JP2003121606A - Antireflection film, polarizing plate and image display device - Google Patents
Antireflection film, polarizing plate and image display deviceInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィル
ム、それを用いた偏光板、およびそれらを用いた画像表
示装置に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate using the same, and an image display apparatus using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】反射防止フィルムは、液晶表示装置(L
CD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレ
クトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管
表示装置(CRT)のような様々な画像表示装置に設け
られている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止フィル
ムが設けられている。反射防止フィルムとしては、金属
酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に
用いられている。複数の透明薄膜を用いるのは、可視域
でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためで
ある。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着(CVD)法
や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である
真空蒸着法やスパッタ法により形成されている。金属酸
化物の透明薄膜は、反射防止フィルムとして優れた光学
的性質を有しているが、蒸着法やスパッタ法による製膜
方法は、生産性が低く大量生産に適していない。2. Description of the Related Art Antireflection films are used in liquid crystal display devices (L
It is provided in various image display devices such as a CD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD) and a cathode ray tube display (CRT). Anti-reflection film is also provided on the glasses and the lens of the camera. As the antireflection film, a multilayer film in which transparent thin films of metal oxide are laminated has been conventionally commonly used. The reason why a plurality of transparent thin films are used is to prevent reflection of light in a wavelength range as wide as possible in the visible range. The transparent thin film of metal oxide is formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, which is a kind of physical vapor deposition method. A transparent thin film of a metal oxide has excellent optical properties as an antireflection film, but the film forming method by vapor deposition or sputtering has low productivity and is not suitable for mass production.
【0003】蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により
反射防止フィルムを形成する方法が提案されている。特
公昭60−59250号公報は、微細空孔と微粒子状無
機物とを有する反射防止層を開示している。反射防止層
は、塗布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に
活性化ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することに
よって形成される。特開昭59−50401号公報は、
支持体、高屈折率層および低屈折率層の順に積層した反
射防止フィルムを開示している。同公報は、支持体と高
屈折率層の間に中屈折率層を設けた反射防止フィルムも
開示している。低屈折率層は、ポリマーまたは無機微粒
子の塗布により形成されている。In place of the vapor deposition method, a method of forming an antireflection film by coating inorganic fine particles has been proposed. Japanese Examined Patent Publication (Kokoku) No. 60-59250 discloses an antireflection layer having fine pores and a particulate inorganic substance. The antireflection layer is formed by coating. The micropores are formed by activating gas treatment after coating the layer and allowing gas to escape from the layer. Japanese Patent Laid-Open No. 59-50401 discloses
Disclosed is an antireflection film in which a support, a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated in this order. The publication also discloses an antireflection film in which a medium refractive index layer is provided between a support and a high refractive index layer. The low refractive index layer is formed by coating a polymer or inorganic fine particles.
【0004】特開平2−245702号公報は、二種類
以上の超微粒子(例えば、MgF2とSiO2)を混在さ
せて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止フィ
ルムを開示している。混合比を変化させることにより屈
折率を変化させ、前記特開昭59−50401号公報に
記載されている高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防
止フィルムと同様の光学的性質を得ている。超微粒子
は、エチルシリケートの熱分解で生じたSiO2 により
接着している。エチルシリケートの熱分解では、エチル
部分の燃焼によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。
特開平2−245702号公報の第1図に示されている
ように、二酸化炭素と水蒸気が層から離脱することによ
り、超微粒子の間に間隙が生じている。特開平5−13
021号公報は、前記特開平2−245702号公報記
載の反射防止フィルムに存在する超微粒子間隙をバイン
ダーで充填することを開示している。 特開平7−48
527号公報は、多孔質シリカよりなる無機微粉末とバ
インダーとを含有する反射防止フィルムを開示してい
る。特開平11−6902号公報は、低屈折率層に無機
微粒子を少なくとも2個以上積み重ねてミクロボイドを
含有させた層を用いた、ウエット塗布による3層構成の
反射防止膜を有するフィルムを開示している。オールウ
エット塗布による安価な製造コストにて、膜強度と反射
率の低さを両立した反射防止フィルムを与える技術が公
開されている。Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-245702 discloses an antireflection film in which two or more kinds of ultrafine particles (for example, MgF 2 and SiO 2 ) are mixed and the mixing ratio is changed in the film thickness direction. There is. The refractive index is changed by changing the mixing ratio to obtain the same optical properties as the antireflection film having the high refractive index layer and the low refractive index layer described in JP-A-59-50401. ing. The ultrafine particles are adhered by SiO 2 generated by thermal decomposition of ethyl silicate. In the thermal decomposition of ethyl silicate, carbon dioxide and water vapor are also generated by the combustion of ethyl part.
As shown in FIG. 1 of JP-A-2-245702, a gap is created between the ultrafine particles due to the separation of carbon dioxide and water vapor from the layer. Japanese Patent Laid-Open No. 5-13
No. 021 discloses filling the ultrafine particle gaps present in the antireflection film described in JP-A-2-245702 with a binder. JP-A-7-48
Japanese Patent No. 527 discloses an antireflection film containing an inorganic fine powder made of porous silica and a binder. Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-6902 discloses a film having a three-layer antireflection film formed by wet coating, which uses a layer in which at least two inorganic fine particles are stacked in a low refractive index layer to contain microvoids. There is. A technique for providing an antireflection film that achieves both film strength and low reflectance at an inexpensive manufacturing cost by all-wet coating has been disclosed.
【0005】上述したような塗布による反射防止フィル
ムに防眩性を付与する手段としては、表面凹凸を有する
支持体上に反射防止層を塗布する方法や、表面凹凸を形
成するためのマット粒子を反射防止層を形成する塗布液
に添加する方法の他に、特開2000−275401号
公報、特開2000−275404号公報に開示されて
いるような、平滑な反射防止フィルムの作成後に、エン
ボス法等によって表面凹凸構造を形成する方法がある。As means for imparting antiglare properties to the antireflection film by coating as described above, a method of coating an antireflection layer on a support having surface irregularities, or matte particles for forming surface irregularities is used. In addition to the method of adding to the coating liquid for forming the antireflection layer, an embossing method after the production of a smooth antireflection film as disclosed in JP-A-2000-275401 and 2000-275404. There is a method of forming a surface uneven structure by the above method.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
蒸着法やスパッタ法によって製造されている反射防止フ
ィルムは、450nmから650nmまでの波長領域で
の平均反射率が0.4%以下のものは反射光の色味が赤
紫色から青紫色に強く着色しており、反射光源が背後に
ある場合、表示品位を悪化させてしまう問題があった。
一方、ウエット塗布によって製造されている反射防止フ
ィルムは、反射光の色味はニュートラルに近いものの、
平均反射率が1%を超えてしまい、特に外光が直接表示
面に入射するような使用状況下では反射防止性能が不足
していた。前記の特開平11−6902号公報の実施例
24はウエット塗布で平均反射率0.35%と記載され
ているが、その反射スペクトルより反射光の色味を計算
すると、反射光の色味が非常に強い赤紫になることがわ
かり、実サンプルを作成して目視で判断しても赤紫色に
強く着色しておリ、やはり表示品位を損なってしまう問
題があった。また、反射光の色味が強いために、反射防
止層の僅かな膜厚ムラによって色味が大きくシフトし、
目視でムラとして検出されてしまう問題があった。However, the antireflection film produced by the vapor deposition method or the sputtering method described above has an average reflectance of 0.4% or less in the wavelength region of 450 nm to 650 nm. The tint of light is strongly colored from red purple to blue purple, and there is a problem that the display quality is deteriorated when the reflected light source is behind.
On the other hand, the antireflection film manufactured by wet coating has a color tone of reflected light close to neutral,
The average reflectance exceeds 1%, and the antireflection performance is insufficient particularly in a use situation where external light is directly incident on the display surface. Example 24 of the above-mentioned JP-A-11-6902 describes that the average reflectance is 0.35% by wet coating, but when the tint of reflected light is calculated from the reflection spectrum, the tint of reflected light is It was found that the color became extremely strong red-purple, and even when a real sample was made and visually judged, it was strongly colored in red-purple, and there was also a problem that the display quality was impaired. Further, since the reflected light has a strong tint, the tint is greatly shifted due to a slight unevenness in the thickness of the antireflection layer,
There was a problem that it was visually detected as unevenness.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、以下の
手段によって達成された。
(1) 透明支持体上に該支持体よりも屈折率の低い低
屈折率層を少なくとも一層有する反射防止フィルムにお
いて、5度入射における鏡面反射率の450nmから6
50nmまでの波長領域での平均値が0.5%以下、且
つ、波長380nmから780nmの領域におけるCI
E標準光源D65の5度入射光に対する正反射光の色味
が、CIE1976L*a*b*色空間のa*、b*値
がそれぞれ−7≦a*≦7、且つ、−10≦b*≦10
の範囲内にあることを特徴とする反射防止フィルム。
(2) 前記反射防止フィルムにおいて、a*、b*値
がそれぞれ0≦a*≦5、且つ、−7≦b*≦0の範囲
内にあることを特徴とする(1)に記載の反射防止フィ
ルム。
(3) 前記反射防止フィルムにおいて、5度入射にお
ける鏡面反射率の450nmから650nmまでの波長
領域での平均値が0.4%以下であることを特徴とする
(1)または(2)に記載の反射防止フィルム。
(4) 前記反射防止フィルムにおいて、5度入射にお
ける鏡面反射率の450nmから650nmまでの波長
領域での平均値が0.3%以下であることを特徴とする
(1)または(2)に記載の反射防止フィルム。
(5) 前記反射防止フィルムのそれぞれの層が、膜形
成性の溶質と少なくとも1種類の溶媒を含有する塗布組
成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および/または電離放射線
による硬化により形成されたものであることを特徴とす
る(1)〜(4)いずれか1項に記載の反射防止フィル
ム。
(6) 前記低屈折率層と前記透明支持体の間に、低屈
折率層側から順に該支持体よりも高い屈折率を有する高
屈折率層、該支持体と高屈折率層の中間の屈折率を有す
る中屈折率層、の実質上3層の屈折率の異なる層が形成
されていることを特徴とする(5)に記載の反射防止フ
ィルム。
(7) 前記反射防止フィルムにおいて、設計波長λ
(=500nm)に対して中屈折率層が下式(I)を、
高屈折率層が下式(II)を、低屈折率層が下式(II
I)をそれぞれ満足することを特徴とする請求項6に記
載の反射防止フィルム。
lλ/4×0.80<n1d1<lλ/4×1.00 (I)
mλ/4×0.75<n2d2<mλ/4×0.95 (II)
nλ/4×0.95<n3d3<nλ/4×1.05 (III)
(但し、式中、lは1であり、n1は中屈折率層の屈折
率であり、そして、d1は中屈折率層の層厚(nm)で
あり、mは2であり、n2は高屈折率層の屈折率であ
り、そして、d2は高屈折率層の層厚(nm)であり、
nは1であり、n3は低屈折率層の屈折率であり、そし
て、d3は低屈折率層の層厚(nm)である)
(8)屈折率が1.45〜1.55である透明支持体に
対してn1が1.60〜1.65、n2が1.85〜
1.95、n3が1.35〜1.45の屈折率であるこ
とを特徴とする(7)に記載の反射防止フィルム。
(9)屈折率が1.55〜1.65である透明支持体に
対して n1が1.65〜1.75、n2が1.85〜
2.05、n3が1.35〜1.45の屈折率であるこ
とを特徴とする(7)に記載の反射防止フィルム。
(10) 前記反射防止フィルムの低屈折率層が、熱ま
たは電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂からなるこ
とを特徴とする(7)〜(9)いずれか1項に記載の反
射防止フィルム。
(11) 前記反射防止フィルムの高屈折率層が、 T
i、Zr、In、Zn、Sn、Sbの酸化物から選ばれ
た少なくとも1種の金属酸化物を含有する超微粒子、ア
ニオン性分散剤、3官能以上の重合性基を有する硬化性
樹脂および重合開始剤を含む塗布組成物を塗布、溶媒の
乾燥、熱および/または電離放射線による硬化により形
成されたものであることを特徴とする(7)〜(9)い
ずれか1項に記載の反射防止フィルム。
(12) 前記反射防止フィルムの低屈折率層が、動摩
擦係数が0.15以下、純水の接触角が100度以上で
あることを特徴とする(10)に記載の反射防止フィル
ム。
(13) 前記低屈折率層と前記透明支持体との間に少
なくとも1層のハードコート層を有することを特徴とす
る、(1)〜(12)いずれか1項に記載の反射防止フ
ィルム。
(14) 前記低屈折率層と前記透明支持体との間に少
なくとも1層の前方散乱層を有することを特徴とする、
(1)〜(13)いずれか1項に記載の反射防止フィル
ム。
(15) TD方向あるいはMD方向に10cm離れた
任意の2つの場所における波長380nmから780n
mの領域におけるCIE標準光源D65の5度入射光に
対する正反射光の色味ムラが、CIE1976L*a*
b*色空間のΔEab*値で2未満であることを特徴と
するであることを特徴とする(1)〜(14)いずれか
1項に記載の反射防止フィルム。
(16) トリアセチルセルロースあるいはポリエチレ
ンテレフタレートのいずれかに対して常温常湿で測定し
た垂直剥離帯電量が−200pc(ピコクーロン)/c
m2〜+200pc(ピコクーロン)/cm2であり、か
つ表面抵抗値が1×1011Ω/□以上であることを特徴
とするであることを特徴とする(1)〜(15)いずれ
か1項に記載の反射防止フィルム。
(17) 2枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏
面に貼り合わせた偏光板であり、(1)〜(16)いず
れか1項に記載の反射防止フィルムの低屈折率層を形成
後に、アルカリ液中に少なくとも1回浸漬することで、
該フィルムの裏面を鹸化処理した反射防止フィルムを少
なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴と
する偏光板。
(18) 2枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏
面に貼り合わせた偏光板であり、(1)〜(16)いず
れか1項に記載の反射防止フィルムの低屈折率層を形成
する面の形成前または後に、アルカリ液を該反射防止フ
ィルムの低屈折率層を形成する面の反対側の面に塗布
し、加熱、水洗および/または中和することで、該フィ
ルムの裏面だけを鹸化処理した反射防止フィルムを少な
くとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴とす
る偏光板。
(19) 前記表面保護フィルムのうちの反射防止フィ
ルム以外のフィルムが、該表面保護フィルムの偏光子と
反対側の面に光学異方層を含んでなる光学補償層を有す
る光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコ
ティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を
有する層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面
が該表面保護フィルム面に対して傾いており、且つ該デ
ィスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム
面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化
していることを特徴とする(17)または(18)に記
載の偏光板。
(20) (17)〜(19)いずれか1項に記載の偏
光板を少なくとも1枚有するTN、STN、VA、IP
S、OCBのモードの透過型、反射型、または半透過型
の液晶表示装置。
(21) (17)〜(19)いずれか1項に記載の偏
光板を少なくとも1枚有する透過型または半透過型の液
晶表示装置であり、視認側とは反対側の偏光板とバック
ライトとの間に、偏光選択層を有する偏光分離フィルム
を配置することを特徴とする液晶表示装置。
(22)前記透明支持体がポリエチレンテレフタレート
フィルム、またはポリエチレンナフタレートフィルムで
あることを特徴とする(1)〜(16)いずれか1項に
記載の反射防止フィルム。
(23) (17)または(18)に記載の偏光板の反
射防止フィルムとは反対側の透明保護フィルムに、λ/
4板を配置したことを特徴とする透過または半透過型液
晶装置。
(24) (17)または(18)に記載の偏光板の反
射防止フィルムとは反対側の透明保護フィルムに、λ/
4板を配置したことを特徴とする、有機ELディスプレ
イ装置。The objects of the present invention have been achieved by the following means. (1) In an antireflection film having at least one low refractive index layer having a refractive index lower than that of a transparent support, a specular reflectance of 450 nm to 6 at 5 degrees incidence
The average value in the wavelength region up to 50 nm is 0.5% or less, and the CI in the wavelength region from 380 nm to 780 nm
E The tint of the specular reflection light with respect to the 5 degree incident light of the standard light source D65 is such that the a * and b * values of the CIE1976L * a * b * color space are −7 ≦ a * ≦ 7 and −10 ≦ b *, respectively. ≤10
The antireflection film is characterized by being within the range. (2) The reflection according to (1), wherein in the antireflection film, a * and b * values are in the range of 0 ≦ a * ≦ 5 and −7 ≦ b * ≦ 0, respectively. Prevention film. (3) The antireflection film as described in (1) or (2), wherein the average value of the specular reflectance at 5 degrees incidence in the wavelength region from 450 nm to 650 nm is 0.4% or less. Anti-reflection film. (4) The antireflection film as described in (1) or (2), wherein the average value of the specular reflectance at 5 degree incidence in the wavelength region from 450 nm to 650 nm is 0.3% or less. Anti-reflection film. (5) Each layer of the antireflection film is formed by coating a coating composition containing a film-forming solute and at least one solvent, drying the solvent, and curing with heat and / or ionizing radiation. The antireflection film as described in any one of (1) to (4). (6) Between the low refractive index layer and the transparent support, in order from the low refractive index layer side, a high refractive index layer having a higher refractive index than the support, and between the support and the high refractive index layer. The antireflection film as described in (5), wherein substantially three layers having different refractive indices, that is, a medium refractive index layer having a refractive index, are formed. (7) In the antireflection film, the design wavelength λ
(= 500 nm), the medium refractive index layer has the following formula (I),
The high refractive index layer is represented by the following formula (II), and the low refractive index layer is represented by the following formula (II).
