Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

DE3636524A1 - Apparatus for applying coatings in a vacuum by magnetron atomisation - Google Patents

Apparatus for applying coatings in a vacuum by magnetron atomisation

Info

Publication number
DE3636524A1
DE3636524A1 DE19863636524 DE3636524A DE3636524A1 DE 3636524 A1 DE3636524 A1 DE 3636524A1 DE 19863636524 DE19863636524 DE 19863636524 DE 3636524 A DE3636524 A DE 3636524A DE 3636524 A1 DE3636524 A1 DE 3636524A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
tube
magnetron
vacuum
current
shielding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19863636524
Other languages
German (de)
Inventor
Mitjo Jordanov Dipl Ing Kanev
Zanko Dimitrov Dipl Ing Usunov
Dotscho Danev Dipl In Dotschev
Dimiter Iliev Dipl Kasandjiev
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
VTU >>ANGEL KANCEV<<
Original Assignee
VTU >>ANGEL KANCEV<<
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by VTU >>ANGEL KANCEV<< filed Critical VTU >>ANGEL KANCEV<<
Priority to DE19863636524 priority Critical patent/DE3636524A1/en
Publication of DE3636524A1 publication Critical patent/DE3636524A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

An apparatus for applying coatings in a vacuum by magnetron atomisation, in which the magnetron system (1) is rigidly connected to an earthed shielding tube (2), to an insulating tube (3), to a current-carrying tube (4) and to an inner tube (5) which are arranged successively one in the other, the current-carrying tube (4) and the inner tube (5) constituting the system for supplying the cooling fluid. Arranged in the space limited by the shielding tube (2) and by the insulating tube (3) are a tube (9) for the passage of working gas and an electrical lead (10) to the anode. The shielding tube (2) and the current-carrying tube (4) are insulated electrically from one another and are sealed off in a vacuum-tight manner. The shielding tube (2) opens out in the vacuum space through a sluice device and makes the connection between the magnetron system (1) and the drive. <IMAGE>

Description

Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Auftragen von Überzügen im Vakuum durch Magnetronzerstäubung.The invention relates to a device for application of coatings in vacuum by magnetron sputtering.

Aus W. Orlinov, G. Mladenov: Elektronische und ionische Verfahren und Einrichtungen für Bearbeitung und Analyse von Substanzen, Verlag Technika, Sofia, 1982 ist eine Einrichtung zum Auftragen von Überzügen im Vakuum durch Magnetronzerstäubung bekannt, die aus einem Magnetron­ system besteht, welches in einer Kammer angeordnet ist, an die selbständig und unabhängig voneinander ein System zur Speisung mit Arbeitsgas, ein System für die Zufuhr von Kühlflüssigkeit, ein Stromzuführsystem und ein An­ triebssystem zur relativen Bewegung der überzogenen Ob­ jekte in bezug auf das Magnetron angeschlossen sind.From W. Orlinov, G. Mladenov: Electronic and ionic processes and devices for processing and analysis of substances, Verlag Technika, Sofia, 1982 , a device for applying coatings in a vacuum by magnetron sputtering is known, which consists of a magnetron system, which in a chamber is arranged to which a system for feeding with working gas, a system for supplying coolant, a power supply system and a drive system for the relative movement of the coated objects with respect to the magnetron are connected independently and independently of one another.

Die Nachteile der bekannten Einrichtung liegen darin, daß die sie bildenden Systeme eine komplexe Anordnung aufweisen und ein großes Volumen der Kammer einnehmen; auf diese Weise werden die Möglichkeiten für Bewegung der Einrichtung eingeschränkt, was zum ungleichmäßigen Überziehen der Werkstücke führt.The disadvantages of the known device are that the systems making them up are a complex arrangement have and occupy a large volume of the chamber; this way the possibilities for movement limited the facility, which leads to uneven Covering the workpieces leads.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Einrich­ tung zum Auftragen von Überzügen im Vakuum zu entwik­ keln, bei der die sie bildenden Systeme eine rationel­ le Anordnung aufweisen und ein kleines Volumen in der Kammer einnehmen, um die Bewegungsmöglichkeiten nicht einzuschränken, wodurch ein gleichmäßiges Überziehen der Werkstücke gewährleistet wird.The invention has for its object a Einrich device for applying coatings in a vacuum in which the systems forming them are rational le arrangement and a small volume in the Do not take the chamber to move restrict, thereby creating an even covering the workpieces is guaranteed.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Anspruch beschriebene Erfindung gelöst. This object is achieved by the claim described invention solved.  

