JP2000047200A - 拡散反射板とそれを用いた液晶表示装置およびその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】どの方向から見ても明るく、高コントラストの
画像が得られる低コストの液晶表示装置の提供にある。 【解決手段】ガラス基板上に複数の凸部あるいは凹凸部
がランダムに形成された樹脂層が形成されており、該樹
脂層上に反射板、絶縁層兼平坦化層、透明電極および配
向制御膜が順次積層形成された一方の電極基板と、ガラ
ス基板上に透明電極と配向制御膜が積層形成されたもう
一方の電極基板とが配向制御膜が対向するよう配置され
ており、前記両基板間に液晶層が挟持されてなる液晶表
示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、特に反射型カラー表示に有効な機能を備えた反射板
内臓型の液晶表示装置およびその製法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来の反射型カラー液晶表示装置とし
て、特開平３−２２３７１５号、特開平５−８０３２７
号、特開平４−２４３２２６号公報等に示されるよう
に、反射膜下の形状を凹凸にすることにより、内蔵の拡
散反射膜を簡易に製造する方法が提案されている。

【０００３】これらの方法は、（１）すりガラス表面に
アルミ薄膜を設けたもの、（２）反射電極と熱膨張率の
異なる薄膜層とを２層構造にするもの、（３）樹脂で形
成された多数の微細な凸部上に反射膜を設けたもので、
これらはいずれも反射板と電極を兼用したものである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の（１）
は、サンドブラスト等でガラス基板面に微細な凹凸を形
成する、（２）は、反射膜と反射膜下に形成された樹脂
との熱膨張係数の違いで生じる応力により反射膜表面に
微細な凹凸を形成するものである。

【０００５】また、これらの反射膜はいずれもパターニ
ングされ、反射板と電極とを兼用している。

【０００６】しかし、これらの方法では、 微細凹凸パターンの再現性が悪い、 反射膜のパターニングが困難、 反射膜上にカラーフィルタを形成することが困難、 等の課題を有していた。

【０００７】また、上記従来技術（３）は、感光性樹脂
を用いてフォトリソグラフィ法で形成するため、作製プ
ロセスが複雑でその工程が多く、コスト高となると云う
問題がある。さらに、反射板が電極を兼ねているので、
反射板上にカラーフィルタを形成する素子構成では、液
晶に印加される電圧が低下すると云う課題も有してい
た。

【０００８】さらに、上記従来技術（２）、（３）で
は、電極端子下に樹脂層があるため、液晶ドライバＩＣ
を搭載したテープ・キャリア・パッケージ（以下、ＴＣ
Ｐと云う）を、導電性フィルムを介して加熱，加圧する
接続工程において、接続不良の要因となり、電極端子部
で膜剥離等が起こり易く、また、再接続が困難と云う課
題も有していた。

【０００９】本発明の目的は、上記課題を解決した拡散
反射板とそれを用いた液晶表示装置、並びに、該液晶表
示装置の製法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】〔１〕 基板と、その基
板の上に形成されている凹凸を有する薄膜層と、この凹
凸を有する薄膜層の上に形成されている反射層を有する
拡散反射板であって、前記薄膜層と前記反射層とは予め
一体形成された層であることを特徴とする拡散反射板。

【００１１】〔２〕 前記薄膜層と前記反射層との間に
は両者を接着する接着層を有する前記の拡散反射板。

【００１２】〔３〕 基板と、この基板の上に転写フィ
ルムにより転写，接着された拡散反射層を有することを
特徴とする拡散反射板。

【００１３】〔４〕 基板と、その基板の上に形成され
ている凹凸を有する薄膜層と、この凹凸を有する薄膜層
の上に形成されている反射層と、その反射層の上に形成
されている平坦化層を有する拡散反射板であって、前記
薄膜層と前記反射層とは予め一体形成された層であり、
前記薄膜層と前記基板とは接着層により接着されている
ことを特徴とする拡散反射板。

【００１４】〔５〕 前記薄膜層は前記接着層を兼ねて
いる前記の拡散反射板。

【００１５】〔６〕 一対の基板と、この一対の基板に
挟持された液晶層を有し、前記一対の基板の一方の基板
の上に形成されている接着層と、この接着層の上に形成
されている凹凸を有する薄膜層と、この凹凸を有する薄
膜層の上に形成されている反射層と、この反射層の上に
形成されている平坦化層と、この平坦化層と前記一対の
基板の他方の基板との間に前記液晶層に電界を生じさせ
る電極構造を有することを特徴とする液晶表示装置。

【００１６】〔７〕 ガラス基板上に複数の凸部あるい
は凹凸部がランダムに形成された樹脂層が形成されてお
り、前記樹脂層上に反射板、絶縁層兼平坦化層、透明電
極および配向制御膜が順次積層形成された一方の電極基
板ａと、ガラス基板上に透明電極と配向制御膜が積層形
成されたもう一方の電極基板ｂとが配向制御膜が対向す
るよう配置されており、前記両基板間に液晶層が挟持さ
れてなることを特徴とする液晶表示装置。

【００１７】〔８〕 前記絶縁層兼平坦化層上に遮光層
とカラーフィルタとが形成されており、前記液晶層の厚
みが、遮光層上に形成した複数の柱状樹脂部によって規
制されている前記の液晶表示装置。

【００１８】

〔９〕 ガラス基板面に薄膜の樹脂層を形
成し、多数の微細な凸部あるいは凹凸部がランダムに形
成された押し型をもって前記樹脂層面上を加熱，押圧す
ることにより該樹脂層表面に微細な凸部あるいは凹凸部
を形成する工程と、前記樹脂層上に反射膜を形成し、該
反射膜上に絶縁層兼平坦化層を形成する工程と、前記絶
縁層兼平坦化層上に遮光層およびカラーフィルタ層を形
成する工程と、前記カラーフィルタ層上に平坦化層を形
成する工程と、前記平坦化層上に透明電極を形成する工
程と、前記透明電極上に液晶の配向制御膜を形成する工
程、により形成した一方の電極基板ａと、ガラス基板面
に透明電極を形成し、該透明電極上に液晶の配向制御膜
を形成したもう一方の電極基板ｂとを配置し、前記両電
極基板ａ，ｂの配向制御膜が対向するよう組合せ、該両
電極基板間に液晶を充填，封止する工程を含むことを特
徴とする液晶表示装置の製法。