The antireflection film according to claim 6, which satisfies each of I). lλ / 4 × 0.80 <n1d1 <lλ / 4 × 1.00 (I) mλ / 4 × 0.75 <n2d2 <mλ / 4 × 0.95 (II) nλ / 4 × 0.95 <n3d3 < nλ / 4 × 1.05 (III) (wherein, 1 is 1, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, and d1 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer. , M is 2, n2 is the refractive index of the high refractive index layer, and d2 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer,
(n is 1, n3 is the refractive index of the low refractive index layer, and d3 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer) (8) The refractive index is 1.45 to 1.55 N1 is 1.60 to 1.65 and n2 is 1.85 to the transparent support.
The antireflection film as described in (7), wherein 1.95 and n3 have a refractive index of 1.35 to 1.45. (9) For a transparent support having a refractive index of 1.55 to 1.65, n1 is 1.65 to 1.75 and n2 is 1.85.
The antireflection film as described in (7), wherein 2.05 and n3 have a refractive index of 1.35 to 1.45. (10) The antireflection film as described in any one of (7) to (9), wherein the low refractive index layer of the antireflection film is composed of a heat- or ionizing radiation-curable fluorine-containing curable resin. . (11) The high refractive index layer of the antireflection film comprises T
Ultrafine particles containing at least one metal oxide selected from oxides of i, Zr, In, Zn, Sn and Sb, anionic dispersant, curable resin having a trifunctional or higher functional polymerizable group, and polymerization (9) The antireflection according to any one of (7) to (9), which is formed by applying a coating composition containing an initiator, drying a solvent, and curing with a heat and / or ionizing radiation. the film. (12) The antireflection film as described in (10), wherein the low refractive index layer of the antireflection film has a dynamic friction coefficient of 0.15 or less and a contact angle of pure water of 100 degrees or more. (13) The antireflection film as described in any one of (1) to (12), which has at least one hard coat layer between the low refractive index layer and the transparent support. (14) At least one forward scattering layer is provided between the low refractive index layer and the transparent support,
The antireflection film as described in any one of (1) to (13). (15) Wavelengths from 380 nm to 780 n at arbitrary two places 10 cm apart in the TD direction or the MD direction
The tint unevenness of the specular reflection light with respect to the 5 degree incident light of the CIE standard light source D65 in the m range is CIE1976L * a *
The ΔEab * value in the b * color space is less than 2, and the antireflection film as described in any one of (1) to (14). (16) The vertical peeling charge amount measured with respect to either triacetyl cellulose or polyethylene terephthalate at room temperature and normal humidity is -200 pc (pico coulomb) / c.
m 2 to +200 pc (pico coulomb) / cm 2 and a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or more (1) to (15) The antireflection film as described in the item. (17) A polarizing plate in which two surface protective films are attached to the front surface and the back surface of a polarizer, and after the low refractive index layer of the antireflection film according to any one of (1) to (16) is formed. By immersing in an alkaline solution at least once,
A polarizing plate, characterized in that an antireflection film obtained by saponifying the back surface of the film is used as at least one surface protection film. (18) A polarizing plate in which two surface protective films are bonded to the front surface and the back surface of a polarizer, and the low refractive index layer of the antireflection film according to any one of (1) to (16) is formed. Before or after forming the surface, an alkaline solution is applied to the surface of the antireflection film opposite to the surface on which the low refractive index layer is formed, and heating, washing with water and / or neutralization is performed to remove only the back surface of the film. A polarizing plate comprising a saponified antireflection film as a surface protective film on at least one side. (19) A film other than the antireflection film in the surface protection film is an optical compensation film having an optical compensation layer including an optically anisotropic layer on the surface of the surface protection film opposite to the polarizer, The optically anisotropic layer is a layer having a negative birefringence composed of a compound having a discotic structural unit, the disc surface of the discotic structural unit is inclined with respect to the surface protective film surface, and The polarizing plate according to (17) or (18), wherein the angle formed by the disk surface of the tick structure unit and the surface of the surface protective film changes in the depth direction of the optically anisotropic layer. (20) TN, STN, VA, IP having at least one polarizing plate according to any one of (17) to (19)
A transmissive type, a reflective type, or a semi-transmissive type liquid crystal display device of S and OCB modes. (21) A transmissive or semi-transmissive liquid crystal display device having at least one polarizing plate according to any one of (17) to (19), comprising a polarizing plate and a backlight on the side opposite to the viewing side. A liquid crystal display device, characterized in that a polarization separation film having a polarization selection layer is arranged between the two. (22) The antireflection film as described in any one of (1) to (16), wherein the transparent support is a polyethylene terephthalate film or a polyethylene naphthalate film. (23) The transparent protective film on the side opposite to the antireflection film of the polarizing plate described in (17) or (18) has λ /
A transmissive or semi-transmissive liquid crystal device having four plates. (24) λ / on the transparent protective film on the side opposite to the antireflection film of the polarizing plate described in (17) or (18).
An organic EL display device having four plates arranged.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】本発明の反射防止フィルムの基本
的な構成を図面を引用しながら説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The basic structure of the antireflection film of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0009】[反射防止フィルムの形成]図1は、本発
明に用いられる反射防止フィルムの基本的な層構成を示
す断面模式図である。透明支持体(1)、ハードコート
層(2)、中屈折率層(3)、高屈折率層(4)、そし
て低屈折率層(5)の順序の層構成を有する。このよう
な3層構成の反射防止フィルムは、中屈折率層、高屈折
率層、低屈折率層のそれぞれの層の光学膜厚、すなわち
屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してnλ/4前後、
またはその倍数であることが好ましいことが特開昭59
−50401号公報に記載されている。しかしながら、
本発明の低反射率且つ反射光の色味が低減された反射率
特性を実現するためには、特に設計波長λ(=500n
m)に対して中屈折率層が下式(I)を、高屈折率層が
下式(II)を、低屈折率層が下式(III)をそれぞ
れ満足する必要がある。[Formation of Antireflection Film] FIG. 1 is a schematic sectional view showing a basic layer structure of the antireflection film used in the present invention. It has a layer structure of a transparent support (1), a hard coat layer (2), a medium refractive index layer (3), a high refractive index layer (4), and a low refractive index layer (5) in this order. In such an antireflection film having a three-layer structure, the optical film thickness of each of the medium refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer, that is, the product of the refractive index and the film thickness, with respect to the design wavelength λ around nλ / 4,
Alternatively, it is preferable that it is a multiple thereof.
-50401. However,
In order to realize the low reflectance and the reflectance characteristic in which the tint of reflected light is reduced, the design wavelength λ (= 500 n
For m), the medium refractive index layer needs to satisfy the following formula (I), the high refractive index layer needs to satisfy the following formula (II), and the low refractive index layer needs to satisfy the following formula (III).
【0010】 lλ/4×0.80<n1d1<lλ/4×1.00 (I)[0010] lλ / 4 × 0.80 <n1d1 <lλ / 4 × 1.00 (I)
【0011】 mλ/4×0.75<n2d2<mλ/4×0.95 (II)[0011] mλ / 4 × 0.75 <n2d2 <mλ / 4 × 0.95 (II)
【0012】 nλ/4×0.95<n3d3<nλ/4×1.05 (III)[0012] nλ / 4 × 0.95 <n3d3 <nλ / 4 × 1.05 (III)
【0013】式中、lは1であり、n1は中屈折率層の
屈折率であり、そして、d1は中屈折率層の層厚(n
m)であり、mは2であり、n2は高屈折率層の屈折率
であり、そして、d2は高屈折率層の層厚(nm)であ
り、nは1であり、n3は低屈折率層の屈折率であり、
そして、d3は低屈折率層の層厚(nm)である。さら
に、例えばトリアセチルセルロース(屈折率:1.4
9)からなるような屈折率が1.45〜1.55の透明
支持体に対しては、n1は1.60〜1.65、n2は
1.85〜1.95、n3は1.35〜1.45の屈折
率である必要があり、例えばポリエチレンテレフタレー
ト(屈折率:1.66)からなるような屈折率が1.5
5〜1.65の透明支持体に対しては、 n1は1.6
5〜1.75、n2は1.85〜2.05、n3は1.
35〜1.45の屈折率である必要がある。上記のよう
な屈折率を有する中屈折率層や高屈折率層の素材が選択
できない場合には、設定屈折率よりも高い屈折率を有す
る層と低い屈折率を有する層を複数層組み合わせた等価
膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層あ
るいは高屈折率層と光学的に等価な層を形成できること
は公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも
用いることができる。本発明の「実質的に3層」とは、
このような等価膜を用いた4層、5層の屈折率の異なる
項からなる反射防止層も含むものである。Where l is 1, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, and d1 is the layer thickness (n
m), m is 2, n2 is the refractive index of the high refractive index layer, and d2 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer, n is 1 and n3 is low refractive index. Is the refractive index of the index layer,
And d3 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer. Furthermore, for example, triacetyl cellulose (refractive index: 1.4
For a transparent support having a refractive index of 1.45 to 1.55 such as 9), n1 is 1.60 to 1.65, n2 is 1.85 to 1.95, and n3 is 1.35. Must have a refractive index of ˜1.45, for example a refractive index of 1.5, such as polyethylene terephthalate (refractive index: 1.66).
For a transparent support of 5 to 1.65, n1 is 1.6
5 to 1.75, n2 is 1.85 to 2.05, and n3 is 1.
It should have a refractive index of 35 to 1.45. When the material for the medium-refractive index layer or high-refractive index layer having the above-mentioned refractive index cannot be selected, it is equivalent to combining a layer having a higher refractive index and a layer having a lower refractive index than the set refractive index. It is well known that the principle of a film can be used to form a layer that is substantially optically equivalent to a medium-refractive index layer or a high-refractive index layer having a set refractive index, and also for realizing the reflectance characteristics of the present invention. Can be used. The “substantially three layers” of the present invention means
It also includes an antireflection layer composed of four layers and five layers using such an equivalent film and having different refractive indexes.
