JP2001013677A

JP2001013677A - ペリクル収納容器の洗浄方法

Info

Publication number: JP2001013677A
Application number: JP18135499A
Authority: JP
Inventors: Kazutoshi Sekihara; 一敏関原
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 1999-06-28
Filing date: 1999-06-28
Publication date: 2001-01-19

Abstract

(57)【要約】【課題】洗浄作業に人手を必要とせず、洗浄能力及び
生産性に優れたペリクル収納容器の洗浄方法を提供す
る。【解決手段】洗浄液をノズルから吹き付けるシャワー
洗浄１１１、界面活性剤水溶液中での超音波洗浄１１
２、望ましくは実施される純水を用いるシャワー洗浄１
１３、純水中での超音波洗浄１１４、望ましくは実施さ
れるノズルより純水を吹き付けるシャワー洗浄１１３を
順次行った後、脱水１１５及び乾燥１１６を行うことに
より達成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、リソグラフィー用
ペリクル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あ
るいは液晶表示板を製造する際のゴミよけとして、実質
的に５００ｎｍ以下の光を用いる露光方式に有用な帯電
防止されたリソグラフィー用ペリクルの収納容器の洗浄
方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体或いは液
晶表示板などの製造においては、半導体ウエハー或いは
液晶用原板に光を照射してパターニングが行われるが、
このときに用いる露光原板にゴミが付着していると、こ
のゴミが光を吸収したり光を曲げてしまうために、転写
したパターンが変形したり、エッジががさついたものと
なるほか、下地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観
などが損なわれるという問題があった。このため、これ
らの作業は通常クリーンルーム内で行われているが、こ
のクリーンルーム内でも露光原板を常に清浄に保つこと
が難しいので、露光用の光をよく透過させるペリクル膜
を、ゴミなどの異物よけのために、露光原板の表面に貼
着する方法が採られている。この場合、異物は露光原板
の表面には付着せず、ペリクル膜に付着するため、リソ
グラフィー時に焦点を露光原板のパターン面に合わせて
おけば、ペリクル膜上の異物は転写に無関係となる。

【０００３】ペリクルは、通常、光をよく透過させるニ
トロセルロース、酢酸セルロースなどからなる透明なペ
リクル膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレン
などからなるペリクルフレームの上端面に、ペリクル膜
の良溶媒を塗布して接着し（米国特許第４８６１４０２
号明細書、特公昭６３−２７７０７号公報参照）、さら
に、ペリクルフレームの下端面には、露光原板に装着す
るためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリ
ル樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的とし
た離型層（セパレータ）を形成している。また、このペ
リクルは、ペリクル膜を露光原板に貼り付けた状態にお
いて、ペリクルフレーム内部に囲まれた露光原板上の空
間と外部との気圧差をなくすことを目的として、ペリク
ルフレームの一部に気圧調整用の小孔を開け、小孔を通
じて移動する空気からの異物侵入を防ぐために、フィル
ターを設置する等の工夫がなされている（実公昭６３−
３９３７０３号公報参照）。

【０００４】ペリクル膜を露光原板へ貼り付けるには、
一般にペリクルを収納容器から自動あるいは手動にて取
り出し、直ちにペリクル膜面及びペリクルフレーム内壁
の異物検査を行い、セパレータを除去した後、露光原板
の所定の位置に合わせ、露光原板に平行にペリクルフレ
ームに一定時間、一定荷重をかけて貼り付ける方法が採
られている。このとき、貼り付け前の異物検査におい
て、ペリクル膜面あるいはペリクルフレーム内壁に許容
できない大きさの異物があった場合、これを除去するに
は、ペリクルの材質及び構造からエアブロー等の簡易な
方法しか採れない。このため、ペリクルに異物の付着が
あった場合、そのほとんどが直ちに不良品とされる。こ
れらの理由により、保管及び輸送中において、ペリクル
に異物の付着は決してあってはならず、ペリクル収納容
器、特にその内側表面には、きわめて高い清浄度が要求
される。

【０００５】図１は、本発明が対象とする一般的なペリ
クル収納容器であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）
に示したペリクル収納容器のＡ−Ａ矢視線にそう縦断面
図である。ペリクル収納容器は、上蓋１、トレイ２及び
これらを４隅の角で結合保持するクリップ３から構成さ
れている。トレイ２はペリクル（図示せず）を載置保持
し、上蓋１はトレイ２に嵌合してペリクルを覆い、ペリ
クルの損傷及び異物の付着を防ぐ。

【０００６】これらの構成部材は、アルミニウム合金、
ステンレス鋼等の金属で製作することも可能であるが、
一般には、大量生産に向いている、製造コストが低い、
表面が滑らかである等の理由により、樹脂を射出成形し
て製造される。このとき用いられる樹脂の材質として
は、例えば、ＡＢＳ、ＰＶＣ、ＰＰなどが挙げられる。
射出成形機は、油圧を利用して、金型中に樹脂を高速、
高圧で充填して製品を得る装置であるため、一般に、射
出成形工場の製造現場は、機械の潤滑油、グリース等の
油脂類、作業者の着衣等からの繊維くず等の異物が周辺
及び空間中に大量に存在する不清浄な環境となってい
る。さらに成形に際しては、金型に樹脂が固着するのを
防ぐために、離型剤（粉末または液体）も使用される。
このため、加工業者から納入されるペリクル収納容器の
表面は、多種多様な異物が無数に付着した極めて不清浄
な状態となっている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】現在、低コストで高性
能な洗浄方法としては、超音波洗浄が半導体工業のみな
らず一般に広く採用されている。超音波洗浄の代表的な
特徴として、洗浄力が強力であることや、複雑な形状や
細かなものでも隅々まで洗浄できることが挙げられる。
これは、超音波の基本的な性質によるもので、複雑な形
状や表面に凹凸があっても、洗浄液中で超音波が回折し
て隅々まで回り込み、また、超音波を照射された被洗浄
物が、超音波を反射して別の面に超音波を伝えるなどの
現象が起こっていることによる。しかしながら、被洗浄
物の材質の硬度が低いもの、例えば、樹脂やゴムなどの
場合、照射された超音波を吸収してしまうという現象が
生じ、本来の洗浄効果は見込めない。特に超音波の照射
方向に面していない部分では、照射された面から反射さ
れた超音波が届くといった現象は全く期待できず、洗浄
能力が著しく低下する。このため、一般的な樹脂製で複
雑な形状のペリクル容器に対しては、超音波洗浄のみで
ペリクル容器の全面にわたって良好な洗浄品質を得るこ
とは不可能であった。

【０００８】上記理由により、従来、上蓋１とトレイ２
については、強力なスクラブ（scrub ）洗浄を行って殆
どの異物を除去した後、界面活性剤水溶液中で超音波洗
浄を行い、ついで純水中で超音波洗浄する方法が採られ
ていた。ペリクル収納容器は多くの曲面や突起を有する
ため、スクラブ作業を装置化することはきわめて困難で
あり、それゆえに、スクラブ洗浄は手作業で行われてい
た。この方法は、人手によるスクラブ作業に洗浄力の多
くを頼っているため、手作業のムラにより洗浄品質にば
らつきを生じ、また作業者の肉体的負担がきわめて大き
く、大量生産に不向きという問題があった。

