Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

EP0873565B1 - Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung - Google Patents

Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung Download PDF

Info

Publication number
EP0873565B1
EP0873565B1 EP97906992A EP97906992A EP0873565B1 EP 0873565 B1 EP0873565 B1 EP 0873565B1 EP 97906992 A EP97906992 A EP 97906992A EP 97906992 A EP97906992 A EP 97906992A EP 0873565 B1 EP0873565 B1 EP 0873565B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
condenser
axis
zone plate
ray
arrangement according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP97906992A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP0873565A2 (de
Inventor
Bastian Niemann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Vistec Electron Beam GmbH
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Publication of EP0873565A2 publication Critical patent/EP0873565A2/de
Application granted granted Critical
Publication of EP0873565B1 publication Critical patent/EP0873565B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K7/00Gamma- or X-ray microscopes

Definitions

  • the invention relates to a condenser monochromator arrangement for X-rays according to the characteristics in the preamble of Claim 1.
  • Microzone plates are rotationally symmetrical transmission circle grids with outwards decreasing lattice constants, typically have up to 0.1 mm Diameter and a few hundred zones.
  • the numerical aperture of a Zone plate is generally determined by the diffraction angle, below the vertical and thus the finest zones Bend X-rays.
  • the achievable spatial resolution of a Zone plate is determined by its numerical aperture.
  • the numeric Aperture of the used X-ray lenses could in the last few years be significantly increased so that their resolution improved. This trend towards higher resolution will continue.
  • the zone plates are called Use X-ray lenses, a hollow cone-shaped object lighting needed. Otherwise, the image would also be at its center Radiation from the 0th and 1st diffraction order of the Overlay the condenser zone plate. This is because the overwhelming majority Proportion of radiation that is parallel or almost parallel to the optical axis the object falls, this and the following micro zone plate (the diffractive x-ray lens) penetrates undiffracted and turns out to be general diffuse underground in a straight line, i.e. in the center of the image field.
  • the numerical aperture of the illuminating condenser of a transmitted light microscope always approximately should be adapted to the numerical aperture of the microscope objective, order from incoherently radiating light sources also an incoherent Object lighting and thus an almost linear relationship between Obtain object intensity and image intensity.
  • the aperture of the condenser is lower than that of the microscope objective a partially coherent mapping and the linear transformation between Object intensity and image intensity go for the important, the resolution of the Microscope determining high spatial frequencies lost.
  • Zone plate Because the focal length is one Zone plate is reciprocal to the wavelength used, such acts Condenser zone plate together with a small so-called Monochromator pinhole located in the object plane around the object at the same time as a linear monochromator (Optics Communication 12, Pp. 160-163, 1974, "Soft X-Ray Imaging Zone Plates with Large Zone Numbers for Microscopic and Spectroscopic Applications ", Niemann, Rudolph, Schmahl). Only a narrow spectral range of the incident polychromatic radiation from an electron storage ring is transferred into the Pinhole focused and used to illuminate the object.
  • the relationship only applies if the image of the source - the so-called "critical lighting" - is not larger than the diameter d of the pinhole.
  • R is at least as large as the zone number n of the microzone plate of the X-ray microscope, the chromatic aberration of the microzone plate is negligible and it only insignificantly deteriorates the quality of the X-ray image.
  • a condenser zone plate is used which is not too small in diameter D , so that the permitted diameter d of the monochromator pinhole is larger than the image of the source.
  • Condenser zone plates are usually used in the first Diffraction order used, in which all realized so far Condenser zone plates have their highest diffraction efficiency. It is also for another reason explained below difficult to adapt the numerical aperture of the Condenser zone plate to that of the micro zone plate without new ones To achieve difficulties.
  • the lighting condenser zone plate on the outside the same fine Zones have themselves like the micro zone plate serving as an objective
  • the brightest built microzone plates now have zone widths of only 19 nm (corresponding to 38 nm period of the zone structures). So far, zone plates with such fine zone structures can only be used Methods of electron beam lithography, in which the zones are in succession generated, manufactured.
  • a condenser monochromator arrangement is used for phase contrast X-ray microscopy an advantage that everything possible from the jet pipe provided X-ray light in an annular hollow cone aperture large aperture angle to the object.
  • Zone plates are in the range of only 10% to 20% - and also are then there are a total of three zone plates in the microscope, because of the wavelength dependency of their focal lengths much more difficult exactly can be adjusted to each other as two zone plates. It can also the adjustment of the apertures also in the last two cases disadvantageously only by adjusting the smallest zone widths of the condenser zone plate to that of the micro zone plate.
  • the invention is based on the knowledge that an incoherent image recording is obtained if an object to be imaged is illuminated successively from different directions during the exposure time of an image.
  • a condenser-monochromator arrangement is used, which consists of an off-axis zone plate, a plane mirror, a monochromator pinhole on the optical axis and a mechanical holder for the off-axis zone plate and the plane mirror.
  • the holder can be rotated around the optical axis of the microscope. This rotation creates lighting from different directions.
  • the condenser-monochromator arrangement requires only a small amount Beam cross section of the incident X-rays only one diffractive optical element and this contains coarser and therefore one overall fewer number of diffractive structures than in previously used optical elements. Which especially compared to the fine structures the microzone plate of the lens very coarse structures of the diffractive Elements of the condenser-monochromator arrangement can be used with the help of electron beam lithography in significantly shorter times.
  • the lighting aperture of the condenser monochromator arrangement can be set variably without another diffractive optical element is needed. The usable area of the image field is enlarged, because the lighting only from a very "thin-walled Hollow cone jacket "exists.
  • 1 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Transmission zone plate and a subordinate plane mirror.
  • FIG. 2 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Transmission zone plate, one upstream and one subordinate plan table.
  • FIG. 3 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Transmission zone plate and two upstream plane mirrors.
  • FIG. 4 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Transmission zone plate and an upstream plane mirror.
  • FIG. 5 shows a condenser monochromator consisting of a Condenser zone plate and two upstream plane mirrors.
  • FIG. 6 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Reflection zone plate and a subordinate plane mirror.
  • FIG. 7a shows a condenser monochromator consisting of a Reflection plan grating and a subordinate focusing mirror.
  • FIG. 7b shows a condenser monochromator consisting of a Transmission plan grid and a subordinate focusing Mirror.
  • FIG. 8 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Reflection zone plate and an upstream plane mirror.
  • FIG. 9 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Reflection zone plate, an upstream and a downstream Plane mirror.
  • FIG. 10 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Reflection zone plate and two upstream plane mirrors.
  • FIG. 11 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Transmission zone plate and two downstream plane mirrors.
  • Fig. 12. shows a condenser monochromator consisting of an off-axis Transmission zone plate and three downstream plane mirrors.
  • Fig. 13 shows a condenser monochromator that has an off-axis Transmission zone plate made of two segments different Focus and two pairs of plane mirrors.
  • Fig. 14 shows a condenser monochromator that has an off-axis Transmission zone plate made of two segments different Focus and two pairs of plane mirrors.
  • FIG. 15 shows a condenser monochromator consisting of a Focuser with ring focus and a downstream concave mirror.
  • Fig. 16 shows a condenser monochromator consisting of a Focuser with ring focus and two downstream concave mirrors.
  • the incident X-ray radiation 1 hits on a diffractive and at the same time imaging optical element 7 and is focused by this and bent in the direction of a plane mirror 2.
  • the plane mirror 2 stands a few cm before the focal point of the X-ray radiation and reflects this into the monochromator pinhole 11 on the object 4, which is on the optical axis 6 of the X-ray microscope 5 is located.
  • the plane mirror 2 is grazing Incidence with a few degrees of incidence so that total reflection occurs (Matter has a refractive index for soft X-rays, which is is less than one) and a high reflectivity is achieved.
  • To the Surface quality of the plane mirror 2 must with respect to the Angle tangent error is not a particularly high requirement (an angular tangent error of better than 10 arc seconds sufficient), since the plane mirror 2 is only a few cm in front of the illuminating object 4 is located.
  • the plane mirror 2 advantageously only needs to be a few cm long.
  • the two described optical form Elements 2,7 with the monochromator aperture 11 a condenser-monochromator arrangement.
  • the optical elements 2,7 are rotatable around the optical axis 6 of the X-ray microscope 5 is mounted. You can do this they are attached in a mechanical holder, not shown here.
  • the holder has a coincident with the optical axis 6 Axis of rotation about which they are together with the optical elements 2.7 can turn.
  • the optical axis 6 of the X-ray microscope 5 is in Direction of propagation of the incident X-rays 1 aligned. The entire structure is due to the high absorption of the used soft x-rays in a vacuum chamber.
  • the diffractive and imaging optical element 7 can be an off-axis zone plate.
