DE19942281A1 - Projektionsobjektiv - Google Patents
ProjektionsobjektivInfo
- Publication number
- DE19942281A1 DE19942281A1 DE19942281A DE19942281A DE19942281A1 DE 19942281 A1 DE19942281 A1 DE 19942281A1 DE 19942281 A DE19942281 A DE 19942281A DE 19942281 A DE19942281 A DE 19942281A DE 19942281 A1 DE19942281 A1 DE 19942281A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- lens
- projection
- aspherical
- lens group
- arrangement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 claims description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 abstract description 6
- 210000001624 hip Anatomy 0.000 description 13
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 8
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 7
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 7
- 210000001015 abdomen Anatomy 0.000 description 5
- 206010073261 Ovarian theca cell tumour Diseases 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 208000001644 thecoma Diseases 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/18—Optical objectives specially designed for the purposes specified below with lenses having one or more non-spherical faces, e.g. for reducing geometrical aberration
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
- G02B13/143—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation for use with ultraviolet radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Projektionsobjektiv mit einer mindestens eine erste Taille des Lichtbündels aufweisenden Linsenanordnung, wobei eine Linse (L205, L305, L405, L505, L605) mit einer asphärischen Oberfläche (29) vor und oder eine Linse (L210, L310, L409, L509, L609) mit einer asphärischen Oberfläche (27) nach der ersten Taille (23) angeordnet ist.
Description
Die Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv mit einer Linsenanordnung, die in sechs
Linsengruppen unterteilbar ist. Die erste, dritte, fünfte und sechste Linsengruppe weisen
positive Brechkraft auf und die zweite und vierte Linsengruppe weisen jeweils negative
Brechkraft auf. Im folgenden wird die Unterteilung des Linsensystems in Linsengruppen
näher ausgeführt, wobei die Ausbreitungsrichtung der Strahlung zugrunde gelegt worden
ist.
Die erste Linsengruppe ist positiv und endet mit einer Linse positiver Brechkraft. Durch die
erste Linsengruppe wird ein Bauch gebildet, wobei es unerheblich ist, wenn in dem Bauch
auch Negativlinsen angeordnet sind.
Die zweite Linsengruppe ist in ihrer Gesamtbrechkraft negativ. Diese zweite Linsengruppe
weist als erste Linse eine bildseitig mit einer konkaven Linsenoberfläche ausgebildete
Linse auf. Diese zweite Linsengruppe beschreibt im wesentlichen eine Taille. Auch hier ist
es nicht maßgeblich, wenn einzelne positive Linsen in der zweiten Linsengruppe enthalten
sind, solange die Taille erhalten bleibt.
Die dritte Linsengruppe beginnt mit einer Linse positiver Brechkraft, die bildseitig eine
konvexe Linsenoberfläche aufweist und ein Meniskus sein kann. Ist als erste Linse eine
dicke Meniskenlinse vorgesehen, so kann innerhalb der Linse die Trennung der
Linsengruppen gedacht sein.
Die vierte Linsengruppe ist von negativer Brechkraft. Diese vierte Linsengruppe beginnt
mit einer Linse negativer Brechkraft, auf die mehrere Linsen mit negativer Brechkraft
folgen. Durch diese Linsengruppe wird eine Taille gebildet. Es ist unerheblich, ob
innerhalb dieser Linsengruppe auch Linsen positiver Brechkraft angeordnet sind, solange
diese den Strahlenverlauf nur auf einer kurzen Distanz beeinflußt und somit die
Taillenform der vierten Linsengruppe erhalten bleibt.
Die fünfte Linsengruppe ist in ihrer Gesamtheit von positiver Brechkraft. Die erste Linse
dieser fünften Linsengruppe weist bildseitig eine konvexe Linsenfläche auf. Durch die
fünfte Linsengruppe wird ein Bauch gebildet.
Nach der Linse mit dem maximalen Durchmesser (der Bauch) folgen noch mindestens
zwei positive Linsen in der fünften Linsengruppe, wobei auch noch negative Linsen
zugelassen sind.
Die sechste Linsengruppe ist ebenfalls positiv in ihrer Gesamtbrechkraft. Die erste Linse
der sechsten Linsengruppe ist negativ und weist bildseitig eine konkave Linsenfläche auf.
Diese erste Linse der sechsten Linsengruppe weist im Vergleich zum maximalen
Durchmesser des Bauches einen wesentlich kleineren Durchmesser auf.
Solche Projektionsobjektive werden insbesondere in der Mikrolithographie eingesetzt. Sie
sind z. B. aus dem unter Beteiligung des Erfinders entstandenen DE 198 55 108 A,
DE 198 55 157 A, DE 198 55 158 A der Anmelderin und dem dort zitierten Stand der
Technik bekannt. Diese Schriften sollen auch Inhalt dieser Anmeldung sein.
Herkömmlich werden diese Projektionsobjektive aus rein sphärischen Linsen aufgebaut, da
die Herstell- und Prüftechnik für Sphären vorteilhaft ist.
Aus der DE 198 18 444 A1 sind Projektionsobjektive bekannt, die Linsen mit asphärischen
Oberflächen zumindest in der vierten oder fünften Linsengruppe aufweisen. Durch die
asphärischen Oberflächen konnte eine Erhöhung der Apertur sowie der Bildqualität erreicht
werden. Die dargestellten Projektionsobjektive weisen eine Längenerstreckung von
Maskenebene zur Bildebene von 1200 mm bis 1500 mm auf. Mit dieser Länge ist ein
erheblicher Materialeinsatz verbunden. Mit diesem Materialeinsatz gehen hohe
Herstellkosten einher, da aufgrund der geforderten hohen Bildqualität nur hochqualitative
Werkstoffe eingesetzt werden können. Es werden asphärischen Linsen bis zu einem
Durchmesser von ca. 300 mm benötigt, womit ihre Bereitstellung besonders aufwendig ist.
Es ist in der Fachwelt überhaupt nicht klar, ob asphärische Linsen mit derart großen
Linsendurchmessern in der erforderlichen Qualität bereitgestellt werden können. Unter
asphärischen Flächen sind alle nicht kugelförmigen Oberflächen zu verstehen, die
rotationssymmetrisch sind. Insbesondere können als asphärische Linsenflächen auch
rotationssymmetrische Splines vorgesehen sein.
Der Erfindung lag die Aufgabe zu Grunde, ein Projektionsobjektiv zu schaffen, das bei
vermindertem Materialeinsatz möglichst wenige Linsen aufweist, wobei möglichst wenige,
kleine und geringe Asphärizitäten aufweisende asphärische Linsenflächen eingesetzt
werden. Es soll so ein kurzbauendes hochaperturiges Projektionsobjektiv kostengünstig
bereitgestellt werden.
Die Aufgabe der Erfindung wird insbesondere durch die im Patentanspruch 1 oder 3
gegebenen Merkmale gelöst.
Durch die Maßnahme, in einem Projektionsobjektiv mit einer Linsenanordnung in der
vorderen Hälfte dieser Linsenanordnung mindestens eine mit einer asphärischen
Linsenfläche versehene Linse vorzusehen, wurde die Möglichkeit geschaffen, ein kompakt
bauendes Projektionsobjektiv, das eine hohe Bildqualität aufweist, bereitzustellen.
Bei Unterteilung dieser Linsenanordnung in sechs Linsengruppen, wobei eine erste
Linsengruppe eine positive Brechkraft, eine zweite Linsengruppe eine negative Brechkraft,
eine dritte Linsengruppe eine positive Brechkraft, eine vierte Linsengruppe eine negative
Brechkraft und eine fünfte und sechste Linsengruppe jeweils eine positive Brechkraft
aufweisen, ist eine bevorzugte Position der asphärischen Oberfläche am Ende der zweiten
Linsengruppe. Dabei ist sie insbesondere auf der letzten Linse der zweiten Linsengruppe
oder am Anfang der dritten Linsengruppe angeordnet, und zwar vorzugsweise auf der
ersten Linse der dritten Linsengruppe. Mittels dieser asphärischen Linsenoberfläche ist
insbesondere eine Korrektur von Bildfehlern im Bereich zwischen Bildfeldzone und
Bildfeldrand möglich. Insbesondere können die Bildfehler höherer Ordnung, die bei
Betrachtung von Sagittalschnitten deutlich werden, korrigiert werden. Da sich diese im
Sagittalschnitt ersichtlichen Bildfehler besonders schwer korrigieren lassen, ist dies ein
besonders wertvoller Beitrag.
