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JP2000084481A - Method for producing inorganic film coated metal material - Google Patents

Method for producing inorganic film coated metal material

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Publication number
JP2000084481A
JP2000084481A JP26020798A JP26020798A JP2000084481A JP 2000084481 A JP2000084481 A JP 2000084481A JP 26020798 A JP26020798 A JP 26020798A JP 26020798 A JP26020798 A JP 26020798A JP 2000084481 A JP2000084481 A JP 2000084481A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
inorganic film
producing
metal
inorganic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP26020798A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Masaki
健一 正木
Kazuhiro Tachibana
一洋 橘
Keiji Kishi
圭司 岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissha Printing Co Ltd
Original Assignee
Nissha Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissha Printing Co Ltd filed Critical Nissha Printing Co Ltd
Priority to JP26020798A priority Critical patent/JP2000084481A/en
Publication of JP2000084481A publication Critical patent/JP2000084481A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the subject method capable of thinly forming an inorg. film in a constant thickness. SOLUTION: A self-adhesive layer 2 is formed on the surface of a metal base material 1 by a self-adhesive being a liquid low in solid concn. and a powder material containing an inorg. powder is subsequently fixed on the surface of the self-adhesive layer to form a powder film layer and these layers are subsequently baked to remove an org. component to obtain the metal base material 1 coated with an inorg. film. The mean particle size of the inorg. material is 0.1-20 μm and the powder material pref. comprises the inorg. powder and a resin powder.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、無機膜被覆金属材
の製造方法に関し、特に、無機膜の厚みを薄くかつ一定
にすることができる無機膜被覆金属材の製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a metal material coated with an inorganic film, and more particularly to a method for producing a metal material coated with an inorganic film capable of making the thickness of an inorganic film thin and constant.

【0002】本発明により得られる無機膜被覆金属材
は、PDP(プラズマ・ディスプレイ・パネル)のリブ
材やFED(フィールド・エミッション・ディスプレ
イ)のスペーサーまたは絶縁層、除塵フィルターや電磁
波フィルターなどとして好適なものである。
[0002] The metal material coated with an inorganic film obtained by the present invention is suitable as a rib material for a PDP (plasma display panel), a spacer or an insulating layer for an FED (field emission display), a dust filter, an electromagnetic wave filter, or the like. Things.

【0003】以下、本発明を、PDPのリブ材に用いる
無機膜被覆金属材の製造方法を例に挙げて説明する。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to an example of a method for producing an inorganic film-coated metal material used for a rib material of a PDP.

【0004】[0004]

【技術的背景】大画面を特徴とする表示装置の一つであ
るPDPは、通常、透明なソーダライムガラスや珪酸ガ
ラスなどの低歪点ガラスあるいはアルミナなどのセラミ
ックスなどからなる一対の基板と、この基板間に形成さ
れる気密空間内にストライプ状あるいは格子状の放電空
間を区画形成するためのリブと、所望の放電空間内で選
択的に放電させる放電電極を形成するための導体配線な
どを備えるように構成される。
2. Description of the Related Art A PDP, which is one of the display devices characterized by a large screen, usually has a pair of substrates made of a low-strain-point glass such as transparent soda-lime glass or silicate glass or a ceramic such as alumina. A rib for forming a striped or lattice-shaped discharge space in an airtight space formed between the substrates and a conductor wiring for forming a discharge electrode for selectively discharging in a desired discharge space are provided. It is configured to comprise.

【0005】これらのPDPの構成要素のうち、リブ
は、基板を構成するガラスあるいはセラミックスよりも
軟化点が低いガラスに、アルミナなどのセラミック粒子
からなるフィラーを所定量混合したペースト材料からな
る無機膜で構成されることが多い。なぜなら、このリブ
の表面に形成される蛍光体をプラズマ発光させるために
は高電圧が必要であるが、その際の電力ロスをなくすた
めに、リブには安定した絶縁性が求められるからであ
る。
[0005] Among these components of the PDP, a rib is an inorganic film made of a paste material in which a predetermined amount of a filler made of ceramic particles such as alumina is mixed with glass constituting a substrate or glass having a softening point lower than that of ceramics. Often composed of This is because a high voltage is required to cause the phosphor formed on the surface of the rib to emit plasma, but a stable insulating property is required for the rib in order to eliminate power loss at that time. .

【0006】このリブは、一対の基板の対向する面の少
なくとも一方に、厚膜印刷法やサンドブラスト法などに
よって所定パターンの無機膜を形成し、これを焼成する
ことにより形成される。
The rib is formed by forming an inorganic film having a predetermined pattern on at least one of the opposing surfaces of the pair of substrates by a thick film printing method, a sand blast method, or the like, and firing the inorganic film.