【0014】上記のような層構成とすることで達成され
る本特許の反射率特性は、低反射と反射光の色味の低減
を両立することができるため、例えば液晶表示装置の最
表面に適用した場合、これまでにない視認性の高さを有
する表示装置が得られる。5度入射における鏡面反射率
の450nmから650nmまでの波長領域での平均値
が0.5%以下であることによって、表示装置表面での
外光の反射による視認性の低下が充分なレベルまで防止
できる。平均値は好ましくは0.4%以下であり、より
好ましくは0.3%以下である。また、波長380nm
から780nmの領域におけるCIE標準光源D65の
5度入射光に対する正反射光の色味が、CIE1976
L*a*b*色空間のa*、b*値がそれぞれ−7≦a
*≦7、且つ、−10≦b*≦10の範囲内とすること
で、従来の多層反射防止フィルムで問題となっていた赤
紫色から青紫色の反射光の色味が低減され、さらに0≦
a*≦5、且つ、−7≦b*≦0の範囲内とすることで
大幅に低減され、液晶表示装置に適用した場合、室内の
蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場
合の色味がニュートラルで、気にならない。詳しくはa
*>7では赤味が強く、a*<−7ではシアン味が強く
なり、好ましくない。またb*<−7では青味が強く、
b*>0では黄味が強くなり好ましくない。鏡面反射率
及び色味の測定は、分光光度計V−550(日本分光
(株)製)にアダプターARV−474を装着して、3
80〜780nmの波長領域において、入射角5°にお
ける出射角−5度の鏡面反射率を測定し、450〜65
0nmの平均反射率を算出し、反射防止性を評価するこ
とができる。さらに、測定された反射スペクトルから、
CIE標準光源D65の5度入射光に対する正反射光の
色味を表わすCIE1976L*a*b*色空間のL*
値、a*値、b*値を算出し、反射光の色味を評価する
ことができる。The reflectance characteristic of the present patent achieved by the above-mentioned layer structure can achieve both low reflection and reduction of the tint of reflected light, and therefore, for example, on the outermost surface of a liquid crystal display device. When applied, a display device having unprecedented high visibility can be obtained. Since the average value of the specular reflectance at wavelengths of 5 degrees from 450 nm to 650 nm is 0.5% or less, the reduction in visibility due to the reflection of external light on the display device surface is prevented to a sufficient level. it can. The average value is preferably 0.4% or less, more preferably 0.3% or less. Also, the wavelength is 380 nm
From 780 nm to 780 nm, the tint of specular reflection light with respect to the 5 degree incident light of the CIE standard light source D65 is CIE1976
The a * and b * values of the L * a * b * color space are −7 ≦ a.
By setting it within the range of * ≦ 7 and −10 ≦ b * ≦ 10, the tint of reddish purple to bluish purple reflected light, which has been a problem in the conventional multilayer antireflection film, is further reduced. ≤
By setting a * ≦ 5 and −7 ≦ b * ≦ 0, it is significantly reduced, and when applied to a liquid crystal display device, outside light with high brightness such as a fluorescent lamp in a room is slightly reduced. The color tones when reflected in the image is neutral, which is not a concern. Specifically, a
When it is *> 7, the redness is strong, and when it is a * <-7, the cyan taste is strong, which is not preferable. When b * <-7, the bluish color is strong,
When b *> 0, the yellowness becomes strong, which is not preferable. The specular reflectance and the tint were measured by attaching the adapter ARV-474 to a spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation), and measuring 3
In the wavelength region of 80 to 780 nm, the specular reflectance at an exit angle of -5 degrees at an incident angle of 5 ° was measured to be 450 to 65.
The antireflection property can be evaluated by calculating the average reflectance at 0 nm. Furthermore, from the measured reflection spectrum,
CIE1976 L * a * b * L * of color space representing the tint of specularly reflected light with respect to the 5 degree incident light of the CIE standard light source D65
Values, a * values, and b * values can be calculated to evaluate the tint of reflected light.
【0015】さらに、上記のように反射光の色味が大幅
に低減されたことで、反射防止層の膜厚ムラに起因する
反射光の色味ムラも大幅に低減される。すなわち、膜厚
ムラの許容範囲が広がることになり、製造得率が上が
り、コストの更なる低減が可能となる。定量的には、T
D方向(支持体長手方向と直交する方向)あるいはMD
方向(支持体長手方向)に10cm離れた任意の2つの
場所における波長380nmから780nmの領域にお
けるCIE標準光源D65の5度入射光に対する正反射
光の色味ムラで表すことができ、CIE1976L*a
*b*色空間のΔEab*値で2未満であることが好ま
しく、1.5未満であると完全に人間の目でムラを検出
できなくなり、より好ましい。Further, since the tint of the reflected light is greatly reduced as described above, the tint of the reflected light caused by the film thickness unevenness of the antireflection layer is also greatly reduced. That is, the allowable range of film thickness unevenness is expanded, the manufacturing yield is increased, and the cost can be further reduced. Quantitatively, T
D direction (direction orthogonal to the longitudinal direction of the support) or MD
Can be represented by the tint unevenness of the specular reflection light with respect to the 5 degree incident light of the CIE standard light source D65 in the wavelength range of 380 nm to 780 nm at two arbitrary positions 10 cm apart in the direction (longitudinal direction of the support), and CIE1976L * a
The ΔEab * value in the * b * color space is preferably less than 2, and less than 1.5 is more preferable because human eyes cannot detect unevenness completely.
【0016】本発明の反射防止フィルムは、トリアセチ
ルセルロース(TAC)あるいはポリエチレンテレフタ
レート(PET)のいずれかに対して常温常湿で測定し
た垂直剥離帯電が−200pc(ピコクーロン)/cm
2〜+200pc(ピコクーロン)/cm2であること
が、防塵性の観点から好ましい。より好ましくは−10
0pc/cm〜+100pc/cm2であり、さらに好
ましくは−50pc/cm2〜+50pc/cm2であ
り、最も好ましくは0pc/cm2である。ここで、単
位のpc(ピコクーロン)は、10-12クーロンであ
る。さらに好ましくは、常温10%RHで測定した垂直
剥離帯電が−100pc/cm2〜+100pc/cm2
であり、さらに好ましくは−50pc/cm2〜+50
pc/cm2であり、最も好ましくは0pc/cm2であ
る。The antireflection film of the present invention has a vertical peel charge of -200 pc (pico coulomb) / cm measured at room temperature and normal humidity for either triacetyl cellulose (TAC) or polyethylene terephthalate (PET).
It is preferably 2 to +200 pc (pico coulomb) / cm 2 from the viewpoint of dust resistance. More preferably -10
It is 0 pc / cm to +100 pc / cm 2 , more preferably −50 pc / cm 2 to +50 pc / cm 2 , and most preferably 0 pc / cm 2 . Here, the unit pc (pico coulomb) is 10 −12 coulomb. More preferably, the vertical peeling charge measured at room temperature of 10% RH is −100 pc / cm 2 to +100 pc / cm 2.
And more preferably −50 pc / cm 2 to +50.
a pc / cm 2, and most preferably 0pc / cm 2.
【0017】垂直剥離帯電の測定方法は以下の通りであ
る。測定サンプルはあらかじめ測定温度湿度の環境下で
2時間以上放置しておく。測定装置は測定サンプルを置
く台と相手のフィルムを保持して測定サンプルに上から
圧着と剥離を繰り返せるヘッドからなり、このヘッドに
帯電量を測定するエレクトロメーターがつながってい
る。測定する反射防止フィルムを台に乗せ、ヘッドにT
ACあるいはPETを装着する。測定部分を除電したの
ち、ヘッドを測定サンプルに圧着させ剥離させることを
繰り返し、1回目の剥離時と5回目の剥離時の帯電の値
を読み、これを平均する。サンプルを変えて3サンプル
でこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥離帯電
とする。The method of measuring the vertical peeling charge is as follows. The measurement sample is left in advance for 2 hours or more under the environment of measurement temperature and humidity. The measuring device is composed of a table on which a sample to be measured is placed and a head which holds the film of the other party and can press and peel the sample repeatedly from above, and an electrometer for measuring the amount of charge is connected to this head. Place the anti-reflection film to be measured on the table and put it on the head.
Wear AC or PET. After destaticizing the measurement portion, the head is pressed against the measurement sample and peeling is repeated, and the charge values at the first peeling and the fifth peeling are read and averaged. This is repeated for 3 samples with different samples, and the average of all is taken as the vertical peeling charge.
【0018】相手フィルムや測定サンプルの種類によっ
てプラスに帯電する場合とマイナスに帯電する場合があ
るが、問題となるのは絶対値の大きさである。また、一
般的に低湿度の環境下の方が帯電の絶対値は大きくな
る。本発明の反射防止フィルムはこの絶対値も小さい。Depending on the type of the mating film or the sample to be measured, it may be positively charged or negatively charged, but the problem is the magnitude of the absolute value. Further, generally, the absolute value of charging becomes larger in an environment of low humidity. The absolute value of the antireflection film of the present invention is also small.
【0019】本発明の反射防止フィルムは、常温常湿及
び常温10%RHでの垂直剥離帯電の絶対値が小さいの
で防塵性に優れる。垂直剥離帯電の値を上記の範囲とす
るには、反射防止フィルム表面の各種元素の割合を調節
することによって行われる。The antireflection film of the present invention is excellent in dustproofness because the absolute value of the vertical peeling charge at room temperature and normal humidity and room temperature 10% RH is small. The value of the vertical peeling charge is set within the above range by adjusting the ratio of various elements on the surface of the antireflection film.
【0020】本発明の反射防止フィルムの表面抵抗値
は、1×1011Ω/□以上、好ましくは1×1012Ω/
□以上である。表面抵抗値の測定方法はJISに記載さ
れている円電極法である。即ち、電圧印加後、1分後の
電流値を読み、表面抵抗値(SR)を求める。本発明で
は、表面抵抗値を小さくすること、例えば1×1010Ω
/□以下にすることで防塵性(ゴミ付着防止性)を良く
する方法とは考え方が根本的に異なる。この方法は画像
表示品位が落ちるため採用せず、本発明では上記した方
法で垂直剥離帯電の絶対値を小さくしているので、表面
抵抗値を小さくする必要がなく、表面抵抗値を1×10
11Ω/□以上とすることができ画像表示品位が落ちな
い。The surface resistance of the antireflection film of the present invention is 1 × 10 11 Ω / □ or more, preferably 1 × 10 12 Ω /.
□ Above. The method for measuring the surface resistance value is the circular electrode method described in JIS. That is, the current value one minute after the voltage application is read to obtain the surface resistance value (SR). In the present invention, it is necessary to reduce the surface resistance value, for example, 1 × 10 10 Ω
The idea is fundamentally different from the method of improving the dust-proof property (prevention of dust adhesion) by making it / □ or less. This method is not used because the image display quality is deteriorated. In the present invention, the absolute value of vertical peeling electrification is made small by the above-mentioned method. Therefore, it is not necessary to make the surface resistance value small, and the surface resistance value is 1 × 10.
It can be set to 11 Ω / □ or more and the image display quality does not deteriorate.
【0021】本発明の反射防止フィルムに用いる透明支
持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好
ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロ
ースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチ
ルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセル
ロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセル
ロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステ
ル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレン
テレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシ
エタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレン
テレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチ
ックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピ
レン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスル
ホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエ
ーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエ
ーテルケトンが含まれる。特に液晶表示装置や有機EL
表示装置等に用いるために本発明の反射防止フィルムを
偏光板の表面保護フィルムの片側として用いる場合には
トリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリア
セチルセルロースフィルムとしては、TAC−TD80
U(富士写真フィルム(株)製)等の公知のもの、公開
技報番号2001−1745にて公開されたものが好ま
しく用いられる。また、平面CRTやPDP等に用いる
ためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合にはポリ
エチレンテレフタレート、あるいははポリエチレンナフ
タレートが好ましい。透明支持体の光透過率は、80%
以上であることが好ましく、86%以上であることがさ
らに好ましい。透明支持体のヘイズは、2.0%以下で
あることが好ましく、1.0%以下であることがさらに
好ましい。透明支持体の屈折率は、1.4乃至1.7で
あることが好ましい。本発明の透明支持体の厚みは特に
限定されないが、30〜150μmが好ましく、40〜
130μmがより好ましく、70〜120μmが更に好
ましい。As the transparent support used in the antireflection film of the present invention, it is preferable to use a plastic film. Examples of materials for the plastic film include cellulose ester (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate). , Poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, Polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethylmethene Includes tacrylate and polyetherketone. Especially liquid crystal display devices and organic EL
When the antireflection film of the present invention is used as one side of the surface protective film of a polarizing plate for use in a display device or the like, triacetyl cellulose is preferably used. As a triacetyl cellulose film, TAC-TD80
Known materials such as U (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and materials disclosed in Published Technical Report No. 2001-1745 are preferably used. Further, when it is used by being stuck to a glass substrate or the like for use in a flat CRT or PDP, polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate is preferable. The light transmittance of the transparent support is 80%
It is preferably at least 80%, more preferably at least 86%. The haze of the transparent support is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less. The transparent support preferably has a refractive index of 1.4 to 1.7. The thickness of the transparent support of the present invention is not particularly limited, but is preferably 30 to 150 μm, and 40 to
130 μm is more preferable, and 70 to 120 μm is still more preferable.
