JP2001084653A - Manufacture of optical information recording medium - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は2枚の基板を貼り合
わせてなる記録可能な光学的情報記録媒体の製造方法に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a recordable optical information recording medium obtained by bonding two substrates.
【0002】[0002]
【従来の技術】レーザ光線を利用して高密度な情報の再
生あるいは記録を行う技術は公知であり、主に光ディス
クとして実用化されている。光ディスクは再生専用型、
追記型、書き換え型に大別することができる。再生専用
型は音楽情報を記録したコンパクトディスクや画像情報
を記録したレーザディスク等として、また追記型は文書
ファイルや静止型ファイル等として商品化されている。
現在では書き換え型を中心に研究開発が進められてお
り、パソコン用のデータファイル等として商品化されつ
つある。2. Description of the Related Art Techniques for reproducing or recording high-density information using a laser beam are known, and are mainly put to practical use as optical disks. The optical disk is a read-only type,
It can be broadly divided into write-once type and rewritable type. The reproduction-only type is commercialized as a compact disk recording music information or a laser disk recording image information, and the write-once type is commercialized as a document file or a static file.
At present, research and development are being conducted mainly on rewritable types, and are being commercialized as data files for personal computers.
【0003】光ディスクの形態としては厚さ1.2mm
の透明樹脂基板の一方の主面に情報層を設け、その上に
オーバコート等の保護層を設けたもの、あるいは基板と
同一の保護板を接着剤により貼り合わせたものが一般的
である。[0003] The optical disk has a thickness of 1.2 mm.
In general, an information layer is provided on one main surface of a transparent resin substrate, and a protective layer such as an overcoat is provided thereon, or the same protective plate as the substrate is bonded with an adhesive.
【0004】また近年光ディスクの高密度化を目的にレ
ーザ波長を短く、かつ開口数(NA)の大きな対物レン
ズを使用する検討がなされている。しかし短波長化と高
NA化はレーザ光の投入方向に対するディスクの傾き角
度(チルト)の許容値を小さくする。チルトの許容値を
大きくするには基板厚さを薄くすることが有効であり、
例えばデジタルビデオディスク(DVD)では基板厚さ
を0.6mmとしている。厚さ0.6mmの樹脂基板は
単板では機械的強度が弱いために、情報記録面を内側に
して2枚に基板を貼り合わせた構造にする。In recent years, studies have been made to use an objective lens having a short laser wavelength and a large numerical aperture (NA) for the purpose of increasing the density of an optical disk. However, shortening the wavelength and increasing the NA decrease the allowable value of the tilt angle (tilt) of the disk with respect to the direction in which the laser beam is input. In order to increase the allowable value of tilt, it is effective to reduce the thickness of the substrate.
For example, a digital video disk (DVD) has a substrate thickness of 0.6 mm. Since the resin substrate having a thickness of 0.6 mm is a single plate having low mechanical strength, the resin substrate has a structure in which two substrates are bonded with the information recording surface inside.
【0005】貼り合わせ工法として、紫外線UV樹脂を
基板上に塗布し、他の基板を密着してUV照射して硬化
させる方法、ホットメルト樹脂を貼り合わせ面側に塗布
した後密着する方法、粘着シート(両面テープ)で貼り
合わせる方法、カチオン重合系の樹脂を主成分とするU
V樹脂をスクリーン印刷等によって、例えば20μmの
厚さで貼り合わせ面側に塗布し、紫外線を照射して粘着
性を発現させた後密着し、硬化が完了するまで養生する
遅効性UV法がある。[0005] As a laminating method, a method of applying an ultraviolet UV resin on a substrate, closely irradiating another substrate with UV irradiation, and curing, a method of applying a hot melt resin on the laminating surface side and then closely bonding, A method of bonding with a sheet (double-sided tape), U mainly composed of a cationic polymerization resin
There is a slow-acting UV method in which a V resin is applied to the bonding surface side with a thickness of, for example, 20 μm by screen printing or the like, irradiated with ultraviolet rays to develop adhesiveness, adhered, and cured until curing was completed. .
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、厚さ
0.6mmのような薄型基板を用いた場合、書き換え可
能な記録媒体を得るように薄膜層を成膜すると、基板の
反りが大きく、かつばらつく場合があることがわかっ
た。これは厚さ1.2mmの基板を用いる場合には見ら
れなかった課題であり、また再生専用型のように金属反
射層(Al、Au等)のみを成膜した場合には、見られ
なかった課題である。However, when a thin substrate having a thickness of 0.6 mm is used, if the thin film layer is formed so as to obtain a rewritable recording medium, the warpage of the substrate is large, and the substrate varies. Turns out there are cases. This is a problem that was not observed when a substrate having a thickness of 1.2 mm was used, and was not observed when only a metal reflective layer (such as Al or Au) was formed as in a read-only type. Is a challenge.
【0007】その原因は成形後の基板の冷却過程におい
て基板内部に応力が残存するが、基板が薄いために反り
を生ずる。また成形後の基板の冷却過程において基板の
温度変化により基板が薄いために反りを生ずる。また書
き換え可能型では記録膜とさらに記録膜を保護する誘電
体層を形成するが、誘電体層の成膜によって大きな内部
応力を発生するため機械的強度の弱い基板を反らすため
と考えられる。また誘電体層の成膜後の冷却過程におい
て基板の温度変化により基板が薄いために基板を反らす
ためと考えられる。The cause is that stress remains inside the substrate in the process of cooling the substrate after molding, but the substrate is warped because it is thin. Further, in the cooling process of the substrate after the molding, the substrate is thin due to a change in the temperature of the substrate, so that the substrate is warped. In the rewritable type, a recording film and a dielectric layer for further protecting the recording film are formed. However, it is considered that a large internal stress is generated by the formation of the dielectric layer, so that a substrate having low mechanical strength is warped. It is also considered that the substrate is warped because the substrate is thin due to a temperature change of the substrate in a cooling process after the formation of the dielectric layer.
