JP2002350860A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JP2002350860A JP2002350860A JP2001152118A JP2001152118A JP2002350860A JP 2002350860 A JP2002350860 A JP 2002350860A JP 2001152118 A JP2001152118 A JP 2001152118A JP 2001152118 A JP2001152118 A JP 2001152118A JP 2002350860 A JP2002350860 A JP 2002350860A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示装置において、従来の球状スペーサ
散布方式からフォトリソグラフィーで形成する柱状スペ
ーサ方式に置き換えた場合、柱状スペーサ形成のために
複数工程を必要とするので、コストアップにつながる。 【解決手段】 カラーフィルタ基板上に感光性樹脂膜５
を所要膜厚に塗布した後、全透過パターン２０ａとハー
フトーンパターン２０ｂとを有するフォトマスク２０を
用いて一回の露光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜
部５ａとその上に所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括
形成する。その結果、工程数の増加を抑え、コストアッ
プを回避できる。
散布方式からフォトリソグラフィーで形成する柱状スペ
ーサ方式に置き換えた場合、柱状スペーサ形成のために
複数工程を必要とするので、コストアップにつながる。 【解決手段】 カラーフィルタ基板上に感光性樹脂膜５
を所要膜厚に塗布した後、全透過パターン２０ａとハー
フトーンパターン２０ｂとを有するフォトマスク２０を
用いて一回の露光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜
部５ａとその上に所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括
形成する。その結果、工程数の増加を抑え、コストアッ
プを回避できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の表面に柱状
スペーサを形成した液晶表示装置の製造方法に関する。
スペーサを形成した液晶表示装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆ
ｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ，以下「ＴＦＴ」と称す
る）型の液晶表示装置（以下「液晶パネル」と称する）
の断面概略構成図を図６に示す。このＴＦＴ型液晶パネ
ル３１ｆはアレイ基板１１ｆおよびカラーフィルタ基板
１ｆからなっている。
ｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ，以下「ＴＦＴ」と称す
る）型の液晶表示装置（以下「液晶パネル」と称する）
の断面概略構成図を図６に示す。このＴＦＴ型液晶パネ
ル３１ｆはアレイ基板１１ｆおよびカラーフィルタ基板
１ｆからなっている。
【０００３】基板１ｆは、ガラス基板２ａ、その上に設
けられた樹脂ブラックマトリックス４（以下「樹脂ＢＭ」
と称する）、ＲＧＢの着色膜６Ｒ，６Ｇ，６Ｂからなる
カラーフィルタ、平坦化樹脂膜１６ならびに透明電極１
０から構成されている。なお、図６は直線的な切断面を
示すものではなく、この切断面に着色膜６Ｂは現れてい
ない。
けられた樹脂ブラックマトリックス４（以下「樹脂ＢＭ」
と称する）、ＲＧＢの着色膜６Ｒ，６Ｇ，６Ｂからなる
カラーフィルタ、平坦化樹脂膜１６ならびに透明電極１
０から構成されている。なお、図６は直線的な切断面を
示すものではなく、この切断面に着色膜６Ｂは現れてい
ない。
【０００４】一方アレイ基板１１ｆは、ガラス基板２
ｂ、その上に形成された信号線，走査線３ｂ，ＴＦＴか
らなる能動素子３ａおよび画素電極８とから構成されて
いる。
ｂ、その上に形成された信号線，走査線３ｂ，ＴＦＴか
らなる能動素子３ａおよび画素電極８とから構成されて
いる。
【０００５】基板１ｆおよびアレイ基板１１ｆの相対向
する面には、それぞれ配向膜９ａおよび９ｂが形成され
ている。そして、基板１ｆおよび１１ｆの球状スペーサ
１５を挟んでできている間隙には液晶１４が充填されて
おり、その周辺部はシール材１３で固着されている。さ
らに、液晶パネル３１ｆの用途に応じてパネル表裏面に
偏光板が貼り付けられる。
する面には、それぞれ配向膜９ａおよび９ｂが形成され
ている。そして、基板１ｆおよび１１ｆの球状スペーサ
１５を挟んでできている間隙には液晶１４が充填されて
おり、その周辺部はシール材１３で固着されている。さ
らに、液晶パネル３１ｆの用途に応じてパネル表裏面に
偏光板が貼り付けられる。
【０００６】このような従来のＴＦＴ液晶パネル３１ｆ
においては、以下のような課題がある。第一に、アレイ
基板１１ｆとカラーフィルタ基板１ｆ間のギャップの精
度が液晶パネルの表示品位を決める大きな要因となって
いるが、パネル面内にギャップのばらつきがある場合、
面内むらが生じる。すなわち、パネルギャップが設計値
とずれた場合、コントラストなどのパネル特性が悪くな
るという不具合を生じる。
においては、以下のような課題がある。第一に、アレイ
基板１１ｆとカラーフィルタ基板１ｆ間のギャップの精
度が液晶パネルの表示品位を決める大きな要因となって
いるが、パネル面内にギャップのばらつきがある場合、
面内むらが生じる。すなわち、パネルギャップが設計値
とずれた場合、コントラストなどのパネル特性が悪くな
るという不具合を生じる。
【０００７】第二に、アレイ基板１１ｆとカラーフィル
タ基板１ｆ間に挟まれた球状スペーサ１５のうち、画素
の樹脂ＢＭ４間に点在した球状スペーサ１５により、パ
ネルに電圧をかけて黒色表示をさせた場合に光抜けが生
じ、黒色の沈みこみが悪くなる。すなわち、白色表示と
のコントラストが悪くなるという不具合を生じる。
タ基板１ｆ間に挟まれた球状スペーサ１５のうち、画素
の樹脂ＢＭ４間に点在した球状スペーサ１５により、パ
ネルに電圧をかけて黒色表示をさせた場合に光抜けが生
じ、黒色の沈みこみが悪くなる。すなわち、白色表示と
のコントラストが悪くなるという不具合を生じる。