【0007】厚膜印刷法においては、スクリーン印刷に
よって、スクリーン版の下側に配置された基板表面に鉛
ガラス粉体を含有するペーストインキを用いて印刷形成
し、これを乾燥することを繰り返すことにより、所定パ
ターンの無機膜を所定厚さに形成し、その後焼成してリ
ブを形成する。
[0007] In the thick film printing method, it is repeated to form a screen by printing using a paste ink containing lead glass powder on the surface of a substrate disposed below the screen plate, and to dry the paste. Thus, an inorganic film having a predetermined pattern is formed to a predetermined thickness, and then fired to form a rib.

【0008】また、サンドブラスト法においては、基板
の一面に全面ベタで形成した所定厚さの無機膜の上に、
レジスト膜を所定パターンで形成し、レジストパターン
にしたがって不要箇所をサンドブラストによって除去
し、焼成することにより、リブを形成する。
In the sand blasting method, an inorganic film having a predetermined thickness is entirely formed on one surface of a substrate.
A rib is formed by forming a resist film in a predetermined pattern, removing unnecessary portions by sandblasting according to the resist pattern, and baking.

【0009】ところで、近年、PDPの表示の高精細化
などに伴って、リブ幅の細線化およびトータルピッチ高
精度化が要求されている。
[0009] In recent years, as the display of a PDP has become higher definition, a thinner rib width and a higher total pitch have been required.

【0010】そこで、厚膜印刷法では、リブ幅の細線化
およびトータルピッチ高精度化を図るために、一層細か
いメッシュのスクリーンが用いられるとともに、基板表
面でのダレを抑制する目的で粘度の一層高いペースト材
料が用いられる傾向にある。しかし、このことは、ペー
スト材料がスクリーンを透過し難くする方向に作用する
ことから、にじみや欠けなどの印刷欠陥が発生しやすく
なるという問題が生じる。また、スクリーンメッシュの
精度にも限界があるという問題がある。さらに、8〜1
0回もの重ね刷りによってリブを形成するため、膜厚や
リブ幅の精度の確保が困難で、生産性が極めて悪いとい
う問題もある。
Therefore, in the thick film printing method, a screen with a finer mesh is used in order to make the rib width narrower and the total pitch is more precise, and the viscosity is further increased in order to suppress the sag on the substrate surface. Higher paste materials tend to be used. However, this causes a problem that printing defects such as bleeding and chipping easily occur because the paste material acts in a direction that makes it difficult for the screen to pass through the screen. There is also a problem that the accuracy of the screen mesh is limited. In addition, 8 to 1
Since the ribs are formed by zero-time overprinting, it is difficult to ensure the accuracy of the film thickness and the rib width, and there is a problem that productivity is extremely poor.

【0011】また、サンドブラスト法でも、リブ幅の細
線化およびトータルピッチ高精度化を図れば図る程、レ
ジスト膜の欠陥や、サンドブラスト粒子の飛散などに起
因するリブの欠損が生じやすいという問題が生じる。ま
た、この方法では基板全面をサンドブラスト加工するの
に時間がかかるため、生産性が悪いという問題がある。
さらに、この方法では無機膜の利用効率が低く、材料ロ
スが多いという問題もある。また、無機膜を構成する主
成分である鉛ガラス粉体が飛散するため、生産環境が悪
くなるという問題もある。
Also, in the sandblasting method, as the rib width is reduced and the total pitch is made more precise, there is a problem that a defect in the resist film and a rib defect due to scattering of sandblast particles are more likely to occur. . In addition, this method has a problem that productivity is poor because it takes time to sandblast the entire surface of the substrate.
Further, this method has a problem that the utilization efficiency of the inorganic film is low and the material loss is large. In addition, there is also a problem that the production environment deteriorates because lead glass powder, which is a main component of the inorganic film, is scattered.

【0012】[0012]

【従来の技術】そこで、上記の厚膜印刷法やサンドブラ
スト法が有する欠点を解消し、生産性を高める方法とし
て、金属基板からなるリブ芯材に無機膜を形成してリブ
材とし、これを基板と貼り合わせる方法が考えられてい
る。これが、スプレーコーティング法やディップコーテ
ィング法などの塗布法である。
2. Description of the Related Art As a method of solving the above-mentioned disadvantages of the thick film printing method and the sand blast method and increasing the productivity, an inorganic film is formed on a rib core material composed of a metal substrate to form a rib material. A method of bonding with a substrate has been considered. This is a coating method such as a spray coating method or a dip coating method.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】リブ間隔を十分に取る
ために、金属表面の保護膜の厚みを5〜20μmの範囲
で形成し、かつ高耐性の絶縁皮膜を形成することが必要
であるが、塗布法では、無機膜の厚みを薄くかつ一定に
形成することが困難であった。
In order to secure a sufficient rib interval, it is necessary to form a protective film on the metal surface in a thickness of 5 to 20 μm and to form a highly resistant insulating film. However, it has been difficult to form the inorganic film thinly and uniformly by the coating method.