【０００９】また、洗浄したペリクル収納容器は、使用
するまでに乾燥させなければならないが、一般的な樹脂
製のペリクル収納容器は、熱により変形しやすいため、
強制乾燥の温度条件には制限がある。材質にもよるが、
例えば、ＡＢＳ樹脂の場合、７０℃以上に加熱するとペ
リクル収納容器として許容できない大きさの変形が生ず
る。さらに、樹脂の場合、水に対する濡れ性が悪いた
め、水は表面で広がらず、表面張力で凝集して滴状にな
る。このため、洗浄後のペリクル収納容器の乾燥は、許
容できる乾燥温度が低いこと、付着している水の表面積
の小さいことが相まって、非常に困難である。ペリクル
収納容器の材質にもよるが、フィルターを介して温風を
吹き付ける温風乾燥機を使用した場合、完全に乾燥させ
るためには概ね３０分以上を必要とし、極めて生産性が
悪い。このため、大量に処理する場合には、著しく大型
の温風乾燥機を用意する必要があった。しかし、実際に
は、製作できる乾燥機の大きさには制限があるため、ク
リーンルームのダウンフローにより自然乾燥させる方法
が採られていた。自然乾燥の場合、乾燥時間は４時間以
上必要であり、極めて生産性が悪い。このように従来の
乾燥方法には多くの問題があり、極めて生産性が悪かっ
た。

【００１０】他方、クリップ３については、その形状か
ら人手でスクラブ洗浄を行うことは極めて困難なため、
カゴ型の洗浄治具に数十個〜数百個の単位で収納し、界
面活性剤水溶液中で超音波洗浄を行った後、純水ですす
ぎ、自然乾燥により乾燥していた。しかし、クリップの
材質も樹脂であるから、超音波洗浄のみでは大きな洗浄
効果は見込めない。一方、クリップ３は、ペリクル収納
容器の外側に取り付ける補助部品であり、ペリクルをペ
リクル収納容器から取り出す際には、作業者が手で外す
ものでもある。このため、上蓋やトレイほどの清浄性は
要求されず、前記洗浄方法で指摘した問題はあるもの
の、清浄性は充分に要求を満たしており、これまで、ク
リップ３に対する洗浄能力が問題となったことはなかっ
た。しかしながら、クリップの洗浄方法が上蓋及びトレ
イと別のプロセスになっている場合、クリップのために
別の洗浄装置を用意する必要があり、生産性の面で問題
があった。また、上蓋及びトレイと同じ工程でクリップ
を洗浄する場合、クリップは複雑な形状を有し表面積が
大きく、かつ数百個単位で洗浄が行われることから、界
面活性剤水溶液中での洗浄後、純水ですすぐ際に、純水
洗浄槽への界面活性剤の持ち込み量が多く、洗浄液を著
しく汚染する。このため、クリップを上蓋及びトレイと
同一の工程で洗浄するには問題があった。

【００１１】従って、本発明の目的は、洗浄作業に人手
を必要とせず、洗浄能力及び生産性に優れたペリクル収
納容器の洗浄方法を提供するものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明のペリクル収納容
器の洗浄方法は、洗浄液をノズルから吹き付けるシャワ
ー洗浄、界面活性剤水溶液中での超音波洗浄、及び純水
中での超音波洗浄を順次行った後、脱水及び乾燥を行う
ことを特徴とする。この際、界面活性剤水溶液中での超
音波洗浄と純水中での超音波洗浄の間、及び／または純
水中での超音波洗浄と脱水の間に、ノズルから純水を吹
き付けるシャワー洗浄を行うことを好適とする。

【００１３】さらに、ペリクル収納容器の洗浄に際し、
純水中での超音波洗浄中に、０．５〜５分毎に１回の頻
度で、洗浄治具に収容したペリクル収納容器が完全に液
中より出る高さまで、洗浄治具ごと揺動させるのがよ
い。超音波洗浄に際しては、２０〜５０ｋＨｚの範囲内
の少なくとも２つの周波数が同時に混合された超音波を
用いたり、あるいは周波数が２０〜５０ｋＨｚの範囲内
において少なくとも３ｋＨｚ以上の帯域幅で連続して変
調が繰り返される超音波を用いることにより、洗浄をよ
り確実に行うことができる。脱水は、完全に純水中に浸
漬されたペリクル収納容器を、そのペリクル載置面が垂
直で、かつペリクル収納容器の上縁が液面に対し２〜１
５°の範囲内の角度に傾斜させた状態で、液面から０．
５〜２０ｍｍ／秒の範囲の引上げ速度で上方に引上げる
ことにより行われる。洗浄を終えたペリクル収納容器
は、温度が５０〜７０℃の空気を、ＵＬＰＡフィルター
を介して流速０．５ｍ／秒以上で吹き付けて乾燥され
る。これらの洗浄から乾燥までの一連の処理を連続で行
うのが望ましく、その際、ペリクル収納容器は自動搬送
される。

【００１４】本発明はまた、ペリクル収納容器の洗浄治
具が、ペリクル収納容器の構成部品である上蓋とトレイ
を、それぞれ別々にペリクル載置面を垂直にして、かつ
ペリクル載置面に対し垂直の方向に２０〜１００ｍｍの
間隔で２〜６ヶ所に設けた保持部で保持することを特徴
とし、特には、この保持部が、ペリクル収納容器の構成
部品である上蓋及びトレイとの接触部に液抜きを目的と
した溝を有することを好適とする。

【００１５】本発明は、洗浄液をノズルから吹き付ける
シャワー洗浄、洗浄液として界面活性剤水溶液を用いた
超音波洗浄、純水をノズルから吹き付けるシャワー洗
浄、洗浄液として純水を用いた超音波洗浄、脱水及び乾
燥の各工程からなるペリクル収納容器の洗浄方法、並び
にこの洗浄方法で用いられる洗浄治具とから構成され
る。この洗浄方法で対象とするペリクル収納容器は、そ
の材質、形状等は特に問わないが、樹脂の射出成形物で
形成されたものが特に有効である。

【００１６】人手によるスクラブ洗浄は、汚れの激しい
被洗浄物に対して有効な洗浄方法であるが、洗浄品質に
ばらつきを生じる、大量生産にはむかない等のために、
より洗浄能力の高い洗浄方法を採用しなければならな
い。種々検討の結果、シャワー洗浄及び洗浄槽内におけ
る被洗浄物の配置と洗浄液の流れに考慮した超音波洗浄
を行うことにより、高い洗浄能力を得ることが可能であ
ることを見いだした。具体的には、上蓋とトレイは、互
いに組み合わせて同時に洗浄し、クリップについては、
別にクリップだけで数十〜数百個単位で洗浄する。これ
は、クリップを上蓋及びトレイと同時に洗浄すると、超
音波洗浄槽内で超音波を吸収、反射し、これらの洗浄を
妨げることが懸念されるためである。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明のペリクル収納容器
の洗浄方法の一例を、図に基づいて説明する。図２は、
シャワー洗浄のための装置（以下、シャワー洗浄装置と
いう）で、（ａ）は概略正面図、（ｂ）、（ｃ）はそれ
ぞれ要部の概略側面図及び概略平面図である。図３は、
界面活性剤水溶液中での超音波洗浄のための装置（以
下、超音波洗浄装置という）で、（ａ）は概略正面図、
（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ要部の概略側面図及び概略平
面図である。図４は、図２のシャワー洗浄装置において
洗浄液として純水を用いる場合で、同様に（ａ）は概略
正面図、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ要部の概略側面図及
び概略平面図である。図５は、図３の超音波洗浄装置に
おいて洗浄液として純水を用いる場合で、（ａ）は概略
正面図、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ要部の概略側面図及
び概略平面図である。図６は、脱水のための装置（以
下、脱水装置という）の概略正面図である。図７は、乾
燥のための装置（以下、乾燥装置という）の概略正面図
である。なお、これらの概略正面図、概略側面図及び概
略平面図はいずれも説明に適した箇所での断面による図
を示している。