【０００８】第三に、球状スペーサ１５を基板上に点在
させるには、乾式または湿式などの方式により基板上に
球状スペーサ１５の散布を行うが、このスペーサ１５の
散布を行なう際、球状スペーサ１５の凝集や異物の混入
によりパネル内に点欠陥部が生じる。この点欠陥部が生
じることにより液晶パネル製造工程での歩留が悪くな
る。
させるには、乾式または湿式などの方式により基板上に
球状スペーサ１５の散布を行うが、このスペーサ１５の
散布を行なう際、球状スペーサ１５の凝集や異物の混入
によりパネル内に点欠陥部が生じる。この点欠陥部が生
じることにより液晶パネル製造工程での歩留が悪くな
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上のような理由によ
り、近年では、従来の球状スペーサ１５を散布する方式
に代えて基板上に予め柱状スペーサを形成する方式が提
案されている。しかし、従来の球状スペーサ１５を散布
する方式から、上記のようなフォトリソグラフィーを用
いて柱状スペーサを形成する方式に置き換えた場合、柱
状スペーサ形成のために複数工程を必要とするため、コ
ストアップにつながる。
り、近年では、従来の球状スペーサ１５を散布する方式
に代えて基板上に予め柱状スペーサを形成する方式が提
案されている。しかし、従来の球状スペーサ１５を散布
する方式から、上記のようなフォトリソグラフィーを用
いて柱状スペーサを形成する方式に置き換えた場合、柱
状スペーサ形成のために複数工程を必要とするため、コ
ストアップにつながる。
【００１０】このような課題を解決するため、本発明
は、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑え、コ
ストアップとならない液晶表示装置の製造方法を提供す
ることを目的とする。
は、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑え、コ
ストアップとならない液晶表示装置の製造方法を提供す
ることを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るため、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法は、一
対の基板のうち一方の基板上にネガ型の感光性樹脂膜を
形成する工程と、全透過パターンおよびハーフトーンパ
ターンの両方が形成されたフォトマスクを用いてネガ型
の感光性樹脂膜を露光、現像することにより、一対の基
板の間隔を保持するスペーサおよび平坦化樹脂膜を同時
に形成する工程とを含んでいる。
るため、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法は、一
対の基板のうち一方の基板上にネガ型の感光性樹脂膜を
形成する工程と、全透過パターンおよびハーフトーンパ
ターンの両方が形成されたフォトマスクを用いてネガ型
の感光性樹脂膜を露光、現像することにより、一対の基
板の間隔を保持するスペーサおよび平坦化樹脂膜を同時
に形成する工程とを含んでいる。
【００１２】請求項１記載の発明によれば、例えばカラ
ーフィルタ基板を形成する際に、ネガ型の感光性樹脂膜
を所要膜厚に塗布した後、フォトマスクのパターン設計
を柱状スペーサ部を全透過パターン、同パターン以外の
領域をハーフトーンパターンにすることにより、一回の
露光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所
要高さの柱状スペーサを一括形成できる。その結果、柱
状スペーサを形成しても工程数の増加を抑え、その結
果、コストアップを回避できる。
ーフィルタ基板を形成する際に、ネガ型の感光性樹脂膜
を所要膜厚に塗布した後、フォトマスクのパターン設計
を柱状スペーサ部を全透過パターン、同パターン以外の
領域をハーフトーンパターンにすることにより、一回の
露光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所
要高さの柱状スペーサを一括形成できる。その結果、柱
状スペーサを形成しても工程数の増加を抑え、その結
果、コストアップを回避できる。
【００１３】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項１記載の発明において、露光現像する工程に
おいて、ブラックマトリックス形成部より外側のパネル
表示外領域を、遮光パターンとしたフォトマスクを用い
て露光、現像することを特徴とする。
は、請求項１記載の発明において、露光現像する工程に
おいて、ブラックマトリックス形成部より外側のパネル
表示外領域を、遮光パターンとしたフォトマスクを用い
て露光、現像することを特徴とする。
【００１４】請求項２記載の発明によれば、請求項１記
載の発明において、フォトマスクのうち、パネル表示エ
リア外周の額縁ＢＭパターンより外側のパネル表示外領
域を遮光パターンにすることにより、一回の露光現像に
より、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要高さの柱
状スペーサと周辺額縁ＢＭ外の領域には樹脂膜を形成し
ないパターンを一括形成できる。その結果、柱状スペー
サを形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを回
避できる。また、パネル表示外領域に平坦化樹脂膜を形
成しないため、一対の基板をシール材で固着すると、シ
ール材が基板と接することとなる。そのため、シール材
の密着力が、基板上に平坦化樹脂膜を介してシール材が
接する場合に比べて高くなる。したがって外部からのス
トレスを受けたときに発生するシール切れを抑制するこ
とができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼
性も高くなる。
載の発明において、フォトマスクのうち、パネル表示エ
リア外周の額縁ＢＭパターンより外側のパネル表示外領
域を遮光パターンにすることにより、一回の露光現像に
より、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要高さの柱
状スペーサと周辺額縁ＢＭ外の領域には樹脂膜を形成し
ないパターンを一括形成できる。その結果、柱状スペー
サを形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを回
避できる。また、パネル表示外領域に平坦化樹脂膜を形
成しないため、一対の基板をシール材で固着すると、シ