【0014】本発明は、以上のような事情を背景として
なされたものであって、その目的とするところは、無機
膜を薄くかつ一定の厚みに形成することができる無機膜
被覆金属材の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to manufacture an inorganic film-coated metal material capable of forming an inorganic film to have a small and constant thickness. It is to provide a method.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、以下のように構成した。
Means for Solving the Problems The present invention has the following configuration to achieve the above object.

【0016】すなわち、本発明の無機膜被覆金属材の製
造方法は、低固形分濃度の液体である粘着剤によって金
属基材表面に粘着剤層を形成し、次いで無機粉体を含有
する粉体材料を粘着剤層表面に固着させて粉体膜層を形
成し、次いで焼成することより有機成分を除去して無機
膜で被覆された金属基材を得るように構成した。
That is, according to the method for producing a metal material coated with an inorganic film of the present invention, a pressure-sensitive adhesive layer is formed on the surface of a metal substrate with a pressure-sensitive adhesive having a low solid content, and then a powder containing an inorganic powder is formed. The material was fixed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer to form a powder film layer, and then calcined to remove an organic component to obtain a metal substrate coated with an inorganic film.

【0017】また、上記の発明において、無機材料の平
均粒径が0.1〜20μmであるように構成してもよ
い。
In the above invention, the inorganic material may have a mean particle size of 0.1 to 20 μm.

【0018】また、上記の発明において、粉体材料が無
機粉体と樹脂粉体とからなるように構成してもよい。
Further, in the above invention, the powder material may be composed of an inorganic powder and a resin powder.

【0019】また、上記の発明において、粉体材料が無
機粉体を有機バインダー材料で包んだものであるように
構成してもよい。
Further, in the above invention, the powder material may be constituted by wrapping an inorganic powder with an organic binder material.

【0020】また、上記の発明において、粉体材料が無
機粉体を有機バインダー材料で包んだものと樹脂粉体と
からなるように構成してもよい。
Further, in the above-mentioned invention, the powder material may be composed of a material obtained by wrapping an inorganic powder with an organic binder material and a resin powder.

【0021】また、上記の発明において、粉体材料が着
色成分を含有するように構成してもよい。
Further, in the above invention, the powder material may be configured to contain a coloring component.

【0022】また、上記の発明において、粘着剤が金属
アルコキシドを含有するように構成してもよい。
In the above invention, the pressure-sensitive adhesive may be configured to contain a metal alkoxide.

【0023】また、上記の発明において、粘着剤の固形
分濃度が0.1〜50重量%であるように構成してもよ
い。
In the above invention, the pressure-sensitive adhesive may have a solid content of 0.1 to 50% by weight.

【0024】また、上記の発明において、金属基材が微
細パターンの穿孔を有するように構成してもよい。
In the above invention, the metal substrate may have a fine pattern of perforations.

【0025】また、上記の発明において、金属基材がプ
ラズマディスプレイパネルのリブ芯材であるように構成
してもよい。
Further, in the above invention, the metal substrate may be configured to be a rib core material of a plasma display panel.

【0026】また、上記の発明において、金属基材がフ
ィールドエミッションディスプレイのスペーサー芯材ま
たは絶縁層芯材であるように構成してもよい。
In the above invention, the metal base material may be a spacer core material or an insulating layer core material of a field emission display.

【0027】また、上記の発明において、金属基材が除
塵フィルターの芯材であるように構成してもよい。
Further, in the above invention, the metal substrate may be configured to be a core material of a dust filter.

【0028】また、上記の発明において、金属基材が電
磁波シールドフィルターの芯材であるように構成しても
よい。
Further, in the above invention, the metal base material may be configured to be the core material of the electromagnetic wave shielding filter.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】図面を参照しながら本発明の実施
の形態について詳しく説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0030】図1は、本発明の無機膜被覆金属材の製造
方法の一実施例を示す断面図である。図2は、本発明の
無機膜被覆金属材の製造方法によって得られた無機膜被
覆金属材の一実施例を示す断面図である。図3は、本発
明の無機膜被覆金属材の製造方法によって得られたメッ
シュ状のリブ材の一実施例を示す平面図である。図4
は、図3の断面一部拡大図である。
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a method for producing a metal material coated with an inorganic film according to the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing one embodiment of an inorganic film-coated metal material obtained by the method for producing an inorganic film-coated metal material of the present invention. FIG. 3 is a plan view showing one embodiment of a mesh-like rib material obtained by the method for producing a metal material coated with an inorganic film of the present invention. FIG.
FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 3.

【0031】図中、1は金属基材、2は粘着剤層、3は
粉体膜層、4は無機膜、5は金属酸化物層、6は穿孔で
ある。
In the figure, 1 is a metal substrate, 2 is an adhesive layer, 3 is a powder film layer, 4 is an inorganic film, 5 is a metal oxide layer, and 6 is a perforation.