【0022】中屈折率層および高屈折率層は、屈折率の
高い無機微粒子、熱または電離放射線硬化性のモノマ
ー、開始剤および溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶
媒の乾燥、熱および/または電離放射線による硬化によ
って形成される。無機微粒子としては、 Ti、Zr、
In、Zn、Sn、Sbの酸化物から選ばれた少なくと
も1種の金属酸化物からなるものが好ましい。このよう
にして形成された中屈折率層および高屈折率層は、高屈
折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較
して、耐傷性や密着性に優れる。分散液安定性や、硬化
後の膜強度等を確保するために、特開平11−1537
03号公報や特許番号US6210858B1等に記載
されているような、多官能(メタ)アクリレートモノマ
ーとアニオン性基含有(メタ)アクリレート分散剤とが
塗布組成物中に含まれることが好ましい。The medium refractive index layer and the high refractive index layer are formed by coating a coating composition containing inorganic fine particles having a high refractive index, a heat or ionizing radiation curable monomer, an initiator and a solvent, drying the solvent, heat and / or heat. Alternatively, it is formed by curing with ionizing radiation. As the inorganic fine particles, Ti, Zr,
An oxide composed of at least one metal oxide selected from oxides of In, Zn, Sn, and Sb is preferable. The medium-refractive index layer and the high-refractive index layer thus formed are excellent in scratch resistance and adhesion as compared with those obtained by coating and drying a polymer solution having a high refractive index. In order to secure the dispersion stability and the film strength after curing, etc., JP-A-11-1537
It is preferable that the coating composition contains a polyfunctional (meth) acrylate monomer and an anionic group-containing (meth) acrylate dispersant, as described in JP-A No. 03, JP No. 6210858B1 and the like.
【0023】無機微粒子の平均粒径は、コールターカウ
ンター法で測定したときの平均粒径で1から100nm
であることが好ましい。1nm以下では、比表面積が大
きすぎるために、分散液中での安定性に乏しく、好まし
くない。100nm以上では、バインダとの屈折率差に
起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。高屈折
率層および中屈折率層のヘイズは、3%以下であること
が好ましく、1%以下であることがより好ましく、0.
5%以下であることが更に好ましい。The average particle size of the inorganic fine particles is 1 to 100 nm as the average particle size when measured by the Coulter counter method.
Is preferred. If it is 1 nm or less, the specific surface area is too large, and the stability in the dispersion is poor, which is not preferable. When it is 100 nm or more, visible light is scattered due to the difference in refractive index with the binder, which is not preferable. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 1% or less, and 0.
It is more preferably 5% or less.
【0024】低屈折率層には、熱または電離放射線によ
り硬化する含フッ素化合物が用いられる。該硬化物の動
摩擦係数は好ましくは0.03〜0.15、純水に対す
る接触角は好ましくは100〜120度である。動摩擦
係数が0.15より高いと、表面を擦った時に傷つきや
すくなり、好ましくない。また、純水に対する接触角が
100度未満では指紋や油汚れ等が付着しやすくなるた
め、防汚性の観点で好ましくない。該硬化性の含フッ素
高分子化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラ
ン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,
2−テトラデシル)トリエトキシシラン)等の他、含フ
ッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単
位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノ
マー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン
類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2
−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アク
リル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導
体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM
−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素
化ビニルエーテル類等であり、これらのなかでも低屈折
率、モノマーの扱いやすさの観点で特にヘキサフルオロ
プロピレンが好ましい。架橋性基付与のためのモノマー
としてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあ
らかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモ
ノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ
基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノ
マー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)
アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレー
ト、アリルアクリレート等)が挙げられる。後者は共重
合の後、架橋構造を導入できることが特開平10−25
388号公報および特開平10−147739号公報に
より開示されており、特に好ましい。A fluorine-containing compound which is cured by heat or ionizing radiation is used for the low refractive index layer. The coefficient of dynamic friction of the cured product is preferably 0.03 to 0.15, and the contact angle with pure water is preferably 100 to 120 degrees. If the coefficient of kinetic friction is higher than 0.15, scratches are likely to occur when the surface is rubbed, which is not preferable. If the contact angle to pure water is less than 100 degrees, fingerprints, oil stains and the like are likely to adhere, which is not preferable from the viewpoint of antifouling property. As the curable fluorine-containing polymer compound, a perfluoroalkyl group-containing silane compound (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,
In addition to (2-tetradecyl) triethoxysilane) and the like, a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group as a constituent unit can be given. Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2).
-Dimethyl-1,3-dioxole, etc.), partially or fully fluorinated alkyl ester derivatives of (meth) acrylic acid (for example, biscoat 6FM (Osaka Organic Chemical) or M
-2020 (manufactured by Daikin Co., Ltd.) and completely or partially fluorinated vinyl ethers and the like. Among these, hexafluoropropylene is particularly preferable from the viewpoint of low refractive index and easy handling of the monomer. As a monomer for providing a crosslinkable group, in addition to a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in advance in the molecule such as glycidyl methacrylate, a monomer having a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, etc. ) Acrylate monomers (eg (meth) acrylic acid, methylol (meth))
Acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate and the like). The latter is capable of introducing a crosslinked structure after copolymerization.
It is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 388 and Japanese Patent Laid-Open No. 10-147739 and is particularly preferable.
【0025】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−
エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレ
ン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチ
ルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリル
アミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シ
クロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができ、特
開平10−25388号公報および特開平10−147
739号公報により開示されている。Further, not only a polymer having the above-mentioned fluorine-containing monomer as a constitutional unit but also a copolymer with a monomer not containing a fluorine atom may be used. The monomer unit that can be used in combination is not particularly limited, and examples thereof include olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic acid esters (methyl acrylate,
Methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2-
Ethylhexyl), methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether) Etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tert-butyl acrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, etc.), methacrylamides, acrylonitrile derivatives, and the like. JP-A-10-25388 and JP-A-10-147.
It is disclosed by Japanese Patent No. 739.
【0026】さらに耐傷性を付与するために動摩擦係数
を低下させる手段として、滑り性を良化できる共重合単
位を導入することができる。主鎖中にポリジメチルシロ
キサンセグメントを導入する方法が特開平11−228
631号公報に開示されており、特に好ましい。Further, as a means for lowering the dynamic friction coefficient in order to impart scratch resistance, it is possible to introduce a copolymerized unit capable of improving slipperiness. A method for introducing a polydimethylsiloxane segment into the main chain is disclosed in JP-A-11-228.
It is disclosed in Japanese Patent No. 631 and is particularly preferable.
【0027】低屈折率層の形成に用いる含フッ素樹脂に
は、耐傷性を付与するためにSiの酸化物超微粒子を添
加して用いるのが好ましい。反射防止性の観点からは屈
折率が低いほど好ましいが、含フッ素樹脂の屈折率を下
げていくと耐傷性が悪化する。そこで、含フッ素樹脂の
屈折率とSiの酸化物超微粒子の添加量を最適化するこ
とにより、耐傷性と低屈折率のバランスの最も良い点を
見出すことができる。Siの酸化物超微粒子としては、
市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布
組成物に添加しても、市販の各種シリカ紛体を有機溶剤
に分散して使用してもよい。The fluorine-containing resin used for forming the low refractive index layer is preferably added with ultrafine Si oxide particles in order to impart scratch resistance. From the viewpoint of antireflection property, the lower the refractive index, the more preferable, but as the refractive index of the fluororesin is lowered, the scratch resistance deteriorates. Therefore, by optimizing the refractive index of the fluorine-containing resin and the addition amount of the Si oxide ultrafine particles, it is possible to find the best balance between scratch resistance and low refractive index. As Si oxide ultrafine particles,
The silica sol dispersed in a commercially available organic solvent may be added to the coating composition as it is, or various commercially available silica powders may be dispersed in an organic solvent and used.
【0028】反射防止フィルムには、さらに、ハードコ
ート層、前方散乱層、帯電防止層、下塗り層や保護層を
設けてもよい。ハードコート層は、透明支持体に耐傷性
を付与するために設ける。ハードコート層は、透明支持
体とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハー
ドコート層は、多官能アクリルモノマー、ウレタンアク
リレート、エポキシアクリレート等のオリゴマー、各種
重合開始剤を溶媒に溶解した組成物に、必要に応じてシ
リカ、アルミナ等の無機フィラーを添加して得られた塗
布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および/または電離放
射線により硬化することで好ましく形成される。詳細に
ついては後述する。ハードコート層の厚さは、1〜30
μmであることが好ましく、1〜20μmであることが
さらに好ましく、2〜15μmであることが最も好まし
い。ハードコート層の鉛筆硬度はH以上であることが好
ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以
上であることが最も好ましい。ハードコート層の屈折率
は、1.45〜2.0の範囲が好ましく、1.5〜1.
8の範囲がさらに好ましい。ハードコート層は二酸化珪
素を主とする無機化合物からなる層、飽和炭化水素また
はポリエーテルを主鎖として有するポリマー等の有機化
合物からなる層、あるいは無機/有機化合物のハイブリ
ッド化された層として形成できる。飽和炭化水素を主鎖
として有するポリマーからなる層であることが特に好ま
しい。ポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭
化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽
和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋
しているバインダーポリマーを得るためには、二以上の
エチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好
ましい。The antireflection film may be further provided with a hard coat layer, a forward scattering layer, an antistatic layer, an undercoat layer and a protective layer. The hard coat layer is provided to impart scratch resistance to the transparent support. The hard coat layer also has a function of enhancing the adhesion between the transparent support and the layer above it. The hard coat layer was obtained by adding an inorganic filler such as silica or alumina to a composition prepared by dissolving a polyfunctional acrylic monomer, urethane acrylate, an oligomer such as epoxy acrylate, or a polymerization initiator in a solvent, if necessary. It is preferably formed by coating the coating composition, drying the solvent, and curing with heat and / or ionizing radiation. Details will be described later. The thickness of the hard coat layer is 1 to 30
The thickness is preferably μm, more preferably 1 to 20 μm, most preferably 2 to 15 μm. The pencil hardness of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher. The refractive index of the hard coat layer is preferably in the range of 1.45 to 2.0, and 1.5 to 1.
The range of 8 is more preferable. The hard coat layer can be formed as a layer composed of an inorganic compound mainly containing silicon dioxide, a layer composed of an organic compound such as a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain, or a hybridized layer of an inorganic / organic compound. . A layer made of a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is particularly preferable. The polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups.
【0029】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸と
のエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペン
タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベン
ゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエ
ステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニル
スルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド
(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基
を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による
重合反応により硬化させる必要がある。Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexanediacrylate). , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta ( (Meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its Derivatives (eg 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg divinyl sulfone), acrylamide (eg methylenebisacrylamide) and methacryl Includes amide. The polymer having a polyether as the main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. These monomers having an ethylenically unsaturated group need to be cured by a polymerization reaction by ionizing radiation or heat after coating.
【0030】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テト
ラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構
造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架
橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明におい
て架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解し
た結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基
を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要
がある。Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by the reaction of the crosslinkable group.
Examples of the crosslinkable functional group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxyl group, a methylol group and an active methylene group. Vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine,
Etherified methylols, esters and urethanes, and metal alkoxides such as tetramethoxysilane can also be used as monomers for introducing a crosslinked structure. You may use the functional group which shows crosslinkability as a result of a decomposition reaction like a block isocyanate group. Further, in the present invention, the cross-linking group is not limited to the above compound and may be one which exhibits reactivity as a result of decomposition of the above functional group. It is necessary to crosslink the compound having these crosslinkable groups with heat after coating.
【0031】更にハードコート層には、屈折率の調節や
膜の硬化強度を高めるために無機の微粒子を添加しても
良い。無機の微粒子としては平均粒子サイズが0.00
1〜0.5μmのものが好ましく、0.001〜0.2
μmのものが特に好ましい。無機微粒子としては二酸化
珪素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、
酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、
タルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子があげら
れ、二酸化珪素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニ
ウム粒子が特に好ましい。無機微粒子の添加量は、ハー
ドコート層の全質量の10〜90質量%であることが好
ましく、20〜80質量%であると更に好ましく、30
〜60質量%が特に好ましい。Further, inorganic fine particles may be added to the hard coat layer in order to control the refractive index and enhance the hardening strength of the film. The average particle size of the inorganic fine particles is 0.00
1 to 0.5 μm is preferable, and 0.001 to 0.2
Those having a size of μm are particularly preferable. As the inorganic fine particles, silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, aluminum oxide particles,
Tin oxide particles, calcium carbonate particles, barium sulfate particles,
Examples thereof include talc, kaolin and calcium sulfate particles, with silicon dioxide particles, titanium dioxide particles and aluminum oxide particles being particularly preferred. The amount of the inorganic fine particles added is preferably 10 to 90% by mass of the total mass of the hard coat layer, more preferably 20 to 80% by mass, and 30
-60 mass% is especially preferable.
【0032】前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場
合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改
良効果を付与するために設ける。上記ハードコート層中
に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコー
ト機能と兼ねることもできる。The forward scattering layer is provided in order to provide the effect of improving the viewing angle when the viewing angle is tilted vertically and horizontally when applied to a liquid crystal display device. By dispersing fine particles having different refractive indexes in the hard coat layer, the hard coat layer can also serve as a hard coat function.
【0033】本発明の塗布組成物のウエット塗布による
多層反射防止フィルムに表面凹凸によって背景の映り込
みをぼかす、防眩性を付与する場合には、一般に用いら
れているようなマット粒子等を含有する表面凹凸を有す
る層の上に反射防止層を形成するよりも、エンボス法等
によって反射防止層形成後に表面凹凸構造を形成したほ
うが、膜厚均一性が良化するため、反射防止性能が向上
するので好ましい。In the case where the multilayer antireflection film obtained by wet coating the coating composition of the present invention is used to obscure the background reflection due to surface irregularities and to impart antiglare properties, matte particles which are generally used are contained. Rather than forming an antireflection layer on a layer with surface irregularities, forming the surface irregularity structure after forming the antireflection layer by an embossing method improves the film thickness uniformity and improves the antireflection performance. Therefore, it is preferable.