ール材が基板と接することとなる。そのため、シール材
の密着力が、基板上に平坦化樹脂膜を介してシール材が
接する場合に比べて高くなる。したがって外部からのス
トレスを受けたときに発生するシール切れを抑制するこ
とができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼
性も高くなる。
【００１５】請求項３記載の液晶表示装置の製造方法
は、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上にポジ型
の感光性樹脂膜を形成する工程と、遮光パターンおよび
ハーフトーンパターンの両方が形成されたフォトマスク
を用いてポジ型の感光性樹脂膜を露光、現像することに
より、一対の基板の間隔を保持するスペーサおよび平坦
化樹脂膜を同時に形成する工程とを含んでいる。
は、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上にポジ型
の感光性樹脂膜を形成する工程と、遮光パターンおよび
ハーフトーンパターンの両方が形成されたフォトマスク
を用いてポジ型の感光性樹脂膜を露光、現像することに
より、一対の基板の間隔を保持するスペーサおよび平坦
化樹脂膜を同時に形成する工程とを含んでいる。
【００１６】請求項３記載の発明によれば、例えばカラ
ーフィルタ基板を形成する際に、ポジ型の感光性樹脂膜
を所要膜厚に塗布した後、フォトマスクのパターン設計
を柱状スペーサ部を遮光パターン、同パターン以外の領
域をハーフトーンパターンにすることにより、一回の露
光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要
高さの柱状スペーサを一括形成できる。その結果、柱状
スペーサを形成しても工程数の増加を抑え、コストアッ
プを回避できる。
ーフィルタ基板を形成する際に、ポジ型の感光性樹脂膜
を所要膜厚に塗布した後、フォトマスクのパターン設計
を柱状スペーサ部を遮光パターン、同パターン以外の領
域をハーフトーンパターンにすることにより、一回の露
光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要
高さの柱状スペーサを一括形成できる。その結果、柱状
スペーサを形成しても工程数の増加を抑え、コストアッ
プを回避できる。
【００１７】請求項４記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項３記載の発明において、露光現像する工程に
おいて、ブラックマトリックス形成部より外側のパネル
表示外領域を、全透過パターンとしたフォトマスクを用
いて露光、現像することを特徴とする。
は、請求項３記載の発明において、露光現像する工程に
おいて、ブラックマトリックス形成部より外側のパネル
表示外領域を、全透過パターンとしたフォトマスクを用
いて露光、現像することを特徴とする。
【００１８】請求項４記載の発明によれば、請求項３記
載の発明において、フォトマスクのうち、パネル表示エ
リア外周の額縁ＢＭパターンより外側のパネル表示外領
域を全透過パターンにすることにより、一回の露光現像
により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要高さの
柱状スペーサと周辺額縁ＢＭ外の領域には樹脂膜を形成
しないパターンを一括形成できる。その結果、柱状スペ
ーサを形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを
回避できる。また、パネル表示外領域に平坦化樹脂膜を
形成しないため、一対の基板をシール材で固着すると、
シール材が基板と接することとなる。そのため、シール
材の密着力が、基板上に平坦化樹脂膜を介してシール材
が接する場合に比べて高くなる。したがって外部からの
ストレスを受けたときに発生するシール切れを抑制する
ことができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信
頼性も高くなる。
載の発明において、フォトマスクのうち、パネル表示エ
リア外周の額縁ＢＭパターンより外側のパネル表示外領
域を全透過パターンにすることにより、一回の露光現像
により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要高さの
柱状スペーサと周辺額縁ＢＭ外の領域には樹脂膜を形成
しないパターンを一括形成できる。その結果、柱状スペ
ーサを形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを
回避できる。また、パネル表示外領域に平坦化樹脂膜を
形成しないため、一対の基板をシール材で固着すると、
シール材が基板と接することとなる。そのため、シール
材の密着力が、基板上に平坦化樹脂膜を介してシール材
が接する場合に比べて高くなる。したがって外部からの
ストレスを受けたときに発生するシール切れを抑制する
ことができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信
頼性も高くなる。
【００１９】請求項５記載の液晶表示装置は、請求項
１，２，３または４記載の液晶表示装置の製造方法で形
成されている。
１，２，３または４記載の液晶表示装置の製造方法で形
成されている。
【００２０】請求項５記載の発明によれば、一度の露
光、現像によってスペーサおよび平坦化樹脂膜が一括形
成されているため、柱状スペーサを形成しても工程数の
増加を抑え、コストアップを回避できる液晶表示装置を
提供できる。
光、現像によってスペーサおよび平坦化樹脂膜が一括形
成されているため、柱状スペーサを形成しても工程数の
増加を抑え、コストアップを回避できる液晶表示装置を
提供できる。
【００２１】
【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）以下、本発
明の実施の形態にもとづく液晶表示装置に用いる柱状ス
ペーサ付きカラーフィルタ基板１ａについて図１を用い
て説明する。
明の実施の形態にもとづく液晶表示装置に用いる柱状ス
ペーサ付きカラーフィルタ基板１ａについて図１を用い
て説明する。
【００２２】まず、図１（ａ）に示すように、ガラス基
板２ａ上に顔料分散樹脂ブラックレジストをスピナー法
により塗布し、またはフィルムに顔料分散樹脂ブラック
レジストを予め塗布した着色フィルムをラミネートした
後、露光、現像により所要パターン形状の樹脂ＢＭ４を