【0032】本発明の無機膜被覆金属材の製造方法は、
低固形分濃度の液体である粘着剤によって金属基材1表
面に粘着剤層2を形成し、次いで無機粉体を含有する粉
体材料を粘着剤層2表面に固着させて粉体膜層3を形成
し(図1参照)、次いで焼成することより有機成分を除
去して無機膜4で被覆された金属基材1を得るものであ
る(図2参照)。
The method for producing a metal material coated with an inorganic film of the present invention comprises:
The pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed on the surface of the metal substrate 1 by the pressure-sensitive adhesive which is a liquid having a low solid content, and then a powder material containing an inorganic powder is fixed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 to form a powder film layer 3. Is formed (see FIG. 1), followed by baking to remove organic components to obtain a metal substrate 1 covered with an inorganic film 4 (see FIG. 2).

【0033】本発明において使用する金属基材1の素材
としては、ステンレス、鉄、ニッケル、クロム、モリブ
デン、マグネシウム、アルミニウム、銅、あるいはこれ
らの合金金属などを挙げることができる。このような素
材の金属基材1の中でも、ステンレス、鉄、ニッケル、
銅などの合金は、エッチング加工によって精度の高いパ
ターン形成が容易であるという点で、PDPのリブ芯材
として望ましい材料である。なお、金属基材1は、前記
金属または合金からなる基材の積層物でもよい。また、
基材がセラミックス、ガラスでもよい。
Examples of the material of the metal substrate 1 used in the present invention include stainless steel, iron, nickel, chromium, molybdenum, magnesium, aluminum, copper, and alloy metals thereof. Among the metal substrates 1 of such a material, stainless steel, iron, nickel,
An alloy such as copper is a desirable material for a rib core material of a PDP because it is easy to form a pattern with high precision by etching. The metal substrate 1 may be a laminate of a substrate made of the metal or the alloy. Also,
The substrate may be ceramics or glass.

【0034】金属基板の厚みは、形成しようとするリブ
の高さに準ずるが、通常、50〜150μmで十分であ
る。
The thickness of the metal substrate depends on the height of the rib to be formed, but usually 50 to 150 μm is sufficient.

【0035】金属基材1の形態は、板状のものを用いる
ことができる。PDPのリブ芯材としては、板状の金属
基材1をメッシュ状等に加工した微細パターンの穿孔6
を有するものを用いるのが好ましい(図3参照)。本発
明でいう微細パターンとは、線幅、間隙などが5〜50
0μmの範囲である線、間隙を含むパターンであり、通
常のフォトエッチングで加工が可能であるパターン精度
範囲にあるものをいう。微細パターンの種類としては、
メッシュの他、ストライプ、グリッドなどが挙げられ
る。
The form of the metal substrate 1 may be a plate. As the rib core material of the PDP, perforations 6 of a fine pattern obtained by processing a plate-shaped metal substrate 1 into a mesh shape or the like.
(See FIG. 3). The fine pattern according to the present invention means that the line width, the gap, and the like are 5 to 50.
This is a pattern including lines and gaps in a range of 0 μm, which is within a pattern accuracy range that can be processed by ordinary photoetching. As the type of fine pattern,
Besides a mesh, a stripe, a grid, and the like can be given.

【0036】上記金属基材1表面に、低固形分濃度の液
体である粘着剤によって粘着剤層2を形成する(図1参
照)。
An adhesive layer 2 is formed on the surface of the metal substrate 1 with an adhesive which is a liquid having a low solid content (see FIG. 1).

【0037】粘着剤としては、低固形分濃度の液体であ
るものを使用する必要がある。粘着剤を低固形分濃度の
液体とするのは、後の焼成により粘着剤の有機成分を除
去するので、固形分を最低必要限の量とするのが望まし
いからである。また、固形分濃度を低くすることによ
り、粘着剤を塗布したときのウェット膜厚のばらつき
は、溶剤の乾燥時に小さくなり、粘着剤層2の膜厚をよ
り均一にすることができる。特に、固形分濃度は、0.
1〜50重量%であるのが好ましい。0.1重量%に満
たないと、粉体材料を付着させるための粘着性が不足
し、粉体材料の保持量が少なくなるため、得られる無機
膜4の膜厚が薄くなりすぎ、乾燥時の機械的強度が低
く、曲げや擦れによって無機膜4の損傷が生じやすくな
る。また、50重量%を越えると、焼成に時間がかか
り、また、無機膜4にクラック、巣、ボイドなどが生じ
やすくなる。前記範囲内で固形分濃度を変化させること
によって、粉体膜層3の厚みを制御することができる。
以上の理由から、粘着剤の固形分濃度は上記範囲が好ま
しいが、さらに好ましくは、0.1〜20重量%であ
る。
It is necessary to use an adhesive which is a liquid having a low solid content. The reason why the pressure-sensitive adhesive is a liquid having a low solid content concentration is that the solid content is desirably the minimum necessary amount since the organic component of the pressure-sensitive adhesive is removed by subsequent baking. In addition, by lowering the solid content concentration, the variation in the wet film thickness when the adhesive is applied becomes smaller when the solvent is dried, and the film thickness of the adhesive layer 2 can be made more uniform. In particular, the solid content concentration is 0.1.
It is preferably from 1 to 50% by weight. If the amount is less than 0.1% by weight, the adhesiveness for adhering the powder material is insufficient, and the holding amount of the powder material is reduced. Has low mechanical strength, and the inorganic film 4 is easily damaged by bending or rubbing. On the other hand, when the content exceeds 50% by weight, it takes a long time for sintering, and cracks, cavities, voids and the like are easily generated in the inorganic film 4. By changing the solid content concentration within the above range, the thickness of the powder film layer 3 can be controlled.
For the above reasons, the solid content concentration of the pressure-sensitive adhesive is preferably in the above range, but more preferably 0.1 to 20% by weight.

