電極PXに終端した場合、それ
がノイズとなってしまうからである。
該ドレイン信号線DLよりも幅の広い対向電極CTを形
成することにより、該ドレイン信号線DLからの電気力
線が該対向電極CTに終端し画素電極PXに終端するこ
とを回避できるという効果を奏する。ドレイン信号線D
Lからの電気力線が画素電極PXに終端した場合、それ
がノイズとなってしまうからである。
【0061】電極群からなる各対向電極CTは、ゲート
信号線GLを充分に被って形成される同一の材料からな
る対向電圧信号線CLと一体的に形成され、この対向電
圧信号線CLを介して基準電圧が供給されるようになっ
ている。
信号線GLを充分に被って形成される同一の材料からな
る対向電圧信号線CLと一体的に形成され、この対向電
圧信号線CLを介して基準電圧が供給されるようになっ
ている。
【0062】ゲート信号線GLを充分に被って形成され
る対向電圧信号線CLは、そのゲート信号線GLからは
み出した部分において、その下層に前記各画素電極PX
の接続部が位置づけられ、これにより、画素電極PXと
対向電圧信号線CLとの間に保護膜PSVを誘電体膜と
する容量素子Cstgが形成されている。
る対向電圧信号線CLは、そのゲート信号線GLからは
み出した部分において、その下層に前記各画素電極PX
の接続部が位置づけられ、これにより、画素電極PXと
対向電圧信号線CLとの間に保護膜PSVを誘電体膜と
する容量素子Cstgが形成されている。
【0063】この容量素子Cstgは、たとえば画素電
極PXに供給された映像信号を比較的長く蓄積させる等
の機能をもたせるようになっている。
極PXに供給された映像信号を比較的長く蓄積させる等
の機能をもたせるようになっている。
【0064】そして、このように対向電極CTが形成さ
れた透明基板SUB1の上面には該対向電極CTをも被
って配向膜ORI1(図1、図4参照)が形成されてい
る。この配向膜ORI1は液晶と直接に当接する膜で、
その表面に形成されたラビングによって該液晶の分子の
初期配向方向を決定づけるようになっている。
れた透明基板SUB1の上面には該対向電極CTをも被
って配向膜ORI1(図1、図4参照)が形成されてい
る。この配向膜ORI1は液晶と直接に当接する膜で、
その表面に形成されたラビングによって該液晶の分子の
初期配向方向を決定づけるようになっている。
【0065】この配向膜ORI1にはシランカップリン
グ材が混入されており、また、このシランカップリング
材は配向膜の固形分濃度に対して0.1%以上2%以下
の割合で混入されている。
グ材が混入されており、また、このシランカップリング
材は配向膜の固形分濃度に対して0.1%以上2%以下
の割合で混入されている。
【0066】このようにシランカップリング材が混入さ
れた配向膜ORI1は対向電極CTとの間の付着力が強
化され、しかも一画素当たり該対向電極CTの形成され
ている面積が比較的大きいことから、該配向膜ORI1
の剥がれを回避できるようになり、上述したモード1の
現象を発生させるのを防止することができる。
れた配向膜ORI1は対向電極CTとの間の付着力が強
化され、しかも一画素当たり該対向電極CTの形成され
ている面積が比較的大きいことから、該配向膜ORI1
の剥がれを回避できるようになり、上述したモード1の
現象を発生させるのを防止することができる。
【0067】モード1の現象は、それが初期状態の場合
は、配向膜ORI1にラビングがされているために配向
効果は零でなく、このため画素電極PXと対向電極CT
との間に電界が生じていない際に黒表示されるいわゆる
ノーマリブラックモードの場合、その黒表示は正常に観
察される。しかし、通電を続けると、この配向膜ORI
1が無い領域での配向が液晶分子の動きに影響されて崩
れていく。
は、配向膜ORI1にラビングがされているために配向
効果は零でなく、このため画素電極PXと対向電極CT
との間に電界が生じていない際に黒表示されるいわゆる
ノーマリブラックモードの場合、その黒表示は正常に観
察される。しかし、通電を続けると、この配向膜ORI
1が無い領域での配向が液晶分子の動きに影響されて崩
れていく。
【0068】ここで、混入されるシランカップリング材
を0.1%以上2%以下としたのは、0.1%よりも小
さいと対向電極CTとの付着力が充分でなく、2%より
も大きいと残像が目視できる程度に発生してしまうから
である。
を0.1%以上2%以下としたのは、0.1%よりも小
さいと対向電極CTとの付着力が充分でなく、2%より
も大きいと残像が目視できる程度に発生してしまうから
である。
【0069】なお、この実施例は、これ以降に説明する
他の各実施例にも適用できる。
他の各実施例にも適用できる。
【0070】実施例2.実施例1で示した配向膜ORI
はその材料中にシランカップリング材を混入させたもの
である。しかし、このような添加物を必要とすることな
く、該配向膜ORI1の形成の際の焼成において、その
焼成温度を250℃以下に抑えることにより同様の効果
が得られた。
はその材料中にシランカップリング材を混入させたもの