【0034】反射防止フィルムの各層は、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコー
ト、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法
(米国特許2681294号明細書)により、塗布によ
り形成することができる。ウエット塗布量を最小化する
ことで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法およ
びグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点で
特にグラビア法が好ましい。2層以上の層を同時に塗布
してもよい。同時塗布の方法については、米国特許27
61791号、同2941898号、同3508947
号、同3526528号の各明細書および原崎勇次著、
コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に
記載がある。Each layer of the antireflection film has a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a microgravure method and an extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294). ), It can be formed by coating. The microgravure method and the gravure method are preferable from the viewpoint of eliminating drying unevenness by minimizing the wet coating amount, and the gravure method is particularly preferable from the viewpoint of film thickness uniformity in the width direction. Two or more layers may be applied simultaneously. For the simultaneous coating method, see US Pat.
61791, 2941898, and 3508947.
Nos. 3526528 and Yuji Harasaki,
Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).
【0035】本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面
保護フィルムの片側として用いる場合には、透明支持体
の反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリ
によって鹸化処理することが必要である。アルカリ鹸化
処理の具体的手段としては、以下の2つから選択するこ
とができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと
同一の工程で処理できる点で(1)が優れているが、反
射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加
水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れ
になる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程
となるが、(2)が優れる。
(1)透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ
液中に少なくとも1回浸漬することで、該フィルムの裏
面を鹸化処理する。
(2)透明支持体上に反射防止層を形成する前または後
に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィル
ムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗お
よび/または中和することで、該フィルムの裏面だけを
鹸化処理する。When the antireflection film of the present invention is used as one side of the surface protective film of a polarizer, the surface of the transparent support opposite to the surface on which the antireflection layer is formed may be saponified with alkali. is necessary. Specific means for the alkali saponification treatment can be selected from the following two. (1) is superior in that it can be processed in the same process as a general-purpose triacetyl cellulose film, but since the antireflection film surface is saponified, the surface is alkali-hydrolyzed and the film deteriorates. A problem may be that when the liquid remains, it becomes dirty. In that case, although it is a special process, (2) is excellent. (1) After the antireflection layer is formed on the transparent support, the back surface of the film is saponified by immersing the film in an alkaline solution at least once. (2) Before or after forming the antireflection layer on the transparent support, an alkaline liquid is applied to the surface of the antireflection film opposite to the surface on which the antireflection film is formed, and heating, washing and / or middle By soaking, only the back surface of the film is saponified.
【0036】偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料
を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ
素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルア
ルコール系フィルム(以下、PVAと記載する)が好ま
しく用いられる。PVAは通常、ポリ酢酸ビニルをケン
化したものであるが、変性PVAも用いることができ
る。PVAを染色して偏光膜が得られる。染色を行う例
としては、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液にPVAフィ
ルムを浸漬させる方法、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布
あるいは噴霧など任意の手段で行うことができる。PV
Aを延伸して偏光膜を製造する過程では、PVAを架橋
させる添加物、例えばホウ酸類を用いることが好まし
い。偏光板の透過率は、波長550nmの光において、
30乃至50%の範囲にあることが好ましく、35乃至
50%の範囲にあることがさらに好ましい。偏光度は、
波長550nmの光において、90乃至100%の範囲
にあることが好ましく、95乃至100%の範囲にある
ことがさらに好ましく、99乃至100%の範囲にある
ことが最も好ましい。Examples of the polarizer include iodine-based polarizers, dye-based polarizers using dichroic dyes, and polyene-based polarizers. Generally, a polyvinyl alcohol film (hereinafter referred to as PVA) is preferably used as the iodine-based polarizer and the dye-based polarizer. PVA is usually saponified polyvinyl acetate, but modified PVA can also be used. A polarizing film is obtained by dyeing PVA. As an example of dyeing, any method such as a method of immersing a PVA film in an iodine-potassium iodide aqueous solution, coating or spraying with iodine or a dye solution can be used. PV
In the process of producing a polarizing film by stretching A, it is preferable to use an additive that crosslinks PVA, such as boric acid. The transmittance of the polarizing plate at the wavelength of 550 nm is
It is preferably in the range of 30 to 50%, and more preferably in the range of 35 to 50%. The degree of polarization is
For light having a wavelength of 550 nm, it is preferably in the range of 90 to 100%, more preferably in the range of 95 to 100%, and most preferably in the range of 99 to 100%.
【0037】本発明の反射防止フィルムは、偏光子の表
面保護フィルムの片側として用いた場合、 ツイステッ
トネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチッ
ク(STN)、バーティカルアライメント(VA)、イ
ンプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコ
ンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透
過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好まし
く用いることができる。また、透過型または半透過型の
液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィル
ム(偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友
3M(株)製のD−BEFなど)と併せて用いることに
より、さらに視認性の高い表示装置を得ることができ
る。また、透過型、反射型、および半透過型の液晶表示
装置において液晶セルの全面に空気を介してアクリル板
等の前面板を配する場合には、液晶セル表面側の偏光板
だけでなく、前面板の内側及び/または外側に粘着剤等
を介して貼り付けること、界面の反射を低減することが
できるため好ましい。また、λ/4板と組み合わせるこ
とで、反射型または半透過型のLCDや、有機ELディ
スプレイ用表面保護板として用いることができる。さら
に、PET、PEN等の透明支持体上に本発明の反射防
止層を形成して、PDA、携帯電話の表面保護板、タッ
チパネル、プラズマディスプレイパネル(PDP)や陰
極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に適用で
きる。The antireflection film of the present invention, when used as one side of a surface protective film of a polarizer, is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS). ), An optically compensated bend cell (OCB), and other modes of transmission type, reflection type, or semi-transmission type liquid crystal display device. When used in a transmissive or semi-transmissive liquid crystal display device, it is used in combination with a commercially available brightness enhancement film (polarization separation film having a polarization selection layer, such as D-BEF manufactured by Sumitomo 3M Ltd.). Thus, a display device with higher visibility can be obtained. Further, in a transmissive type, a reflective type, and a semi-transmissive type liquid crystal display device, when a front plate such as an acrylic plate is arranged on the entire surface of the liquid crystal cell via air, not only the polarizing plate on the liquid crystal cell surface side, It is preferable to stick the inner surface and / or the outer surface of the front plate via an adhesive or the like, since reflection at the interface can be reduced. Also, by combining with a λ / 4 plate, it can be used as a reflective or semi-transmissive LCD or a surface protective plate for an organic EL display. Furthermore, by forming the antireflection layer of the present invention on a transparent support such as PET or PEN, it can be used in a PDA, a surface protection plate of a mobile phone, a touch panel, a plasma display panel (PDP) or a cathode ray tube display (CRT). It can be applied to various image display devices.
【0038】[0038]
【実施例】以下に、実施例をもって本発明を説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
(ハードコート層用塗布液Aの調整)ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)
製)306質量部を、16質量部のメチルエチルケトン
と220質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解し
た。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア90
7、チバガイギー社製)7.5質量部をを加え、溶解す
るまで攪拌した後に、450質量部の MEK−ST
(平均粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%のS
iO2 ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学
(株)製)を添加し、撹拌して混合物を得、孔径3μm
のポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過
してハードコート層用塗布液Aを調製した。The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these. (Preparation of coating liquid A for hard coat layer) Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.)
306 parts by mass) was dissolved in a mixed solvent of 16 parts by mass of methyl ethyl ketone and 220 parts by mass of cyclohexanone. A photopolymerization initiator (IRGACURE 90
7.5 parts by mass, manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) was added and stirred until dissolved, and then 450 parts by mass of MEK-ST.
(S with an average particle size of 10 to 20 nm and a solid content concentration of 30% by mass)
A methyl ethyl ketone dispersion of io 2 sol, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd. was added and stirred to obtain a mixture having a pore size of 3 μm.
Was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) to prepare a coating liquid A for hard coat layer.
【0039】(ハードコート層用塗布液Bの調整)上記
ハードコート層用塗布液A(溶剤乾燥し、紫外線硬化後
の屈折率:1.51)1000質量部に、平均粒径1.
3μmの架橋ポリスチレンからなる前方散乱性付与粒子
(SX−130H、屈折率:1.61、綜研化学(株)
製)150質量部を追添加し、エアディスパーにて10
分間攪拌して混合物を得、孔径3μmのポリプロピレン
製フィルター(PPE−03)で濾過して、前方散乱性
を付与した、ハードコート層用塗布液Bを調製した。(Preparation of Hard Coat Layer Coating Liquid B) 1000 parts by mass of the above hard coat layer coating liquid A (refractive index after solvent drying and UV curing: 1.51) had an average particle size of 1.
Particles with forward scattering property made of 3 μm cross-linked polystyrene (SX-130H, refractive index: 1.61, Soken Chemical Co., Ltd.)
(Manufactured) 150 parts by mass is added, and 10 parts are added with an air dispersion.
The mixture was stirred for a minute to obtain a mixture, and the mixture was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore size of 3 μm to prepare a coating solution B for hard coat layer having forward scattering property.
【0040】(ハードコート層用塗布液Cの調整)ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日
本化薬(株)製)91質量部、粒径約30nmの酸化ジ
ルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液(デ
ソライトZ−7401、JSR(株)製)218質量部
を、52質量部のメチルエチルケトン/シクロヘキサノ
ン=54/46質量%の混合溶剤に溶解した。得られた
溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバファ
インケミカルズ(株)製)10質量部を加え、撹拌して
混合物を得、孔径3μmのポリプロピレン製フィルター
(PPE−03)で濾過してハードコート層用塗布液C
を調製した。(Preparation of coating liquid C for hard coat layer) 91 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), zirconium oxide having a particle size of about 30 nm 218 parts by mass of a hard coat coating liquid containing a fine particle dispersion (Desolite Z-7401, manufactured by JSR Corporation) was dissolved in 52 parts by mass of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 54/46% by mass. To the obtained solution, 10 parts by mass of a photopolymerization initiator (IRGACURE 907, manufactured by Ciba Fine Chemicals Co., Ltd.) was added, and the mixture was stirred to obtain a mixture, which was filtered with a polypropylene filter (PPE-03) having a pore size of 3 μm to obtain a hard solution. Coating liquid C for coating layer
Was prepared.
【0041】(二酸化チタン分散物の調製)二酸化チタ
ン超微粒子(TTO−55B、石原テクノ(株)製)3
0質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート(DMA
EA、興人(株)製)1質量部、リン酸基含有アニオン
性分散剤(KAYARAD PM−21、日本化薬
(株)製)6質量部およびシクロヘキサノン63質量部
を、サンドグラインダーによって、コールター法で測定
した平均粒径が42nmになるまで分散し、二酸化チタ
ン分散物を調製した。(Preparation of titanium dioxide dispersion) Ultrafine titanium dioxide particles (TTO-55B, manufactured by Ishihara Techno Co., Ltd.) 3
0 parts by weight, dimethylaminoethyl acrylate (DMA
1 part by mass of EA, manufactured by Kojin Co., Ltd., 6 parts by mass of a phosphate group-containing anionic dispersant (KAYARAD PM-21, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 63 parts by mass of cyclohexanone were coultered with a sand grinder. The titanium dioxide dispersion was prepared by dispersing until the average particle size measured by the method reached 42 nm.
【0042】(中屈折率層用塗布液Aの調製)シクロヘ
キサノン75質量部およびメチルエチルケトン19質量
部に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギ
ー社製)0.11質量部および光増感剤(カヤキュアー
DETX、日本化薬(株)製)0.04質量部を溶解し
た。さらに、二酸化チタン分散物3.1質量部およびジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、
日本化薬(株)製)2.1質量部を加え、室温で30分
間撹拌した後、孔径3μmのポリプロピレン製フィルタ
ー(PPE−03)で濾過して、中屈折率層用塗布液を
調製した。(Preparation of Coating Solution A for Medium Refractive Index Layer) To 75 parts by mass of cyclohexanone and 19 parts by mass of methyl ethyl ketone, 0.11 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure) are added. 0.04 parts by mass of DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was dissolved. Further, 3.1 parts by mass of titanium dioxide dispersion and a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA,
2.1 parts by mass of Nippon Kayaku Co., Ltd. was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore size of 3 μm to prepare a coating liquid for medium refractive index layer. .
【0043】(中屈折率層用塗布液Bの調製)シクロヘ
キサノン750質量部、メチルエチルケトン190質量
部に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギ
ー社製)1.2質量部および光増感剤(カヤキュアーD
ETX、日本化薬(株)製)0.4質量部を溶解した。
さらに、二酸化チタン分散物105質量部およびジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本
化薬(株)製)21質量部を加え、室温で30分間撹拌
した後、孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(P
PE−03)で濾過して、中屈折率層用塗布液Bを調製
した。(Preparation of Coating Solution B for Medium Refractive Index Layer) 750 parts by mass of cyclohexanone and 190 parts by mass of methyl ethyl ketone, 1.2 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure). D
0.4 parts by mass of ETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was dissolved.
Furthermore, 105 parts by mass of titanium dioxide dispersion and 21 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then the pore size was 3 μm. Polypropylene filter (P
It filtered with PE-03) and the coating liquid B for middle refractive index layers was prepared.