Die Vorteile der erfindungsgemäßen Einrichtung liegen darin, daß die sie bildenden Systeme, die in einer inte­ gralen vereinfachten und mit kleinem Volumen Baugruppe montiert sind, eine rationelle Anordnung aufweisen und ein kleines Volumen in der Kammer einnehmen, wodurch die Möglichkeiten für translatorische und/oder Rotationsbe­ wegungen nicht eingeschränkt werden, was zu einem gleich­ mäßigen Überziehen der Werkstücke führt.The advantages of the device according to the invention lie in that the systems forming them, which are integrated in an inte grail simplified and with small volume assembly are mounted, have a rational arrangement and take up a small volume in the chamber, causing the Possibilities for translational and / or rotation movements are not restricted, resulting in an equal moderate covering of the workpieces.

Die Erfindung wird anhand des in der Zeichnung gezeigten Ausführungsbeispiels erläutert. Die Zeichnung zeigt einen Längsschnitt durch eine erfindungsgemäße Einrichtung.The invention is based on that shown in the drawing Exemplary embodiment explained. The drawing shows one Longitudinal section through a device according to the invention.

Die erfindungsgemäße Einrichtung besteht aus einem Mag­ netron 1, in dem starr befestigt und aufeinanderfolgend ineinander ein geerdetes Abschirmrohr 2, ein Isolierrohr 3, ein stromführendes Rohr 4 und ein inneres Rohr 5 an­ geordnet sind. Das stromführende Rohr 4 und das innere Rohr 5 bilden ein System für die Zufuhr von Kühlflüssig­ keit. Das Abschirmrohr 2 und das stromführende Rohr 4 sind durch die Isolierkörper 6 und 7 elektrisch isoliert und durch Gummi-Dichtringe 8 vakuumdicht abgedichtet. Im Raum zwischen dem Abschirmrohr 2 und dem Isolierrohr 3 befinden sich ein Rohr 9 zum Durchleiten von Arbeits­ gas und eine elektrische Leitung, die zur Anode 10 führt. Die elektrische Leitung zur Anode 10 mündet durch einen vakuumdichten elektrischen lsolator 11 in dem Vakuumraum. Das Abschirmrohr 2 verläuft durch eine Schleuseneinrich­ tung 12, die an der Kammer 13 montiert ist. Die Kathode 14 ist oberhalb des Rohres 9 montiert.The device according to the invention consists of a mag netron 1 , in which rigidly attached and successively one inside the other an earthed shielding tube 2 , an insulating tube 3 , a current-carrying tube 4 and an inner tube 5 are arranged. The current-carrying tube 4 and the inner tube 5 form a system for the supply of cooling liquid speed. The shielding tube 2 and the current-carrying tube 4 are electrically insulated by the insulating bodies 6 and 7 and sealed in a vacuum-tight manner by rubber sealing rings 8 . In the space between the shielding tube 2 and the insulating tube 3 there is a tube 9 for the passage of working gas and an electrical line leading to the anode 10 . The electrical line to the anode 10 opens through a vacuum-tight electrical insulator 11 in the vacuum space. The shielding tube 2 extends through a Schleuseneinrich device 12 which is mounted on the chamber 13 . The cathode 14 is mounted above the tube 9 .

Die Wirkungsweise der Einrichtung ist wie folgt: The mechanism works as follows:  