である。しかし、このような添加物を必要とすることな
く、該配向膜ORI1の形成の際の焼成において、その
焼成温度を250℃以下に抑えることにより同様の効果
が得られた。
【0071】従来、配向膜ORI1の形成の際の焼成温
度は250℃以上で行っており、その熱が対向電極CT
に蓄積され、該配向膜ORI1の対向電極CTに対する
付着力を劣化させるものと考えられる。
度は250℃以上で行っており、その熱が対向電極CT
に蓄積され、該配向膜ORI1の対向電極CTに対する
付着力を劣化させるものと考えられる。
【0072】このため、該配向膜ORI1のラビング処
理時に、対向電極CT上の配向膜ORI1のみが剥がれ
てしまい、上述したモード1の現象が発生してしまうこ
とが判明した。
理時に、対向電極CT上の配向膜ORI1のみが剥がれ
てしまい、上述したモード1の現象が発生してしまうこ
とが判明した。
【0073】このことから、配向膜ORI1の形成の際
の焼成温度を250℃以下とし、該配向膜ORI1の対
向電極CTに対する付着力の劣化を回避させている。
の焼成温度を250℃以下とし、該配向膜ORI1の対
向電極CTに対する付着力の劣化を回避させている。
【0074】なお、この実施例は、上述した実施例およ
びこれ以降に説明する他の各実施例にも適用できる。
びこれ以降に説明する他の各実施例にも適用できる。
【0075】実施例3.図5は本発明による液晶表示装
置の他の実施例を示す平面図で、図3と対応した図とな
っている。
置の他の実施例を示す平面図で、図3と対応した図とな
っている。
【0076】図1の場合と比較して異なる構成は対向電
極CTのパターン、および該対向電極CTのパターンに
対応させて変更した画素電極PXのパターンにある。
極CTのパターン、および該対向電極CTのパターンに
対応させて変更した画素電極PXのパターンにある。
【0077】各対向電極CTはその延在方向に複数の屈
曲部を有するジグザグ状に形成され、各画素電極PXも
隣接して配置される対向電極CTと平行になるようにジ
グザグ状に形成している。
曲部を有するジグザグ状に形成され、各画素電極PXも
隣接して配置される対向電極CTと平行になるようにジ
グザグ状に形成している。
【0078】このように構成された液晶表示装置は、対
向電極CT上に該対向電極CTをも被って形成される配
向膜ORI1において、該対向電極CT上の配向膜OR
I1のみに剥がれが生じてもその剥がれは屈曲部の個所
までで収まるようになり、被害の拡大を抑えることがで
きる。
向電極CT上に該対向電極CTをも被って形成される配
向膜ORI1において、該対向電極CT上の配向膜OR
I1のみに剥がれが生じてもその剥がれは屈曲部の個所
までで収まるようになり、被害の拡大を抑えることがで
きる。
【0079】なお、図5は、ドレイン信号線DLも画素
電極PXのパターンに合わせてジグザグ状としているも
のであるが、直線状にしてもよいことはいうまでもな
い。
電極PXのパターンに合わせてジグザグ状としているも
のであるが、直線状にしてもよいことはいうまでもな
い。
【0080】なお、この実施例は、上述した各実施例お
よびこれ以降に説明する他の各実施例にも適用できるこ
とはいうまでもない。
よびこれ以降に説明する他の各実施例にも適用できるこ
とはいうまでもない。
【0081】実施例4.この実施例では、上述した各実
施例において、配向膜ORI1の膜厚を60nm以上、
250nm以下に設定していることにある。
施例において、配向膜ORI1の膜厚を60nm以上、
250nm以下に設定していることにある。
【0082】このようにして形成された配向膜ORI1
は対向電極CT上で剥がれが生じないことが確かめられ
た。
は対向電極CT上で剥がれが生じないことが確かめられ
た。
【0083】なお、配向膜ORI1の膜厚を60nmよ
りも小さくした場合剥がれが生じ、250nmよりも大
きくした場合上述したモード3の現象が発生することが
確かめられた。
りも小さくした場合剥がれが生じ、250nmよりも大
きくした場合上述したモード3の現象が発生することが
確かめられた。
【0084】なお、この実施例は、上述した各実施例お
よびこれ以降に説明する他の各実施例にも適用できるこ
とはいうまでもない。
よびこれ以降に説明する他の各実施例にも適用できるこ
とはいうまでもない。
【0085】実施例5.この実施例では、配向膜ORI
1のイミド化率を95%以下としていることにある。
1のイミド化率を95%以下としていることにある。
【0086】このように構成された配向膜ORI1は、
完全にイミド化した場合と比較すると配向膜自体を柔軟
性があるように形成でき、振動衝撃に対して耐久性を有
するようになる。
完全にイミド化した場合と比較すると配向膜自体を柔軟
性があるように形成でき、振動衝撃に対して耐久性を有
するようになる。
【0087】このため、前記モード2の現象の発生を抑
制することができる。このモード2の現象は有機材料層
である保護膜PSV上から配向膜ORI1が剥がれて消
失する現象であり、初期状態では発生せず、主に振動、