In einem vorteilhaften Ausführungsbeispiel gemäß Anspruch 2 ist vorgesehen, daß nur eine
Linse eine asphärische Oberfläche aufweist. Dies hat einen positiven Einfluß auf die
Herstellungskosten, da gerade die Herstellung von asphärischen Oberflächen hoher
Genauigkeit mit erheblichem technologischen Aufwand und demzufolge mit Kosten
verbunden ist. Erst mit dem Einsatz genau einer Asphäre wurde es möglich ein sehr
kompaktes Projektionsobjektiv zu schaffen, bei dem die Mehrkosten für die Asphäre nicht
ins Gewicht fallen, da mit der Verringerung des erforderlichen Materials und der zu
bearbeitenden und zu prüfenden Flächen erhebliche Kosteneinsparungen verbunden sind.
Durch die Maßnahme gemäß Anspruch 3, eine Linsenanordnung vorzusehen, die
zumindestens eine erste Taille, eine asphärische Oberfläche vor und eine asphärische
Oberfläche nach der Taille aufweist, ist eine Linsenanordnung geschaffen, die die
Bereitstellung einer hohen Apertur bei hoher Bildqualität insbesondere für den DUV
Bereich ermöglicht. Insbesondere ist es durch den Einsatz dieser asphärischen Oberflächen
möglich, ein kurzbauendes Projektionsobjektiv mit einer hohen Bildqualität
bereitzustellen. In der Mikrolithographie eingesetzte Objektive weisen im allgemeinen über
ihre gesamte Erstreckung eine hohe Materialdichte auf, so daß mit der Reduzierung der
Längenerstreckung eine erhebliche Materialeinsparung verbunden ist. Da bei
Projektionsobjektiven insbesondere für die Mikrolithographie nur sehr hochwertige
Materialien eingesetzt werden können, hat der erforderliche Materialeinsatz einen
massiven Einfluß auf die Herstellungskosten.
Die vor der ersten Taille angeordnete asphärische Oberfläche kann am Ende der ersten
Linsengruppe oder am Anfang der zweiten Linsengruppe angeordnet sein. Weiterhin hat es
sich als vorteilhaft herausgestellt, eine nach der ersten Taille angeordnete asphärische
Oberfläche auf der letzten Linse der zweiten Linsengruppe oder auf der ersten Linse der
dritten Linsengruppe anzuordnen.
Durch die vor der ersten Taille vorgesehene asphärische Oberfläche ist insbesondere eine
gezielte Korrektur der Koma im Bereich der Bildfeldzone möglich. Diese asphärische
Linsenoberfläche hat auf die schiefe sphärische Aberration im Tangentialschnitt und im
Sagittalschnitt nur einen geringen Einfluß. Dahingegen kann durch die asphärische
Linsenoberfläche nach der Taille die schiefe sagittale Aberration, insbesondere im Bereich
zwischen Bildfeldzone und Bildfeldrand, korrigiert werden.
So ist das Vorsehen einer zweiten asphärischen Linsenoberfläche eine wertvolle
Maßnahme, um bei erhöhter Apertur einer durch Koma begründeten Verringerung der
Bildqualität entgegenzuwirken.
In einigen Anwendungsfällen, insbesondere mit sehr hoher Apertur, gemäß den
Ansprüchen 7, 10 hat es sich als günstig herausgestellt, eine dritte asphärische
Linsenoberfläche in der dritten Linsengruppe vorzusehen.
Es hat sich gemäß Anspruch 9 als vorteilhaft herausgestellt, in der sechsten Linsengruppe
eine Linse mit einer asphärischen Fläche für eine weitergehende Korrektur der Koma,
insbesondere auch im Bereich des Bildfeldrandes, bereitzustellen. Als prädestinierte
Position hat sich für diese asphärische Linsenfläche insbesondere die erste Linse der
sechsten Linsengruppe herausgestellt.
Weiterhin ist durch Vorsehen einer weiteren asphärischen Oberfläche auf der letzten Linse
der dritten Linsengruppe eine Erhöhung der Apertur gemäß Anspruch 10 bei
gleichbleibender Bildqualität möglich.
Es ist ein Vorteil der Erfindung gemäß Anpruch 17, daß asphärische Flächen auf langen
Radien vorgesehen sind, da die Herstellung und Prüfung von Linsenflächen mit langen
Radien einfacher ist. Diese Oberflächen sind für Bearbeitungsgeräte auf Grund der
geringen Krümmung leicht zugänglich. Insbesondere sind Oberflächen mit langen Radien
für taktile Meßverfahren mit kartesischen Koordinaten zugänglich.
Es hat sich gemäß Anspruch 13 als vorteilhaft herausgestellt, bei Projektionsobjektiven, die
für eine Beleuchtungswellenlänge von kleiner als 200 nm ausgelegt sind, aufgrund der
stärkeren Dispersion der Linsen auch bei Einsatz schmalbandiger Lichtquellen für eine
Achromatisierung mindestens 2 verschiedene Materialien für die Linsen zu verwenden.
Neben Quarzglas sind insbesondere die Fluoride, insbesondere CaF2, als geeignetes
Material bekannt.
Es hat sich gemäß Anspruch 14 als vorteilhaft herausgestellt, mindestens zwei Linsen, die
vor einer Aperturblende in der fünften Linsengruppe angeordnet sind, zur Korrektur des
Farbquerfehlers aus CaF2 vorzusehen.
Zur weiteren Korrektur von Farbfehlern hat es sich gemäß Anspruch 15 als vorteilhaft
herausgestellt, nach der Aperturblende mittels einer positiven CaF2 Linse und einer
folgenden negativen Quarzlinse einen Alt-Achromaten zu integrieren. Diese Anordnung
wirkt sich günstig zur Korrektur der sphärischen Anteile aus. Durch die Linsen nach der
Aperturblende sind insbesondere Farblängsfehler korrigierbar.
Schon allein aus der Verkürzung der Längenerstreckung des Projektionsobjektives
resultiert im allgemeinen eine Reduzierung des Farblängsfehlers. Somit kann bei den
erfindungsgemäßen Objektiven eine gute Achromatisierung bei einem reduzierten Einsatz
von CaF2 Linsen erreicht werden.
Weitere vorteilhafte Maßnahmen sind in den weiteren Unteransprüchen angegeben.
Anhand einiger Ausführungsbeispiele wird die Erfindung im folgenden näher beschrieben.
Es zeigt:
Fig. 1 schematische Darstellung einer Projektionsbelichtungsanlage;
Fig. 2 Linsenschnitt durch eine erste Linsenanordnung eines
Projektionsobjektives mit einer asphärischen Linsenoberfläche;
Fig. 3 Linsenschnitt durch eine zweite Linsenanordnung, die zwei asphärische
Linsenoberflächen aufweist;
Fig. 4 Linsenschnitt durch eine dritte Linsenanordnung, die drei asphärische
Oberflächen aufweist;
Fig. 5a bis 5g Darstellung der tangentialen Queraberrationen;
Fig. 6a bis 6g Darstellung der sagitalen Queraberrationen;
Fig. 7a bis 7f Darstellung des Rinnenfehlers der dritten Linsenanordnung anhand von
Schnitten;
Fig. 8 Linsenschnitt durch eine vierte Linsenanordnung, die drei asphärische
Oberflächen aufweist;
Fig. 9 Linsenschnitt durch eine fünfte Linsenanordnung, die vier asphärische
Linsenoberflächen aufweist; und
Fig. 10 Linsenschnitt durch eine sechste Linsenanordnung, die vier asphärische
Oberflächen aufweist.