  • An off-axis zone plate is understood here to mean a zone plate which consists only of a small, asymmetrical zone region which is asymmetrical and far from the center of the zone plate. For this reason, the structures within this zone area are generally not rotationally symmetrical.
  • the zone area is so large that it can capture an X-ray beam with a cross-sectional area of a few mm 2. It can be used in transmission as an off-axis transmission zone plate 7 according to FIG. 1, or in reflection as an off-axis reflection zone plate 3 according to FIG. 6 . Since an off-axis zone plate laterally deflects the X-rays, the plane mirror 2 is absolutely necessary in order to reflect the X-rays back onto the optical axis 6.
  • the mechanical bracket with the optical elements 7.2 (Fig.1) exactly one turn around optical axis 6 rotated, this describes obliquely on the object 4th incident light cone 8 a hollow cone, which is the effective Aperture of the lighting determined.
  • the opening angle 10 this Hollow cone can be the reflection angle 9 of the plane mirror 2nd can be set.
  • the distance of the plane mirror 2 from the optical axis 6 and the position of the off-axis transmission zone plate 7 (or the off-axis reflection zone plate 3 in FIG. 6) along the Optical axis 6 can be readjusted so that the focus is exactly back on the optical axis 6 lies in the object 4.
  • the location of the axis of rotation of the Bracket must remain stable except for a few, what with Spindle ball bearings or play-free ball guides can be achieved.
  • the off-axis zone plate 7, 3 only has to generate an image of the X-ray source of a suitable size in the object plane and spectrally split the X-ray radiation. Since undulators have very small source sizes - they are significantly smaller than the source sizes in the deflection magnets used to date - a small scale of reduction and thus an off-axis zone plate 7.3 with typically at least twice the focal length than that of the condenser zone plates mentioned in the introduction can be used be used be used to illuminate the object in so-called "critical lighting".
  • An off-axis Transmission zone plate 7 for an X-ray radiation with 2.4 nm Wavelength has e.g. Germanium zones 50 nm wide and 300 nm high - what is currently technologically producible.
  • an off-axis transmission zone plate 7 In contrast to an off-axis transmission zone plate 7, the self-supporting with fine support structures or on a very thin one Support film is produced, an off-axis reflection zone plate 3 on a stable, solid substrate. Because of the extremely weird In the case of X-rays, this substrate is thermally resilient and coolable.
  • both the off-axis Transmission zone plate 7 as well as the off-axis reflection zone plate 3 can be arranged in different ways, which is exemplified in the 2, 3 and 9-14 is shown.
  • the incident one X-ray radiation 1 first with a plane mirror 2 from it Original direction deflected towards an off-axis zone plate 7.3.
  • a second plane mirror 2 the diffracted and converging radiation towards the optical Axis 6 mirrored, the aperture through this second plane mirror 2 the lighting can be adjusted.
  • an off-axis Transmission zone plate 7 and, according to FIG. 9, an off-axis Reflection zone plate 3 used.
  • the arrangement of both plane mirrors 2 and the off-axis zone plate 7.3 is used during the exposure time X-ray image rotated one revolution around the optical axis 6.
  • Illuminating cone 8 incident obliquely on the object describes one Hollow cone that determines the effective aperture of the lighting.
  • the desired aperture adjustment is done with the second in Beam path arranged behind the off-axis zone plate 7.3 Plane mirror 2 by appropriately setting the reflection angle 9.
  • the incident X-ray radiation 1 first with a plane mirror 2 from it directed in the original direction and meets a second plane mirror 2. From there it reaches an off-axis according to FIG Transmission zone plate 7 or, according to FIG. 10, on an off-axis Reflection zone plate 3.
  • the off-axis zone plate 7.3 focuses that X-ray light in the object 4.
  • the described arrangement of the two Flat mirror 2 and the off-axis zone plate 7.3 is not using a shown mechanical holder during the exposure time of the X-ray microscope 5 rotated one revolution around the optical axis 6.
  • the illumination cone 8, which falls obliquely onto the object 4 describes a hollow cone that determines the effective aperture of the lighting.
  • the desired aperture adjustment is done with the second one in the beam path shortly before the off-axis zone plate 7,3 arranged plane mirror 2 by the reflection angle 9 is set appropriately.
  • FIG 5 an embodiment is shown in which as a diffractive Element an annular described in the introduction Condenser zone plate 14 is used.
  • two plane mirrors 2 which during the Exposure time of an X-ray microscopic image using a rotatable mechanical holder once around the optical axis 6 be rotated so that the deflected beam covers the entire annular condenser zone plate 14 sweeps once.
  • the Condenser zone plate 14 therefore does not need to be rotated.
  • the Illuminating cone 8 incident obliquely on the object 4 describes one Hollow cone that determines the effective aperture of the lighting.
  • FIG. 6 shows a condenser monochromator arrangement in which the incident X-rays 1 on an off-axis reflection zone plate 3 hits, which bends the X-rays 1 in reflection and at the same time focused.
  • the plane mirror 2 directs the diffracted X-rays onto the Object 4.
  • FIG Element used a reflection plan grating 15a with variable line density becomes.
  • the line density of the reflection plan grating 15a varies such that the X-ray radiation after diffraction at the reflection plan grating 15a is the same Beam divergence has as before the reflection plan grating 15a.
  • This Technology is well known and is already being used.
  • the focusing mirror 16 focuses the X-ray radiation on the object 4, the rotation being a Aperture of the illuminating hollow cone is formed.
  • reflection plan grating 15a Use suitable short-wave X-rays - a crystal under Use Bragg reflection.
  • the Fig.7b differs from Fig.7a only in that as a diffractive optical element a transmission plan grating 15b instead of Reflection plan grating 15a is used.
  • the transmission plan grid 15b diffracts the incident X-rays 1 in transmission and retains them their parallelism even after diffraction. Only the focusing one Mirror 16, which together with the transmission plan grid around the optical axis 6 rotates, the X-ray radiation focuses on the object 4.
  • the off-axis Reflection zone plate 3 focuses the X-ray back at an angle to object 4 on the optical axis 6.
  • the off-axis reflection zone plate 3 and the upstream plane mirror 2 are during the Exposure time of the X-ray microscope 5 one revolution optical axis 6 rotated.
  • the one that falls obliquely onto the object Illumination cone 8 describes a hollow cone, which is the effective one Aperture of the lighting determined. However, with this arrangement no more flexible aperture adjustment possible.
  • Fig. 11 the e.g. Plane mirror 2 shown in FIG. 1 by two successive individual plane mirror 2 replaced. Both steer Flat mirror 2 the X-rays in the same direction. But it is also possible that the two plane mirrors 2 the X-rays distract in the opposite direction.
  • An arrangement with two successive plane mirrors 2 rotating about the optical axis 6 (as they are also shown in Fig. 3 and Fig. 10) in any case, that the image of the x-ray source despite rotating off-axis Transmission zone plate 7 and the rotating plane mirror 2 are not is rotated. This has the advantages discussed below Applications with elliptical radiation sources and it can Accuracy requirements for the game of the axis of rotation of the mirror and Reduce the zone plate bracket.
  • Fig.12. is a condenser monochromator consisting of an off-axis Transmission zone plate 7 and three downstream plane mirrors 17, 18, 19 shown. In this arrangement only the two need each other downstream plane mirror 17.18 around the optical axis 6 of X-ray microscope 5 to rotate. The off-axis transmission zone plate 7 and the plane mirror 19 can remain fixed in space. This arrangement has the advantage that the off-axis transmission zone plate 7 generated image of the x-ray source because of the double Reflection on the rotating mirrors 17, 18 is not rotated. If an electron beam undulator is used as the X-ray source, it generally has a strongly elliptical source area from which the off-axis transmission zone plate 7 generates an image.
  • the Dispersion direction of the off-axis transmission zone plate 7 can now do so be placed so that it falls in the direction of the small axis of the ellipse.
  • the only slightly curved zones of the off-axis run here Transmission zone plate 7 essentially "parallel" to the large one Ellipse axis of the picture. Because the image of the x-ray source due to double reflection on the two rotating, Downstream mirrors 17, 18 does not rotate, therefore, in this way a relatively homogeneously illuminated "band" the width of the large one Diameter of the image ellipse are generated, its intensity in Dispersion direction varies only slowly.
  • this arrangement is relatively insensitive to Tilting and translations of the axis of rotation of the mirror arrangement, since two rotating plane mirrors 2 are used.
  • Fig.13 is a condenser monochromator arrangement with a off-axis transmission zone plate 7, which in two off-axis Transmission zone plate segments 20a, 20b is divided, and with two Pairs downstream and each distracting Flat mirror 2 shown.
  • the off-axis transmission zone plate segments 20a, 20b are identical in structure, but rotated 180 ° against each other, see above that the two associated foci face each other, symmetrical to optical axis 6. With one pair of plane mirrors each, the rays reflected back on the optical axis 6, so that the two Overlay focal points in object 4.
  • This type of lighting is strict mirror-symmetrical and leads to different imaging properties than that "Single sideband imaging" with one-sided and extreme bright field oblique lighting.
  • This type of lighting further enlargement of the illumination angle in the object plane Dark field microscopy are operated. Then they are always complementary diffracted rays present in the image plane, which are with each other can interfere. This is a necessary requirement if the Limit resolution should be achieved in the dark field.
  • Fig. 14 is a condenser monochromator arrangement with an off-axis Transmission zone plate 7 and with two pairs each rectified distracting plane mirrors 2 shown.
  • the off-axis Transmission zone plate 7 is like that according to FIG. 13 of two segments 20a, 20b composed, which have the same focal length but with - based on the optical axis 6 - opposite focal points. However, due to the radiation-deflecting plane mirror 2, they overlap the otherwise separate focal points in a focal point in object 4.