【００１８】図２に示すシャワー洗浄装置を用い、ペリ
クル収納容器の上蓋１０とトレイ１１（以下、上蓋とト
レイを共に表すときはペリクル収納容器１０、１１とい
う）を個別に洗浄治具１２に収容して洗浄槽２０内に装
入する。上蓋１０とトレイ１１に洗浄液２１をノズル２
２から吹き付け、軽く表面に付着した程度の埃や超音波
洗浄では除去できない種類の異物を除去する。ここで使
用する洗浄液２１は、特に限定されるものではなく、水
道水、純水、界面活性剤の水溶液などが使用できる。た
だし、洗浄液を大量に使用するため、洗浄槽２０に連結
された配管２７にポンプ２５をつなぎ、洗浄液をヒータ
ー２４及びフィルター２３に通して矢印のように循環再
利用するのが望ましい。また、洗浄液に界面活性剤水溶
液を使用する場合は、大量に発生する泡を抑制するた
め、消泡剤を添加するとよい。

【００１９】このシャワー洗浄におけるノズル２２の配
置や本数は、ペリクル収納容器１０、１１の全面がカバ
ーできるように、なおかつ無駄の無いように適宜選択す
ればよく、特に限定されるものではない。このとき、ペ
リクル収納容器１０，１１の全表面がムラなく洗浄でき
るよう、ノズル２２に移動機構を付設し、洗浄中ノズル
２２を移動させて洗浄液を噴射することも有効である。
この洗浄装置は異物の除去が目的であるから、洗浄液の
流量は、可能な限り多い方がより高い洗浄効果が期待で
きるので、ノズル１本あたり３Ｌ／分以上、また圧力に
ついても同様で０．３ＭＰａ以上とするのが望ましい。
洗浄時間は１〜１０分の範囲内とするのがよい。さらに
洗浄装置の周囲に洗浄液２１が飛散するのを防ぐため、
開閉可能なカバー２６などの密閉機構を備えるとよい。

【００２０】シャワー洗浄が終了した後は、より精密な
洗浄を目的として、界面活性剤中での超音波洗浄を行
う。上記したように、一般的な樹脂製のペリクル収納容
器に対しては超音波洗浄は不向きであるが、種々検討の
結果、図３に示すような構造の超音波洗浄装置を使用す
ることで、上記問題を解決し、著しく洗浄能力を向上さ
せることができた。

【００２１】洗浄治具１２内に、ペリクル収納容器の上
蓋１０とトレイ１１を別々にして互いに平行に、かつペ
リクル載置面が垂直になるように取り付けて、これを底
面に超音波振動板３２を備えた洗浄槽３０内に装入し、
上蓋１０とトレイ１１の間から洗浄液３１を槽内に供給
しながら洗浄する。ペリクル収納容器１０，１１を図３
に示す位置に配置することで、底面の超音波振動板３２
から照射された超音波が途中で吸収されるのを防ぎ、ま
た洗浄液３１が上蓋１０とトレイ１１の表面に沿って滞
留することなく上方に向かって流れることで、超音波を
ペリクル収納容器１０，１１の全面に到達させて異物を
剥離し、表面から剥離した異物はすぐさま上方に向かっ
て運ばれ、さらに槽外へ運び去られる。これらの相乗効
果により、洗浄槽３０のペリクル収納容器１０、１１に
対する洗浄力は大幅に向上した。このとき、超音波洗浄
中の洗浄液３１は、洗浄槽３０内に存在する洗浄液の全
量に対して５０％／分以上、特には８０％／分以上の交
換率で、フィルター３３を通しながらポンプ３５で配管
３７内を循環させるのが望ましい。流量がこれより少な
いと、図中の矢印で示すような洗浄液の流れが形成され
ず、槽内に異物が滞留する虞れがある。

【００２２】使用する界面活性剤は、被洗浄ペリクル収
納容器の材質、汚れ具合に応じて選択する必要があるた
め、特にその種類を問わないが、そのうちの幾つかを例
示すると、クリーンエースＳ（井内盛栄堂社製、商品
名）やＮＣＷ−６０１Ａ（和光純薬工業社製、商品名）
が挙げられる。洗浄能力に問題が無ければ、環境や装置
への負担を考慮すると、界面活性剤水溶液は中性である
ことが望ましい。また、この濃度は、使用する界面活性
剤の種類に応じて適宜検討すればよいが、クリーンエー
スＳの場合には３〜１０％の範囲内が望ましい。また洗
浄液の温度は高いほど洗浄能力も高くなるが、前述した
ように、一般的な樹脂製のペリクル収納容器の場合に
は、熱による変形が懸念されるため、２５〜５０℃の範
囲内で材質に応じて選択するとよい。

【００２３】界面活性剤水溶液中での超音波洗浄時間は
長いほど洗浄能力が増大するので、ペリクル収納容器の
汚れの程度に応じて適宜洗浄時間を選択するのが望まし
いが、一般的な樹脂製のペリクル収納容器の場合、洗浄
液の温度によっては、洗浄時間とともに変形量が大きく
なることが懸念され、また生産性の面からも３〜２０分
の範囲内とするのが望ましい。このとき所望の生産性が
達成できない場合は、洗浄槽を複数に分けて装置を構成
し、一槽あたりのタクトタイムを短縮することが可能で
ある。

【００２４】超音波の音圧強度が大きいほど洗浄能力は
高くなるが、１００ｋＰａ以上では、ときにはペリクル
収納容器の表面に損傷が生じる場合がある。また過大な
超音波強度は超音波振動板の劣化を早めたり、洗浄治具
の表面を損傷することも懸念される。このためペリクル
収納容器の表面に損傷を与えず、なおかつ十分な洗浄能
力を確保するには、超音波の音圧強度を２５〜１００ｋ
Ｐａの範囲内、特には５０ｋＰａとするのが望ましい。

【００２５】超音波の周波数は、２０〜５０ｋＨｚの範
囲内のものを選択するのがよい。ただし、このとき単一
の周波数で行うと、定在波の影響で音圧分布が不均一に
なるため、ペリクル収納容器を槽内で揺動させる等の方
法で防止するのが望ましい。このため、周波数が２０〜
５０ｋＨｚの範囲内で、なおかつ、この範囲内の少なく
とも二つの周波数が同時に混合された超音波を発生する
ことのできる超音波洗浄機を採用するのが望ましい。こ
のような超音波洗浄機として、特にその種類は問わない
が、その一つを例示すれば、４周波混合型超音波洗浄
機：発振器ＵＯ１２００ＦＸ１−Ｐ（国際電気エルテッ
ク社製、商品名）が挙げられる。

【００２６】同様の観点から、周波数が２０〜５０ｋＨ
ｚの範囲内で、かつこの範囲内の少なくとも３ｋＨｚ以
上の帯域幅で、連続して変調を繰り返すことのできるも
のを使用するのもよい。このような超音波洗浄機とし
て、特にその種類は問わないが、その一つを例示すれば
スイープ型超音波洗浄機：発振器ＵＯ１２００ＰＶ−Ｙ
（同前）が挙げられる。さらに、上記２種類の超音波発
振形式の洗浄槽を組み合わせた洗浄装置を用いることも
できる。複数の周波数が同時に照射されるものは洗浄力
に優れ、また周波数変調を行うタイプは洗浄力がやや弱
いものの全体をムラなく洗浄できるという特性があり、
これらの違いを利用して、それぞれを最適なところに設
置する。例えば、界面活性剤を用いる超音波洗浄槽を２
槽で構成する場合、第１槽に洗浄力の強力な超音波洗浄
槽を、第２槽に強度分布のムラが少ない超音波洗浄槽を
設置することで、より洗浄効果を高くすることができ
る。なお、上記超音波洗浄槽に関する構成は、洗浄液が
界面活性剤水溶液の場合に限定されるものではなく、純
水や、その他の洗浄液の場合でも有効である。