【００１９】〔１０〕 前記ガラス基板面に多数の微細
な凸部あるいは凹凸部の形成に、多数の微細な凸部ある
いは凹凸部がランダムに設けられた高分子ベースフィル
ム上に、光感光性樹脂または熱硬化性樹脂が積層された
転写フィルムを前記ガラス基板面に加熱，押圧して貼り
合わせ、前記高分子ベースフィルムを剥離することで形
成する前記の液晶表示装置の製法。

【００２０】〔１１〕 前記平坦化層上に形成した遮光
層上に、液晶層の厚みを規制する複数の柱状樹脂部を形
成する工程を含む前記の液晶表示装置の製法。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明の拡散反射板、遮光層付き
拡散反射板または拡散反射板用下地フィルム等を用いた
反射型カラー液晶表示装置の具体的な製法の一例は次の
とおりである。

【００２２】（１）多数の微細な凸部あるいは凹凸部
（ピッチ：１０〜３０μｍ、高さ、または、深さ：１〜
２μｍ）がランダムに設けられた高分子ベースフィルム
上に、光感光性樹脂または熱硬化性樹脂を塗布（膜厚：
１〜３μｍ），乾燥させた転写フィルムを用い、支持体
である高分子ベースフィルム上からロールラミネータ等
により熱（５０〜１５０℃）と圧力（１〜１２ｋｇ／ｃ
ｍ²）を加えて、前記光感光性樹脂または熱硬化性樹脂
の薄膜をガラス基板面に貼り合わせる（ロール速度：
０.１〜３ｍ／分）工程、（２）支持体である高分子ベ
ースフィルムを剥離する工程、（３）前記凸あるいは凹
凸を有する樹脂の薄膜上に反射膜（アルミニウム、銀等
の薄膜、膜厚：１００〜３００ｎｍ）を形成する工程、
（４）前記反射膜上に絶縁膜兼平坦化膜（膜厚：１〜２
μｍ）を形成する工程、（５）前記絶縁膜上に遮光膜
（膜厚：０.５〜２μｍ）を形成する工程、（６）前記
遮光膜上に赤，緑および青のカラーフィルタ（膜厚：
０.５〜２μｍ）を形成する工程、（７）前記カラーフ
ィルタ上に平坦化層（膜厚：１〜３μｍ）を形成する工
程、（８）前記平坦化膜上に透明電極となるＩＴＯ（Ｉ
ndium Ｔin Ｏxide）膜（１００〜３００ｎｍ）を形成
する工程、（９）前記透明電極上に配向制御膜（５０〜
１５０ｎｍ）を形成する工程、から成る一方の電極基板
と、ガラス基板上に、（１０）透明電極を形成する工
程、（１１）前記透明電極上に配向制御膜（５０〜１５
０ｎｍ）を形成する工程、から成るもう一方の電極基板
とを、（１２）互いの配向制御膜面が対向するようスペ
ーサ材（ポリマービーズ，シリカビーズ，ガラス繊維）
を介して組合せ、両電極基板周辺をシール材（エポキシ
樹脂に上記スペーサ材を配合したもの）で接着，シール
する工程、（１３）両電極基板間に液晶を封入，封止す
る工程、により液晶表示素子を作製する。

【００２３】そして、（１４）前記液晶表示素子の透明
電極のみを形成したガラス基板面に、所定の位相板と偏
光板を貼り合わせる工程、（１５）前記液晶表示素子に
液晶駆動用ＩＣが搭載されたＴＣＰおよび駆動用外部回
路との接続端子等を接続する工程、（１６）前記液晶表
示素子をケース、フレーム等に組込む工程、により本発
明の液晶表示装置が完成する。

【００２４】また、本発明の第２の特徴は、前記（１）
の多数の微細な凸部あるいは凹凸部がランダムに設けら
れた高分子ベースフィルムに替えて、所定の凸または凹
凸が設けられたローラー、スタンパーあるいは高分子シ
ートを原型とする押し型を用いる方式で行ってもよい。

【００２５】具体的には、（１）ガラス基板上に樹脂を
塗布，乾燥することで薄膜（膜厚：１〜３μｍ）の樹脂
層を形成する工程、（２）多数の微細な凸部あるいは凹
凸部がランダムに設けられた上記の押し型を用い、薄膜
の樹脂層に凸あるいは凹凸のパターンを熱と圧力を加え
て型押しする。

【００２６】そして、以下の工程は前記（３）〜（１
６）に記載の工程と同様である。

【００２７】本発明は、高分子ベースフィルム上に顔料
（黒あるいは赤，緑，青）が分散された感光性樹脂膜、
反射膜層、樹脂層が積層されたフィルム（以下、拡散反
射板一体型カラーフィルタフィルムと云う）、あるい
は、高分子ベースフィルム上に赤色，緑色，青色の顔料
が分散された感光性樹脂膜が積層されたフィルム（以
下、カラーフィルタフィルムと云う）を用いることで、
従来に比べ大幅にその製造工程を削減することができる
と共に、反射板を形成していない対向する基板に遮光膜
やカラーフィルタ等を形成しないですむことから、対向
基板に電極を形成することが容易になり、この電極の修
正やＴＣＰの接続が容易にできる。

【００２８】また、本発明において、ガラス基板に樹脂
層／反射膜層、または、樹脂層／反射膜層／遮光膜層の
形成の簡便な方法としては、予め、高分子ベースフィル
ム上に反射膜層および樹脂層、あるいは、遮光膜層、反
射膜層および樹脂層が積層された転写フィルムを張り合
わせるだけで一括形成することができる。

【００２９】また、微細形状で、かつ、電極本数の多い
信号電極を、一方の電極基板に形成することにより、電
極の修正やＴＣＰの接続時のリペアが容易になる等、高
歩留まりで低コスト化を図ることができる。

【００３０】さらに、高分子ベースフィルム上に凸ある
いは凹凸を有する樹脂層を設けたフィルムに、反射フィ
ルム、感光性黒色フィルムを順次積層した拡散反射板付
きカラーフィルタフィルムをガラス基板にラミネート
し、感光性黒色フィルムをフォトマスクを介して露光，
現像し、硬化することで遮光層を形成することも可能で
ある。