Anhand von Fig. 1 wird zunächst der prinzipielle Aufbau einer
Projektionslichtungsanlage beschrieben. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 weist eine
Beleuchtungseinrichtung 3 und ein Projektionsobjektiv 5 auf. Das Projektionsobjektiv
umfaßt eine Linsenanordnung 19 mit einer Aperturblende AP, wobei durch die
Linsenanordnung 19 eine optische Achse 7 definiert wird. Zwischen
Beleuchtungseinrichtung 3 und Projektionsobjektiv 5 ist eine Maske 9 angeordnet, die
mittels eines Maskenhalters 11 im Strahlengang gehalten wird. Solche in der
Mikrolithographie verwendeten Masken 9 weisen eine Mikrometer- bis Nanometerstruktur
auf, die mittels des Projektionsobjektives 5 bis zu einem Faktor von 10, insbesondere um
den Faktor vier, verkleinert auf eine Bildebene 13 abgebildet wird. In der Bildebene 13
wird ein durch einen Substrathalter 17 positioniertes Substrat bzw. ein Wafer 15 gehalten.
Die noch auflösbaren minimalen Strukturen hängen von der Wellenlänge λ des für die
Beleuchtung verwendeten Lichtes sowie von der Apertur des Projektionsobjektives 5 ab,
wobei die maximal erreichbare Auflösung der Projektionsbelichtungsanlage 1 mit
abnehmender Wellenlänge der Beleuchtungseinrichtung 3 und mit zunehmender Apertur
des Projektionsobjektives 5 steigt.
Das Projektionsobjektiv 5 enthält erfindungsgemäß mindestens eine asphärische Fläche zur
Bereitstellung einer hohen Auflösung.
Verschiedene Ausführungsformen von Linsenanordnungen 19 sind in den Fig. 2-4 und
8-10 gezeigt.
Im folgenden werden diese für gehobene Ansprüche an die Bildqualität sowie an die
Auflösung ausgelegten Projektionsobjektive 3, insbesondere deren Linsenanordnung 19,
näher beschrieben. Die Daten der einzelnen Linsen L101-L130, L201-L230, L301-L330,
L401-L429, L501-L529, L601-L629 sind den zugeordneten Tabellen im einzelnen zu
entnehmen. Alle Linsenanordnungen 19 weisen zumindest eine asphärische Linsenfläche
27 auf.
Diese asphärischen Flächen werden durch die Gleichung:
beschrieben, wobei P die Pfeilhöhe als Funktion des Radius h (Höhe zur optischen Achse
7) mit den in den Tabellen angegebenen asphärischen Konstanten C1 bis Cn ist. R ist der in
den Tabellen angegebene Scheitelradius.
Die in Fig. 2 gezeigte Linsenanordnung 19 weist 29 Linsen und eine Planparallelplatte
auf, die mit L101-L130 bezeichnet sind. Diese Linsenanordnung 19 ist in sechs
Linsengruppen unterteilbar, die mit LG1 für die erste Linsengruppe bis LG6 für die sechste
Linsengruppe bezeichnet sind. Die erste, dritte, fünfte und sechste Linsengruppe weisen
positive Brechkraft auf, wohingegen die zweite Linsengruppe LG2 und die vierte
Linsengruppe LG4, durch die eine erste Taille 23 und eine zweite Taille 25 gebildet
werden, negative Brechkraft aufweisen. Diese Linsenanordnung 19 ist für die Wellenlänge
λ = 193,3 nm, welche durch einen KrF-Excimerlaser erzeugt wird, ausgelegt und weist
eine asphärische Linsenfläche 27 auf. Mit dieser Linsenanordnung 19 ist bei einer Apertur
von 0,75 eine Strukturbreite von 0,10 µm auflösbar. Objektseitig breitet sich das durch die
Linsenanordnung transmittierte Licht in Form einer kugelförmigen Wellenfront aus. Bei
diesem Objektiv beträgt die größte Abweichung von der idealen Wellenfront, auch mit
RMS-Faktor bezeichnet, 10.4 mλ bezogen auf die Wellenlänge von λ = 193,3 nm. Die
Bildfelddiagonale beträgt 28 mm. Die Baulänge von Maskenebene zu Objektivebene
beträgt nur 1000 mm, und der maximale Durchmesser einer Linse beträgt 235 mm.
In diesem Ausführungsbeispiel ist diese asphärische Linsenoberfläche 27 auf der der
Beleuchtungseinrichtung abgewandten Seite der Linse L110 angeordnet.
Mit dieser asphärischen Linsenoberfläche 27 wurde es erst möglich, ein die zuvor
genannten guten Leistungsdaten aufweisendes Projektionsobjektiv bereitzustellen. Diese
asphärische Linsenfläche 27 dient dazu, Bildfehler zu korrigieren, sowie die erforderliche
Baulänge bei gleichbleibender Bildqualität zu verringern. Hier werden durch diese Asphäre
27 insbesondere Bildfehler höherer Ordnung im Bereich zwischen Bildzone und
Bildfeldrand korrigiert. Diese Korrektur bewirkt insbesondere eine Erhöhung der
Bildqualität in sagittaler Richtung.
Mit kürzerer Wellenlänge wächst die Dispersion der verfügbaren Linsenmaterialien an.
Demzufolge treten verstärkt chromatische Bildfehler bei Projektionsobjektiven für kurze
Wellenlängen wie 193 nm oder 157 nm auf. Die übliche Ausführung für 193 nm weist
daher Quarzglas als Flint und CaF2 als Kron als Linsenmaterial zur Achromatisierung auf.
Bei insgesamt minimalem Einsatz des problematischen CaF2 ist zu beachten, daß die eine
CaF2 Linse L114 in der dritten Linsengruppe LG3 eine erhöhte Anforderung an die
Homogenität des Materials stellt, da sie fern der Aperturblende AP angeordnet ist. Dafür
hat sie aber mäßigen Durchmesser, was die Verfügbarkeit von CaF2 mit erhöhter
Anforderung wesentlich verbessert.
Zur Korrektur des Farbquerfehlers sind drei CaF2 Linsen L119, L120, L121 vor der
Aperturblende AP in der fünften Linsengruppe LG5 angeordnet worden. Direkt hinter der
Aperturblende AP ist ein Achromat 37, bestehend aus einer konvexen CaF2 Linse L122 und
der nachfolgenden Meniskenlinse L123 aus Quarzglas, angeordnet. Diese CaF2 Linsen
können aufgrund des Strahlenverlaufes von geringerer Qualität als die CaF2 Linse L114
sein, da Qualitätsabweichungen im Mittenbereich gleichzeitig für alle Bildfeldbereiche
leichter korrigiert werden können (durch Linsendrehung bei der Justage).
Eine weitere CaF2 Linse L129 ist in der sechsten Linsengruppe angeordnet. Durch diese
Linse aus CaF2 ist es möglich die Einflüsse von Linsenerwärmung und Brechzahlän
derungen infolge von Bestrahlung (Compaction) zu verringern.
Die einzelnen Daten zu den Linsen L101-L130 sind der Tabelle 1 zu entnehmen. Der
optisch genutzte Durchmesser aller CaF2 Linsen ist kleiner als 235 mm. Da die
Verfügbarkeit von CaF2 in Abhängigkeit vom geforderten Durchmesser noch begrenzt ist,
ist der erforderliche Durchmesser der eingesetzten CaF2 Linsen von zentraler Bedeutung.
In Fig. 3 ist eine für die Wellenlänge λ = 248 nm ausgelegte Linsenanordnung 19 im
Schnitt gezeigt. Diese Linsenanordnung 19 weist zwei asphärische Linsenflächen 27, 29
auf. Die erste asphärische Linsenfläche 27 ist auf der Linse L210 bildseitig angeordnet. Es
könnte auch vorgesehen sein, diese zweite asphärische Linsenoberfläche 27 auf der der
Beleuchtungseinrichtung zugewandten Seite der Linse L211 anzuordnen. Die beiden
Linsen L210 und L211 sind für die Aufnahme der asphärischen Linsenoberfläche 27
prädestiniert. Es kann auch vorgesehen sein, anstelle der Linsen L210 und L211 eine
Meniskenlinse vorzusehen, die eine asphärische Linsenoberfläche aufweist. Die zweite
asphärische Linsenoberfläche 29 ist im Endbereich der ersten Linsengruppe, auf der der
Beleuchtungseinrichtung 3 abgewandten Seite der Linse L205, angeordnet. Es kann auch
vorgesehen sein, diese asphärische Linsenoberfläche 29 auf der darauf folgenden Linse
L206 in dem Beginn der zweiten Linsengruppe anzuordnen.