【0008】このような大きな反りを有する基板を用い
て貼り合わせ、光ディスクを作製した場合、光ディスク
も大きな反り(チルト)を持ち、結果として実用的でな
くなる。When an optical disk is manufactured by bonding using such a substrate having a large warp, the optical disk also has a large warp (tilt), and as a result, is not practical.
【0009】本発明は上記従来の光ディスクの課題を解
決するためになされたものであり、0.6mm程度の記
録薄膜層を有する基板を2枚貼り合わせした片面記録再
生型および両面記録再生型でもチルトが小さく平坦な光
学的情報記録媒体を製造する方法を提供することを目的
とするものである。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the conventional optical disk, and is applicable to a single-sided recording / reproducing type and a double-sided recording / reproducing type in which two substrates having a recording thin film layer of about 0.6 mm are bonded together. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a flat optical information recording medium having a small tilt.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は第1の基板およ
び第2の基板を形成する工程と、少なくとも前記第1の
基板の一方の主面に少なくともレーザ光線等の照射によ
って情報が記録できる記録層を成膜する工程と、前記第
1の基板と前記第2の基板を対向させて貼り合わせる工
程を備えた光学的情報記録媒体の製造方法であって、前
記第1の基板および前記第2の基板のうち少なくとも記
録層が成膜された基板を加熱された状態で貼り合わせる
ことを特徴とする光学的情報記録媒体の製造方法で上記
目的を達成する。According to the present invention, information can be recorded by forming a first substrate and a second substrate and irradiating at least one main surface of the first substrate with a laser beam or the like. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising: a step of forming a recording layer; and a step of bonding the first substrate and the second substrate so as to face each other, wherein the first substrate and the second The above object is achieved by a method for manufacturing an optical information recording medium, characterized in that a substrate on which at least a recording layer is formed among two substrates is bonded in a heated state.
【0011】第2の手段として、第1の基板および第2
の基板を形成する工程と、少なくとも前記第1の基板の
一方の主面に少なくともレーザ光線等の照射によって情
報が記録できる記録層を成膜する工程と、前記第1の基
板と前記第2の基板を対向させて貼り合わせる工程を備
えた光学的情報記録媒体の製造方法であって、前記第1
の基板および前記第2の基板のうち少なくとも記録層が
成膜された基板を冷却された状態で貼り合わせることを
特徴とする光学的情報記録媒体の製造方法で上記目的を
達成する。As a second means, a first substrate and a second substrate
Forming a recording layer on which information can be recorded by irradiating at least a laser beam or the like on at least one main surface of the first substrate; and forming the first substrate and the second substrate. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising: a step of bonding substrates while facing each other.
The above object is attained by a method for manufacturing an optical information recording medium, wherein a substrate on which at least a recording layer is formed of the second substrate and the second substrate is bonded in a cooled state.
【0012】第3の手段として、第1の基板および第2
の基板を形成する工程と、少なくとも前記第1の基板の
一方の主面に少なくともレーザ光線等の照射によって情
報が記録できる記録層を成膜する工程と、少なくとも前
記第1の基板の記録層上にオーバーコートを設ける工程
と、前記第1の基板と前記第2の基板を対向させて貼り
合わせる工程を備えた光学的情報記録媒体の製造方法で
あって、前記第1の基板および前記第2の基板のうち少
なくとも記録層が成膜された基板を加熱された状態で貼
り合わせることを特徴とする光学的情報記録媒体の製造
方法で上記目的を達成する。As a third means, a first substrate and a second substrate
Forming a recording layer on which information can be recorded by irradiating at least a laser beam on at least one main surface of the first substrate; and forming at least a recording layer on the first substrate. A method of manufacturing an optical information recording medium, comprising the steps of: providing an overcoat on a substrate; and bonding the first substrate and the second substrate so as to face each other. The above object is achieved by a method for manufacturing an optical information recording medium, characterized in that a substrate on which at least a recording layer is formed is bonded in a heated state.
【0013】第4の手段として、第1の基板および第2
の基板を形成する工程と、少なくとも前記第1の基板の
一方の主面に少なくともレーザ光線等の照射によって情
報が記録できる記録層を成膜する工程と、少なくとも前
記第1の基板の記録層上にオーバーコートを設ける工程
と、前記第1の基板と前記第2の基板を対向させて貼り
合わせる工程を備えた光学的情報記録媒体の製造方法で
あって、前記第1の基板および前記第2の基板のうち少
なくとも記録層が成膜された基板を冷却された状態で貼
り合わせることを特徴とする光学的情報記録媒体の製造
方法で上記目的を達成する。As fourth means, a first substrate and a second substrate
Forming a recording layer on which information can be recorded by irradiating at least a laser beam on at least one main surface of the first substrate; and forming at least a recording layer on the first substrate. A method of manufacturing an optical information recording medium, comprising the steps of: providing an overcoat on a substrate; and bonding the first substrate and the second substrate so as to face each other. The above object is achieved by a method for manufacturing an optical information recording medium, wherein a substrate having at least a recording layer formed thereon is bonded in a cooled state.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を説明
する。Embodiments of the present invention will be described below.
