JP2002091033A - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents
Electrophotographic photoreceptorInfo
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member.
【0002】[0002]
【従来の技術】静電式複写機、レーザープリンタ、普通
紙ファクシミリ装置などの画像形成装置に使用される電
子写真感光体としては、下記の各成分を組み合わせて形
成するいわゆる有機感光体が広く普及している。 ・光照射により電荷(正孔と電子)を発生する電荷発生
剤。 ・発生した電荷を輸送する電荷輸送剤(電荷輸送剤は、
電荷のうち正孔を輸送する正孔輸送剤と、電子を輸送す
る電子輸送剤に大別される)。 ・成膜性を有する結着樹脂。2. Description of the Related Art As an electrophotographic photoreceptor used in an image forming apparatus such as an electrostatic copying machine, a laser printer, a plain paper facsimile machine, etc., a so-called organic photoreceptor formed by combining the following components is widely used. are doing. A charge generating agent that generates charges (holes and electrons) by light irradiation;・ Charge transport agent that transports generated charges (Charge transport agent is
A hole transporting agent that transports holes among charges and an electron transporting agent that transports electrons). -A binder resin having film forming properties.
【0003】有機感光体は、無機半導体材料を用いた無
機感光体に比べて製造が容易で、安価に製造できるとい
う利点がある。An organic photoreceptor has an advantage that it can be easily manufactured at a low cost as compared with an inorganic photoreceptor using an inorganic semiconductor material.
【0004】また有機感光体は、上記電荷発生剤、電荷
輸送剤、結着樹脂などの材料の選択肢が多様であり、機
能設計の自由度が大きいという利点もある。Further, the organic photoreceptor has an advantage that the material selection such as the above-mentioned charge generating agent, charge transporting agent, and binder resin is diversified, and the degree of freedom in functional design is large.
【0005】上記有機感光体は、導電性基体上に、単層
型もしくは積層型の感光層を形成することで構成され
る。The above-mentioned organic photoreceptor is constituted by forming a single-layer type or a laminated type photosensitive layer on a conductive substrate.
【0006】このうち単層型感光層は、電荷発生剤を、
電荷輸送剤(正孔輸送剤および/または電子輸送剤)と
ともに結着樹脂中に分散することで形成される。Among them, the single-layer type photosensitive layer contains a charge generating agent,
It is formed by dispersing in a binder resin together with a charge transport agent (a hole transport agent and / or an electron transport agent).
【0007】また積層型感光層は、電荷発生剤を含有す
る電荷発生層と、電荷輸送剤(正孔輸送剤または電子輸
送剤)を含有する電荷輸送層とを積層することで形成さ
れる。[0007] The laminated type photosensitive layer is formed by laminating a charge generating layer containing a charge generating agent and a charge transporting layer containing a charge transporting agent (a hole transporting agent or an electron transporting agent).
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】有機感光体は、上記の
ように様々な利点を有するものの、実使用環境下での感
光層の削れ、傷などが発生しやすく、無機感光体に比べ
て耐久性が十分でないという問題がある。Although the organic photoreceptor has various advantages as described above, the photoreceptor layer is liable to be scraped or scratched in an actual use environment, and has a higher durability than an inorganic photoreceptor. There is a problem that the nature is not enough.
【0009】そこでこの問題を解決して、有機感光体の
耐久性を向上すべく、最表層に表面保護層を積層するこ
とが検討されている。In order to solve this problem and improve the durability of the organic photoreceptor, it has been studied to laminate a surface protective layer on the outermost layer.
【0010】表面保護層の、広く一般に採用されている
例としては、有機感光層との密着性、親和性、積層状態
での一体性、成膜作業の一貫性などを考慮して、例えば
成膜性を有する結着樹脂の層や、あるいは上記結着樹脂
中に、金属酸化物等の導電性微粒子を分散させた層など
の有機の層が挙げられる。[0010] Examples of the surface protective layer, which is widely and generally employed, include, for example, a layer formed in consideration of the adhesion to the organic photosensitive layer, the affinity, the integrity in the laminated state, the consistency of the film forming operation, and the like. An organic layer such as a layer of a binder resin having a film property, or a layer in which conductive fine particles such as a metal oxide are dispersed in the binder resin, may be used.
【0011】しかしこの有機の層を表面保護層として使
用した電子写真感光体は、繰り返し使用時の残留電位上
昇や帯電性低下、環境(温度、湿度等)の変化による感
度特性の変動等が大きいという問題がある。However, an electrophotographic photoreceptor using this organic layer as a surface protective layer has large fluctuations in sensitivity characteristics due to changes in environment (temperature, humidity, etc.) due to a rise in residual potential and a decrease in chargeability upon repeated use. There is a problem.
【0012】それゆえ近時、金属元素や炭素、あるいは
これら元素を含む無機の化合物等の、無機の材料からな
る、高硬度でかつ耐磨耗性に優れた無機の層を表面保護
層として、例えばスパッタリング法、プラズマCVD
法、光CVD法等の気相成長法などによって、有機感光
層上に積層、成膜することが検討されている。Therefore, recently, an inorganic layer made of an inorganic material, such as a metal element or carbon, or an inorganic compound containing these elements, having high hardness and excellent abrasion resistance is used as a surface protective layer. For example, sputtering method, plasma CVD
It has been studied to stack and form a film on the organic photosensitive layer by a vapor deposition method such as a photo-assisted CVD method.
【0013】この、表面保護層は有機感光層を保護し、
上記の問題点を解消するために用いられるものである。
すなわち、有機感光層上に無機の表面保護層を設けた感
光体は、有機感光層で電荷の発生や輸送などを受け持
ち、表面保護層で感光体の耐久性や耐環境性を受け持つ
という、それぞれの層の特性に応じた機能を有するので
ある。The surface protective layer protects the organic photosensitive layer,
This is used to solve the above problem.
In other words, the photoreceptor provided with an inorganic surface protective layer on the organic photosensitive layer, the organic photosensitive layer is responsible for the generation and transport of charge, and the surface protective layer is responsible for the durability and environmental resistance of the photoreceptor, respectively. Has a function corresponding to the characteristics of the layer.
【0014】しかしながら無機の表面保護層は、有機の
層に比べて有機感光層との間で十分な密着性を得ること
が難しい上、たとえ成膜方法や成膜条件の調整等によっ
て成膜初期の密着性を確保できたとしても、実使用環境
下や、あるいは長期の保管時等に感光体に加わる様々な
ストレスによってクラックが入ったり剥離したりしやす
いという問題がある。However, it is difficult to obtain sufficient adhesion between the inorganic surface protective layer and the organic photosensitive layer as compared with the organic layer. However, even if the adhesion of the photosensitive member can be ensured, there is a problem that cracks are easily formed or peeled off due to various stresses applied to the photoreceptor in an actual use environment or during long-term storage.
【0015】すなわち、互いに異質の材料からなる有機
感光層と無機の表面保護層とは、有機の層同士、あるい
は無機の層同士のような緊密な密着性、親和性、一体性
が得られず、非常に弱い結合力でもって互いに結合され
ているだけであることが多い。That is, the organic photosensitive layer and the inorganic surface protective layer, which are made of materials different from each other, do not have close adhesion, affinity, and unity like organic layers or inorganic layers. Often, they are only joined together with very weak binding forces.
【0016】このため感光体が、例えば画像形成装置の
クリーニングブレードの圧接等による機械的ストレス
や、あるいは装置運転時の加熱と停止時の冷却の繰り返
し、もしくは保管時の温度変化等による熱的ストレスな
どを受けると、互いの硬度や柔軟性、膨張収縮特性等が
大きく異なることが原因となって、前記のように無機の
表面保護層にクラックが入ったり、表面保護層が有機感
光層から剥離したりするのである。Therefore, the photoreceptor is subjected to mechanical stress due to, for example, pressure contact of a cleaning blade of the image forming apparatus, or thermal stress due to repeated heating and cooling during operation of the apparatus, or temperature change during storage and the like. Due to the fact that the hardness, flexibility, expansion / shrinkage characteristics, etc. of each other are greatly different, the inorganic surface protective layer is cracked or the surface protective layer is peeled off from the organic photosensitive layer as described above. Or do it.
【0017】それゆえ従来の無機の表面保護層は、有機
感光層の耐久性を向上する効果が未だ十分でないため、
実用化されるに至っていないのが現状である。Therefore, the conventional inorganic surface protective layer has not yet been sufficiently effective in improving the durability of the organic photosensitive layer.
At present, it has not been put to practical use.
【0018】本発明の目的は、実使用環境下や長期の保
管等によってクラックや剥離を生じにくい、物理的な安
定性に優れた無機の表面保護層を有し、これまでよりも
耐久性に優れた有機の電子写真感光体を提供することに
ある。An object of the present invention is to provide an inorganic surface protective layer which is hardly cracked or peeled off in an actual use environment or for a long period of storage and has excellent physical stability, and has a more durable state than before. It is to provide an excellent organic electrophotographic photoreceptor.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記課
題を解決するために、発明者らは、無機の表面保護層の
成膜過程について分析、検討を行った。Means for Solving the Problems and Effects of the Invention In order to solve the above problems, the present inventors have analyzed and studied the process of forming an inorganic surface protective layer.
【0020】その結果、有機感光層の最表面部におけ
る、表面保護層の成膜初期の状態が、当該表面保護層
の、その後の物理的な安定性に大きく影響することを見
出した。As a result, it has been found that the initial state of the formation of the surface protective layer on the outermost surface of the organic photosensitive layer greatly affects the subsequent physical stability of the surface protective layer.
【0021】すなわち成膜初期の段階では、表面保護層
を構成する無機材料と、有機感光層の最表面部に露出し
た材料の一部とが何らかの形で結合して膜成長の核とな
り、この核を中心として無機材料の膜が成長して表面保
護層が形成され、また形成された表面保護層において
は、上記核の部分が、有機感光層との結合点として機能
して、両層間の密着性を確保する働きをする。That is, at the initial stage of film formation, the inorganic material constituting the surface protective layer and a part of the material exposed on the outermost surface of the organic photosensitive layer are combined in some way to form a nucleus for film growth. A film of an inorganic material grows around the nucleus to form a surface protective layer, and in the formed surface protective layer, the nucleus portion functions as a bonding point with the organic photosensitive layer to form a layer between the two layers. Works to ensure adhesion.
【0022】このため個々の結合点での、有機感光層と
無機材料との結合力の大小、並びに有機感光層と表面保
護層との界面における、結合点の、単位面積あたりの個
数、すなわち密度の高低が、表面保護層の、有機感光層
との密着性、ひいては表面保護層の物理的安定性に大き
く影響する。Therefore, the strength of the bonding between the organic photosensitive layer and the inorganic material at each bonding point and the number of bonding points per unit area, ie, the density, at the interface between the organic photosensitive layer and the surface protective layer Of the surface protective layer greatly affects the adhesion of the surface protective layer to the organic photosensitive layer, and furthermore, the physical stability of the surface protective layer.
【0023】具体的には、個々の結合点での、有機感光
層と無機材料との結合力が大きく、また両層の界面にお
ける上記結合点の密度が高いほど、表面保護層の、有機
感光層に対する密着性が向上して、その物理的安定性が
良好になる。More specifically, the stronger the bonding strength between the organic photosensitive layer and the inorganic material at each bonding point, and the higher the density of the bonding points at the interface between both layers, the more the organic protective layer of the surface protective layer The adhesion to the layer is improved and its physical stability is improved.
【0024】通常の有機感光層は、前記のように電荷発
生剤、電荷輸送剤等の低分子の機能性材料を、層を構成
する結着樹脂中に分散した構造を有している。The ordinary organic photosensitive layer has a structure in which a low-molecular functional material such as a charge generating agent and a charge transporting agent is dispersed in a binder resin constituting the layer, as described above.
【0025】このため、上記結合点に関する知見に鑑み
れば、層自体を構成し、しかも層の大半を占める結着樹
脂が、膜成長の核として、表面保護層を構成する無機材
料と結合するのが理想的であると考えられる。For this reason, in view of the above knowledge about the bonding point, the binder resin constituting the layer itself and occupying most of the layer binds to the inorganic material constituting the surface protective layer as a core for film growth. Is considered ideal.
【0026】しかし実際には、分子自体の安定性や反応
性、あるいは反応部位の関係から、電荷発生剤、電荷輸
送剤等の、層中に分散した低分子の材料のうち、有機感
光層の最表面部に露出したものが膜成長の核として機能
して、表面保護層の成膜が進行することが多い。However, in practice, of the low molecular weight materials dispersed in the layer, such as a charge generating agent and a charge transporting agent, of the organic photosensitive layer, due to the stability and reactivity of the molecule itself or the relationship of the reaction site. The part exposed at the outermost surface functions as a nucleus for film growth, and the formation of the surface protective layer often proceeds.
【0027】それゆえ上記低分子の材料の、無機材料と
の反応性の良否、および結合力の大小や、有機感光層を
構成する結着樹脂に対する相溶性、親和性の強弱、ある
いは材料自体の大きさ(分子量だけでなく、分子的、空
間的な広がりも含めた大きさ)なども、表面保護層の、
有機感光層との密着性、並びに物理的安定性に大きく影
響する。Therefore, the reactivity of the low molecular material with the inorganic material, the magnitude of the binding force, the compatibility with the binder resin constituting the organic photosensitive layer, the strength of the affinity, or the material itself The size (including molecular and spatial extent as well as molecular weight) of the surface protective layer
It greatly affects the adhesion to the organic photosensitive layer and the physical stability.
【0028】つまり低分子の材料の、無機材料との反応
性が良好で、かつ結合力が大きいほど、表面保護層の、
有機感光層との密着性、並びに物理的安定性が向上す
る。That is, the lower the molecular weight of the material, the better the reactivity with the inorganic material and the larger the bonding force, the more the surface protective layer
Adhesion with the organic photosensitive layer and physical stability are improved.
【0029】また低分子の材料の、有機感光層を構成す
る結着樹脂に対する相溶性、親和性が良好で、かつ材料
自体の大きさが大きいほど、いわゆるアンカー効果(投
錨効果)によって、やはり表面保護層の、有機感光層と
の密着性、物理的安定性が向上する。The lower the molecular weight of the material, the better the compatibility and affinity with the binder resin constituting the organic photosensitive layer, and the larger the size of the material itself, the more the so-called anchor effect (anchoring effect) results. The adhesion of the protective layer to the organic photosensitive layer and the physical stability are improved.
【0030】また上記低分子の材料と無機材料との結合
形態としては、結合力の強弱を考慮すると分子結合が最
も好ましいが、この結合によって分子構造が変化する結
果、電荷のトラップが生成されるようなことがあると、
感光体の感度低下を引き起こすおそれがある。The bonding form between the low-molecular material and the inorganic material is most preferably a molecular bond in consideration of the strength of the bonding force. However, as a result of the change in the molecular structure due to this bond, charge traps are generated. When something like that happens,
There is a possibility that the sensitivity of the photoconductor is reduced.