パターニングする。樹脂ＢＭ４は場合によって樹脂また
はクロム膜を使いわければよいが、今回は１〜２μｍの
樹脂ＢＭ４を用いた例について説明する。
板２ａ上に顔料分散樹脂ブラックレジストをスピナー法
により塗布し、またはフィルムに顔料分散樹脂ブラック
レジストを予め塗布した着色フィルムをラミネートした
後、露光、現像により所要パターン形状の樹脂ＢＭ４を
パターニングする。樹脂ＢＭ４は場合によって樹脂また
はクロム膜を使いわければよいが、今回は１〜２μｍの
樹脂ＢＭ４を用いた例について説明する。
【００２３】次に、図１（ｂ）に示すように、ＲＧＢ着
色膜６Ｒ，６Ｇ，６Ｂを上記の樹脂ＢＭ４を形成する方
法と同様にそれぞれ顔料レジスト膜を形成、露光、現像
することにより所定パターン形状に形成する。また、着
色膜６Ｒ，６Ｇ，６Ｂの膜厚は完成後１〜２μｍになる
ようにスピナ塗布条件または着色フィルムの膜厚を調整
した。
色膜６Ｒ，６Ｇ，６Ｂを上記の樹脂ＢＭ４を形成する方
法と同様にそれぞれ顔料レジスト膜を形成、露光、現像
することにより所定パターン形状に形成する。また、着
色膜６Ｒ，６Ｇ，６Ｂの膜厚は完成後１〜２μｍになる
ようにスピナ塗布条件または着色フィルムの膜厚を調整
した。
【００２４】次に、図１（ｃ）に示すように、上記基板
上にネガ型の感光性樹脂膜５を形成する。この時の感光
性樹脂膜５の膜厚は、液晶パネルのギャップ厚とカラー
フィルタ膜上に残す平坦化樹脂膜の膜厚を予め設計して
決定する。
上にネガ型の感光性樹脂膜５を形成する。この時の感光
性樹脂膜５の膜厚は、液晶パネルのギャップ厚とカラー
フィルタ膜上に残す平坦化樹脂膜の膜厚を予め設計して
決定する。
【００２５】この後、図１（ｄ）に示すように、フォト
マスク２０を用いて露光する。この時に用いるフォトマ
スク２０は、柱状スペーサ部５ｂを形成する部分は全透
過パターン２０ａにし、それ以外の領域はハーフトーン
パターン２０ｂとした。このハーフトーンパターン２０
ｂのパターン形状は、マスクのクロム膜をスリットパタ
ーン、ラインパターン、ホールパターン、ドットパター
ン等を０．５から２μｍ程度に露光量に応じて設計する
ことにより形成する。また、この時の露光量は柱状スペ
ーサ部５ｂの高さ、感光性樹脂膜５の感度により決定す
る。この後、現像を行って、所望の高さの柱状スペーサ
部５ｂと平坦化樹脂膜部５ａを同時に形成する。
マスク２０を用いて露光する。この時に用いるフォトマ
スク２０は、柱状スペーサ部５ｂを形成する部分は全透
過パターン２０ａにし、それ以外の領域はハーフトーン
パターン２０ｂとした。このハーフトーンパターン２０
ｂのパターン形状は、マスクのクロム膜をスリットパタ
ーン、ラインパターン、ホールパターン、ドットパター
ン等を０．５から２μｍ程度に露光量に応じて設計する
ことにより形成する。また、この時の露光量は柱状スペ
ーサ部５ｂの高さ、感光性樹脂膜５の感度により決定す
る。この後、現像を行って、所望の高さの柱状スペーサ
部５ｂと平坦化樹脂膜部５ａを同時に形成する。
【００２６】次に、図１（ｅ）に示すように、この基板
上にＩＴＯからなる透明電極１０を所要パターン形状、
所望膜厚に形成することにより、同じ材料からなる柱状
スペーサ部５ｂと平坦化樹脂膜部５ａとを一体に形成し
たカラーフィルタ基板１ａが得られる。
上にＩＴＯからなる透明電極１０を所要パターン形状、
所望膜厚に形成することにより、同じ材料からなる柱状
スペーサ部５ｂと平坦化樹脂膜部５ａとを一体に形成し
たカラーフィルタ基板１ａが得られる。
【００２７】このカラーフィルタ基板１ａを用いて作製
した液晶表示装置（液晶パネル３１ａ）の断面図を図５
に示す。この図５において、図６と同様のものには、同
じ符号を付している。また、図５も図６同様、直線的な
切断面を示すものではなく、着色膜６Ｂは現れていな
い。この図５で用いたアレイ基板１１ａは図６のアレイ
基板１１ｆと同様のものである。カラーフィルタ基板１
ａに形成された柱状スペーサ部５ｂは、アレイ基板１１
ａの能動素子（ＴＦＴ）３ａ上に配置され、画素電極８
上には配置されないようにする。
した液晶表示装置（液晶パネル３１ａ）の断面図を図５
に示す。この図５において、図６と同様のものには、同
じ符号を付している。また、図５も図６同様、直線的な
切断面を示すものではなく、着色膜６Ｂは現れていな
い。この図５で用いたアレイ基板１１ａは図６のアレイ
基板１１ｆと同様のものである。カラーフィルタ基板１
ａに形成された柱状スペーサ部５ｂは、アレイ基板１１
ａの能動素子（ＴＦＴ）３ａ上に配置され、画素電極８
上には配置されないようにする。
【００２８】本実施の形態によれば、一回の露光，現像
により所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に形成さ
れる所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成できるた
め、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑えるこ
とができ、その結果、コストアップを回避することがで
きる。
により所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に形成さ
れる所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成できるた
め、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑えるこ
とができ、その結果、コストアップを回避することがで
きる。
【００２９】（第２の実施の形態）以下、本発明の第２
の実施の形態にもとづく液晶表示装置に用いる柱状スペ
ーサ付きカラーフィルタ基板１ｂについて図２を用いて
説明する。なお、図２（ａ）〜（ｃ）は図１（ａ）〜
（ｃ）と同様であるため説明を省略する。
の実施の形態にもとづく液晶表示装置に用いる柱状スペ
ーサ付きカラーフィルタ基板１ｂについて図２を用いて
説明する。なお、図２（ａ）〜（ｃ）は図１（ａ）〜
（ｃ）と同様であるため説明を省略する。
【００３０】この後、図２（ｄ）に示すように、フォト
マスク２０を用いて露光する。この時に用いるフォトマ
スク２０は、柱状スペーサ部５ｂを形成する部分は全透
過パターン２０ａにし、パネル周辺の額縁ＢＭ（パネル
周辺の縁部分の樹脂ＢＭ４）以内のパネル表示領域７の
部分はハーフトーンパターン２０ｂとし、パネル表示外
領域１７の部分は遮光パターン２０ｃとした。
マスク２０を用いて露光する。この時に用いるフォトマ