【００３１】また、ガラス基板上に前記カラーフィルタ
フィルムをラミネート、または、ガラス基板上に赤、緑
または青の顔料がそれぞれ分散された感光性樹脂（以
下、カラーレジストと云う）の薄膜をスピンコート法に
より形成し、フォトマスクを介して露光，現像および硬
化を行い、第１のカラーフィルタをパターン形成する。
次いで、同様にして第２、第３のカラーフィルタを形成
する。

【００３２】上記第１，第２および第３のカラーフィル
タの表面形状を平坦にする平坦化層を形成後、その上に
ＩＴＯ膜からなる透明電極パターンを形成する。

【００３３】前記透明電極上に液晶分子の配向を制御す
る配向膜（ポリイミド系樹脂）を形成し、その上を公知
の手段でラビングし配向処理することで、一方の電極基
板を作製することもできる。

【００３４】また、本発明の拡散反射板は、フォトリソ
グラフィ法を用いずとも凸あるいは凹凸が簡便なフィル
ム転写等により形成でき、この上面にアルミニウム、銀
等の反射層を形成することで、内蔵型拡散反射板が作製
できる。従って、従来よりも工程が少なく、低コストの
拡散反射板内蔵型の液晶表示装置を得ることができる。

【００３５】本発明によれば、電極と反射板とを兼用せ
ず、電極と反射板とを分離することができたことによ
り、金属電極のパターニングが極めて容易となり、この
ような構成により、電極と内臓反射板との間に他の構成
要素、特に、対向する基板に形成していたカラーフィル
タや遮光膜（ＢＭ）等を、液晶層に印加する電圧を低下
させることなく、反射板を形成した基板に形成すること
ができる。

【００３６】さらに、これらのカラーフィルタ、ＢＭ等
を拡散反射板を形成した基板に形成することができるこ
とにより、対向する基板の構成要素が減り、対向基板に
形成する電極のリペアを容易に行うことができるような
る。特に、電極数が多く、かつ、狭いピッチの信号電極
をガラス基板上に直接形成できるので、液晶駆動用ＩＣ
を搭載したＴＣＰの接続、および、ＩＣのリペアが容易
になるので有利である。

【００３７】また、拡散反射板の形成方法として、転写
フィルムを貼り合わせる方法を採用すると、工程が少な
く、ガラス基板のリペア等も容易となり、低コスト化を
図ることができると共に、拡散反射板の拡散反射面側を
平坦化することができるので、基板と基板との間のギャ
ップ精度の向上や、液晶層との間に形成される部材の平
坦化を実現できる。

【００３８】次に、本発明の実施に好適な反射型液晶表
示素子について説明する。本発明では、表示規模６４０
×２４０ドット（画素ピッチ：０.３ｍｍ×０.３ｍｍ，
画素サイズ：０.２８８ｍｍ×０.２８８ｍｍ，画面対角
サイズ：８.１インチ）の１／２ＶＧＡ対応ハンド・ヘ
ルドタイプ・パーソナル・コンピュータ（以下、ハンド
・ヘルドＰＣと称する）や、モニタなどの用途に使用さ
れるスーパー・ツイステッド・ネマチック（ＳＴＮ）液
晶表示装置、あるいは、反射型ＳＴＮカラー液晶表示装
置（以下、単に反射型カラー液晶表示装置と云う）を主
体に説明する。

【００３９】ただし、本発明は、液晶表示装置の液晶の
駆動方式には依存しないので、アクティブ・アドレッシ
ング方式、パッシブ方式のいずれにも適応でき、ＳＴＮ
液晶表示方式に限定されるものではない。

【００４０】

【実施例】〔実施例 １〕本発明の反射型液晶表示素子
の製法の一例を図１の模式断面図に基づき説明する。

【００４１】工程（ａ）：多数の凹部が表面に形成され
た支持体となる高分子フィルム１５（ポリエチレンテレ
フタレート，膜厚：５０μｍ，凹部ピッチ：およそ１５
μｍ，凹部深さ：１.２μｍ）上にアクリル系樹脂から
なる樹脂層２（エポキシ系樹脂あるいはイミド系樹脂で
も可、また、樹脂層は感光性あるいは非感光性何れも
可）を塗布（膜厚：１.５μｍ），乾燥後、樹脂層２上
に保護フィルム（図示せず、ポリエチレン，膜厚：６μ
ｍ）を設けた転写フィルムを用意する。

【００４２】上記転写フィルムをガラス基板１（ソーダ
ガラス，板厚：０.７ｍｍ）にロールラミネータ１８
（基板温度：１００℃，ロール温度：１００℃，ロール
圧力：６ｋｇ／ｃｍ²，送り速度：０.５ｍ／分）を用い
て転写し、次いで本硬化（２４０℃／３０分）を行い、
保護フィルムを剥がして凸部を有する樹脂層２を形成す
る。

【００４３】工程（ｂ）：多数の凸部を有する樹脂層２
上にアルミニウムの反射膜層３（銀でも可、膜厚：１０
０ｎｍ）を形成する。

【００４４】工程（ｃ）：前記反射膜層３上にアクリル
系樹脂の絶縁層兼平坦化層４（膜厚：２μｍ）形成す
る。

【００４５】工程（ｄ）：前記絶縁層兼平坦化層４上に
黒色顔料が分散された感光性樹脂層５を塗布し、フォト
マスク１６を介して紫外線１７を露光後、現像しアクリ
ル系樹脂（エポキシ系樹脂でも可）の遮光層５ａ（膜
厚：１.２μｍ）を形成する。

【００４６】工程（ｅ）：前記遮光層５ａ上に赤色顔料
が分散された母材がアクリル系樹脂（エポキシ系樹脂で
も可）の感光性樹脂層６（膜厚：１.２μｍ）を塗布
し、フォトマスク１６を介して紫外線１７を露光，現像
する。

【００４７】工程（ｆ）：感光性樹脂層６による赤の着
色層６ａが形成される。

【００４８】工程（ｇ）：次に、前記赤の着色層６ａの
形成と同様にして緑の着色層６ｂ、青の着色層６ｃを順
次形成後、前記遮光層５ａ、および、着色層６ａ，６
ｂ，６ｃ上にアクリル系樹脂（エポキシ系樹脂でも可）
の平坦化層７（膜厚：２μｍ）、透明電極８（ＩＴＯ
膜，膜厚：２６０ｎｍ，電極数：２４０本，電極ピッ
チ：３００μｍ，電極幅：２８８μｍ，電極間隙：１２
μｍの走査電極）、および、ポリイミドの配向制御膜
（膜厚：７０ｎｍ）を形成する。