衝撃が加わった場合に発生する。発明者等の評価結果で
は、発生した輝点の大半がこのモードであった。
制することができる。このモード2の現象は有機材料層
である保護膜PSV上から配向膜ORI1が剥がれて消
失する現象であり、初期状態では発生せず、主に振動、
衝撃が加わった場合に発生する。発明者等の評価結果で
は、発生した輝点の大半がこのモードであった。
【0088】すなわち、このモードは初期状態で存在し
た配向膜ORI1が、振動、衝撃を印加した後に消失す
ることが特徴的な現象となる。
た配向膜ORI1が、振動、衝撃を印加した後に消失す
ることが特徴的な現象となる。
【0089】この不都合をより詳述すれば、前記保護膜
PSV、対向電極CT、および配向膜ORI1の形成
は、(1)保護膜PSVの材料成膜、(2)対向電極C
Tの材料成膜、(3)対向電極CTのパターン化のため
のエッチング加工、および(4)配向膜ORI1の材料
成膜の工程を経るが、上記(2)の段階で保護膜PSV
の表面にダメージを生じさせ、上記(3)の段階でさら
に保護膜PSVの表面にダメージを生じさせることにな
る。そして、上記(4)の段階で、その際の熱によって
保護膜PSVの表面からガスが発生し、配向膜ORI1
との間に消失することなく存在し続ける。
PSV、対向電極CT、および配向膜ORI1の形成
は、(1)保護膜PSVの材料成膜、(2)対向電極C
Tの材料成膜、(3)対向電極CTのパターン化のため
のエッチング加工、および(4)配向膜ORI1の材料
成膜の工程を経るが、上記(2)の段階で保護膜PSV
の表面にダメージを生じさせ、上記(3)の段階でさら
に保護膜PSVの表面にダメージを生じさせることにな
る。そして、上記(4)の段階で、その際の熱によって
保護膜PSVの表面からガスが発生し、配向膜ORI1
との間に消失することなく存在し続ける。
【0090】このため、その後の振動、衝撃によって配
向膜ORI1の保護膜PSVに対する剥がれが生じ、こ
れが配向不良の原因となる。
向膜ORI1の保護膜PSVに対する剥がれが生じ、こ
れが配向不良の原因となる。
【0091】なお、この実施例は、上述した各実施例お
よびこれ以降に説明する他の各実施例にも適用できるこ
とはいうまでもない。
よびこれ以降に説明する他の各実施例にも適用できるこ
とはいうまでもない。
【0092】実施例6.図6は本発明による液晶表示装
置の他の実施例を示す断面図で、図1と対応した図とな
っている。
置の他の実施例を示す断面図で、図1と対応した図とな
っている。
【0093】同図に示すように、保護膜PSV上に対向
電極CTをも被って形成される配向膜ORI1は、保護
膜PSV上のその膜厚と対向電極CT上のその膜厚とに
相異を有し、保護膜PSV上のその膜厚の方が対向電極
CT上のその膜厚よりも大きく構成されている。
電極CTをも被って形成される配向膜ORI1は、保護
膜PSV上のその膜厚と対向電極CT上のその膜厚とに
相異を有し、保護膜PSV上のその膜厚の方が対向電極
CT上のその膜厚よりも大きく構成されている。
【0094】このような配向膜ORI1は、その配向膜
溶液中の固形分濃度を示すNV値が8%以下のものを用
いて形成することにより、上述したような構成とするこ
とができる。
溶液中の固形分濃度を示すNV値が8%以下のものを用
いて形成することにより、上述したような構成とするこ
とができる。
【0095】なお、前記NV値としては、それが少なす
ぎると対向電極CT上の配向膜ORI1の膜厚が薄くな
りすぎてモード1の現象が発生しやすくなるため、2%
以上が必要となる。実用上、対向電極CT上と保護膜P
SV上の配向膜ORIの膜厚のバランスを考慮すると4
%ないし6%の間の値であることが望ましい。
ぎると対向電極CT上の配向膜ORI1の膜厚が薄くな
りすぎてモード1の現象が発生しやすくなるため、2%
以上が必要となる。実用上、対向電極CT上と保護膜P
SV上の配向膜ORIの膜厚のバランスを考慮すると4
%ないし6%の間の値であることが望ましい。
【0096】このように構成することによって、対向電
極CTから露出された保護膜PSVの表面の配向膜OR
I1の膜厚を大きくでき、該保護膜PSVからの剥がれ
易さを防止できるので前記モード2の現象の発生を抑制
することができる。
極CTから露出された保護膜PSVの表面の配向膜OR
I1の膜厚を大きくでき、該保護膜PSVからの剥がれ
易さを防止できるので前記モード2の現象の発生を抑制
することができる。
【0097】この実施例は、上述した各実施例およびこ
れ以降に説明する他の各実施例にも適用できることはい
うまでもない。
れ以降に説明する他の各実施例にも適用できることはい
うまでもない。
【0098】実施例7.この実施例では、配向膜ORI
1の膜厚を250nm以下にすることによって、対向電
極CT上の配向膜ORI1が該対向電極CTから浮き上
がってしまうのを防止せんとしたものである。
1の膜厚を250nm以下にすることによって、対向電
極CT上の配向膜ORI1が該対向電極CTから浮き上
がってしまうのを防止せんとしたものである。