スク２０は、柱状スペーサ部５ｂを形成する部分は全透
過パターン２０ａにし、パネル周辺の額縁ＢＭ（パネル
周辺の縁部分の樹脂ＢＭ４）以内のパネル表示領域７の
部分はハーフトーンパターン２０ｂとし、パネル表示外
領域１７の部分は遮光パターン２０ｃとした。
【００３１】このハーフトーンパターン２０ｂのパター
ン形状は、第１の実施の形態と同様にマスクのクロム膜
をスリットパターン、ラインパターン、ホールパター
ン、ドットパターン等を０．５〜２μｍ程度に露光量に
応じて設計することにより形成する。また、この時の露
光量は、柱状スペーサ部５ｂの高さ、感光性樹脂膜５の
感度より決定する。この後、現像を行うことにより所望
の高さの柱状スペーサ部５ｂおよび平坦化樹脂膜部５ａ
を同時に形成するだけでなく、パネル表示外領域１７に
樹脂膜のないものにすることができた。
ン形状は、第１の実施の形態と同様にマスクのクロム膜
をスリットパターン、ラインパターン、ホールパター
ン、ドットパターン等を０．５〜２μｍ程度に露光量に
応じて設計することにより形成する。また、この時の露
光量は、柱状スペーサ部５ｂの高さ、感光性樹脂膜５の
感度より決定する。この後、現像を行うことにより所望
の高さの柱状スペーサ部５ｂおよび平坦化樹脂膜部５ａ
を同時に形成するだけでなく、パネル表示外領域１７に
樹脂膜のないものにすることができた。
【００３２】次に、図２（ｅ）に示すように、この基板
上にＩＴＯからなる透明電極１０を所要パターン形状、
所望膜厚に形成することにより、同じ材料からなる柱状
スペーサ部５ｂと平坦化樹脂膜部５ａとを一体に形成し
たカラーフィルタ基板１ｂが得られる。
上にＩＴＯからなる透明電極１０を所要パターン形状、
所望膜厚に形成することにより、同じ材料からなる柱状
スペーサ部５ｂと平坦化樹脂膜部５ａとを一体に形成し
たカラーフィルタ基板１ｂが得られる。
【００３３】このカラーフィルタ基板１ｂを用いて作製
した液晶表示装置は、パネル表示外領域１７に平坦化樹
脂膜部５ａがないため、図５において、シール材１３の
部分およびその外側には平坦化樹脂膜部５ａが形成され
ておらず、シール材１３がガラス基板２ａと直接接して
いる他は、図５と同様である。
した液晶表示装置は、パネル表示外領域１７に平坦化樹
脂膜部５ａがないため、図５において、シール材１３の
部分およびその外側には平坦化樹脂膜部５ａが形成され
ておらず、シール材１３がガラス基板２ａと直接接して
いる他は、図５と同様である。
【００３４】本実施の形態によれば、一回の露光，現像
により所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に形成さ
れる所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成できるた
め、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑えるこ
とができ、その結果、コストアップを回避することがで
きる。
により所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に形成さ
れる所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成できるた
め、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑えるこ
とができ、その結果、コストアップを回避することがで
きる。
【００３５】また、パネル表示外領域１７に平坦化樹脂
膜部５ａを形成しないため、アレイ基板１１ａ（図５参
照）とカラーフィルタ基板１ｂとをシール材１３で固着
すると、シール材１３がガラス基板２ａと接することと
なる。そのため、シール材１３の密着力が、ガラス基板
２ａ上に平坦化樹脂膜部５ａを介してシール材１３が接
する場合に比べて高くなる。したがって外部からのスト
レスを受けたときに発生するシール切れを抑制すること
ができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼性
も高くなる。
膜部５ａを形成しないため、アレイ基板１１ａ（図５参
照）とカラーフィルタ基板１ｂとをシール材１３で固着
すると、シール材１３がガラス基板２ａと接することと
なる。そのため、シール材１３の密着力が、ガラス基板
２ａ上に平坦化樹脂膜部５ａを介してシール材１３が接
する場合に比べて高くなる。したがって外部からのスト
レスを受けたときに発生するシール切れを抑制すること
ができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼性
も高くなる。
【００３６】（第３の実施の形態）以下、本発明の実施
の形態にもとづく液晶表示装置に用いる柱状スペーサ付
きカラーフィルタ基板１ｃについて図３を用いて説明す
る。なお、図３（ａ），（ｂ）は図１（ａ），（ｂ）と
同様であるため説明を省略する。
の形態にもとづく液晶表示装置に用いる柱状スペーサ付
きカラーフィルタ基板１ｃについて図３を用いて説明す
る。なお、図３（ａ），（ｂ）は図１（ａ），（ｂ）と
同様であるため説明を省略する。
【００３７】次に、図３（ｃ）に示すように、上記基板
上にポジ型の感光性樹脂膜５を形成する。この時の感光
性樹脂膜５の膜厚は、液晶パネルのギャップ厚とカラー
フィルタ膜上に残す平坦化樹脂膜の膜厚を予め設計して
決定する。
上にポジ型の感光性樹脂膜５を形成する。この時の感光
性樹脂膜５の膜厚は、液晶パネルのギャップ厚とカラー
フィルタ膜上に残す平坦化樹脂膜の膜厚を予め設計して
決定する。
【００３８】この後、図３（ｄ）に示すように、フォト
マスク２０を用いて露光する。この時に用いるフォトマ
スク２０は、柱状スペーサ部５ｂを形成する部分は遮光
パターン２０ｃにし、それ以外の領域はハーフトーンパ
ターン２０ｂとした。このハーフトーンパターン２０ｂ
のパターン形状は、第１の実施の形態と同様に、マスク
のクロム膜をスリットパターン、ラインパターン、ホー
ルパターン、ドットパターン等を０．５〜２μｍ程度に
露光量に応じて設計することにより形成する。また、こ
の時の露光量は、柱状スペーサ部５ｂの高さ、感光性樹
脂膜５の感度より決定する。この後、現像を行うことに
より、所望の高さの柱状スペーサ部５ｂおよび平坦化樹
脂膜部５ａを同時に形成した。
マスク２０を用いて露光する。この時に用いるフォトマ
スク２０は、柱状スペーサ部５ｂを形成する部分は遮光
パターン２０ｃにし、それ以外の領域はハーフトーンパ