【００４９】工程（ｈ）：上記（ａ）〜（ｇ）により形
成した一方の電極基板と、ガラス基板１０（ソーダガラ
ス，板厚：０.７ｍｍ）上に透明電極１１（ＩＴＯ膜，
膜厚：２６０ｎｍ，電極数：１９２０本，電極ピッチ：
１００μｍ，電極幅：８８μｍ，電極間隙：１２μｍの
信号電極）、ポリイミドの配向制御膜１２（膜厚：７０
０ｎｍ）を形成したもう一方の電極基板を、互いの電極
８，１１が対向するよう配置し、液晶１４の厚みに相当
するポリマービーズのスペーサ材１３（粒径：６μｍ）
を介して組合せる。

【００５０】次いで、基板周辺はエポキシ系樹脂にポリ
マービーズ（ガラスファイバ等も使用可）を配合したシ
ール材でシールし、両電極基板間に液晶１４（シアノＰ
ＣＨおよびトラン誘導体からなる液晶組成物、屈折率異
方性Δｎ：０.１３３,ツイスト角：２５０°）を封入，
封止（感光性アクリル系樹脂または感光性エポキシ系樹
脂）することにより反射型液晶表示素子を作製した。

【００５１】なお、本実施例では拡散反射板の下地層と
しては、直径１５μｍ、高さ１.２μｍの多数の微小な
凸状（半球状）樹脂を、光の干渉が発生しないようにラ
ンダムに配置したものに、反射膜として膜厚が１００ｎ
ｍアルミニウム膜を形成したが、凸状樹脂の材料、形状
および大きさ等は、目的に応じて選択することができ
る。

【００５２】本実施例によれば、フィルム転写法による
拡散反射板は、樹脂層に所望の形状をフォトリソグラフ
ィ法と同等精度で形成できるので、該拡散反射板を内蔵
した反射型カラー液晶表示装置を低コストで提供でき
る。また、それを内蔵することにより、どの方向からで
も明るく、高コントラストの画像の反射型カラー液晶表
示装置を提供することができる。

【００５３】特に、画素電極と反射板を分離したこと
で、反射板上にカラーフィルタを形成した素子構成で
も、液晶の印加電圧の低下がない反射型液晶表示装置を
提供することができる。

【００５４】また、製法が複雑なフォトリソグラフィ法
によらず、パターン原型を用いることで転写フィルムに
所望のパターンを再現性よく容易に形成することができ
る。

【００５５】また、電極幅が狭く、配置ピッチの狭い信
号電極をガラス基板上に直接形成するため、液晶駆動用
ＩＣを搭載したＴＣＰの実装、並びに、修正が容易で、
液晶素子の作製歩留まりを向上する効果もある。

【００５６】さらにまた、微細な凸または凹部を有する
高分子ベースフィルム上に遮光膜層，反射膜層，樹脂層
が順次積層された転写フィルムを使用すれば、製造工程
を大幅低減でき、また、着色層に転写フィルムを用いる
ことで着色層の表面が平坦となり、表示面全体が均一で
高コントラストの画像が得られる。

【００５７】なお、前記絶縁層兼平坦化層４および平坦
化層７の採用は目的に合わせて任意である。例えば、有
効表示領域のみに形成すれば、ＴＡＢ接続がより有利に
なる。

【００５８】また、いずれか一方の透明電極と配向制御
膜の間に絶縁層を配置しても同様の効果が得られる。

【００５９】本発明の拡散反射板の製法はロール、プレ
ートあるいはシートに、予め原型となる凸または凹凸の
パターンを形成しておき、該パターンを薄膜樹脂層に転
写し、その上に反射膜を形成するだけで得られるので、
パターン再現性のよいものを容易に得ることができる。

【００６０】〔実施例 ２〕次に、本発明の他の反射型
液晶表示装置の製法の一例を図２に従って説明する。

【００６１】工程（ａ）：ガラス基板１（ソーダガラ
ス，板厚：０.７ｍｍ）上にスピンナー塗布法によりア
クリル系樹脂の樹脂層２を形成（膜厚：１.５μｍ）
後、乾燥させる。

【００６２】次いで、該樹脂層２上に、凹部あるいは凹
凸部が形成されたプレート状の押し金型１９（図示省
略、凹部ピッチ：おゝよそ15μｍ，凹部深さ：１.２μ
ｍ）を用いて熱及び圧力２０（温度：１００℃，圧力：
６ｋｇ／ｃｍ²）を加え、樹脂層２に転写後、該樹脂層
２を恒温槽中（２４０℃）で３０分硬化し、凸部を形成
する。

【００６３】工程（ｂ）以下は、実施例１と同様に行
い、反射型液晶表示装置を作製した。また、拡散反射板
の下地層についても実施例１と同じである。

【００６４】なお、フォトリソグラフィ法では全工程終
了後でなければ不具合を確認できないが、本実施例によ
れば、初期の工程（ａ）でセミ・キュアされた樹脂層２
に所定の凹部または凹凸部を転写するので、不具合の確
認を直ちに行うことができる。従って、ガラス基板の再
生も直ちに容易に行うことができ、低コスト化に極めて
有利である。

【００６５】〔実施例 ３〕次に、本発明の他の反射型
液晶表示装置の製法の一例を図３に従って説明する。

【００６６】工程（ａ）：ガラス基板１上に実施例２と
同様にして形成した樹脂層２に、ロール２１を用いて、
ロール表面に形成された凹部あるいは凹凸部を転写す
る。

【００６７】次の工程（ｂ）以下は、実施例２と同様で
あるので説明を省略する。また、拡散反射板の下地層に
ついても実施例１と同じである。

【００６８】本実施例の特徴は、簡単に拡散反射板用の
下地層が形成できるだけでなく、フォトリソグラフィ法
と同様に、薄膜樹脂層に転写した凸部または凹凸部を有
する下地層へ、紫外線照射量あるいは硬化温度等を制御
することにより、凸部または凹凸部の形状を任意に制御
することができる。

【００６９】また、前述した実施例２と同様、拡散反射
板の下地層となる凸部あるいは凹凸部を有する樹脂層２
の形成工程で、不具合が発生した場合は、樹脂層を剥離
してガラス基板の再利用が容易であると云う利点があ
る。

