DE3524895C1

DE3524895C1 - Siebmaschine

Info

Publication number: DE3524895C1
Application number: DE3524895A
Authority: DE
Inventors: Kurt Ing.(grad.) 4010 Hilden Hoppe
Original assignee: HEIN LEHMANN AG 4000 DUESSELDORF DE; Hein Lehmann Ag 4000 Duesseldorf; Hein Lehmann AG
Current assignee: Hein Lehmann Trenn- und Foerdertechnik 4000 GmbH
Priority date: 1985-07-12
Filing date: 1985-07-12
Publication date: 1986-12-18
Also published as: US4819810A; JPS6265780A; EP0208221A3; EP0208221A2; IN165460B

Description

Die Erfindung betrifft eine Siebmaschine mit zwei durch mindestens eine Exzenterwelle Kreisschwingungen ausführenden Bewegungssystemen, aus voneinander getrennten Rahmen oder je zwei Seitenwangen mit zwischen den Rahmen oder Seitenwangen jedes Systems in regelmäßigen Abständen zueinander parallel befestigten Querträgern, wobei die in einer Siebebene befindlichen Querträger beider Systeme einander abwechselnd angeordnet und durch die Systeme so angetrieben sind, daß die zwischen den Querträgern befindlichen, an diesen befestigten, elastischen Siebbelagfelder abwechselnd gestreckt und gestaucht werden.

Aus der deutschen Patentschrift 12 06 372 ist eine solsche Siebmaschine bekannt. Die einander gegenüberliegenden Seitenwangen beider Bewegungssysteme sind von zwei angetriebenen Exzenterwellen durchdrungen, deren beiden Enden in einem Grundrahmen drehbar gelagert sind. Dieser zusätzliche Grundrahmen ist konstruktiv aufwendig und läßt die Maschine groß bauen. Ferner müssen von diesem Grundrahmen erhebliche

Schwingungskräfte aufgenommen werden.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Siebmaschine der eingangs genannten Art zu schaffen, die von einfacher Konstruktion ist und geringe Außenabmessungen aufweist.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß jede Exzenterwelle allein in den beiden Bewegungssystemen gelagert ist.

Eine solche Siebmaschine bedarf keines Grundrahmens, so daß sie konstruktiv wesentlich einfacher ist. Sie ist damit preiswerter herstellbar und durch den fehlenden Grundrahmen sind ihre Außenabmessungen geringer. Die von der oder den Exzenterwellen erzeugten Schwingungen müssen nicht von einem Grundrahmen abgefangen werden, der damit bisher Energien vernichten mußte. Die Schwingungsenergie wird vielmehr vollständig von den Bewegungssystemen verbraucht, so daß weniger Energie benötigt wird, um Materialien zu sieben. Auch zeigt eine solche Konstruktion weniger Verschleiß, da die äußeren, besonders strapazierten Lager der Exzenterwelle fehlen.

Eine besonders sichere Lagerung und einfache Konstruktion wird dann geschaffen, wenn ein erstes der beiden Bewegungssysteme am zweiten Bewegungssystem federnd gelagert ist und das zweite Bewegungssystem auf dem Untergrund sich federnd abstützt.

Vorzugsweise wird vorgeschlagen, daß nur eine Exzenterwelle vorgesehen ist und beide Bewegungssysteme durch Stützfedern stabilisiert sind. Alternativ können zwei Exzenterwellen zueinander parallel in beiden Bewegungssystemen gelagert sein und eine der Exzenterwellen die andere insbesondere über einen Koppelriemen antreiben.

Ferner wird vorgeschlagen, daß oberhalb der ersten Siebebene an den Seitenwangen eine zweite Lage von Querträgern befestigt ist, die eine zweite Siebebene (Siebdeck) bilden. Hierzu alternativ wird vorgeschlagen, daß oberhalb der ersten Siebebene an dem Rahmen oder an den Seitenwangen eines der Bewegungssysteme eine Siebebene oder ein Schutzdeck befestigt ist.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in den Zeichnungen dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben. Es zeigt

Fig. 1 einen senkrechten Schnitt durch die Siebmaschine quer zur Förderrichtung des Siebgutes,

F i g. 2 eine Draufsicht auf die Siebmaschine, und
F i g. 3 eine Seitenansicht.

Das äußere Bewegungssystem II weist zwei senkrechte Seitenwangen (Seitenwände) la, 16 auf, die im unteren Bereich von einem Kastenprofil 2a, 2b gebildet werden, das über Schraubenfedern 3a, 36 auf dem Untergrund gelagert ist. An den Unterseiten der Kastenprofile 2a, 2b stehen innen Befestigungselemente 4a, 4b vor, die waagerechte Querträger 5 halten. Diese Querträger liegen senkrecht zu den Seitenwangen und quer zur Förderrichtung des Siebgutes. An der Oberseite der Seitenwangen la, 16 stehen in gleicher Weise nach innen Befestigungselemente 6a, 6b vor, die für ein über dem unteren Siebdeck darüber angeordnetes zweiten Siebdeck Querträger 7 halten, die parallel zu den Querträgern 5 liegen.

Innerhalb der Seitenwangen la, \b ist ein erstes Bewegungssystem I gelagert, das wiederum zwei Seitenwangen 8a, 8b besitzt, die parallel zu den Seitenwangen la, Ib sind. An den Seitenwangen bzw. Seitenwänden 8a, Sb sind in gleicher Weise an der Ober- und Unterseite Querträger 9,10 befestigt, die parallel zu den Querträgern des Bewegungssystems II sind und in der gleichen

Höhe liegen. Das untere Siebdeck 11 weist somit ca. 12 bis 16 Querträger auf, die abwechselnd am einen und am anderen Bewegungssystem befestigt sind und die zwischen sich Felder eines flexiblen Siebbelages 12 tragen. In gleicher Weise ist das obere Siebdeck 13 ausgeführt.