ターン２０ｂとした。このハーフトーンパターン２０ｂ
のパターン形状は、第１の実施の形態と同様に、マスク
のクロム膜をスリットパターン、ラインパターン、ホー
ルパターン、ドットパターン等を０．５〜２μｍ程度に
露光量に応じて設計することにより形成する。また、こ
の時の露光量は、柱状スペーサ部５ｂの高さ、感光性樹
脂膜５の感度より決定する。この後、現像を行うことに
より、所望の高さの柱状スペーサ部５ｂおよび平坦化樹
脂膜部５ａを同時に形成した。
【００３９】次に、図３（ｅ）に示すように、この基板
上にＩＴＯからなる透明電極１０を所要パターン形状、
所望膜厚に形成することにより、同じ材料からなる柱状
スペーサ部５ｂと平坦化樹脂膜部５ａとを一体に形成し
たカラーフィルタ基板１ｃが得られる。
上にＩＴＯからなる透明電極１０を所要パターン形状、
所望膜厚に形成することにより、同じ材料からなる柱状
スペーサ部５ｂと平坦化樹脂膜部５ａとを一体に形成し
たカラーフィルタ基板１ｃが得られる。
【００４０】このカラーフィルタ基板１ｃを用いて作製
した液晶表示装置は、図５の液晶表示装置（液晶パネル
３１ａ）と同様である。
した液晶表示装置は、図５の液晶表示装置（液晶パネル
３１ａ）と同様である。
【００４１】本実施の形態によれば、一回の露光，現像
により所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に形成さ
れる所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成できるた
め、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑えるこ
とができ、その結果、コストアップを回避することがで
きる。
により所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に形成さ
れる所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成できるた
め、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑えるこ
とができ、その結果、コストアップを回避することがで
きる。
【００４２】（第４の実施の形態）以下、本発明の実施
の形態にもとづく液晶表示装置に用いる柱状スペーサ付
きカラーフィルタ基板１ｄについて図４を用いて説明す
る。なお、図４（ａ）〜（ｃ）は図１（ａ）〜（ｃ）と
同様であるため説明を省略する。
の形態にもとづく液晶表示装置に用いる柱状スペーサ付
きカラーフィルタ基板１ｄについて図４を用いて説明す
る。なお、図４（ａ）〜（ｃ）は図１（ａ）〜（ｃ）と
同様であるため説明を省略する。
【００４３】この後、図４（ｄ）に示すように、フォト
マスク２０を用いて露光する。この時に用いるフォトマ
スク２０は、柱状スペーサ部５ｂを形成する部分は遮光
パターン２０ｃにし、パネル周辺の額縁ＢＭ４以内のパ
ネル表示領域７の部分はハーフトーンパターン２０ｂと
し、パネル表示外領域１７の部分は全透過パターン２０
ａとした。
マスク２０を用いて露光する。この時に用いるフォトマ
スク２０は、柱状スペーサ部５ｂを形成する部分は遮光
パターン２０ｃにし、パネル周辺の額縁ＢＭ４以内のパ
ネル表示領域７の部分はハーフトーンパターン２０ｂと
し、パネル表示外領域１７の部分は全透過パターン２０
ａとした。
【００４４】このハーフトーンパターン２０ｂのパター
ン形状は、第１の実施の形態と同様に、マスクのクロム
膜をスリットパターン、ラインパターン、ホールパター
ン、ドットパターン等を０．５〜２μｍ程度に露光量に
応じて設計することにより形成する。また、この時の露
光量は、柱状スペーサ部５ｂの高さ、感光性樹脂膜５の
感度より決定する。この後、現像を行うことにより所望
の高さの柱状スペーサ部５ｂおよび平坦化樹脂膜部５ａ
を同時に形成するだけでなく、パネル表示外領域１７に
樹脂膜のないものにすることができた。
ン形状は、第１の実施の形態と同様に、マスクのクロム
膜をスリットパターン、ラインパターン、ホールパター
ン、ドットパターン等を０．５〜２μｍ程度に露光量に
応じて設計することにより形成する。また、この時の露
光量は、柱状スペーサ部５ｂの高さ、感光性樹脂膜５の
感度より決定する。この後、現像を行うことにより所望
の高さの柱状スペーサ部５ｂおよび平坦化樹脂膜部５ａ
を同時に形成するだけでなく、パネル表示外領域１７に
樹脂膜のないものにすることができた。
【００４５】次に、図４（ｅ）に示すように、この基板
上にＩＴＯからなる透明電極１０を所要パターン形状、
所望膜厚に形成することにより、同じ材料からなる柱状
スペーサ部５ｂおよび平坦化樹脂膜部５ａを一体に形成
したカラーフィルタ基板１ｄが得られる。
上にＩＴＯからなる透明電極１０を所要パターン形状、
所望膜厚に形成することにより、同じ材料からなる柱状
スペーサ部５ｂおよび平坦化樹脂膜部５ａを一体に形成
したカラーフィルタ基板１ｄが得られる。
【００４６】このカラーフィルタ基板１ｄを用いて作製
した液晶表示装置は、パネル表示外領域１７に平坦化樹
脂膜部５ａがないため、図５において、シール材１３の
部分およびその外側には平坦化樹脂膜部５ａが形成され
ておらず、シール材１３がガラス基板２ａと直接接して
いる他は、図５と同様である。
した液晶表示装置は、パネル表示外領域１７に平坦化樹
脂膜部５ａがないため、図５において、シール材１３の
部分およびその外側には平坦化樹脂膜部５ａが形成され
ておらず、シール材１３がガラス基板２ａと直接接して
いる他は、図５と同様である。
【００４７】本実施の形態によれば、一回の露光，現像
により所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に形成さ
れる所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成できるた
め、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑えるこ
とができ、その結果、コストアップを回避することがで
きる。
により所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に形成さ
れる所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成できるた
め、柱状スペーサを形成しても工程数の増加を抑えるこ
とができ、その結果、コストアップを回避することがで