【００７０】〔実施例 ４〕次に、本発明の他の反射型
液晶表示装置の製法の一例を図４に従って説明する。

【００７１】工程（ａ）：多数の凹部が表面に形成され
た実施例１で用いた高分子ベースフィルム１５上に、同
じく樹脂層２を塗布（膜厚：１.５μｍ），乾燥後、樹
脂層２上にポリエチレンの保護フィルム（図示せず，膜
厚：６μｍ）を設けた転写フィルムを、実施例１と同様
にガラス基板１にロールラミネータ１８を用いて転写
後、該樹脂層２を恒温槽中（２４０℃）で３０分硬化
し、凸部を形成する。

【００７２】工程（ｂ）：多数の凸部を有する樹脂層２
上に反射膜層３を実施例１と同様に形成する。

【００７３】工程（ｃ）：前記反射膜層３上に絶縁層兼
平坦化層４（アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂，膜
厚：２.０μｍ）形成する。

【００７４】工程（ｄ）：前記絶縁層兼平坦化層４上に
塗布あるいはラミネートした黒色顔料が分散された感光
性樹脂層５を実施例１と同様にして形成する。

【００７５】工程（ｅ）：前記遮光層５ａ上に赤色顔料
が分散された感光性樹脂層６（母材：アクリル系樹脂ま
たはエポキシ系樹脂，膜厚：１.２μｍ）を塗布（ある
いはラミネート）し、フォトマスク１６を介して紫外線
１７を露光，現像する。

【００７６】工程（ｆ）：赤の着色層６ａが遮光層５ａ
上に柱状に形成される。

【００７７】工程（ｇ）：次に、前記赤の着色層６ａの
形成と同様にして、緑の着色層６ｂ、青の着色層６ｃを
順次形成後、前記遮光層５ａ、および、着色層６ａ，６
ｂ，６ｃ上に透明電極８（ＩＴＯ膜，膜厚：２６０ｎ
ｍ，電極：走査電極）、ポリイミドの配向制御膜（膜
厚：７０ｎｍ）を形成する。

【００７８】工程（ｈ）：液晶厚みを規定するスペーサ
材を使用しない以外は実施例１と同様にして、対向電極
基板を配置し、両電極基板間に液晶１４を封入、封止す
ることにより反射型液晶表示装置を作製した。なお、拡
散反射板の下地層についても実施例１と同じである。

【００７９】なお、本実施例では、スペーサ材を用いず
に、遮光層５ａ上に形成した柱状の着色層６ａにより液
晶の厚みを規定したので、反射型液晶表示装置にとって
有効である。

【００８０】〔実施例 ５〕次に、本発明の他の反射型
液晶表示装置の製法の一例を図５に従い説明する。

【００８１】工程（ａ）：多数の凹部が表面に形成され
た支持体となる高分子フィルム１５（ポリエチレンテレ
フタレート，膜厚：５０μｍ，凹部ピッチ：おゝよそ１
５μｍ，凹部深さ：１.２μｍ）上に実施例１の樹脂層
２を塗布（膜厚：１.５μｍ）し、乾燥後、樹脂層２上
に実施例１の保護フィルム（図示せず）を設けた転写フ
ィルムを用意する。

【００８２】上記転写フィルムを実施例１と同様にガラ
ス基板１にロールラミネータ１８を用いて転写後、該樹
脂層２を恒温槽中（２４０℃）で３０分硬化し、凸部を
形成する。

【００８３】工程（ｂ）：凸部を有する前記樹脂層２上
に反射膜層３（アルミニューム，銀、膜厚：１００ｎ
ｍ）を形成する。

【００８４】工程（ｃ）：前記反射膜層３上に絶縁層兼
平坦化層４（アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂，膜
厚：２μｍ）形成する。

【００８５】工程（ｄ）：前記絶縁層兼平坦化層４上に
塗布あるいはラミネートした黒色顔料が分散された感光
性樹脂層５に、フォトマスク１６を介して紫外線１７を
露光，現像して遮光層５ａ（母材：アクリル系樹脂また
はエポキシ系樹脂，膜厚：１.２μｍ）を形成する。

【００８６】工程（ｅ）：前記遮光層５ａ上に赤色顔料
が分散された感光性樹脂層６（母材：アクリル系樹脂ま
たはエポキシ系樹脂，膜厚：１.２μｍ）を塗布あるい
はラミネートし、フォトマスク１６を介して紫外線１７
を露光・現像する。

【００８７】工程（ｆ）：前記感光性樹脂層６により、
赤の着色層６ａを遮光層５ａ上に柱状に形成する。

【００８８】工程（ｇ）：前記赤の着色層６ａの形成と
同様にして、緑の着色層６ｂ、青の着色層６ｃを形成、
遮光層５ａおよび着色層６ａ，６ｂ，６ｃの柱状の上に
弾性層２２（感光性樹脂，膜厚：１.２μｍ）、透明電
極８（ＩＴＯ膜，膜厚：２６０ｎｍの走査電極）、ポリ
イミドの配向制御膜９（膜厚：７０ｎｍ）を形成する。

【００８９】工程（ｈ）：実施例１と同様にして、対向
電極基板を配置し、両電極基板間に液晶１４を封入、封
止することで反射型液晶表示装置を作製した。なお、拡
散反射板の下地層についても実施例１と同じである。

【００９０】なお、本実施例における、遮光層５ａ上に
着色層６および弾性層２２の柱を形成して液晶厚みを規
定する方法は、本実施例に限定されるものでなく、スペ
ーサ材を用いて液晶の厚みを規定する液晶表示装置にお
いては有効な手段である。

【００９１】また、着色層６および弾性層２２の柱は画
面サイズを考慮して設けるのが望ましい。

【００９２】また、ベースフィルム上に着色層（黒、
赤、緑および青のいずれかの色）、平坦化膜層、反射膜
層および薄膜樹脂層が積層された転写フィルムを用いる
ことにより、工数の大幅削減と、拡散反射板上にカラー
フィルタを直接形成できると云う利点がでる。また、こ
の方法で拡散反射板上にカラーフィルタを形成すれば、
カラーフィルタの表面を平坦に形成できるという効果が
ある。