【００２７】上記のようにして界面活性剤中で超音波洗
浄を終えたペリクル収納容器１０、１１は、洗浄液中か
ら引上げられ、次の工程に送られる。ペリクル収納容器
は形状が複雑で表面積が大きいため、界面活性剤の付着
量も多い。このため、このまま純水を用いる洗浄槽に入
れると、界面活性剤が純水中に多量に混入するため、界
面活性剤を除去するために多段の洗浄槽が必要となり、
装置の大型化、生産性の低下を招く。そこで、界面活性
剤水溶液中での超音波洗浄後、図４に示すようなシャワ
ー洗浄装置を使用して、ペリクル収納容器１０、１１を
洗浄治具１２ごと洗浄槽４０内に装入し、ノズル４２か
ら純水４１を吹き付けるシャワー洗浄を行い、界面活性
剤をペリクル収納容器１０，１１及び洗浄治具１２の表
面から完全に洗い流すのが望ましい。

【００２８】純水の供給手段としては、図示のほか、様
々なものが考えられるが、所望の圧力、流量が得られれ
ばよく、特に限定されるものではない。ただし、ここで
の洗浄の目的は、異物を除去することではなく、表面に
付着した界面活性剤を洗い流すことであるから、圧力よ
りも流量が必要であり、これにはマグネットポンプが最
も適している。もちろん、ポンプ４５から発生した異物
を除去するため、ポンプ出口側にはフィルター４３が必
要である。このとき使用するシャワー洗浄装置には、ノ
ズル４２の配置、本数はペリクル収納容器１０，１１の
全面がカバーできるように適宜選択すれば良く、特に限
定されるものではない。ペリクル収納容器１０，１１の
全表面がムラなく洗浄できるよう、噴射中にノズル４２
を移動できる機構とすることも有効である。純水の噴射
流量は、ペリクル収納容器１０，１１の表面に付着した
界面活性剤が洗い流せる量を確保できればよく、ノズル
１本あたり２〜５Ｌ／分で、０．５〜２分噴射するのが
望ましい。また、圧力は０．０５ＭＰａ以上とするのが
よい。さらに装置周囲への液体の飛散を防ぐため、開閉
可能なカバー４６などの密閉手段を備えていることが望
ましい。

【００２９】上記のようにして界面活性剤を除去した
後、さらに精密なすすぎと異物の除去を行うために、図
５に示す超音波洗浄装置を用いて純水中で超音波洗浄を
行う。この洗浄装置は、基本的には前記した界面活性剤
水溶液を用いるものと同様の構造を有していればよい
が、循環させるだけでは純水の純度が次第に低下するこ
とが懸念されるため、配管５７を図５に示すように配管
して純度の高い純水を給水管４８から供給し、他方、洗
浄槽５０の上縁からオーバーフローした液を排水管４９
から排水する。洗浄は洗浄液５１をポンプ５５で循環さ
せて所望の流量を維持しつつ、純度をも維持する必要が
ある。このときに供給する純水の流量は洗浄槽５０内の
純水の全体積の１０％／分以上とするのがよい。

【００３０】純水中での超音波洗浄には、界面活性剤水
溶液を使用するときには起こらない問題を生じる。超音
波洗浄は、液中に超音波を照射することでキャビテーシ
ョンを発生させ、その気泡が破壊するときの衝撃波を利
用して洗浄を行うものであるが、樹脂製のペリクル収納
容器では、表面の純水に対する濡れ性が悪いため、表面
でキャビテーションの気泡が発生すると、その気泡がそ
のまま付着してしまう。付着した気泡の周辺では、照射
された超音波が気泡で妨害され、洗浄に支障をきたす。
また、気泡が表面にそのまま留まると、乾燥中にはじけ
て水滴となり乾燥時間の延長を招く。

【００３１】このため、これを解決すべく様々な検討を
行った結果、揺動アーム５６と駆動機構５９とから構成
される単軸ロボットなどの揺動装置を用いて、純水中で
の超音波洗浄中に、ペリクル収納容器１０，１１が完全
に液中より出る高さまで、洗浄治具１２ごと上下に揺動
させることで、これを防ぐことができることを見いだし
た。揺動の頻度は洗浄時間との関係から決定する必要が
あるが、付着する気泡の数が洗浄時間に比例して増加し
続けるため、１回／０．５〜３分の頻度で、洗浄時間中
に数回繰り返し行うのがよい。また、その時の揺動速度
は、特に限定されるものではないが、生産性や洗浄槽５
０周囲への液の飛散を考慮すると２０〜１５０ｍｍ／秒
の間が望ましい。揺動動作については、引上げた後、液
面上で保持する必要はなく、直ちにまた純水中へ浸漬す
るのがよい。同様の効果をもたらすものとして、純水中
で噴流を表面に当てる等の方法も考えられるが、複数の
ペリクル収納容器を同時に処理する場合を考慮すると、
噴流を流出させるノズルの配置が複雑で困難である。ま
た洗浄槽中にノズルやその配管等の被洗浄物以外の物が
設置されているのも、超音波の不必要な反射や異物発生
の原因となり、望ましくない。

【００３２】上記した純水中での超音波洗浄中の揺動
は、洗浄に影響しない程度に気泡を除去できるが、確実
性に欠ける。気泡が残ってしまった場合、上記したよう
に乾燥の際に大きな問題が生じるため、気泡の除去をよ
り確実とするために、何らかの方法で気泡を除去するの
が望ましい。そこで、種々検討の結果、純水中での超音
波洗浄の後、再度、純水をノズルで吹き付けるシャワー
洗浄を行い、気泡の取り残しを完全に除去してから脱水
を行うことで、この問題を解決できることを見いだし
た。このとき使用する装置としては、図４に示したシャ
ワー洗浄装置と同様のものが適している。注意すべき点
としては、洗浄の仕上げ段階に近いため、ノズル４２及
び配管４７の清浄度が高いことが要求される。吹き付け
る流体には、上記純粋の他にエアーを用いることでも、
同様の効果が達成できると考えられるが、異物の付着が
懸念されるためエアーは望ましくない。

【００３３】さて、上記のようにして洗浄が終了したペ
リクル収納容器は、次に乾燥工程に移されるが、このま
ま乾燥を行った場合、前述したように許容できる乾燥温
度が低いこと、付着している水の表面積が小さいこと等
が相まって、乾燥時間が著しく長くなる。乾燥方法とし
ては温風乾燥、赤外線ランプ等による直接加熱、スピン
乾燥、エアーナイフなど様々な方法が考えられるが、ペ
リクル収納容器の場合には極めて高い清浄度が要求され
るため、スピン乾燥、エアーナイフなどのクリーンルー
ム内の気流を著しく乱すものや動作の激しいものでは、
新たに異物を付着させてしまう虞れがあって望ましくな
い。また、赤外線ランプなどを用いた直接加熱は、複雑
な形状のペリクル収納容器全体を均一に加熱することが
困難で、変形を促進してしまう。このため異物の付着や
変形を考慮すると、温風乾燥が最も適している。

【００３４】温風乾燥の条件について種々検討を行った
が、選択可能な条件の範囲では、ペリクル収納容器の変
形を防ぎつつ、短時間で乾燥させることは不可能なこと
が明らかになった。そこで、ペリクル収納容器の乾燥前
に脱水を行うことを検討した。脱水は、エアーブロー等
の方法が一般的であるが、種々検討を重ねた結果、図６
に示す脱水装置を用いて、ペリクル収納容器１０，１１
を洗浄治具１２ごと、ペリクル載置面が垂直になるよう
に完全に純水６１中に浸漬した後、ゆっくり引上げて脱
水する方法が有効であることを見いだした。洗浄治具１
２の浸漬、引上げは、駆動機構６９に取り付けられたア
ーム６６により行われる。この方法は、クリーンルーム
内の気流を乱さず異物の付着を引き起こす虞がないこ
と、装置構造が単純であること、複数のペリクル収納容
器を同時に処理するバッチ処理が容易であること等の利
点がある。