【0031】したがって低分子の材料は、反応によって
電気的な特性を低下させる分子状態に移行しないことも
重要である。Therefore, it is also important that a low-molecular material does not shift to a molecular state in which electrical properties are lowered by a reaction.
【0032】このように、従来の感光層上に単に硬度の
大きい材料を積層するだけで、良好な画像形成ができる
感光体を、簡単に作製できるのではないことを見出し
た。また、上記のような条件で作製された感光体は、有
機感光層の電気的特性をそのまま維持しつつ、表面保護
層による耐久性、耐環境性を向上させることが可能にな
る。As described above, it has been found that a photoreceptor capable of forming a good image cannot be easily produced simply by laminating a material having high hardness on a conventional photosensitive layer. Further, the photoreceptor manufactured under the above-described conditions can improve the durability and environmental resistance of the surface protective layer while maintaining the electrical characteristics of the organic photosensitive layer.
【0033】そこで発明者らは、これらの知見を考慮し
つつ、有機感光層を構成する種々の材料について検討を
行った結果、正孔輸送剤として用いられる、式(1):The present inventors have studied various materials constituting the organic photosensitive layer in consideration of these findings, and as a result, the following formula (1) used as a hole transport agent:
【0034】[0034]
【化2】 Embedded image
【0035】〔式中、R1〜R6は、同一または異なって
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基ま
たはアリール基を示し、a〜fは同一または異なって1
〜5の整数を示す。〕で表されるトリアミノベンゼン誘
導体が、これらの要求を満足する好適な材料であること
を見出し、本発明を完成するに至った。Wherein R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group;
Represents an integer of from 5 to 5. Have been found to be suitable materials that satisfy these requirements, and have completed the present invention.
【0036】すなわち本発明の電子写真感光体は、導電
性基体上に、有機感光層と、無機の表面保護層とをこの
順に積層したものであって、上記有機感光層の、少なく
とも表面保護層に接する最表面部が、上記式(1)で表
されるトリアミノベンゼン誘導体を含有することを特徴
としている。That is, the electrophotographic photoreceptor of the present invention comprises an organic photosensitive layer and an inorganic surface protective layer laminated in this order on a conductive substrate. Is characterized in that the outermost surface part in contact with the triaminobenzene derivative represented by the above formula (1).
【0037】上記式(1)で表されるトリアミノベンゼ
ン誘導体は、その分子全体にπ電子共役系が広がってお
り、成膜初期の段階で、表面保護層を構成する無機材料
のうちとくに金属元素や炭素等を引きつける機能を有し
ており、無機材料との反応性が高い。In the triaminobenzene derivative represented by the above formula (1), a π-electron conjugated system is spread over the entire molecule. It has a function of attracting elements, carbon, etc., and has high reactivity with inorganic materials.
【0038】また上記の機能により、有機感光層の最表
面部に露出したトリアミノベンゼン誘導体が無機材料と
結合して膜成長の核となる率が高いため、両層の界面に
おける結合点の密度が高い。Further, by the above-mentioned function, the triaminobenzene derivative exposed on the outermost surface of the organic photosensitive layer has a high rate of bonding with the inorganic material and serving as a nucleus for film growth. Is high.
【0039】また膜成長の速度も速いため、有機感光層
が、気相成長法などによる表面保護層の成膜時に受ける
ダメージを極力減らすこともできる。Further, since the speed of film growth is high, damage to the organic photosensitive layer when the surface protective layer is formed by a vapor phase growth method or the like can be reduced as much as possible.
【0040】またトリアミノベンゼン誘導体は、分子中
の二重結合のうちπ結合が切れて、上記金属元素や炭素
等と、分子結合によって強固に結合されるため、有機感
光層と無機材料との結合力も大きい。Further, the triaminobenzene derivative breaks the π bond among the double bonds in the molecule and is firmly bonded to the above-mentioned metal element or carbon by a molecular bond. The binding power is also large.
【0041】しかもトリアミノベンゼン誘導体は、正孔
輸送剤の中では比較的分子量が大きい上、7個のベンゼ
ン環が平面状に拡がった分子構造を有しており、分子
的、空間的な広がりも大きく、しかも結着樹脂との相溶
性、親和性にも優れているため、結着樹脂に対して良好
なアンカー効果を示す。Furthermore, the triaminobenzene derivative has a relatively large molecular weight among the hole transporting agents, and has a molecular structure in which seven benzene rings are spread in a plane, so that the molecular and spatial spreading are possible. It is also excellent in compatibility and affinity with the binder resin, and thus exhibits a good anchoring effect on the binder resin.
【0042】それゆえ有機感光層と無機材料との結合力
も大きい。Therefore, the bonding strength between the organic photosensitive layer and the inorganic material is large.
【0043】したがって本発明によれば、無機の表面保
護層の、有機感光層に対する密着性を向上して、当該表
面保護層の物理的安定性を改善できるため、実使用環境
下や長期の保管等によるクラックや剥離の発生を防止し
て、これまでよりも耐久性に優れた電子写真感光体を得
ることが可能となる。Therefore, according to the present invention, the adhesion of the inorganic surface protective layer to the organic photosensitive layer can be improved, and the physical stability of the surface protective layer can be improved. It is possible to prevent the occurrence of cracks and peeling due to the above-mentioned factors, and to obtain an electrophotographic photosensitive member having more excellent durability than before.
【0044】またトリアミノベンゼン誘導体は、それ自
体の正孔輸送能が高い上、前記のように金属元素や炭素
等と分子結合して分子構造が変化した状態でも、深い電
荷のトラップを生成することがなく、しかも上記の結合
は有機感光層の最表面部に露出したごく一部のトリアミ
ノベンゼン誘導体のみで発生し、有機感光層内部の大多
数のトリアミノベンゼン誘導体は、元の、正孔輸送能に
優れた状態を維持しているため、感光体の感度低下を引
き起こすおそれもない。In addition, the triaminobenzene derivative has a high hole transporting ability itself, and generates a deep charge trap even in a state where the molecular structure is changed by the molecular bond with a metal element or carbon as described above. In addition, the above bond occurs only in a small portion of the triaminobenzene derivative exposed on the outermost surface of the organic photosensitive layer, and the majority of the triaminobenzene derivative inside the organic photosensitive layer is the original positive amino acid. Since the state excellent in the hole transport ability is maintained, there is no possibility that the sensitivity of the photoreceptor is reduced.
【0045】このため上記トリアミノベンゼン誘導体
が、前記のように結着樹脂との相溶性に優れており、有
機感光層中に、凝集等を生じることなく均一に、しかも
多量に分散できることと相まって、本発明の電子写真感
光体は、感度特性にも優れたものとなる。For this reason, the triaminobenzene derivative is excellent in compatibility with the binder resin as described above, and can be uniformly dispersed in a large amount without causing aggregation or the like in the organic photosensitive layer. The electrophotographic photoreceptor of the present invention also has excellent sensitivity characteristics.
【0046】[0046]
【発明の実施の形態】以下に、本発明を説明する。 〈トリアミノベンゼン誘導体〉本発明の電子写真感光体
において、有機感光層の、少なくとも表面保護層に接す
る最表面部に含有されるトリアミノベンゼン誘導体は、
前記のように式(1):DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below. <Triaminobenzene derivative> In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, the triaminobenzene derivative contained in the organic photosensitive layer, at least in the outermost surface in contact with the surface protective layer,
Equation (1) as described above:
【0047】[0047]
【化3】 Embedded image
【0048】〔式中、R1〜R6は、同一または異なって
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基ま
たはアリール基を示し、a〜fは同一または異なって1
〜5の整数を示す。〕で表されるものである。Wherein R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group;
Represents an integer of from 5 to 5. ].
【0049】式中の基R1〜R6に相当するアルキル基と
しては、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t
ert−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの、炭素数1
〜6のアルキル基が挙げられる。The alkyl group corresponding to the groups R 1 to R 6 in the formula includes, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl
1 carbon atoms such as tert-butyl, pentyl, hexyl, etc.
To 6 alkyl groups.
【0050】また基R1〜R6に相当するアルコキシ基と
しては、例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、
イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec
−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘ
キシルオキシなどの、炭素数1〜6のアルコキシ基が挙
げられる。The alkoxy groups corresponding to the groups R 1 to R 6 include, for example, methoxy, ethoxy, n-propoxy,
Isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec
And alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as -butoxy, tert-butoxy, pentyloxy and hexyloxy.
【0051】アリール基としては、例えばフェニル、ト
リル、キシリル、ビフェニリル、o−テルフェニル、ナ
フチル、アントリル、フェナントリルなどの、炭素数6
〜14のアリール基が挙げられる。Examples of the aryl group include those having 6 carbon atoms such as phenyl, tolyl, xylyl, biphenylyl, o-terphenyl, naphthyl, anthryl and phenanthryl.
To 14 aryl groups.
【0052】基R1〜R6に相当するアルキル基、アルコ
キシ基、アリール基は置換基を有していても良く、具体
的にはヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、
モノアルキルアミノアルキル基、ジアルキルアミノアル
キル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシカルボニ
ルアルキル基、カルボキシアルキル基、アルカノイルオ
キシアルキル基、アミノアルキル基、ハロゲン原子、ア
ミノ基、ヒドロキシ基、エステル化されていてもよいカ
ルボキシル基、シアノ基などの他、前述と同様の炭素数
1〜6の置換基を有してもよいアルキル基や炭素数1〜
6の置換基を有してもよいアルコキシ基などがあげられ
る。なお、これらの置換基の置換位置については特に限
定されない。The alkyl group, alkoxy group and aryl group corresponding to the groups R 1 to R 6 may have a substituent, and specific examples thereof include a hydroxyalkyl group, an alkoxyalkyl group,
Monoalkylaminoalkyl group, dialkylaminoalkyl group, halogen-substituted alkyl group, alkoxycarbonylalkyl group, carboxyalkyl group, alkanoyloxyalkyl group, aminoalkyl group, halogen atom, amino group, hydroxy group, may be esterified In addition to a carboxyl group, a cyano group, and the like, an alkyl group or a C 1 to C 6 carbon atom which may have a substituent having the same number as described above.
And an alkoxy group which may have 6 substituents. In addition, the substitution positions of these substituents are not particularly limited.
【0053】さらに基R1〜R6に相当するハロゲン原子
としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ
る。Further, the halogen atoms corresponding to the groups R 1 to R 6 include fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like.
【0054】このようなトリアミノベンゼン誘導体の具
体例としては、これに限定されないが例えば下記式(1
−1)〜(1−6)で表される化合物等が挙げられる。Specific examples of such triaminobenzene derivatives include, but are not limited to, the following formula (1)
-1) to (1-6).
【0055】[0055]
【化4】 Embedded image
【0056】[0056]
【化5】 Embedded image
【0057】[0057]
【化6】 Embedded image
【0058】上記トリアミノベンゼン誘導体は、それぞ
れ1種単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても
良い。 〈有機感光層〉有機感光層には、前述したように単層型
感光層と積層型感光層とがあるが、本発明には、このい
ずれのものも適用可能である。The above triaminobenzene derivatives may be used alone or in combination of two or more. <Organic photosensitive layer> As described above, the organic photosensitive layer includes a single-layer photosensitive layer and a laminated photosensitive layer, and any of them can be applied to the present invention.
【0059】このうち単層型感光層は、正孔輸送剤とし
ての、前記式(1)で表されるトリアミノベンゼン誘導
体と、電荷発生剤とを、結着樹脂とともに適当な有機溶
媒に溶解または分散した塗工液を、塗布などの手段によ
って導電性基材上に塗布し、乾燥させることで形成され
る。In the single-layer type photosensitive layer, the triaminobenzene derivative represented by the above formula (1) as a hole transporting agent and a charge generating agent are dissolved in a suitable organic solvent together with a binder resin. Alternatively, it is formed by applying a dispersed coating liquid on a conductive substrate by means such as coating and drying.
【0060】以上に述べた単層型感光層は、層構成が簡
単で生産性に優れている。The single-layer type photosensitive layer described above has a simple layer structure and is excellent in productivity.
【0061】また単層型感光層には、さらに電子輸送剤
を含有させても良く、両極性の電荷輸送剤を併用した感
光層は、単独の構成で正負いずれの帯電にも対応できる
という利点がある。The single-layer type photosensitive layer may further contain an electron transporting agent, and the photosensitive layer using a bipolar charge transporting agent has the advantage of being able to cope with both positive and negative charges with a single structure. There is.
【0062】一方、積層型感光層は、まず導電性基体上
に、塗布または蒸着などの手段によって、電荷発生剤を
含有する電荷発生層を形成し、ついでこの電荷発生層上
に、電荷輸送剤と結着樹脂とを含む塗工液を、塗布など
の手段によって塗布し、乾燥させて電荷輸送層を形成す
るか、もしくは上記と逆に、導電性基体上に電荷輸送層
を形成し、その上に電荷発生層を形成することで構成さ
れる。On the other hand, in the laminated photosensitive layer, first, a charge generating layer containing a charge generating agent is formed on a conductive substrate by means such as coating or vapor deposition, and then a charge transporting agent is formed on the charge generating layer. And a coating liquid containing a binder resin, is applied by means such as coating, and dried to form a charge transport layer, or, conversely, to form a charge transport layer on a conductive substrate, It is constituted by forming a charge generation layer thereon.
【0063】また上記のうち電荷発生層には、電荷輸送
層と逆極性の電荷輸送剤を含有させることができる。The charge generating layer may contain a charge transporting agent having a polarity opposite to that of the charge transporting layer.
【0064】積層型感光層は、上記電荷発生層、電荷輸
送層の形成順序と、両層に含有させる電荷輸送剤の極性
によって種々の組み合わせが考えられるが、本発明にお
いては、上記のうち表面保護層と接する最表面部に位置
する上側の層が、正孔輸送剤として機能する、式(1)
のトリアミノベンゼン誘導体を含有している必要があ
る。The laminate type photosensitive layer may be in various combinations depending on the order of forming the charge generation layer and the charge transport layer and the polarity of the charge transport agent contained in both layers. Formula (1) wherein the upper layer located on the outermost surface in contact with the protective layer functions as a hole transporting agent.
Must be contained.