【0038】このように、粘着剤として低固形分濃度の
液体を使用することにより、均一性と焼成性に優れた無
機膜4を得ることができる。粘着剤の材質としては、ア
クリル樹脂、ビニル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、ゴム系樹脂、キシレン樹脂、ポリビニルアルコール
樹脂など、あるいはこれらの混合物で融点が常温より低
いものなどを用いることができる。特に、粘着剤が金属
アルコキシドを含有するものであると、後の焼成工程に
より金属酸化物層5を形成することができ、無機膜4の
絶縁性特性の信頼性を向上させることができるととも
に、金属酸化膜層が金属基材1の保護膜としても作用す
る。粘着剤層2の形成方法としては、スプレー法、ディ
ッピング法、ロールコート法、スクリーン印刷法、凸版
印刷法、グラビアオフセット法、超音波霧化法、ボール
均し法、ローラー均し法、電着法などを挙げることがで
きる。
As described above, by using a liquid having a low solid content as an adhesive, an inorganic film 4 excellent in uniformity and sinterability can be obtained. As the material of the adhesive, an acrylic resin, a vinyl resin, a urethane resin, an epoxy resin, a rubber-based resin, a xylene resin, a polyvinyl alcohol resin, or the like, or a mixture thereof having a melting point lower than room temperature can be used. In particular, when the pressure-sensitive adhesive contains a metal alkoxide, the metal oxide layer 5 can be formed by a subsequent baking step, and the reliability of the insulating properties of the inorganic film 4 can be improved, and The metal oxide film layer also functions as a protective film for the metal substrate 1. The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 includes spraying, dipping, roll coating, screen printing, letterpress printing, gravure offset, ultrasonic atomization, ball leveling, roller leveling, and electrodeposition. And the like.

【0039】次いで、無機粉体を含有する粉体材料を粘
着剤層2表面に固着させて粉体膜層3を形成する(図1
参照)。
Next, a powder material containing an inorganic powder is fixed to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 to form a powder film layer 3 (FIG. 1).
reference).

【0040】粉体材料は、無機粉体を含有する。無機粉
体としては、具体的には、酸化鉛・珪酸ガラス、酸化鉛
・ほう珪酸ガラス、酸化亜鉛・酸化鉛・ほう酸ガラス、
酸化亜鉛・酸化鉛・ほう珪酸ガラスなどを挙げることが
できる。
The powder material contains an inorganic powder. As the inorganic powder, specifically, lead oxide / silicate glass, lead oxide / borosilicate glass, zinc oxide / lead oxide / borate glass,
Examples include zinc oxide, lead oxide, and borosilicate glass.

【0041】無機粉体の平均粒径は、0.1μm〜20
μmである。0.1μmに満たないと、粉体の凝集が起
こり均一膜が得られにくかったり、十分な膜厚が得られ
にくかったりする。一方、20μmを越えると、均一膜
が得られにくかったり、膜の緻密性に欠けたりする。
The average particle size of the inorganic powder is 0.1 μm to 20 μm.
μm. If the thickness is less than 0.1 μm, powder agglomeration occurs and it is difficult to obtain a uniform film, or it is difficult to obtain a sufficient film thickness. On the other hand, if it exceeds 20 μm, it is difficult to obtain a uniform film, or the film lacks in denseness.

【0042】粉体材料は、無機粉体単独でもよいが、無
機粉体と樹脂粉体とからなるものでもよい。後者の場
合、樹脂粉体を溶融固化することにより、生成される無
機膜4が強化され、破損のおそれが少なくなり扱いやす
いものとなる。また、一時保管も容易である。さらに、
重ね塗りによって膜厚を大きいものにすることもでき
る。樹脂粉体としては、アクリル樹脂、ビニル樹脂、ウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール樹脂
などを用いることができる。
The powder material may be an inorganic powder alone, or may be an inorganic powder and a resin powder. In the latter case, by melting and solidifying the resin powder, the generated inorganic film 4 is strengthened, and the risk of breakage is reduced, and the resin film is easy to handle. Also, temporary storage is easy. further,
The film thickness can be increased by re-coating. As the resin powder, an acrylic resin, a vinyl resin, a urethane resin, an epoxy resin, a polyvinyl alcohol resin, or the like can be used.