【００９３】また、対向基板にカラーフィルタが無いこ
とからＴＣＰ接続する際に有利である。更にまた、平坦
化できることからコントラスト比の低下や輝度むらを防
止することもできる。

【００９４】上記の拡散反射板上にカラーフィルタを形
成する場合、上記の方法に限定されず、拡散反射板上に
顔料レジストや転写フィルム等を用いて形成してもよ
い。

【００９５】また、この着色層が黒色の染料等を分散し
た感光性樹脂を用いた場合には、パターニングまでは透
明で、その後、加熱することにより化学反応で黒色化す
るような着色層を用いと線幅の細い遮光層が形成でき、
高開口率（明るい）の反射型液晶表示装置を提供するこ
とができる。

【００９６】さらに、凸部あるいは凹凸部を有する樹脂
層を有効表示領域のみに配置することで、透明電極の端
子部を直接ガラス基板上に形成し得るので、ＴＡＢ接続
が有利になる。

【００９７】〔実施例 ６〕次に、本発明の他の反射型
液晶表示装置の製法の一例を図６に従い説明する。

【００９８】工程（ａ）：実施例１で用いたポリエチレ
ンテレフタレートの高分子フィルム１５上に、樹脂層２
およびその上に保護フィルムを配置してなる転写フィル
ムを用意する。

【００９９】上記転写フィルムをガラス基板１にロール
ラミネータ１８を用い実施例１と同じ条件で転写後、前
記樹脂層２を恒温槽（２４０℃）中で３０分硬化し、凸
部を有する樹脂層２を形成する。

【０１００】工程（ｂ）：多数の凸部を有する樹脂層２
上にアルミニウムの反射膜層３（１００ｎｍ）を形成す
る。

【０１０１】工程（ｃ）：上記反射膜層３上にアクリル
系樹脂の絶縁層兼平坦化層４（膜厚：２μｍ）を形成す
る。

【０１０２】工程（ｄ）：上記絶縁層兼平坦化層４上に
ＩＴＯ透明電極８（２６０ｎｍ，信号電極）およびポリ
イミド系樹脂の配向制御膜９（７０ｎｍ）を形成し一方
の電極基板を作製した。

【０１０３】工程（ｅ）：次に、もう一方のガラス基板
１０（厚さ０.７ｍｍのソーダガラス）上に黒色顔料を
分散したアクリル系樹脂からなる黒色感光性樹脂層５を
スピンコートし、フォトマスク２４を介して紫外光２３
を露光する。

【０１０４】工程（ｆ）：現像することにより遮光層５
ａ（膜厚：１.２μｍ）を形成する。

【０１０５】工程（ｇ）：上記遮光層５ａ上に赤色顔料
が分散されたアクリル系樹脂の着色感光性樹脂層６（膜
厚：１.２μｍ）を塗布（あるいはラミネート）後、フ
ォトマスク２４を介して紫外光１７を露光，現像する。

【０１０６】工程（ｈ）：赤の着色層６ａを遮光層５ａ
間に形成する。

【０１０７】工程（ｉ）：赤の着色層６ａと同様の工程
で、緑の着色層６ｂおよび青の着色層６ｃを形成し、そ
の上に平坦化層７（アクリル系樹脂またはエポキシ系樹
脂，膜厚：２μｍ）、ＩＴＯ透明電極８（２６０ｎｍ，
走査電極）および配向制御膜１２（ポリイミド系樹脂，
７０ｎｍ）を形成する。

【０１０８】前記工程（ａ）〜（ｄ）により得られた電
極基板１と、前記工程（ｅ）〜（ｉ）による電極基板１
０上とを配向制御膜９および１２側を対向配置し、スペ
ーサ材１３（ポリマービーズ）を介して組合せ、基板周
辺を実施例１で用いたシール材でシール，接着し、両電
極基板間に実施例１で用いた液晶１４（シアノＰＣＨお
よびトラン誘導体の液晶組成物、屈折率異方性△ｎ＝
０.１３３、ツイスト角：２５０°）を封入後、封止
（感光性アクリル系樹脂）することで反射型液晶表示素
子を作製した。

【０１０９】なお、本実施例では拡散反射板の下地層と
して、微小凸状（半球状：直径がおゝよそ１５μｍ×高
さが１.２μｍ）を光の干渉が発生しないようにランダ
ムに配置し、その上にアルミウム反射膜（１００ｎｍ）
を形成したが、微小凸状の材料、形状、大きさ等は、目
的に応じて選択することができる。

【０１１０】本実施例は、カラーフィルタと拡散反射板
を別のガラス基板に形成したことにより、透過型液晶表
示素子用のカラーフィルタ基板を流用でき、低コストの
反射型カラー液晶表示装置を得ることができる。

【０１１１】〔実施例 ７〕薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）を備えたアクティブマトリクス駆動型液晶表示装置
の一例を図７に従い説明する。

【０１１２】一方の電極基板として、実施例１と同様に
転写フィルムを使用し、ガラス基板１（厚さ０.７ｍｍ
の無アルカリガラス板）に、その工程（ａ）〜（ｇ）に
より形成した微細の多数の凸部を有し、遮光層５ａと赤
の着色層６ａ，緑の着色層６ｂ、青の着色層６ｃと、遮
光層５ａおよび着色層６ａ，６ｂ，６ｃ上に平坦化層
７、ＩＴＯ透明電極（共通電極）８、配向制御膜９を有
するものを用いた。

【０１１３】もう一方の電極基板として、ガラス基板８
０（厚さ０.７ｍｍの無アルカリガラス板）上にゲート
電極８１、蓄積容量電極８２、絶縁膜８３、アモルファ
ス・シリコン・チャネル層８４、ドレイン電極８５、ソ
ース電極８６、画素電極（透明電極）８７、配向制御膜
９が形成されたものを用いた。

【０１１４】上記の両電極基板の電極８，８７が対向す
るよう配置し、液晶の厚みを規制するスペーサ材（図示
省略）を介して組合せ、基板周辺をシール材（図示省
略）で接着し、両電極基板間にＴＮ型の液晶１４を封入
した。

【０１１５】上記ガラス基板８０の外側に１／４波長板
９０、偏光板９１を配置すると共に、電源回路、駆動回
路、制御回路（図示省略）等を装備し、反射型カラー液
晶表示装置を作製した。