【0015】繰り返すと、DVDのような厚さ0.6m
mの薄型基板を用いた場合、書き換え可能な記録媒体を
得るように薄膜層を成膜すると、基板が大きく反る場合
があることが分かった。原因は成形後の基板の冷却過程
において基板内部に応力が残存するが、基板が薄いため
に反りを生ずる。また成形後の基板の冷却過程において
基板の温度変化により基板が薄いために反りを生ずる。
また書き換え可能型では記録膜とさらに記録膜を保護す
る誘電体層を形成するが、誘電体層の成膜によって大き
な内部応力を発生するため機械的強度の弱い基板を反ら
すためと考えられる。また誘電体層の成膜後の冷却過程
において基板の温度変化により基板が薄いために基板を
反らすためと考えられる。[0015] If it repeats, thickness 0.6m like DVD
When a thin substrate having a thickness of m was used, it was found that when a thin film layer was formed so as to obtain a rewritable recording medium, the substrate could be greatly warped. The cause is that stress remains inside the substrate during the cooling process of the substrate after molding, but the substrate is warped because the substrate is thin. Further, in the cooling process of the substrate after the molding, the substrate is thin due to a change in the temperature of the substrate, so that the substrate is warped.
In the rewritable type, a recording film and a dielectric layer for further protecting the recording film are formed. However, it is considered that a large internal stress is generated by the formation of the dielectric layer, so that a substrate having low mechanical strength is warped. It is also considered that the substrate is warped because the substrate is thin due to a temperature change of the substrate in a cooling process after the formation of the dielectric layer.
【0016】書き換え可能な記録媒体の一般的な構造
は、ポリカーボネイト等の透明基板上に記録層を誘電体
層でサンドイッチして設け、さらに必要に応じて反射層
を設ける。誘電体層は侵入してくる水分や酸素から記録
層を保護し、また信号記録時に記録層が高温に達するた
め基板がダメージを受けるのを保護する等の働きがあ
り、書き換え可能な記録媒体ではほとんどの場合必須で
ある。The general structure of a rewritable recording medium is such that a recording layer is provided on a transparent substrate such as polycarbonate by sandwiching the recording layer with a dielectric layer and, if necessary, a reflective layer is provided. The dielectric layer protects the recording layer from invading moisture and oxygen, and also protects the substrate from being damaged due to the high temperature of the recording layer during signal recording. Required in most cases.
【0017】誘電体層の材料としては、金属や半金属の
酸化物、窒化物、カルコゲン化物、フッ化物、炭化物等
およびこれらの混合物、具体的にはSiO2,SiO,Al2O3,GeO
2,In 2O3,Ta2O5,TeO2,TiO2,MoO3,WO3,ZrO2,Si3N4,Ge3N4,
AlN,BN,TiN,ZnS,CdS,CdSe,ZnSe,ZnTe,AgF,PbF2,MnF2,Ni
F2,SiCの単体あるいはこれらの混合物等、さらにはダイ
ヤモンド薄膜、ダイヤモンドライクカーボン等が使用で
きる。As the material of the dielectric layer, metal or semimetal
Oxides, nitrides, chalcogenides, fluorides, carbides, etc.
And mixtures thereof, specifically SiOTwo, SiO, AlTwoOThree, GeO
Two, In TwoOThree, TaTwoOFive, TeOTwo, TiOTwo, MoOThree, WOThree, ZrOTwo, SiThreeNFour, GeThreeNFour,
AlN, BN, TiN, ZnS, CdS, CdSe, ZnSe, ZnTe, AgF, PbFTwo, MnFTwo, Ni
FTwo, SiC alone or a mixture of these,
Uses diamond thin film, diamond-like carbon, etc.
Wear.
【0018】また記録膜材料としては相変化記録材料の
場合GeSbTe,InSbTe,InSbTeAg,GaSb,InGaSb,GeSnTe,AgSb
Te等の合金が使用できる。さらに他のメカニズムにより
記録される材料でもよい。In the case of a phase change recording material, GeSbTe, InSbTe, InSbTeAg, GaSb, InGaSb, GeSnTe, AgSb
Alloys such as Te can be used. Further, a material recorded by another mechanism may be used.
【0019】上記誘電体層や記録層の成膜はスパッタ法
や真空蒸着法等が使用できる。The dielectric layer and the recording layer can be formed by a sputtering method or a vacuum evaporation method.
【0020】ところで、上記課題に対し、基板内部の応
力、あるいは薄膜層の応力は、貼り合わせ前にアニール
処理すると応力が低減できることは、公知である。しか
しながら基板の反りは前記アニール処理では、低減でき
なかった。このような大きな反りを有する基板を用いて
貼り合わせ、光ディスクを作製した場合、光ディスクも
大きな反り(チルト)を持ち、結果として実用的でなく
なる。Meanwhile, it is known that the stress in the substrate or the stress in the thin film layer can be reduced by annealing before the bonding for the above-mentioned problem. However, the warpage of the substrate could not be reduced by the annealing treatment. When an optical disc is manufactured by bonding using a substrate having such a large warp, the optical disc also has a large warp (tilt), and as a result, is not practical.
【0021】発明者らは、上記課題を解決するためには
大きな反りを有した基板を加熱あるいは冷却し、チルト
を制御した状態で貼り合わせれば、作製された光ディス
クのチルトを小さく抑制できるということを見いだし
た。In order to solve the above-mentioned problems, the inventors have found that if a substrate having a large warp is heated or cooled and bonded together while controlling the tilt, the tilt of the manufactured optical disk can be suppressed to a small value. Was found.