  • the the principle of operation is the same as that shown in Fig. 13 described.
  • FIG. 15 it is also possible to specify equivalent systems for quasi-monochromatic object illumination with incoherent image recording that do not require the entire system to rotate about the optical axis 6 during the exposure time of an image.
  • a condenser monochromator which generates an illumination wave with a high numerical aperture.
  • a special diffractive element with a mirror can be used.
  • the diffractive element is a so-called focuser 13 with a ring focus, which instead of a focal point generates a sharply focused ring concentric to the optical axis 6.
  • Such focusers 13 can be produced in the same way as off-axis zone plates 7, 3 with the aid of electron beam lithography.
  • Another advantage of the focuser 13 is that it is well suited for highly collimated radiation. All the radiation from the central beam diffracts and focuses the focuser 13 into a ring of larger diameter, which is concentric about the optical axis 6 (Fig. 15).
  • the following mirror system consists of one or two concave mirror 12 connected in series. It is arranged at a suitable distance behind the focuser 13 and in front of the ring focus. As a result, a point-like focus on the optical axis 6 is obtained instead of a ring focus. If a small pinhole 11 is placed around this "focal point", the arrangement of the focuser 13, the hollow cone mirror 12 and the pinhole 11 acts as a monochromator.
  • Fig. 16 shows a condenser monochromator arrangement with a focuser 13 with ring focus and two downstream hollow cone mirrors 12.
  • the advantage of a system with two hollow cone mirrors 12 is that in such a system the so-called "kink surface" of the radiation deflection is almost perpendicular to the optical axis 6 lies (the kinked surface is the surface on which the reflected rays extended in the beam direction and the reflected rays elongated to the rear intersect).
  • the aberrations that occur when the system is tilted - that is, for example, in the case of incorrect adjustment - are lower than in systems whose kink surface is almost parallel to the optical axis 6.
  • the latter is the case when using a system with only one concave cone mirror 12, for which the reflecting surface and the kinked surface have to match and which has to be adjusted much more precisely.
  • the apertures of all can be closed Available microzone plates for brightfield, phase contrast and Dark field microscopy can be adjusted.
  • the aperture of one Ring pupil is created by rotating an oblique illumination through 360 ° obtained, the angle of the oblique lighting for example over a Plane mirror 2 can be set over a wide range.
  • the Flat mirror 2 is very small, typically a few cm long and therefore inexpensive.
  • the wavelength can be very wide Areas are changed.
  • the condenser-monochromator arrangement contains an off-axis zone plate 7.3 with zone widths that are significantly larger and are therefore easier and faster to manufacture than those available standing microzone plates, which are used as X-ray lenses.
  • the wavelength can be changed over a wide range.
  • a ring pupil can also be generated by a focuser 13 be, then a concave mirror 12 for focusing the Radiation on the optical axis 6 is used.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung entsprechend den Merkmalen im Oberbegriff des Anspruchs 1.
In den letzten Jahren wurden erhebliche Fortschritte in der Röntgenmikroskopie im Wellenlängenbereich von etwa 0.2 - 5 nm gemacht. Es wurden Röntgenmikroskope entwickelt, die an brillanten Röntgenquellen betrieben werden. Zu diesen Röntgenquellen zählen Elektronenspeicherringe, deren Ablenkmagneten und Undulatoren Quellorte intensiver Röntgenstrahlung sind; andere Röntgenquellen vergleichbarer Brillanz gibt es bislang nicht. Für Transmissions-Röntgenmikroskope wurde bislang nur die von Ablenkmagneten erzeugte Röntgenstrahlung genutzt.
Zur Beleuchtung eines Objekts mit Röntgenstrahlung werden Kondensoren verwendet. Herkömmliche Kondensoren sind als Spiegelkondensoren oder als Kondensorzonenplatten, die weiter unten beschrieben werden, ausgebildet. Die aus OPTIK, Bd. 93, Nr. 3, 1. Mai 1993, Seiten 95-102, G. Schmahl et al., "X-ray microscopy studies" (Fig.6) und aus der EP-A-0 475 098 bekannten Spiegelkondensoren besitzen die Form eines Rotationsellipsoids und fokussieren die Strahlung der Röntgenquelle auf das zu untersuchende Objekt. Da als Röntgenquellen gepulste Plasmaquellen als Linienstrahler verwendet werden, besitzen die Kondensoren keine beugenden Elemente für eine spektrale Zerlegung.
Als hochauflösende Objektive in Röntgenmikroskopen kommen heutzutage nur Mikrozonenplatten zum Einsatz. Mikrozonenplatten sind rotationssymmetrische Transmissionskreisgitter mit nach außen hin abnehmender Gitterkonstanten, haben typischerweise bis zu 0.1 mm Durchmesser und einige hundert Zonen. Die numerische Apertur einer Zonenplatte ist ganz allgemein durch den Beugungswinkel bestimmt, unter dem die äußeren und damit feinsten Zonen senkrecht einfallende Röntgenstrahlen beugen. Die erzielbare räumliche Auflösung einer Zonenplatte ist durch ihre numerische Apertur bestimmt. Die numerische Apertur der benutzten Röntgenobjektive konnte in den letzten Jahren wesentlich erhöht werden, so daß deren Auflösung sich verbesserte. Dieser Trend zu höherer Auflösung wird sich fortsetzen.
Generell wird für Röntgenmikroskope, die Zonenplatten als Röntgenobjektive benutzen, eine hohlkegelförmige Objektbeleuchtung benötigt. Andernfalls würde sich dem Bild auch in seinem Zentrum die Strahlung aus der 0. und der 1. Beugungsordnung der Kondensorzonenplatte überlagern. Das liegt daran, daß der überwiegende Anteil der Strahlung, die parallel oder fast parallel zur optischen Achse auf das Objekt fällt, dieses und die folgende Mikrozonenplatte (das beugende Röntgenobjektiv) ungebeugt durchdringt und sich als allgemeiner diffuser Untergrund in Geradeausrichtung, also im Zentrum des Bildfeldes bemerkbar macht. Aus diesem Grunde benutzen alle Transmissions-Röntgenmikroskope ringförmige Kondensoren und der nutzbare, nicht diffus überstrahlte Bereich des Bildfeldes wird um so größer, je größer der innere, strahlungsfreie Raumwinkelbereich des Kondensors ist.
Aus der Theorie der Mikroskopie ist bekannt, daß die numerische Apertur des beleuchtenden Kondensors eines Durchlichtmikroskopes stets in etwa angepaßt sein sollte an die numerische Apertur des Mikroskopobjektives, um von inkohärent strahlenden Lichtquellen auch eine inkohärente Objektbeleuchtung und damit eine nahezu lineare Beziehung zwischen Objektintensität und Bildintensität zu erhalten. Ist die Apertur des Kondensors dagegen geringer als die des Mikroskopobjektivs, so liegt eine teilkohärente Abbildung vor und die lineare Transformation zwischen Objektintensität und Bildintensität geht für die wichtigen, die Auflösung des Mikroskopes bestimmenden hohen Raumfrequenzen verloren.
Als Kondensoren für Röntgenstrahlung werden bislang "großflächige" ringförmige Zonenplatten benutzt. (A. Schlachetzki, K. Dorenwendt: Quantitative Mikroskopie und Mikrostrukturierung, Blockseminar vom 13. bis 14. September 1995, Physikalisch Technische Bundesanstalt, Technische Universität Braunschweig, veröffentlicht: PTB-Opt-50, Braunschweig, März 1996, Seiten 98-116, B. Niemann et al., "X-Ray Microscopy" (siehe Fig.3); P. C. Cheng, G. J. Jan: X-ray Microscopy, Springerverlag Berlin Heidelberg 1987, Seiten 32-38, W. Meyer-llse et al., "Status of X-ray Microscopy Experiments at the BESSY Laboratory" (siehe Fig.3.1)). Sie fokussieren die Röntgenstrahlung auf das mit dem Röntgenmikroskop zu untersuchende Objekt. Eine solche "Kondensorzonenplatte" ist in ihrer Größe angepaßt an den Strahldurchmesser, der am Ende des Strahlrohres eines Ablenkmagneten eines Elektronenspeicherrings typisch bis zu 1 cm beträgt. Da die Kondensorzonenplatte ringförmig ist, fängt sie etwa ¾ der in diesem Strahldurchmesser liegenden Strahlung auf. Da die Brennweite einer Zonenplatte reziprok zur benutzten Wellenlänge ist, wirkt eine solche Kondensorzonenplatte zusammen mit einer kleinen sogenannten Monochromatorlochblende, die in der Objektebene um das Objekt gelegen ist, gleichzeitig als Linearmonochromator (Optics Communication 12, S.160-163, 1974, "Soft X-Ray Imaging Zone Plates with Large Zone Numbers for Microscopic and Spectroscopic Applications", Niemann, Rudolph, Schmahl). Nur ein enger Spektralbereich der einfallenden polychromatischen Strahlung eines Elektronenspeicherrings wird in die Lochblende fokussiert und zur Beleuchtung des Objektes genutzt.
Die spektrale Auflösung eines solchen Linearmonochromators beträgt R = D/2d, wenn D und d die Durchmesser von Kondensorzonenplatte und Monochromatorlochblende sind und wenn die Kondensorzonenplatte das Quellgebiet der Röntgenstrahlung stark verkleinert abbildet. Allerdings gilt die Beziehung nur, wenn das Bild der Quelle - es handelt sich um die sogenannte "kritische Beleuchtung" - nicht größer ist als der Durchmesser d der Lochblende. Ist R mindestens so groß wie die Zonenzahl n der Mikrozonenplatte des Röntgenmikroskopes, so ist die chromatische Aberration der Mikrozonenplatte vernachlässigbar und sie verschlechtert die Qualität der Röntgenabbildung nur unwesentlich. Um dieser Anforderung an die spektrale Auflösung R zu genügen, wird stets eine Kondensorzonenplatte nicht zu kleinen Durchmessers D benutzt, so daß der erlaubte Durchmesser d der Monochromatorlochblende größer als das Bild der Quelle ist.
Da der Standort eines Röntgenmikroskopes aus praktischen Gründen nie nahe an den Quellort der Röntgenstrahlung eines Elektronenspeicherringes gebracht werden kann und die Entfernung typischerweise bei mindestens 15 m liegt, kann auch die vom Strahl ausgeleuchtete Fläche bestimmte Werte nicht unterschreiten. Damit sollte auch der Durchmesser D einer möglichst viel Röntgenstrahlung auffangenden Kondensorzonenplatte diese Werte nicht unterschreiten. Wird nun für diese Einsatzbedingungen die numerische Apertur der Kondensorzonenplatte erhöht, so verringert sich zwangsläufig die Brennweite der Kondensorzonenplatte. Damit verringert sich der Abbildungsmaßstab, mit dem die Quelle in die Objektebene abgebildet wird und es sinkt der Durchmesser des beleuchteten Objektgebietes ( in der Praxis auf wenige um Durchmesser), was nachteilig ist. Nur durch andere Maßnahmen - etwa durch rasternde parallele Bewegungen von Kondensor und Monochromatorlochblende - kann dann sichergestellt werden, daß ein größeres Objektgebiet homogen ausgeleuchtet wird. Dazu kommt, daß während der Bewegung Monochromatorblende und Kondensorzonenplatte genau zueinander justiert bleiben müssen.