【００３５】このとき、引上げ動作中、ペリクル収納容
器１０，１１を取り付けた洗浄治具１２を、液面６２に
対する傾斜角度αが２〜１５°の範囲となるように引上
げるのがよい。傾斜角度αを２°未満とした場合、ペリ
クル収納容器１０，１１の外縁部において、液切りが極
めて悪くなる。また、このときの液面からの引上げ速度
が小さいほどよく、０．２〜２０ｍｍ／秒の範囲内とす
るのがよい。さらに生産性を高めるために、引上げ速度
が変えられるようにし、引上げ速度を０．２〜２０ｍｍ
／秒の範囲内に保ちつつ、液切りしにくい複雑形状の部
分が液面６２を通過するときは遅く、逆に液切りが容易
な単純形状の部分は早く通過させて引上げるのがよい。

【００３６】また、脱水槽６０内の純水６１の温度は、
ペリクル収納容器１０，１１の材質及び表面の清浄状態
に応じて適宜選択する必要があるが、あまり低温では後
の乾燥工程で昇温に時間がかかり、また、高温では容器
の変形の恐れがあるため、２０〜８０℃の範囲内、特に
一般的な樹脂製のペリクル収納容器に対しては２０〜５
０℃とするのが望ましい。

【００３７】前述のようにして洗浄後に脱水処理を施し
たペリクル収納容器は、乾燥装置、より具体的には温風
乾燥機により、完全に乾燥させることができる。乾燥装
置は、例えば、図７に示すような構造とし、温風は外気
導入ファン７６によりＨＥＰＡフィルター７７を経て装
置内に供給され、ヒーター７４で暖められ、ＵＬＰＡフ
ィルター７３を経てペリクル収納容器１０，１１に向か
って流れる。このとき温風はＵＬＰＡあるいはＨＥＰＡ
などの高性能フィルター７３，７７を用いて高レベルに
除塵する必要がある。温風の流れは、特にその方向を問
わないが、搬送装置との連結を考慮すると、図７に矢印
（符号７８）で示したように、上から下に流れるものが
望ましい。温風の温度は、ペリクル収納容器１０，１１
の材質にもよるが、５０〜８０℃の範囲内、特に樹脂製
のペリクル収納容器に対しては５５〜７０℃の範囲内と
し、５〜１５分で乾燥を行うのがよい。温風の流速は、
乾燥時間に与える影響はあまり大きくないが、ほぼ０．
５ｍｍ／秒とするのが望ましい。また乾燥が終了したペ
リクル収納容器は、その材質、乾燥条件にもよるが１０
分以上の冷却時間が必要である。

【００３８】ここまで、上蓋とトレイの洗浄方法につい
て詳述してきたが、ペリクル収納容器のもう一つの構成
部品であるクリップの洗浄方法について、以下に詳述す
る。クリップの洗浄は、上蓋及びトレイとは別々に、ク
リップだけで数十〜数百個単位でまとめて行うのがよ
い。これは前記したように、クリップを上蓋及びトレイ
と同時に洗浄した場合、超音波洗浄槽内で超音波を吸
収、反射し、上蓋やトレイの洗浄を妨げることが懸念さ
れるためである。初めに、クリップをカゴ型の洗浄治具
に納める。洗浄治具の容積、つまり１回で洗浄する数量
は、特に限定されるものではないが、上蓋及びトレイと
同じ洗浄装置を使用するために、前記シャワー洗浄装置
で、ノズルから噴射された洗浄液が充分にかかる領域に
納まる程度がよい。その後は、前記した上蓋及びトレイ
と同じ方法で洗浄を行うのがよい。本発明の洗浄方法
は、上蓋及びトレイの洗浄を主眼とするものであるが、
クリップについても全く同じ方法で、清浄に洗浄するこ
とができる。また、乾燥についても全く同じ方法で完全
に乾燥することができる。

【００３９】さて、これまで詳述してきた洗浄方法にお
いて、極めて重要となるのが洗浄治具の形状である。図
８及び図９はそれぞれペリクル収納容器とクリップの洗
浄に使用する洗浄治具を示したもので、それぞれ（ａ）
は概略正面図、（ｂ）は概略側面図、（ｃ）は概略平面
図である。図１０及び図１１は、それぞれ洗浄治具に上
蓋１０及びトレイ１１を取り付けるための、保持部の概
略平面図であって、（ａ）〜（ｄ）はそれぞれの保持部
に設けた異なる態様の溝を示している。

【００４０】本発明者等は、本発明の超音波洗浄方法及
び脱水方法を達成するために、ペリクル収納容器の上蓋
とトレイを別々に、互いに平行になるように、なおかつ
ペリクル載置面が垂直になるように配置する洗浄治具を
作製した。この洗浄治具は、図８に示すように、ベース
フレーム８２、上蓋保持部８０とトレイ保持部８１を有
する支持フレーム８３、及び搬送のための搬送バー８４
から構成される。上蓋１０とトレイ１１を支持するため
の支持フレーム８３，８３間の間隔８５は、２０〜１０
０ｍｍの範囲とし、上蓋保持部８０とトレイ保持部８１
の数は２〜６カ所とするのがよい。なお、洗浄治具の構
造・形状は、上記した被洗浄ペリクル収納容器を上記配
置で保持することができればよく、図８の形状に限定さ
れるものではない。また、１つの洗浄治具に装着する数
量は、図８の例示では１組となっているが、もちろんこ
れに限定されるものではなく、図８と同様の構造で平行
に配置していけば、複数組の洗浄も充分に可能である。

【００４１】搬送バー８４の形状は、搬送装置との兼ね
合いから決定されるべきであるが、上方より懸架して搬
送する場合は、図８に示すような構造とし、搬送による
ペリクル収納容器１０，１１への異物の付着を防ぐた
め、その両端８６で懸架するのがよい。また、搬送バー
８４は、搬送システムによってベースフレーム８２の下
側から持ち上げて搬送する場合など、必要としない場合
にはこれを省略してもよい。洗浄治具の材質は、その構
成部品毎に、洗浄中に発塵しにくいものの中から適切な
材質を選択すればよい。特にベースフレーム８２、上蓋
またはトレイの支持フレーム８３、搬送バー８４などの
主要構造体に関しては、必要な強度があればその材質を
問わないが、例えば、パイレックスガラス、石英ガラ
ス、ステンレス鋼、チタン及びその合金などが挙げられ
る。また、上蓋及びトレイ保持部８０，８１はペリクル
収納容器１０，１１の傷付きを防ぐために樹脂製にする
とよい。樹脂の種類は、温度、薬液に対して劣化せず、
ペリクル収納容器と接触した際に異物の発生しにくいも
のであればよく、特に限定されるものではないが、例え
ば、ＰＴＦＥ、ＰＥＥＫ、ＰＯＭ等のエンジニアリング
プラスチックを挙げることができる。

【００４２】他方、クリップの洗浄治具は、例えば、図
９に示すように、クリップを収納するクリップ収納カゴ
９０、洗浄中のクリップの流出を防ぐ開閉式の蓋９１、
脱着アタッチメント９２から構成される。脱着アタッチ
メント９２により、図８に示す上蓋及びトレイの洗浄治
具に取り付け、取り外しが可能な構造となっている。ク
リップ洗浄治具は、複数個のクリップが流出しないよう
収容できればよく、開閉式の蓋９１、脱着アタッチメン
ト９２の構造、位置等は、特にこれに限定されるもので
はない。また、図８と同様な構造でクリップ専用の洗浄
治具を作製することももちろん可能であるが、コスト削
減の観点から、望ましくは図９に例示したように、上蓋
及びトレイの洗浄治具に、取り外し可能な構造とするの
がよい。