【0022】すなわち薄膜層の成膜過程で反った基板
は、加熱あるいは冷却によって、そのチルトが大きく変
化させることができることを見いだした。これは、樹脂
基板と薄膜層の熱膨張率が異なるため、いわゆるバイメ
タル効果によるものと考えられる。温度制御によってチ
ルトを小さく抑えられた基板による貼り合わせでは完成
したディスクのチルトも小さくなる。That is, it has been found that the tilt of a substrate warped in the process of forming a thin film layer can be largely changed by heating or cooling. This is considered to be due to the so-called bimetal effect because the thermal expansion coefficients of the resin substrate and the thin film layer are different. In the case of bonding with a substrate whose tilt is suppressed to be small by the temperature control, the tilt of the completed disc also becomes small.
【0023】また、貼り合わせる前の基板のチルトがあ
まり小さい場合(基板が平坦)にも完成ディスクのチル
トが大きくなる場合があるが、この場合にも基板の温度
制御を行い、基板に若干のチルトを持たせて(薄膜層側
が凸になる方向)貼り合わせるとディスクのチルトを小
さく抑えることができる場合がある。Also, when the tilt of the substrate before bonding is too small (the substrate is flat), the tilt of the finished disk may be large. In this case, too, the temperature of the substrate is controlled to give a slight When the discs are attached with a tilt (in a direction in which the thin film layer becomes convex), the tilt of the disc can sometimes be reduced.
【0024】以下本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0025】[0025]
【実施例】(実施例1)ここでは信号記録用の案内溝が
設けられた表面に少なくとも誘電体層と記録層を積層し
た構成(以下、積層情報記録層)を設けた厚さ0.6m
mの第1の基板と、積層情報記録層を有しない第2の基
板を加熱しながら貼り合わせる片面記録再生型ディスク
の製造方法について説明する。(Example 1) Here, a structure in which at least a dielectric layer and a recording layer are laminated (hereinafter referred to as a laminated information recording layer) on a surface provided with a guide groove for signal recording is 0.6 m thick.
A method for manufacturing a single-sided recording / reproducing disk, in which a first substrate having a thickness of m and a second substrate having no laminated information recording layer are bonded while being heated, will be described.
【0026】図1の基板11、12は同一でありインジ
ェクション法により作製した厚さ0.6mm、直径12
0mm、中心穴径15mmのポリカーボネイト基板であ
り、上面に信号記録用の案内溝が設けてある。The substrates 11 and 12 in FIG. 1 are the same, and have a thickness of 0.6 mm and a diameter of 12 manufactured by the injection method.
This is a polycarbonate substrate having a diameter of 0 mm and a center hole diameter of 15 mm, and a guide groove for signal recording is provided on the upper surface.
【0027】基板11上には積層情報記録層13を設け
る。積層情報記録層13としては基板1上にスパッタ法
により誘電体層であるZnS−SiO2層(ZnSとS
iO2の混合物からなる誘電体層)を110nm、レー
ザー照射によってアモルファスと結晶間で可逆的に状態
変化をする相変化型の記録層(GeSbTe合金)を3
0nm、ZnS−SiO2層を20nm、反射層である
Al膜を100nm積層した。The laminated information recording layer 13 is provided on the substrate 11. As the laminated information recording layer 13, a ZnS—SiO 2 layer (ZnS and S
110 nm of a dielectric layer made of a mixture of iO 2 , and 3 of a phase-change type recording layer (GeSbTe alloy) which reversibly changes state between amorphous and crystalline by laser irradiation.
0 nm, a ZnS-SiO 2 layer of 20 nm, and an Al film as a reflection layer of 100 nm were laminated.
【0028】貼り合わせ装置の構成は、図2のレベリン
グ工程および図3の硬化工程からなる。図2の下面パレ
ット21に基板11を載せ上面パレット22に基板12
を載せる。なおそれぞれの基板11,12は真空により
吸着されている。その後、下面パレット21を回転させ
ながら基板11と基板12の間に樹脂塗布ノズル23を
挿入し、樹脂231を塗布する。The structure of the bonding apparatus includes the leveling step shown in FIG. 2 and the curing step shown in FIG. The substrate 11 is placed on the lower pallet 21 of FIG.
Put. The substrates 11 and 12 are sucked by vacuum. Thereafter, the resin application nozzle 23 is inserted between the substrate 11 and the substrate 12 while rotating the lower pallet 21 to apply the resin 231.
【0029】その後上面パレット22の真空を解除し、
高速でスピンを行い、樹脂231のレベリングを行う。Thereafter, the vacuum on the upper pallet 22 is released,
Spin at a high speed to level the resin 231.
【0030】次に図3の硬化工程に移動し、硬化パレッ
ト31に載せ、紫外線ランプ32を照射し接着剤を硬化
させディスクを完成させる。この硬化工程において、硬
化パレット31を70℃に加熱した後、基板を載せ加熱
しながら硬化を行う。加熱の手段としては、熱電対等を
巻き加熱させる。上記加熱しながら硬化させる方法で貼
り合わせしたディスクと、比較のために基板を加熱しな
いディスク2種類の貼り合わせを行った。Next, the process proceeds to the curing step shown in FIG. 3, and is placed on the curing pallet 31 and irradiated with an ultraviolet lamp 32 to cure the adhesive, thereby completing the disk. In this curing step, after the curing pallet 31 is heated to 70 ° C., the substrate is placed and cured while being heated. As a heating means, a thermocouple or the like is wound and heated. Two types of disks were bonded together by a method in which the disk was bonded by the method of curing while heating and a disk in which the substrate was not heated for comparison.