【0065】したがって積層型感光層の具体例として
は、(a)導電性基体上に、電荷発生剤と、必要に応じ
て電子輸送剤とを含有する電荷発生層を形成し、その上
に、正孔輸送剤としての式(1)のトリアミノベンゼン
誘導体を含有する電荷輸送層を積層した負帯電型の積層
型感光層、(b)導電性基体上に、電子輸送剤を含有す
る電荷輸送層を形成し、その上に、電荷発生剤と、正孔
輸送剤としての式(1)のトリアミノベンゼン誘導体と
を含有する電荷発生層を積層した負帯電型の積層型感光
層の2種が挙げられる。Therefore, as a specific example of the laminated photosensitive layer, (a) a charge generating layer containing a charge generating agent and, if necessary, an electron transporting agent is formed on a conductive base, and Negatively-charged laminated photosensitive layer in which a charge transport layer containing a triaminobenzene derivative of the formula (1) as a hole transport agent is laminated, (b) Charge transport containing an electron transport agent on a conductive substrate A negative charge type laminated photosensitive layer in which a layer is formed and a charge generation layer containing a charge generation agent and a triaminobenzene derivative of the formula (1) as a hole transporting agent is laminated thereon. Is mentioned.
【0066】但し電荷発生層は、電荷輸送層に比べて膜
厚がごく薄いため、その保護のためには、導電性基体上
に電荷発生層を形成し、その上に電荷輸送層を形成した
上記(a)の構成がさらに好ましい。However, since the charge generation layer is much thinner than the charge transport layer, in order to protect the charge generation layer, a charge generation layer was formed on a conductive substrate, and a charge transport layer was formed thereon. The above configuration (a) is more preferable.
【0067】上記単層型もしくは積層型感光層に使用さ
れる電荷発生剤としては、例えばセレン、セレン−テル
ル、セレン−ヒ素、硫化カドミウム、α−シリコンなど
の無機光導電材料の粉末、式(CG−1):Examples of the charge generating agent used in the single-layer or multi-layer photosensitive layer include powders of inorganic photoconductive materials such as selenium, selenium-tellurium, selenium-arsenic, cadmium sulfide, and α-silicon; CG-1):
【0068】[0068]
【化7】 Embedded image
【0069】で表される無金属フタロシアニン、式(C
G−2):A metal-free phthalocyanine represented by the formula (C)
G-2):
【0070】[0070]
【化8】 Embedded image
【0071】で表されるチタニルフタロシアニン等のフ
タロシアニン化合物の、種々の結晶型を有する結晶から
なるフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、ビスアゾ系顔
料、ペリレン系顔料、アンサンスロン系顔料、インジゴ
系顔料、トリフェニルメタン系顔料、スレン系顔料、ト
ルイジン系顔料、ピラゾリン系顔料、キナクリドン系顔
料、ジチオケトピロロピロール系顔料などの、従来公知
の種々の顔料が挙げられる。Of the phthalocyanine compounds such as titanyl phthalocyanine represented by the following formulas, phthalocyanine pigments, azo pigments, bisazo pigments, perylene pigments, anthanthrone pigments, indigo pigments, Various conventionally known pigments such as a phenylmethane pigment, a threne pigment, a toluidine pigment, a pyrazoline pigment, a quinacridone pigment, and a dithioketopyrrolopyrrole pigment are exemplified.
【0072】電荷発生剤は、感光層が所望の波長域に感
度を有するように、それぞれ1種単独で、あるいは2種
以上を組み合わせて使用することができる。The charge generators can be used alone or in combination of two or more so that the photosensitive layer has sensitivity in a desired wavelength range.
【0073】特に半導体レーザー等の赤外光を利用し
た、レーザービームプリンタや普通紙ファクシミリ装置
等のデジタル光学系の画像形成装置には、700nm以
上の波長領域に感度を有する感光体が必要となるため、
電荷発生剤として、前記例示のうちフタロシアニン系顔
料が好適に使用される。In particular, in a digital optical image forming apparatus such as a laser beam printer or a plain paper facsimile apparatus utilizing infrared light such as a semiconductor laser, a photosensitive member having a sensitivity in a wavelength region of 700 nm or more is required. For,
As the charge generator, a phthalocyanine-based pigment among the above examples is preferably used.
【0074】また電子輸送剤としては、従来公知の種々
の電子輸送性化合物がいずれも使用可能である。As the electron transporting agent, any of various conventionally known electron transporting compounds can be used.
【0075】特にベンゾキノン系化合物、ジフェノキノ
ン系化合物〔例えば式(ET−1):In particular, benzoquinone-based compounds and diphenoquinone-based compounds [for example, of the formula (ET-1):
【0076】[0076]
【化9】 Embedded image
【0077】で表される2,6−ジメチル−2’,6’
−t−ブチルベンゾキノンなど〕、ナフトキノン系化合
物、マロノニトリル、チオピラン系化合物、テトラシア
ノエチレン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、
フルオレノン系化合物〔例えば2,4,7−トリニトロ
−9−フルオレノンなど〕、ジニトロベンゼン、ジニト
ロアントラセン、ジニトロアクリジン、ニトロアントラ
キノン、無水こはく酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水
マレイン酸、2,4,7−トリニトロフルオレノンイミ
ン系化合物、エチル化ニトロフルオレノンイミン系化合
物、トリプトアントリン系化合物、トリプトアントリン
イミン系化合物、アザフルオレノン系化合物、ジニトロ
ピリドキナゾリン系化合物、チオキサンテン系化合物、
2−フェニル−1,4−ベンゾキノン系化合物、2−フ
ェニル−1,4−ナフトキノン系化合物、5,12−ナ
フタセンキノン系化合物、α−シアノスチルベン系化合
物、4′−ニトロスチルベン系化合物、ならびに、ベン
ゾキノン系化合物の陰イオンラジカルとカチオンとの塩
などの電子吸引性化合物が好適に使用される。2,6-dimethyl-2 ', 6'
-T-butylbenzoquinone], a naphthoquinone-based compound, malononitrile, a thiopyran-based compound, tetracyanoethylene, 2,4,8-trinitrothioxanthone,
Fluorenone compounds (eg, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone etc.), dinitrobenzene, dinitroanthracene, dinitroacridine, nitroanthraquinone, succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, 2,4,7- Trinitrofluorenone imine compound, ethylated nitrofluorenone imine compound, trypto anthrin compound, trypto anthrin imine compound, azafluorenone compound, dinitropyridoquinazoline compound, thioxanthene compound,
2-phenyl-1,4-benzoquinone-based compound, 2-phenyl-1,4-naphthoquinone-based compound, 5,12-naphthacenequinone-based compound, α-cyanostilbene-based compound, 4′-nitrostilbene-based compound, and benzoquinone An electron-withdrawing compound such as a salt of an anion radical and a cation of a system compound is preferably used.
【0078】これらはそれぞれ単独で使用される他、2
種以上を併用することもできる。These can be used alone or in addition to
More than one species may be used in combination.
【0079】本発明においては、正孔輸送剤である前記
式(1)のトリアミノベンゼン誘導体とともに、他の正
孔輸送剤を併用しても良い。In the present invention, another hole transporting agent may be used in combination with the triaminobenzene derivative of the above formula (1) which is a hole transporting agent.
【0080】当該他の正孔輸送剤としては、従来公知の
種々の正孔輸送性化合物がいずれも使用可能である。As the other hole transporting agent, any of various conventionally known hole transporting compounds can be used.
【0081】特にスチルベン系化合物、ベンジジン系化
合物、フェニレンジアミン系化合物、ナフチレンジアミ
ン系化合物、フェナントリレンジアミン系化合物、オキ
サジアゾール系化合物〔例えば2,5−ジ(4−メチル
アミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールな
ど〕、スチリル系化合物〔例えば9−(4−ジエチルア
ミノスチリル)アントラセンなど〕、カルバゾール系化
合物〔例えば式(HT−1):In particular, stilbene compounds, benzidine compounds, phenylenediamine compounds, naphthylenediamine compounds, phenanthrylenediamine compounds, oxadiazole compounds [for example, 2,5-di (4-methylaminophenyl)- 1,3,4-oxadiazole, etc.), styryl-based compounds [eg, 9- (4-diethylaminostyryl) anthracene, etc.], carbazole-based compounds [eg, formula (HT-1):
【0082】[0082]
【化10】 Embedded image
【0083】で表される繰り返し単位を有するポリ−N
−ビニルカルバゾールなど〕、式(HT−2):Poly-N having a repeating unit represented by
-Vinyl carbazole etc.], Formula (HT-2):
【0084】[0084]
【化11】 Embedded image
【0085】〔式中、Ra、Rbは同一または異なって、
アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラル
キル基を示す。〕で表される繰り返し単位を有する有機
ポリシラン化合物、ピラゾリン系化合物〔例えば1−フ
ェニル−3−(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリ
ンなど〕、ヒドラゾン系化合物〔例えば式(HT−
3):[Wherein R a and R b are the same or different,
It represents an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group. An organic polysilane compound having a repeating unit represented by the formula (I), a pyrazoline-based compound (eg, 1-phenyl-3- (p-dimethylaminophenyl) pyrazolin, etc.), a hydrazone-based compound (eg, a compound represented by the formula (HT-
3):
【0086】[0086]
【化12】 Embedded image
【0087】で表されるジエチルアミノベンズアルデヒ
ドジフェニルヒドラゾンなど〕、トリフェニルアミン系
化合物、インドール系化合物、オキサゾール系化合物、
イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チア
ジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾー
ル系化合物、トリアゾール系化合物、ブタジエン系化合
物、ピレン−ヒドラゾン系化合物、アクロレイン系化合
物、カルバゾール−ヒドラゾン系化合物、キノリン−ヒ
ドラゾン系化合物、スチルベン−ヒドラゾン系化合物、
およびジフェニレンジアミン系化合物などが好適に使用
される。Such as diethylaminobenzaldehyde diphenylhydrazone, etc.], triphenylamine compounds, indole compounds, oxazole compounds,
Isoxazole compounds, thiazole compounds, thiadiazole compounds, imidazole compounds, pyrazole compounds, triazole compounds, butadiene compounds, pyrene-hydrazone compounds, acrolein compounds, carbazole-hydrazone compounds, quinoline-hydrazone compounds , A stilbene-hydrazone compound,
And diphenylenediamine compounds are preferably used.
【0088】これらはそれぞれ単独で使用される他、2
種以上を併用することもできる。These can be used alone or in addition to
More than one species may be used in combination.
【0089】結着樹脂としては、例えばスチレン系重合
体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、
アクリル系重合体、スチレン−アクリル系共重合体、ポ
リエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化ポ
リエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキッド
樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ポリカーボネート、
ポリアリレート、ポリスルホン、ジアリルフタレート樹
脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエー
テル樹脂などの熱可塑性樹脂や、シリコーン樹脂、エポ
キシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂そ
の他架橋性の熱硬化性樹脂、さらにエポキシ−アクリレ
ート、ウレタン−アクリレートなどの光硬化性樹脂など
があげられる。Examples of the binder resin include styrene-based polymers, styrene-butadiene copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-maleic acid copolymers,
Acrylic polymer, styrene-acrylic copolymer, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, chlorinated polyethylene, polyvinyl chloride, polypropylene, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyester, alkyd resin, polyamide, polyurethane , Polycarbonate,
Thermoplastic resins such as polyarylate, polysulfone, diallyl phthalate resin, ketone resin, polyvinyl butyral resin, polyether resin, and silicone resin, epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, and other cross-linkable thermosetting resins, Photo-curable resins such as epoxy-acrylate and urethane-acrylate are exemplified.
【0090】これらはそれぞれ単独で使用できるほか、
2種以上を併用することもできる。These can be used alone, respectively.
Two or more can be used in combination.
【0091】また、前記例示の正孔輸送剤うち、ポリ−
N−ビニルカルバゾールや有機ポリシラン化合物等の高
分子の正孔輸送剤を、式(1)のトリアミノベンゼン誘
導体と併用する場合は、当該化合物を結着樹脂としても
機能させて、上記例示の通常の結着樹脂を省略すること
もできる。Further, among the hole transporting agents exemplified above, poly-
When a polymeric hole transporting agent such as N-vinyl carbazole or an organic polysilane compound is used in combination with the triaminobenzene derivative of the formula (1), the compound is allowed to function as a binder resin, and the above-described ordinary examples are used. Can be omitted.
【0092】感光層には、上記各成分の他に、例えばフ
ルオレン系化合物、紫外線吸収剤、可塑剤、界面活性
剤、レベリング剤などの種々の添加剤を添加することも
できる。また感光体の感度を向上させるために、例えば
ターフェニル、ハロナフトキノン類、アセナフチレンな
どの増感剤を添加してもよい。In addition to the above components, various additives such as a fluorene compound, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a surfactant and a leveling agent can be added to the photosensitive layer. In order to improve the sensitivity of the photoreceptor, a sensitizer such as terphenyl, halonaphthoquinones, and acenaphthylene may be added.
【0093】単層型感光層においては、結着樹脂100
重量部に対して、電荷発生剤を0.1〜50重量部、特
に0.5〜30重量部の割合で、また正孔輸送剤を5〜
500重量部、特に25〜200重量部の割合で、それ
ぞれ含有させるのが好ましい。In the single-layer type photosensitive layer, the binder resin 100
0.1 to 50 parts by weight, particularly 0.5 to 30 parts by weight, of the charge generating agent and 5 to 5 parts by weight of the hole transporting agent.
It is preferable to contain each in an amount of 500 parts by weight, particularly 25 to 200 parts by weight.
【0094】このうち正孔輸送剤の含有割合は、式
(1)のトリアミノベンゼン誘導体を単独で用いる場合
は、当該トリアミノベンゼン誘導体の含有割合であり、
トリアミノベンゼン誘導体と他の正孔輸送剤とを併用す
る場合は、両者の合計の含有割合である。When the triaminobenzene derivative of the formula (1) is used alone, the content of the hole transport agent is the content of the triaminobenzene derivative.
When the triaminobenzene derivative is used in combination with another hole transporting agent, the content is the total content of both.
【0095】またトリアミノベンゼン誘導体と他の正孔
輸送剤とを併用する場合、当該他の正孔輸送剤は、前述
したトリアミノベンゼン誘導体の効果を妨げない範囲で
少量、含有させるのが好ましい。具体的には他の正孔輸
送剤を、トリアミノベンゼン誘導体100重量部に対し
て30重量部以下の割合で配合するのが好ましい。When a triaminobenzene derivative is used in combination with another hole transporting agent, the other hole transporting agent is preferably contained in a small amount as long as the effect of the triaminobenzene derivative is not hindered. . Specifically, it is preferable to mix another hole transporting agent in an amount of 30 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the triaminobenzene derivative.
【0096】また電子輸送剤を併用する場合は、結着樹
脂100重量部に対して、当該電子輸送剤を5〜100
重量部、特に10〜80重量部の割合で含有させるのが
好ましい。またこの際、正孔輸送剤と電子輸送剤との総
量は、結着樹脂100重量部に対して20〜500重量
部、特に30〜200重量部が好ましい。When an electron transporting agent is used in combination, the electron transporting agent is used in an amount of 5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin.
It is preferred that the content be contained in a ratio of 10 parts by weight, particularly 10 to 80 parts by weight. In this case, the total amount of the hole transporting agent and the electron transporting agent is preferably 20 to 500 parts by weight, particularly preferably 30 to 200 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin.