【００４３】クリップ収納カゴ９０の容積は、特に限定
されるものではないが、上蓋及びトレイと同じ洗浄装置
を使用するのが望ましいため、前記したシャワー洗浄装
置においてノズルから噴射された洗浄液が充分にかかる
大きさとするのがよい。クリップ収納カゴ９０の補強体
９３は、超音波洗浄において、超音波を妨害し、洗浄効
果を低下させることが懸念されるため、補強体９３は直
径０．５〜３ｍｍの丸棒とするのがよく、またクリップ
収納カゴ９０の網目９４は少なくとも５ｍｍ以上とする
のがよい。さらに、これらの構造体の材質は強度、耐食
性、価格からステンレス鋼が望ましい。

【００４４】図１０に図８のＡ部の詳細を示す。上蓋１
０及びトレイ１１の保持部は、洗浄槽への浸漬時及び引
上げ時に上蓋１０またはトレイ１１が脱落しないように
設計されていなければならない。この目的からすれば、
上蓋保持部１００は、その上面に、図１０（ａ）のよう
に、上蓋１０の周縁部に対応する断面形状の溝１０１を
備えたものであればよい。しかし、溝１０１の形状は、
上蓋１０との隙間が狭く液抜き溝がないため、引上げ脱
水時に上蓋１０と上蓋保持部１００の間の脱水が不十分
となり、また温風乾燥時にも温風が通りにくいことと相
まって、乾燥時間の延長を招く。よって、溝１０１は引
上げ脱水時に洗浄液の脱水を妨げない形状が望ましい。
ただし、単純に嵌合部を広くしただけでは上蓋１０の脱
落を招く。そこで種々検討した結果、図１０（ｂ）〜
（ｄ）に示すように、溝１０１の上蓋１０との接触部
に、さらに液抜きを目的とした溝を設けることで、これ
が解決できること見いだした。この液抜き溝の形状は、
（ｂ）に示すような矩形断面の溝１０２に限定されるも
のではなく、例えば、（ｃ）に示すような円弧状断面の
溝１０３、（ｄ）に示すようなＶ型断面の溝１０４な
ど、液抜きの目的が果たせる形状であればよい。

【００４５】トレイ１１についても同様のことがいえ
る。図１１に図８のＢ部の詳細を示す。図１１（ａ）の
トレイ保持部１１０の溝１１１の形状では、トレイ１１
との隙間が狭く液抜き溝がないため、引上げ脱水時に、
トレイ１１とトレイ保持部１１０の間の脱水が不十分と
なり、また、温風乾燥時にも温風が通りにくく、乾燥時
間の延長を招く。そのため、溝１１１のトレイ１１との
接触部に、さらに図１１（ｂ）〜（ｄ）に示すような液
抜きを目的とした溝を設けるのが望ましい。この液抜き
溝の形状は、（ｂ）に示すような矩形断面の溝１１２に
限定されるものではなく、例えば、（ｃ）に示すような
円弧状断面の溝１１３、（ｄ）に示すようなＶ型断面の
溝１１４など、液抜きの目的が果たせる形状であればよ
い。

【００４６】上記各洗浄工程間の搬送手段については、
ペリクル収納容器と洗浄治具の重量が重いうえ工程が長
く、作業者の疲労が甚大であることに加えて、搬送中の
作業者からの異物の付着が懸念される。このため、本発
明の洗浄方法を実施する装置には、自動搬送機構を備え
ることが望ましい。前記した本発明の洗浄方法で使用す
る洗浄装置、脱水装置及び乾燥装置を工程の流れに沿っ
て配置し、これに搬送機構を設けることで、一連の工程
を連続かつ全自動で行う装置にすることができる。図１
２に本発明が適用される洗浄装置の一例を概略平面図で
示す。

【００４７】上記洗浄装置は、図２〜図７に関連して詳
細に説明した、洗浄装置架台１２０上にシャワー洗浄装
置１２１、界面活性剤水溶液を用いる超音波洗浄装置１
２２、純水を用いるシャワー洗浄装置１２３、純水を用
いる超音波洗浄装置１２４、純水を用いるシャワー洗浄
装置１２３、脱水装置１２５及び乾燥装置１２６が順に
配列されている。搬送装置は、搬送アーム１２９，引上
げアーム１３０，揺動アーム１３１、上下方向（引上げ
方向）搬送用の単軸ロボット１３５、左右方向搬送用の
サーボモータ１３２、ボールねじ１３３、直動ガイド１
３７、架台１２７、連結ロッド１３４及びコンベア１２
８から構成される。ペリクル収納容器１０、１１は洗浄
治具１２に取り付けられて工程順に処理・搬送される。

【００４８】この例では、純水を用いる超音波洗浄装置
の揺動アーム１３１（図５の５６に相当）と脱水装置の
引上げアーム１３０（図６の６６に相当）は、共に搬送
アームを兼ねており、純水による超音波洗浄及び引上げ
脱水処理が終了した後は搬送アームとして機能する。各
洗浄装置１２１〜１２４での各洗浄槽及び脱水装置１２
５における上下方向の移動及び脱水槽への搬送は、各洗
浄及び脱水装置毎に配置された単軸ロボット１３５によ
り行われるが、この単軸ロボット１３５は、連結ロッド
１３４によりそれぞれ連結され、サーボモータ１３２の
運転で全ての搬送アームが連動して動く。乾燥装置１２
６前後の搬送手段としてコンベア１２８を例示したが、
もちろんこれに限定されるものではなく、ウオーキング
ビーム型のものや、乾燥装置前後にロボットを配置した
ものでもよい。

【００４９】搬送装置の構成として、上記のような全工
程を一体とした装置の他に、洗浄槽間を個別の独立した
搬送装置で結んだ形式など、種々の形態が挙げられる
が、所望の搬送動作が行えればよく、特に限定されるも
のではない。アクチュエータとしても、汎用ロボットの
組み合わせ、エアーシリンダー、サーボモータとボール
ねじなど、様々なものが使用でき、価格、特性に応じて
使い分ければよい。ただし、被洗浄物への異物の付着を
防ぐため、これらの駆動部は、適切なカバーで周囲から
遮蔽し、その内部を局所排気により、常に周囲よりも負
圧にしておくことが望ましい。

【００５０】搬送装置における洗浄治具１２の支持方法
には、図１３に概略正面図で示したように、（ａ）上方
より懸架するもの、（ｂ）下方より保持するものなどが
挙げられるが、特に限定されるものではない。しかし、
下方から洗浄治具１２を保持する場合、把持アーム１３
９の構造が複雑になることから、望ましくは図１３
（ａ）に示した上方から懸架する方式とするのがよい。
搬送装置側は搬送アーム１２９の下部にフック１３８を
２カ所に設け、洗浄治具側はこれと対応する位置に上部
に搬送バー８４を有する構造となる。このとき、フック
１３８と搬送バー８４の嵌合部は、フック１３８が搬送
バー８４を下方より掬い上げた時、容易に懸架でき、な
おかつ搬送中にペリクル収納容器１０，１１及び洗浄治
具１２が振れない形状とする。このフック１３８と搬送
バー８４の嵌合部の詳細を図１３（ｃ）に示す。フック
１３８と搬送バー８４は、容易に懸架でき、なおかつ搬
送中の安定性を高くするために、相互の嵌合部分をテー
パー状とし、その角度βは３０〜７５°の範囲内とする
のがよい。