【0044】(高屈折率層用塗布液の調製)シクロヘキ
サノン54質量部およびメチルエチルケトン18質量部
に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー
社製)0.13質量部および光増感剤(カヤキュアーD
ETX、日本化薬(株)製)0.04質量部を溶解し
た。さらに、二酸化チタン分散物26.4質量部および
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPH
A、日本化薬(株)製)1.6質量部を加え、室温で3
0分間撹拌した後、孔径3μmのポリプロピレン製フィ
ルター(PPE−03)で濾過して、高屈折率層用塗布
液を調製した。(Preparation of coating liquid for high refractive index layer) 54 parts by mass of cyclohexanone and 18 parts by mass of methyl ethyl ketone, 0.13 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure D).
0.04 parts by mass of ETX and manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. were dissolved. Furthermore, 26.4 parts by mass of titanium dioxide dispersion and a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPH
1.6 parts by mass of A, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and added at room temperature to 3
After stirring for 0 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore size of 3 μm to prepare a coating liquid for high refractive index layer.
【0045】(低屈折率層用塗布液の調製)屈折率1.
42であり、熱架橋性含フッ素ポリマーの6質量パーセ
ントのメチルエチルケトン溶液(JN−7228、JS
R(株)製)を溶媒置換して、メチルイソブチルケトン
85質量%、2−ブタノール15質量%からなる混合溶
媒中に固形分10質量%を含有するポリマー溶液を得
た。このポリマー溶液70質量部にMEK−ST(平均
粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%のSiO2
ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学(株)製)
10質量部、およびメチルイソブチルケトン42質量部
およびシクロヘキサノン28質量部を添加、攪拌の後、
孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−0
3)でろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。(Preparation of coating liquid for low refractive index layer) Refractive index 1.
42, a 6 mass% methyl ethyl ketone solution of a heat-crosslinkable fluoropolymer (JN-7228, JS
R (manufactured by R Co., Ltd.) was subjected to solvent substitution to obtain a polymer solution containing a solid content of 10% by mass in a mixed solvent of 85% by mass of methyl isobutyl ketone and 15% by mass of 2-butanol. In 70 parts by mass of this polymer solution, MEK-ST (average particle size: 10 to 20 nm, solid content: 30% by mass of SiO 2
Methyl ethyl ketone dispersion of sol, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.
10 parts by mass, 42 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 28 parts by mass of cyclohexanone were added, and after stirring,
Polypropylene filter with a pore size of 3 μm (PPE-0
It filtered by 3) and prepared the coating liquid for low refractive index layers.
【0046】[実施例1]
(反射防止フィルムの作成)80μmの厚さのトリアセ
チルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写
真フィルム(株)製、屈折率:1.47)に、上記のハ
ードコート層用塗布液Aを、グラビアコーターを用いて
塗布し、100℃で2分間乾燥した。次に紫外線を照射
して、塗布層を硬化させ、ハードコート層(屈折率:
1.51、膜厚:6μm)を形成した。続いて、上記の
中屈折率層用塗布液Aをグラビアコーターを用いて塗布
し、100℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、中屈折率層(屈折率:1.63、膜厚:67
nm)を設けた。中屈折率層の上に、上記の高屈折率層
用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、100℃
で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高
屈折率層(屈折率:1.90、膜厚:107nm)を設
けた。さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗
布液をグラビアコーターを用いて塗布し、120℃で8
分間、塗布層を硬化させ、低屈折率層(屈折率:1.4
3、膜厚:86nm )を設けた。このようにして反射
防止フィルムを作成した。[Example 1] (Preparation of antireflection film) A triacetyl cellulose film having a thickness of 80 µm (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., refractive index: 1.47) was coated with the above hard coat. The layer coating liquid A was applied using a gravure coater and dried at 100 ° C. for 2 minutes. Next, it is irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer and hard coat layer (refractive index:
1.51, film thickness: 6 μm) was formed. Subsequently, the coating liquid A for the medium refractive index layer was coated using a gravure coater, dried at 100 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and the medium refractive index layer (refractive index: 1. 63, film thickness: 67
nm). The above-mentioned coating liquid for high refractive index layer is applied onto the medium refractive index layer using a gravure coater, and the temperature is 100 ° C.
After being dried at 1, the coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays to form a high refractive index layer (refractive index: 1.90, film thickness: 107 nm). Further, the above low-refractive-index layer coating liquid was applied onto the high-refractive-index layer using a gravure coater, and the coating was performed at 120 ° C.
The coating layer is cured for a minute, and the low refractive index layer (refractive index: 1.4
3, film thickness: 86 nm). In this way, an antireflection film was prepared.
【0047】(反射防止フィルムの評価)得られたフィ
ルムについて、以下の項目の評価を行った。その結果を
表1にまとめる。
(1)鏡面反射率及び色味
分光光度計V−550(日本分光(株)製)にアダプタ
ーARV−474を装着して、380〜780nmの波
長領域において、入射角5°における出射角−5度の鏡
面反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を
算出し、反射防止性を評価した。さらに、測定された反
射スペクトルから、CIE標準光源D65の5度入射光
に対する正反射光の色味を表わすCIE1976L*a
*b*色空間のL*値、a*値、b*値を算出し、反射
光の色味を評価した。
(2)鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてJIS K 5400に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度25℃、湿度60
%RHで2時間調湿した後、JIS S 6006に規
定する2H〜5Hの試験用鉛筆を用いて、500gの荷
重にて、以下のとおりの判定で評価し、OKとなる最も
高い硬度を評価値とした。
n=5の評価において傷なし〜傷1つ :OK
n=5の評価において傷が3つ以上 :NG
(3)接触角測定
表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度25℃、
湿度60%RHで2時間調湿した後、純水の接触角を測
定し、指紋付着性の指標とした。
(4)動摩擦係数測定
表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を25℃、相対湿度60%で2時間調湿し
た後、HEIDON−14動摩擦測定機により5mmφ
ステンレス鋼球、荷重100g、速度60cm/min
にて測定した値を用いた。
(5)垂直剥離帯電量測定
本文中に記載した通りの方法で垂直剥離帯電量を測定し
た。
(6)表面抵抗値
円電極法により表面抵抗値を測定した。(Evaluation of Antireflection Film) The obtained film was evaluated for the following items. The results are summarized in Table 1. (1) The specular reflectance and tint spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation) was equipped with an adapter ARV-474, and an emission angle of -5 at an incident angle of 5 ° in a wavelength range of 380 to 780 nm. The specular reflectance was measured, the average reflectance from 450 to 650 nm was calculated, and the antireflection property was evaluated. Further, from the measured reflection spectrum, CIE1976L * a showing the tint of specular reflection light with respect to the 5 degree incident light of the CIE standard light source D65.
The L * value, a * value, and b * value in the * b * color space were calculated, and the tint of the reflected light was evaluated. (2) Pencil hardness evaluation As an index of scratch resistance, the pencil hardness evaluation described in JIS K 5400 was performed. Anti-reflection film temperature 25 ℃, humidity 60
After conditioning the humidity for 2 hours at% RH, using a test pencil of 2H to 5H defined in JIS S 6006, the load is 500 g, the evaluation is as follows, and the highest hardness that is OK is evaluated. Value. No scratches to one scratch in the evaluation of n = 5: OK Three or more scratches in the evaluation of n = 5: NG (3) Contact angle measurement The optical material was used at a temperature of 25 ° C. as an index of the surface stain resistance.
After humidity was adjusted for 2 hours at a humidity of 60% RH, the contact angle of pure water was measured and used as an index of fingerprint adhesion. (4) Dynamic friction coefficient measurement The dynamic friction coefficient was evaluated as an index of surface slipperiness. The coefficient of kinetic friction was adjusted to 5 mmφ with a HEIDON-14 kinetic friction meter after conditioning the sample for 2 hours at 25 ° C and 60% relative humidity.
Stainless steel ball, load 100g, speed 60cm / min
The value measured in 1. was used. (5) Measurement of Vertical Peeling Charge The vertical peeling charge was measured by the method described in the text. (6) Surface resistance value The surface resistance value was measured by the circular electrode method.
【0048】[比較例]物理蒸着法により、実施例1の
ハードコート上に順次、酸化チタン(屈折率:2.3
9)25nmと酸化ケイ素(屈折率1.47)25nm
の2層からなる実質上中屈折率層、酸化チタン46nm
からなる高屈折率層、酸化ケイ素97nmからなる低屈
折率層を形成し、反射防止フィルムを作成し、実施例1
と同様の評価を行った。図2に本発明の実施例1および
比較例1の反射防止フィルムの波長380nmから78
0nmまでにおける反射率スペクトルを示した。Comparative Example Titanium oxide (refractive index: 2.3) was sequentially deposited on the hard coat of Example 1 by physical vapor deposition.
9) 25 nm and silicon oxide (refractive index 1.47) 25 nm
Substantially medium refractive index layer consisting of two layers, titanium oxide 46 nm
A high-refractive-index layer made of, and a low-refractive-index layer made of silicon oxide of 97 nm were formed to prepare an antireflection film.
The same evaluation as was done. FIG. 2 shows wavelengths of 380 nm to 78 of the antireflection films of Example 1 and Comparative Example 1 of the present invention.
The reflectance spectrum up to 0 nm is shown.
【0049】[実施例2]実施例1で作成した反射防止
フィルムを、2.0規定、55℃のNaOH水溶液中に
2分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロー
ス面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチルセル
ロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フィル
ム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリ
ビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成し
た偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。こ
のようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面
となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソ
コンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィ
ルムである住友3M(株)製のD−BEFをバックライ
トと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り
代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品
位の非常に高い表示装置が得られた。[Example 2] The antireflection film prepared in Example 1 was dipped in a 2.0 N NaOH aqueous solution at 55 ° C for 2 minutes to saponify the triacetyl cellulose surface on the back surface of the film to 80 µm. Of triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with different thickness is adsorbed with iodine on polyvinyl alcohol with a film saponified under the same conditions, and both sides of the polarizer prepared by stretching are bonded. , And protected and a polarizing plate was prepared. The polarizing plate prepared in this manner was used in a liquid crystal display device of a notebook computer equipped with a transmissive TN liquid crystal display device so that the antireflection film side became the outermost surface (Sumitomo 3M Co., Ltd., a polarization separation film having a polarization selection layer). When the manufactured D-BEF was attached to the polarizing plate on the viewing side (having the D-BEF between the backlight and the liquid crystal cell), a display device having a very low background reflection and a very high display quality was obtained.
【0050】[実施例3]実施例2の鹸化処理を、1.
0規定のKOH水溶液を#3バーにて反射防止フィルム
の裏面に塗布し、膜面温度60℃にて10秒間処理した
後に水洗、乾燥して行った以外は実施例2と同様にし
て、液晶表示装置に貼り付けたところ、実施例2と同様
の表示品位の高い表示装置が得られた。[Example 3] The saponification treatment of Example 2 was repeated as follows.
A liquid crystal was prepared in the same manner as in Example 2 except that a 0 N aqueous KOH solution was applied to the back surface of the antireflection film with a # 3 bar, treated at a film surface temperature of 60 ° C. for 10 seconds, washed with water, and dried. When it was attached to a display device, a display device with high display quality similar to that of Example 2 was obtained.
【0051】[実施例4]実施例3の反射防止フィルム
を貼り付けた透過型TN液晶セルの視認側の偏光板の液
晶セル側の保護フィルムおよびバックライト側の偏光板
の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造
単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ
該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面と
のなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化して
いる光学補償層を有する視野角拡大フィルム(ワイドビ
ューフィルムSA−12B、富士写真フィルム(株)
製)を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且
つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優
れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。[Embodiment 4] A protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate on the visible side of the transmissive TN liquid crystal cell to which the antireflection film of Example 3 is attached and a liquid crystal cell side protection of the polarizing plate on the backlight side. In the film, the disc surface of the discotic structural unit is inclined with respect to the transparent support surface, and the angle formed by the disc surface of the discotic structural unit and the transparent support surface changes in the depth direction of the optical anisotropic layer. Viewing angle expansion film having an optical compensation layer (Wide View Film SA-12B, Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Manufactured), a liquid crystal display device having a high contrast in a bright room, a wide viewing angle in the vertical and horizontal directions, a very high visibility, and a high display quality was obtained.
【0052】[実施例5]実施例1のハードコート用塗
布液Aの代わりにハードコート層用塗布液Bを用いた以
外は実施例1と同様にして、前方散乱機能を有する反射
防止フィルムを作成し、実施例4と同様にして、最表面
側にこの前方散乱性反射防止フィルムを、液晶セル側に
視野角拡大フィルムワイドビューフィルム(WV−12
A、富士写真フィルム(株)製)を有する偏光板を配置
した透過型TN液晶表示装置を作成した。このようにし
て作成した液晶表示装置は、実施例4と比較して、下方
向に視角を倒した時の階調反転が起こる限界角が40度
から60度まで改善され、視認性、表示品位において大
変優れたものであった。[Example 5] An antireflection film having a forward scattering function was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid B for hard coat layer was used in place of the coating liquid A for hard coat. In the same manner as in Example 4, this forward scattering antireflection film was formed on the outermost surface side, and the viewing angle widening film wide view film (WV-12) was formed on the liquid crystal cell side.
A, a transmission type TN liquid crystal display device in which a polarizing plate having Fuji Photo Film Co., Ltd. was arranged was prepared. In the liquid crystal display device thus manufactured, the limit angle at which gradation inversion occurs when the viewing angle is tilted downward is improved from 40 degrees to 60 degrees as compared with Example 4, and the visibility and display quality are improved. It was very good at.