【0097】単層型感光層の厚みは5〜100μm、特
に10〜50μm程度が好ましい。The thickness of the single-layer type photosensitive layer is preferably 5 to 100 μm, particularly preferably about 10 to 50 μm.
【0098】積層型感光層のうち電荷発生層は、電荷発
生剤単独で形成される場合と、結着樹脂中に、電荷発生
剤と、前記のように必要に応じて電子輸送剤とを分散さ
せて形成される場合とがあり、このうち後者の構成で
は、結着樹脂100重量部に対して、電荷発生剤を5〜
1000重量部、特に30〜500重量部の割合で、ま
た電子輸送剤を1〜200重量部、特に5〜100重量
部の割合で、それぞれ含有させるのが好ましい。The charge generating layer of the laminated photosensitive layer is composed of the charge generating agent alone, and the charge generating agent and the electron transporting agent are dispersed in the binder resin as necessary. In the latter configuration, the charge generating agent is used in an amount of 5 to 100 parts by weight of the binder resin.
It is preferable to contain 1000 parts by weight, particularly 30 to 500 parts by weight, and the electron transporting agent at 1 to 200 parts by weight, particularly 5 to 100 parts by weight.
【0099】また電荷輸送層においては、結着樹脂10
0重量部に対して、正孔輸送剤を10〜500重量部、
特に25〜200重量部の割合で含有させるのが好まし
い。In the charge transport layer, the binder resin 10
0 part by weight, 10 to 500 parts by weight of the hole transport agent,
In particular, it is preferable to contain 25 to 200 parts by weight.
【0100】正孔輸送剤の含有割合は、先の、単層型感
光層の場合と同様に、式(1)のトリアミノベンゼン誘
導体を単独で用いる場合は、当該トリアミノベンゼン誘
導体の含有割合であり、トリアミノベンゼン誘導体と他
の正孔輸送剤とを併用する場合は、両者の合計の含有割
合である。When the triaminobenzene derivative of the formula (1) is used alone, the content ratio of the hole transport agent is determined in the same manner as in the case of the single-layer type photosensitive layer. When a triaminobenzene derivative and another hole transporting agent are used in combination, the content ratio is the total content of both.
【0101】またトリアミノベンゼン誘導体と他の正孔
輸送剤とを併用する場合、当該他の正孔輸送剤は、前述
したトリアミノベンゼン誘導体の効果を妨げない範囲で
少量、含有させるのが好ましい。具体的には他の正孔輸
送剤を、トリアミノベンゼン誘導体100重量部に対し
て30重量部以下の割合で配合するのが好ましい。When a triaminobenzene derivative is used in combination with another hole transporting agent, the other hole transporting agent is preferably contained in a small amount as long as the effect of the triaminobenzene derivative is not hindered. . Specifically, it is preferable to mix another hole transporting agent in an amount of 30 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the triaminobenzene derivative.
【0102】積層型感光層の厚みは、電荷発生層が0.
01〜5μm、特に0.1〜3μm程度、電荷輸送層が
2〜100μm、特に5〜50μm程度が好ましい。The thickness of the laminate type photosensitive layer is such that the charge generation layer has a thickness of 0.1 mm.
The thickness is preferably from 01 to 5 µm, particularly about 0.1 to 3 µm, and the charge transport layer is preferably from 2 to 100 µm, especially about 5 to 50 µm.
【0103】上記単層型、または積層型の有機感光層と
導電性基体との間や、あるいは積層型感光層を構成する
電荷発生層と電荷輸送層との間には、感光体の特性を阻
害しない範囲で中間層、バリア層を形成しても良い。The properties of the photoreceptor are between the single-layer or laminated organic photosensitive layer and the conductive substrate, or between the charge generating layer and the charge transport layer constituting the laminated photosensitive layer. An intermediate layer and a barrier layer may be formed as long as they do not interfere.
【0104】感光体を構成する各層を、塗布の方法によ
り形成する場合には、前記例示の電荷発生剤、電荷輸送
剤、結着樹脂などを、前述したテトラヒドロフランなど
の有機溶媒とともに、公知の方法、例えば、ロールミ
ル、ボールミル、アトライタ、ペイントシェーカーある
いは超音波分散器などを用いて分散混合して塗工液を調
整し、これを公知の手段により塗布、乾燥すればよい。When each layer constituting the photoreceptor is formed by a coating method, the charge generating agent, the charge transporting agent, the binder resin, etc., together with the above-mentioned organic solvent such as tetrahydrofuran, may be used in a known manner. For example, a coating solution may be prepared by dispersing and mixing using a roll mill, a ball mill, an attritor, a paint shaker, an ultrasonic disperser, or the like, and the coating solution may be applied and dried by known means.
【0105】塗工液を作るための有機溶媒としては、例
えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタ
ノールなどのアルコール類、n−ヘキサン、オクタン、
シクロヘキサンなどの脂肪族系炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼンなど
のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、
酢酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類、ジメチルホ
ルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシドなどの1種または2種以上があげられる。Examples of the organic solvent for preparing the coating liquid include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and butanol, n-hexane, octane, and the like.
Aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, dichloromethane, dichloroethane, carbon tetrachloride, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dimethyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, Ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone;
Ester such as ethyl acetate and methyl acetate, and one or more of dimethylformaldehyde, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like.
【0106】さらに、電荷輸送剤や電荷発生剤の分散
性、感光層表面の平滑性をよくするため、塗工液には界
面活性剤、レベリング剤などを添加してもよい。 〈表面保護層〉上記有機感光層の上に積層、形成される
無機の表面保護層としては金属元素〔長周期型周期表の
うちホウ素(B)とアスタチン(At)とを結ぶ線より
左側にある元素〕、および炭素からなる群より選ばれた
少なくとも1種の元素、またはこれらの元素を含む無機
の化合物からなる、従来公知の種々の表面保護層が挙げ
られる。Further, in order to improve the dispersibility of the charge transporting agent and the charge generating agent and the smoothness of the surface of the photosensitive layer, a surfactant, a leveling agent and the like may be added to the coating solution. <Surface protective layer> As an inorganic surface protective layer laminated and formed on the organic photosensitive layer, a metal element [on the left side of a line connecting boron (B) and astatine (At) in the long period type periodic table] is used. A certain element], at least one element selected from the group consisting of carbon, or an inorganic compound containing these elements.
【0107】この表面保護層は、例えばプラズマCVD
法、光CVD法等の化学蒸着法、スパッタリング法、真
空蒸着法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法な
ど、従来公知の種々の気相成長法によって形成すること
ができる。This surface protective layer is formed, for example, by plasma CVD.
It can be formed by conventionally known various vapor phase growth methods such as a chemical vapor deposition method such as a photo-CVD method, a physical vapor deposition method such as a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, and an ion plating method.
【0108】このうちプラズマCVD法等の化学蒸着法
では、(1)14族元素のうち炭素(C)および/また
はケイ素(Si)からなる膜、すなわち炭素(C)の
膜、ケイ素(Si)の膜、またはケイ素−炭素(Si
C)複合膜、(2)上記炭素(C)および/またはケイ
素(Si)と、13族元素のうちホウ素(B)、アルミ
ニウム(Al)、15族元素のうち窒素(N)、リン
(P)、16族元素のうち酸素(O)、イオウ(S)、
17族元素のうちフッ素(F)、塩素(Cl)、および
臭素(Br)からなる群より選ばれた少なくとも1種の
元素との化合物からなる膜、例えばケイ素−窒素(Si
N)複合膜、ケイ素−酸素(SiO)複合膜、炭素−フ
ッ素(CF)複合膜、炭素−窒素(CN)複合膜、炭素
−ホウ素(CB)複合膜、炭素−酸素(CO)複合膜
等、(3)13族元素のうちホウ素(B)および/また
はアルミニウム(Al)と、上述した窒素(N)、リン
(P)、酸素(O)、イオウ(S)、フッ素(F)、塩
素(Cl)、および臭素(Br)からなる群より選ばれ
ら少なくとも1種の元素との化合物からなる膜、例えば
ホウ素−窒素(BN)複合膜、アルミニウム−窒素(A
lN)複合膜等、が形成される。Among them, in chemical vapor deposition such as plasma CVD, (1) a film made of carbon (C) and / or silicon (Si) among Group 14 elements, that is, a film of carbon (C) and silicon (Si) Film or silicon-carbon (Si
C) a composite film, (2) the carbon (C) and / or silicon (Si), boron (B) and aluminum (Al) among the group 13 elements, nitrogen (N) and phosphorus (P ), Oxygen (O), sulfur (S),
A film made of a compound with at least one element selected from the group consisting of fluorine (F), chlorine (Cl), and bromine (Br) among group 17 elements, for example, silicon-nitrogen (Si
N) composite film, silicon-oxygen (SiO) composite film, carbon-fluorine (CF) composite film, carbon-nitrogen (CN) composite film, carbon-boron (CB) composite film, carbon-oxygen (CO) composite film, etc. , (3) boron (B) and / or aluminum (Al) among the group 13 elements and nitrogen (N), phosphorus (P), oxygen (O), sulfur (S), fluorine (F), chlorine (Cl) and a film made of a compound with at least one element selected from the group consisting of bromine (Br), for example, a boron-nitrogen (BN) composite film, an aluminum-nitrogen (A
1N) a composite film or the like is formed.
【0109】またこれらの膜には、表面保護層の電気的
特性を向上するために、微量の水素(H)を含有させる
こともできる。Further, these films may contain a small amount of hydrogen (H) in order to improve the electrical characteristics of the surface protective layer.
【0110】化学蒸着法において、表面保護層の構成元
素を導入するために使用できる原料ガスとしては、各構
成元素の分子、酸化物、水素化物、窒化物、ハロゲン化
物等の、常温常圧下でガス状を呈するか、もしくは成膜
条件下で容易にガス化しうる化合物があげられる。また
必要に応じてこれらの化合物を、水素ガス(H2)、ヘ
リウムガス、アルゴンガス、ネオンガス等のガスによっ
て希釈しても良い。In the chemical vapor deposition method, the source gas that can be used to introduce the constituent elements of the surface protective layer includes molecules of each constituent element, oxides, hydrides, nitrides, halides, and the like under normal temperature and normal pressure. Compounds that are gaseous or can be easily gasified under film-forming conditions are mentioned. If necessary, these compounds may be diluted with a gas such as hydrogen gas (H 2 ), helium gas, argon gas, or neon gas.
【0111】原料ガスの具体例としては、例えばケイ素
導入用としてシランガス(SiH4)、ジシランガス(S
i2H6)、炭素導入用としてメタンガス(CH4)、エ
タンガス(C2H6)、プロパンガス(C3H8)、エチレ
ンガス(C2H4)、フッ素導入用としてフッ素ガス(F
2)、一フッ化臭素ガス(BrF)、二フッ化塩素ガス
(ClF2)、四フッ化炭素ガス(CF4)、四フッ化ケ
イ素ガス(SiF4)、窒素導入用として窒素ガス
(N2)、アンモニアガス(NH3)、窒素酸化物ガス
(NOX)、ホウ素導入用として水素化ホウ素ガス〔ジ
ボランガス(B2H6)、テトラボランガス(B4H10)
等〕などがそれぞれ挙げられる。Examples of the raw material gas include, for example, silane gas (SiH 4 ) and disilane gas (S
i 2 H 6), methane as a carbon introducing (CH 4), ethane (C 2 H 6), propane gas (C 3 H 8), ethylene gas (C 2 H 4), fluorine gas (F for the introduction of fluorine
2 ), bromine monofluoride gas (BrF), chlorine difluoride gas (ClF 2 ), carbon tetrafluoride gas (CF 4 ), silicon tetrafluoride gas (SiF 4 ), and nitrogen gas (N 2 ), ammonia gas (NH 3 ), nitrogen oxide gas (NO x ), borohydride gas for introducing boron [diborane gas (B 2 H 6 ), tetraborane gas (B 4 H 10 )]
Etc.].
【0112】その他の構成元素についても同様であっ
て、常温常圧下でガス状を呈するか、もしくは膜形成条
件下で容易にガス化しうる化合物があげられる。The same applies to the other constituent elements, and examples thereof include compounds which exhibit a gaseous state at normal temperature and normal pressure or which can be easily gasified under film forming conditions.
【0113】また物理蒸着法、特にスパッタリング法や
イオンプレーティング法では、前記各膜に加えて、例え
ば13族であればガリウム(Ga)、インジウム(I
n)等、14族であればゲルマニウム(Ge)、スズ
(Sn)、鉛(Pb)、15族であればヒ素(As)、
アンチモン(Sb)等、16族であればセレン(Se)
等を含む各種金属元素の1種または2種以上からなる膜
や、あるいは上記金属元素を含む無機の化合物からなる
膜を形成することができる。In the physical vapor deposition method, in particular, the sputtering method or the ion plating method, in addition to the above films, for example, gallium (Ga), indium (I
n) and the like, germanium (Ge), tin (Sn), lead (Pb) for group 14; arsenic (As) for group 15;
Selenium (Se) for group 16 such as antimony (Sb)
A film composed of one or more of various metal elements including the above or a film composed of an inorganic compound containing the above metal element can be formed.
【0114】このうち無機の表面保護層として好適な膜
としては、例えば炭素(C)の膜やケイ素−炭素(Si
C)複合膜などが挙げられる。Among these, a film suitable as an inorganic surface protective layer is, for example, a carbon (C) film or a silicon-carbon (Si) film.
C) a composite membrane and the like.
【0115】無機の表面保護層の厚みは0.01〜30
μm、特に0.1〜10μm程度が好ましい。The thickness of the inorganic surface protective layer is from 0.01 to 30.
μm, particularly preferably about 0.1 to 10 μm.
【0116】表面保護層を形成する無機の膜は非晶質、
マイクロクリスタル、および結晶のいずれの形態の膜で
あっても良く、非晶質と結晶とが混在した膜であっても
良い。 〈導電性基体〉上記各層が形成される導電性基体として
は、導電性を有する種々の材料を使用することができ
る。例えば鉄、アルミニウム、銅、スズ、白金、銀、バ
ナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタン、
ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼、真
鍮などの金属にて形成された導電性基体や、上記金属が
蒸着またはラミネートされたプラスチック材料からなる
基体、あるいはヨウ化アルミニウム、酸化スズ、酸化イ
ンジウムなどで被覆されたガラス製の基体などが例示さ
れる。The inorganic film forming the surface protective layer is amorphous,
The film may be in any form of microcrystal or crystal, and may be a film in which amorphous and crystal are mixed. <Conductive Substrate> Various conductive materials can be used as the conductive substrate on which the above layers are formed. For example, iron, aluminum, copper, tin, platinum, silver, vanadium, molybdenum, chromium, cadmium, titanium,
Conductive substrates made of metals such as nickel, palladium, indium, stainless steel, brass, etc., substrates made of plastic materials on which the above metals are deposited or laminated, or coated with aluminum iodide, tin oxide, indium oxide, etc. And the like.