【００５１】

【実施例】以下、本発明の洗浄方法を、実施例及び比較
例を挙げて説明する。（実施例１）「クラス１０」のクリーンルーム内に置か
れた、図１２に示したのと同様の洗浄装置を用いて本発
明の洗浄方法を行った。先ず、ペリクル収納容器の上蓋
１０及びトレイ１１を図８に示す構造の洗浄治具１２に
取り付け、図２に示すシャワー洗浄装置を用いて、流量
をノズル１本あたり４Ｌ／分、圧力を０．３ＭＰａとし
て５分間の洗浄を行った。次に、図３に示す超音波洗浄
装置を用いて、界面活性剤：クリーンエースＳ（前出）
を１０％の濃度で純水に溶解したものを洗浄液として、
５分間の超音波洗浄を行った。このとき、洗浄液は、温
度を３０℃で一定に制御しながら、槽容量５０Ｌに対し
て流量４０Ｌ／分で循環させた。超音波洗浄機には、４
周波混合型超音波洗浄機：発振器ＵＯ１２００ＦＸ１−
Ｐ（前出）を使用し、音圧強度５０ｋＰａで超音波を照
射した。次に、図４に示すシャワー洗浄装置を用いて純
水を吹き付け、界面活性剤をペリクル収納容器１０、１
１及び洗浄治具１２の表面から洗い流した。流量はノズ
ル１本あたり２Ｌ／分、圧力は０．０５ＭＰａとして１
分間の洗浄を行った。

【００５２】これにより界面活性剤を除去した後、図５
に示す超音波洗浄装置を用いて純水中で超音波洗浄を行
った。洗浄槽の容量５０Ｌに対し、４０Ｌ／分の流量で
純水を循環させながら、純水装置から純水を１０Ｌ／分
の流量で供給した。純水の温度は３０℃とし、５分間の
洗浄を行った。超音波洗浄機には上記と同じものを使用
し、音圧強度５０ｋＰａの条件で超音波を照射した。さ
らに、駆動機構５９と揺動アーム５６とからなる揺動装
置を用いて、洗浄中、ペリクル収納容器１０，１１を洗
浄治具１２とともに、１回／分の頻度、速度５０ｍｍ／
秒で揺動させた。次に、図４に示すシャワー洗浄装置を
用いて純水を吹き付け、ペリクル収納容器１０，１１の
表面に残っていた気泡を完全に除去した。流量をノズル
１本あたり２Ｌ／分、圧力は０．０５ＭＰａとして１分
間の洗浄を行った。

【００５３】このようにして洗浄が終了した後、図６に
示す脱水装置を用いて、ペリクル収納容器１０，１１の
全体を純水中に浸漬した後、洗浄治具１２とともにゆっ
くり引上げて脱水を行った。このとき、洗浄治具１２の
水面に対する傾斜角αは１０°とし、引上げ速度は１ｍ
ｍ／秒で一定とした。純水の温度は３５℃とし、脱水槽
６０の体積５０Ｌに対して流量４０Ｌ／分で循環させな
がら、給水管４８から純水を流量１０Ｌ／分で供給し
た。乾燥は、図７に示す構造の温風乾燥機を用い、流速
１．０ｍ／秒、温度７０℃の条件で１０分間行った。上
記のようにして、洗浄及び乾燥を行ったペリクル収納容
器５０個の上蓋１０とトレイ１１の内側を、暗室内にて
４０万ルクスの集光ランプで目視検査した。その結果、
５０個全てにおいて目視で確認できる異物は全く残って
いなかった。

【００５４】（比較例１）界面活性剤：クリーンエースＳ（前出）の１０％水溶液
をポリビニルアルコール製の不織布：ベルクリン（井内
盛栄堂社製、商品名）に浸潤させ、手作業でペリクル収
納容器の上蓋１０とトレイ１１の全表面をくまなくスク
ラブ洗浄し、純水ですすいだ後、図１４［（ａ）は概略
正面図、（ｂ）は概略側面図、（ｃ）は概略平面図であ
る］に示すパイレックスガラス製の洗浄治具１２の２つ
の槽１４２、１４３内にそれぞれ収容した。この洗浄治
具１２をペリクル収納容器１０、１１ごと、図１５
［（ａ）は概略正面図、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ要部
の概略側面図及び概略平面図である］に示す超音波洗浄
装置の洗浄槽１５０内に装入し、図３に示した超音波洗
浄装置を用いて、上記実施例と同じ条件、方法で、界面
活性剤の１０％純水溶液による超音波洗浄を行った。そ
の後、同じ超音波洗浄装置を用いて、純水中で１０分の
超音波洗浄を行った。洗浄液が純水であることと、純水
装置（図示せず）から純水を１０Ｌ／分の流量で供給す
ることを除き、洗浄装置の仕様及び洗浄条件は、上記し
た洗浄液が界面活性剤の場合と同じである。洗浄を終え
たペリクル収納容器１０、１１は、洗浄治具１２に入れ
たまま床面からの高さが１３００ｍｍの台上に放置し、
異物が付着しないように周囲に注意しながら５時間かけ
て自然乾燥させた。なお、本比較例における全ての作業
は「クラス１０」のクリーンルーム内で行った。

【００５５】洗浄・乾燥を終えたそれぞれ５０個の上蓋
１０とトレイ１１の内側を、暗室内にて４０万ルクスの
集光ランプで目視検査した。その結果、５０個全てにお
いて目視で確認できる異物は全く残っていなかった。さ
らに、洗浄を施したペリクル収納容器にペリクルを収納
し輸送を行った場合に、ペリクルに異物の付着がないか
の確認試験を行った。異物が全く付着していないことを
確認したペリクルを、上記実施例及び本比較例で洗浄し
たそれぞれのペリクル収納容器に各５０個収納した。そ
れぞれのペリクル収納容器の周囲をクッション材で覆っ
て、各５個ずつを同一のダンボール箱に梱包し、２００
ｋｍの距離をトラック便にて往復輸送した。その後、ク
リーンルーム内でペリクルをペリクル収納容器から取り
だし、日立電子エンジニアリング社製のレーザー表面検
査装置及び４０万ルクスの集光ランプを使用した目視検
査にて、ペリクル膜面のみならずペリクルフレームの内
壁及び外壁について異物検査を行った。その結果、本比
較例で洗浄したペリクル収納容器については、５０個の
サンプルのうち、４個のペリクル膜面に０．５〜１μｍ
の大きさの異物の付着が認められたが、実施例１で洗浄
したペリクル収納容器には、５０個のサンプル全数にお
いて異物の付着は全く見られなかった。

【００５６】（比較例２）５０個のペリクル収納容器に
ついて、前記実施例と同様にして洗浄を行い、脱泡を目
的としたシャワー洗浄及び脱水作業を行わずに、純水に
よる超音波洗浄後直ちに温風乾燥機で乾燥した。その結
果、１０分で乾燥できたのはサンプル５０個中、１個も
なかった。

【００５７】（比較例３）５０個のペリクル収納容器に
ついて、上蓋保持部が図１０（ａ）に示す形状で、トレ
イ保持部が図１１（ａ）に示す形状の、図８に示す構造
の洗浄治具を使用し、前記実施例と全く同様にして、洗
浄〜乾燥までの一連の処理を行った。乾燥後、上蓋１０
を検査したところ、５０個のサンプル中、２４個につい
て、上蓋保持部８０との接触部に水滴の残留が認められ
た。また、トレイにおいては５０個のサンプル中、３８
個について、トレイ保持部８１との接触部に水滴の残留
が認められた。

【００５８】

【発明の効果】本発明によれば、ペリクル収納容器の表
面をきわめて清浄に洗浄することができる。また、ペリ
クル収納容器の洗浄から乾燥までの一連の作業を連続で
行うことが可能となり、きわめて高い生産性が達成され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が対象とする一般的なペリクル収納容
器を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ矢
視線にそう縦断面図である。

【図２】本発明で使用するシャワー洗浄装置の一例を
示すもので、（ａ）は概略正面図、（ｂ）、（ｃ）はそ
れぞれ要部の概略側面図及び概略平面図である。

【図３】本発明で使用する、洗浄液として界面活性剤
水溶液を用いる超音波洗浄装置の一例を示すもので、
（ａ）は概略正面図、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ要部の
概略側面図及び概略平面図である。