【0099】配向膜ORI1の膜厚が250nmより大
きくなっている場合、それにともなって配向膜ORI1
の膜応力が大きくなり、該配向膜ORI1が対向電極C
Tから浮き上がってしまうことを確認し、モード3の現
象の発生を抑制せんとしたものである。
きくなっている場合、それにともなって配向膜ORI1
の膜応力が大きくなり、該配向膜ORI1が対向電極C
Tから浮き上がってしまうことを確認し、モード3の現
象の発生を抑制せんとしたものである。
【0100】モード3の発生原因を究明したところ、保
護膜PSVと対向電極CTとで熱伝導率が異なり、配向
膜ORI1の焼成の段階およびその後の熱履歴の過程に
おいて、同一の画素領域内で保護膜PSV上と対向電極
CT上での熱容量の相異により、配向膜ORI1の収
縮、伸張に差が生じ、該配向膜ORIの膜応力を吸収す
るため、付着力の弱い対向電極CT上で配向膜ORI1
の浮き上がりが生じたものと判明した。
護膜PSVと対向電極CTとで熱伝導率が異なり、配向
膜ORI1の焼成の段階およびその後の熱履歴の過程に
おいて、同一の画素領域内で保護膜PSV上と対向電極
CT上での熱容量の相異により、配向膜ORI1の収
縮、伸張に差が生じ、該配向膜ORIの膜応力を吸収す
るため、付着力の弱い対向電極CT上で配向膜ORI1
の浮き上がりが生じたものと判明した。
【0101】浮かび上がった配向膜ORI1は配向はさ
れているので、初期状態では正常に表示されるが、周囲
温度の変化、たとえば−20℃と50℃の温度に一定時
間ごとに変化させることで(温度サイクル試験)、徐々
に輝点表示が認識されるに至る。これは温度サイクルに
より浮かび上がって配向膜ORI1がフリーとなってい
る部分の膨張、収縮が繰り替えされることで、浮かび上
がった部分の配向膜ORI1の配向状態が崩れていくた
めであると判明した。
れているので、初期状態では正常に表示されるが、周囲
温度の変化、たとえば−20℃と50℃の温度に一定時
間ごとに変化させることで(温度サイクル試験)、徐々
に輝点表示が認識されるに至る。これは温度サイクルに
より浮かび上がって配向膜ORI1がフリーとなってい
る部分の膨張、収縮が繰り替えされることで、浮かび上
がった部分の配向膜ORI1の配向状態が崩れていくた
めであると判明した。
【0102】この実施例は、上述した各実施例およびこ
れ以降に説明する他の各実施例にも適用できることはい
うまでもない。
れ以降に説明する他の各実施例にも適用できることはい
うまでもない。
【0103】実施例8.この実施例では、一画素内にお
いて、前記配向膜ORI1は複数に分割された各領域に
て膜厚が異なるようにして構成したものである。
いて、前記配向膜ORI1は複数に分割された各領域に
て膜厚が異なるようにして構成したものである。
【0104】このように構成することによって、配向膜
ORI1に生じた膜応力は膜厚の変化部にて吸収される
ようになり、対向電極CT上の配向膜ORI1の該対向
電極CTからの浮き上がりを防止することができ、前記
モード3の現象の発生を抑制することができる。
ORI1に生じた膜応力は膜厚の変化部にて吸収される
ようになり、対向電極CT上の配向膜ORI1の該対向
電極CTからの浮き上がりを防止することができ、前記
モード3の現象の発生を抑制することができる。
【0105】この実施例は、上述した各実施例およびこ
れ以降に説明する他の各実施例にも適用できることはい
うまでもない。
れ以降に説明する他の各実施例にも適用できることはい
うまでもない。
【0106】実施例9.図7は、上述した対向電極CT
の断面を示した図である。対向電極CTの側壁面は該対
向電極CTの底面から上面にかけて末広がり状となるテ
ーパ、いわゆる逆テーパが形成されている。
の断面を示した図である。対向電極CTの側壁面は該対
向電極CTの底面から上面にかけて末広がり状となるテ
ーパ、いわゆる逆テーパが形成されている。
【0107】保護膜PSV上に該対向電極CTをも被っ
て形成される配向膜ORI1は、その材料が該対向電極
CTの逆テーパとなっている側壁面にも侵入し、図面上
方へ働く力に対して固定効果を有するようになる。
て形成される配向膜ORI1は、その材料が該対向電極
CTの逆テーパとなっている側壁面にも侵入し、図面上
方へ働く力に対して固定効果を有するようになる。
【0108】このため、対向電極CT上の配向膜ORI
1が該対向電極CTから浮き上がってしまうのを防止で
きるようになり、前記モード3の現象の発生を抑制する
ことができる。
1が該対向電極CTから浮き上がってしまうのを防止で
きるようになり、前記モード3の現象の発生を抑制する
ことができる。
【0109】なお、図7では、対向電極CTは2層構造
で形成され、そのうちの下層の材料層に上述したような
テーパが設けられているものであるが、これに限定され
ることはなく、前記下層の材料層のみで対向電極CTが
構成されていてもよいことはいうまでもない。
で形成され、そのうちの下層の材料層に上述したような
テーパが設けられているものであるが、これに限定され
ることはなく、前記下層の材料層のみで対向電極CTが