【0117】要するに基体自体が導電性を有するか、あ
るいは基体の表面が導電性を有していればよい。また、
導電性基体は、使用に際して、充分な機械的強度を有す
るものが好ましい。In short, it is only necessary that the substrate itself has conductivity, or that the surface of the substrate has conductivity. Also,
The conductive substrate preferably has a sufficient mechanical strength when used.
【0118】導電性基体の形状は使用する画像形成装置
の構造に合わせて、シート状、ドラム状などのいずれで
あってもよい。The shape of the conductive substrate may be any of a sheet shape, a drum shape and the like according to the structure of the image forming apparatus to be used.
【0119】[0119]
【実施例】以下に本発明を、実施例、比較例に基づいて
説明する。 [実施例1] 〈単層型感光層の形成〉電荷発生剤としての、前記式
(CG−1)で表されるX型無金属フタロシアニン結晶
5重量部と、正孔輸送剤としての、前記式(1−2)で
表されるトリアミノベンゼン誘導体80重量部と、電子
輸送剤としての、前記式(ET−1)で表される2,6
−ジメチル−2’,6’−t−ブチルベンゾキノン40
重量部と、結着樹脂としてのZ型ポリカーボネート(重
量平均分子量20000)100重量部とを、テトラヒ
ドロフラン800重量部とともにボールミルを用いて5
0時間、混合、分散させて単層型感光層用の塗工液を作
製した。The present invention will be described below based on examples and comparative examples. Example 1 <Formation of Single-Layer Photosensitive Layer> 5 parts by weight of an X-type metal-free phthalocyanine crystal represented by the formula (CG-1) as a charge generating agent and the above-mentioned as a hole transporting agent 80 parts by weight of the triaminobenzene derivative represented by the formula (1-2) and 2,6 represented by the formula (ET-1) as an electron transport agent
-Dimethyl-2 ', 6'-t-butylbenzoquinone 40
100 parts by weight of a Z-type polycarbonate (weight average molecular weight 20,000) as a binder resin together with 800 parts by weight of tetrahydrofuran were added to a mixture of 5 parts by weight using a ball mill.
The mixture was mixed and dispersed for 0 hour to prepare a coating liquid for a single-layer type photosensitive layer.
【0120】次いでこの塗工液を、導電性基材であるア
ルミニウム素管上に、ディップコート法によって塗布
し、100℃で30分間、熱風乾燥させて、膜厚25μ
mの単層型感光層を形成した。 〈表面保護層の形成〉上記のようにして単層型感光層が
形成されたアルミニウム素管をプラズマCVD装置のチ
ャンバ内にセットしたのち、到達真空度0.67Paま
で真空引きするとともに、装置のヒータを使用して素管
の温度を50℃に調整した。Next, this coating solution was applied onto an aluminum tube as a conductive substrate by a dip coating method, and was dried with hot air at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a film having a thickness of 25 μm.
m was formed. <Formation of Surface Protective Layer> After the aluminum tube on which the single-layer type photosensitive layer was formed as described above was set in a chamber of a plasma CVD apparatus, the vacuum was evacuated to an ultimate degree of vacuum of 0.67 Pa. The temperature of the raw tube was adjusted to 50 ° C. using a heater.
【0121】次いでチャンバ内に、メタンガス(C
H4)、シランガス(SiH4)および水素ガス(H2)
を、それぞれ下記の流量で供給して真空度を0.47h
Paに調整した。Next, methane gas (C
H 4 ), silane gas (SiH 4 ) and hydrogen gas (H 2 )
Are supplied at the following flow rates, and the degree of vacuum is 0.47 h.
It was adjusted to Pa.
【0122】メタンガス:208SCCM シランガス:2.5SCCM 水素ガス:300SCCM 次にこの状態で、チャンバ内に、周波数13.56MH
z、出力133Wの高周波電界を印加してグロー放電を
発生させて、プラズマCVD法により、単層型感光層の
表面に、0.2μm/hrの成膜速度で、非晶質のケイ
素−炭素(SiC)複合膜からなる、厚み0.5μmの
表面保護層を成膜して、実施例1の電子写真感光体を製
造した。 [実施例2〜4]正孔輸送剤として、それぞれ表1に示
す式番号のトリアミノベンゼン誘導体80重量部を使用
したこと以外は実施例1と同様にして、実施例2〜4の
電子写真感光体を製造した。 [比較例1]正孔輸送剤としてのトリアミノベンゼン誘
導体80重量部と、結着樹脂としてのZ型ポリカーボネ
ート100重量部に代えて、正孔輸送剤と結着樹脂とを
兼ねる、前記式(HT−1)で表される繰り返し単位を
有するポリビニルカルバゾール(数平均分子量Mn=9
500)100重量部を使用したこと以外は実施例1と
同様にして、比較例1の電子写真感光体を製造した。 [比較例2]正孔輸送剤として、前記式(HT−3)で
表されるジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニルヒ
ドラゾン80重量部を使用したこと以外は実施例1と同
様にして、比較例2の電子写真感光体を製造した。 〈感度特性試験(1)〉上記各実施例、比較例の電子写
真感光体について、ジェンテック(GENTEC)社製のドラ
ム感度試験機を用いて各感光体の表面に印加電圧を加
え、グリッド電圧調整することでその表面を+800±
20Vに帯電させた後、表面電位V0(V)を測定し
た。Methane gas: 208 SCCM Silane gas: 2.5 SCCM Hydrogen gas: 300 SCCM Next, in this state, a frequency of 13.56 MH was introduced into the chamber.
A high-frequency electric field having an output of 133 W is applied to generate a glow discharge, and amorphous silicon-carbon is formed on the surface of the single-layer photosensitive layer at a film forming rate of 0.2 μm / hr by a plasma CVD method. A 0.5 μm-thick surface protective layer made of a (SiC) composite film was formed to produce an electrophotographic photoreceptor of Example 1. [Examples 2 to 4] Electrophotography of Examples 2 to 4 in the same manner as in Example 1 except that 80 parts by weight of triaminobenzene derivatives having the formula numbers shown in Table 1 were used as hole transporting agents. A photoreceptor was manufactured. [Comparative Example 1] The above-mentioned formula (1), wherein both the hole transport agent and the binder resin are used instead of 80 parts by weight of the triaminobenzene derivative as the hole transport agent and 100 parts by weight of the Z-type polycarbonate as the binder resin, Polyvinylcarbazole having a repeating unit represented by HT-1) (number-average molecular weight Mn = 9)
500) An electrophotographic photosensitive member of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that 100 parts by weight was used. Comparative Example 2 The electrophotographic method of Comparative Example 2 was performed in the same manner as in Example 1, except that 80 parts by weight of diethylaminobenzaldehyde diphenylhydrazone represented by the above formula (HT-3) was used as the hole transporting agent. Body manufactured. <Sensitivity Characteristics Test (1)> With respect to the electrophotographic photoreceptors of the above Examples and Comparative Examples, a voltage applied to the surface of each photoreceptor was applied using a drum sensitivity tester manufactured by GENTEC, and a grid voltage was applied. Adjust the surface to + 800 ±
After charging to 20 V, the surface potential V 0 (V) was measured.
【0123】次いで試験機の露光光源であるハロゲンラ
ンプの白色光から、バンドパスフィルタを用いて波長7
80nm、半値幅20nmに単色化した光強度10μW
/cm2の単色光を、上記電子写真感光体の表面に1秒
間、照射した際に、上記表面電位V0(V)が1/2に
なるのに要した時間を測定して、半減露光量E1/2(μ
J/cm2)を求めた。また露光開始から0.5秒、経
過した時点での表面電位を、残留電位Vr(V)として
測定した。 〈耐久性試験(1)〉各実施例、比較例の電子写真感光
体を静電式複写機〔京セラミタ(株)製の商品名Crea
ge7350〕に搭載して連続10万枚の複写を行い、
途中1万枚、2万枚、5万枚の複写後と、10万枚の複
写後にそれぞれ表面保護層を目視にて観察して、下記の
基準で、電子写真感光体の耐久性を評価した。Next, a white light of a halogen lamp, which is an exposure light source of the tester, was used to obtain a wavelength of 7 using a band-pass filter.
Light intensity 10 μW monochromatized to 80 nm and half-width 20 nm
When the surface of the electrophotographic photoreceptor is irradiated with monochromatic light of 1 cm / cm 2 for 1 second, the time required for the surface potential V 0 (V) to become 1 / is measured, and half-exposure is performed. Quantity E 1/2 (μ
J / cm 2 ). Further, the surface potential at the time when 0.5 seconds had elapsed from the start of exposure was measured as a residual potential Vr (V). <Durability Test (1)> The electrophotographic photoreceptor of each of Examples and Comparative Examples was replaced with an electrostatic copying machine [Crea manufactured by Kyocera Mita Co., Ltd.
ge 7350] and make 100,000 continuous copies.
The surface protective layer was visually observed after 10,000, 20,000 and 50,000 copies, and after 100,000 copies, and the durability of the electrophotographic photosensitive member was evaluated according to the following criteria. .
【0124】○:表面保護層に、クラックや剥離などは
全く見られず、感光体の耐久性は良好であった。:: No crack or peeling was observed in the surface protective layer, and the durability of the photoreceptor was good.
【0125】△:表面保護層は剥離していなかったが、
その全面にクラックが入っており、感光体の耐久性はや
や不良であった。Δ: The surface protective layer was not peeled off,
The entire surface was cracked, and the durability of the photoreceptor was slightly poor.
【0126】×:表面保護層が剥離しており、感光体の
耐久性は不良であった。X: The surface protective layer was peeled off, and the durability of the photosensitive member was poor.
【0127】以上の結果を表1に示す。Table 1 shows the above results.
【0128】[0128]
【表1】 [Table 1]
【0129】表より、トリアミノベンゼン誘導体に代え
てポリビニルカルバゾールを使用した比較例1の感光体
は連続3万枚複写後に、およびジエチルアミノベンズア
ルデヒドジフェニルヒドラゾンを使用した比較例2の感
光体は連続2万枚の複写後に、表面保護層が剥離してい
るのが確認され、このことからこれらの化合物では、無
機の表面保護層の物理的な安定性を向上する効果が得ら
れないことが判った。From the table, the photoreceptor of Comparative Example 1 using polyvinyl carbazole in place of the triaminobenzene derivative was continuously copied after 30,000 copies, and the photoreceptor of Comparative Example 2 using diethylaminobenzaldehyde diphenylhydrazone was continuously used at 20,000. After the copying of the sheet, it was confirmed that the surface protective layer was peeled off. From this, it was found that these compounds could not obtain the effect of improving the physical stability of the inorganic surface protective layer.
【0130】また両比較例の感光体はいずれも、露光後
の残留電位が高く、かつ半減露光量が大きいことから、
表面保護層を形成した際に大きく感度低下することも判
明した。The photosensitive members of both comparative examples have a high residual potential after exposure and a large half-reduction exposure amount.
It was also found that the sensitivity was greatly reduced when the surface protective layer was formed.
【0131】これに対し、実施例1〜4の感光体はいず
れも、連続10万枚の複写後も、表面保護層にクラック
や剥離などが全く見られなかった。そしてこのことか
ら、トリアミノベンゼン誘導体を使用することで、無機
の表面保護層の物理的な安定性を改善して、これまでよ
りも感光体の耐久性を向上できることが確認された。On the other hand, none of the photoreceptors of Examples 1 to 4 showed any cracks or peeling on the surface protective layer even after continuous copying of 100,000 sheets. From this, it was confirmed that by using the triaminobenzene derivative, the physical stability of the inorganic surface protective layer could be improved, and the durability of the photoreceptor could be improved more than before.
【0132】また上記各実施例の感光体はいずれも、露
光後の残留電位が低く、かつ半減露光量が小さいことか
ら、表面保護層を形成した際に大きく感度低下せず、良
好な感度を有することも確認された。 [実施例5〜8、比較例3、4]単層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、下記の工程によ
り、非晶質の炭素(C)からなる厚み0.5μmの表面
保護層を成膜したこと以外は実施例1〜4、比較例1、
2と同様にして、それぞれ実施例5〜8、比較例3、4
の電子写真感光体を製造した。 〈表面保護層の形成〉単層型感光層が形成されたアルミ
ニウム素管をプラズマCVD装置のチャンバ内にセット
したのち、到達真空度0.67Paまで真空引きすると
ともに、装置のヒータを使用して素管の温度を50℃に
調整した。In each of the photoreceptors of the above examples, the residual potential after exposure was low and the half-reduction exposure amount was small, so that the sensitivity did not decrease significantly when the surface protective layer was formed, and good sensitivity was obtained. It was also confirmed that it had. [Examples 5 to 8 and Comparative Examples 3 and 4] On the surface of the single-layer type photosensitive layer, the thickness of amorphous carbon (C) was changed to 0. Examples 1 to 4, Comparative Example 1, except that a surface protective layer of 5 μm was formed.
Examples 5 to 8 and Comparative Examples 3 and 4, respectively, in the same manner as in Example 2.
Was manufactured. <Formation of surface protective layer> After the aluminum tube on which the single-layer type photosensitive layer was formed was set in the chamber of the plasma CVD apparatus, the vacuum was evacuated to an ultimate vacuum of 0.67 Pa, and the heater of the apparatus was used. The temperature of the raw tube was adjusted to 50 ° C.
【0133】次いでチャンバ内に、メタンガス(C
H4)と水素ガス(H2)とを、それぞれ下記の流量で供
給して真空度を0.47hPaに調整した。Next, methane gas (C
H 4 ) and hydrogen gas (H 2 ) were supplied at the following flow rates to adjust the degree of vacuum to 0.47 hPa.
【0134】メタンガス:300SCCM 水素ガス:300SCCM 次にこの状態で、チャンバ内に、周波数13.56MH
z、出力200Wの高周波電界を印加してグロー放電を
発生させて、プラズマCVD法により、単層型感光層の
表面に、0.15μm/hrの成膜速度で、非晶質の炭
素(C)からなり、前記厚みを有する表面保護層を成膜
した。Methane gas: 300 SCCM Hydrogen gas: 300 SCCM Next, in this state, a frequency of 13.56 MH was introduced into the chamber.
z, a high-frequency electric field of output 200 W is applied to generate glow discharge, and amorphous carbon (C) is formed on the surface of the single-layer photosensitive layer at a deposition rate of 0.15 μm / hr by plasma CVD. ), And a surface protective layer having the above thickness was formed.