【0031】次に上記2種類のディスクの反り角を測定
した。なお、反り角は図4のように定義した。基板41
をその中心近傍で水平になるように支持台42に保持
し、直径約1mmの平行光に整形したレーザー光43を
下方からディスク面に入射し、その反射光44とのなす
角度を反り角α(°)とした。光ディスクに許容される
反り角αは、使用するシステムにより異なるが、例えば
0.7°以下程度に抑える必要がある。2種類の基板で
貼り合わせをおこなった光ディスクの各20枚の平均の
反り角を表1に示す。加熱しながら貼り合わせしたディ
スクの反り角は小さい。Next, the warpage angles of the two types of disks were measured. Note that the warp angle is defined as shown in FIG. Substrate 41
Is held on a support table 42 so as to be horizontal near the center thereof, and a laser beam 43 shaped into parallel light having a diameter of about 1 mm is incident on the disk surface from below, and the angle formed with the reflected light 44 is changed to a warp angle α. (°). The warp angle α allowed for an optical disc differs depending on the system used, but needs to be suppressed to, for example, about 0.7 ° or less. Table 1 shows the average warp angle of each of 20 optical disks bonded by using two types of substrates. The warpage angle of the disks bonded together while heating is small.
【0032】[0032]
【表1】 今回は、レベリング時の下面パレットは、真空吸着によ
り基板の反りが小さい状態で行っているため、加熱を行
わなかったが、下面パレットにも加熱手段を設けレベリ
ングを行うと更によい。[Table 1] In this case, the lower pallet at the time of leveling was not heated because the warpage of the substrate was small due to vacuum suction, but the lower pallet was also provided with a heating means for leveling.
【0033】また、加熱温度を70℃としたが40℃以
上100℃以下の範囲なら同様な効果が得られる。40
℃より低い場合には、基板のチルトを変化させる効果が
小さく100℃を超えると樹脂基板が熱ダメージにより
変形する場合がある。 (実施例2)ここでは信号記録用の案内溝が設けられた
表面に少なくとも誘電体層と記録層を積層した構成(以
下、積層情報記録層)を設けた厚さ0.6mmの第1の
基板と、積層情報記録層を有しない第2の基板を冷却し
ながら貼り合わせる片面記録再生型ディスクの製造方法
について説明する。今回使用する基板の反りは非常に小
さくほぼ平坦に近い基板である。Although the heating temperature is set to 70 ° C., the same effect can be obtained if the heating temperature is in the range of 40 ° C. to 100 ° C. 40
If the temperature is lower than 100 ° C., the effect of changing the tilt of the substrate is small, and if it is higher than 100 ° C., the resin substrate may be deformed due to thermal damage. (Embodiment 2) Here, a first structure having a thickness of 0.6 mm in which at least a structure in which a dielectric layer and a recording layer are laminated (hereinafter referred to as a laminated information recording layer) is provided on a surface provided with a guide groove for signal recording is provided. A method for manufacturing a single-sided recording / reproducing disk which is bonded to a substrate while cooling a second substrate having no laminated information recording layer will be described. The substrate used this time has a very small warpage and is almost flat.
【0034】実施例1と同様な貼り合わせ装置の構成
で、硬化時のパレットを10℃に冷却した後、基板を載
せ冷却しながら硬化を行う。冷却の手段としては、水道
水等を硬化パレットに挿入し冷却させる。上記冷却しな
がら硬化させる方法で貼り合わせしたディスクと比較の
ために、基板を冷却しないディスク2種類の貼り合わせ
を行った。With the configuration of the bonding apparatus similar to that of the first embodiment, the pallet at the time of curing is cooled to 10 ° C., and then the substrate is placed and cooled to perform curing. As a cooling means, tap water or the like is inserted into a hardening pallet and cooled. For comparison with a disk bonded by the above-described method of curing while cooling, two types of disks without cooling the substrate were bonded.
【0035】次に上記2種類のディスクの反り角を実施
の形態1と同様な測定をした。2種類の基板で貼り合わ
せをおこなった光ディスクの各20枚の平均の反り角を
表2に示す。加熱しながら貼り合わせしたディスクの反
り角は小さいNext, the warpage angles of the two types of disks were measured in the same manner as in the first embodiment. Table 2 shows the average warp angle of each of 20 optical disks bonded by using two types of substrates. The warpage angle of the discs bonded while heating is small
【0036】[0036]
【表2】 また、冷却温度を10℃としたが−20℃以上20℃以
下の範囲なら同様な効果が得られる。20℃より高い場
合には、基板チルトを変化させる効果が小さく、−20
℃以下では、薄膜層にクラック等が発生する場合があ
る。 (実施例3)ここでは信号記録用の案内溝が設けられた
表面に少なくとも誘電体層と記録層を積層した構成(以
下、積層情報記録層)を設けた厚さ0.6mmの第1の
基板と対向する第1の基板と同一の積層情報記録層第2
の基板を加熱しながら貼り合わせる両面記録再生型ディ
スクの製造方法について説明する。[Table 2] Although the cooling temperature is set to 10 ° C., the same effect can be obtained in the range of −20 ° C. to 20 ° C. When the temperature is higher than 20 ° C., the effect of changing the substrate tilt is small and −20 ° C.