Durch das innere Rohr 5 wird Kühlflüssigkeit zum Magnetron 1 zugeführt, die in den Raum zwischen dem stromzuführenden Rohr 4 und dem inneren Rohr 5 gelangt. Nach Erzeugung eines entsprechenden Drucks durch ein nicht gezeigtes Dosiersystem wird durch das Rohr 9 Arbeitsgas durchgelei­ tet, bis ein bestimmter Arbeitsdruck erreicht wird. Über das stromführende Rohr 4 wird eine Spannung zum Magnetron 1 zugeführt, welche ein negatives Potential des Magnetrons 1 in bezug auf die elektrische Leitung zur Anode 10 und die Kammer 13 erzeugt. Dabei kommt das Magnetron 1 in Zerstäubungsbetrieb (-zustand). Die hin- und hergehende Bewegung der Einrichtung wird über das genullte Abschirm­ rohr 2 von einem nicht gezeigten Antriebsmechanismus er­ zeugt. Die zu überziehenden Werkstücke werden in der Kam­ mer in einem Abstand unterhalb des Magnetrons angeordnet, und zwar auf einer Unterlage, welche die von dem Magnetron befahrene, nicht gezeigte Fläche einnimmt.Through the inner tube 5 , cooling liquid is supplied to the magnetron 1 , which reaches the space between the current-carrying tube 4 and the inner tube 5 . After generating a corresponding pressure by a metering system, not shown, working gas is passed through the tube 9 until a certain working pressure is reached. A voltage is supplied to the magnetron 1 via the current-carrying tube 4 , which voltage generates a negative potential of the magnetron 1 with respect to the electrical line to the anode 10 and the chamber 13 . The magnetron 1 comes into atomization mode. The reciprocating movement of the device is on the zeroed shielding tube 2 from a drive mechanism, not shown, he testifies. The workpieces to be coated are arranged in the chamber at a distance below the magnetron, on a base which occupies the area not shown, which is traveled by the magnetron.

Claims (1)

Einrichtung zum Auftragen von Überzügen im Vakuum mittels Magnetronzerstäubung, welche ein in einer Kammer angeord­ netes Magnetron (1), ein System zur Einspeisung von Ar­ beitsgas, ein System zur Zuführung von Kühlflüssigkeit, ein stromzuführendes System und ein Antriebssystem ent­ hält, dadurch gekennzeichnet, daß das Magnetronsystem (1) starr verbunden ist mit einem geer­ deten Abschirmrohr (2), einem Isolierrohr (3), einem stromführenden Rohr (4) und einem inneren Rohr (5), die aufeinanderfolgend ineinander angeordnet sind, wobei das stromführende Rohr (4) und das innere Rohr (5) das System zur Zuführung von Kühlflüssigkeit bilden, während im Raum zwischen dem Abschirmrohr (2) und dem Isolierrohr (3) ein Rohr (9) zur Einspeisung von Arbeitsgas und eine elektrische Leitung zur Anode (10) angeordnet sind, wo­ bei das Abschirmrohr (2) und das stromführende Rohr (4) mittels Isolierkörper (6, 7) untereinander elektrisch isoliert sind und mittels Gummi-Dichtringen (8) vakuum­ dicht abgedichtet sind, und das Abschirmrohr (2) durch eine Schleuseneinrichtung (12) in den Vakuumraum mündet und die Verbindung zwischen dem Magnetron (1) und dem Antrieb bildet.Device for applying coatings in a vacuum by means of magnetron sputtering, which contains a magnetron ( 1 ) arranged in a chamber, a system for feeding working gas, a system for supplying coolant, a current-supplying system and a drive system, characterized in that the magnetron system ( 1 ) is rigidly connected to a grounded shielding tube ( 2 ), an insulating tube ( 3 ), a current-carrying tube ( 4 ) and an inner tube ( 5 ), which are arranged one after the other, the current-carrying tube ( 4 ) and the inner tube ( 5 ) form the system for supplying cooling liquid, while a tube ( 9 ) for feeding in working gas and an electrical line to the anode ( 10 ) are arranged in the space between the shielding tube ( 2 ) and the insulating tube ( 3 ) , where the shielding tube ( 2 ) and the current-carrying tube ( 4 ) are electrically insulated from one another by means of insulating bodies ( 6 , 7 ) and by means of a rubber sealing ring en ( 8 ) are sealed in a vacuum-tight manner, and the shielding tube ( 2 ) opens into the vacuum space through a lock device ( 12 ) and forms the connection between the magnetron ( 1 ) and the drive.
DE19863636524 1986-10-27 1986-10-27 Apparatus for applying coatings in a vacuum by magnetron atomisation Withdrawn DE3636524A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19863636524 DE3636524A1 (en) 1986-10-27 1986-10-27 Apparatus for applying coatings in a vacuum by magnetron atomisation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19863636524 DE3636524A1 (en) 1986-10-27 1986-10-27 Apparatus for applying coatings in a vacuum by magnetron atomisation