きる。
【００４８】また、パネル表示外領域１７に平坦化樹脂
膜部５ａを形成しないため、アレイ基板１１ａ（図５参
照）とカラーフィルタ基板１ｄとをシール材１３で固着
すると、シール材１３がガラス基板２ａと接することと
なる。そのため、シール材１３の密着力が、ガラス基板
２ａ上に平坦化樹脂膜部５ａを介してシール材１３が接
する場合に比べて高くなる。したがって外部からのスト
レスを受けたときに発生するシール切れを抑制すること
ができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼性
も高くなる。
膜部５ａを形成しないため、アレイ基板１１ａ（図５参
照）とカラーフィルタ基板１ｄとをシール材１３で固着
すると、シール材１３がガラス基板２ａと接することと
なる。そのため、シール材１３の密着力が、ガラス基板
２ａ上に平坦化樹脂膜部５ａを介してシール材１３が接
する場合に比べて高くなる。したがって外部からのスト
レスを受けたときに発生するシール切れを抑制すること
ができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼性
も高くなる。
【００４９】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、例えばカ
ラーフィルタ基板を形成する際に、ネガ型の感光性樹脂
膜を所要膜厚に塗布した後、フォトマスクのパターン設
計を柱状スペーサ部を全透過パターン、同パターン以外
の領域をハーフトーンパターンにすることにより、一回
の露光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に
所要高さの柱状スペーサを一括形成できる。その結果、
スペーサを形成しても工程数の増加を抑え、コストアッ
プを回避できる。
ラーフィルタ基板を形成する際に、ネガ型の感光性樹脂
膜を所要膜厚に塗布した後、フォトマスクのパターン設
計を柱状スペーサ部を全透過パターン、同パターン以外
の領域をハーフトーンパターンにすることにより、一回
の露光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に
所要高さの柱状スペーサを一括形成できる。その結果、
スペーサを形成しても工程数の増加を抑え、コストアッ
プを回避できる。
【００５０】請求項２記載の発明によれば、請求項１記
載の発明において、フォトマスクのうち、パネル表示エ
リア外周の額縁ＢＭパターンより外側のパネル表示外領
域を遮光パターンにすることにより、一回の露光現像に
より、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要高さの柱
状スペーサと周辺額縁ＢＭ外の領域には樹脂膜を形成し
ないパターンを一括形成できる。その結果、スペーサを
形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを回避で
きる。また、パネル表示外領域に平坦化樹脂膜を形成し
ないため、一対の基板をシール材で固着すると、シール
材が基板と接することとなる。そのため、シール材の密
着力が、基板上に平坦化樹脂膜を介してシール材が接す
る場合に比べて高くなる。したがって外部からのストレ
スを受けたときに発生するシール切れを抑制することが
できる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼性も
高くなる。
載の発明において、フォトマスクのうち、パネル表示エ
リア外周の額縁ＢＭパターンより外側のパネル表示外領
域を遮光パターンにすることにより、一回の露光現像に
より、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要高さの柱
状スペーサと周辺額縁ＢＭ外の領域には樹脂膜を形成し
ないパターンを一括形成できる。その結果、スペーサを
形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを回避で
きる。また、パネル表示外領域に平坦化樹脂膜を形成し
ないため、一対の基板をシール材で固着すると、シール
材が基板と接することとなる。そのため、シール材の密
着力が、基板上に平坦化樹脂膜を介してシール材が接す
る場合に比べて高くなる。したがって外部からのストレ
スを受けたときに発生するシール切れを抑制することが
できる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼性も
高くなる。
【００５１】請求項３記載の発明によれば、例えばカラ
ーフィルタ基板を形成する際に、ポジ型の感光性樹脂膜
を所要膜厚に塗布した後、フォトマスクのパターン設計
を柱状スペーサ部を遮光パターン、同パターン以外の領
域をハーフトーンパターンにすることにより、一回の露
光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要
高さの柱状スペーサを一括形成できる。その結果、スペ
ーサを形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを
回避できる。
ーフィルタ基板を形成する際に、ポジ型の感光性樹脂膜
を所要膜厚に塗布した後、フォトマスクのパターン設計
を柱状スペーサ部を遮光パターン、同パターン以外の領
域をハーフトーンパターンにすることにより、一回の露
光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要
高さの柱状スペーサを一括形成できる。その結果、スペ
ーサを形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを
回避できる。
【００５２】請求項４記載の発明によれば、請求項３記
載の発明において、フォトマスクのうち、パネル表示エ
リア外周の額縁ＢＭパターンより外側のパネル表示外領
域を全透過パターンにすることにより、一回の露光現像
により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要高さの
柱状スペーサと周辺額縁ＢＭ外の領域には樹脂膜を形成
しないパターンを一括形成できる。その結果、スペーサ
を形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを回避
できる。また、パネル表示外領域に平坦化樹脂膜を形成
しないため、一対の基板をシール材で固着すると、シー
ル材が基板と接することとなる。そのため、シール材の