If the temperature is lower than ℃, cracks or the like may occur in the thin film layer. (Embodiment 3) Here, a 0.6 mm-thick first structure having a structure in which at least a dielectric layer and a recording layer are laminated on a surface provided with a guide groove for signal recording (hereinafter, a laminated information recording layer) is provided. The same laminated information recording layer as the first substrate facing the substrate;
A method for manufacturing a double-sided recording / reproducing disk to be bonded while heating the substrate will be described.
【0037】図5の基板51、52は同一でありインジ
ェクション法により作製した厚さ0.6mm、直径12
0mm、中心穴径15mmのポリカーボネイト基板であ
り、上面に信号記録用の案内溝が設けてある。基板5
1、52上には積層情報記録層53、54を設ける。積
層情報記録層としては基板51、52上にスパッタ法に
より誘電体層であるZnS−SiO2層(ZnSとSi
O2の混合物からなる誘電体層)を110nm、レーザ
ー照射によってアモルファスと結晶間で可逆的に状態変
化をする相変化型の記録層(GeSbTe合金)を30
nm、ZnS−SiO2層を20nm、反射層であるA
l膜を100nm積層した。The substrates 51 and 52 shown in FIG. 5 are the same and have a thickness of 0.6 mm and a diameter of 12 mm manufactured by the injection method.
This is a polycarbonate substrate having a diameter of 0 mm and a center hole diameter of 15 mm, and a guide groove for signal recording is provided on the upper surface. Substrate 5
The laminated information recording layers 53 and 54 are provided on the layers 1 and 52. As a laminated information recording layer, a ZnS—SiO 2 layer (ZnS and Si) serving as a dielectric layer is formed on the substrates 51 and 52 by a sputtering method.
A dielectric layer made of a mixture of O 2 ) was 110 nm, and a phase-change recording layer (GeSbTe alloy) that reversibly changed its state between amorphous and crystalline by laser irradiation was 30 nm.
nm, the ZnS-SiO 2 layer is 20 nm, and the reflection layer A
1 film was laminated to 100 nm.
【0038】次に積層情報記録層を保護するために、紫
外線硬化型樹脂をスピンコート法で10μmの厚さを形
成し、紫外線を照射してオーバコート55、56を設け
る。この基板51、52を遅効性UV法で貼り合わせを
おこなった。オーバコートされた基板をカチオン重合系
の樹脂を主成分とする紫外線硬化型接着剤をスクリーン
印刷法を用い20μmの厚さで塗布し、紫外線を照射
し、接着剤に粘着性を発現させた後密着して養成し、貼
り合わせをおこなう。Next, in order to protect the laminated information recording layer, an ultraviolet curable resin is formed to a thickness of 10 μm by a spin coating method, and irradiated with ultraviolet rays to provide overcoats 55 and 56. The substrates 51 and 52 were bonded by a slow-acting UV method. After applying the UV-curable adhesive mainly composed of a cation polymerization type resin to the overcoated substrate in a thickness of 20 μm by using a screen printing method, and then irradiating with ultraviolet rays to develop the adhesive to have adhesiveness. Train closely and bond.
【0039】貼り合わせ装置の構成は、図6に示すよう
に紫外線を照射し、接着剤に粘着性を発現させた基板を
下面パレット61および上面パレット62に載せ下面パ
レットを上昇させ重ね合わせを行いその後、プレスを行
い貼り合わせを行う。上面パレットは真空吸着によりデ
ィスクを保持する。この上面パレットおよび下面パレッ
トには加熱ができるようになっており、その結果基板も
加熱ができ、加熱しながら重ね合わせを行うことができ
る。加熱の手段としては、熱電対等をパレットに巻き加
熱を行う。今回、加熱温度を70℃で重ね合わせたディ
スクと比較のために、重ね合わせ時に加熱しないディス
ク2種類の貼り合わせを行った。As shown in FIG. 6, the structure of the laminating apparatus is as follows. The substrate, which has been irradiated with ultraviolet rays and has adhesiveness, is placed on the lower pallet 61 and the upper pallet 62, and the lower pallet is raised to perform superposition. After that, pressing is performed and bonding is performed. The upper pallet holds the disk by vacuum suction. The upper pallet and the lower pallet can be heated. As a result, the substrate can be heated, and the superposition can be performed while heating. As a heating means, a thermocouple or the like is wound around a pallet for heating. In this case, two types of discs that were not heated at the time of superposition were bonded for comparison with discs that were superposed at a heating temperature of 70 ° C.
【0040】次に2種類の貼り合わせディスクについて
実施例1と同様に反り角を測定した。光ディスクの各1
00枚の平均の反り角を表3に示す。重ね合わせ時に加
熱した場合に反り角は小さい。Next, the warpage angles of the two types of bonded disks were measured in the same manner as in Example 1. Each one of optical disk
Table 3 shows the average warp angles of the 00 sheets. The warp angle is small when heated during superposition.
【0041】[0041]
【表3】 また、加熱温度を70℃としたが40℃以上100℃以
下の範囲なら同様な効果が得られる。40℃より低い場
合には、基板のチルトを変化させる効果が小さく100
℃を超えると樹脂基板が熱ダメージにより変形する場合
がある。 (実施例4)ここでは信号記録用の案内溝が設けられた
表面に少なくとも誘電体層と記録層を積層した構成(以
下、積層情報記録層)を設けた厚さ0.6mmの第1の
基板と対向する第1の基板と同一の積層情報記録層第2
の基板を冷却しながら貼り合わせる両面記録再生型ディ
スクの製造方法について説明する。今回使用基板の反り
は非常に小さくほぼ平坦に近い基板である。[Table 3] Although the heating temperature is set to 70 ° C., the same effect can be obtained if the heating temperature is in the range of 40 ° C. or more and 100 ° C. or less. When the temperature is lower than 40 ° C., the effect of changing the tilt of the substrate is small and 100 ° C.