【0053】[実施例6]実施例3の反射防止層を有す
る偏光板を最表面に配し、アクリル前面板の内側と外側
の両面に実施例1で作成した反射防止フィルムを粘着剤
を介して貼り合わせて、前面板を最表面に配した半透過
型液晶表示装置を具備する携帯電話を作成したところ、
前面板のない反射防止処理した液晶表示装置と遜色のな
い、視認性の高い表示装置が得られえた。また、前面板
の内側だけに実施例1の反射防止フィルムを貼り合せた
もの、なにも貼り合せなかったもの、及び前面板にも液
晶セルにも反射防止のないものを同時に作成した結果、
反射防止フィルムの枚数の減少とともに視認性が悪化
し、反射防止なしのものは蛍光灯等の映りこんだところ
の文字が完全に読めなくなった。Example 6 The polarizing plate having the antireflection layer of Example 3 was placed on the outermost surface, and the antireflection film prepared in Example 1 was placed on both inner and outer sides of the acrylic front plate with an adhesive. When pasted together to create a mobile phone equipped with a semi-transmissive liquid crystal display device with the front plate on the outermost surface,
It was possible to obtain a display device having a high visibility comparable to that of a liquid crystal display device having an antireflection treatment without a front plate. In addition, as a result of simultaneously preparing the one in which the antireflection film of Example 1 was bonded only on the inside of the front plate, the one in which nothing was bonded, and the one without antireflection on both the front plate and the liquid crystal cell,
As the number of anti-reflection films decreased, the visibility deteriorated, and in the case without anti-reflection, the characters in the area where a fluorescent lamp was reflected became completely unreadable.
【0054】[実施例7]実施例1で作成した反射防止
フィルムを有機EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤
を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑
えられ、視認性の高い表示装置が得られえた。[Example 7] When the antireflection film prepared in Example 1 was attached to a glass plate on the surface of an organic EL display device via an adhesive, reflection on the glass surface was suppressed and visibility was improved. A high display device can be obtained.
【0055】[実施例8]実施例3で作成した片面反射
防止フィルム付き偏光板の反射防止膜を有している側の
反対面にλ/4板を張り合わせ、有機EL表示装置の表
面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表
面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性
の高い表示が得られた。[Embodiment 8] A glass plate on the surface of an organic EL display device was prepared by laminating a λ / 4 plate on the opposite surface of the polarizing plate with a single-sided antireflection film prepared in Example 3 on the side having an antireflection film. When it was attached to a plate, surface reflection and reflection from the inside of the surface glass were cut, and a display with extremely high visibility was obtained.
【0056】[実施例9]片面下塗り層を有し、厚み1
88μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(コス
モシャインA4100、帝人(株)製、屈折率:1.6
5)の下塗り面にハードコート用塗布液Cを実施例1と
同様にして塗布、溶媒の乾燥、紫外線硬化を行い、ハー
ドコート層(屈折率:1.61、膜厚:8μm)を形成
した。続いて、上記の中屈折率層用塗布液Bをグラビア
コーターを用いて塗布し、100℃で乾燥した後、紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層(屈折率:
1.70、膜厚:70nm)を設けた。中屈折率層の上
に、上記の高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用
いて塗布し、100℃で乾燥した後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、高屈折率層(屈折率:1.90、膜
厚:120nm)を設けた。さらに高屈折率層の上に、
上記の低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて
塗布し、120℃で8分間、塗布層を硬化させ、低屈折
率層(屈折率:1.43、膜厚:90nm )を設け
た。このようにして反射防止フィルムを作成し、実施例
1と同様の評価を行った。反射光の色味が著しく低減さ
れ、また、鉛筆高度が非常に高く、フラットCRT、お
よびPDPの最表面に貼り付けたところ、低反射、反射
光の色味低減、および高い膜硬度を同時に満足した表示
装置が得られた。[Example 9] A single-sided undercoat layer having a thickness of 1
88 μm polyethylene terephthalate film (Cosmo Shine A4100, manufactured by Teijin Ltd., refractive index: 1.6
5) Coating solution C for hard coat was applied to the undercoat surface in the same manner as in Example 1, followed by drying the solvent and UV curing to form a hard coat layer (refractive index: 1.61, film thickness: 8 μm). . Subsequently, the coating liquid B for medium refractive index layer described above is coated using a gravure coater, dried at 100 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and the medium refractive index layer (refractive index:
1.70, film thickness: 70 nm). The above-mentioned coating liquid for high refractive index layer was applied onto the medium refractive index layer using a gravure coater, dried at 100 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and the high refractive index layer (refractive index Ratio: 1.90, film thickness: 120 nm). On top of the high refractive index layer,
The above low-refractive-index layer coating liquid was applied using a gravure coater, and the applied layer was cured at 120 ° C. for 8 minutes to provide a low-refractive index layer (refractive index: 1.43, film thickness: 90 nm). . In this way, an antireflection film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The tint of reflected light is remarkably reduced, and the pencil height is very high. When it is attached to the outermost surface of flat CRT and PDP, low reflection, reduced tint of reflected light and high film hardness are satisfied at the same time. The obtained display device was obtained.
【0057】[0057]
【表1】 [Table 1]
【0058】実施例1および9の反射防止フィルムは、
低反射率と色味低減が両立され、非常に好ましい反射特
性を有するだけでなく、動摩擦が低いため、耐傷性に優
れ、純水の接触角が高いことから、撥水、撥油性に優れ
るため、防汚性に優れ、さらに、鉛筆硬度が高く、傷が
つき難い。さらに、TD方向、MD方向に10cm離れ
た任意の2つの場所における波長380nmから780
nmの領域におけるCIE標準光源D65の5度入射光
に対する正反射光の色味ムラが、CIE1976L*a
*b*色空間のΔEab*値で0〜1.5の範囲に入っ
ているため、場所違いでの反射光の色味の均一性が高
い。また、表面抵抗値はいずれも1×10 12Ω/□以上
であったが垂直剥離帯電が+120pc(ピコクーロ
ン)/cm2であり、防塵性に優れていた。比較例の反
射防止フィルムは、反射光が赤紫色に強く着色してお
リ、表示品位に劣っていた。また、動摩擦が高いため、
耐傷性に劣り、純水の接触角が低く、防汚性が悪いもの
であった。The antireflection films of Examples 1 and 9 were
Both low reflectance and reduction of tint are compatible with each other, which is a very preferable reflection characteristic.
Not only is it resistant to damage, it also has low dynamic friction, so it has excellent scratch resistance.
The contact angle of pure water is high, so it has excellent water and oil repellency.
Therefore, it has excellent stain resistance, pencil hardness, and scratches.
It's hard to get along. Furthermore, 10 cm away in the TD and MD directions
Wavelengths from 380 nm to 780 at any two locations
5 degree incident light of CIE standard light source D65 in the nm range
The unevenness of the specular reflection light to CIE1976L * a
Within the range of 0 to 1.5 in the ΔEab * value of * b * color space
Therefore, the color uniformity of the reflected light at different locations is high.
Yes. In addition, the surface resistance value is 1 × 10 12Ω / □ or more
However, the vertical peeling charge was +120 pc (picocool
) / Cm2And was excellent in dust resistance. Anti-comparative example
Reflection light is strongly colored in reddish purple on the anti-fire film.
The display quality was inferior. Also, because of high dynamic friction,
Inferior in scratch resistance, low contact angle of pure water, and poor antifouling property
Met.
【0059】[実施例10]実施例2の偏光子に、以下
の方法で作製した偏光子を用いる以外は、実施例2と同
様にして、偏光板を作成した。反射防止性能は実施例1
と同一であったが、得られた偏光子の吸収軸方向は、長
手方向に対し45゜傾斜しており、偏光板を各サイズに
打ち抜く際に発生する打ち抜き屑が減少した。
(偏光子の作製)PVAフィルムをヨウ素5.0g/
l、ヨウ化カリウム10.0g/lの水溶液に25℃に
て90秒浸漬し、さらにホウ酸10g/lの水溶液に2
5℃にて60秒浸漬後、米国特許公開第2002−88
40A1号のFig.2の形態のテンター延伸機に導入し、
7.0倍に一旦延伸した後5.3倍まで収縮させ、以降
幅を一定に保ち、70℃で乾燥した後テンターより離脱
した。左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.0
5%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程
に送られるフィルムの中心線のなす角は、0゜であっ
た。ここでFig.2中|L1−L2|、Wとも0.7mで
あった。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観
察されなかった。この偏光子の550nmにおける透過
率は43.3%、偏光度は99.98%であった。Example 10 A polarizing plate was produced in the same manner as in Example 2 except that the polarizer produced by the following method was used as the polarizer of Example 2. The antireflection performance is shown in Example 1.
However, the absorption axis direction of the obtained polarizer was inclined by 45 ° with respect to the longitudinal direction, and the punching scraps generated when punching the polarizing plate into each size were reduced. (Production of Polarizer) PVA film with iodine 5.0 g /
1, potassium iodide 10.0 g / l in an aqueous solution at 25 ° C. for 90 seconds, and then boric acid 10 g / l in an aqueous solution.
After dipping at 5 ° C for 60 seconds, US Patent Publication No. 2002-88
Introduced to the tenter stretching machine of the form of Fig. 2 of No. 40A1,
The film was once stretched to 7.0 times and then shrunk to 5.3 times. Thereafter, the width was kept constant, dried at 70 ° C., and then removed from the tenter. The difference in transport speed between the left and right tenter clips is 0.0
It was less than 5%, and the angle formed by the center line of the film introduced and the center line of the film sent to the next step was 0 °. Here, both | L1-L2 | and W in Fig. 2 were 0.7 m. Wrinkles and film deformation at the tenter exit were not observed. The transmittance of this polarizer at 550 nm was 43.3%, and the polarization degree was 99.98%.
【0060】[0060]
【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、450n
mから650nmまでの平均反射率が0.5%以下であ
るため、液晶ディスプレイに適用したとき、反射光の映
り込みによる視認性の悪化が高いレベルで防止される。
さらに、波長380nmから780nmの領域における
CIE標準光源D65の5度入射光に対する正反射光の
色味で評価した時に、 CIE1976L*a*b*色
空間のa*、b*値がそれぞれ−7≦a*≦7、−10
≦b*≦10の範囲内にあるため、ディスプレイに向か
う使用者の背面の蛍光灯等、輝度の高い光源がディスプ
レイ表面に映りこんだときにも赤紫色や青紫色に着色す
ることがなく、表示品位の低下が少ないと同時に膜厚ム
ラに対する色味ムラが小さく製造得率が高い。また、垂
直剥離帯電量が小さいため、表面抵抗値が高くても防塵
性に優れる。また、種々のモードの液晶表示装置に用い
る偏光板、有機ELに用いる偏光板とλ/4板を組み合
わせた表面保護板、PETフィルムに適用した平面CR
TあるいはPDP用表面保護板等、様々なディスプレイ
に用いることができる。The antireflection film of the present invention is 450 n
Since the average reflectance from m to 650 nm is 0.5% or less, when applied to a liquid crystal display, deterioration of visibility due to reflection of reflected light is prevented at a high level.
Further, when evaluated by the tint of the specular reflection light with respect to the 5 degree incident light of the CIE standard light source D65 in the wavelength range of 380 nm to 780 nm, the a * and b * values of the CIE1976L * a * b * color space are −7 ≦, respectively. a * ≦ 7, −10
Since it is within the range of ≦ b * ≦ 10, even when a high-luminance light source such as a fluorescent lamp on the back of the user who faces the display is reflected on the display surface, it is not colored red purple or blue purple, The display quality is not significantly deteriorated, at the same time, the unevenness of the tint with respect to the unevenness of the film thickness is small and the manufacturing yield is high. Further, since the vertical peeling charge amount is small, the dust resistance is excellent even if the surface resistance value is high. Further, a polarizing plate used in liquid crystal display devices of various modes, a surface protection plate in which a polarizing plate used in an organic EL and a λ / 4 plate are combined, and a plane CR applied to a PET film
It can be used for various displays such as a T or PDP surface protection plate.
【図1】本発明の反射防止フィルムの具体例を示す模式
図である。FIG. 1 is a schematic view showing a specific example of an antireflection film of the present invention.
【図2】本発明の実施例1および比較例1の反射防止フ
ィルムの波長380nmから780nmまでにおける反
射率スペクトルである。FIG. 2 is reflectance spectra of the antireflection films of Example 1 and Comparative Example 1 of the present invention at wavelengths from 380 nm to 780 nm.
1 透明支持体 2 ハードコート層 3 中屈折率層 4 高屈折率層 5 低屈折率層 1 transparent support 2 Hard coat layer 3 Middle refractive index layer 4 High refractive index layer 5 Low refractive index layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1335 G02F 1/1335 510 4F100 500 1/13363 5G435 510 1/139 1/13363 G09F 9/00 313 1/139 G02B 1/10 A G09F 9/00 313 Z Fターム(参考) 2H049 BA02 BA05 BA06 BA07 BA42 BB23 BB33 BC22 2H088 HA17 HA18 HA24 JA04 JA11 JA13 MA20 2H089 QA16 RA10 TA14 TA15 TA16 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Z FA26X FA37X FA41Z FC02 FD06 HA10 LA30 2K009 AA06 AA15 BB24 BB28 CC03 CC24 CC26 DD02 DD05 4F100 AA21C AA25C AA27C AA28C AA29C AJ06A AK01B AK42A AR00D AR00E BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA26 CA30C DE01C EH46 EH46C EJ42 EJ53 EJ53C EJ86C GB41 JB05B JB14A JB14B JK16B JN01A JN06 JN18A JN18B JN18C JN18D JN18E YY00A YY00B YY00C 5G435 AA02 BB05 BB06 BB12 FF04 FF05 FF14 HH02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02F 1/1335 G02F 1/1335 510 4F100 500 1/13363 5G435 510 1/139 1/13363 G09F 9/00 313 1/139 G02B 1/10 A G09F 9/00 313 ZF term (reference) 2H049 BA02 BA05 BA06 BA07 BA42 BB23 BB33 BC22 2H088 HA17 HA18 HA24 JA04 JA11 JA13 MA20 2H089 QA16 RA10 TA14 TA15 TA16 2H091 FA08X FA08Z FA11 FA14X FA08Z FA08 FA FA41Z FC02 FD06 HA10 LA30 2K009 AA06 AA15 BB24 BB28 CC03 CC24 CC26 DD02 DD05 4F100 AA21C AA25C AA27C AA28C AA29C AJ06A AK01B AK42A AR00D AR00E BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA26 CA30C DE01C EH46 EH46C EJ42 EJ53 EJ53C EJ86C GB41 JB05B JB14A JB14B JK16B JN01A JN06 JN18A JN18B JN18C JN18D JN18E YY00A YY00B YY00C 5G435 AA02 BB05 BB06 BB12 FF04 FF05 FF14 HH02
Claims (24)
低い低屈折率層を少なくとも一層有する反射防止フィル
ムにおいて、5度入射における鏡面反射率の450nm
から650nmまでの波長領域での平均値が0.5%以
下、且つ、波長380nmから780nmの領域におけ
るCIE標準光源D65の5度入射光に対する正反射光
の色味が、CIE1976L*a*b*色空間のa*、
b*値がそれぞれ−7≦a*≦7、且つ、−10≦b*
≦10の範囲内にあることを特徴とする反射防止フィル
ム。1. An antireflection film comprising a transparent support and at least one low refractive index layer having a refractive index lower than that of the support, and having a specular reflectance of 450 nm at 5 degrees incidence.