Eine besonders große Wirkung erhält man bei der Anordnung der Asphären 27, 29 auf
Linsenoberflächen, bei denen die auftreffenden Strahlen zur jeweiligen
Oberflächennormalen einen großen Winkel einschließen. Dabei ist besonders die große
Variation der Auftreffwinkel bedeutsam. In Fig. 10 erreicht der Wert von sin i bei der
asphärischen Linsenoberfläche 31 einen Wert bis zu 0,82. Infolgedessen haben in diesem
Ausführungsbeispiel die einander zugewandten Linsenoberflächen der Linsen L210, L211
einen größeren Einfluß auf den Strahlenverlauf im Vergleich zu der jeweils anderen
Linsenoberfläche der entsprechenden Linse L210, L211.
Bei einer Länge von 1000 mm und einem maximalen Linsendurchmesser von 237,3 mm
weist diese Linsenanordnung bei einer Wellenlänge von 248,38 nm eine numerische
Apertur von 0,75 auf. Die Bildfelddiagonale beträgt 27,21 mm. Es ist eine Strukturbreite
von 0,15 µm auflösbar. Die größte Abweichung von der idealen Wellenfront beträgt 13,0
mλ. Die genauen Linsendaten, bei denen diese Leistungsdaten erreicht werden, sind der
Tabelle 2 zu entnehmen.
Eine weitere Ausführungsform einer Linsenanordnung 19 für die Wellenlänge 248,38 nm
ist in Fig. 4 gezeigt. Diese Linsenanordnung 19 weist drei Linsen L305, L310, L328 auf,
die jeweils eine asphärische Linsenoberfläche 27, 29, 31 aufweisen. Die asphärischen
Linsenoberflächen 27, 29 sind an den aus Fig. 3 bekannten Positionen belassen worden.
Durch die asphärische Linsenoberfläche 27 ist die Koma mittleren Ordnung für die
Bildfeldzone einstellbar. Dabei sind die Rückwirkungen auf Schnitte in tangentialer
Richtung sowie sagittaler Richtung gering.
Die zusätzliche dritte asphärische Linsenoberfläche 31 ist maskenseitig auf der Linse L328
angeordnet. Diese asphärische Linsenoberfläche 31 unterstützt die Komakorrektur zum
Bildfeldrand hin.
Mittels dieser drei asphärischen Linsenoberflächen 27, 29, 31 wird bei einer Wellenlänge
von 248,38 nm bei einer Länge von nur 1000 mm und einem maximalen
Linsendurchmesser von 247,2 mm die weiter gesteigerte numerische Apertur von 0,77 und
eine im gesamten Bildfeld gut auflösbare Strukturbreite von 0,14 µm erreicht. Die
maximale Abweichung von der idealen Wellenfront beträgt 12,0 mλ.
Um die Durchmesser der Linsen in LG5 klein zu halten und um eine für das System
vorteilhafte Petzvalsumme, die nahezu null sein sollte beizubehalten, sind die drei Linsen
L312, L313, L314 in der dritten Linsengruppe LG3 vergrößert. Für die Bereitstellung des
erforderlichen axialen Bauraumes für diese drei Linsen L312-L314 sind die Dicken anderer
Linsen und damit die Durchmesser, insbesondere der Linsen der ersten Gruppe LG1,
reduziert worden. Dies ist ein ausgezeichneter Weg, um in einem begrenzten Bauraum sehr
große Bildfelder und Aperturen unterzubringen.
Die hohe Bildqualität, die durch diese Linsenanordnung erreicht wird, ist aus den Fig.
5a-5g, Fig. 6a-6g und Fig. 7a-7f zu ersehen.
Fig. 5a-5g geben für die Bildhöhen Y' (in mm) die meridionale Queraberration DYM
an. Alle zeigen bis zu den höchsten DW' hervorragenden Verlauf.
Fig. 6a-6g geben für die gleichen Bildhöhen die sagittalen Queraberrationen DZS als
Funktion des halben Aperturwinkels DW' an.
Fig. 7a-7f geben für die gleichen Bildhöhenden den Rinnenfehler DYS an, der
durchgängig nahezu null ist.
Die genauen Linsendaten sind der Tabelle 3 zu entnehmen, wobei die asphärischen
Linsenoberflächen 27, 29, 31 an der gewährleistbaren hohen Bildqualität einen erheblichen
Anteil haben.
Eine weitere Linsenanordnung für die Wellenlänge λ = 248,38 nm ist in Fig. 8 gezeigt.
Bei einer Länge von nur 1000 mm weist diese Linsenanordnung 19 bei nur 3 asphärischen
Linsenoberflächen 27, 29, 33 eine numerische Apertur von 0,8 und im gesamten Bildfeld,
dessen Diagonale 27,21 mm beträgt, eine gut auflösbare Strukturbreite von 0,13 µm auf.
Der maximale Linsendurchmesser beträgt 255 mm und tritt im Bereich der fünften
Linsengruppe LG5 auf. Dieser Linsendurchmesser ist ungewöhnlich klein für die Apertur
0,8 bei einem Bildfeld mit Diagonale 27,21 mm. Alle drei asphärischen Linsenoberflächen
27, 29, 33 sind in den vorderen Linsengruppen LG1-LG3 der Linsenanordnung 19
angeordnet. Die Abweichung von der idealen Wellenfront beträgt bei dieser
Linsenanordnung nur 9,2 mλ.
Die genauen Linsendaten dieser Linsenanordnung 19 sind der Tabelle 4 zu entnehmen.
Mit Vorsehen einer weiteren vierten Asphäre 33 auf der der Beleuchtungseinrichtung
abgewandten Seite der Linse L513 konnte eine weitere Steigerung der numerischen
Apertur von 0,8 auf 0,85 erreicht werden. Diese hohe Apertur, aus der bildseitig ein
Öffnungswinkel von 116,4° gegenüber einem Winkel von 88,8° bei einer Apertur von 0,70
resultiert, ist bei dem Bildfeld mit Diagonale 27,21 mm einzigartig. Die gut auflösbare
Strukturbreite beträgt 0,12 µm und die maximale Abweichung von der idealen Wellenfront
beträgt nur 7,0 mλ. Solch eine Linsenanordnung 19 ist in Fig. 9 dargestellt, wobei die
genauen Linsendaten der Tabelle 5 zu entnehmen sind.
Im Vergleich zu den vorangegangenen Ausführungsbeispielen Fig. 1-Fig. 3 und zum
St.d.T. DE 198 18 444 A sind bei dieser Linsenanordnung 19 die letzten beiden Linsen zu
einer Linse vereint. Durch diese Maßnahme kann neben der Ersparnis bei der
Linsenherstellung im Endbereich eine Linsenfassung gespart werden, wodurch Bauraum
für Zusatzgeräte, insbesondere für einen Fokussensor, geschaffen wird.
In Fig. 10 ist eine Linsenanordnung 19 gezeigt, die für die Wellenlänge λ = 157,63 nm
ausgelegt ist. Das mittels dieser Linsenanordnung beleuchtbare Bildfeld ist auf 6 × 13 mm
mit einer Bildfelddiagonalen von 14,3 mm verkleinert worden und ist für das Stiching-
Verfahren angepaßt.
Bei einer Länge von nur 579,5 mm und einem maximalen Durchmesser von 167 mm
konnte durch vier asphärischen Linsenoberflächen 27, 29, 31, 33 eine numerische Apertur
von 0,85 und eine gut auflösbare Strukturbreite von 0,07 µm erreicht werden. Die
Abweichung von der idealen Wellenfront beträgt 9,5 mλ bei der Wellenlänge λ = 157,63
nm.