構成されていてもよいことはいうまでもない。
【0110】この実施例は、上述した各実施例およびこ
れ以降に説明する他の実施例にも適用できることはいう
までもない。
れ以降に説明する他の実施例にも適用できることはいう
までもない。
【0111】実施例10.図8は、本発明による液晶表
示装置の他の実施例を示す平面図で、図3に対応した図
となっている。
示装置の他の実施例を示す平面図で、図3に対応した図
となっている。
【0112】図3の場合と比較して異なる構成は、一画
素領域当たり対向電極CTの占める分割された各領域を
4個とし、保護膜PSVの露出部の占める分割された各
領域を3個としていることにある。
素領域当たり対向電極CTの占める分割された各領域を
4個とし、保護膜PSVの露出部の占める分割された各
領域を3個としていることにある。
【0113】このように構成された液晶表示装置は、帯
状に延在する保護膜PSVの露出部および対向電極CT
のそれぞれの幅が狭くなり、該保護膜PSV上を該対向
電極CTをも被って形成された配向膜ORI1への歪み
が生じても、その歪みの累積を抑制し対向電極CT上の
配向膜ORI1の該対向電極CTからの浮き上がりを防
止でき、前記モード3の現象の発生を抑制することがで
きるようになる。
状に延在する保護膜PSVの露出部および対向電極CT
のそれぞれの幅が狭くなり、該保護膜PSV上を該対向
電極CTをも被って形成された配向膜ORI1への歪み
が生じても、その歪みの累積を抑制し対向電極CT上の
配向膜ORI1の該対向電極CTからの浮き上がりを防
止でき、前記モード3の現象の発生を抑制することがで
きるようになる。
【0114】このことから、対向電極CTの占める分割
された各領域を4個以上とし、保護膜PSVの露出部の
占める分割された各領域を3個以上とすることによりさ
らなる効果を期待することができる。
された各領域を4個以上とし、保護膜PSVの露出部の
占める分割された各領域を3個以上とすることによりさ
らなる効果を期待することができる。
【0115】実験によると、一画素内の対向電極CTに
対する保護膜PSVの露出部の比率が0.5〜5の範囲
にあることが効果的であることが判明している。
対する保護膜PSVの露出部の比率が0.5〜5の範囲
にあることが効果的であることが判明している。
【0116】この実施例は、上述した各実施例にも適用
できることはいうまでもない。
できることはいうまでもない。
【0117】上述した各実施例では、保護膜PSVの上
面に対向電極CTが形成されたものを示した。しかし、
この対向電極CTを該保護膜PSVの下層に位置付け、
該保護膜PSVの上面に画素電極PXを形成した場合の
構成でもそのまま適用できることはいうまでもない。
面に対向電極CTが形成されたものを示した。しかし、
この対向電極CTを該保護膜PSVの下層に位置付け、
該保護膜PSVの上面に画素電極PXを形成した場合の
構成でもそのまま適用できることはいうまでもない。
【0118】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、信頼性のある配向
膜を備えさせることができる。
本発明による液晶表示装置によれば、信頼性のある配向
膜を備えさせることができる。
【図1】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す要
部構成図であり、図3のI−I線における断面図である。
部構成図であり、図3のI−I線における断面図である。
【図2】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す等
価回路である。
価回路である。
【図3】本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図4】図3のIV−IV線における断面図である。
【図5】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図6】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図7】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例
を示す要部断面図である。
を示す要部断面図である。
【図8】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図9】本発明の課題を示す従来の現象(モード1)を
示した説明図である。
示した説明図である。
【図10】本発明の課題を示す従来の現象(モード2)
を示した説明図である。
を示した説明図である。
【図11】本発明の課題を示す従来の現象(モード3)
を示した説明図である。
を示した説明図である。
SUB…透明基板、GL…ゲート信号線、DL…ドレイ
ン信号線、CL…対向電圧信号線、TFT…薄膜トラジ
スタ、PX…画素電極、CT…対向電極、GI…絶縁
膜、PSV…保護膜、ORI1…配向膜。
ン信号線、CL…対向電圧信号線、TFT…薄膜トラジ