Das untere Siebdeck 11 ist seitlich durch die Seitenwangen 8a, 86 begrenzt, wobei im unteren Bereich an diesen Wangen eine Abdichtung 14 aus elastischem Material befestigt ist. Das obere Siebdeck ist durch seitliche Stützen 15 begrenzt, die an den Seitenwangen la, 16 fefestigt sind und wiederum auf der Innenseite Abdichtungen 14 tragen.

Durch die Seitenwangen la, Ib, 8a, Sb beider Bewegungssysteme I₁ II verlaufen quer zur Förderrichtung zwei Exzenterwellen 16,17, die vierfach gelagert sind. In beiden äußeren Bereichen liegen die Exzenterwellen 16, 17 in Lagern 18a, 186der Seitenwangen la, 16 ein und in den weiter innen liegenden Bereichen in Lagern 19a, 19b der Seitenwangen 8a, 8b. Die Exzenterwellen 16,17 sind zwischen den beiden Lagern 18a und 19a als auch zwischen den beiden Lagern 186 und 19Zj zweifach abgewinkelt, so daß die Achse der Exzenterwelle im Bereich der Lager 18a und 186 gleichachsig, aber die Achse im Bereich der Lager 18a und 19a zueinander parallel versetzt sind. Dies gilt auch für die Achsen im Bereich der Lager 186,196. Dagegen ist die Achse der Exzenterwellen im Bereich der Lager 19a, 196 wiederum gleichachsig.

Die Stellungen dieser durch die Exzenterwelle gebildeten Exzenter sind somit um 180° versetzt, wobei die Exzentrizität ca. 5 bis 7 mm beträgt. Jeder Systempunkt wird daher bei einer Umdrehung der Welle auf einer Kreisbahn mit dem Durchmesser von ca. 14 mm bewegt. Da beide Systeme sich um 180° phasenverschoben nacheilen, nähern und entfernen sich bestimmte Systempunkte. Dies führt dazu, daß in einer Draufsicht gesehen, die Querträger 9 des Systems I sich während einer Umdrehung einer Exzenterwelle von den Querträgern 5 des Systems II entfernen und danach wieder nähern. Hierdurch wird der zwischen zwei Querträgern 5,9 befindliehe Siebbelag 12 einmal gestreckt und einmal gestaucht.

Die erste Exzenterwelle 16 ist über ein Antriebsrad 20 mit einem Elektromotor verbunden, wobei der Antrieb direkt oder über eine Keilriemenübersetzung als auch über eine Keilriemenübersetzung mit Gelenkwelle geschehen kann. Die zweite Exzenterwelle 17 wird von der ersten Exzenterwelle 16 über einen Koppelriemen 21 angetrieben.

Alternativ kann die Siebmaschine von einer einzigen Exzenterwelle angetrieben sein, wobei dann die Systeme durch zusätzliche Stützfedern stabilisiert sind. Statt der dargestellten Doppeldeckausführung kann die Maschine auch nur ein einziges Siebdeck besitzen. Ferner kann über einem solchen einzigen Siebdeck ein Schutzdeck befestigt sein, das von den Seitenwangen eines der beiden Bewegungssysteme getragen ist.

Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

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- Leerseite -

Claims

Patentansprüche:

1. Siebmaschine mit zwei durch mindestens eine Exzenterwelle Kreisschwingungen ausführenden Bewegungssystemen (I, II), aus voneinander getrennten Rahmen oder je zwei Seitenwangen (la, Ii), 8a, Sb) mit zwischen den Rahmen oder Seitenwangen jedes Systems in regelmäßigen Abständen zueinander parallel befestigten Querträgern (5, 7, 9, 10), wobei die in einer Siebebene befindliche Querträger beider Systeme (I, II) einander abwechselnd angeordnet und durch die Systeme so angetrieben sind, daß die zwischen den Querträgern befindlichen, an diesen befestigten, elastischen Siebbelagfelder (12) abwechselnd gestreckt und gestaucht werden, dadurch gekennzeichnet, daß jede Exzenterwelle (16,17) allein in den beiden Bewegungssystemen (I, II) gelagert ist.

2. Siebmaschine nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das erste (I) der beiden Bewegungssysteme am zweiten Bewegungssystem (H) federnd gelagert ist und das zweite Bewegungssystem (II) auf dem Untergrund sich federnd abstützt.

3. Siebmaschine nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß nur eine Exzenterwelle vorgesehen ist und beide Bewegungssysteme durch Stützfedern stabilisiert sind.

4. Siebmaschine nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zwei Exzenterwellen (16, 17) zueinander parallel in beiden Bewegungssystemen (I, II) gelagert sind und eine der Exzenterwellen (16) die andere (17) insbesondere über einen Koppelriemen (21) antreibt.

5. Siebmaschine nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß oberhalb der ersten Siebebene (11) an den Seitenwangen eine zweite Lage von Querträgern (7,10) befestigt ist, die eine zweite Siebebene (13) (Siebdeck) (13) bilden.

6. Siebmaschine nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß oberhalb der ersten Siebebene (11) an dem Rahmen oder an den Seitenwangen (la, \b) eines der Bewegungssysteme (I, II) eine Siebebene oder ein Schutzdeck befestigt ist.