Kondensorzonenplatten werden üblicherweise in der ersten Beugungsordnung benutzt, in der alle bislang realisierten Kondensorzonenplatten ihren höchsten Beugungswirkungsgrad besitzen. Dabei ist es auch aus einem weiteren, im folgenden erläuterten Grunde schwierig, die zuvor geforderte Anpassung der numerischen Apertur der Kondensorzonenplatte an die der Mikrozonenplatte ohne neue Schwierigkeiten zu erreichen. Um die Anpassung zu verwirklichen, muß die der Beleuchtung dienende Kondensorzonenplatte außen dieselben feinen Zonen besitzen wie die als Objektiv dienende Mikrozonenplatte selbst. Die lichtstärksten gebauten Mikrozonenplatten besitzen inzwischen Zonenbreiten von nur noch 19 nm (entsprechend 38 nm Periode der Zonenstrukturen). Zonenplatten mit solch feinen Zonenstrukturen können bislang nur mit Methoden der Elektronenstrahllithographie, in der die Zonen nacheinander erzeugt werden, hergestellt werden. Holographische Methoden, die das Muster einer Zonenplatte in einem Schritt "parallel" und damit in kurzer Zeit erzeugen, scheiden aus, da eine geeignet kurzwellige UV-Holographie nicht existiert. Dementsprechend könnten auch Kondensorzonenplatten mit angepaßter numerischer Apertur nur mit Methoden der Elektronenstrahllithographie, welches als serielles und damit langsames Verfahren zu bezeichnen ist, hergestellt werden. Solche Kondensorzonenplatten haben aber wegen ihres notwendigerweise großen Durchmessers typischerweise viele 10 000 Zonen. Die Schreibzeiten mit einem Elektronenstrahllithographiesystem liegen dann in der für die Praxis unrealistischen Größenordnung von Wochen, weshalb Kondensorzonenplatten mit Methoden der Elektronenstrahllithographie bislang nicht hergestellt wurden.
Für die Dunkelfeld-Röntgenmikroskopie sind sogar noch lichtstärkere Kondensor-Monochromator-Anordnungen nötig (sofern nicht ein sehr präzise zu justierender absorbierender Ring in der hinteren Fokalebene des Mikroobjektivs plaziert wird). Die Perioden der Zonenstrukturen geeigneter Kondensorzonenplatten müßten dafür weniger als 38 nm betragen.
Für die Phasenkontrast-Röntgenmikroskopie ist eine Kondensor-Monochromator-Anordnung von Vorteil, die möglichst alles vom Strahlrohr zur Verfügung gestellte Röntgenlicht in eine ringförmige Hohlkegel-Apertur großen Aperturwinkels zum Objekt liefert.
Um die Auflösung der Röntgenmikroskope zu erhöhen, wird gegenwärtig daran gearbeitet Mikrozonenplatten zu entwickeln, die eine kleinste Zonenbreite von nur noch 10 nm besitzen. Damit steigen die Aperturen der Mikrozonenplatten und dementsprechend die nötigen numerischen Aperturen der Kondensoren, um eine inkohärente Objektbeleuchtung sicherzustellen, und die bereits erwähnten Schwierigkeiten vergrößern sich weiter.
Es sind weltweit Elektronenspeicherringe im Bau und z.T. fertiggestellt, die Röntgenstrahlung aus Undulatoren zur Verfügung stellen. Diese Undulatoren liefern einen etwa 10 bis 100 mal höheren Röntgenstrahlungsfluß, der für die Röntgenmikroskopie voll genutzt werden kann. Außerdem ist die Röntgenstrahlung viel besser kollimiert, typischerweise hat der Strahl am Ende eines Strahlrohres am Standort eines Mikroskopes nur 1 - 2 mm Durchmesser und die bislang genutzten und in ihrer Apertur nicht angepaßten "großen" Kondensorzonenplatten können nicht mehr voll ausgeleuchtet werden. Damit Kondensorzonenplatten die Strahlung ausreichend monochromatisieren, müßten dann entweder Anordnungen mit den bereits oben diskutierten Nachteilen - kleinere Kondensorzonenplatten mit kürzeren Brennweiten und entsprechend kleinere Monochromatorlochblenden - benutzt werden, oder große Kondensorzonenplatten müssen außeraxial, d.h in einem Randgebiet, beleuchtet werden. Solche außeraxialen Anordnungen beleuchten aber das Objekt schräg, was zu einer unsymmetrischen optischen Übertragungsfunktion des Mikroskops führt und die damit erzeugten Abbildungen sind nur schwer auswertbar. Ein anderer Weg, der bereits vorgeschlagen wurde, besteht darin, den Strahl mit einer zusätzlichen Zonenplatte vor dem Kondensor geeignet aufzuweiten. Dies hat aber den Nachteil, daß an diesem zusätzlichen beugenden Element ein weiterer Lichtverlust auftritt - der Beugungswirkungsgrad von Zonenplatten liegt im Bereich von nur 10 % bis 20% - und zudem sind dann insgesamt drei Zonenplatten im Mikroskop vorhanden, die wegen der Wellenlängenabhängigkeit ihrer Brennweiten viel schwieriger exakt aufeinander einjustiert werden können als zwei Zonenplatten. Zudem kann die Anpassung der Aperturen auch in den beiden zuletzt genannten Fällen nachteiligerweise nur durch eine Anpassung der kleinsten Zonenbreiten der Kondensorzonenplatte an die der Mikrozonenplatte erreicht werden.
Es ist die Aufgabe der Erfindung, für eine quasimonochromatische Objektbeleuchtung in einem Röntgenmikroskop und eine inkohärente Bildaufzeichnung eine Kondensor-Monochromator-Anordnung anzugeben,
  • die eine ringförmige Beleuchtungspupille besitzt,
  • mit der eine hohe numerische Apertur erzeugt werden kann, die den hohen Aperturen eines modernen Röntgenobjektivs mit Mikrozonenplatten zur Erzeugung einer hohen Auflösung entsprechend angepaßt ist und
  • mit der auch ein einfallendes enges Strahlenbündel mit nur wenigen Millimetern Durchmesser vollständig genutzt werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Kennzeichen des Anspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Die Erfindung geht von der Erkenntnis aus, daß eine inkohärente Bildaufzeichnung erhalten wird, wenn ein abzubildendes Objekt während der Belichtungszeit eines Bildes sukzessive aus unterschiedlichen Richtungen beleuchtet wird. Es wird eine Kondensor-Monochromator-Anordnung genutzt, die aus einer off-axis Zonenplatte, einem Planspiegel, einer Monochromatorlochblende auf der optischen Achse und einem mechanischen Halter für die off-axis Zonenplatte und den Planspiegel besteht. Der Halter ist um die optische Achse des Mikroskopes drehbar. Durch diese Drehung wird eine Beleuchtung aus verschiedenen Richtungen erzeugt.
Die Kondensor-Monochromator-Anordnung benötigt auch bei nur geringem Strahlenquerschnitt der einfallenden Röntgenstrahlen nur ein einziges beugendes optisches Element und dieses enthält gröbere und damit eine insgesamt geringere Anzahl beugender Strukturen als in bisher genutzten optischen Elementen. Die insbesondere gegenüber den feinen Strukturen der Mikrozonenplatte des Objektivs sehr groben Strukturen des beugenden Elements der Kondensor-Monochromator-Anordnung lassen sich mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie in deutlich kürzeren Zeiten herstellen. Außerdem kann die Beleuchtungsapertur der Kondensor- Monochromator-Anordnung variabel eingestellt werden, ohne daß ein weiteres beugendes optisches Element benötigt wird. Der nutzbare Bereich des Bildfeldes ist vergrößert, da die Beleuchtung nur aus einen sehr "dünnwandigen Hohlkegelmantel" besteht.
Im folgenden werden schematisch dargestellte Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert.
Fig.1 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte und einem nachgeordneten Planspiegel.
Fig.2 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte, einem vorgeschaltetem und einem nachgeordnetem Planspiegel.
Fig.3 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte und zwei vorgeschalteten Planspiegeln.
Fig.4 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte und einem vorgeschalteten Planspiegel.
Fig.5 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer Kondensorzonenplatte und zwei vorgeschalteten Planspiegeln.
Fig.6 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Reflexionszonenplatte und einem nachgeordneten Planspiegel.
Fig.7a zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einem Reflexionsplangitter und einem nachgeordneten fokussierenden Spiegel.
Fig.7b zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einem Transmissionsplangitter und einem nachgeordneten fokussierenden Spiegel.
Fig.8 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Reflexionszonenplatte und einem vorgeschalteten Planspiegel.
Fig.9 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Reflexionszonenplatte, einem vorgeschalteten und einem nachgeordneten Planspiegel.
Fig.10 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Reflexionszonenplatte und zwei vorgeschalteten Planspiegeln.
Fig. 11. zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte und zwei nachgeschalteten Planspiegeln.
Fig.12. zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte und drei nachgeschalteten Planspiegeln.
Fig.13 zeigt einen Kondensor-Monochromator, der eine off-axis Transmissionszonenplatte aus zwei Segmenten unterschiedlicher Brennpunkte und zwei Paare Planspiegel enthält.
Fig.14. zeigt einen Kondensor-Monochromator, der eine off-axis Transmissionszonenplatte aus zwei Segmenten unterschiedlicher Brennpunkte und zwei Paare Planspiegel enthält.
Fig.15 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einem Fokussator mit Ringfokus und einem nachgeschalteten Hohlkegelspiegel.
Fig.16 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einem Fokussator mit Ringfokus und zwei nachgeschalteten Hohlkegelspiegeln.
In Fig.1 ist eine Kondensor-Monochromator-Anordnungen dargestellt, die zwei optische Elemente enthält. Die einfallende Röntgenstrahlung 1 trifft auf ein beugendes und zugleich abbildendes optisches Element 7 und wird von diesem fokussiert und in Richtung eines Planspiegels 2 gebeugt.
Der Planspiegel 2 steht einige cm vor dem Fokalpunkt der Röntgenstrahlung und spiegelt diese in die Monochromatorlochblende 11 auf das Objekt 4, das sich auf der optischen Achse 6 des Röntgenmikroskops 5 befindet. Der Planspiegel 2 steht unter streifendem Einfall mit wenigen Grad Einfallswinkel, so daß Totalreflexion auftritt (Materie hat für weiche Röntgenstrahlung einen Brechungsindex, der kleiner als eins ist) und eine hohe Reflektivität erzielt wird. An die Oberflächenqualität des Planspiegels 2 muß hinsichtlich des Winkeltangentenfehlers keine besonders hohe Anforderung gestellt werden (ein Winkeltangentenfehler von besser als 10 Bogensekunden ist ausreichend), da der Planspiegel 2 sich nur wenige cm vor dem zu beleuchtenden Objekt 4 befindet. Dadurch kann der Winkeltangentenfehler das ausgeleuchtete Bildfeld durch Zerstreuung nur unbedeutend aufweiten. Da der Planspiegel 2 relativ nahe am Fokalpunkt der Röntgenstrahlung liegt und der Strahlquerschnitt hier bereits klein ist, braucht der Planspiegel 2 günstigerweise nur wenige cm lang zu sein.
Zusammen als Einheit bilden die beiden beschriebenen optischen Elemente 2,7 mit der Monochromatorlochblende 11 eine Kondensor-Monochromator-Anordnung. Die optischen Elemente 2,7 sind drehbar um die optische Achse 6 des Röntgenmikroskops 5 gelagert. Hierzu können sie in einer hier nicht dargestellten mechanischen Halterung befestigt sein. Die Halterung besitzt eine mit der optischen Achse 6 zusammenfallende Drehachse, um die sie sich zusammen mit den optischen Elementen 2,7 drehen kann. Die optische Achse 6 des Röntgenmikroskops 5 ist in Ausbreitungsrichtung der einfallenden Röntgenstrahlung 1 ausgerichtet. Der gesamte Aufbau befindet sich wegen der hohen Absorption der benutzten weichen Röntgenstrahlung in einer Vakuumkammer.