Aufgrund der kurzen Wellenlänge ist die Absorption von Quarzlinsen recht hoch, so daß
vermehrt auf CaF2 als Linsenmaterial zugegriffen worden ist. Im Bereich der Taillen 23,
25, d. h. in der zweiten und der vierten Linsengruppe LG2 und LG4, sind einzelne
Quarzglaslinsen vorgesehen. Diese Quarzglaslinsen sollten höchstmöglichste Transmission
aufweisen. Eine weitere Linse aus Quarzglas in Form einer Meniskenlinse L625 ist in der
Linsengruppe LG5 zur Bildung eines Achromaten vorgesehen worden. Weiterhin ist die
die asphärische Linsenoberfläche aufweisende Linse L628 der Linsengruppe LG6 aus
Quarzglas. Damit ist die Asphäre 33 auf dem leichter zu bearbeitenden Material
ausgebildet.
Dadurch ist der Farblängsfehler dieser Linsenanordnung 19 auch bei dieser extrem hohen
Apertur sehr klein.
Die gezeigten Ausführungsbeispiele zeigen, daß gute Leistungsdaten erreichbar sind, ohne
daß asphärische Flächen (27, 29, 31, 33) mit großen Durchmessern, insbesondere in der
fünften Linsengruppe. Die eingesetzten kleinen asphärischen Linsenflächen lassen sich gut
fertigen und prüfen.
Diese in den Ausführungsbeispielen erläuterten Linsenanordnung 19 zeigen lediglich den
durch die Ansprüche festgelegten Designraum auf. Selbstverständlich sind die anhand der
Ausführungsbeispiele konkretisierten Merkmale gemäß den Ansprüchen und deren
Kombinationen miteinander kombinierbar.
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 21:
EX = 0.0000
C1 = 0,61839643.10-8
C2 = -0,11347761.10-11
C3 = 0,32783915.10-16
C4 = -0,22000186.10-20
EX = 0.0000
C1 = 0,61839643.10-8
C2 = -0,11347761.10-11
C3 = 0,32783915.10-16
C4 = -0,22000186.10-20
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 29:
EX = -0,17337407.103
C1 = 0,15292522.10-7
C2 = 0,18756271.10-11
C3 = -0,40702661.10-16
C4 = 0,26176919.10-19
C5 = -0,36300252.10-23
C6 = 0,42405765.10-27
EX = -0,17337407.103
C1 = 0,15292522.10-7
C2 = 0,18756271.10-11
C3 = -0,40702661.10-16
C4 = 0,26176919.10-19
C5 = -0,36300252.10-23
C6 = 0,42405765.10-27
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 27:
EX = -0,36949981.101
C1 = 0,20355563.10-7
C2 = -0,22884234.10-11
C3 = -0,23852614.10-16
C4 = -0,19091022.10-19
C5 = 0,27737562.10-23
C6 = -0,29709625.10-27
EX = -0,36949981.101
C1 = 0,20355563.10-7
C2 = -0,22884234.10-11
C3 = -0,23852614.10-16
C4 = -0,19091022.10-19
C5 = 0,27737562.10-23
C6 = -0,29709625.10-27
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 29:
EX = -0,16784093.103
C1 = 0,49600479.10-9
C2 = 0, 31354487.10-11
C3 = -0,65827200.10-16
C4 = 0,44673095.10-19
C5 = -0,73057048.10-23
C6 = 0,91524489.10-27
EX = -0,16784093.103
C1 = 0,49600479.10-9
C2 = 0, 31354487.10-11
C3 = -0,65827200.10-16
C4 = 0,44673095.10-19
C5 = -0,73057048.10-23
C6 = 0,91524489.10-27
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 27:
EX = -0,22247325.101
C1 = 0,24479896.10-7
C2 = -0,22713172.10-11
C3 = 0,36324126.10-16
C4 = -0,17823969.10-19
C5 = 0,26799048.10-23
C6 = -0,27403392.10-27
EX = -0,22247325.101
C1 = 0,24479896.10-7
C2 = -0,22713172.10-11
C3 = 0,36324126.10-16
C4 = -0,17823969.10-19
C5 = 0,26799048.10-23
C6 = -0,27403392.10-27
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 31:
EX = 0
C1 = -0,45136584.10-09
C2 = 0,34745936.10-12
C3 = 0,11805250.10-17
C4 = -0,87762405.10-21
EX = 0
C1 = -0,45136584.10-09
C2 = 0,34745936.10-12
C3 = 0,11805250.10-17
C4 = -0,87762405.10-21
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 27:
EX = 0,45321787.102
C1 = 0,12027601.10-7
C2 = -0,16206398.10-11
C3 = -0,41686011.10-15
C4 = 0,38440137.10-19
C5 = -0,15095918.10-23
C6 = -0,84812561.10-28
EX = 0,45321787.102
C1 = 0,12027601.10-7
C2 = -0,16206398.10-11
C3 = -0,41686011.10-15
C4 = 0,38440137.10-19
C5 = -0,15095918.10-23
C6 = -0,84812561.10-28
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 29:
EX = 0
C1 = -0,97452539.10-7
C2 = 0,32591079.10-11
C3 = 0,97426255.10-16
C4 = -0,846124.10-20
C5 = -0,12332031.10-23
C6 = 0,14443713.10-27
EX = 0
C1 = -0,97452539.10-7
C2 = 0,32591079.10-11
C3 = 0,97426255.10-16
C4 = -0,846124.10-20
C5 = -0,12332031.10-23
C6 = 0,14443713.10-27
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 33:
EX = 0
C1 = 0,53144137.10-8
C2 = 0,21837618.10-12
C3 = 0,22801998.10-18
C4 = -0,87807963.10-21
C5 = 0,42592446.10-25
C6 = -0,85709164.10-30
EX = 0
C1 = 0,53144137.10-8
C2 = 0,21837618.10-12
C3 = 0,22801998.10-18
C4 = -0,87807963.10-21
C5 = 0,42592446.10-25
C6 = -0,85709164.10-30
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 29:
EX -0,27012883.103
C1 = -0,48014089.10-7
C2 = 0,30075830.10-11
C3 = 0,34922943.10-16
C4 = 0,26946301.10-19
C5 = -0,58250631.10-23
C6 = 0,68991391.10-27
EX -0,27012883.103
C1 = -0,48014089.10-7
C2 = 0,30075830.10-11
C3 = 0,34922943.10-16
C4 = 0,26946301.10-19
C5 = -0,58250631.10-23
C6 = 0,68991391.10-27
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 27:
EX = 0,41249481.101
C1 = -0,38239182.10-8
C2 = -0,14976009.10-11
C3 = -0,25206193.10-16
C4 = -0,78282128.10-20
C5 = 0,13017800.10-23
C6 = -0,14205614.10-27
EX = 0,41249481.101
C1 = -0,38239182.10-8
C2 = -0,14976009.10-11
C3 = -0,25206193.10-16
C4 = -0,78282128.10-20
C5 = 0,13017800.10-23
C6 = -0,14205614.10-27
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 33:
EX = 0,26320110.101
C1 = 0,27448935.10-8
C2 = -0,18100074.10-12
C3 = 0,58696756.10-17
C4 = -0,58955753* 10-21
C-5 = 0,16526308.10-25
C6 = -0,25708759.10-30
EX = 0,26320110.101
C1 = 0,27448935.10-8
C2 = -0,18100074.10-12
C3 = 0,58696756.10-17
C4 = -0,58955753* 10-21
C-5 = 0,16526308.10-25
C6 = -0,25708759.10-30
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 31:
EX = -0,96865859.105
C1 = -0,42411179.10-8
C2 = 0,12306068.10-12
C3 = 0,69229786.10-17
C4 = 0,80135737.10-20
C5 = -0,14022540.10-23
C6 = 0,79827308.10-28
EX = -0,96865859.105
C1 = -0,42411179.10-8
C2 = 0,12306068.10-12
C3 = 0,69229786.10-17
C4 = 0,80135737.10-20
C5 = -0,14022540.10-23
C6 = 0,79827308.10-28
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 29:
EX = -0,7980946.102
C1 = -0,21353640.10-6
C2 = 0,56257.1010
C3 = -0,39122939.10-14
C4 = -0,24089766.10-18
C5 = 0,30268982.10-22
C6 = 0,1437923.10-25
EX = -0,7980946.102
C1 = -0,21353640.10-6
C2 = 0,56257.1010
C3 = -0,39122939.10-14
C4 = -0,24089766.10-18
C5 = 0,30268982.10-22
C6 = 0,1437923.10-25
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 27:
EX = 0,1660595.101
C1 = -0,12449719.10-7
C2 = -0,39565.10-10
C3 = -0,10241741.10-14