【０１１６】本実施例による反射型カラー液晶表示装置
は、従来品の様に、ＴＦＴ上にフォトリソグラフィ法に
よる凹凸樹脂膜や反射膜の形成工程が不要で、トランジ
スタ側の基板（８０）の歩留まりを低下させる要因も無
く、従って、低コストを図ることができる。

【０１１７】さらにまた、現在、主流の透過型カラー液
晶表示素子に用いているＴＦＴ形成基板をそのまま使用
することができる。また、本品はゲート電極やドレイン
電極等の金属電極からの反射光を偏光板下に設けた１／
４波長板により９０度回転させ偏光板で吸収する方式な
ので、金属電極からの反射光によるコントラストの低下
が生じない。

【０１１８】なお、本実施例では縦電界方式のアクティ
ブマトリクス型液晶表示素子で説明したが、横電界方式
のアクティブマトリクス液晶表示素子においても同様の
効果が得られる。この横電界方式の該素子に応用する場
合には、カラーフィルタ上に平坦化膜を形成するのが有
効である。その平坦化膜も転写フィルムを用いて形成す
ることが好ましい。

【０１１９】〔実施例 ８〕次に、本発明の反射型カラ
ー液晶表示装置の一例を図８に従い説明する。

【０１２０】図８に、反射型液晶表示素子３０の反射板
を形成しない方のガラス基板上に、位相板３１，３２、
偏光板３３を配置した反射型カラー液晶表示装置４０
に、液晶ドライバ集積回路を搭載したテープ・キャリア
・パッケージ３４、電源回路および制御回路等を搭載し
たプリント配線基板３５を接続すると共に、樹脂ケース
と金属フレーム（図示省略）を用いて一体化した。

【０１２１】この様にして作製した反射型カラー液晶表
示装置は、どの方向から見ても明るく、高コントラスト
の画像が得られ、また、従来にない低コスト化を図るこ
とができた。

【０１２２】本発明の反射型カラー液晶表示装置の反射
特性の測定法を図９、その代表的な反射特性を図１０に
示す。

【０１２３】図９に示す反射特性測定法は、上記の反射
型カラー液晶表示装置４０の上方に固定したフォトマル
チプライヤ４３を用いて、反射型カラー液晶表示装置４
０への入射光４１の散乱光４２を検出するものである。

【０１２４】また、図１０は上記測定法による反射特性
の一例のグラフであり、反射型カラー液晶表示装置４０
の法線に対して入射角θを±６０°まで傾けながら散乱
光４２を検出たものである。

【０１２５】図１０において、点線７０は反射板として
鏡面反射板を用い、かつ図６の素子構成で偏光板３３、
または、位相板３１，３２の下に光散乱フィルムを備え
た反射型カラー液晶表示装置の特性を示す。

【０１２６】破線６０はサンドブラスト処理で微細な凹
凸を形成した仮支持対となるベースフィルムを用いた転
写フィルム方式の拡散反射板を内蔵した反射型カラー液
晶表示装置の特性を示す。

【０１２７】そして、実線５０は図１１に示すような半
球状の突起をランダムに配置した拡散反射板を内蔵した
反射型カラー液晶表示装置の特性を示すものである。

【０１２８】図１０から、図１１に示すような半球状の
突起の転写フィルム方式の拡散反射板は勿論のこと、サ
ンドブラスト処理したベースフィルムを用いた転写フィ
ルム方式の拡散反射板でも、角度θが±４０°で、鏡面
反射板と光散乱フィルムを組合せた方式に比べ約４倍以
上の明るさが得られ、反射型液晶表示装置用としてその
有効性が確認できた。

【０１２９】また、本実施例の反射型液晶表示装置の画
質は、フォトリソグラフィ法により形成した拡散反射板
を内蔵する従来の反射型液晶表示装置のそれと同等以上
であることも確認できた。

【０１３０】本発明は１枚のガラス基板から多数のパネ
ルを作製することで、低コスト化を図るガラス基板サイ
ズの大型化に好適であると共に、平坦性および黒色フィ
ルタの細線化等や、着色フィルム材料の有効使用等の経
済面からも極めて優れている。

【０１３１】従って本発明は携帯性に優れたハンド・ヘ
ルドＰＣ，ノートＰＣ，ミニ・ノートＰＣ，テレビジョ
ン受像機およびパーソナル・デジタル・アシスタント
（ＰＤＡ）等に搭載される液晶ディスプレイや、モニタ
用大型液晶ディスプレイに有効である。

【０１３２】特に、均一な画像表示が得にくい大画面液
晶ディスプレイには、本発明のスペーサ材を用いない手
法が、画質面で効果が顕著である。

【０１３３】なお、本発明は内蔵反射板上あるいは内臓
拡散反射板上に電極を形成することができる液晶表示装
置と、内蔵反射板上あるいは内臓拡散反射板上に液晶層
に印加する電圧を低下させないで、カラーフィルタが形
成されている液晶表示装置を提供するもので、表示方式
等に限定されない。

【０１３４】

【発明の効果】本発明によれば、（１）転写フィルム方
式や押し型方式で容易に任意の形状で、かつ、再現性よ
く凹凸面を設けた内蔵拡散反射板が形成でき、どの方向
から見ても明るい反射型液晶表示装置を、低コストで得
ることができる。

【０１３５】（２）反射板とカラーフィルタを同一基板
に配置できるので、高歩留まりで液晶表示素子が作製で
き、高コントラスト化、高透過率化、均一表示特性の反
射型液晶表示装置を、低コストで得ることができる。

【０１３６】（３）スペーサ材を使用せずに液晶厚みを
規定することもできるので、均一性に優れた画像の反射
型および透過型液晶表示装置を低コストで得ることがで
きる。

【０１３７】（４）転写フィルム（無着色および着色）
の使用により、平坦化層が省略でき、液状のレジストま
たはカラーレジストに比較して無駄が少なく、低コスト
化に有効である。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の反射型カラー液晶表示装置の製造工
程の模式断面図である。