Das beugende und abbildende optische Element 7 kann eine off-axis Zonenplatte sein. Unter einer off-axis Zonenplatte wird hier eine Zonenplatte verstanden, die nur aus einem kleinen, unsymmetrisch und fern zur Zonenplattenmitte liegenden, zusammenhängenden Zonenbereich besteht. Deswegen sind die Strukturen innerhalb dieses Zonenbereichs im allgemeinen nicht rotationssymmetrisch. Der Zonenbereich ist dabei so groß, daß er einen Röntgenstrahl von einigen mm2 Querschnittsfläche auffangen kann.. Sie kann in Transmission als off-axis Transmissionszonenplatte 7 gemäß Fig.1, oder in Reflexion als off-axis Reflexionszonenplatte 3 gemäß Fig.6 eingesetzt werden. Da eine off-axis Zonenplatte die Röntgenstrahlung seitlich auslenkt, ist der Planspiegel 2 zwingend notwendig, um die Röntgenstrahlung auf die optischen Achse 6 zurückzuspiegeln.
Wird nun während der Belichtung eines mikroskopischen Bildes, die typischerweise wenige Sekunden beträgt, die mechanische Halterung mit den optischen Elementen 7,2 (Fig.1) genau eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht, so beschreibt der schräg auf das Objekt 4 einfallende Beleuchtungskegel 8 einen Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt. Der Öffnungswinkel 10 dieses Hohlkegels kann über den Reflexionswinkel 9 des Planspiegels 2 eingestellt werden. Dazu muß auch der Abstand des Planspiegels 2 von der optischen Achse 6 und die Lage der off-axis Transmissionszonenplatte 7 (bzw. der off-axis Reflexionszonenplatte 3 in Fig.6) entlang der optischen Achse 6 neu justiert werden, damit der Fokus genau wieder auf der optischen Achse 6 im Objekt 4 liegt. Die Lage der Drehachse der Halterung muß bis auf wenige um stabil bleiben, was mit Spindelkugellagern oder spielfreien Kugelführungen erreicht werden kann.
Da die Aperturanpassung mit dem Planspiegel 2 vorgenommen wird, sind hinsichtlich der Stärke der Strahlablenkung durch Beugung an der off-axis Zonenplatte 7,3 keine besonderen Anforderungen zu stellen. Die off-axis Zonenplatte 7,3 muß nur ein Bild der Röntgenstrahlungsquelle in geeigneter Größe in der Objektebene erzeugen und die Röntgenstrahlung spektral zerlegen. Da Undulatoren sehr kleine Quellgrößen besitzen - sie sind deutlich kleiner als die Quellgrößen in den bislang benutzten Ablenkmagneten- , kann ein geringer Verkleinerungsmaßstab und damit eine off-axis Zonenplatte 7,3 mit typisch mindestens zwei mal größerer Brennweite als die der in der Einleitung genannten Kondensorzonenplatten benutzt werden, um das Objekt in sogenannter "kritischer Beleuchtung" zu beleuchten. Dies hat zur Folge, daß nicht nur eine unter streifendem Einfall benutzte off-axis Reflexionszonenplatte 3 (Fig.6, ebenso auch Fig.8 -10), die von vorn herein gröbere Zonen besitzt, verwendet werden kann, sondern daß bereits eine off-axis Transmissionszonenplatte 7 (Fig.1, ebenso auch Fig.2-4,11-14) genügt, die gröbere und damit weniger Zonen besitzt als die oben diskutierte Kondensorzonenplatte, die dem Stand der Technik entsprechend in einer Kondensor-Monochromator-Anordnung das einzige optische Element überhaupt ist und stets in Transmission zur quasimonochromatischen Beleuchtung genutzt wird. Zudem ist die zu strukturierende Fläche für Anwendungen an Undulatoren wegen des besser gebündelten Strahls typischerweise 10 mal geringer als bei der in der Einleitung beschriebenen Kondensorzonenplatte für die Strahlung aus Ablenkmagneten. Dazu kommt, daß die Zonenbreiten einer off-axis Zonenplatte 7,3 nahezu konstant sind, so daß sie vorteilhafterweise über ihre gesamte Fläche eine nahezu einheitlich hohe Dispersion besitzen.
Wie bereits erwähnt, sind prinzipiell Anordnungen mit off-axis Transmissions- und Reflexionszonenplatten nutzbar. Eine off-axis Transmissionszonenplatte 7 für eine Röntgenstrahlung mit 2.4 nm Wellenlänge besitzt z.B. 50 nm breite und 300 nm hohe Germaniumzonen - was zur Zeit technologisch herstellbar ist. Eine in ihren optischen Eigenschaften äquivalente off-axis Reflexionszonenplatte 3, die bei Einfallswinkeln von wenigen Grad benutzt wird, besitzt dagegen etwa 10 bis 50 mal größere Zonenbreiten bei gleichzeitig deutlich geringerer Zonenhöhe. Daher ist die off-axis Reflexionszonenplatte 3 technologisch viel einfacher zu realisieren als die äquivalente off-axis Transmissionszonenplatte 7.
Im Unterschied zu einer off-axis Transmissionszonenplatte 7, die freitragend mit feinen Stützstrukturen oder auf einer sehr dünnen Stützfolie hergestellt ist, kann sich eine off-axis Reflexionszonenplatte 3 auf einem stabilen festen Substrat befinden. Wegen des extrem schrägen Einfalls der Röntgenstrahlung ist dieses Substrat thermisch belastbar und kühlbar.
Auch mit mehreren Planspiegeln 2 kann sowohl die off-axis Transmissionszonenplatte 7 als auch die off-axis Reflexionszonenplatte 3 in unterschiedlicher Weise angeordnet werden, was beispielhaft in den Fig. 2, 3 und 9-14 dargestellt ist.
So wird gemäß Fig.2 und auch gemäß Fig.9 die einfallende Röntgenstrahlung 1 zuerst mit einem Planspiegel 2 aus ihrer ursprünglichen Richtung zu einer off-axis Zonenplatte 7,3 hin abgelenkt. Hinter der off-axis Zonenplatte 7,3 wird mit einem zweiten Planspiegel 2 die gebeugte und konvergierende Strahlung in Richtung zur optischen Achse 6 gespiegelt, wobei durch diesen zweiten Planspiegel 2 die Apertur der Beleuchtung eingestellt werden kann. Gemäß Fig.2 wird eine off-axis Transmissionszonenplatte 7 und gemäß Fig.9 eine off-axis Reflexionszonenplatte 3 eingesetzt. Die Anordnung beider Planspiegel 2 und der off-axis Zonenplatte 7,3 wird während der Belichtungszeit für ein Röntgenbild eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht. Der schräg auf das Objekt einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt. Die gewünschte Aperturanpassung geschieht mit dem zweiten im Strahlengang hinter der off-axis Zonenplatte 7,3 angeordneten Planspiegel 2, indem der Reflexionswinkel 9 geeignet eingestellt wird.
Gemäß Fig.3 und auch gemäß Fig.10 wird die einfallende Röntgenstrahlung 1 zuerst mit einem Planspiegel 2 aus ihrer ursprünglichen Richtung gelenkt und trifft auf einen zweiten Planspiegel 2. Von dort gelangt sie gemäß Fig.3 auf eine off-axis Transmissionszonenplatte 7 bzw. gemäß Fig.10 auf eine off-axis Reflexionszonenplatte 3. Die off-axis Zonenplatte 7,3 fokussiert das Röntgenlicht in das Objekt 4. Die beschriebene Anordnung der beiden Planspiegel 2 und der off-axis Zonenplatte 7,3 wird mit Hilfe einer nicht dargestellten mechanischen Halterung während der Belichtungszeit des Röntgenmikroskopes 5 eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht. Der schräg auf das Objekt 4 einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt. Die gewünschte Aperturanpassung geschieht mit dem zweiten im Strahlengang kurz vor der off-axis Zonenplatte 7,3 angeordneten Planspiegel 2, indem der Reflexionswinkel 9 geeignet eingestellt wird.
Fig.4 zeigt eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit einer off-axis Transmissionszonenplatte 7 und einem vorgeschalteten Planspiegel 2. Die off-axis Transmissionszonenplatte 7 fokussiert das Röntgenlicht schräg zurück zum Objekt 4 auf die optische Achse 6. Die off-axis Transmissionszonenplatte 7 und der vorgeschaltete Planspiegel 2 werden während der Belichtungszeit des Röntgenmikroskopes 5 eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht. Der schräg auf das Objekt einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt. Allerdings ist mit dieser Anordnung keine flexible Aperturanpassung mehr möglich.
In Fig.5 ist ein Ausführungsbeispiel dargestellt, in dem als beugendes Element eine in der Einleitung beschriebene ringförmige Kondensorzonenplatte 14 genutzt wird. Im Strahlengang davor befinden sich zur Strahlablenkung zwei Planspiegel 2, die während der Belichtungszeit eines röntgenmikroskopischen Bildes mittels einer drehbaren mechanischen Halterung einmal um die optische Achse 6 gedreht werden, so daß das abgelenkte Strahlenbündel die gesamte ringförmige Kondensorzonenplatte 14 einmal überstreicht. Die Kondensorzonenplatte 14 braucht daher nicht gedreht zu werden. Der schräg auf das Objekt 4 einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt.
In Fig.6 ist eine Kondensor-Monochromator-Anordnung dargestellt, bei der die einfallende Röntgenstrahlung 1 auf eine off-axis Reflexionszonenplatte 3 trifft, die die Röntgenstrahlung 1 in Reflexion beugt und zugleich fokussiert. Der Planspiegel 2 lenkt die gebeugte Röntgenstrahlung auf das Objekt 4. Dabei drehen sich die off-axis Reflexionszonenplatte 3 und der Planspiegel um die optische Achse 6. Unter der Beschreibung der Fig.1 ist die Funktionsweise bereits detailliert dargelegt.
In Fig.7a ist ein Ausführungsbeispiel dargestellt, in der als beugendes Element ein Reflexionsplangitter 15a mit variabler Liniendichte genutzt wird. Die Liniendichte des Reflexionsplangitters 15a variiert derart, daß die Röntgenstrahlung nach Beugung am Reflexionsplangitter 15a dieselbe Strahldivergenz besitzt wie vor dem Reflexionsplangitter 15a. Diese Technik ist allgemein bekannt und wird bereits genutzt. Erfindungsgemäß befindet sich zusätzlich aber im weiteren Strahlengang ein fokussierender Spiegel 16 und wird zusammen mit dem Reflexionsplangitter 15 um die optische Achse 6 gedreht. Der fokussierende Spiegel 16 fokussiert die Röntgenstrahlung auf das Objekt 4, wobei durch die Rotation ein die Apertur der Beleuchtung bestimmender Hohlkegel gebildet wird.
Es ist natürlich auch möglich, anstelle des Reflexionsplangitters 15a - bei Verwendung geeignet kurzwelliger Röntgenstrahlung - einen Kristall unter Braggreflexion einzusetzen.
Die Fig.7b unterscheidet sich von Fig.7a nur dadurch, daß als beugendes optisches Element ein Transmissionsplangitter 15b anstelle des Reflexionsplangitters 15a eingesetzt ist. Das Transmissionsplangitter 15b beugt die einfallende Röntgenstrahlung 1 in Transmission und behält deren Parallelität auch nach der Beugung bei. Erst der fokussierende Spiegel 16, der zusammen mit dem Transmissionsplangitter um die optische Achse 6 rotiert, fokussiert die Röntgenstrahlung auf das Objekt 4.
Fig.8 zeigt eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit einer off-axis Reflexionszonenplatte 3 und einem vorgeschalteten Planspiegel 2. Die off-axis Reflexionszonenplatte 3 fokussiert das Röntgenlicht schräg zurück zum Objekt 4 auf die optische Achse 6. Die off-axis Reflexionszonenplatte 3 und der vorgeschaltete Planspiegel 2 werden während der Belichtungszeit des Röntgenmikroskopes 5 eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht. Der schräg auf das Objekt einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt. Allerdings ist mit dieser Anordnung keine flexible Aperturanpassung mehr möglich.
Bei Verwendung geeignet kurzwelliger Röntgenstrahlung ist es natürlich auch möglich, anstelle des Planspiegels 2 in Fig.8 einen Kristall unter Braggreflexion einzusetzen.
Ebenso kann bei Verwendung geeignet kurzwelliger Röntgenstrahlung anstelle der off-axis Reflexionszonenplatte 3 in Fig.8 ein gekrümmter Kristall in der sogenannten "Rowlandanordnung" und unter Ausnutzung der Braggreflexion eingesetzt werden.