【図４】本発明で使用する、洗浄液として純水を用い
るシャワー洗浄装置の一例を示すもので、（ａ）は概略
正面図、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ要部の概略側面図及
び概略平面図である。

【図５】本発明で使用する、洗浄液として純水を用い
る超音波洗浄装置の一例を示すもので、（ａ）は概略正
面図、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ要部の概略側面図及び
概略平面図である。

【図６】本発明で使用する脱水装置の一例を示す概略
正面図である。

【図７】本発明で使用する乾燥装置の一例を示す概略
正面図である。

【図８】本発明で使用するペリクル収納容器の洗浄治
具の一例を示し、（ａ）は概略正面図、（ｂ）は概略側
面図、（ｃ）は概略平面図である。

【図９】本発明で使用するクリップ洗浄治具の一例を
示し、（ａ）は概略正面図、（ｂ）は概略側面図、
（ｃ）は概略平面図である。

【図１０】洗浄治具に上蓋を取り付ける保持部の概略
平面図を示し、（ａ）〜（ｄ）はそれぞれ保持部に設け
た溝の異なる態様を示す。

【図１１】洗浄治具にトレイを取り付ける保持部の概
略平面図を示し、（ａ）〜（ｄ）はそれぞれ保持部に設
けた溝の異なる態様を示す。

【図１２】本発明が適用される洗浄装置の一例を示す
概略平面図である。

【図１３】本発明で使用する洗浄治具の搬送形態を示
し、（ａ）、（ｂ）はそれぞれ異なる態様の洗浄治具の
概略正面図であり、（ｃ）は（ａ）のフックと搬送バー
の嵌合部の詳細を示す。

【図１４】比較例１において使用したペリクル収納容
器の洗浄治具を示し、（ａ）は概略正面図、（ｂ）は概
略側面図、（ｃ）は概略平面図である。

【図１５】比較例１において使用した超音波洗浄装置
を示し、（ａ）は概略正面図、（ｂ）、（ｃ）はそれぞ
れ要部の概略側面図及び概略平面図である。

【符号の説明】

１：上蓋、２：トレイ、３：クリップ、１０：（ペ
リクル収納容器の）上蓋、１１：（ペリクル収納容器
の）トレイ、１２：洗浄治具、２０，３０，４０，５
０，１５０：洗浄槽、２１，３１，５１，１５１：洗浄
液、２２，４２：ノズル、２３，３３，４３，５３，
６３，７３，７７，１５３：フィルター、２４，３４，
５４，６４，７４，１５４：ヒーター、２５，３５，４
５，５５，６５，１５５：ポンプ、２６，４６：カバ
ー、２７，３７，４７，５７，６７，１５７：配管、３
２，１５２：超音波振動板、４１，６１：純水、４
８：給水管、４９：排水管、５６：揺動アーム、５
８，６８：支持部、５９，６９：駆動機構、６０：脱
水槽、６２：液面、６６：引上げアーム、α：洗浄治
具の液面からの傾斜角度、７２：乾燥庫、７５：循環
ファン、７６：外気導入ファン、７８：矢印８０：上蓋保持部、８１：トレイ保持部、８２：ベ
ースフレーム、８３：支持フレーム、８４，１４１：
搬送バー、８５：間隔、８６：両端（搬送時の懸架位
置）、９０：クリップ収納カゴ、９１：開閉式の蓋、
９２：脱着アタッチメント、９３：補強体、９４：
網目、１００：上蓋保持部、１０１，１１１：（液抜
き溝の無い）溝、１０２，１１２：矩形断面の液抜き
溝、１０３，１１３：円弧状断面の液抜き溝、１０４，
１１４：Ｖ型断面の液抜き溝、１１０：トレイ保持
部、１２０：洗浄装置架台、１２１：シャワー洗浄装
置、１２２：界面活性剤水溶液を用いる超音波洗浄装
置、１２３：純水を用いるシャワー洗浄装置、１２４：
純水を用いる超音波洗浄装置、１２５：脱水装置、１
２６：乾燥装置、１２７：搬送装置架台、１２８：
コンベア、１２９：搬送アーム、１３０：引上げアー
ム、１３１：揺動アーム、１３２：サーボモータ、
１３３：ボールネジ、１３４：連結ロッド、１３５：
単軸ロボット、１３６：シャッター、１３７：直動ガ
イド、１３８：フック、１３９：把持アーム、β：
フックと搬送バーの嵌合部のテーパー角度、１４２，１
４３：槽、

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H095 BB21 BB23 BB30 3B116 AA46 AB39 BB02 BB23 BB33 BB62 BB83 CC01 CC03 3B201 AA46 AB40 AB44 BB02 BB03 BB04 BB23 BB33 BB62 BB92 BB93 CB15 CC01 CC12 5F046 AA28

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】洗浄液をノズルから吹き付けるシャワー
洗浄、界面活性剤水溶液中での超音波洗浄、及び純水中
での超音波洗浄を順次行った後、脱水及び乾燥を行うこ
とを特徴とするペリクル収納容器の洗浄方法。
【請求項２】界面活性剤水溶液中での超音波洗浄と純
水中での超音波洗浄の間に、ノズルから純水を吹き付け
るシャワー洗浄が行われる請求項１に記載のペリクル収
納容器の洗浄方法。
【請求項３】純水中での超音波洗浄と脱水の間に、ノ
ズルから純水を吹き付けるシャワー洗浄が行われる請求
項１に記載のペリクル収納容器の洗浄方法。
【請求項４】純水中での超音波洗浄中に、０．５〜５
分毎に１回の頻度で、洗浄治具に収容したペリクル収納
容器が完全に液中より出る高さまで、洗浄治具ごと揺動
させる請求項１乃至３の何れかに記載のペリクル収納容
器の洗浄方法。
【請求項５】超音波洗浄に際し、２０〜５０ｋＨｚの
範囲内の少なくとも２つの周波数が同時に混合された超
音波を用いる請求項１乃至４の何れかに記載のペリクル
収納容器の洗浄方法。
【請求項６】超音波洗浄に際し、周波数が２０〜５０
ｋＨｚの範囲内において少なくとも３ｋＨｚ以上の帯域
幅で連続して変調が繰り返される超音波を用いる請求項
１乃至４の何れかに記載のペリクル収納容器の洗浄方
法。
【請求項７】脱水に際し、完全に純水中に浸漬された
ペリクル収納容器を、そのペリクル載置面が垂直で、か
つペリクル収納容器の上縁が液面に対し２〜１５°の範
囲内の角度に傾斜させた状態で、上方に引上げ脱水する
請求項１に記載のペリクル収納容器の洗浄方法。
【請求項８】液面からの引上げが、０．５〜２０ｍｍ
／秒の範囲の引上げ速度で行われる請求項７に記載のペ
リクル収納容器の洗浄方法。
【請求項９】乾燥に際し、温度が５０〜７０℃の空気
を、ＵＬＰＡフィルターを介して流速０．５ｍ／秒以上
で吹き付けて乾燥する請求項１に記載のペリクル収納容
器の洗浄方法。
【請求項１０】洗浄から乾燥までの一連の処理が連続
でなされる請求項１に記載のペリクル収納容器の洗浄方
法。
【請求項１１】ペリクル収納容器が自動搬送される請
求項１０に記載のペリクル収納容器の洗浄方法。
【請求項１２】ペリクル収納容器の構成部品である上
蓋とトレイを、それぞれ別々にペリクル載置面を垂直に
して、かつペリクル載置面に対し垂直の方向に２０〜１
００ｍｍの間隔で２〜６ヶ所に設けた保持部で保持する
ことを特徴とするペリクル収納容器の洗浄治具。
【請求項１３】保持部が、ペリクル収納容器の構成部
品である上蓋及びトレイとの接触部に、液抜きを目的と
した溝を有する請求項１２に記載のペリクル収納容器の
洗浄治具。