スタ、PX…画素電極、CT…対向電極、GI…絶縁
膜、PSV…保護膜、ORI1…配向膜。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 柳川 和彦
千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立
製作所ディスプレイグループ内
Fターム(参考) 2H090 HA04 HB02X HB07X HB17Y
HC08 HD15 LA01 LA04
2H092 GA14 JB01 NA04 NA30 PA02
Claims (11)
- 【請求項1】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、 隣接して配置される一対の電極が絶縁膜を介して配置さ
れているとともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極の
うちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、 前記配向膜にはシランカップリング材が配向膜固形分濃
度に対して0.1%以上2%以下混入されていることを
特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、 隣接して配置される一対の電極が絶縁膜を介して配置さ
れているとともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極の
うちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、 該配向膜は、その形成の際の焼成において、その温度が
250℃以下に抑えられて形成されていることを特徴と
する液晶表示装置。 - 【請求項3】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、 隣接して配置される一対の電極が絶縁膜を介して配置さ
れているとともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極の
うちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、 前記一方の電極はその延在方向に沿って複数の屈曲部を
有したジグザグ状のパターンをなすとともに、他方の電
極は前記電極と平行に配置されていることを特徴とする
液晶表示装置。 - 【請求項4】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、 隣接して配置される一対の電極が絶縁膜を介して配置さ
れているとともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極の
うちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、 該配向膜は、その膜厚が60nm以上、250nm以下
に設定されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項5】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、 隣接して配置される一対の電極が絶縁膜を介して配置さ
れているとともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極の
うちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、 該配向膜は、そのイミド化率が95%以下に設定されて
いることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項6】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、 隣接して配置される一対の電極が保護膜を介して配置さ
れているとともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極の
うちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、 前記保護膜は有機材料層によってあるいは無機材料層お
よび有機材料層の順次積層体によって構成されていると
ともに、 保護膜上の前記配向膜の膜厚が前記一方の電極上の前記
配向膜の膜厚よりも大きく構成されていることを特徴と
する液晶表示装置。 - 【請求項7】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、 隣接して配置される一対の電極が保護膜を介して配置さ
れているとともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極の
うちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、 該配向膜は複数に分割された各領域にて膜厚が異なって