Die Kondensor-Monochromator-Anordnungen gemäß Fig.9 und Fig.10 mit jeweils zwei Planspiegeln 2 und einer off-axis Reflexionszonenplatte 3, die um die optische Achse 6 rotieren, sind der Analogie wegen bereits im Text zu Fig.2 und. Fig.3 beschrieben.
Es soll noch erwähnt werden, daß sich diese bislang gefundenen Lösungen mit Transmissions- und Reflexionszonenplatten 7,3 auch für Strahlung längerer Wellenlängen, etwa für UV- Strahlung und sichtbare Strahlung eignen. Insbesondere kann mit diesen rotierenden Optiken eine Objektbeleuchtung für inkohärente Bildaufzeichnung auch mit kohärenten Lichtquellen, z.B. bei Beleuchtung mit Lasern, erzeugt werden. Entsprechende Systeme werden als Systeme mit "dynamischer kohärenter Apertur" bezeichnet. Sie verkörpern dazu den Spezialfall stark schräger und rotierender Beleuchtung. Für diese ist im sichtbaren Spektralbereich bekannt, daß die Übertragungsfunktion bei hohen Raumfrequenzen deutlich angehoben wird gegenüber nahezu inkohärenter Beleuchtung mit einem Kondensor kreisförmiger Pupille, so daß eine verbesserte Kontrastübertagung erreicht wird. Bei Verwendung monochromatischer Laserstrahlung reicht es natürlich, die Stahlablenkung nur durch Spiegel vorzunehmen, d.h. in Fig.6 und in Fig.8-10 kann auf die monochromatisierenden Eigenschaften der off-axis Reflexionszonenplatte 3 verzichtet werden und diese durch einen fokussierenden Spiegel ersetzt werden. Aus demselben Grund kann dann in Fig.1-4 die off-axis Transmissionszonenplatte 7 durch eine Linse ersetzt werden, die in einem Teilstück weit ab von der Linsenmitte benutzt wird.
In Fig.11 ist der z.B. in Fig.1 gezeigte Planspiegel 2 durch zwei aufeinanderfolgende einzelne Planspiegel 2 ersetzt. Dabei lenken beide Planspiegel 2 die Röntgenstrahlung in dieselbe Richtung ab. Es ist aber auch möglich, daß die beiden Planspiegel 2 die Röntgenstrahlung entgegengesetzt gerichtet ablenken. Eine Anordnung mit zwei aufeinanderfolgenden um die optische Achse 6 rotierenden Planspiegeln 2 (wie sie auch in Fig.3 und Fig.10 dargestellt sind) bewirkt in jedem Fall, daß das Bild der Röntgenstrahlungsquelle trotz rotierender off-axis Transmissionszonenplatte 7 und der rotierenden Planspiegel 2 nicht gedreht wird. Dies hat die weiter unten noch diskutierten Vorteile bei Anwendungen mit elliptischen Strahlungsquellen und es kann die Genauigkeitsanforderungen an das Spiel der Drehachse der Spiegel- und Zonenplattenhalterung reduzieren.
In Fig.12. ist ein Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte 7 und drei nachgeschalteten Planspiegeln 17,18,19 gezeigt. In dieser Anordnung brauchen sich nur die beiden nachgeschalteten Planspiegel 17,18 um die optische Achse 6 des Röntgenmikroskops 5 zu drehen. Die off-axis Transmissionszonenplatte 7 und der Planspiegel 19 können dabei raumfest bleiben. Diese Anordnung hat den Vorteil, daß das von der off-axis Transmissionszonenplatte 7 erzeugte Bild der Röntgenstrahlungsquelle wegen der zweifachen Spiegelung an den sich drehenden Spiegeln 17,18 nicht gedreht ist. Wenn als Röntgenstrahlungsquelle ein Elektronenstrahl-Undulator benutzt wird, so hat dieser im allgemeinen ein stark elliptisches Quellgebiet, von dem die off-axis Transmissionszonenplatte 7 ein Bild erzeugt. Die Dispersionsrichtung der off-axis Transmissionszonenplatte 7 kann nun so gelegt werden, daß diese in Richtung der kleinen Ellipsenachse fällt. Dabei verlaufen die nur leicht gekrümmten Zonen der off-axis Transmissionszonenplatte 7 im wesentlichen "parallel" zur großen Ellipsenachse des Bildes. Da sich das Bild der Röntgenstrahlungsquelle infolge zweifacher Spiegelung an der beiden rotierenden, nachgeschalteten Spiegeln 17,18 nicht dreht, kann daher auf diese Weise ein relativ homogen ausgeleuchtetes "Band" von der Breite des großen Durchmessers der Bildellipse erzeugt werden, dessen Intensität in Dispersionsrichtung nur langsam variiert.
Gleichzeitig ist diese Anordnung relativ unempfindlich gegen Verkippungen und Translationen der Drehachse der Spiegelanordnung, da zwei sich drehende Planspiegel 2 verwendet werden.
In Fig.13 ist eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit einer off-axis Transmissionszonenplatte 7, die in zwei off-axis Transmissionszonenplattensegmenten 20a, 20b unterteilt ist, und mit zwei Paaren nachgeschalteter und jeweils entgegengesetzt ablenkender Planspiegel 2 gezeigt. Hier wird die Röntgenstrahlung von zwei off-axis Transmissionszonenplattensegmenten 20a, 20b derselben Brennweite eingefangen. Die off-axis Transmissionszonenplattensegmente 20a, 20b sind in ihrer Struktur identisch, aber um 180° gegeneinander gedreht, so daß die beiden zugehörigen Foci sich gegenüber liegen, symmetrisch zur optischen Achse 6. Mit je einem Planspiegelpaar werden die Strahlen zurückgespiegelt auf die optische Achse 6, so daß sich die beiden Brennpunkte im Objekt 4 überlagern. Diese Art der Beleuchtung ist streng spiegelsymmetrisch und führt zu anderen Abbildungseigenschaften als die "Einseitenbandabbildung" bei einseitiger und extremer Hellfeld-Schrägbeleuchtung. Insbesondere kann mit dieser Art der Beleuchtung bei weiterer Vergrößerung der Beleuchtungswinkels in der Objektebene Dunkelfeldmikroskopie betrieben werden. Es sind dann stets komplementär gebeugte Strahlen in der Bildebene vorhanden, die miteinander interferieren können. Dies ist eine notwendige Voraussetzung, wenn die Grenzauflösung im Dunkelfeld erreicht werden soll.
Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig.13 drehen sich mit der off-axis Transmissionszonenplatte 7 und den 2 Paaren Planspiegel 2 mehrere strahlablenkende optische Elemente um die optische Achse 6. Dies ist auch der Fall für das in Fig.14 gezeigte Ausführungsbeispiel.
In Fig.14. ist eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit einer off-axis Transmissionszonenplatte 7 und mit zwei Paaren jeweils gleichgerichtet ablenkender Planspiegeln 2 dargestellt. Die off-axis Transmissionszonenplatte 7 ist wie die gemäß Fig.13 aus zwei Segmenten 20a, 20b zusammengesetzt, die die gleiche Brennweite besitzen aber mit - bezogen auf die optische Achse 6 - gegenüberliegenden Brennpunkten. Aufgrund der strahlungsumlenkenden Planspiegel 2 überlagern sich aber die sonst getrennten Brennpunkte in einem Brennpunkt im Objekt 4. Die prinzipielle Funktionsweise ist dieselbe wie unter Fig.13 bereits beschrieben.
Schließlich ist es gemäß Fig.15 auch möglich, die Aufgabenstellung erfüllende äquivalente Systeme zur quasimonochromatischen Objektbeleuchtung mit inkohärenter Bildaufzeichnung anzugeben, die während der Belichtungszeit eines Bildes keine Rotation des ganzen Systems um die optische Achse 6 erfordern. In diesem Fall wird - wie allgemein in der optischen Mikroskopie üblich - ein Kondensor-Monochromator benutzt, der eine Beleuchtungswelle hoher numerischer Apertur erzeugt. Dazu kann ein besonderes beugendes Element mit einem nachgeschalteten Spiegel benutzt werden. Das beugende Element ist ein sogenannter Fokussator 13 mit Ringfokus, der statt eines Brennpunktes einen scharf fokussierten Ring konzentrisch zur optischen Achse 6 erzeugt. Solche Fokussatoren 13 lassen sich genauso wie off-axis Zonenplatten 7,3 mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie erzeugen. Sie besitzen ganz ähnliche Parameter und Gesetzmäßigkeiten wie die zuvor beschriebenen off-axis Zonenplatten 7 in Transmission, insbesondere brauchen sie nur vergleichbar "grobe" beugende Strukturen zu besitzen wie in den oben beschriebenen Fällen. Ein weiterer Vorteil des Fokussators 13 besteht darin, daß er gut geeignet ist für stark kollimierte Strahlung. Alle Strahlung aus dem zentralen Strahl beugt und fokussiert der Fokussator 13 in einen Ring größeren Durchmessers, der konzentrisch um die optische Achse 6 liegt (Fig.15). Das folgende Spiegelsystem besteht aus einem oder zwei hintereinandergeschalteten Hohlkegelspiegeln 12. Es wird in geeignetem Abstand hinter dem Fokussator 13 und vor dem Ringfokus angeordnet. Dadurch wird anstelle eines Ringfokus ein punktförmiger Fokus auf der optischen Achse 6 erhalten. Wird um diesen ,,Brennpunkt" eine kleine Lochblende 11 gelegt, so wirkt die Anordnung aus Fokussator 13, Hohlkegelspiegel 12 und Lochblende 11 als Monochromator. Die Aperturanpassung geschieht über eine geeignete Wahl des Ablenkwinkels des Hohlkegelspiegelsystems.
Fig.16 zeigt eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit einem Fokussator 13 mit Ringfokus und zwei nachgeschalteten Hohlkegelspiegeln 12. Der Vorteil eines Systems mit zwei Hohlkegelspiegeln 12 liegt darin, daß in einem solchen System die sogenannte "Knickfläche" der Strahlungsablenkung nahezu senkrecht zur optischen Achse 6 liegt (Die Knickfläche ist diejenige Fläche, auf der sich die in Strahlrichtung verlängerten und die rückwärtig verlängerten reflektierten Strahlen schneiden.). Es ist bekannt, daß in diesen optischen Systemen die Aberrationen, die bei Verkippung des Systems - also z.B. bei fehlerhafter Justierung - auftreten, geringer sind als in Systemen, deren Knickfläche fast parallel zur optischen Achse 6 verläuft. Letzteres ist bei Benutzung eines Systems mit nur einem Hohlkegelspiegel 12 der Fall, für den die reflektierende Oberfläche und die Knickfläche übereinstimmen muß und der sehr viel genauer justiert werden muß.
Im folgenden sind die Vorteile der Erfindung nochmals zusammengefaßt. Es können mit einem einzigen Aufbau die Aperturen aller bislang zur Verfügung stehender Mikrozonenplatten für Hellfeld-, Phasenkontrastund Dunkelfeldmikroskopie angepaßt werden. Die Apertur einer Ringpupille wird durch Rotation einer Schrägbeleuchtung um 360° erhalten, wobei der Winkel der Schrägbeleuchtung zum Beispiel über einen Planspiegel 2 über einen weiten Bereich eingestellt werden kann. Der Planspiegel 2 ist sehr klein, typischerweise wenige cm lang und daher preiswert. Für den Betrieb an gut kollimierten Strahlen aus Undulatoren ist eine Strahlaufweitung nicht nötig. Die Wellenlänge kann in sehr weiten Bereichen verändert werden. Die Kondensor-Monochromator-Anordnung enthält eine off-axis Zonen platte 7,3 mit Zonenbreiten, die deutlich größer und somit leichter und schneller herstellbar sind als die der zur Verfügung stehenden Mikrozonenplatten, die als Röntgenobjektiv eingesetzt werden. Die Wellenlänge kann in sehr weiten Bereichen verändert werden. Alternativ kann eine Ringpupille auch durch einen Fokussator 13 erzeugt werden, wobei dann ein Hohlkegelspiegel 12 zur Fokussierung der Strahlung auf die optische Achse 6 verwendet wird.
Bezugszeichenliste
1
einfallende Röntgenstrahlung
2
Planspiegel
3
off-axis Reflexionszonenplatte
4
Objekt
5
Röntgen mikroskop
6
optische Achse des Röntgenmikroskops
7
off-axis Transmissionszonenplatte
8
schräg einfallender Beleuchtungskegel
9
Reflexionswinkel
10
halber Öffnungswinkel der Hohlkegelbeleuchtung
11
Monochromatorlochblende in der Objektebene
12
Hohlkegelspiegel
13
Fokussator mit Ringfokus
14
ringförmige Kondensorzonenplatte
15a
Reflexionsplangitter
15b
Transmissionsplangitter
16
fokussierender Spiegel
17
Planspiegel
18
Planspiegel
19
Planspiegel
20a
off-axis Zonenplattensegment
20b
off-axis Zonenplattensegment