If the temperature exceeds ℃, the resin substrate may be deformed by thermal damage. (Example 4) Here, a 0.6 mm-thick first structure in which at least a structure in which a dielectric layer and a recording layer are laminated (hereinafter referred to as a laminated information recording layer) is provided on a surface where a guide groove for signal recording is provided. The same laminated information recording layer as the first substrate facing the substrate;
A method of manufacturing a double-sided recording / reproducing disk to be bonded while cooling the substrate will be described. The substrate used this time has a very small warpage and is almost flat.
【0042】実施例3と同様な貼り合わせ装置の構成
で、重ね合わせ時の上面パレットおよび下面パレット
は、冷却ができるようになっており、その結果基板も冷
却ができ、冷却しながら重ね合わせを行うことができ
る。冷却の手段としては、水道水等をパレットに挿入し
冷却を行う。今回、冷却温度を10℃で重ね合わせたデ
ィスクと比較のために、重ね合わせ時に冷却しないディ
スク2種類の貼り合わせを行った。With the configuration of the bonding apparatus similar to that of the third embodiment, the upper pallet and the lower pallet at the time of lamination can be cooled. As a result, the substrate can also be cooled. It can be carried out. As a cooling means, tap water or the like is inserted into a pallet for cooling. In this case, two types of discs that were not cooled at the time of superposition were bonded together for comparison with a disc superimposed at a cooling temperature of 10 ° C.
【0043】次に2種類の貼り合わせディスクについて
実施の形態1と同様に反り角を測定した。光ディスクの
各100枚の平均の反り角を表4に示す。重ね合わせ時
に冷却した場合に反り角は小さい。Next, the warpage angles of the two types of bonded disks were measured in the same manner as in the first embodiment. Table 4 shows the average warp angle of each of the 100 optical disks. The warp angle is small when cooled during superposition.
【0044】[0044]
【表4】 また、冷却温度を10℃としたが−20℃以上20℃以
下の範囲なら同様な効果が得られる。20℃より高い場
合には、基板チルトを変化させる効果が小さく、−20
℃以下では、薄膜層にクラック等が発生する場合があ
る。[Table 4] Although the cooling temperature is set to 10 ° C., the same effect can be obtained in the range of −20 ° C. to 20 ° C. When the temperature is higher than 20 ° C., the effect of changing the substrate tilt is small and −20 ° C.
If the temperature is lower than ℃, cracks or the like may occur in the thin film layer.
【0045】[0045]
【発明の効果】本発明によれば、0.6mm程度の薄型
基板を2枚貼り合わせた片面記録再生型および両面記録
再生型のようなものでも、チルトが小さく平坦な光ディ
スクを提供できる。According to the present invention, a flat optical disk with a small tilt can be provided even for a single-sided recording / reproducing type and a double-sided recording / reproducing type in which two thin substrates of about 0.6 mm are bonded.
【0046】したがってレーザーの短波長化、対物レン
ズの高NA化が可能となり、従来より高密度記録が実現
できる光ディスクシステムの供給が可能になる。Accordingly, it is possible to shorten the wavelength of the laser and increase the NA of the objective lens, and it is possible to supply an optical disk system capable of realizing higher density recording than before.
【図1】本発明の一実施の形態に用いた光ディスクの構
造図FIG. 1 is a structural diagram of an optical disk used in an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施の形態におけるレベリング工程
を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a leveling step in one embodiment of the present invention.
【図3】本発明の一実施の形態の硬化工程を示す図であ
る。FIG. 3 is a diagram showing a curing step according to one embodiment of the present invention.
【図4】反り角の測定方法を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a method of measuring a warp angle.
【図5】本発明の一実施の形態に用いた光ディスクの構
造図FIG. 5 is a structural diagram of an optical disk used in an embodiment of the present invention.
【図6】本発明の一実施の形態に用いた貼り合わせ装置
を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a bonding apparatus used in one embodiment of the present invention.
11、12、41、51、52 ・・・・基板 13、53、54、 ・・・・積層情報記録
層 21、61 ・・・・下面パレット 22、62 ・・・・上面パレット 23 ・・・・樹脂塗布ノズ
ル 31 ・・・・硬化パレット 32 ・・・・紫外線ランプ 42 ・・・・支持台 43 ・・・・レーザ光 44 ・・・・反射光 55、56 ・・・・オーバコート11, 12, 41, 51, 52 ··· Substrate 13, 53, 54 ···· Laminated information recording layer 21, 61 ··· Lower surface pallet 22, 62 ··· Upper surface pallet 23 ···・ Resin coating nozzle 31 ・ ・ ・ ・ Curing pallet 32 ・ ・ ・ ・ Ultraviolet lamp 42 ・ ・ ・ ・ Support base 43 ・ ・ ・ ・ Laser light 44 ・ ・ ・ ・ Reflection light 55, 56 ・ ・ ・ ・ Overcoat
Claims (11)
工程と、少なくとも前記第1の基板の一方の主面に少な
くとも光の照射によって情報が記録できる記録層を成膜
する工程と、前記第1の基板と前記第2の基板を対向さ
せて貼り合わせる工程とを備えた光学的情報記録媒体の
製造方法であって、 前記第1の基板および前記第2の基板のうち少なくとも
前記記録層が成膜された基板を加熱した状態で、前記貼
り合わせを行うことを特徴とする光学的情報記録媒体の
製造方法。A step of forming a first substrate and a second substrate; and a step of forming a recording layer on at least one main surface of the first substrate, on which information can be recorded by light irradiation. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising: a step of bonding the first substrate and the second substrate so as to face each other, wherein at least the recording of the first substrate and the second substrate is performed. A method for manufacturing an optical information recording medium, wherein the bonding is performed while the substrate on which the layer is formed is heated.