C4 = -0,19631485.10-17
C5 = 0,11604236.10-20
C6 = -0,4669584.10-24
EX = 0,1660595.101
C1 = -0,12449719.10-7
C2 = -0,39565.10-10
C3 = -0,10241741.10-14
C4 = -0,19631485.10-17
C5 = 0,11604236.10-20
C6 = -0,4669584.10-24
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 33:
EX = 0,1614147.100
C1 = 0,14130608.10-7
C2 = -0,9747553.10-11
C3 = 0,20478684.10-15
C4 = -0,17732262.10-18
C5 = 0,29715991.10-22
C6 = -0,19032581.10-26
EX = 0,1614147.100
C1 = 0,14130608.10-7
C2 = -0,9747553.10-11
C3 = 0,20478684.10-15
C4 = -0,17732262.10-18
C5 = 0,29715991.10-22
C6 = -0,19032581.10-26
Koeffizienten der asphärischen Oberfläche 31:
EX = 0
C1 = -0,18139679.10-7
C2 = 0,26109069.10-11
C3 = 0,23340548.10-14
C4 = 0,29943791.10-17
C5 = -0,13596787.10-20
C6 = 0,21788235.10-24
EX = 0
C1 = -0,18139679.10-7
C2 = 0,26109069.10-11
C3 = 0,23340548.10-14
C4 = 0,29943791.10-17
C5 = -0,13596787.10-20
C6 = 0,21788235.10-24
Claims (23)
1. Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einer Linsenanordnung, bestehend
aus
einer ersten Linsengruppe (LG1) positiver Brechkraft,
einer zweiten Linsengruppe (LG2) negativer Brechkraft,
einer dritten Linsengruppe (LG3) positiver Brechkraft,
einer vierten Linsengruppe (LG4) negativer Brechkraft,
einer fünften Linsengruppe (LG5) positiver Brechkraft und
einer sechsten Linsengruppe (LG6) positiver Brechkraft,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Linse am Ende der zweiten Linsengruppe (LG2), insbesondere die letzten Linse der zweiten Linsengruppe, oder eine Linse am Anfang der dritten Linsengruppe (LG3), insbesondere die erste Linse der dritten Linsengruppe, eine asphärische Oberfläche (27) aufweist.
einer ersten Linsengruppe (LG1) positiver Brechkraft,
einer zweiten Linsengruppe (LG2) negativer Brechkraft,
einer dritten Linsengruppe (LG3) positiver Brechkraft,
einer vierten Linsengruppe (LG4) negativer Brechkraft,
einer fünften Linsengruppe (LG5) positiver Brechkraft und
einer sechsten Linsengruppe (LG6) positiver Brechkraft,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Linse am Ende der zweiten Linsengruppe (LG2), insbesondere die letzten Linse der zweiten Linsengruppe, oder eine Linse am Anfang der dritten Linsengruppe (LG3), insbesondere die erste Linse der dritten Linsengruppe, eine asphärische Oberfläche (27) aufweist.
2. Projektionsobjektiv nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Linsensystem
(19) insgesamt nur eine Linse (L110) mit einer asphärischen Oberfläche (27)
aufweist.
3. Projektionsobjektiv mit einer mindestens eine erste Taille des Lichtbündels
aufweisenden Linsenanordnung, dadurch gekennzeichnet, daß eine Linse (L205,
L305, L405, L505, L605) mit einer asphärischen Oberfläche (29) vor und/oder eine
Linse (L210, L310, L409, L509, L609) mit einer asphärischen Oberfläche (27) nach
der ersten Taille (23) angeordnet ist.
4. Projektionsobjektiv nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den die
asphärischen Oberflächen (27, 29) tragenden Linsen (L205 und L210, L305 und
L310, L405 und L409, L505 und L509, L605 und L609) zumindest zwei sphärische
Linsen (L206-L209; L306-L309, L406-L408, L506-L508, L606-L608), angeordnet
sind.
5. Projektionsobjektiv nach Anspruch 3, wobei die Linsenanordnung eine erste
Linsengruppe (LG1) positiver Brechkraft, eine zweite Linsengruppe (LG2) negativer
Brechkraft, eine dritte Linsengruppe (LG3) negativer Brechkraft, eine vierte
Linsengruppe (LG4) negativer Brechkraft und eine fünfte und sechste Linsengruppe
(LG5, LG6) mit jeweils positiver Brechkraft aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Linsengruppe (LG1) eine Linse (L205, L305, L405, L505, L605) mit einer
asphärischen Oberfläche (29) aufweist.
6. Projektionsobjektiv und nach dem Oberbegriff des Anspruchs 4, dadurch
gekennzeichnet, daß in einer zweiten Linsengruppe (LG2) vor der Taille (23) eine
asphärische Linse (29) angeordnet ist.
7. Projektionsobjektiv nach zumindestens einem der Ansprüche 3-6, dadurch
gekennzeichnet, daß die dritte Linsengruppe (LG3) eine asphärische Fläche (27, 33)
auf weist.
8. Projektionsobjektiv nach zumindestens einem der Ansprüche 3-6, dadurch
gekennzeichnet, daß eine zweite Linsengruppe (LG2) eine nach der Taille (23)
angeordnete asphärische Oberfläche (27) aufweist.
9. Projektionsobjektiv nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die sechste
Linsengruppe (LG6) als erste Linse eine bildseitig mit einer asphärischen Oberfläche
(31) versehenen Linse (L328, L528, L628) aufweist.
10. Projektionsobjektiv nach Anspruch 1, 2, 4 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß eine
letzte Linse (L513) der dritten Linsengruppe (LG3) eine asphärische Oberfläche (33)
aufweist.
11. Projektionsobjektiv nach zumindestens einem der vorangegangenen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Linsenanordnung (Fig. 1, Fig. 3, Fig. 6) einen
maximalen Linsendurchmesser von 280, vorzugsweise 250 nun nicht überschreitet.
12. Projektionsobjektiv nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Linsenanordnung (19) bildseitig eine numerische Apertur
von mindestens 0,75, vorzugsweise 0,8, aufweist.
13. Projektionsobjektiv nach zumindestens einem der vorangegangenen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Linsenanordnung (19) mindestens 2 verschiedene
Materialien, insbesondere Quarzglas und ein Fluorid oder 2 Fluoride, aufweist.
14. Projektionsobjektiv nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest die
letzten zwei positiven Linsen (L120 und L121, L619-L621) vor der Aperturblende
aus CaF2 sind.
15. Projektionsobjektiv nach Anspruch 1 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Linsenanordnung (19) zur Bildung eines Achromaten (37) eine positive Linse (39)
aus CaF2 aufweist, auf die eine Negativlinse (41) aus Quarzglas folgt.
16. Projektionsobjektiv nach zumindestens einem der vorangegangenen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die sechste Linsengruppe (LG6) eine Linse (L129,
L629), vorzugsweise die letzte Linse (L629) der Linsenanordnung (19), aus CaF2
aufweist.
17. Refraktives mikrolithographisches Projektionsobjektiv mit einer Linsenanordnung,
mit zumindestens einer Linse mit einer asphärischen Linsenoberfläche, dadurch
gekennzeichnet, daß alle asphärischen Linsenoberflächen (27, 29, 31, 33) einen
Scheitelradius (R) von mindestens 300 mm, vorzugsweise von 350 bis 1000 mm und
nach oben unbeschränkt, aufweisen.
18. Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie nach mindestens einem der
vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Durchmesser der
asphärischen Linsenoberflächen (27, 29, 31, 33) kleiner als 90%, insbesondere
kleiner als 80%, des maximalen Durchmesser der Linsenanordnung (19) ist.
19. Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, dadurch gekennzeichnet, daß
sie ein Projektionsobjektiv (5) nach zumindestens einem der Ansprüche 1 bis 16
enthält.
20. Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie mit einem Excimerlaser als
Lichtquelle, der Strahlung von kürzerer Wellenlänge als 250 nm abgibt, dadurch
gekennzeichnet, daß sie ein Projektionsobjektiv (5) nach zumindestens einem der
Ansprüche 14 bis 16 umfaßt.
21. Projektionsobjektiv mit einer Linsenanordnung nach vorzugsweise mindestens einem
der Ansprüche 1-18, dadurch gekennzeichnet, daß die Linsenanordnung (19)
objektivausgangsseitig eine hohe numerische Apertur aufweist, die vorzugsweise im
Bereich 0,85 liegt, wobei bei allen Linsen (L501-L529) der Linsenanordnung (19)
die Sinus-Werte aller Inzidenzwinkel der auf die jeweilige Linse (L501-L529)
auftreffenden Strahlung immer kleiner sind als die numerische Apertur der
Linsenanordnung (19).
22. Projektionsobjektiv mit einer Linsenanordnung nach vorzugsweise mindestens einem
der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine
asphärische Linsenoberfläche (27, 29, 31, 33) mit einer Winkelbelastung von
mindestens sin i = 0,75 beaufschlagt wird.
23. Verfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Bauteile, bei dem ein mit einer
lichtempfindlichen Schicht versehenes Substrat mittels einer Maske und einer
Projektionsbelichtungsanlage mit einer Linsenanordnung (19) nach mindestens
einem der Ansprüche 1 bis 18 durch ultraviolettes Laserlicht belichtet wird und
gegebenenfalls nach Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht entsprechend einem
auf der Maske enthaltenen Muster strukturiert wird.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19942281A DE19942281A1 (de) | 1999-05-14 | 1999-09-04 | Projektionsobjektiv |
DE59913116T DE59913116D1 (de) | 1998-11-30 | 1999-11-27 | Hochaperturiges projektionsobjektiv mit minimalem blendenfehler |
KR1020017006765A KR100603496B1 (ko) | 1998-11-30 | 1999-11-27 | 최소 조리개 오차를 갖는 대구경 투영 렌즈 |
PCT/EP1999/009235 WO2000033138A1 (de) | 1998-11-30 | 1999-11-27 | Hochaperturiges projektionsobjektiv mit minimalem blendenfehler |
EP99961020A EP1141781B1 (de) | 1998-11-30 | 1999-11-27 | Hochaperturiges projektionsobjektiv mit minimalem blendenfehler |
JP2000585717A JP2002531878A (ja) | 1998-11-30 | 1999-11-27 | 最少絞り収差を有する大開口数の投影レンズ |
US09/917,504 US20030007253A1 (en) | 1998-11-30 | 2001-07-27 | Large-apertured projection lens with minimal diaphragm error |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19922209 | 1999-05-14 | ||
DE19942281A DE19942281A1 (de) | 1999-05-14 | 1999-09-04 | Projektionsobjektiv |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19942281A1 true DE19942281A1 (de) | 2000-11-16 |
Family
ID=7908042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19942281A Ceased DE19942281A1 (de) | 1998-11-30 | 1999-09-04 | Projektionsobjektiv |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6801364B2 (de) |
EP (1) | EP1097404A1 (de) |
JP (1) | JP2002544569A (de) |
KR (1) | KR100792652B1 (de) |
DE (1) | DE19942281A1 (de) |
WO (1) | WO2000070407A1 (de) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002052346A1 (de) * | 2000-12-22 | 2002-07-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Objektiv mit mindestens einer asphärischen linse |
EP1291719A1 (de) * | 2001-09-05 | 2003-03-12 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Projektionsbelichtungsanlage |
EP1111425A3 (de) * | 1999-12-21 | 2003-10-01 | Carl Zeiss | Optisches Projektionssystem |
US6683728B2 (en) | 2001-03-20 | 2004-01-27 | Carl-Zeiss-Stiftung | Illumination system with reduced energy loading |
US6806942B2 (en) | 2002-05-14 | 2004-10-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure system |
EP1304594A3 (de) * | 2001-10-17 | 2004-11-10 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie für 200 nm |
US6954316B2 (en) | 2000-12-22 | 2005-10-11 | Carl Zeiss Smt | Projection objective |
US7130129B2 (en) | 1996-12-21 | 2006-10-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Reticle-masking objective with aspherical lenses |
US7869122B2 (en) | 2004-01-14 | 2011-01-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective |
US8199400B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-06-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US8913316B2 (en) | 2004-05-17 | 2014-12-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1195095A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-09 | Nikon Corp | 投影光学系 |
DE19942281A1 (de) * | 1999-05-14 | 2000-11-16 | Zeiss Carl Fa | Projektionsobjektiv |
EP1139138A4 (de) | 1999-09-29 | 2006-03-08 | Nikon Corp | Projektionsbelichtungsverfahren, vorrichtung und optisches projektionssystem |
WO2001023933A1 (fr) | 1999-09-29 | 2001-04-05 | Nikon Corporation | Systeme optique de projection |
US6600608B1 (en) | 1999-11-05 | 2003-07-29 | Carl-Zeiss-Stiftung | Catadioptric objective comprising two intermediate images |
DE10028434B4 (de) * | 2000-06-14 | 2005-09-29 | Ludwig Felser | Stahlbausystem |
DE10064685A1 (de) * | 2000-12-22 | 2002-07-04 | Zeiss Carl | Lithographieobjektiv mit einer ersten Linsengruppe, bestehend ausschließlich aus Linsen positiver Brechkraft |
JP2002244034A (ja) | 2001-02-21 | 2002-08-28 | Nikon Corp | 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置 |
JP2002323652A (ja) | 2001-02-23 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系,該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法 |
JP2002323653A (ja) | 2001-02-23 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系,投影露光装置および投影露光方法 |
DE10123725A1 (de) | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren |
US7239447B2 (en) | 2001-05-15 | 2007-07-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Objective with crystal lenses |
JP2004526331A (ja) | 2001-05-15 | 2004-08-26 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ |
US6683710B2 (en) * | 2001-06-01 | 2004-01-27 | Optical Research Associates | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
JP3639807B2 (ja) * | 2001-06-27 | 2005-04-20 | キヤノン株式会社 | 光学素子及び製造方法 |
DE10138847A1 (de) * | 2001-08-15 | 2003-02-27 | Zeiss Carl | Blende für eine Integratoreinheit |
US6995908B2 (en) * | 2001-10-30 | 2006-02-07 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing aberration in optical systems |
US7453641B2 (en) * | 2001-10-30 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in optical systems |
US6970232B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems |
US7292388B2 (en) | 2002-05-08 | 2007-11-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Lens made of a crystalline material |
US6958864B2 (en) * | 2002-08-22 | 2005-10-25 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing polarization aberration in integrated circuit fabrication systems |
WO2004084281A1 (ja) * | 2003-03-17 | 2004-09-30 | Nikon Corporation | 投影光学系、露光装置、および露光方法 |
JP2005017734A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
DE102006013560A1 (de) * | 2005-04-19 | 2006-10-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
KR20080015143A (ko) * | 2005-06-10 | 2008-02-18 | 칼 짜이스 에스엠테 아게 | 다용도 프로젝션 시스템 |
US10976535B2 (en) | 2016-03-30 | 2021-04-13 | Optical Wavefront Laboratories | Multiple camera microscope imaging with patterned illumination |
CN109581622B (zh) * | 2017-09-29 | 2020-12-04 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种投影物镜 |
CN111381346B (zh) * | 2018-12-30 | 2021-05-11 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种光刻投影物镜 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3972592A (en) * | 1974-10-18 | 1976-08-03 | Eastman Kodak Company | Zoom projection lens |
EP0332201B1 (de) * | 1988-03-11 | 1994-06-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optisches Projektionssystem |
JP2548359B2 (ja) * | 1989-03-01 | 1996-10-30 | 松下電器産業株式会社 | 投影レンズとそれを用いたプロジェクションテレビ |
US5469299A (en) * | 1990-05-15 | 1995-11-21 | Olympus Optical Co., Ltd. | Objective lens system |