【図２】実施例２の反射型カラー液晶表示装置の製造工
程の模式断面図である。

【図３】実施例３の反射型カラー液晶表示装置の製造工
程の模式断面図である。

【図４】実施例４の反射型カラー液晶表示装置の製造工
程の模式断面図である。

【図５】実施例５の反射型カラー液晶表示装置の製造工
程の模式断面図である。

【図６】本発明による反射型カラー液晶表示装置の構成
を示す模式断面図である。

【図７】本発明によるアクティブマトリクス駆動型液晶
表示装置の構成を示す模式断面図である。

【図８】本発明による反射型カラー液晶表示装置の構成
を示す模式断面図である。

【図９】反射型カラー液晶表示装置の反射特性の測定法
を示す模式斜視図である。

【図１０】反射型カラー液晶表示装置の反射特性の一例
を示すグラフである。

【図１１】本発明の拡散反射板の球状突起の形状と構成
寸法を示す模式断面図である。

【符号の説明】

１，１０…ガラス基板、２…樹脂層、３…反射膜、４…
絶縁層兼平坦化層、５…黒色感光性樹脂層、５ａ…遮光
層、６…着色感光性樹脂層、６ａ，６ｂ，６ｃ…着色フ
ィルタ層、７…平坦化層、８，１１…透明電極、９，１
２…配向制御膜、１３…スペーサ材、１４…液晶、１５
…高分子フィルム、１６…フォトマスク、１７…紫外
光、１８…ロールラミネータ、１９…プレート状の押し
金型、２０…熱および圧力、２１…ロール状押し型、２
２…弾性層、３０…反射型液晶表示素子、３１，３２…
位相板、３３…偏光板、３４…テープキャリアパッケー
ジ、３５…プリント配線基板、４０…反射型カラー液晶
表示装置、４３…フォトマルチプライヤ、４１…入射
光、４２…散乱光、８０…ガラス基板、８１…ゲート電
極、８２…蓄積容量電極、８３…絶縁膜、８４…アモル
ファス・シリコン・チャネル層、８５…ドレイン電極、
８６…ソース電極、８７…画素電極。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑原 和広 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 伊東 理 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 近藤 克己 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 Ｆターム(参考） 2H089 LA07 MA04X NA06 NA24 QA12 QA16 TA12 TA13 TA14 TA15 TA17 2H091 FA02Z FA08X FA11X FA14Z FA34Z FB02 FB08 FB12 FC02 FC14 LA12 LA17

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板と、その基板の上に形成されている
   凹凸を有する薄膜層と、この凹凸を有する薄膜層の上に
   形成されている反射層を有する拡散反射板であって、 前記薄膜層と前記反射層とは予め一体形成された層であ
   ることを特徴とする拡散反射板。
2. 【請求項２】 前記薄膜層と前記反射層との間には両者
   を接着する接着層を有する請求項１に記載の拡散反射
   板。
3. 【請求項３】 基板と、この基板の上に転写フィルムに
   より転写，接着された拡散反射層を有することを特徴と
   する拡散反射板。
4. 【請求項４】 基板と、その基板の上に形成されている
   凹凸を有する薄膜層と、この凹凸を有する薄膜層の上に
   形成されている反射層と、その反射層の上に形成されて
   いる平坦化層を有する拡散反射板であって、 前記薄膜層と前記反射層とは予め一体形成された層であ
   り、 前記薄膜層と前記基板とは接着層により接着されている
   ことを特徴とする拡散反射板。
5. 【請求項５】 前記薄膜層は前記接着層を兼ねている請
   求項４に記載の拡散反射板。
6. 【請求項６】 一対の基板と、この一対の基板に挟持さ
   れた液晶層を有し、 前記一対の基板の一方の基板の上に形成されている接着
   層と、この接着層の上に形成されている凹凸を有する薄
   膜層と、この凹凸を有する薄膜層の上に形成されている
   反射層と、この反射層の上に形成されている平坦化層
   と、この平坦化層と前記一対の基板の他方の基板との間
   に前記液晶層に電界を生じさせる電極構造を有すること
   を特徴とする液晶表示装置。
7. 【請求項７】 ガラス基板上に複数の凸部あるいは凹凸
   部がランダムに形成された樹脂層が形成されており、前
   記樹脂層上に反射板、絶縁層兼平坦化層、透明電極およ
   び配向制御膜が順次積層形成された一方の電極基板ａ
   と、 ガラス基板上に透明電極と配向制御膜が積層形成された
   もう一方の電極基板ｂとが配向制御膜が対向するよう配
   置されており、 前記両電極基板ａ，ｂ間に液晶層が挟持されてなること
   を特徴とする液晶表示装置。
8. 【請求項８】 前記絶縁層兼平坦化層上に遮光層とカラ
   ーフィルタとが形成されており、前記液晶層の厚みが、
   遮光層上に形成した複数の柱状樹脂部によって規制され
   ている請求項７に記載の液晶表示装置。
9. 【請求項９】 ガラス基板面に薄膜の樹脂層を形成し、
   多数の微細な凸部あるいは凹凸部がランダムに形成され
   た押し型をもって前記樹脂層面上を加熱，押圧すること
   により該樹脂層表面に微細な凸部あるいは凹凸部を形成
   する工程と、 前記樹脂層上に反射膜を形成し、該反射膜上に絶縁層兼
   平坦化層を形成する工程と、 前記絶縁層兼平坦化層上に遮光層およびカラーフィルタ
   層を形成する工程と、 前記カラーフィルタ層上に平坦化層を形成する工程と、 前記平坦化層上に透明電極を形成する工程と、 前記透明電極上に液晶の配向制御膜を形成する工程、に
   より形成した一方の電極基板ａと、 ガラス基板面に透明電極を形成し、該透明電極上に液晶
   の配向制御膜を形成したもう一方の電極基板ｂとを配置
   し、 前記両電極基板ａ，ｂの配向制御膜が対向するよう組合
   せ、該両電極基板間に液晶を充填，封止する工程を含む
   ことを特徴とする液晶表示装置の製法。
10. 【請求項１０】 前記ガラス基板面に多数の微細な凸部
    あるいは凹凸部の形成に、多数の微細な凸部あるいは凹
    凸部がランダムに設けられた高分子ベースフィルム上
    に、光感光性樹脂または熱硬化性樹脂が積層された転写
    フィルムを前記ガラス基板面に加熱，押圧して貼り合わ
    せ、前記高分子ベースフィルムを剥離することで形成す
    る請求項９に記載の液晶表示装置の製法。
11. 【請求項１１】 前記平坦化層上に形成した遮光層上
    に、液晶層の厚みを規制する複数の柱状樹脂部を形成す
    る工程を含む請求項９または１０に記載の液晶表示装置
    の製法。