【0043】また、粉体材料は、無機粉体を有機バイン
ダー材料で包んだものであってもよい。有機バインダー
材料としては、アクリル樹脂、ビニル樹脂、ウレタン樹
脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などを用
いることができる。無機粉体を有機バインダー材料で包
む方法としては、バインダーを溶解し、これに無機粉体
を混合し、乾燥固化したのち粉砕する方法などがある。
粉体材料として無機粉体を有機バインダー材料で包んだ
ものを用いることによって、無機膜4の空隙を減少させ
て密度を高めることができる。また、無機膜4の平滑性
も高いものとなる。
The powder material may be one obtained by wrapping an inorganic powder with an organic binder material. As the organic binder material, an acrylic resin, a vinyl resin, a urethane resin, an epoxy resin, a polyvinyl alcohol resin, or the like can be used. As a method of wrapping the inorganic powder with the organic binder material, there is a method of dissolving the binder, mixing the inorganic powder with the binder, drying, solidifying, and then pulverizing.
By using a material obtained by wrapping an inorganic powder with an organic binder material as the powder material, the voids of the inorganic film 4 can be reduced and the density can be increased. Further, the smoothness of the inorganic film 4 is also high.

【0044】さらに、粉体材料は、無機粉体を有機バイ
ンダー材料で包んだものと前記樹脂粉体とからなるもの
でもよい。
Further, the powder material may be composed of an inorganic powder wrapped with an organic binder material and the resin powder.

【0045】また、粉体材料は、着色成分を含有するも
のであってもよい。着色成分としては、銅またはクロム
の酸化物や硫化物からなる着色剤などを用いることがで
きる。着色成分を含有させる方法としては、溶融混合や
ドライブレンドなどの方法がある。粉体材料として着色
成分を含有するものを用いることによって、無機膜4表
面の光反射率を低くしてディスプレイのコントラストを
向上させることができる。
The powder material may contain a coloring component. As the coloring component, a coloring agent composed of copper or chromium oxide or sulfide can be used. As a method for incorporating a coloring component, there are methods such as melt mixing and dry blending. By using a powder material containing a coloring component, the light reflectance on the surface of the inorganic film 4 can be reduced and the contrast of the display can be improved.

【0046】粉体材料を金属基材1表面に固着させる方
法としては、吹き付け法、浸漬法、ロール加圧法、ボー
ル加圧法、加振法、電着法などの方法がある。
As a method of fixing the powder material to the surface of the metal substrate 1, there are a spraying method, a dipping method, a roll pressing method, a ball pressing method, a vibration method, an electrodeposition method and the like.

【0047】次いで、無機膜4を焼成し、有機成分を除
去する。
Next, the inorganic film 4 is fired to remove organic components.

【0048】無機膜4を焼成する方法としては、通常の
焼成方法に従えばよく、例えば焼成炉を用いて450〜
600℃にて10分程度保持し、酸化雰囲気下で焼成す
ればよい。
The method of firing the inorganic film 4 may be in accordance with a normal firing method.
What is necessary is just to hold | maintain at 600 degreeC for about 10 minutes, and to bake under oxidizing atmosphere.

【0049】この焼成工程により、粘着剤層2および粉
体膜層3中の有機成分を除去することができる。
By this firing step, organic components in the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the powder film layer 3 can be removed.

【0050】以上のようにして、金属基板表面に、無機
膜4を信頼性の高い膜厚精度で容易に形成できる。
As described above, the inorganic film 4 can be easily formed on the surface of the metal substrate with a highly reliable film thickness accuracy.

【0051】なお、本発明の実施の形態として、PDP
のリブ材に用いる無機膜被覆金属材の製造方法に基づい
て説明したが、本発明はこれに限定されるものではな
く、たとえば、FEDのスペーサーまたは絶縁層、除塵
フィルターや電磁波シールドフィルターなどにも適用す
ることができる。除塵フィルターや電磁波フィルター
は、通常、グリッドパターン、メッシュパターンの金属
基材1で形成される。金属基材1表面は腐食しやすい
が、無機膜4によって耐食性を高めることができるので
有用である。また、表面が導電性であると静電気が発生
し塵が着きやすいが、無機膜4によって絶縁性を付与す
ることができるので有用である。さらに、本発明の他の
実施の形態として、金属基材1表面を装飾する目的で無
機膜4を形成する場合など、無機膜4の形成が要求され
るすべての場面において適用が可能なものである。
As an embodiment of the present invention, PDP
Although described based on the method of manufacturing an inorganic film-coated metal material used for the rib material, the present invention is not limited to this, for example, FED spacers or insulating layers, dust filters and electromagnetic wave shield filters and the like Can be applied. The dust filter and the electromagnetic wave filter are usually formed of a metal substrate 1 having a grid pattern or a mesh pattern. Although the surface of the metal substrate 1 is easily corroded, the inorganic film 4 is useful because the corrosion resistance can be enhanced. In addition, when the surface is conductive, static electricity is generated and dust easily adheres, but it is useful because the inorganic film 4 can impart insulation. Further, as another embodiment of the present invention, the present invention can be applied to all cases where the formation of the inorganic film 4 is required, such as the case where the inorganic film 4 is formed for the purpose of decorating the surface of the metal substrate 1. is there.