【0135】上記各実施例、比較例の電子写真感光体に
ついて、前記と同じ感度特性試験(1)、および耐久性
試験(1)を行って、その特性を評価した。結果を表2
に示す。The electrophotographic photoreceptors of the above Examples and Comparative Examples were subjected to the same sensitivity characteristic test (1) and durability test (1) as described above to evaluate the characteristics. Table 2 shows the results
Shown in
【0136】[0136]
【表2】 [Table 2]
【0137】表より、表面保護層の種類を違えても、下
地である単層型感光層の構成に基づいて、前記と同じ結
果が得られることが確認された。From the table, it was confirmed that the same results as described above were obtained based on the structure of the single-layer type photosensitive layer as the base, even if the type of the surface protective layer was changed.
【0138】すなわちトリアミノベンゼン誘導体に代え
てポリビニルカルバゾールを使用した比較例3の感光
体、およびジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニル
ヒドラゾンを使用した比較例4の感光体はいずれも、連
続2万枚の複写後に既に、表面保護層の全体にクラック
が入っており、連続3万枚の複写後に、表面保護層が剥
離しているのが確認された。そしてこのことから、これ
らの化合物では、無機の表面保護層の物理的な安定性を
向上する効果が得られないことが判った。That is, the photoreceptor of Comparative Example 3 using polyvinyl carbazole in place of the triaminobenzene derivative and the photoreceptor of Comparative Example 4 using diethylaminobenzaldehyde diphenylhydrazone had already been obtained after continuous copying of 20,000 sheets. Cracks were formed in the entire surface protective layer, and it was confirmed that the surface protective layer was peeled off after 30,000 continuous copying. From this, it was found that these compounds did not provide the effect of improving the physical stability of the inorganic surface protective layer.
【0139】また両比較例の感光体はいずれも、露光後
の残留電位が高く、かつ半減露光量が大きいことから、
表面保護層を形成した際に大きく感度低下することも判
明した。The photosensitive members of both comparative examples have a high residual potential after exposure and a large half-reduction exposure amount.
It was also found that the sensitivity was greatly reduced when the surface protective layer was formed.
【0140】これに対し、実施例5〜8の感光体はいず
れも、連続10万枚の複写後も、表面保護層にクラック
や剥離などが全く見られなかった。そしてこのことか
ら、トリアミノベンゼン誘導体を使用することで、無機
の表面保護層の物理的な安定性を改善して、これまでよ
りも感光体の耐久性を向上できることが確認された。On the other hand, none of the photoreceptors of Examples 5 to 8 showed any cracks or peeling on the surface protective layer even after continuous copying of 100,000 sheets. From this, it was confirmed that by using the triaminobenzene derivative, the physical stability of the inorganic surface protective layer could be improved, and the durability of the photoreceptor could be improved more than before.
【0141】また上記各実施例の感光体はいずれも、露
光後の残留電位が低く、かつ半減露光量が小さいことか
ら、表面保護層を形成した際に大きく感度低下せず、良
好な感度を有することも確認された。 [実施例9、10、比較例5]単層型感光層の表面に、
前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、下記の工程により、
非晶質のケイ素−窒素(SiN)複合膜からなる厚み
0.5μmの表面保護層を成膜したこと以外は実施例
1、2、比較例2と同様にして、それぞれ実施例9、1
0、比較例5の電子写真感光体を製造した。 〈表面保護層の形成〉単層型感光層が形成されたアルミ
ニウム素管をプラズマCVD装置のチャンバ内にセット
したのち、到達真空度0.67Paまで真空引きすると
ともに、装置のヒータを使用して素管の温度を50℃に
調整した。In each of the photoreceptors of the above embodiments, the residual potential after exposure was low and the half-exposure amount was small, so that the sensitivity did not decrease significantly when the surface protective layer was formed, and good sensitivity was obtained. It was also confirmed that it had. [Examples 9, 10 and Comparative Example 5] On the surface of the single-layer type photosensitive layer,
Instead of the silicon-carbon composite film, by the following steps,
Examples 9 and 1 were performed in the same manner as in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 except that a 0.5 μm-thick surface protective layer made of an amorphous silicon-nitrogen (SiN) composite film was formed.
0, and electrophotographic photosensitive members of Comparative Example 5 were produced. <Formation of surface protective layer> After the aluminum tube on which the single-layer type photosensitive layer was formed was set in the chamber of the plasma CVD apparatus, the vacuum was evacuated to an ultimate vacuum of 0.67 Pa, and the heater of the apparatus was used. The temperature of the raw tube was adjusted to 50 ° C.
【0142】次いでチャンバ内に、シランガス(SiH
4)、窒素ガス(N2)および水素ガス(H2)を、それ
ぞれ下記の流量で供給して真空度を0.47hPaに調
整した。Next, a silane gas (SiH
4 ) A nitrogen gas (N 2 ) and a hydrogen gas (H 2 ) were supplied at the following flow rates to adjust the degree of vacuum to 0.47 hPa.
【0143】シランガス:15SCCM 窒素ガス:150SCCM 水素ガス:75SCCM 次にこの状態で、チャンバ内に、周波数13.56MH
z、出力150Wの高周波電界を印加してグロー放電を
発生させて、プラズマCVD法により、単層型感光層の
表面に、0.75μm/hrの成膜速度で、ケイ素−窒
素(SiN)複合膜からなり、前記厚みを有する表面保
護層を成膜した。 [実施例11、12、比較例6]単層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、下記の工程によ
り、非晶質の炭素−窒素(CN)複合膜からなる厚み
0.5μmの表面保護層を成膜したこと以外は実施例
1、2、比較例2と同様にして、それぞれ実施例11、
12、比較例6の電子写真感光体を製造した。 〈表面保護層の形成〉単層型感光層が形成されたアルミ
ニウム素管をプラズマCVD装置のチャンバ内にセット
したのち、到達真空度0.67Paまで真空引きすると
ともに、装置のヒータを使用して素管の温度を50℃に
調整した。Silane gas: 15 SCCM Nitrogen gas: 150 SCCM Hydrogen gas: 75 SCCM Next, in this state, a frequency of 13.56 MH was introduced into the chamber.
z, a glow discharge is generated by applying a high-frequency electric field having an output of 150 W, and a silicon-nitrogen (SiN) composite is formed on the surface of the single-layer photosensitive layer at a deposition rate of 0.75 μm / hr by a plasma CVD method. A surface protective layer composed of a film and having the above thickness was formed. [Examples 11 and 12 and Comparative Example 6] The thickness of an amorphous carbon-nitrogen (CN) composite film formed on the surface of a single-layer photosensitive layer by the following steps instead of the silicon-carbon composite film. Examples 11 and 2 were performed in the same manner as in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 except that a surface protection layer of 0.5 μm was formed.
12. An electrophotographic photoreceptor of Comparative Example 6 was produced. <Formation of surface protective layer> After the aluminum tube on which the single-layer type photosensitive layer was formed was set in the chamber of the plasma CVD apparatus, the vacuum was evacuated to an ultimate vacuum of 0.67 Pa, and the heater of the apparatus was used. The temperature of the raw tube was adjusted to 50 ° C.
【0144】次いでチャンバ内に、メタンガス(C
H4)、窒素ガス(N2)および水素ガス(H2)を、そ
れぞれ下記の流量で供給して真空度を0.47hPaに
調整した。Next, methane gas (C
H 4 ), nitrogen gas (N 2 ) and hydrogen gas (H 2 ) were supplied at the following flow rates to adjust the degree of vacuum to 0.47 hPa.
【0145】メタンガス:100SCCM 窒素ガス:150SCCM 水素ガス:100SCCM 次にこの状態で、チャンバ内に、周波数13.56MH
z、出力150Wの高周波電界を印加してグロー放電を
発生させて、プラズマCVD法により、単層型感光層の
表面に、0.10μm/hrの成膜速度で、炭素−窒素
(CN)複合膜からなり、前記厚みを有する表面保護層
を成膜した。 [実施例13、14、比較例7]単層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、下記の工程によ
り、非晶質の炭素−ホウ素(CB)複合膜からなる厚み
0.5μmの表面保護層を成膜したこと以外は実施例
1、2、比較例2と同様にして、それぞれ実施例13、
14、比較例7の電子写真感光体を製造した。 〈表面保護層の形成〉単層型感光層が形成されたアルミ
ニウム素管をプラズマCVD装置のチャンバ内にセット
したのち、到達真空度0.67Paまで真空引きすると
ともに、装置のヒータを使用して素管の温度を50℃に
調整した。Methane gas: 100 SCCM Nitrogen gas: 150 SCCM Hydrogen gas: 100 SCCM Next, in this state, a frequency of 13.56 MH was introduced into the chamber.
A glow discharge is generated by applying a high-frequency electric field having an output of 150 watts and a carbon-nitrogen (CN) composite is formed on the surface of the single-layer type photosensitive layer at a deposition rate of 0.10 μm / hr by plasma CVD. A surface protective layer composed of a film and having the above thickness was formed. [Examples 13 and 14, Comparative Example 7] The thickness of an amorphous carbon-boron (CB) composite film formed on the surface of a single-layer photosensitive layer by the following process instead of the silicon-carbon composite film. Examples 13 and 14 were prepared in the same manner as in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 except that a 0.5 μm surface protection layer was formed.
14. An electrophotographic photoreceptor of Comparative Example 7 was produced. <Formation of surface protective layer> After the aluminum tube on which the single-layer type photosensitive layer was formed was set in the chamber of the plasma CVD apparatus, the vacuum was evacuated to an ultimate vacuum of 0.67 Pa, and the heater of the apparatus was used. The temperature of the raw tube was adjusted to 50 ° C.
【0146】次いでチャンバ内に、メタンガス(C
H4)、ジボランガス(B2H6)および水素ガス(H2)
を、それぞれ下記の流量で供給して真空度を0.47h
Paに調整した。Next, methane gas (C
H 4 ), diborane gas (B 2 H 6 ) and hydrogen gas (H 2 )
Are supplied at the following flow rates, and the degree of vacuum is 0.47 h.
It was adjusted to Pa.
【0147】メタンガス:100SCCM ジボランガス:200SCCM 水素ガス:100SCCM 次にこの状態で、チャンバ内に、周波数13.56MH
z、出力150Wの高周波電界を印加してグロー放電を
発生させて、プラズマCVD法により、単層型感光層の
表面に、0.10μm/hrの成膜速度で、炭素−ホウ
素(CB)複合膜からなり、前記厚みを有する表面保護
層を成膜した。 [実施例15、16、比較例8]単層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、下記の工程によ
り、非晶質の炭素−フッ素(CF)複合膜からなる厚み
0.5μmの表面保護層を成膜したこと以外は実施例
1、2、比較例2と同様にして、それぞれ実施例15、
16、比較例8の電子写真感光体を製造した。 〈表面保護層の形成〉単層型感光層が形成されたアルミ
ニウム素管をプラズマCVD装置のチャンバ内にセット
したのち、到達真空度0.67Paまで真空引きすると
ともに、装置のヒータを使用して素管の温度を50℃に
調整した。Methane gas: 100 SCCM Diborane gas: 200 SCCM Hydrogen gas: 100 SCCM Next, in this state, a frequency of 13.56 MH was introduced into the chamber.
A glow discharge is generated by applying a high-frequency electric field having an output of 150 watts and a carbon-boron (CB) composite is formed on the surface of the single-layer type photosensitive layer at a deposition rate of 0.10 μm / hr by a plasma CVD method. A surface protective layer composed of a film and having the above thickness was formed. [Examples 15 and 16 and Comparative Example 8] The thickness of an amorphous carbon-fluorine (CF) composite film formed on the surface of a single-layer photosensitive layer by the following process instead of the silicon-carbon composite film Example 15 and Example 15 were performed in the same manner as in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 except that a surface protective layer of 0.5 μm was formed.
16. An electrophotographic photoreceptor of Comparative Example 8 was produced. <Formation of surface protective layer> After the aluminum tube on which the single-layer type photosensitive layer was formed was set in the chamber of the plasma CVD apparatus, the vacuum was evacuated to an ultimate vacuum of 0.67 Pa, and the heater of the apparatus was used. The temperature of the raw tube was adjusted to 50 ° C.
【0148】次いでチャンバ内に、メタンガス(C
H4)、四フッ化炭素ガス(CF4)および水素ガス(H
2)を、それぞれ下記の流量で供給して真空度を0.4
7hPaに調整した。Next, methane gas (C
H 4 ), carbon tetrafluoride gas (CF 4 ) and hydrogen gas (H
2 ) are supplied at the following flow rates to reduce the vacuum to 0.4
It was adjusted to 7 hPa.
【0149】メタンガス:100SCCM 四フッ化炭素ガス:100SCCM 水素ガス:100SCCM 次にこの状態で、チャンバ内に、周波数13.56MH
z、出力150Wの高周波電界を印加してグロー放電を
発生させて、プラズマCVD法により、単層型感光層の
表面に、0.10μm/hrの成膜速度で、炭素−フッ
素(CF)複合膜からなり、前記厚みを有する表面保護
層を成膜した。 [実施例17、18、比較例9]単層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、下記の工程によ
り、非晶質のホウ素−窒素(BN)複合膜からなる厚み
0.5μmの表面保護層を成膜したこと以外は実施例
1、2、比較例2と同様にして、それぞれ実施例17、
18、比較例9の電子写真感光体を製造した。 〈表面保護層の形成〉単層型感光層が形成されたアルミ
ニウム素管をプラズマCVD装置のチャンバ内にセット
したのち、到達真空度0.67Paまで真空引きすると
ともに、装置のヒータを使用して素管の温度を50℃に
調整した。Methane gas: 100 SCCM Carbon tetrafluoride gas: 100 SCCM Hydrogen gas: 100 SCCM Next, in this state, a frequency of 13.56 MH was introduced into the chamber.
A glow discharge is generated by applying a high-frequency electric field having an output of 150 watts and a carbon-fluorine (CF) composite is formed on the surface of the single-layer photosensitive layer at a deposition rate of 0.10 μm / hr by plasma CVD. A surface protective layer composed of a film and having the above thickness was formed. [Examples 17 and 18 and Comparative Example 9] The thickness of an amorphous boron-nitrogen (BN) composite film formed on the surface of a single-layer photosensitive layer by the following process instead of the silicon-carbon composite film. Example 17 was repeated in the same manner as in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 except that a 0.5 μm surface protection layer was formed.
18. An electrophotographic photoreceptor of Comparative Example 9 was produced. <Formation of surface protective layer> After the aluminum tube on which the single-layer type photosensitive layer was formed was set in the chamber of the plasma CVD apparatus, the vacuum was evacuated to an ultimate vacuum of 0.67 Pa, and the heater of the apparatus was used. The temperature of the raw tube was adjusted to 50 ° C.
【0150】次いでチャンバ内に、ジボランガス(B2
H6)、窒素ガス(N2)および水素ガス(H2)を、そ
れぞれ下記の流量で供給して真空度を0.47hPaに
調整した。Next, diborane gas (B 2
H 6 ), nitrogen gas (N 2 ) and hydrogen gas (H 2 ) were supplied at the following flow rates to adjust the degree of vacuum to 0.47 hPa.