Claims (10)

  1. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung zur quasimonochromatischen, hohlkegelförmigen Beleuchtung und inkohärenten Bildaufzeichnung eines Objekts (4) in einem abbildenden Röntgenmikroskop (5) mit beugenden und reflektierenden optischen Elementen (2,3,7,12,13,14, 15a, 15b, 16, 17, 18, 19, 20a, 20b) und mit einer auf der optischen Achse (6) des Röntgenmikroskops (5) angeordneten Monochromatorlochblende (11), in deren Ebene das Objekt (4) auf der optischen Achse (6) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß ein beugendes optisches Element (3,7,13,14,15a,15b,20a,20b), das die spektrale Zerlegung der Röntgenstrahlung bewirkt, und mindestens ein reflektierendes optisches Element (2,12,16,17,18,19) vorgesehen sind, wobei durch das reflektierende Element (2,12,16,17,18,19) in Kombination mit dem beugenden Element (3,7,13,14,15a, 15b,20a,20b) der Öffnungswinkel (10) des erzeugten Beleuchtungskegels (8) und die Lage des Brennpunktes des Beleuchtungskegels (8) auf der optischen Achse (6) am Ort des Objekts (4) bestimmt sind.
  2. Kondensor-Monochromator-Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das beugende Element (3,7,15a,15b,20a,20b) und ein oder mehrere reflektierende Elemente (2,18,19) drehbar um die optische Achse (6) des Röntgenmikroskops (5) gelagert sind.
  3. Kondensor-Monochromator-Anordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das beugende Element (3,7,15a,15b,20a,20b) als off-axis Zonenplatten (3,7) in Reflexion oder Transmission, oder als Plangitter (15a,15b) in Reflexion oder Transmission, oder als Kristall in Braggreflexion ausgebildet ist.
  4. Kondensor-Monochromator-Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwei reflektierende Elemente (2,17,18) drehbar um die optische Achse (6) des Röntgenmikroskops (5) gelagert sind.
  5. Kondensor-Monochromator-Anordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine off-axis Zonenplatte (3,7) im Strahlengang raumfest angeordnet ist.
  6. Kondensor-Monochromator-Anordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine ringförmige Kondensorzonenplatte (14) im Strahlengang raumfest angeordnet ist.
  7. Kondensor-Monochromator-Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierenden Elemente Planspiegel (2,17,18,19) oder fokussierende Spiegel (16) sind.
  8. Kondensor-Monochromator-Anordnung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der fokussierende Spiegel (16) ein gekrümmter Kristall ist, der in Rowlandanordnung benutzt wird.
  9. Kondensor-Monochromator-Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die beugenden und reflektierenden optischen Elemente (2,3,7,12,13,14,15a,15b,16,17, 18,19,20a,20b) zur variablen Einstellung des Öffnungswinkels (10) verschiebbar und kippbar sind.
  10. Kondensor-Monochromator-Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das beugende optische Element ein Fokussator (13) mit einem Ringfokus ist, dem mindestens ein Hohlkegelspiegel (12) als reflektierendes optisches Element im Strahlengang nachgeordnet ist.
EP97906992A 1996-01-10 1997-01-10 Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung Expired - Lifetime EP0873565B1 (de)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19600701 1996-01-10
DE19600701 1996-01-10
DE19633047 1996-08-18
DE19633047 1996-08-18
PCT/DE1997/000033 WO1997025722A2 (de) 1996-01-10 1997-01-10 Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP0873565A2 EP0873565A2 (de) 1998-10-28
EP0873565B1 true EP0873565B1 (de) 1999-10-20