【0052】[0052]

【実施例】金属基材として、厚さ200μmのステンレ
ス板を、長さ100μm、幅40μm、ピッチ100μ
mのメッシュパターンに加工したリブ芯材を用い(図3
参照)、エポキシ樹脂1重量%、エチルアルコール99
重量%の溶液をスプレー方法で塗布した後、50℃にお
いて、約10分間乾燥して粘着剤層を形成した。
EXAMPLE As a metal substrate, a stainless steel plate having a thickness of 200 μm was prepared by length 100 μm, width 40 μm, and pitch 100 μm.
Using a rib core material processed into a mesh pattern of m
1) epoxy resin 1% by weight, ethyl alcohol 99
After applying the solution of a weight% by a spray method, it was dried at 50 ° C. for about 10 minutes to form an adhesive layer.

【0053】次いで、酸化鉛・ほう珪酸ガラスからなる
無機粉体とアクリル樹脂粉体とを5:1の割合で混合し
た粉体材料に基板を浸漬した後、エアーにて過剰な粉体
材料を吹き飛ばした後、ゴムロールにより圧接し固着し
た。その後、過剰な付着によりメッシュの穿孔を目詰ま
りさせている粉体材料をエアーで吹き飛ばした。
Next, the substrate is immersed in a powder material obtained by mixing lead oxide and borosilicate glass with an inorganic powder and an acrylic resin powder at a ratio of 5: 1. After being blown off, they were pressed and fixed by a rubber roll. Thereafter, the powder material that clogged the perforations of the mesh due to excessive adhesion was blown off by air.

【0054】次いで、500℃、10分間保持して焼成
し、粘着剤層と粉体膜層の有機成分を除去するのと同時
に粉体膜層の無機成分を溶融し、その後徐々に冷却する
ことで無機成分を固化し、無機膜を形成した(図4参
照)。
Then, the mixture is baked at 500 ° C. for 10 minutes to remove the organic components of the pressure-sensitive adhesive layer and the powder film layer, and at the same time, melt the inorganic components of the powder film layer, and then gradually cool down. Thus, the inorganic component was solidified to form an inorganic film (see FIG. 4).

【0055】このようにして、金属基材上に形成された
無機膜は、厚さ10±1μmの均一性が良好な厚みを有
するものであり、かつ、強固な皮膜であった。
The inorganic film formed on the metal substrate in this way had a thickness of 10 ± 1 μm with good uniformity and was a strong film.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明の無機膜被覆金属材の製造方法
は、以上のような構成を採るので、以下のような効果を
奏する。
The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to the present invention employs the above-described structure, and thus has the following effects.

【0057】つまり、粘着剤が低固形分濃度の液体であ
り、また粘着剤層の粘着性によって粉体材料が固着され
るため、粉体材料の固着量を一定に制御することができ
る。その結果、薄くて均一な無機膜を得ることができ
る。
That is, since the adhesive is a liquid having a low solid content and the powder material is fixed by the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer, the fixed amount of the powder material can be controlled to be constant. As a result, a thin and uniform inorganic film can be obtained.

【0058】また、金属基材表面への粘着剤層および粉
体材料層の形成と、焼成による粘着剤層および粉体材料
層中の有機成分を除去のみで、無機膜の厚みが薄くて均
一な無機膜被覆金属材を容易に得ることができる。
Further, only by forming the pressure-sensitive adhesive layer and the powder material layer on the surface of the metal base material and removing the organic components in the pressure-sensitive adhesive layer and the powder material layer by baking, the thickness of the inorganic film is thin and uniform. It is possible to easily obtain a metal material coated with an inorganic film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の無機膜被覆金属材の製造方法の一実施
例を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a method for producing a metal material coated with an inorganic film of the present invention.

【図2】本発明の無機膜被覆金属材の製造方法によって
得られた無機膜被覆金属材の一実施例を示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing one embodiment of an inorganic film-coated metal material obtained by the method for producing an inorganic film-coated metal material of the present invention.

【図3】本発明の無機膜被覆金属材の製造方法によって
得られたメッシュ状のリブ材の一実施例を示す平面図で
ある。
FIG. 3 is a plan view showing one embodiment of a mesh-like rib material obtained by the method for producing a metal material coated with an inorganic film of the present invention.