【0151】ジボランガス:200SCCM 窒素ガス:150SCCM 水素ガス:150SCCM 次にこの状態で、チャンバ内に、周波数13.56MH
z、出力150Wの高周波電界を印加してグロー放電を
発生させて、プラズマCVD法により、単層型感光層の
表面に、0.08μm/hrの成膜速度で、ホウ素−窒
素(BN)複合膜からなり、前記厚みを有する表面保護
層を成膜した。Diborane gas: 200 SCCM Nitrogen gas: 150 SCCM Hydrogen gas: 150 SCCM Next, in this state, a frequency of 13.56 MH was introduced into the chamber.
A glow discharge is generated by applying a high-frequency electric field having an output of 150 watts and a boron-nitrogen (BN) composite is formed on the surface of the single-layer photosensitive layer at a deposition rate of 0.08 μm / hr by a plasma CVD method. A surface protective layer composed of a film and having the above thickness was formed.
【0152】上記各実施例、比較例の電子写真感光体に
ついて、前記と同じ感度特性試験(1)、および耐久性
試験(1)を行って、その特性を評価した。結果を表3
に示す。The electrophotographic photosensitive members of the above Examples and Comparative Examples were subjected to the same sensitivity characteristic test (1) and durability test (1) as described above to evaluate the characteristics. Table 3 shows the results
Shown in
【0153】[0153]
【表3】 [Table 3]
【0154】表より、表面保護層の種類をさらに違えて
も、下地である単層型感光層の構成に基づいて、前記と
同じ結果が得られることが確認された。From the table, it was confirmed that even when the type of the surface protective layer was further changed, the same result as described above was obtained based on the structure of the single-layer type photosensitive layer serving as the base.
【0155】すなわちトリアミノベンゼン誘導体に代え
てジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾ
ンを使用した比較例7および8の感光体は連続2万枚の
複写後に、比較例5、6および9の感光体は連続3万枚
複写後に表面保護層が剥離しているのが確認された。ま
た特に比較例8の感光体は、連続1万枚の複写後に既
に、表面保護層の全体にクラックが入っているのが確認
された。そしてこのことから、上記化合物では、無機の
表面保護層の物理的な安定性を向上する効果が得られな
いことが判った。That is, the photoreceptors of Comparative Examples 7 and 8 using diethylaminobenzaldehyde diphenylhydrazone instead of the triaminobenzene derivative were continuously copied on 20,000 sheets, and the photoreceptors of Comparative Examples 5, 6 and 9 were continuously printed on 30,000 sheets. It was confirmed that the surface protective layer was peeled off after copying. In particular, in the photoreceptor of Comparative Example 8, it was confirmed that cracks had already occurred in the entire surface protective layer after 10,000 continuous copies. From this, it was found that the above-mentioned compound did not provide the effect of improving the physical stability of the inorganic surface protective layer.
【0156】また各比較例の感光体はいずれも、露光後
の残留電位が高く、かつ半減露光量が大きいことから、
表面保護層を形成した際に大きく感度低下することも判
明した。In each of the photosensitive members of Comparative Examples, the residual potential after exposure was high, and the half-exposure amount was large.
It was also found that the sensitivity was greatly reduced when the surface protective layer was formed.
【0157】これに対し、実施例9〜18の感光体はい
ずれも、連続10万枚の複写後も、表面保護層にクラッ
クや剥離などが全く見られなかった。そしてこのことか
ら、トリアミノベンゼン誘導体を使用することで、無機
の表面保護層の物理的な安定性を改善して、これまでよ
りも感光体の耐久性を向上できることが確認された。On the other hand, in all of the photoreceptors of Examples 9 to 18, no crack or peeling was observed on the surface protective layer even after continuous copying of 100,000 sheets. From this, it was confirmed that by using the triaminobenzene derivative, the physical stability of the inorganic surface protective layer could be improved, and the durability of the photoreceptor could be improved more than before.
【0158】また上記各実施例の感光体はいずれも、露
光後の残留電位が低く、かつ半減露光量が小さいことか
ら、表面保護層を形成した際に大きく感度低下せず、良
好な感度を有することも確認された。 [実施例19] 〈積層型感光層の形成〉電荷発生剤としての、前記式
(CG−1)で表されるX型無金属フタロシアニン結晶
2.5重量部と、結着樹脂としてのポリビニルブチラー
ル1重量部とを、テトラヒドロフラン15重量部ととも
にボールミルを用いて混合、分散させて、積層型感光層
のうち電荷発生層用の塗工液を作製した。In each of the photoreceptors of the above Examples, the residual potential after exposure was low, and the half-reduction exposure amount was small. Therefore, when the surface protective layer was formed, the sensitivity did not decrease significantly, and good sensitivity was obtained. It was also confirmed that it had. Example 19 <Formation of Laminated Photosensitive Layer> 2.5 parts by weight of an X-type metal-free phthalocyanine crystal represented by the above formula (CG-1) as a charge generating agent and polyvinyl butyral as a binder resin 1 part by weight and 15 parts by weight of tetrahydrofuran were mixed and dispersed using a ball mill to prepare a coating liquid for a charge generation layer in the laminated photosensitive layer.
【0159】次いでこの塗工液を、導電性基材であるア
ルミニウム素管上に、ディップコート法によって塗布
し、110℃で30分間、熱風乾燥させて、膜厚0.5
μmの電荷発生層を形成した。Next, this coating solution was applied on an aluminum tube as a conductive substrate by a dip coating method, and dried at 110 ° C. for 30 minutes with hot air to obtain a film thickness of 0.5.
A μm charge generation layer was formed.
【0160】次に、正孔輸送剤としての、前記式(1−
2)で表されるトリアミノベンゼン誘導体0.8重量部
と、結着樹脂としてのZ型ポリカーボネート(重量平均
分子量20000)1重量部とを、テトラヒドロフラン
10重量部とともにボールミルを用いて混合、分散させ
て、積層型感光層のうち電荷輸送層用の塗工液を作製し
た。Next, the above-mentioned formula (1-
0.8 parts by weight of the triaminobenzene derivative represented by 2) and 1 part by weight of a Z-type polycarbonate (weight average molecular weight 20,000) as a binder resin are mixed and dispersed using a ball mill together with 10 parts by weight of tetrahydrofuran. Thus, a coating solution for the charge transport layer of the laminated photosensitive layer was prepared.
【0161】そしてこの塗工液を、上記電荷発生層上
に、ディップコート法によって塗布し、110℃で30
分間、熱風乾燥させて、膜厚20μmの電荷輸送層を形
成して、負帯電型の積層型感光層を形成した。 〈表面保護層の形成〉上記のようにして形成した積層型
感光層上に、前記実施例1と同条件で、プラズマCVD
法により、非晶質のケイ素−炭素(SiC)複合膜から
なる、厚み0.5μmの表面保護層を成膜して、実施例
19の電子写真感光体を製造した。 [実施例20〜22]正孔輸送剤として、それぞれ表4
に示す式番号のトリアミノベンゼン誘導体1重量部を使
用したこと以外は実施例19と同様にして、実施例20
〜22の電子写真感光体を製造した。 [比較例10]正孔輸送剤としてのトリアミノベンゼン
誘導体0.8重量部と、結着樹脂としてのZ型ポリカー
ボネート1重量部に代えて、前記式(HT−1)で表さ
れる繰り返し単位を有するポリビニルカルバゾール(数
平均分子量Mn=9500)1重量部を使用したこと以
外は実施例19と同様にして、比較例10の電子写真感
光体を製造した。 [比較例11]正孔輸送剤として、前記式(HT−3)
で表されるジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニル
ヒドラゾン0.8重量部を使用したこと以外は実施例1
9と同様にして、比較例11の電子写真感光体を製造し
た。 〈感度特性試験(2)〉上記各実施例、比較例の電子写
真感光体について、ジェンテック(GENTEC)社製のドラ
ム感度試験機を用いて各感光体の表面に印加電圧を加
え、グリッド電圧調整することでその表面を−800±
20Vに帯電させた後、表面電位V0(V)を測定し
た。Then, this coating solution was applied on the above-mentioned charge generating layer by a dip coating method.
Then, the film was dried with hot air for 20 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm, thereby forming a negatively charged laminated photosensitive layer. <Formation of Surface Protective Layer> On the laminated photosensitive layer formed as described above, plasma CVD was performed under the same conditions as in Example 1 above.
A 0.5 μm-thick surface protective layer made of an amorphous silicon-carbon (SiC) composite film was formed by the method, to produce an electrophotographic photoreceptor of Example 19. [Examples 20 to 22] Table 4 as hole transporting agents
Example 20 was prepared in the same manner as in Example 19 except that 1 part by weight of the triaminobenzene derivative having the formula number
~ 22 electrophotographic photosensitive members were produced. [Comparative Example 10] A repeating unit represented by the above formula (HT-1) instead of 0.8 parts by weight of a triaminobenzene derivative as a hole transporting agent and 1 part by weight of a Z-type polycarbonate as a binder resin. An electrophotographic photoreceptor of Comparative Example 10 was produced in the same manner as in Example 19, except that 1 part by weight of polyvinyl carbazole having the following formula (number average molecular weight Mn = 9500) was used. [Comparative Example 11] As a hole transporting agent, the compound represented by the above formula (HT-3)
Example 1 except that 0.8 parts by weight of diethylaminobenzaldehyde diphenylhydrazone represented by
In the same manner as in No. 9, an electrophotographic photosensitive member of Comparative Example 11 was produced. <Sensitivity characteristic test (2)> With respect to the electrophotographic photosensitive members of the above Examples and Comparative Examples, an applied voltage was applied to the surface of each photosensitive member using a drum sensitivity tester manufactured by GENTEC, and a grid voltage was applied. Adjust the surface to -800 ±
After charging to 20 V, the surface potential V 0 (V) was measured.
【0162】次いで試験機の露光光源であるハロゲンラ
ンプの白色光から、バンドパスフィルタを用いて波長7
80nm、半値幅20nmに単色化した光強度10μW
/cm2の単色光を、上記電子写真感光体の表面に1秒
間、照射した際に、上記表面電位V0(V)が1/2に
なるのに要した時間を測定して、半減露光量E1/2(μ
J/cm2)を求めた。また露光開始から0.5秒、経
過した時点での表面電位を、残留電位Vr(V)として
測定した。 〈耐久性試験(2)〉各実施例、比較例の電子写真感光
体を静電式複写機〔京セラミタ(株)製の商品名Vi73
60〕に搭載して連続10万枚の複写を行い、途中1万
枚、2万枚、5万枚の複写後と、10万枚の複写後にそ
れぞれ表面保護層を目視にて観察して、下記の基準で、
電子写真感光体の耐久性を評価した。Next, a white light of a halogen lamp, which is an exposure light source of the tester, was used to obtain a wavelength of 7 using a band-pass filter.
Light intensity 10 μW monochromatized to 80 nm and half-width 20 nm
When the surface of the electrophotographic photoreceptor is irradiated with monochromatic light of 1 cm / cm 2 for 1 second, the time required for the surface potential V 0 (V) to become 1 / is measured, and half-exposure is performed. Quantity E 1/2 (μ
J / cm 2 ). Further, the surface potential at the time when 0.5 seconds had elapsed from the start of exposure was measured as a residual potential Vr (V). <Durability Test (2)> The electrophotographic photoreceptors of the examples and comparative examples were replaced with an electrostatic copying machine [Vi73, manufactured by Kyocera Mita Co., Ltd.]
60], and continuously copy 100,000 sheets, and visually observe the surface protective layer after 10,000, 20,000, and 50,000 copies, and after 100,000 copies, respectively. Based on the following criteria,
The durability of the electrophotographic photosensitive member was evaluated.
【0163】○:表面保護層に、クラックや剥離などは
全く見られず、感光体の耐久性は良好であった。:: No cracking or peeling was observed on the surface protective layer, and the durability of the photoreceptor was good.
【0164】△:表面保護層は剥離していなかったが、
その全面にクラックが入っており、感光体の耐久性はや
や不良であった。Δ: The surface protective layer was not peeled off,
The entire surface was cracked, and the durability of the photoreceptor was slightly poor.
【0165】×:表面保護層が剥離しており、感光体の
耐久性は不良であった。X: The surface protective layer was peeled off, and the durability of the photoreceptor was poor.
【0166】以上の結果を表4に示す。Table 4 shows the above results.
【0167】[0167]
【表4】 [Table 4]
【0168】表より、単層型感光層を積層型感光層に代
えても、その最表面部である電荷輸送層の構成に基づい
て、前記と同じ結果が得られることが確認された。From the table, it was confirmed that the same result as described above was obtained even when the single-layer type photosensitive layer was replaced with the laminated type photosensitive layer, based on the structure of the charge transporting layer which is the outermost surface portion.
【0169】すなわちトリアミノベンゼン誘導体に代え
てポリビニルカルバゾールを使用した比較例10の感光
体、およびジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニル
ヒドラゾンを使用した比較例11の感光体はいずれも、
連続2万枚の複写後に、表面保護層が剥離しているのが
確認された。そしてこのことから、これらの化合物で
は、無機の表面保護層の物理的な安定性を向上する効果
が得られないことが判った。That is, the photoconductor of Comparative Example 10 using polyvinyl carbazole instead of the triaminobenzene derivative and the photoconductor of Comparative Example 11 using diethylaminobenzaldehyde diphenylhydrazone were all
After continuous copying of 20,000 sheets, it was confirmed that the surface protective layer was peeled off. From this, it was found that these compounds did not provide the effect of improving the physical stability of the inorganic surface protective layer.
【0170】また両比較例の感光体はいずれも、露光後
の残留電位が高く、かつ半減露光量が大きいことから、
表面保護層を形成した際に大きく感度低下することも判
明した。In each of the photosensitive members of Comparative Examples, the residual potential after exposure was high and the half-exposure amount was large.
It was also found that the sensitivity was greatly reduced when the surface protective layer was formed.
【0171】これに対し、実施例19〜22の感光体は
いずれも、連続10万枚の複写後も、表面保護層にクラ
ックや剥離などが全く見られなかった。そしてこのこと
から、トリアミノベンゼン誘導体を使用することで、無
機の表面保護層の物理的な安定性を改善して、これまで
よりも感光体の耐久性を向上できることが確認された。On the other hand, in all of the photoconductors of Examples 19 to 22, no cracking or peeling was observed on the surface protective layer even after continuous copying of 100,000 sheets. From this, it was confirmed that by using the triaminobenzene derivative, the physical stability of the inorganic surface protective layer could be improved, and the durability of the photoreceptor could be improved more than before.