工程と、少なくとも前記第1の基板の一方の主面に少な
くとも光の照射によって情報が記録できる記録層を成膜
する工程と、前記第1の基板と前記第2の基板を対向さ
せて貼り合わせる工程とを備えた光学的情報記録媒体の
製造方法であって、 前記第1の基板および前記第2の基板のうち少なくとも
前記記録層が成膜された基板を冷却した状態で、前記貼
り合わせを行うことを特徴とする光学的情報記録媒体の
製造方法。2. A step of forming a first substrate and a second substrate; and a step of forming a recording layer on at least one main surface of the first substrate, on which information can be recorded by irradiation of light. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising: a step of bonding the first substrate and the second substrate so as to face each other, wherein at least the recording of the first substrate and the second substrate is performed. A method for manufacturing an optical information recording medium, wherein the bonding is performed while the substrate on which the layer is formed is cooled.
硬化型接着材で行われることを特徴とする請求項1又は
2に記載の光学的情報記録媒体の製造方法。3. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein said bonding is performed with a radical polymerization type ultraviolet curable adhesive.
工程と、少なくとも前記第1の基板の一方の主面に少な
くとも光の照射によって情報が記録できる記録層を成膜
する工程と、少なくとも前記第1の基板の前記記録層上
にオーバーコートを設ける工程と、前記第1の基板と前
記第2の基板を対向させて貼り合わせる工程とを備えた
光学的情報記録媒体の製造方法であって、 前記第1の基板および前記第2の基板のうち少なくとも
前記記録層が成膜された基板を加熱した状態で、前記貼
り合わせを行うことを特徴とする光学的情報記録媒体の
製造方法。4. A step of forming a first substrate and a second substrate, and a step of forming a recording layer on at least one main surface of the first substrate, on which information can be recorded by irradiation of light, A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising: a step of providing at least an overcoat on the recording layer of the first substrate; and a step of bonding the first substrate and the second substrate so as to face each other. A method of manufacturing an optical information recording medium, wherein the bonding is performed in a state where at least a substrate, on which the recording layer is formed, of the first substrate and the second substrate is heated. .
工程と、少なくとも前記第1の基板の一方の主面に少な
くとも光の照射によって情報が記録できる記録層を成膜
する工程と、少なくとも前記第1の基板の前記記録層上
にオーバーコートを設ける工程と、前記第1の基板と前
記第2の基板を対向させて貼り合わせる工程とを備えた
光学的情報記録媒体の製造方法であって、 前記第1の基板および前記第2の基板のうち少なくとも
前記記録層が成膜された基板を冷却した状態で、前記貼
り合わせを行うことを特徴とする光学的情報記録媒体の
製造方法。5. A step of forming a first substrate and a second substrate, and a step of forming a recording layer on at least one main surface of the first substrate, on which information can be recorded by irradiation of light, A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising: a step of providing at least an overcoat on the recording layer of the first substrate; and a step of bonding the first substrate and the second substrate so as to face each other. Wherein the bonding is performed in a state where at least the substrate on which the recording layer is formed is cooled out of the first substrate and the second substrate. .
成分とする紫外線硬化型接着材で行われることを特徴と
する請求項4又は5に記載の光学的情報記録媒体の製造
方法。6. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 4, wherein the bonding is performed with an ultraviolet-curable adhesive mainly composed of a cationic polymerizable resin.
ることを特徴とする請求項4又は5に記載の光学的情報
記録媒体の製造方法。7. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 4, wherein said bonding is performed with an adhesive sheet.
間で可逆的に状態変化する相変化材料であることを特徴
とする請求項1、2、4又は5に記載の光学的情報記録
媒体の製造方法。8. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the material of the recording layer is a phase change material that changes state reversibly between amorphous and crystalline. Manufacturing method.
℃以下であることを特徴とする請求項1又は4に記載の
光学的情報記録媒体の製造方法。9. A heating temperature of the substrate is 40 ° C. or more and 100 ° C.
The method for producing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the temperature is lower than or equal to ° C. 5.
0℃以下であることを特徴とする請求項2又は5に記載
の光学的情報記録媒体の製造方法。10. The cooling temperature of the substrate is not lower than −20 ° C.
The method for producing an optical information recording medium according to claim 2, wherein the temperature is 0 ° C. or lower.
ることを特徴とする請求項1、2、4、又は5に記載の
光学的情報記録媒体の製造方法。11. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the substrate is 0.8 mm or less.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26107399A JP2001084653A (en) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | Manufacture of optical information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26107399A JP2001084653A (en) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | Manufacture of optical information recording medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001084653A true JP2001084653A (en) | 2001-03-30 |
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP26107399A Pending JP2001084653A (en) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | Manufacture of optical information recording medium |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2001084653A (en) |
-
1999
- 1999-09-14 JP JP26107399A patent/JP2001084653A/en active Pending
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