Family

ID=26021979

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP97906992A Expired - Lifetime EP0873565B1 (de) 1996-01-10 1997-01-10 Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6128364A (de)
EP (1) EP0873565B1 (de)
JP (1) JP3069131B2 (de)
DE (2) DE59700582D1 (de)
WO (1) WO1997025722A2 (de)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5326428A (en) 1993-09-03 1994-07-05 Micron Semiconductor, Inc. Method for testing semiconductor circuitry for operability and method of forming apparatus for testing semiconductor circuitry for operability
US6327335B1 (en) * 1999-04-13 2001-12-04 Vanderbilt University Apparatus and method for three-dimensional imaging using a stationary monochromatic x-ray beam
US6259764B1 (en) * 1999-07-16 2001-07-10 Agere Systems Guardian Corp. Zone plates for X-rays
EP1200879B1 (de) * 1999-07-30 2007-06-20 Carl Zeiss SMT AG Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines EUV-Beleuchtungssystems
DE19954520A1 (de) * 1999-11-12 2001-05-17 Helmut Fischer Gmbh & Co Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen
US20050122509A1 (en) * 2002-07-18 2005-06-09 Leica Microsystems Semiconductor Gmbh Apparatus for wafer inspection
DE10242431A1 (de) * 2002-09-11 2004-03-25 Lutz Dr. Kipp Element zur Fokussierung von elektromagnetischen Strahlen oder Strahlen von Elementarteilchen
US7268945B2 (en) * 2002-10-10 2007-09-11 Xradia, Inc. Short wavelength metrology imaging system
US7170969B1 (en) * 2003-11-07 2007-01-30 Xradia, Inc. X-ray microscope capillary condenser system
US7486984B2 (en) * 2004-05-19 2009-02-03 Mxisystems, Inc. System and method for monochromatic x-ray beam therapy
DE102005056404B4 (de) * 2005-11-23 2013-04-25 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Röntgenmikroskop mit Kondensor-Monochromator-Anordnung hoher spektraler Auflösung
GB2457836B (en) * 2006-09-11 2010-07-07 Medway Nhs Trust Radiation device or signal
JP5611223B2 (ja) 2008-12-01 2014-10-22 ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒルThe University Of North Carolina At Chapel Hill 多色分布を持つx線ビームからのマルチビームイメージングを用いる対象の画像の検出システム及び方法
DE112010001478B4 (de) * 2009-07-01 2016-05-04 Rigaku Corp. Verwendung einer Röntgenvorrichtung
US8294989B2 (en) * 2009-07-30 2012-10-23 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Apparatus and method for creating a photonic densely-accumulated ray-point
US10620118B2 (en) * 2012-02-27 2020-04-14 Steris Instrument Management Services, Inc. Systems and methods for identifying optical materials
DE102012013530B3 (de) * 2012-07-05 2013-08-29 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Vorrichtung zur Messung resonanter inelastischer Röntgenstreuung einer Probe
US10541102B2 (en) * 2016-09-14 2020-01-21 The Boeing Company X-ray back scattering for inspection of part
DE102017105275B4 (de) 2017-03-13 2019-02-14 Focus Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahlungsquelle mit Linienspektrum
DE102020001448B3 (de) 2020-03-03 2021-04-22 Friedrich Grimm Hybridprisma als Bauelement für optische Systeme

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5199057A (en) * 1989-08-09 1993-03-30 Nikon Corporation Image formation-type soft X-ray microscopic apparatus
US5204887A (en) * 1990-06-01 1993-04-20 Canon Kabushiki Kaisha X-ray microscope
DE4027285A1 (de) * 1990-08-29 1992-03-05 Zeiss Carl Fa Roentgenmikroskop
JPH04353800A (ja) * 1991-05-31 1992-12-08 Olympus Optical Co Ltd 軟x線顕微鏡
US5177774A (en) * 1991-08-23 1993-01-05 Trustees Of Princeton University Reflection soft X-ray microscope and method
US5361292A (en) * 1993-05-11 1994-11-01 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Condenser for illuminating a ring field
JP3167095B2 (ja) * 1995-07-04 2001-05-14 キヤノン株式会社 照明装置とこれを有する露光装置や顕微鏡装置、ならびにデバイス生産方法
US6023496A (en) * 1997-04-30 2000-02-08 Shimadzu Corporation X-ray fluorescence analyzing apparatus
US6028911A (en) * 1998-08-03 2000-02-22 Rigaku Industrial Corporation X-ray analyzing apparatus with enhanced radiation intensity

Also Published As

Publication number Publication date
EP0873565A2 (de) 1998-10-28
DE19700615A1 (de) 1997-07-17
JPH11508692A (ja) 1999-07-27
US6128364A (en) 2000-10-03
WO1997025722A3 (de) 1997-09-04
WO1997025722A2 (de) 1997-07-17
DE59700582D1 (de) 1999-11-25
JP3069131B2 (ja) 2000-07-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0873565B1 (de) Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung
EP1225481B1 (de) Kollektor für Beleuchtungssysteme
DE69418248T2 (de) Optisches Laser-Abtastsystem mit Axikon
DE69122018T2 (de) Röntgenstrahllithographie mit ringförmigem Bildfeld
DE69121972T2 (de) Röntgenstrahlenmikroskop
EP0873566B1 (de) Röntgenmikroskop mit zonenplatten
DE4432811A1 (de) Phasenkontrast-Röntgenmikroskop
DE102013204443A1 (de) Optische Baugruppe zur Lichtleitwerterhöhung
DE102011113521A1 (de) Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
EP3479162A1 (de) Anordnung zur erzeugung eines bessel-strahls
DE102007023411A1 (de) Optisches Element, Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie mit mindestens einem derartigen optischen Element sowie Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
DE112011102900B4 (de) Abbildungssystem
DE102011076658A1 (de) Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie
DE102017217867A1 (de) EUV-Facettenspiegel für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
WO2019134773A1 (de) Pupillenfacettenspiegel, beleuchtungsoptik und optisches system für eine projektionsbelichtungsanlage
EP1471539B1 (de) Abbildungssystem für ein, auf extrem ultravioletter (EUV) Strahlung basierendem Mikroskop
WO2003083579A1 (de) Kollektoreinheit mit einem reflektiven element für beleuchtungssysteme mit einer wellenlänge kleiner als 193 nm
DE102005056404B4 (de) Röntgenmikroskop mit Kondensor-Monochromator-Anordnung hoher spektraler Auflösung
DE102009047316A1 (de) Optische reflektierende Komponente zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage der EUV-Mikrolithographie
WO2003081712A2 (de) Gitterelement zum filtern von wellenlängen ≤ 100nm
DE10229816A1 (de) Vorrichtung zur Erzeugung einer konvergenten Lichtwellenfront und System zur interferometrischen Linsenflächenvermessung
DE69430582T2 (de) Vorrichtung zur erzeugung eines bildes von einem objekt unter der verwendung eines stromes von neutralen oder geladenen teilchen und einer linse zum konvertierten des stromes von neutralen oder geladenen teilchen
DE102012013530B3 (de) Vorrichtung zur Messung resonanter inelastischer Röntgenstreuung einer Probe
DE102023206503A1 (de) Abbildende Optik
WO2009030390A1 (de) Vorrichtung und verfahren für die xuv-mikroskopie

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 19980403

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): CH DE DK FR GB IT LI SE

GRAG Despatch of communication of intention to grant

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

GRAG Despatch of communication of intention to grant

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

17Q First examination report despatched

Effective date: 19990311

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): CH DE DK FR GB IT LI SE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Free format text: THE PATENT HAS BEEN ANNULLED BY A DECISION OF A NATIONAL AUTHORITY

Effective date: 19991020

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRE;WARNING: LAPSES OF ITALIAN PATENTS WITH EFFECTIVE DATE BEFORE 2007 MAY HAVE OCCURRED AT ANY TIME BEFORE 2007. THE CORRECT EFFECTIVE DATE MAY BE DIFFERENT FROM THE ONE RECORDED.SCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 19991020

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

Effective date: 19991021

REF Corresponds to:

Ref document number: 59700582

Country of ref document: DE

Date of ref document: 19991125

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20000120

ET Fr: translation filed
PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

RAP2 Party data changed (patent owner data changed or rights of a patent transferred)

Owner name: LEICA MICROSYSTEMS LITHOGRAPHY GMBH

RIN2 Information on inventor provided after grant (corrected)

Free format text: NIEMANN, BASTIAN, DR.

26N No opposition filed
REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: IF02

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20060112

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20060113

Year of fee payment: 10

Ref country code: CH

Payment date: 20060113

Year of fee payment: 10

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070131

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070131

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070801

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20070110

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

Effective date: 20070930

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070110

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070131

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20060120

Year of fee payment: 10