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3636524A1 true DE3636524A1 (en) 1988-04-28

Family

ID=6312571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19863636524 Withdrawn DE3636524A1 (en) 1986-10-27 1986-10-27 Apparatus for applying coatings in a vacuum by magnetron atomisation

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3636524A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0492992A2 (en) * 1990-12-21 1992-07-01 Novellus Systems, Inc. Magnetron sputtering equipment
US8182662B2 (en) 2009-03-27 2012-05-22 Sputtering Components, Inc. Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2309615A1 (en) * 1972-03-01 1973-09-06 Ibm PROCESS FOR PRODUCING A PHOSPHOROSILICATE GLASS LAYER BY CATHODE SPRAYING
DE2264436A1 (en) * 1971-09-07 1973-12-20 Telic Corp PROCESS FOR DUSTING MATERIAL FROM TWO OUTPUT ELECTRODES ON A SUPPORT SURFACE
US4169031A (en) * 1978-01-13 1979-09-25 Polyohm, Inc. Magnetron sputter cathode assembly
DE2417288C2 (en) * 1974-01-31 1986-03-20 BOC Technologies Ltd., London Sputtering device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2264436A1 (en) * 1971-09-07 1973-12-20 Telic Corp PROCESS FOR DUSTING MATERIAL FROM TWO OUTPUT ELECTRODES ON A SUPPORT SURFACE
DE2309615A1 (en) * 1972-03-01 1973-09-06 Ibm PROCESS FOR PRODUCING A PHOSPHOROSILICATE GLASS LAYER BY CATHODE SPRAYING
DE2417288C2 (en) * 1974-01-31 1986-03-20 BOC Technologies Ltd., London Sputtering device
US4169031A (en) * 1978-01-13 1979-09-25 Polyohm, Inc. Magnetron sputter cathode assembly

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0492992A2 (en) * 1990-12-21 1992-07-01 Novellus Systems, Inc. Magnetron sputtering equipment
EP0492992A3 (en) * 1990-12-21 1992-08-05 Novellus Systems, Inc. Magnetron sputtering equipment
US5171415A (en) * 1990-12-21 1992-12-15 Novellus Systems, Inc. Cooling method and apparatus for magnetron sputtering
US8182662B2 (en) 2009-03-27 2012-05-22 Sputtering Components, Inc. Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2463431C2 (en)
DE2531812C3 (en) Gas discharge device
DE2556607C2 (en) Method and device for cathode sputtering
EP0238031A2 (en) Device for electrostatically coating objects
DE2302938A1 (en) MULTI-STAGE ACCELERATOR FOR CHARGED PARTICLES WITH HIGH VACUUM INSULATION
DE2819165C2 (en)
DE102015103053A1 (en) Electro-making unit
DE3636524A1 (en) Apparatus for applying coatings in a vacuum by magnetron atomisation
DE4019729A1 (en) ION SOURCE
DE69207616T2 (en) Fast atom beam source
DE3343191A1 (en) ION PUMP
DE2347491C3 (en) Method and device for electrostatic coating with powdery substances
US3031145A (en) Electrostatic spray painting apparatus
DE60303060T2 (en) Method and device for supplying and applying electrically conductive lacquer
DE2016038B2 (en) ION SOURCE
DE102013106168B4 (en) Cantilever magnetron with a rotating target
WO2012062419A1 (en) Method for electrostatically coating objects and application device
DE2441448A1 (en) DEVICE FOR APPLYING SPRAY COATINGS TO SUBSTRATES
DE1122801B (en) Process for the production of metallic layers by means of cathode sputtering
DE3329861A1 (en) DEVICE FOR GENERATING SAMPLES
DE2305359C3 (en) Device for reactive vapor deposition of thin layers on substrates
DE1233068B (en) Neutron generator
DE2151220B2 (en) Device for electrostatic charging and separation of mass particles
DE879583C (en) Ion source for high voltage ion tubes
DE961005C (en) Process to prevent oil from penetrating through seals between an oil-filled container with high-voltage switching elements and its removable outer parts

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8139 Disposal/non-payment of the annual fee