構成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項8】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、 隣接して配置される一対の電極が絶縁膜を介して配置さ
れているとともに、該絶縁膜の上面に前記一対の電極の
うちの一方の電極をも被って配向膜が形成され、 前記一方の電極の側壁面は該一方の電極の底面から上面
にかけて末広がり状となるテーパが形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項9】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、 隣接して配置される一対の電極が有機材料層からあるい
は無機材料層と有機材料層との順次積層体からなる保護
膜を介して配置されているとともに、該有機材料層の上
面に前記一対の電極のうちの一方の電極をも被って配向
膜が形成され、 前記一対の電極のそれぞれが複数の電極からなる電極群
として構成され、 前記一方の電極の占める分割された各領域を4個以上と
し、前記有機材料層の露出部の占める分割された各領域
を3個以上に設定されていることを特徴とする液晶表示
装置。 - 【請求項10】 各画素領域は、一対のゲート信号線と
一対のドレイン信号線とで囲まれて構成され、その領域
内にゲート信号線からの走査信号によって作動される薄
膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介してドレ
イン信号線からの映像信号が供給される画素電極と、映
像信号に対して基準となる信号が供給される対向電極と
を備え、該画素電極と該対向電極とを前記一対の電極と
することを特徴とする請求項1ないし9のうちいずれか
に記載の液晶表示装置。 - 【請求項11】 薄膜トランジスタをも被って形成され
る有機材料層によってあるいは無機材料層と有機材料層
との積層体によって構成される保護膜の上面に複数の電
極群からなる対向電極が形成され、これら各対向電極の
うち前記保護膜を介してその中心軸がドレイン信号線の
中心軸と一致づけられて重畳され該ドレイン信号線の幅
よりも大きい幅で形成されている対向電極を有すること
を特徴とする請求項10に記載の液晶表示装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001318830A JP2003121850A (ja) | 2001-10-17 | 2001-10-17 | 液晶表示装置 |
US10/244,752 US6801287B2 (en) | 2001-10-17 | 2002-09-17 | Liquid crystal display device having tapered electrodes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001318830A JP2003121850A (ja) | 2001-10-17 | 2001-10-17 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003121850A true JP2003121850A (ja) | 2003-04-23 |
Family
ID=19136463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001318830A Pending JP2003121850A (ja) | 2001-10-17 | 2001-10-17 | 液晶表示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6801287B2 (ja) |
JP (1) | JP2003121850A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011081103A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6812987B2 (en) * | 2002-10-29 | 2004-11-02 | Hannstar Display Corp. | IPS-LCD with a compensation structure for reducing transmittance difference |
KR20060032034A (ko) * | 2004-10-11 | 2006-04-14 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 횡전계방식 액정표시장치 |
KR101165459B1 (ko) * | 2004-12-31 | 2012-07-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR20120114042A (ko) * | 2011-04-06 | 2012-10-16 | 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정표시장치 |