EP0566073B1 (de) * | 1992-04-17 | 1996-12-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Zoomlinsenanordnung |
JPH08179204A (ja) * | 1994-11-10 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 投影光学系及び投影露光装置 |
DE19548805A1 (de) * | 1995-12-27 | 1997-07-03 | Zeiss Carl Fa | REMA-Objektiv für Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen |
DE19653983A1 (de) * | 1996-12-21 | 1998-06-25 | Zeiss Carl Fa | REMA-Objektiv für Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen |
DE19704936A1 (de) * | 1997-02-10 | 1998-08-13 | Zeiss Carl Fa | Optisches Glied und Herstellverfahren |
JP3823436B2 (ja) * | 1997-04-03 | 2006-09-20 | 株式会社ニコン | 投影光学系 |
JPH116957A (ja) * | 1997-04-25 | 1999-01-12 | Nikon Corp | 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法 |
DE19818444A1 (de) * | 1997-04-25 | 1998-10-29 | Nikon Corp | Abbildungsoptik, Projektionsoptikvorrichtung und Projektionsbelichtungsverfahren |
US5990926A (en) * | 1997-07-16 | 1999-11-23 | Nikon Corporation | Projection lens systems for excimer laser exposure lithography |
JPH11214293A (ja) * | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Nikon Corp | 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法 |
DE19942281A1 (de) * | 1999-05-14 | 2000-11-16 | Zeiss Carl Fa | Projektionsobjektiv |
DE19929701A1 (de) | 1998-11-30 | 2000-05-31 | Zeiss Carl Fa | Objektiv mit Kristall-Linsen |
WO2001023933A1 (fr) * | 1999-09-29 | 2001-04-05 | Nikon Corporation | Systeme optique de projection |
DE10119861A1 (de) * | 2000-05-04 | 2001-11-08 | Zeiss Carl | Projektionsobjektiv, insbesondere für die Mikrolithographie |
-
1999
- 1999-09-04 DE DE19942281A patent/DE19942281A1/de not_active Ceased
- 1999-12-21 JP JP2000618786A patent/JP2002544569A/ja active Pending
- 1999-12-21 WO PCT/EP1999/010233 patent/WO2000070407A1/de active Application Filing
- 1999-12-21 KR KR1020017000492A patent/KR100792652B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-12-21 EP EP99967978A patent/EP1097404A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-01-12 US US09/760,066 patent/US6801364B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-09-16 US US10/944,566 patent/US7154677B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7130129B2 (en) | 1996-12-21 | 2006-10-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Reticle-masking objective with aspherical lenses |
US7372634B2 (en) | 1996-12-21 | 2008-05-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Reticle-masking objective with aspherical lenses |
EP1111425A3 (de) * | 1999-12-21 | 2003-10-01 | Carl Zeiss | Optisches Projektionssystem |
US6831794B2 (en) | 2000-12-22 | 2004-12-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Objective with at least one aspheric lens |
WO2002052346A1 (de) * | 2000-12-22 | 2002-07-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Objektiv mit mindestens einer asphärischen linse |
US6954316B2 (en) | 2000-12-22 | 2005-10-11 | Carl Zeiss Smt | Projection objective |
US6683728B2 (en) | 2001-03-20 | 2004-01-27 | Carl-Zeiss-Stiftung | Illumination system with reduced energy loading |
EP1291719A1 (de) * | 2001-09-05 | 2003-03-12 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Projektionsbelichtungsanlage |
US7408621B2 (en) | 2001-09-05 | 2008-08-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure system |
US7457043B2 (en) | 2001-09-05 | 2008-11-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure system |
JP2009037251A (ja) * | 2001-09-05 | 2009-02-19 | Carl Zeiss Smt Ag | 投影露光設備 |
EP1304594A3 (de) * | 2001-10-17 | 2004-11-10 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie für 200 nm |
US6806942B2 (en) | 2002-05-14 | 2004-10-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure system |
US8199400B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-06-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US8416490B2 (en) | 2004-01-14 | 2013-04-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US8208198B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-06-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US8208199B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-06-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US8289619B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-10-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US8339701B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-12-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US8355201B2 (en) | 2004-01-14 | 2013-01-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US7869122B2 (en) | 2004-01-14 | 2011-01-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective |
US8730572B2 (en) | 2004-01-14 | 2014-05-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US8804234B2 (en) | 2004-01-14 | 2014-08-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective including an aspherized plate |
US8908269B2 (en) | 2004-01-14 | 2014-12-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Immersion catadioptric projection objective having two intermediate images |
US9772478B2 (en) | 2004-01-14 | 2017-09-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes |
US9019596B2 (en) | 2004-05-17 | 2015-04-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
US9134618B2 (en) | 2004-05-17 | 2015-09-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
US9726979B2 (en) | 2004-05-17 | 2017-08-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
US8913316B2 (en) | 2004-05-17 | 2014-12-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7154677B2 (en) | 2006-12-26 |
KR100792652B1 (ko) | 2008-01-09 |
KR20010053503A (ko) | 2001-06-25 |
US6801364B2 (en) | 2004-10-05 |
WO2000070407A1 (de) | 2000-11-23 |
EP1097404A1 (de) | 2001-05-09 |
US20020149855A1 (en) | 2002-10-17 |
JP2002544569A (ja) | 2002-12-24 |
US20050030635A1 (en) | 2005-02-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19942281A1 (de) | Projektionsobjektiv | |
DE69933973T2 (de) | Katadioptrisches optisches system und damit ausgestattete belichtungsvorrichtung | |
DE10210899A1 (de) | Refraktives Projektionsobjektiv für Immersions-Lithographie | |
DE69824658T2 (de) | Optisches System für Projektion | |
WO2000033138A1 (de) | Hochaperturiges projektionsobjektiv mit minimalem blendenfehler | |
WO1998028644A1 (de) | Rema-objektiv für mikrolithographie-projektionsbelichtungsanlagen | |
DE102006022958A1 (de) | Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsverfahren und Verwendung eines Projektionsobjektivs | |
DE3048707C2 (de) | Kompaktes photographisches Objektiv | |
EP1006387A2 (de) | Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie | |
DE102009006685A1 (de) | Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie | |
DE10119861A1 (de) | Projektionsobjektiv, insbesondere für die Mikrolithographie | |
DE102006038454A1 (de) | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102007046419A1 (de) | Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines optischen Systems sowie derartiges optisches System | |
DE19818444A1 (de) | Abbildungsoptik, Projektionsoptikvorrichtung und Projektionsbelichtungsverfahren | |
DE4203464B4 (de) | Katadioptrisches Reduktionsobjektiv | |
WO2018184720A2 (de) | Projektionsobjektiv, projektionsbelichtungsanlage und projektionsbelichtungsverfahren | |
DE102023200548A1 (de) | Chromatisch korrigierte abbildende Beleuchtungsoptik zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Lithografie | |
DE102022205700A1 (de) | Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren | |
DE102008054737A1 (de) | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Objektiv hierfür | |
DE102012218125A1 (de) | Axikonsystem, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage | |
DE60306042T2 (de) | Relaisobjektiv in einem Beleuchtungssystem eines lithographischen Systems | |
DE10127320A1 (de) | Objektiv mit Fluorid-Kristall-Linsen | |
DE102008015775A1 (de) | Chromatisch korrigiertes Lithographieobjektiv | |
DE102008020345B4 (de) | Apochromatisches Immersionsobjektiv für Mikroskope | |
DE10318264B4 (de) | Plan-apochromatisches Mikroskopobjektiv |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: CARL ZEISS SMT AG, 73447 OBERKOCHEN, DE |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8131 | Rejection |