【図4】図3の断面一部拡大図である。FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 3;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属基材 2 粘着剤層 3 粉体膜層 4 無機膜 5 金属酸化物層 6 穿孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal base material 2 Adhesive layer 3 Powder film layer 4 Inorganic film 5 Metal oxide layer 6 Perforation

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D075 AE03 AE06 BB28Z DA06 DB02 DB04 DB13 DB14 DC19 EA02 EA05 EA35 EB01 EB57 4F100 AA00B AB01A AH00B AH06G AH08G AK01B AS00B BA02 CB00 DC11A DD32B DE01B EH712 EH762 EJ182 EJ422 EJ482 GB41 GB56 YY00B ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 4D075 AE03 AE06 BB28Z DA06 DB02 DB04 DB13 DB14 DC19 EA02 EA05 EA35 EB01 EB57 4F100 AA00B AB01A AH00B AH06G AH08G AK01B AS00B BA02 CB00 DC11A DD32EEBEBEBH 182GBH

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 低固形分濃度の液体である粘着剤によっ
て金属基材表面に粘着剤層を形成し、次いで無機粉体を
含有する粉体材料を粘着剤層表面に固着させて粉体膜層
を形成し、次いで焼成することより有機成分を除去して
無機膜で被覆された金属基材を得ることを特徴とする無
機膜被覆金属材の製造方法。
An adhesive layer is formed on the surface of a metal substrate with an adhesive which is a liquid having a low solid content, and then a powder material containing an inorganic powder is fixed to the surface of the adhesive layer to form a powder film. A method for producing a metal material coated with an inorganic film, comprising forming a layer and then baking to remove an organic component to obtain a metal substrate coated with an inorganic film.
【請求項2】 無機材料の平均粒径が0.1μm〜20
μmである請求項1に記載の無機膜被覆金属材の製造方
法。
2. The inorganic material has an average particle size of 0.1 μm to 20 μm.
The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the thickness is μm.
【請求項3】 粉体材料が無機粉体と樹脂粉体とからな
る請求項1に記載の無機膜被覆金属材の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the powder material comprises an inorganic powder and a resin powder.
【請求項4】 粉体材料が無機粉体を有機バインダー材
料で包んだものである請求項1に記載の無機膜被覆金属
材の製造方法。
4. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the powder material is obtained by wrapping an inorganic powder with an organic binder material.
【請求項5】 粉体材料が無機粉体を有機バインダー材
料で包んだものと樹脂粉体とからなる請求項1に記載の
無機膜被覆金属材の製造方法。
5. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the powder material comprises an inorganic powder wrapped with an organic binder material and a resin powder.
【請求項6】 粉体材料が着色成分を含有する請求項1
〜5のいずれかに記載の無機膜被覆金属材の製造方法。
6. The powder material according to claim 1, wherein the powder material contains a coloring component.
6. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to any one of items 1 to 5.
【請求項7】 粘着剤が金属アルコキシドを含有する請
求項1〜6のいずれかに記載の無機膜被覆金属材の製造
方法。
7. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive contains a metal alkoxide.
【請求項8】 粘着剤の固形分濃度が0.1〜50重量
%である請求項1〜7のいずれかに記載の無機膜被覆金
属材の製造方法。
8. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the solid content of the pressure-sensitive adhesive is 0.1 to 50% by weight.
【請求項9】 金属基材が微細パターンの穿孔を有する
請求項1〜8のいずれかに記載の無機膜被覆金属材の製
造方法。
9. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the metal substrate has perforations in a fine pattern.
【請求項10】 金属基材がプラズマディスプレイパネ
ルのリブ芯材である請求項1〜9のいずれかに記載の無
機膜被覆金属材の製造方法。
10. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the metal substrate is a rib core material of a plasma display panel.
【請求項11】 金属基材がフィールドエミッションデ
ィスプレイのスペーサー芯材または絶縁層芯材である請
求項1〜9のいずれかに記載の無機膜被覆金属材の製造
方法。
11. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the metal substrate is a spacer core material or an insulating layer core material of a field emission display.
【請求項12】 金属基材が除塵フィルターの芯材であ
る請求項1〜9のいずれかに記載の無機膜被覆金属材の
製造方法。
12. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the metal substrate is a core material of a dust filter.
【請求項13】 金属基材が電磁波シールドフィルター
の芯材である請求項1〜9のいずれかに記載の無機膜被
覆金属材の製造方法。
13. The method for producing a metal material coated with an inorganic film according to claim 1, wherein the metal substrate is a core material of an electromagnetic wave shielding filter.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010280121A (en) * 2009-06-04 2010-12-16 Tokyo Univ Of Science Laminate of ceramic-based insulating layer and metal layer, and method for manufacturing the same

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