CN104849923B (zh) * | 2015-05-07 | 2018-09-21 | 厦门天马微电子有限公司 | 一种像素单元阵列和液晶显示装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2547523B2 (ja) * | 1994-04-04 | 1996-10-23 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US5745207A (en) * | 1995-11-30 | 1998-04-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Active matrix liquid crystal display having electric fields parallel to substrates |
TW396289B (en) * | 1996-10-29 | 2000-07-01 | Nippon Electric Co | Liquid crystal display device |
KR100257369B1 (ko) * | 1997-05-19 | 2000-05-15 | 구본준 | 횡전계방식액정표시장치 |
-
2001
- 2001-10-17 JP JP2001318830A patent/JP2003121850A/ja active Pending
-
2002
- 2002-09-17 US US10/244,752 patent/US6801287B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011081103A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6801287B2 (en) | 2004-10-05 |
US20030071950A1 (en) | 2003-04-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100512215B1 (ko) | 액정 표시 장치 | |
JP3883244B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP4162890B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
US8384870B2 (en) | Display substrate, method of manufacturing the same and display panel having the display substrate | |
JP2003207795A (ja) | 液晶表示装置 | |
WO2005006068A1 (ja) | 表示装置 | |
JP2003215599A (ja) | 液晶表示装置 | |
JPH10319436A (ja) | アクティブマトリックス型液晶表示装置 | |
JP4606103B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
US6326641B1 (en) | Liquid crystal display device having a high aperture ratio | |
US20040125256A1 (en) | Liquid crystal display device | |
KR100593314B1 (ko) | 액정 표시장치 | |
KR101309779B1 (ko) | 액정 표시 장치 | |
JP2004077718A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2003121850A (ja) | 液晶表示装置 | |
KR20030040108A (ko) | 액정 표시 장치 | |
JP4584614B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2003279944A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2003057670A (ja) | 液晶表示装置 | |
JPH09197376A (ja) | 半導体素子静電対策構造 | |
JP2003177424A (ja) | 液晶表示装置 | |
KR100529572B1 (ko) | 박막 트랜지스터 액정 표시 장치 | |
JP4202354B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JPH0268524A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2003186035A (ja) | 液晶表示装置 |