To 650 nm, the average value in the wavelength range from 0.5 to 650 nm is 0.5% or less, and the tint of specular reflection light with respect to the 5 degree incident light of the CIE standard light source D65 in the wavelength range from 380 nm to 780 nm is CIE1976L * a * b *. A * of color space,
b * values are −7 ≦ a * ≦ 7 and −10 ≦ b *, respectively.
An antireflection film having a range of ≦ 10.
b*値がそれぞれ0≦a*≦5、且つ、−7≦b*≦0
の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の反射
防止フィルム。2. In the antireflection film, a *,
b * values are 0 ≦ a * ≦ 5 and −7 ≦ b * ≦ 0, respectively.
The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection film is in the range of.
射における鏡面反射率の450nmから650nmまで
の波長領域での平均値が0.4%以下であることを特徴
とする請求項1または2に記載の反射防止フィルム。3. The antireflection film according to claim 1, wherein an average value of specular reflectance at 5 degrees incidence in a wavelength region from 450 nm to 650 nm is 0.4% or less. Anti-reflection film.
射における鏡面反射率の450nmから650nmまで
の波長領域での平均値が0.3%以下であることを特徴
とする請求項1または2に記載の反射防止フィルム。4. The antireflection film according to claim 1, wherein an average value of specular reflectance at 5 degrees incidence in a wavelength region from 450 nm to 650 nm is 0.3% or less. Anti-reflection film.
が、膜形成性の溶質と少なくとも1種類の溶媒を含有す
る塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および/または電
離放射線による硬化により形成されたものであることを
特徴とする請求項1〜4いずれか1項に記載の反射防止
フィルム。5. Each layer of the antireflection film is formed by applying a coating composition containing a film-forming solute and at least one solvent, drying the solvent, and curing with heat and / or ionizing radiation. The antireflection film according to any one of claims 1 to 4, which is a film.
に、低屈折率層側から順に該支持体よりも高い屈折率を
有する高屈折率層、該支持体と高屈折率層の中間の屈折
率を有する中屈折率層、の実質上3層の屈折率の異なる
層が形成されていることを特徴とする請求項5に記載の
反射防止フィルム。6. A high refractive index layer having a refractive index higher than that of the support in order from the low refractive index layer side between the low refractive index layer and the transparent support, and the support and the high refractive index layer. The antireflection film according to claim 5, wherein substantially three layers, that is, a medium refractive index layer having an intermediate refractive index, having different refractive indexes are formed.
長λ(=500nm)に対して中屈折率層が下式(I)
を、高屈折率層が下式(II)を、低屈折率層が下式
(III)をそれぞれ満足することを特徴とする請求項
6に記載の反射防止フィルム。 lλ/4×0.80<n1d1<lλ/4×1.00 (I) mλ/4×0.75<n2d2<mλ/4×0.95 (II) nλ/4×0.95<n3d3<nλ/4×1.05 (III) (但し、式中、lは1であり、n1は中屈折率層の屈折
率であり、そして、d1は中屈折率層の層厚(nm)で
あり、mは2であり、n2は高屈折率層の屈折率であ
り、そして、d2は高屈折率層の層厚(nm)であり、
nは1であり、n3は低屈折率層の屈折率であり、そし
て、d3は低屈折率層の層厚(nm)である)7. In the antireflection film, the medium refractive index layer has the following formula (I) for a design wavelength λ (= 500 nm).
The high-refractive-index layer satisfies the following formula (II), and the low-refractive-index layer satisfies the following formula (III). lλ / 4 × 0.80 <n1d1 <lλ / 4 × 1.00 (I) mλ / 4 × 0.75 <n2d2 <mλ / 4 × 0.95 (II) nλ / 4 × 0.95 <n3d3 < nλ / 4 × 1.05 (III) (wherein, 1 is 1, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, and d1 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer. , M is 2, n2 is the refractive index of the high refractive index layer, and d2 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer,
(n is 1, n3 is the refractive index of the low refractive index layer, and d3 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer)
支持体に対して、n1が1.60〜1.65、n2が
1.85〜1.95、n3が1.35〜1.45の屈折
率であることを特徴とする請求項7に記載の反射防止フ
ィルム。8. A transparent support having a refractive index of 1.45 to 1.55, wherein n1 is 1.60 to 1.65, n2 is 1.85 to 1.95, and n3 is 1.35. The antireflection film according to claim 7, which has a refractive index of 1.45.
支持体に対して、n1が1.65〜1.75、n2が
1.85〜2.05、n3が1.35〜1.45の屈折
率であることを特徴とする請求項7に記載の反射防止フ
ィルム。9. A transparent support having a refractive index of 1.55 to 1.65, n1 of 1.65 to 1.75, n2 of 1.85 to 2.05 and n3 of 1.35. The antireflection film according to claim 7, which has a refractive index of 1.45.
が、熱または電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂か
らなることを特徴とする請求項5〜9いずれか1項に記
載の反射防止フィルム。10. The antireflection film according to claim 5, wherein the low refractive index layer of the antireflection film is made of a heat- or ionizing radiation-curable fluorine-containing curable resin. .
が、 Ti、Zr、In、Zn、Sn、Sbの酸化物か
ら選ばれた少なくとも1種の金属酸化物を含有する超微
粒子、アニオン性分散剤、3官能以上の重合性基を有す
る硬化性樹脂および重合開始剤を含む塗布組成物を塗
布、溶媒の乾燥、熱および/または電離放射線による硬
化により形成されたものであることを特徴とする請求項
5〜10いずれか1項に記載の反射防止フィルム。11. The high refractive index layer of the antireflection film, ultrafine particles containing at least one metal oxide selected from oxides of Ti, Zr, In, Zn, Sn, Sb, anionic dispersion Agent, a coating composition containing a curable resin having a tri- or more functional polymerizable group and a polymerization initiator is applied, the solvent is dried, and the composition is formed by curing with heat and / or ionizing radiation. The antireflection film according to claim 5.
が、動摩擦係数が0.15以下、純水の接触角が100
度以上であることを特徴とする請求項10に記載の反射
防止フィルム。12. The low refractive index layer of the antireflection film has a dynamic friction coefficient of 0.15 or less and a pure water contact angle of 100.
11. The antireflection film according to claim 10, wherein the antireflection film is at least one degree.
間に少なくとも1層のハードコート層を有することを特
徴とする請求項1〜12いずれか1項に記載の反射防止
フィルム。13. The antireflection film according to claim 1, further comprising at least one hard coat layer between the low refractive index layer and the transparent support.
間に少なくとも1層の前方散乱層を有することを特徴と
する請求項1〜13いずれか1項に記載の反射防止フィ
ルム。14. The antireflection film according to claim 1, which has at least one forward scattering layer between the low refractive index layer and the transparent support.
離れた任意の2つの場所における波長380nmから7
80nmの領域におけるCIE標準光源D65の5度入
射光に対する正反射光の色味ムラが、CIE1976L
*a*b*色空間のΔEab*値で2未満であることを
特徴とするであることを特徴とする請求項1〜14いず
れか1項に記載の反射防止フィルム。15. TD or MD direction 10 cm
Wavelengths from 380 nm to 7 in any two separate locations
The tint unevenness of the specular reflection light with respect to the 5 degree incident light of the CIE standard light source D65 in the 80 nm region is CIE1976L.
The ΔEab * value in the * a * b * color space is less than 2, and the antireflection film according to any one of claims 1 to 14.
エチレンテレフタレートのいずれかに対して常温常湿で
測定した垂直剥離帯電量が−200pc(ピコクーロ
ン)/cm2〜+200pc(ピコクーロン)/cm2で
あり、かつ表面抵抗値が1×1011Ω/□以上であるこ
とを特徴とするであることを特徴とする請求項1〜15
いずれか1項に記載の反射防止フィルム。16. The vertical peeling charge of either triacetyl cellulose or polyethylene terephthalate measured at room temperature and normal humidity is -200 pc (pico coulomb) / cm 2 to +200 pc (pico coulomb) / cm 2 and has a surface resistance. A value of 1 × 10 11 Ω / □ or more, characterized in that
The antireflection film according to any one of items.
面と裏面に貼り合わせた偏光板であり、請求項1〜16
いずれか1項に記載の反射防止フィルムの低屈折率層を
形成後に、アルカリ液中に少なくとも1回浸漬すること
で、該フィルムの裏面を鹸化処理した反射防止フィルム
を少なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特
徴とする偏光板。17. A polarizing plate in which two surface protective films are attached to the front and back surfaces of a polarizer, and
After forming the low refractive index layer of the antireflection film according to any one of the above, by dipping at least once in an alkaline solution, the antireflection film saponified on the back surface of the film to at least one surface protective film A polarizing plate characterized by being used.
面と裏面に貼り合わせた偏光板であり、請求項1〜16
いずれか1項に記載の反射防止フィルムの低屈折率層を
形成する面を形成前または後に、アルカリ液を該反射防
止フィルムの低屈折率層を形成する面の反対側の面に塗
布し、加熱、水洗および/または中和することで、該フ
ィルムの裏面だけを鹸化処理した反射防止フィルムを少
なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴と
する偏光板。18. A polarizing plate in which two surface protective films are attached to the front surface and the back surface of a polarizer, and
Before or after forming the surface forming the low refractive index layer of the antireflection film according to any one of the items, an alkaline solution is applied to the surface opposite to the surface forming the low refractive index layer of the antireflection film, A polarizing plate, characterized in that an antireflection film obtained by saponifying only the back surface of the film by heating, washing with water and / or neutralization is used for at least one surface protection film.
止フィルム以外のフィルムが、該表面保護フィルムの偏
光子と反対側の面に光学異方層を含んでなる光学補償層
を有する光学補償フィルムであり、該光学異方性層がデ
ィスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複
屈折を有する層であり、該ディスコティック構造単位の
円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、且
つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フ
ィルム面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向におい
て変化していることを特徴とする請求項17または18
に記載の偏光板。19. An optical compensation film, wherein the film other than the antireflection film of the surface protection film has an optical compensation layer containing an optically anisotropic layer on the surface of the surface protection film opposite to the polarizer. The optical anisotropic layer is a layer having a negative birefringence composed of a compound having a discotic structural unit, the disc surface of the discotic structural unit is inclined with respect to the surface protective film surface, and 19. The angle formed by the disc surface of the discotic structural unit and the surface of the surface protective film changes in the depth direction of the optically anisotropic layer.
The polarizing plate described in.
の偏光板を少なくとも1枚有するTN、STN、VA、
IPS、OCBのモードの透過型、反射型、または半透
過型の液晶表示装置。20. A TN, STN, VA having at least one polarizing plate according to claim 17.
A transmissive type, a reflective type, or a semi-transmissive type liquid crystal display device of IPS and OCB modes.
の偏光板を少なくとも1枚有する透過型または半透過型
の液晶表示装置であり、視認側とは反対側の偏光板とバ
ックライトとの間に、偏光選択層を有する偏光分離フィ
ルムを配置することを特徴とする液晶表示装置。21. A transmissive or semi-transmissive liquid crystal display device comprising at least one polarizing plate according to claim 17, wherein the polarizing plate and the backlight are on the side opposite to the viewing side. A liquid crystal display device, characterized in that a polarization separation film having a polarization selection layer is arranged between the two.
ールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、
またはポリエチレンナフタレートフィルムであることを
特徴とする請求項1〜16いずれか1項に記載の反射防
止フィルム。22. The transparent support is a triacetyl cellulose film, a polyethylene terephthalate film,
Or it is a polyethylene naphthalate film, The antireflection film of any one of Claims 1-16 characterized by the above-mentioned.
の反射防止フィルムとは反対側の透明保護フィルムに、
λ/4板を配置したことを特徴とする透過または半透過
型液晶装置。23. The transparent protective film on the side opposite to the antireflection film of the polarizing plate according to claim 17 or 18,
A transmissive or semi-transmissive liquid crystal device having a λ / 4 plate.
の反射防止フィルムとは反対側の透明保護フィルムに、
λ/4板を配置したことを特徴とする有機ELディスプ
レイ装置。24. The transparent protective film on the side opposite to the antireflection film of the polarizing plate according to claim 17 or 18,
An organic EL display device having a λ / 4 plate arranged.
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