密着力が、基板上に平坦化樹脂膜を介してシール材が接
する場合に比べて高くなる。したがって外部からのスト
レスを受けたときに発生するシール切れを抑制すること
ができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼性
も高くなる。
載の発明において、フォトマスクのうち、パネル表示エ
リア外周の額縁ＢＭパターンより外側のパネル表示外領
域を全透過パターンにすることにより、一回の露光現像
により、所要厚みの平坦化樹脂膜とその上に所要高さの
柱状スペーサと周辺額縁ＢＭ外の領域には樹脂膜を形成
しないパターンを一括形成できる。その結果、スペーサ
を形成しても工程数の増加を抑え、コストアップを回避
できる。また、パネル表示外領域に平坦化樹脂膜を形成
しないため、一対の基板をシール材で固着すると、シー
ル材が基板と接することとなる。そのため、シール材の
密着力が、基板上に平坦化樹脂膜を介してシール材が接
する場合に比べて高くなる。したがって外部からのスト
レスを受けたときに発生するシール切れを抑制すること
ができる。そのうえ、密着力が高いためにパネル信頼性
も高くなる。
【００５３】請求項５記載の発明によれば、一度の露
光、現像によってスペーサおよび平坦化樹脂膜が一括形
成されているため、スペーサを形成しても工程数の増加
を抑え、コストアップを回避できる液晶表示装置を提供
できる。
光、現像によってスペーサおよび平坦化樹脂膜が一括形
成されているため、スペーサを形成しても工程数の増加
を抑え、コストアップを回避できる液晶表示装置を提供
できる。
【図１】本発明の第１の実施の形態を示した工程毎の断
面図
面図
【図２】本発明の第２の実施の形態を示した工程毎の断
面図
面図
【図３】本発明の第３の実施の形態を示した工程毎の断
面図
面図
【図４】本発明の第４の実施の形態を示した工程毎の断
面図
面図
【図５】本発明の第１の実施の形態により作製した液晶
表示装置の構成断面図
表示装置の構成断面図
【図６】一般的なＴＦＴ型液晶表示装置の構成断面図
１ａ〜１ｄ，１ｆ カラーフィルタ基板 ２ａ ガラス基板 ３ａ 能動素子 ４ 樹脂ブラックマトリクス（樹脂Ｂ
Ｍ） ５ 感光性樹脂膜 ５ａ 平坦化樹脂膜部 ５ｂ 柱状スペーサ部 ６ カラーフィルタ ７ パネル表示領域 ８ 画素電極 ９ａ，９ｂ 配向膜 １０ 透明電極 １１ａ，１１ｆ アレイ基板 １３ シール材 １４ 液晶 １５ 球状スペーサ １６ 平坦化樹脂膜 １７ パネル表示外領域 １８ 紫外線 ２０ フォトマスク ２０ａ 全透過パターン ２０ｂ ハーフトーンパターン ２０ｃ 遮光パターン ３１ａ，３１ｆ 液晶パネル
Ｍ） ５ 感光性樹脂膜 ５ａ 平坦化樹脂膜部 ５ｂ 柱状スペーサ部 ６ カラーフィルタ ７ パネル表示領域 ８ 画素電極 ９ａ，９ｂ 配向膜 １０ 透明電極 １１ａ，１１ｆ アレイ基板 １３ シール材 １４ 液晶 １５ 球状スペーサ １６ 平坦化樹脂膜 １７ パネル表示外領域 １８ 紫外線 ２０ フォトマスク ２０ａ 全透過パターン ２０ｂ ハーフトーンパターン ２０ｃ 遮光パターン ３１ａ，３１ｆ 液晶パネル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松川 秀樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H089 LA09 LA11 NA13 NA14 QA12 QA14 TA05 TA09 TA12 TA13
Claims (5)
- 【請求項１】 一対の基板のうち一方の基板上にネガ型
の感光性樹脂膜を形成する工程と、全透過パターンおよ
びハーフトーンパターンの両方が形成されたフォトマス
クを用いて前記ネガ型の感光性樹脂膜を露光、現像する
ことにより、前記一対の基板の間隔を保持するスペーサ
および平坦化樹脂膜を同時に形成する工程とを含む液晶
表示装置の製造方法。 - 【請求項２】 露光現像する工程において、ブラックマ
トリックス形成部より外側のパネル表示外領域を、遮光
パターンとしたフォトマスクを用いて露光、現像するこ
とを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項３】 一対の基板のうち一方の基板上にポジ型
の感光性樹脂膜を形成する工程と、遮光パターンおよび
ハーフトーンパターンの両方が形成されたフォトマスク
を用いて前記ポジ型の感光性樹脂膜を露光、現像するこ
とにより、前記一対の基板の間隔を保持するスペーサお
よび平坦化樹脂膜を同時に形成する工程とを含む液晶表
示装置の製造方法。 - 【請求項４】 露光現像する工程において、ブラックマ
トリックス形成部より外側のパネル表示外領域を、全透
過パターンとしたフォトマスクを用いて露光、現像する
ことを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項５】 請求項１，２，３または４記載の液晶表
示装置の製造方法でスペーサを形成した液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001152118A JP2002350860A (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001152118A JP2002350860A (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002350860A true JP2002350860A (ja) | 2002-12-04 |
Family
ID=18996844
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001152118A Pending JP2002350860A (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | 液晶表示装置の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002350860A (ja) |
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- 2001-05-22 JP JP2001152118A patent/JP2002350860A/ja active Pending
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