【0172】また上記各実施例の感光体はいずれも、露
光後の残留電位が低く、かつ半減露光量が小さいことか
ら、表面保護層を形成した際に大きく感度低下せず、良
好な感度を有することも確認された。 [実施例23〜26、比較例12、13]積層型感光層
の表面に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、実施例5
〜8、比較例3、4と同じ工程により、非晶質の炭素
(C)からなる厚み0.5μmの表面保護層を成膜した
こと以外は実施例19〜22、比較例10、11と同様
にして、それぞれの電子写真感光体を製造した。In each of the photoreceptors of the above Examples, the residual potential after exposure was low, and the half-reduction exposure amount was small. Therefore, when the surface protective layer was formed, the sensitivity did not decrease significantly, and good sensitivity was obtained. It was also confirmed that it had. [Examples 23 to 26, Comparative examples 12 and 13] Instead of the silicon-carbon composite film on the surface of the laminated photosensitive layer, Example 5 was applied.
And Comparative Examples 10 and 11, except that a surface protective layer made of amorphous carbon (C) having a thickness of 0.5 μm was formed by the same steps as Comparative Examples 3 and 4. Similarly, each electrophotographic photosensitive member was manufactured.
【0173】上記各実施例、比較例の電子写真感光体に
ついて、前記と同じ感度特性試験(2)、および耐久性
試験(2)を行って、その特性を評価した。結果を表5
に示す。With respect to the electrophotographic photosensitive members of the above Examples and Comparative Examples, the same sensitivity characteristic test (2) and durability test (2) were performed as described above, and the characteristics were evaluated. Table 5 shows the results
Shown in
【0174】[0174]
【表5】 [Table 5]
【0175】表より、表面保護層の種類を違えても、下
地である積層型感光層のうち電荷輸送層の構成に基づい
て、前記と同じ結果が得られることが確認された。From the table, it was confirmed that even when the type of the surface protective layer was changed, the same result as described above was obtained based on the structure of the charge transport layer in the laminated photosensitive layer as the underlayer.
【0176】すなわちトリアミノベンゼン誘導体に代え
てポリビニルカルバゾールを使用した比較例12の感光
体、およびジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニル
ヒドラゾンを使用した比較例13の感光体はいずれも、
連続2万枚の複写後に、表面保護層が剥離しているのが
確認された。また特に比較例13の感光体は、連続1万
枚の複写後に既に、表面保護層の全体にクラックが入っ
ているのが確認された。そしてこのことから、これらの
化合物では、無機の表面保護層の物理的な安定性を向上
する効果が得られないことが判った。That is, the photoreceptor of Comparative Example 12 using polyvinyl carbazole instead of the triaminobenzene derivative and the photoreceptor of Comparative Example 13 using diethylaminobenzaldehyde diphenylhydrazone were both:
After continuous copying of 20,000 sheets, it was confirmed that the surface protective layer was peeled off. In particular, it was confirmed that the photoreceptor of Comparative Example 13 had cracks in the entire surface protective layer after 10,000 continuous copies. From this, it was found that these compounds did not provide the effect of improving the physical stability of the inorganic surface protective layer.
【0177】また両比較例の感光体はいずれも、露光後
の残留電位が高く、かつ半減露光量が大きいことから、
表面保護層を形成した際に大きく感度低下することも判
明した。In each of the photosensitive members of Comparative Examples, the residual potential after exposure was high and the half-exposure amount was large.
It was also found that the sensitivity was greatly reduced when the surface protective layer was formed.
【0178】これに対し、実施例23〜26の感光体は
いずれも、連続10万枚の複写後も、表面保護層にクラ
ックや剥離などが全く見られなかった。そしてこのこと
から、トリアミノベンゼン誘導体を使用することで、無
機の表面保護層の物理的な安定性を改善して、これまで
よりも感光体の耐久性を向上できることが確認された。On the other hand, in all of the photoreceptors of Examples 23 to 26, no crack or peeling was observed on the surface protective layer even after continuous copying of 100,000 sheets. From this, it was confirmed that by using the triaminobenzene derivative, the physical stability of the inorganic surface protective layer could be improved, and the durability of the photoreceptor could be improved more than before.
【0179】また上記各実施例の感光体はいずれも、露
光後の残留電位が低く、かつ半減露光量が小さいことか
ら、表面保護層を形成した際に大きく感度低下せず、良
好な感度を有することも確認された。 [実施例27、28、比較例14]積層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、実施例9、1
0、比較例5と同じ工程により、非晶質のケイ素−窒素
(SiN)複合膜からなる厚み0.5μmの表面保護層
を成膜したこと以外は実施例19、20、比較例11と
同様にして、それぞれの電子写真感光体を製造した。 [実施例29、30、比較例15]積層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、実施例11、1
2、比較例6と同じ工程により、非晶質の炭素−窒素
(CN)複合膜からなる厚み0.5μmの表面保護層を
成膜したこと以外は実施例19、20、比較例11と同
様にして、それぞれの電子写真感光体を製造した。 [実施例31、32、比較例16]積層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、実施例13、1
4、比較例7と同じ工程により、非晶質の炭素−ホウ素
(CB)複合膜からなる厚み0.5μmの表面保護層を
成膜したこと以外は実施例19、20、比較例11と同
様にして、それぞれの電子写真感光体を製造した。 [実施例33、34、比較例17]積層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、実施例15、1
6、比較例8と同じ工程により、非晶質の炭素−フッ素
(CF)複合膜からなる厚み0.5μmの表面保護層を
成膜したこと以外は実施例19、20、比較例11と同
様にして、それぞれの電子写真感光体を製造した。 [実施例35、36、比較例18]積層型感光層の表面
に、前記ケイ素−炭素複合膜に代えて、実施例17、1
8、比較例9と同じ工程により、非晶質のホウ素−窒素
(BN)複合膜からなる厚み0.5μmの表面保護層を
成膜したこと以外は実施例19、20、比較例11と同
様にして、それぞれの電子写真感光体を製造した。In each of the photoreceptors of the above Examples, the residual potential after exposure was low, and the half-reduction exposure amount was small. Therefore, when the surface protective layer was formed, the sensitivity did not decrease significantly, and good sensitivity was obtained. It was also confirmed that it had. [Examples 27 and 28, Comparative Example 14] Instead of the silicon-carbon composite film on the surface of the laminated type photosensitive layer, Examples 9 and 1 were used.
0, the same as Examples 19, 20 and Comparative Example 11 except that a 0.5 μm-thick surface protective layer made of an amorphous silicon-nitrogen (SiN) composite film was formed by the same steps as Comparative Example 5. Then, each electrophotographic photoreceptor was manufactured. [Examples 29 and 30, Comparative Example 15] Instead of the silicon-carbon composite film on the surface of the laminated photosensitive layer, Examples 11 and 1 were used.
2. Same as Examples 19, 20 and Comparative Example 11 except that a 0.5 μm-thick surface protective layer made of an amorphous carbon-nitrogen (CN) composite film was formed by the same process as Comparative Example 6. Then, each electrophotographic photoreceptor was manufactured. [Examples 31 and 32, Comparative Example 16] Instead of the silicon-carbon composite film on the surface of the laminated photosensitive layer, Examples 13 and
4. Same as Examples 19, 20, and Comparative Example 11 except that a 0.5 μm-thick surface protective layer made of an amorphous carbon-boron (CB) composite film was formed by the same process as Comparative Example 7. Then, each electrophotographic photoreceptor was manufactured. [Examples 33 and 34, Comparative example 17] Instead of the silicon-carbon composite film on the surface of the laminated type photosensitive layer, Examples 15 and 1
6. Same as Examples 19, 20, and Comparative Example 11 except that a 0.5 μm-thick surface protective layer made of an amorphous carbon-fluorine (CF) composite film was formed by the same steps as Comparative Example 8. Then, each electrophotographic photoreceptor was manufactured. [Examples 35 and 36, Comparative Example 18] Instead of the silicon-carbon composite film on the surface of the laminated type photosensitive layer, Examples 17, 1
8. Same as Examples 19, 20, and Comparative Example 11 except that a 0.5 μm-thick surface protective layer made of an amorphous boron-nitrogen (BN) composite film was formed by the same process as Comparative Example 9. Then, each electrophotographic photoreceptor was manufactured.
【0180】上記各実施例、比較例の電子写真感光体に
ついて、前記と同じ感度特性試験(2)、および耐久性
試験(2)を行って、その特性を評価した。結果を表6
に示す。With respect to the electrophotographic photosensitive members of the above Examples and Comparative Examples, the same sensitivity characteristic test (2) and durability test (2) as described above were performed, and the characteristics were evaluated. Table 6 shows the results
Shown in
【0181】[0181]
【表6】 [Table 6]
【0182】表より、表面保護層の種類をさらに違えて
も、下地である積層型感光層のうち電荷輸送層の構成に
基づいて、前記と同じ結果が得られることが確認され
た。From the table, it was confirmed that even when the type of the surface protective layer was further changed, the same result as described above was obtained based on the structure of the charge transport layer in the laminated photosensitive layer as the underlayer.
【0183】すなわちトリアミノベンゼン誘導体に代え
てジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾ
ンを使用した比較例14〜18の感光体はいずれも、連
続2万枚の複写後に、表面保護層が剥離しているのが確
認された。また特に比較例15〜17の感光体は、連続
1万枚の複写後に既に、表面保護層の全体にクラックが
入っているのが確認された。そしてこのことから、上記
化合物では、無機の表面保護層の物理的な安定性を向上
する効果が得られないことが判った。That is, in all of the photoconductors of Comparative Examples 14 to 18 using diethylaminobenzaldehyde diphenylhydrazone in place of the triaminobenzene derivative, it was confirmed that the surface protective layer was peeled off after continuous copying of 20,000 sheets. Was. In particular, in the photoconductors of Comparative Examples 15 to 17, it was confirmed that cracks had already occurred in the entire surface protective layer after continuous copying of 10,000 sheets. From this, it was found that the above-mentioned compound did not provide the effect of improving the physical stability of the inorganic surface protective layer.
【0184】また各比較例の感光体はいずれも、露光後
の残留電位が高く、かつ半減露光量が大きいことから、
表面保護層を形成した際に大きく感度低下することも判
明した。In each of the photoconductors of Comparative Examples, the residual potential after exposure was high and the half-exposure amount was large.
It was also found that the sensitivity was greatly reduced when the surface protective layer was formed.
【0185】これに対し、実施例27〜36の感光体は
いずれも、連続10万枚の複写後も、表面保護層にクラ
ックや剥離などが全く見られなかった。そしてこのこと
から、トリアミノベンゼン誘導体を使用することで、無
機の表面保護層の物理的な安定性を改善して、これまで
よりも感光体の耐久性を向上できることが確認された。On the other hand, in all of the photoconductors of Examples 27 to 36, no cracks or peeling were observed on the surface protective layer even after continuous copying of 100,000 sheets. From this, it was confirmed that by using the triaminobenzene derivative, the physical stability of the inorganic surface protective layer could be improved, and the durability of the photoreceptor could be improved more than before.
【0186】また上記各実施例の感光体はいずれも、露
光後の残留電位が低く、かつ半減露光量が小さいことか
ら、表面保護層を形成した際に大きく感度低下せず、良
好な感度を有することも確認された。In each of the photoreceptors of the above Examples, the residual potential after exposure was low, and the half-reduction exposure amount was small. Therefore, when the surface protective layer was formed, the sensitivity did not decrease significantly, and good sensitivity was obtained. It was also confirmed that it had.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福永 秀明 滋賀県八日市市蛇溝町長谷野1166番地の6 京セラ株式会社滋賀工場八日市ブロック 内 Fターム(参考) 2H068 AA02 AA20 AA21 AA31 AA35 BA12 BA63 BA64 CA03 DA05 DA07 EA24 FA01 FA08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hideaki Fukunaga 1166, Haseno, Jabizo-cho, Yokaichi-shi, Shiga Prefecture F-term (reference) 2H068 AA02 AA20 AA21 AA31 AA35 BA12 BA63 BA64 CA03 DA05 DA07 EA24 FA01 FA08
Claims (6)
面保護層をこの順に積層した電子写真感光体であって、
上記有機感光層の、少なくとも表面保護層に接する最表
面部が、式(1): 【化1】 〔式中、R1〜R6は、同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール
基を示し、a〜fは同一または異なって1〜5の整数を
示す。〕で表されるトリアミノベンゼン誘導体を含有す
ることを特徴とする電子写真感光体。An electrophotographic photosensitive member comprising an organic photosensitive layer and an inorganic surface protective layer laminated in this order on a conductive substrate,
At least the outermost surface portion of the organic photosensitive layer in contact with the surface protective layer has the formula (1): [Wherein, R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group, and a to f are the same or different and represent an integer of 1 to 5. An electrophotographic photoreceptor comprising a triaminobenzene derivative represented by the following formula:
れた層であることを特徴とする請求項1記載の電子写真
感光体。2. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the surface protective layer is a layer formed by a vapor deposition method.
る群より選ばれた少なくとも1種の元素、またはこれら
の元素を含む無機の化合物からなることを特徴とする請
求項1または2記載の電子写真感光体。3. The method according to claim 1, wherein the surface protective layer is made of at least one element selected from the group consisting of metal elements and carbon, or an inorganic compound containing these elements. Electrophotographic photoreceptor.
と、正孔輸送剤としての式(1)で表されるトリアミノ
ベンゼン誘導体とを含有する単層型感光層であることを
特徴とする請求項1記載の電子写真感光体。4. The organic photosensitive layer is a single-layer photosensitive layer containing, in a binder resin, a charge generating agent and a triaminobenzene derivative represented by the formula (1) as a hole transporting agent. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein:
とを特徴とする請求項4記載の電子写真感光体。5. The electrophotographic photosensitive member according to claim 4, wherein the binder resin contains an electron transporting agent.
発生層と、結着樹脂中に、正孔輸送剤としての式(1)
で表されるトリアミノベンゼン誘導体を含有する電荷輸
送層とをこの順に積層した積層型感光層であることを特
徴とする請求項1記載の電子写真感光体。6. An organic photosensitive layer comprising a charge-generating layer containing a charge-generating agent and a compound represented by the formula (1):
The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the electrophotographic photoreceptor is a laminated photosensitive layer in which a charge transport layer containing a triaminobenzene derivative represented by the following formula is laminated in this order.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000281052A JP2002091033A (en) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | Electrophotographic photoreceptor |
US09/910,916 US6489071B2 (en) | 2000-07-25 | 2001-07-24 | Electrophotosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000281052A JP2002091033A (en) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | Electrophotographic photoreceptor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP (1) | JP2002091033A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010027039A1 (en) * | 2008-09-04 | 2010-03-11 | バンドー化学株式会社 | Novel 1,3,5-tris(diarylamino)benzene and use thereof |
-
2000
- 2000-09-18 JP JP2000281052A patent/JP2002091033A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2010027039A1 (en) * | 2008-09-04 | 2010-03-11 | バンドー化学株式会社 | Novel 1,3,5-tris(diarylamino)benzene and use thereof |
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